KR20120012757A - Coating apparatus and priming process method of the nozzle - Google Patents

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KR20120012757A
KR20120012757A KR1020110070214A KR20110070214A KR20120012757A KR 20120012757 A KR20120012757 A KR 20120012757A KR 1020110070214 A KR1020110070214 A KR 1020110070214A KR 20110070214 A KR20110070214 A KR 20110070214A KR 20120012757 A KR20120012757 A KR 20120012757A
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priming
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nozzle
liquid
resist
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KR1020110070214A
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유끼히로 와까모또
다께시 우에하라
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도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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Abstract

PURPOSE: A coating apparatus and a method for priming a nozzle are provided to uniformly discharge a treating solution from a nozzle outlet of a slit form when the treating solution is applied to a substrate and to reducing the amount of a washing solution required for priming a nozzle. CONSTITUTION: A coating apparatus includes a nozzle and a priming treating unit(20). The nozzle discharges a treating solution through an outlet. The priming treating unit standardizes the treating solution by being attached on the tip end of the nozzle. The treating solution forms a coating film on a substrate. The priming treating unit includes a priming roller(23), a treating solution absorbing member(24), and a moving unit(29). The treating solution absorbing unit is expanded along the priming roller and absorbs the treating solution. The moving unit moves the longitudinal side of the treating solution absorbing member with respect to the roller side of the priming roller.

Description

도포 장치 및 노즐의 프라이밍 처리 방법{COATING APPARATUS AND PRIMING PROCESS METHOD OF THE NOZZLE}Priming treatment method of coating device and nozzle {COATING APPARATUS AND PRIMING PROCESS METHOD OF THE NOZZLE}

본 발명은, 피처리 기판에 대하여 처리액을 도포하는 도포 장치 및 이에 탑재된 슬릿 형상의 토출구를 갖는 노즐에 대해 노즐 선단에 부착된 처리액을 균일화하는 프라이밍 처리 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a coating device for applying a processing liquid to a substrate to be processed and a priming processing method for uniformizing the processing liquid attached to the nozzle tip with respect to a nozzle having a slit-shaped discharge port mounted thereon.

예를 들어, FPD(플랫 패널 디스플레이)의 제조에 있어서는, 소위 포토리소그래피 공정에 의해 회로 패턴을 형성하는 것이 행해지고 있다.For example, in manufacture of a flat panel display (FPD), forming a circuit pattern by what is called a photolithography process is performed.

이 포토리소그래피 공정에서는, 글래스 기판 등의 피처리 기판에 소정의 막을 성막한 후, 처리액인 포토레지스트(이하, 레지스트라고 부름)가 도포되어 레지스트막(감광막)이 형성된다. 그리고, 회로 패턴에 대응하여 상기 레지스트막이 노광되고, 이것이 현상 처리되어, 패턴 형성된다.In this photolithography step, a predetermined film is formed on a substrate to be treated, such as a glass substrate, and then a photoresist (hereinafter referred to as a resist) as a processing liquid is applied to form a resist film (photosensitive film). Then, the resist film is exposed to correspond to the circuit pattern, and this is developed and patterned.

이와 같은 포토리소그래피 공정에 있어서, 피처리 기판에 레지스트액을 도포하여 레지스트막을 형성하는 방법으로서, 슬릿 형상의 노즐 토출구로부터 레지스트액을 띠 형상으로 토출하여, 레지스트를 기판 상에 도포하는 방법이 있다.In such a photolithography step, as a method of forming a resist film by applying a resist liquid to a substrate to be treated, there is a method of discharging the resist liquid in a strip form from a slit nozzle discharge port and applying the resist onto the substrate.

이 방법을 사용한 종래의 레지스트 도포 장치에 대해서, 도 9를 사용하여 간단하게 설명한다.The conventional resist coating apparatus which used this method is demonstrated using FIG.

도 9에 도시한 레지스트 도포 장치(200)는, 기판(G)을 적재하는 스테이지(201)와, 이 스테이지(201)의 상방에 배치되는 레지스트 공급 노즐(202)과, 이 노즐(202)을 이동시키는 노즐 이동 수단(203)을 구비하고 있다.The resist coating apparatus 200 shown in FIG. 9 includes a stage 201 for loading the substrate G, a resist supply nozzle 202 disposed above the stage 201, and the nozzle 202. The nozzle moving means 203 which moves is provided.

레지스트 공급 노즐(202)에는, 기판의 폭 방향으로 연장되는 미소한 간극을 갖는 슬릿 형상의 토출구(202a)가 설치되고, 레지스트액 공급원(204)으로부터 공급된 레지스트액(R)을 토출구(202a)로부터 토출하도록 이루어져 있다.The resist supply nozzle 202 is provided with a slit-shaped discharge port 202a having a small gap extending in the width direction of the substrate, and discharges the resist liquid R supplied from the resist liquid supply source 204. It is made to discharge from.

또한, 슬릿 형상의 토출구(202a)는, 미소한 간극에 의해 형성되어 있기 때문에, 대기 중에 있어서 노즐 선단의 메인터넌스 처리를 실시하지 않으면, 레지스트액의 건조 등에 의해 막힘이 발생한다. 막힌 노즐(202)을 사용하면, 도 10에 도시한 바와 같이 불균일하게 액이 흘러, 토출구(202a)로부터 균일하게 레지스트액(R)을 토출할 수 없을 우려가 있다.Further, since the slit-shaped discharge port 202a is formed by a minute gap, clogging occurs due to drying of the resist liquid or the like unless the maintenance process of the tip of the nozzle is performed in the air. If the clogged nozzle 202 is used, the liquid flows unevenly as shown in Fig. 10, and there is a possibility that the resist liquid R cannot be evenly discharged from the discharge port 202a.

이로 인해, 노즐 선단에 부착된 레지스트액(R)을 균일화(프라이밍 처리라고 부름)하기 위한 회전 가능한 프라이밍 롤러(207)를 구비한 프라이밍 처리 장치(208)가 스테이지(201)에 인접하여 설치되어 있다.For this reason, the priming processing apparatus 208 provided with the rotatable priming roller 207 for uniformizing (called the priming process) the resist liquid R attached to the nozzle front end is provided adjacent to the stage 201. .

이 구성에 있어서, 기판(G)에의 레지스트 도포 처리시에 있어서는, 노즐(202)을 노즐 이동 수단(203)에 의해서 수평 이동시키면서, 슬릿 형상의 토출구(202a)로부터 레지스트액(R)을 기판의 표면 전체에 띠 형상으로 토출함으로써, 레지스트액(R)의 도포 처리가 이루어진다.In this configuration, in the resist coating process on the substrate G, the resist liquid R is transferred from the slit-shaped discharge port 202a to the substrate while the nozzle 202 is horizontally moved by the nozzle moving means 203. The coating process of the resist liquid R is performed by discharging strip | belt shape to the whole surface.

또한, 노즐(202)의 대기시에 있어서는, 상기 프라이밍 처리 장치(208)에 있어서 노즐(202)에 대한 프라이밍 처리가 행해진다. 이 프라이밍 처리에서는, 우선 노즐(202)이 노즐 이동 수단(203)에 의해서 프라이밍 처리 장치(208)로 이동되고, 회전 구동되는 프라이밍 롤러(207)의 표면을 향하여, 슬릿 형상의 토출구(202a)로부터 레지스트액(R)의 토출이 이루어진다.In addition, during the waiting of the nozzle 202, the priming processing apparatus 208 performs priming processing on the nozzle 202. In this priming process, the nozzle 202 is first moved to the priming processing apparatus 208 by the nozzle moving means 203, and is directed from the slit-shaped discharge port 202a toward the surface of the priming roller 207 which is rotationally driven. The resist liquid R is discharged.

이 프라이밍 처리를, 기판(G)에의 도포를 행하지 않는 대기시에 행함으로써, 토출구(202a)의 건조, 막힘이 방지되어, 기판(G)에의 도포시에, 슬릿 형상의 토출구(202a)로부터 균일하게 레지스트액(R)을 토출할 수 있다.By performing this priming process at the time of not apply | coating to the board | substrate G, drying and clogging of the discharge port 202a are prevented, and it is uniform from the slit-shaped discharge port 202a at the time of application to the board | substrate G. The resist liquid R can be discharged.

그런데 종래의 프라이밍 처리 장치에 있어서는, 프라이밍 롤러의 롤러면에 부착된 레지스트액을 제거하기 위해, 스크레이퍼나 세정 노즐 등을 구비하고 있다.By the way, in the conventional priming processing apparatus, in order to remove the resist liquid adhering to the roller surface of a priming roller, a scraper, a washing nozzle, etc. are provided.

즉, 1회의 프라이밍 처리가 종료되면, 프라이밍 롤러를 연속 회전시켜, 스크레이퍼를 롤러면에 접촉시켜 레지스트액을 긁어내어 떨어뜨리고, 세정 노즐로부터 분사한 세정액(시너액)에 의해 롤러면 전체를 세정하도록 이루어져 있다.That is, when one priming process is completed, the priming roller is continuously rotated, the scraper is brought into contact with the roller surface to scrape off the resist liquid, and the entire roller surface is cleaned by the cleaning liquid (thinner liquid) sprayed from the cleaning nozzle. consist of.

그러나, 상기와 같이 스크레이퍼를 프라이밍 롤러의 롤러면에 접촉시키면, 그들이 서로 마찰함으로써, 파티클이 발생할 우려가 있었다.However, when the scraper is brought into contact with the roller surface of the priming roller as described above, there is a fear that particles are generated by rubbing each other.

