KR20120000886A - 화학적 에칭 방식에 의한 전자 제품의 커버용 유리를 형상 가공하는 장치 - Google Patents

화학적 에칭 방식에 의한 전자 제품의 커버용 유리를 형상 가공하는 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명에 따른 화학적 에칭 방식에 의한 전자 제품의 커버용 유리를 형상 가공하는 장치는 글라스를 식각하는 장치에 있어서, 프레임과, 상기 프레임을 관통하는 2개 이상의 외곽홀, 상기 각각의 외곽홀에 끼워지면서 내측에 글라스 삽입홀이 관통된 내곽틀, 및 상기 내곽틀과 프레임을 동시에 관통하여 상기 내곽틀이 프레임에 연결된 상태에서 축 선회 되도록 하는 회전축을 구비한다. 또한, 상기 글라스 삽입홀에는 형상 가공하고자 하는 글라스가 끼워질 수 있고, 상기 글라스와 글라스 삽입홀 사이에는 글라스를 내곽틀에 고정시킬 수 있도록 연결 부재가 부가 장착될 수 있다. 또, 본 발명은 상기 글라스에 화학적 에칭 용액을 분사시켜 줄 수 있는 에칭 용액 공급 수단을 구비하고, 상기 에칭 용액 공급 수단은 프레임을 사이에 두고 서로 마주보게 된다. 이러한 구조로 이루어진 본 발명에 따른 화학적 에칭 방식에 의한 전자 제품의 커버용 유리를 형상 가공하는 장치는 