또한, 세정 처리에 있어서, 세정액을 롤러면 전체(전체 표면)에 분사할 뿐만 아니라, 스크레이퍼의 세정을 행하기 위해 세정액이 대량으로 필요하게 되어, 비용이 늘어난다고 하는 과제가 있었다.In addition, in the cleaning treatment, not only the cleaning liquid is sprayed on the entire roller surface (the entire surface), but also a large amount of the cleaning liquid is required in order to clean the scraper, resulting in an increase in cost.

그와 같은 과제에 대해, 본원 출원인은, 특허 문헌 1에 있어서, 프라이밍 처리할 때마다 프라이밍 롤러를 소정의 회전각만큼 회전시키고, 프라이밍 롤러의 부분적 표면 영역에만 노즐로부터 토출하여 프라이밍 처리를 행하는 방법을 개시하고 있다.With respect to such a problem, the present applicant, in Patent Document 1, discloses a method in which a priming roller is rotated by a predetermined rotational angle every time the priming treatment is performed, and the priming treatment is performed by discharging only the partial surface area of the priming roller from the nozzle. It is starting.

이 방법에 따르면, 프라이밍 롤러를 소정의 회전각만큼 회전시키면서, 프라이밍 처리를 복수회 연속해서 행하고, 그 후에 통합하여 롤러면 전체에 세정액을 분사하여 세정 처리를 행할 수 있다.According to this method, a priming process can be performed in multiple times in succession, rotating a priming roller by a predetermined rotation angle, and after that, a washing | cleaning process can be performed by spraying a washing | cleaning liquid to the whole roller surface.

즉, 복수회의 프라이밍 처리에 대하여 한번 세정 처리를 행하게 되어, 종래보다도 세정액의 소비량을 저감할 수 있다.That is, the washing process is performed once for a plurality of priming treatments, and the consumption amount of the washing liquid can be reduced as compared with the conventional one.

또한, 1회의 프라이밍 처리에 토출되는 레지스트액의 양이 종래보다도 적기 때문에, 롤러면에 부착된 레지스트액을 제거하기 위한 스크레이퍼를 사용할 필요가 없어, 파티클 발생 등의 문제를 배제할 수 있다.In addition, since the amount of the resist liquid discharged in one priming process is smaller than that in the related art, it is not necessary to use a scraper for removing the resist liquid adhered to the roller surface, and problems such as particle generation can be eliminated.

일본 특허 출원 공개 제2007-237046호 공보Japanese Patent Application Publication No. 2007-237046

그런데, 특허 문헌 1에 기재된 프라이밍 처리 방법에 있어서는, 상기한 바와 같이 1회의 프라이밍 처리에 있어서의 프라이밍 롤러의 회전 각도가 작고, 롤러 세정까지 복수회의 프라이밍 처리가 행해진다. 이로 인해, 각 프라이밍 처리의 종료 후에는, 롤러면의 부분적 영역에 토출된 레지스트액이 흘러내리지 않도록(즉, 상기 부분적 영역 이외의 하방의 롤러면에 레지스트액이 부착되지 않도록), 소정 시간 프라이밍 롤러의 회전을 일시 정지하고, 롤러면 상의 레지스트액을 자연 건조시킬 필요가 있었다.By the way, in the priming process method of patent document 1, as mentioned above, the rotation angle of the priming roller in one priming process is small, and several priming processes are performed until roller cleaning. For this reason, after completion | finish of each priming process, the priming roller for predetermined time so that the resist liquid discharged to the partial area | region of a roller surface may not flow down (that is, the resist liquid may not adhere to roller surfaces below other than the said partial area | region). It was necessary to pause the rotation of and to naturally dry the resist liquid on the roller surface.

그러나, 그 경우, 건조가 진행된 레지스트액이 롤러면에 고착되어, 그것을 세정액의 분사에 의해 제거하는 것이 곤란해진다고 하는 과제가 있었다.However, in that case, there existed a problem that the resist liquid which advanced to dry adheres to the roller surface, and it becomes difficult to remove it by spraying a washing liquid.

또한, 그와 같이 롤러면 상에 고착된 레지스트액에 의해서, 프라이밍 처리시에 있어서의 노즐 하방의 클리어런스(노즐 선단과 롤러면의 간격)가 없어져, 롤러 상의 레지스트액이 노즐 선단에 부착된 경우에는, 토출구로부터 토출되는 레지스트액의 상태가 불균일하게 되어, 도포 상태가 악화된다고 하는 과제가 있었다.In addition, when the resist liquid adhered to the roller surface as described above eliminates the clearance under the nozzle during the priming process (gap between the nozzle tip and the roller surface), and the resist liquid on the roller adheres to the nozzle tip. There existed a problem that the state of the resist liquid discharged | emitted from a discharge port becomes nonuniform and a coating state worsens.

본 발명은, 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 감안하여 이루어진 것이며, 피처리 기판에 처리액을 도포하는 도포 장치에 있어서, 노즐의 프라이밍 처리에 사용하는 세정액의 소비량을 저감할 수 있고, 또한, 피처리 기판에 대한 처리액의 도포시에, 슬릿 형상의 노즐 토출구로부터 처리액을 균일하게 토출할 수 있는 도포 장치 및 노즐의 프라이밍 처리 방법을 제공한다.This invention is made | formed in view of the above-mentioned problems of the prior art, In the coating apparatus which apply | coats a process liquid to a to-be-processed board | substrate, the consumption amount of the cleaning liquid used for the priming process of a nozzle can be reduced, and Provided are a coating apparatus and a priming treatment method for a nozzle capable of uniformly discharging a processing liquid from a slit-shaped nozzle discharge port during application of the processing liquid to a processing substrate.

상기한 과제를 해결하기 위해, 본 발명에 관한 도포 장치는, 토출구로부터 처리액을 토출하는 장척 형상의 노즐과, 상기 노즐의 선단에 부착된 처리액을 균일화하는 프라이밍 처리 수단을 구비하고, 상기 노즐의 토출구로부터 상기 기판에 처리액을 토출하여 도포막을 형성하는 도포 장치이며, 상기 프라이밍 처리 수단은, 기판 폭 방향으로 축선이 연장되는 원통 또는 원기둥 형상으로 형성되고, 그 축 주위로 회전 가능하게 설치된 프라이밍 롤러와, 상기 프라이밍 롤러를 따라서 연장 설치되고, 상기 처리액을 흡입하여 유지 가능한 처리액 흡입 부재와, 상기 처리액 흡입 부재의 길이측을 상기 프라이밍 롤러의 롤러면에 대하여 진퇴 이동시키는 진퇴 이동 수단을 구비하고, 소정 방향으로 회전하는 프라이밍 롤러의 롤러면에 대해, 상기 노즐의 토출구로부터 처리액이 토출됨으로써 프라이밍 처리가 실시되고, 상기 진퇴 이동 수단에 의해 상기 프라이밍 롤러의 롤러면에 대해 접촉 또는 근접된 상기 처리액 흡입 부재에 의해, 상기 프라이밍 롤러의 롤러면에 부착된 처리액이 흡입 제거되는 것에 특징을 갖는다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM In order to solve the said subject, the coating apparatus which concerns on this invention is equipped with the nozzle of the elongate shape which discharges a process liquid from a discharge port, and the priming process means which equalizes the process liquid attached to the front-end | tip of the said nozzle, The said nozzle A coating device which forms a coating film by discharging a processing liquid from the discharge port of the substrate to the substrate, wherein the priming processing means is formed in a cylindrical or cylindrical shape in which an axis extends in the substrate width direction and is rotatably installed around the axis. A roller, a treatment liquid suction member extending along the priming roller and capable of sucking and holding the treatment liquid, and a retraction movement means for moving the length side of the treatment liquid suction member back and forth with respect to the roller surface of the priming roller; A discharge port of the nozzle with respect to the roller surface of the priming roller which is provided and rotates in a predetermined direction. Priming treatment is performed by discharging the treatment liquid from the treatment liquid, and the treatment liquid adhered to the roller surface of the priming roller by the treatment liquid suction member which is brought into contact with or close to the roller surface of the priming roller by the advancing and moving means. It is characterized by being removed by suction.

또한, 상기 처리액 흡입 부재는, 소정의 탄성력을 갖는 다공질체에 의해 형성되어 있는 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the said process liquid suction member is formed of the porous body which has a predetermined elastic force.

이와 같이 구성된 도포 장치에 따르면, 노즐 선단에 형성하는 처리액의 상태를 정렬하는 프라이밍 처리에 있어서, 노즐로부터 프라이밍 롤러의 롤러면에 대해 처리액의 토출이 행해지는 동시에, 롤러면에 부착된 처리액은 처리액 흡입 부재에 의해 흡입되어 제거된다.According to the coating apparatus comprised in this way, in the priming process which arrange | positions the state of the process liquid formed in a nozzle front end, process liquid is discharged from a nozzle to the roller surface of a priming roller, and the process liquid adhered to a roller surface Is sucked and removed by the treatment liquid suction member.

이에 의해, 상기 롤러면에 있어서는, 프라이밍 처리 후에 부착된 처리액의 막 두께를 대폭으로 감소할 수 있어, 보다 소량의 세정액에 의한 롤러면 세정이 가능하게 되어, 세정액의 소비량을 저감할 수 있다.Thereby, in the said roller surface, the film thickness of the process liquid adhered after the priming process can be reduced significantly, roller surface cleaning by a smaller amount of cleaning liquid becomes possible, and the consumption amount of a cleaning liquid can be reduced.

또한, 상기와 같이 롤러면에 부착된 처리액은 처리액 흡입 부재에 의해 흡입 제거되기 때문에, 다음 회의 프라이밍 처리시에 있어서 노즐 하방의 클리어런스를 충분히 확보할 수 있다. 이로 인해, 롤러 표면에 부착되어 있는 처리액과 노즐 토출구의 접촉을 방지할 수 있고, 기판에의 처리액 도포 처리시에, 토출구로부터 처리액을 균일하게 토출할 수 있다.In addition, since the processing liquid attached to the roller surface as described above is sucked off by the processing liquid suction member, the clearance under the nozzle can be sufficiently secured at the next priming process. For this reason, the contact of the process liquid adhering to the roller surface and nozzle discharge port can be prevented, and the process liquid can be uniformly discharged from a discharge port at the time of the process liquid application | coating process to a board | substrate.

또한, 상기한 과제를 해결하기 위해, 본 발명에 관한 노즐의 프라이밍 처리 방법은, 토출구로부터 처리액을 토출하는 장척 형상의 노즐에 대해, 상기 노즐의 선단에 부착된 처리액의 균일화 처리를 실시하는 프라이밍 처리 방법이며, 기판 폭 방향으로 축선이 연장되는 원통 또는 원기둥 형상으로 형성된 프라이밍 롤러를 축 주위로 회전시키는 스텝과, 소정 방향으로 회전하는 상기 프라이밍 롤러의 롤러면에 대해, 상기 노즐의 토출구로부터 처리액을 토출하는 스텝과, 상기 프라이밍 롤러를 따라서 연장 설치된 처리액 흡입 부재를 상기 프라이밍 롤러의 롤러면에 대해 접촉 또는 근접시키는 스텝과, 상기 처리액 흡입 부재에 의해, 상기 프라이밍 롤러의 롤러면에 부착된 처리액을 흡입 제거하는 스텝을 포함하는 것에 특징을 갖는다.Moreover, in order to solve the said subject, the priming processing method of the nozzle which concerns on this invention performs the uniforming process of the processing liquid attached to the front-end | tip of the said nozzle with respect to the long nozzle which discharges a processing liquid from a discharge port. A priming treatment method, comprising: a step of rotating a priming roller formed in a cylindrical or cylindrical shape in which an axis extends in a substrate width direction about an axis, and a roller surface of the priming roller rotating in a predetermined direction from a discharge port of the nozzle Discharging the liquid; contacting or approaching the processing liquid suction member extending along the priming roller with respect to the roller surface of the priming roller; and attaching to the roller surface of the priming roller by the processing liquid suction member. It is characterized by including the step of suction-removing the processed process liquid.

이와 같은 프라이밍 처리 방법에 따르면, 노즐로부터 프라이밍 롤러의 롤러면에 대해 처리액의 토출이 행해지는 동시에, 롤러면에 부착된 처리액은 처리액 흡입 부재에 의해 흡입되어 제거된다.According to such a priming treatment method, the treatment liquid is discharged from the nozzle to the roller surface of the priming roller, and the treatment liquid attached to the roller surface is sucked and removed by the treatment liquid suction member.

이에 의해, 상기 롤러면에 있어서는, 프라이밍 처리 후에 부착된 처리액의 막 두께를 대폭으로 감소할 수 있어, 보다 소량의 세정액에 의한 롤러면 세정이 가능하게 되어, 세정액의 소비량을 저감할 수 있다.Thereby, in the said roller surface, the film thickness of the process liquid adhered after the priming process can be reduced significantly, roller surface cleaning by a smaller amount of cleaning liquid becomes possible, and the consumption amount of a cleaning liquid can be reduced.

또한, 상기와 같이 롤러면에 부착된 처리액은 처리액 흡입 부재에 의해 흡입 제거되기 때문에, 다음 회의 프라이밍 처리시에 있어서 노즐 하방의 클리어런스를 충분히 확보할 수 있다. 이로 인해, 롤러 표면에 부착되어 있는 처리액과 노즐 토출구의 접촉을 방지할 수 있고, 기판에의 처리액 도포 처리시에, 토출구로부터 처리액을 균일하게 토출할 수 있다.In addition, since the processing liquid attached to the roller surface as described above is sucked off by the processing liquid suction member, the clearance under the nozzle can be sufficiently secured at the next priming process. For this reason, the contact of the process liquid adhering to the roller surface and nozzle discharge port can be prevented, and the process liquid can be uniformly discharged from a discharge port at the time of the process liquid application | coating process to a board | substrate.

본 발명에 따르면, 피처리 기판에 처리액을 도포하는 도포 장치에 있어서, 노즐의 프라이밍 처리에 사용하는 세정액의 소비량을 저감할 수 있고, 또한, 피처리 기판에 대한 처리액의 도포시에, 슬릿 형상의 노즐 토출구로부터 처리액을 균일하게 토출할 수 있는 도포 장치 및 노즐의 프라이밍 처리 방법을 얻을 수 있다.According to the present invention, in a coating apparatus for applying a processing liquid to a substrate to be treated, the consumption amount of the cleaning liquid used for priming the nozzle can be reduced, and at the time of application of the processing liquid to the substrate, the slit A coating apparatus and a priming treatment method for a nozzle capable of uniformly discharging a processing liquid from a nozzle discharge port of a shape can be obtained.

도 1은 본 발명에 관한 일 실시 형태의 전체 개략 구성을 도시하는 평면도.
도 2는 본 발명에 관한 일 실시 형태의 전체 개략 구성을 도시하는 측면도.
도 3은 도 1의 A-A 화살표 단면도.
도 4는 본 발명에 관한 도포 장치의 동작의 흐름을 도시하는 흐름도.
도 5는 본 발명에 관한 일 실시 형태의 동작을 설명하기 위한 단면도.
도 6은 본 발명에 관한 일 실시 형태의 동작을 설명하기 위한 단면도.
도 7은 본 발명에 관한 일 실시 형태의 동작을 설명하기 위한 단면도.
도 8의 (a), (b)는 본 발명에 관한 도포 장치의 다른 형태를 도시하는 단면도 및 평면도.
도 9는 종래의 도포 처리 유닛의 개략 구성을 설명하기 위한 사시도.
도 10은 노즐 선단에 불균일하게 부착된 레지스트액의 상태를 설명하기 위한 사시도.
도 11은 본 발명에 관한 처리액 흡입 부재의 설명도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS The top view which shows the general schematic structure of one Embodiment which concerns on this invention.
2 is a side view showing an overall schematic configuration of an embodiment according to the present invention.
3 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG.
4 is a flowchart showing the flow of operation of the coating apparatus according to the present invention.
5 is a cross-sectional view for explaining the operation of the embodiment according to the present invention.
6 is a cross-sectional view for explaining the operation of the embodiment according to the present invention.
7 is a cross-sectional view for explaining the operation of the embodiment according to the present invention.
8 (a) and 8 (b) are a cross-sectional view and a plan view showing another embodiment of the coating apparatus according to the present invention.
9 is a perspective view for explaining a schematic configuration of a conventional coating processing unit;
10 is a perspective view for explaining a state of a resist liquid that is unevenly attached to the tip of the nozzle;
11 is an explanatory diagram of a treatment liquid suction member according to the present invention;

이하, 본 발명의 도포 장치 및 노즐의 프라이밍 처리 방법에 관한 일 실시 형태를, 도면에 기초하여 설명한다. 또한, 이 실시 형태에 있어서는, 도포 장치를, 피처리 기판인 글래스 기판을 부상 반송하면서, 상기 기판에 대해 처리액인 레지스트액의 도포 처리를 행하는 레지스트 도포 처리 유닛에 적용한 경우를 예로 들어 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, one Embodiment regarding the coating apparatus of this invention and the priming process method of a nozzle is described based on drawing. In addition, in this embodiment, the case where a coating apparatus is applied to the resist coating processing unit which performs the coating process of the resist liquid which is a process liquid with respect to the said board | substrate while floating a glass substrate which is a to-be-processed substrate is demonstrated as an example.

도 1, 도 2에 도시한 바와 같이, 이 레지스트 도포 처리 유닛(1)은, 글래스 기판(G)을 매엽식으로 1매식 부상 반송하기 위한 부상 반송부(2A)와, 상기 부상 반송부(2A)로부터 기판(G)을 수취하여, 롤러 반송하는 롤러 반송부(2B)를 구비하고, 기판(G)이 수평하게 반송(소위 평류 반송)되도록 구성되어 있다.As shown to FIG. 1, FIG. 2, this resist coating process unit 1 is the floating conveyance part 2A for single-floating conveyance conveyance of the glass substrate G by the sheet type, and the said floating conveyance part 2A. ) Is provided so that the board | substrate G is received and the roller conveyance part 2B which carries out roller conveyance is comprised, and the board | substrate G is conveyed horizontally (so-called flat flow conveyance).

상기 부상 반송부(2A)에 있어서는, 기판 반송 방향인 X 방향으로 연장된 부상 스테이지(3)가 설치되어 있다. 부상 스테이지(3)의 상면에는, 도시한 바와 같이 다수의 가스 분출구(3a)와 가스 흡기구(3b)가 X 방향과 Y 방향으로 일정 간격으로 교대로 설치되고, 가스 분출구(3a)로부터의 불활성 가스의 분출량과, 가스 흡기구(3b)로부터의 흡기량의 압력 부하를 일정하게 함으로써, 글래스 기판(G)을 부상시키고 있다.In 2 A of said floating conveyance parts, the floating stage 3 extended in the X direction which is a board | substrate conveyance direction is provided. On the upper surface of the floating stage 3, as illustrated, a plurality of gas ejection openings 3a and gas inlet openings 3b are alternately provided at regular intervals in the X direction and the Y direction, and the inert gas from the gas ejection opening 3a. The glass substrate G is made to float by making the ejection amount of and the pressure load of the intake amount from the gas intake port 3b constant.

또한, 이 실시 형태에서는, 가스의 분출 및 흡기에 의해 기판(G)을 부상시키도록 하였지만, 그것에 한정되지 않고, 가스 분출만의 구성에 의해서 기판 부상시키도록 해도 된다.In addition, in this embodiment, although the board | substrate G is made to float by the blowing and inhalation of gas, it is not limited to this, You may make it raise the board | substrate by the structure of only gas blowing.

또한, 롤러 반송부(2B)에 있어서는, 스테이지(3)의 후단에, 롤러 구동부(40)에 의해서 회전 구동되는 복수개의 롤러 축(41)이 병렬로 설치되어 있다. 각 롤러 축(41)에는, 복수의 반송 롤러(42)가 설치되고, 이들 반송 롤러(42)의 회전에 의해서 기판(G)을 반송하는 구성으로 이루어져 있다.Moreover, in the roller conveyance part 2B, the some roller shaft 41 rotationally driven by the roller drive part 40 is provided in the rear end of the stage 3 in parallel. Each roller shaft 41 is provided with the some conveyance roller 42, and is comprised by the structure which conveys the board | substrate G by rotation of these conveyance rollers 42. As shown in FIG.

부상 반송부(2A)에 있어서의 부상 스테이지(3)의 폭 방향(Y 방향)의 좌우 측방에는, X 방향으로 평행하게 연장되는 한 쌍의 가이드 레일(5)이 설치되어 있다. 이 한 쌍의 가이드 레일(5)에는, 글래스 기판(G)의 네 구석의 테두리부를 하방으로부터 흡착 유지하여 가이드 레일(5) 상을 이동하는 4개의 기판 캐리어(6)가 설치되어 있다. 이들 기판 캐리어(6)에 의해 부상 스테이지(3) 상에 부상한 글래스 기판(G)이 반송 방향(X 방향)을 따라서 이동된다.A pair of guide rails 5 extending in parallel in the X direction are provided on the left and right sides of the floating stage 3 in the floating conveying unit 2A in the width direction (Y direction). The pair of guide rails 5 are provided with four substrate carriers 6 which move on the guide rails 5 by suction-holding four edge portions of the glass substrate G from below. The glass substrate G which floated on the floating stage 3 by these board | substrate carriers 6 is moved along a conveyance direction (X direction).

또한, 부상 반송부(2A)로부터 롤러 반송부(2B)에의 기판 전달을 원활하게 행하기 위해, 가이드 레일(5)은, 부상 스테이지(3)의 좌우 측방뿐만 아니라, 롤러 반송부(2B)의 측방에까지 연장 설치되어 있다.In addition, in order to smoothly transfer the board | substrate from the floating conveyance part 2A to the roller conveyance part 2B, not only the left and right sides of the floating stage 3, but the guide rail 5 of the roller conveyance part 2B. It is extended to the side.

각 기판 캐리어(6)는, 도 3(도 1의 A-A 화살표 단면)에 도시한 바와 같이, 가이드 레일(5)을 따라서 이동 가능하게 설치된 슬라이드 부재(6a)와, 기판(G)의 하면에 대해 흡인ㆍ개방 동작에 의해 흡착 가능한 흡착 부재(6b)와, 흡착 부재(6b)를 승강 이동시키는 승강 구동부(6c)를 갖는다.As shown in FIG. 3 (AA arrow cross section in FIG. 1), each substrate carrier 6 is provided with respect to the slide member 6a provided to be movable along the guide rail 5 and the lower surface of the substrate G. FIG. It has the adsorption | suction member 6b which can be adsorbed by suction and opening operation | movement, and the elevating drive part 6c which raises and lowers the adsorption member 6b.

또한, 흡착 부재(6b)에는, 흡인 펌프(도시하지 않음)가 접속되고, 기판(G)과의 접촉 영역의 공기를 흡인하여 진공 상태에 근접시킴으로써, 기판(G)에 흡착하도록 이루어져 있다.In addition, a suction pump (not shown) is connected to the adsorption member 6b, and it is made to adsorb | suck to the board | substrate G by sucking air of the contact area | region with the board | substrate G, and making it approach a vacuum state.

또한, 상기 슬라이드 부재(6a)와 승강 구동부(6c)와 상기 흡인 펌프는, 각각 컴퓨터로 이루어지는 제어부(50)(제어 수단)에 의해서, 그 구동이 제어된다.In addition, the drive of the slide member 6a, the lift drive unit 6c, and the suction pump is controlled by a control unit 50 (control means) made of a computer, respectively.

또한, 도 1, 도 2에 도시한 바와 같이, 부상 반송부(2A)의 부상 스테이지(3) 상에는, 글래스 기판(G)에 레지스트액을 토출하는 노즐(16)이 설치되어 있다. 노즐(16)은, Y 방향을 향하여 예를 들어 긴 대략 직육면체 형상으로 형성되고, 글래스 기판(G)의 Y 방향의 폭보다도 길게 형성되어 있다. 도 2, 도 3에 도시한 바와 같이 노즐(16)의 하단부에는, 부상 스테이지(3)의 폭 방향으로 긴 슬릿 형상의 토출구(16a)가 형성되고, 이 노즐(16)에는, 레지스트액 공급원(30)으로부터 송출 펌프(31) 및 유량 조정 밸브(32)를 통하여 레지스트액이 공급되도록 이루어져 있다.1 and 2, a nozzle 16 for discharging a resist liquid onto the glass substrate G is provided on the floating stage 3 of the floating carrier portion 2A. The nozzle 16 is formed in an elongate substantially rectangular parallelepiped shape toward the Y direction, for example, and is formed longer than the width | variety of the Y direction of the glass substrate G. As shown in FIG. As shown in FIG. 2, FIG. 3, the slit-shaped discharge port 16a elongate in the width direction of the floating stage 3 is formed in the lower end part of the nozzle 16, and this nozzle 16 has the resist liquid supply source ( The resist liquid is supplied from 30 through the delivery pump 31 and the flow regulating valve 32.

또한, 도 1에 도시한 바와 같이 노즐(16)의 양측에는, X 방향으로 연장되는 한 쌍의 가이드 레일(10)이 설치되어 있다. 이 가이드 레일(10)을 따라서 슬라이드 이동 가능한 한 쌍의 슬라이드 부재(17)가 설치되고, 도 3에 도시한 바와 같이 각 슬라이드 부재(17) 상에 수직으로 샤프트(18)가 세워 설치되어 있다. 상기 샤프트(18)에는, 이 샤프트(18)를 따라서 승강 이동 가능한 승강 구동부(19)가 설치되고, Y 방향에 대향하는 한 쌍의 승강 구동부(19)의 사이에 노즐(16)을 보유 지지하는 직선 막대 형상의 노즐 아암(11)이 가설되어 있다.As shown in FIG. 1, a pair of guide rails 10 extending in the X direction are provided on both sides of the nozzle 16. A pair of slide members 17 which are slide-movable along this guide rail 10 are provided, and as shown in FIG. 3, the shaft 18 is vertically installed on each slide member 17. As shown in FIG. The shaft 18 is provided with a lift driver 19 capable of lifting and lowering along the shaft 18, and holds the nozzle 16 between a pair of lift driver 19 facing the Y direction. A straight rod-shaped nozzle arm 11 is installed.

이러한 구성에 의해 노즐(16)은, 승강 이동 가능, 또한 가이드 레일(10)을 따라서 X 방향으로 이동 가능하게 되어 있다.With this structure, the nozzle 16 can move up and down and can move in the X direction along the guide rail 10.

또한, 도 1, 도 2에 도시한 바와 같이, 노즐(16)보다도 상류측에는, 노즐 선단에 부착된 레지스트액(R)을 균일화하기 위한 프라이밍 처리부(20)(프라이밍 처리 수단)가 설치되어 있다.1 and 2, a priming processing unit 20 (priming processing means) is provided on the upstream side of the nozzle 16 to uniformize the resist liquid R attached to the nozzle tip.

이 프라이밍 처리부(20)는, 기판 폭 방향(Y 방향)으로 가늘고 긴 상부 개구(21a)를 갖는 상자 형상의 케이싱(21)과, 케이싱(21) 내에 있어서 모터 등의 회전 구동부(22)에 의해 축 주위로 회전 가능하게 설치된 원통 또는 원기둥 형상의 프라이밍 롤러(23)를 구비하고 있다. 도 2에 도시한 바와 같이 프라이밍 롤러(23)의 상부는, 케이싱(21)의 상부 개구(21a)로부터 돌출된 상태로 설치되어 있다.The priming processing unit 20 is formed by a box-shaped casing 21 having an elongated upper opening 21a in the substrate width direction (Y direction), and a rotation driving unit 22 such as a motor in the casing 21. The cylindrical or cylindrical priming roller 23 provided rotatably about an axis is provided. As shown in FIG. 2, the upper part of the priming roller 23 is provided in the state which protruded from the upper opening 21a of the casing 21. As shown in FIG.

또한, 프라이밍 처리부(20)는, 케이싱(21)의 상부 개구(21a) 부근에 설치된 레지스트 흡수 부재(24)(처리액 흡수 부재)를 구비한다. 이 레지스트 흡수 부재(24)는, 프라이밍 롤러(22)의 측방에 설치되고, 프라이밍 롤러(22)를 따라서 가늘고 긴 직육면체 형상으로 형성되어 있다.In addition, the priming processing unit 20 includes a resist absorbing member 24 (processing liquid absorbing member) provided near the upper opening 21a of the casing 21. This resist absorption member 24 is provided in the side of the priming roller 22, and is formed in the elongate rectangular parallelepiped shape along the priming roller 22. As shown in FIG.

또한, 이 레지스트 흡수 부재(24)는, 내약성(내레지스트액성), 흡수성(레지스트액 흡입성), 흡수 후의 유지성이 우수한, 소정의 탄성력을 갖는 다공질체(예를 들어, 멜라민 수지의 스펀지)에 의해 형성되어 있다.In addition, the resist absorbing member 24 is applied to a porous body having a predetermined elastic force (for example, a sponge of melamine resin) that is excellent in chemical resistance (resist liquid resistance), water absorbency (resist liquid absorbency) and retention after absorption. It is formed by.

상기 레지스트 흡수 부재(24)는, 지지 부재(25)의 선단부에 설치되어 지지되고, 이 지지 부재(25)는 모터 등으로 이루어지는 진퇴 구동부(29)(진퇴 이동 수단)에 의해서, 기판 반송 방향을 따라서 진퇴 가능하게 설치되어 있다. 이로 인해, 레지스트 흡수 부재(24)는, 그 길이측이 프라이밍 롤러(23)의 롤러면에 대하여 진퇴 이동 가능하게 되고, 가장 전방으로 이동하였을 때에는, 그 선단 하부(24a)가 프라이밍 롤러(23)의 롤러면에 대하여 접촉 또는 근접하도록 되어 있다.The resist absorbing member 24 is provided at the distal end of the supporting member 25 and supported, and the supporting member 25 is subjected to the substrate conveyance direction by a retreating drive unit 29 (retraction moving means) made of a motor or the like. Therefore, it is installed so that advancement and retreat are possible. For this reason, the resist absorbing member 24 can move forward and backward with respect to the roller surface of the priming roller 23, and when it moves to the front, the front end lower part 24a moves to the priming roller 23. As shown in FIG. It is made to contact or approach with respect to the roller surface of.

이 구성에 의해, 프라이밍 처리 후에 있어서 프라이밍 롤러(23)의 롤러면에 부착된 레지스트(R)에, 레지스트 흡수 부재(24)의 선단 하부(24a)를 접촉시킴으로써, 롤러면에 부착되어 있었던 레지스트(R)의 대부분을 레지스트 흡수 부재(24) 내에 흡수하여, 롤러면으로부터 제거할 수 있다.By this structure, the resist which adhered to the roller surface by contacting the front-end | tip lower part 24a of the resist absorption member 24 to the resist R adhering to the roller surface of the priming roller 23 after a priming process ( Most of R) can be absorbed in the resist absorbing member 24 and removed from the roller surface.

또한, 레지스트 흡수 부재(24)는, 소정량의 레지스트(R)를 흡인한 후, 새로운 레지스트 흡수 부재(24)와의 교환이 용이하도록, 지지 부재(25)의 선단부에 착탈 가능하게 설치되어 있다.In addition, the resist absorbing member 24 is detachably attached to the distal end of the supporting member 25 so as to easily exchange with a new resist absorbing member 24 after sucking the resist R in a predetermined amount.

또한, 도 5 내지 도 7에 프라이밍 처리부(20)의 단면도를 도시한 바와 같이, 케이싱(21) 내에는, 프라이밍 롤러(23)의 롤러면을 세정하기 위한 세정 처리 공간(26)이 형성되어 있다. 또한, 그 저부에는, 소정의 타이밍에 있어서 세정액(예를 들어 시너액)을 롤러면에 대해 분사하는 세정 노즐(27)이 설치되어 있다.5 to 7, the cleaning processing space 26 for cleaning the roller surface of the priming roller 23 is formed in the casing 21. . Moreover, at the bottom part, the washing | cleaning nozzle 27 which injects a washing | cleaning liquid (for example, thinner liquid) with respect to a roller surface at predetermined timing is provided.

또한, 세정 노즐(27)로부터 세정액이 분사되었을 때에는, 세정 처리 공간(26) 내에 세정액의 미스트가 발생하기 때문에, 그것을 상부 개구(21a)로부터 흡인하여 배기하기 위한 배기 라인(28)이 케이싱(21)의 측방에 설치되어 있다.In addition, when the cleaning liquid is injected from the cleaning nozzle 27, mist of the cleaning liquid is generated in the cleaning processing space 26, so that the exhaust line 28 for sucking and evacuating it from the upper opening 21a is provided with a casing 21. Is installed on the side.

또한, 부상 스테이지(3)의 상방에 있어서, 프라이밍 처리부보다도 상류측에는 대기부(14)가 설치되어 있다. 이 대기부(14)는, 노즐(16)의 토출구(16a)에 부착된 여분의 레지스트액을 세정하여 제거하는 노즐 세정부(14a)와, 소위 더미 토출을 행하는 더미 디스펜스부(14b)를 갖고 있다.Moreover, above the floating stage 3, the standby part 14 is provided upstream from the priming process part. This waiting part 14 has the nozzle cleaning part 14a which wash | cleans and removes the excess resist liquid attached to the discharge port 16a of the nozzle 16, and what is called a dummy dispense part 14b which performs dummy discharge. have.

노즐(16)은, 가이드 레일(10)을 따라서, 글래스 기판(G)에 레지스트액을 토출하는 토출 위치와, 그것보다 상류측에 있는 프라이밍 처리부(20) 및 대기부(14) 사이를 이동 가능하게 되어 있다. 그리고, 대기시에는, 대기부(14)에 있어서의 노즐 세정과, 프라이밍 처리부(20)에 있어서의 프라이밍 처리가 이루어지는 구성이다.The nozzle 16 can move between the discharge position which discharges resist liquid to the glass substrate G along the guide rail 10, and the priming process part 20 and the standby part 14 which are upstream from it. It is supposed to be done. At the time of waiting, nozzle cleaning in the waiting section 14 and priming processing in the priming processing section 20 are performed.

계속해서, 이와 같이 구성된 레지스트 도포 처리 유닛(1)에 있어서, 기판(G)에의 레지스트액의 도포로부터 대기시에 있어서의 노즐의 프라이밍 처리를 포함하는 일련의 흐름에 대해서, 도 4 내지 도 8을 사용하여 더욱 설명한다.Subsequently, in the resist coating process unit 1 comprised in this way, FIG. 4 thru | or FIG. To further explain.

레지스트 도포 처리 유닛(1)에 있어서, 부상 스테이지(3) 상에 새롭게 글래스 기판(G)이 반입되면, 기판(G)은 스테이지(3) 상에 형성된 불활성 가스의 기류에 의해서 하방으로부터 지지되고, 기판 캐리어(6)에 의해 보유 지지된다(도 4의 스텝 S1).In the resist coating processing unit 1, when the glass substrate G is newly loaded onto the floating stage 3, the substrate G is supported from below by an airflow of an inert gas formed on the stage 3, It is hold | maintained by the board | substrate carrier 6 (step S1 of FIG. 4).

그리고, 제어부(50)의 제어에 의해 기판 캐리어(6)가 구동되고, 기판 반송 방향으로 반송 개시된다(도 4의 스텝 S2).And the board | substrate carrier 6 is driven by the control of the control part 50, and conveyance starts in the board | substrate conveyance direction (step S2 of FIG. 4).

또한, 레지스트 노즐(16)의 토출구(16a)로부터 처리액인 레지스트액(R)이 토출되고, 노즐(16)의 하방을 통과하는 기판(G)에 대해 도포 처리가 실시된다(도 4의 스텝 S3).Moreover, the resist liquid R which is a process liquid is discharged from the discharge port 16a of the resist nozzle 16, and the coating process is performed with respect to the board | substrate G which passes below the nozzle 16 (step of FIG. 4). S3).

기판(G) 상에의 레지스트액(R)의 도포 처리가 종료되면, 노즐(16)로부터의 레지스트액(R)의 토출이 정지되고, 도포 처리가 완료된 기판(G)은, 부상 반송부(2A)로부터 롤러 반송부(2B)에 전달되어, 롤러 반송에 의해서 후단의 처리부로 반출된다(도 4의 스텝 S4).When the coating process of the resist liquid R on the board | substrate G is complete | finished, discharge of the resist liquid R from the nozzle 16 is stopped, and the board | substrate G with which the coating process was completed is a floating conveyance part ( It transfers to 2 A of roller conveyance parts from 2A, and is carried out to the process part of a rear end by roller conveyance (step S4 of FIG. 4).

대기 기간이 되면, 제어부(50)는, 노즐(16)을 레일(10)을 따라서 대기부(14)의 상방으로 이동시킨다(도 4의 스텝 S5).When the waiting period is reached, the controller 50 moves the nozzle 16 along the rail 10 above the standby section 14 (step S5 in FIG. 4).

그리고, 우선 노즐(16)의 선단부에 대해, 대기부(14)의 노즐 세정부(14a)에 의해 세정액(시너액)을 사용한 세정 처리가 행해지고, 더미 디스펜스부(14b)에 있어서 소정량의 레지스트액을 예비적으로 토출하는 더미 토출이 행해진다(도 4의 스텝 S6).Then, first, the cleaning process using the cleaning liquid (thinner liquid) is performed by the nozzle cleaning unit 14a of the standby unit 14 with respect to the distal end of the nozzle 16, and the resist of the predetermined amount in the dummy dispense unit 14b. Dummy discharge for preliminarily discharging the liquid is performed (step S6 in FIG. 4).

노즐 선단이 세정된 노즐(16)은, 프라이밍 처리부(20)의 상방으로 이동되고, 도 5의 (a)에 도시한 바와 같이, 토출구(16a)가 프라이밍 롤러(23)의 직상부에 소정의 클리어런스를 두고 배치된다(도 4의 스텝 S7).The nozzle 16 having the nozzle tip cleaned is moved above the priming processing unit 20, and as shown in FIG. 5A, a discharge port 16a is provided at a portion directly above the priming roller 23. It is arrange | positioned with clearance (step S7 of FIG. 4).

그리고, 제어부(50)의 제어에 의해, 토출구(16a)로부터 소정량의 레지스트액(R)이 프라이밍 롤러(23)의 표면에 토출되는 동시에, 프라이밍 롤러(23)는 도 5의 (a)에 화살표로 나타낸 방향으로 회전을 개시한다(도 4의 스텝 S8).Under the control of the controller 50, a predetermined amount of the resist liquid R is discharged from the discharge port 16a onto the surface of the priming roller 23, and the priming roller 23 is connected to FIG. The rotation is started in the direction indicated by the arrow (step S8 in FIG. 4).

또한, 도 5의 (a)에 도시한 바와 같이, 본 실시 형태에 있어서는, 프라이밍 롤러(23)의 둘레 방향을 따라서, 그 롤러면이 4개의 부분적 영역(AR1, AR2, AR3, AR4로 함)으로 분할되고, 각 영역이 1회의 프라이밍 처리에 사용된다. 이로 인해, 도 5의 (a)에 도시한 상태로부터, 프라이밍 롤러(23)가 소정 각도(90°) 회전하고, 그 롤러면 영역(AR1)이 노즐 하방을 통과하는 동안, 노즐(16)로부터 레지스트액(R)이 토출된다.In addition, as shown to Fig.5 (a), in this embodiment, along the circumferential direction of the priming roller 23, the roller surface has four partial area | regions AR1, AR2, AR3, and AR4. Each area is used for one priming process. For this reason, while the priming roller 23 rotates a predetermined angle (90 degree) from the state shown to Fig.5 (a), and the roller surface area | region AR1 passes below a nozzle, it will be removed from the nozzle 16. FIG. The resist liquid R is discharged.

이와 같은 제어에 의해서, 1회의 프라이밍 처리에 사용하는 레지스트액(R)의 양을 저감할 수 있다.By such control, the quantity of the resist liquid R used for one priming process can be reduced.

노즐(16)의 토출구(16a)로부터 토출된 레지스트액(R)은, 회전하는 프라이밍 롤러(23)에 의해서 권취된다. 토출구(16a)로부터의 레지스트액(R)의 토출이 정지되어도 프라이밍 롤러(23)의 회전은 계속되고, 토출구(16a)에 대한 레지스트액(R)의 액 제거가 행해진다. 이에 의해 토출구(16a)에 부착되는 레지스트액(R)의 균일화 처리(프라이밍 처리)가 완료된다.The resist liquid R discharged from the discharge port 16a of the nozzle 16 is wound up by the rotating priming roller 23. Even if the discharge of the resist liquid R from the discharge port 16a is stopped, the rotation of the priming roller 23 continues, and the liquid removal of the resist liquid R with respect to the discharge port 16a is performed. As a result, the uniforming process (priming process) of the resist liquid R adhered to the discharge port 16a is completed.

한편, 상기와 같이 스텝 S8에 있어서의 레지스트 토출이 개시되면, 도 5의 (b)에 도시한 바와 같이 진퇴 구동부(29)의 구동에 의해서 레지스트 흡수 부재(24)가 전방으로 이동되고, 그 선단 하부(24a)가, 프라이밍 롤러(22)의 롤러면에 접촉하는 상태, 혹은 근접한 상태(적어도 롤러면에 부착된 레지스트액(R)에 접하는 상태)로 된다.On the other hand, when the resist discharge in step S8 is started as described above, the resist absorbing member 24 is moved forward by the drive of the advancing and driving unit 29 as shown in FIG. The lower portion 24a is in a state of being in contact with the roller surface of the priming roller 22 or in a state of being in proximity (at least in contact with the resist liquid R attached to the roller surface).

이에 의해, 프라이밍 롤러(23)의 회전과 함께, 롤러면에 부착되어 있는 레지스트액(R)이 레지스트 흡수 부재(24)에 의해 흡입되어 제거된다(도 4의 스텝 S9).Thereby, with the rotation of the priming roller 23, the resist liquid R adhering to the roller surface is sucked and removed by the resist absorbing member 24 (step S9 of FIG. 4).

프라이밍 롤러(23)의 회전이 더 진행되어, 도 6의 (a)에 도시한 바와 같이 롤러면의 부분적 영역(AR1)이 하방을 향하는 상태로 되면, 프라이밍 롤러(23)의 회전은 일시 정지 상태로 되어, 대기 상태로 된다(도 4의 스텝 S10). 여기서, 진퇴 구동부(29)에 의해 레지스트 흡수 부재(24)는 후방으로 이동되고, 레지스트 흡수 부재(24)는 프라이밍 롤러(23)에 접촉하지 않는 상태로 된다.When the rotation of the priming roller 23 further proceeds, and the partial area AR1 of the roller surface faces downward as shown in FIG. 6A, the rotation of the priming roller 23 is paused. And the standby state (step S10 in FIG. 4). Here, the resist absorbing member 24 is moved backward by the advancing and driving unit 29, and the resist absorbing member 24 is in a state of not contacting the priming roller 23.

또한, 이 때 세정 노즐(27)에 의해 롤러 면의 부분적 영역(AR1)에 세정액(시너액)을 분사하여, 롤러면을 세정해도 된다.At this time, the cleaning liquid (thinner liquid) may be injected into the partial region AR1 of the roller surface by the cleaning nozzle 27 to clean the roller surface.

다음으로 도포 처리를 행해야 할 기판(G)이 있는 경우(도 4의 스텝 S11), 도 4의 스텝 S3으로 복귀하여, 스텝 S7까지 마찬가지로 처리가 행해진다.Next, when there is the substrate G to be subjected to the coating process (step S11 in FIG. 4), the process returns to step S3 in FIG. 4, and the process is similarly performed until step S7.

이 스텝 S7에 있어서, 프라이밍 롤러(23)는, 다음의 부분적 영역(AR2)의 선두부가 최상 위치로 될 때까지 회전되면, 도 6의 (b)에 도시한 바와 같이 표면 영역(AR2)에 대한 레지스트 토출이 개시된다(도 4의 스텝 S8).In this step S7, when the priming roller 23 is rotated until the head of the next partial region AR2 becomes the top position, as shown in FIG. Resist discharge is started (step S8 in FIG. 4).

또한, 도 7에 도시한 바와 같이 토출구(16a)로부터의 액 제거가 행해져 노즐(16)의 프라이밍 처리가 실시되는 동시에, 전회와 마찬가지로, 부분적 영역(AR2)에 부착된 레지스트액(R)이 레지스트 흡수 부재(24)에 의해 흡입 제거된다(도 4의 스텝 S9).In addition, as shown in FIG. 7, the liquid is removed from the discharge port 16a to perform the priming process of the nozzle 16, and the resist liquid R attached to the partial region AR2 is resisted as in the previous time. Suction removal is carried out by the absorbing member 24 (step S9 of FIG. 4).

그리고, 롤러면의 부분적 영역(AR2)이 하방을 향할 때까지 프라이밍 롤러(23)가 회전하면, 다시 대기 상태로 된다(도 4의 스텝 S10).And when the priming roller 23 rotates until the partial area | region AR2 of a roller surface faces downward, it will be in a standby state again (step S10 of FIG. 4).

이와 같이 다음에 도포 처리를 행한 기판(G)이 있는 경우에는(도 4 스텝 S11), 스텝 S3으로부터 스텝 S10까지가 반복하여 행해진다. 이 때, 노즐(16)의 프라이밍 처리에 있어서는, 롤러면의 다음의 부분적 영역(AR)[부분적 영역(AR2)의 다음은 부분적 영역(AR3), 부분적 영역(AR3)의 다음은 부분적 영역(AR4)]에 대하여 레지스트 토출이 행해진다.Thus, when there exists the board | substrate G which apply | coated next (FIG. 4 step S11), step S3 to step S10 are repeatedly performed. At this time, in the priming process of the nozzle 16, the partial area AR next to the roller surface (after the partial area AR2 is the partial area AR3, and after the partial area AR3 is the partial area AR4). )] Is applied.

또한, 프라이밍 롤러(23)에 있어서 레지스트 토출이 이루어진 부분적 영역(AR)에 대한 세정 처리는, 상기한 바와 같이 프라이밍 처리 후에 매회 행해도 되거나, 혹은, 복수회의 프라이밍 처리를 연속해서 실시한 후에 통합하여 행해도 된다.In addition, the cleaning process with respect to the partial area | region AR in which the resist discharge was performed in the priming roller 23 may be performed every time after the priming process as mentioned above, or may be performed after carrying out a plurality of priming processes continuously. You may also

이상과 같이, 본 발명에 관한 실시 형태에 따르면, 노즐 선단에 형성하는 레지스트액의 상태를 정렬시키는 프라이밍 처리에 있어서, 프라이밍 롤러(23)의 둘레 방향으로 복수 분할된 부분적 영역(AR)의 하나에 대하여 레지스트액(R)의 토출이 행해지는 동시에, 상기 부분적 영역(AR)에 부착된 레지스트액(R)은 레지스트 흡수 부재(24)에 의해 흡입되어 제거된다.As described above, according to the embodiment of the present invention, in the priming treatment for aligning the state of the resist liquid formed at the tip of the nozzle, in one of the partial regions AR divided in the circumferential direction of the priming roller 23. The resist liquid R is discharged with respect to it, and the resist liquid R attached to the partial region AR is sucked and removed by the resist absorbing member 24.

이에 의해, 상기 롤러면의 부분적 영역(AR)에 있어서는, 프라이밍 처리 후에 부착된 레지스트액(R)의 막 두께를 대폭으로 감소할 수 있어, 보다 소량의 세정액에 의한 롤러면 세정이 가능하게 되어, 세정액의 소비량을 저감할 수 있다.Thereby, in the partial area | region AR of the said roller surface, the film thickness of the resist liquid R adhered after the priming process can be reduced significantly, and roller surface cleaning by a smaller amount of cleaning liquid is attained, The consumption amount of the cleaning liquid can be reduced.

또한, 상기와 같이 롤러면에 부착된 레지스트액(R)은 레지스트 흡수 부재(24)에 의해 흡입 제거되기 때문에, 다음 회의 프라이밍 처리시에 있어서 노즐(16) 하방의 클리어런스를 충분히 확보할 수 있다. 이로 인해, 롤러 표면에 부착되어 있는 레지스트액(R)과 토출구(16a)의 접촉을 방지할 수 있고, 기판(G)에의 레지스트 도포 처리시에, 토출구(16a)로부터 레지스트액(R)을 균일하게 토출할 수 있다.In addition, since the resist liquid R attached to the roller surface is sucked off by the resist absorbing member 24 as described above, the clearance below the nozzle 16 can be sufficiently secured at the next priming process. For this reason, the contact of the resist liquid R adhering to the roller surface and the discharge port 16a can be prevented, and at the time of the resist coating process to the board | substrate G, the resist liquid R is uniform from the discharge port 16a. Can be discharged.

또한, 상기 실시 형태에 있어서는, 레지스트 흡수 부재(24)는, 소정의 탄성력을 갖는 다공질체로서 설명하였지만, 내약성(내레지스트액성), 흡수성(레지스트액 흡입성), 흡수 후의 유지성이 우수한 부재이면, 다공질체가 아니어도 된다(예를 들어 섬유 형상 부재).In addition, in the said embodiment, although the resist absorption member 24 was demonstrated as the porous body which has a predetermined elastic force, if it is a member excellent in chemical resistance (resist liquid resistance), water absorptivity (resist liquid suction property), and retention after absorption, It may not be a porous body (for example, a fibrous member).

또한, 상기 레지스트 흡수 부재(24)는, 가늘고 긴 직육면체 형상으로 하였지만, 그 이외의 단면 다각형의 주체(예를 들어 단면 5각형의 주체)이어도 된다.In addition, although the said resist absorption member 24 was made into the elongate rectangular parallelepiped shape, the main body of other cross-sectional polygons (for example, main body of a 5-sided cross section) may be sufficient as it.

혹은, 도 8의 (a)에 프라이밍 처리부(20)의 단면도, 도 8의 (b)에 그 평면도를 도시한 바와 같이, 상기 레지스트 흡수 부재로서, 프라이밍 롤러(23)를 따라서 가늘고 긴 원기둥 형상의 레지스트 흡수 부재(38)를 설치해도 된다.Or as shown in sectional drawing of the priming process part 20 in FIG. 8 (a), and the top view in FIG. 8 (b), as said resist absorbing member, it has an elongate cylindrical shape along the priming roller 23. As shown in FIG. The resist absorbing member 38 may be provided.

이 경우, 원기둥 형상의 레지스트 흡수 부재(38)는, 그 베어링 부재(39)에 의해 회전 가능하게 지지해도 되고, 자유 회전이 아니라, 예를 들어 베어링 부재(39)는, 소정의 회전각마다 그 상태를 유지하는 기구를 갖는 것이 바람직하다. 그에 의해, 레지스트 흡수 부재(38)의 소정면에 의해 레지스트(R)를 흡입한 후에는, 레지스트 흡수 부재(38)를 소정의 회전각만큼 회전시키고, 다음의 프라이밍 처리 후에 있어서, 흡수력이 높은 면으로부터 롤러면 상의 레지스트액(R)을 흡수할 수 있다.In this case, the columnar resist absorbing member 38 may be rotatably supported by the bearing member 39. Instead of free rotation, for example, the bearing member 39 is formed at every predetermined rotational angle. It is desirable to have a mechanism for maintaining the state. As a result, after the resist R is sucked by the predetermined surface of the resist absorbing member 38, the resist absorbing member 38 is rotated by a predetermined rotational angle, and after the next priming treatment, The resist liquid R on the roller surface can be absorbed.

또한, 그와 같은 회전 기구는, 상기 레지스트 흡수 부재가 단면 다각형의 기둥체의 경우라도 마찬가지의 효과를 얻을 수 있다.Moreover, such a rotating mechanism can obtain the same effect even when the said resist absorbing member is a columnar body of a polygonal cross section.

또한, 상기 실시 형태에 있어서는, 레지스트 흡수 부재(24)는, 메인터넌스가 용이한 등의 이유로부터 케이싱(21)의 상방에 설치하는 구성으로 하였지만, 그것에 한정되지 않고, 케이싱(21) 내의 세정 처리 공간(26)에 설치해도 된다.In addition, in the said embodiment, although the resist absorbing member 24 was provided in the structure above the casing 21 for the reason of easy maintenance, it is not limited to this, The cleaning process space in the casing 21 is not limited to this. You may install in (26).

또한, 상기 실시 형태에 있어서는, 1회의 프라이밍 처리에 사용하는 레지스트액(R)의 양을 저감하기 위해, 프라이밍 롤러(23)의 둘레 방향을 따라서, 그 롤러면을 4개의 부분적 영역(AR1, AR2, AR3, AR4)으로 분할하고, 각 영역이 1회의 프라이밍 처리에 사용되는 것으로 하였다.In addition, in the said embodiment, in order to reduce the quantity of the resist liquid R used for one priming process, along the circumferential direction of the priming roller 23, the roller surface has four partial area | regions AR1 and AR2. , AR3, AR4), and each area is used for one priming process.

그러나, 본 발명의 구성은, 1회의 프라이밍 처리에 있어서, 프라이밍 롤러(23)의 롤러면을 전체 둘레에 걸쳐 사용하는 경우에도 적용할 수 있다.However, the structure of this invention is applicable also when using the roller surface of the priming roller 23 over the perimeter in one priming process.

또한, 상기 실시 형태와 같이, 롤러면을 복수의 영역으로 분할하는 경우에는, 그 영역의 분할수는 4개로 한정되지 않고, 다른 복수의 영역(예를 들어 2개의 부분적 영역)으로 분할한 것이어도 된다.In addition, when dividing a roller surface into a some area like the said embodiment, the number of division of the area is not limited to four, Even if it divides into another some area (for example, two partial area). do.

다음으로 제2 실시 형태를 설명한다. 또한, 전술한 실시 형태와 동일한 부분은 설명을 생략한다.Next, a second embodiment will be described. In addition, description is abbreviate | omitted about the part same as embodiment mentioned above.

제2 실시 형태에서는, 전술한 레지스트 흡수 부재(24, 38)(처리액 흡입 부재) 대신에, 레지스트 흡수 부재(50)(처리액 흡입 부재)를 사용한다. 도 11에 도시한 바와 같이, 레지스트 흡수 부재(50)는, 예를 들어 흡인 노즐(51)과 흡인 펌프(52)로 구성된다. 흡인 노즐(51)은 장척 형상이며, 프라이밍 롤러(23)와 거의 동일한 길이이다. 흡인 노즐(51)은, 슬릿 형상의 개구(51a)를 갖고 있다. 또한, 레지스트 흡인 부재(50)는, 지지 부재(25)의 선단부에 설치되어 있다. 또한, 흡인 펌프(52)를 동작시킴으로써 개구(51a)로부터 흡인 노즐(51) 내에 레지스트액(R)을 흡입할 수 있다. 또한, 흡인 펌프(52)의 동작은, 제어부(50)에서 제어된다.In the second embodiment, instead of the resist absorbing members 24 and 38 (process liquid suction member) described above, the resist absorbing member 50 (process liquid suction member) is used. As shown in FIG. 11, the resist absorbing member 50 is comprised by the suction nozzle 51 and the suction pump 52, for example. The suction nozzle 51 is elongate and is about the same length as the priming roller 23. The suction nozzle 51 has a slit-shaped opening 51a. In addition, the resist suction member 50 is provided at the tip end of the support member 25. In addition, by operating the suction pump 52, the resist liquid R can be sucked into the suction nozzle 51 from the opening 51a. In addition, the operation of the suction pump 52 is controlled by the control part 50.

그리고, 도 4의 스텝 S9에 있어서, 흡인 노즐(51)의 개구(51a)가 프라이밍 롤러(23)의 롤러면에 접촉하는 상태, 혹은 근접하는 상태로 된다. 그리고, 흡인 펌프(52)를 동작시켜, 롤러면에 부착되어 있는 레지스트액(R)이 레지스트 흡수 부재(50)에 의해 흡입 제거된다. 또한, 흡인 노즐(51) 내에 레지스트액(R)이 충만하면, 새로운 흡인 노즐(51)과 교환을 행한다. 이와 같이, 흡인 부재(50)로서, 흡인 노즐(51)과 흡인 펌프(52)를 사용함으로써, 롤러면에 부착되어 있는 레지스트액(R)을 흡입 제거하는 것이 가능하다.And in step S9 of FIG. 4, the opening 51a of the suction nozzle 51 will be in the state which contacts the roller surface of the priming roller 23, or is in the state which adjoins. Then, the suction pump 52 is operated so that the resist liquid R adhering to the roller surface is sucked off by the resist absorbing member 50. In addition, when the resist liquid R is filled in the suction nozzle 51, it exchanges with the new suction nozzle 51. FIG. Thus, by using the suction nozzle 51 and the suction pump 52 as the suction member 50, it is possible to suction-remove the resist liquid R adhering to the roller surface.

또한, 노즐(16)은, 슬릿 형상의 토출구를 갖는 슬릿 노즐에 한정되지 않고, 예를 들어 글래스 기판(G)의 폭보다 길게 형성된 장척 형상의 노즐이고, 토출구로서 복수의 미세 구멍이 연이어 설치된 노즐이라도, 마찬가지의 효과를 얻을 수 있다.The nozzle 16 is not limited to a slit nozzle having a slit-shaped discharge port, but is a long nozzle formed longer than the width of the glass substrate G, for example, and a nozzle in which a plurality of fine holes are successively provided as the discharge port. Even if the same effect can be obtained.

1 : 레지스트 도포 처리 유닛(도포 장치)
16 : 노즐
16a : 토출구
20 : 레지스트 공급원(처리액 공급 수단)
23 : 프라이밍 롤러
24 : 레지스트 흡수 부재(처리액 흡수 부재)
29 : 진퇴 구동부(진퇴 이동 수단)
G : 글래스 기판(피처리 기판)
R : 레지스트액(처리액)1: Resist coating processing unit (coating device)
16: nozzle
16a: discharge port
20: resist source (process liquid supply means)
23: priming roller
24: resist absorbing member (process liquid absorbing member)
29: advance and backward drive (regression movement means)
G: glass substrate (processed substrate)
R: resist liquid (treatment liquid)

Claims (6)

토출구로부터 처리액을 토출하는 장척 형상의 노즐과, 상기 노즐의 선단에 부착된 처리액을 균일화하는 프라이밍 처리 수단을 구비하고, 상기 노즐의 토출구로부터 상기 기판에 처리액을 토출하여 도포막을 형성하는 도포 장치이며,
상기 프라이밍 처리 수단은,
기판 폭 방향으로 축선이 연장되는 원통 또는 원기둥 형상으로 형성되고, 그 축 주위로 회전 가능하게 설치된 프라이밍 롤러와, 상기 프라이밍 롤러를 따라서 연장 설치되고, 상기 처리액을 흡입하여 유지 가능한 처리액 흡입 부재와, 상기 처리액 흡입 부재의 길이측을 상기 프라이밍 롤러의 롤러면에 대하여 진퇴 이동시키는 진퇴 이동 수단을 구비하고,
소정 방향으로 회전하는 프라이밍 롤러의 롤러면에 대해, 상기 노즐의 토출구로부터 처리액이 토출됨으로써 프라이밍 처리가 실시되고,
상기 진퇴 이동 수단에 의해 상기 프라이밍 롤러의 롤러면에 대해 접촉 또는 근접된 상기 처리액 흡입 부재에 의해, 상기 프라이밍 롤러의 롤러면에 부착된 처리액이 흡입 제거되는 것을 특징으로 하는, 도포 장치.An elongate nozzle for discharging the processing liquid from the discharge port, and priming processing means for uniformizing the processing liquid attached to the tip of the nozzle; Device,
The priming processing means,
A priming roller formed in a cylindrical or cylindrical shape in which an axis line extends in the substrate width direction, and rotatably installed around the axis, and extending along the priming roller and capable of sucking and holding the treatment liquid; And an advancing and moving means for advancing and moving the length side of said processing liquid suction member with respect to the roller surface of said priming roller,
Priming processing is performed by discharging the processing liquid from the discharge port of the nozzle to the roller surface of the priming roller rotating in a predetermined direction,
And the processing liquid attached to the roller surface of the priming roller is suctioned off by the processing liquid suction member which is in contact with or close to the roller surface of the priming roller by the advancing and moving means. 제1항에 있어서,
상기 처리액 흡입 부재는, 소정의 탄성력을 갖는 다공질체에 의해 형성되어 있는 것을 특징으로 하는, 도포 장치.The method of claim 1,
The said processing liquid suction member is formed of the porous body which has a predetermined elastic force, The coating apparatus characterized by the above-mentioned. 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 처리액 흡입 부재는, 단면 다각형의 주체, 또는 원기둥체로 형성되고, 적어도 소정의 회전 각도를 축 주위로 회전 가능하게 설치되어 있는 것을 특징으로 하는, 도포 장치.The method according to claim 1 or 2,
The processing liquid suction member is formed of a main body or a cylinder having a polygonal cross section, and is provided so as to be rotatable about an axis at least a predetermined rotation angle. 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 노즐로부터의 처리액의 토출 제어와, 상기 프라이밍 처리 수단의 동작 제어를 행하는 제어 수단을 구비하고,
상기 제어 수단은, 상기 프라이밍 롤러가 소정의 회전 각도를 회전하는 동안, 상기 노즐의 토출구로부터 상기 프라이밍 롤러의 롤러면에 대해 처리액을 토출시키고,
상기 프라이밍 롤러의 부분적 롤러면 영역이 1회의 프라이밍 처리에 사용되는 것을 특징으로 하는, 도포 장치.The method according to claim 1 or 2,
And control means for controlling the discharge of the processing liquid from the nozzle and controlling the operation of the priming processing means,
The control means discharges the processing liquid from the discharge port of the nozzle to the roller surface of the priming roller while the priming roller rotates a predetermined rotational angle,
The partial roller surface area of the priming roller is used for one priming treatment. 토출구로부터 처리액을 토출하는 장척 형상의 노즐에 대해, 상기 노즐의 선단에 부착된 처리액의 균일화 처리를 실시하는 프라이밍 처리 방법이며,
기판 폭 방향으로 축선이 연장되는 원통 또는 원기둥 형상으로 형성된 프라이밍 롤러를 축 주위로 회전시키는 스텝과,
소정 방향으로 회전하는 상기 프라이밍 롤러의 롤러면에 대해, 상기 노즐의 토출구로부터 처리액을 토출하는 스텝과,
상기 프라이밍 롤러를 따라서 연장 설치된 처리액 흡입 부재를 상기 프라이밍 롤러의 롤러면에 대해 접촉 또는 근접시키는 스텝과,
상기 처리액 흡입 부재에 의해, 상기 프라이밍 롤러의 롤러면에 부착된 처리액을 흡입 제거하는 스텝
을 포함하는 것을 특징으로 하는, 프라이밍 처리 방법.It is a priming process method which equalizes the process liquid attached to the front-end | tip of the said nozzle with respect to the elongate nozzle which discharges a process liquid from a discharge port,
Rotating a priming roller formed in a cylindrical or cylindrical shape in which an axis extends in the substrate width direction around the axis;
Discharging the processing liquid from the discharge port of the nozzle to the roller surface of the priming roller rotating in a predetermined direction;
Contacting or approaching the processing liquid suction member extending along the priming roller with respect to the roller surface of the priming roller;
Step of suction-removing the process liquid adhered to the roller surface of the priming roller by the process liquid suction member
Priming processing method comprising a. 제5항에 있어서,
상기 프라이밍 롤러의 롤러면에 대해, 상기 노즐의 토출구로부터 처리액을 토출하는 스텝에 있어서,
상기 프라이밍 롤러가 소정의 회전 각도를 회전하는 동안, 상기 노즐의 토출구로부터 상기 프라이밍 롤러의 롤러면에 대해 처리액을 토출시키고,
상기 프라이밍 롤러의 부분적 롤러면 영역을 1회의 프라이밍 처리에 사용하는 것을 특징으로 하는, 프라이밍 처리 방법.
The method of claim 5,
In the step of discharging the processing liquid from the discharge port of the nozzle to the roller surface of the priming roller,
While the priming roller rotates a predetermined rotation angle, the processing liquid is discharged from the discharge port of the nozzle to the roller surface of the priming roller,
And a partial roller surface area of the priming roller is used for one priming treatment.
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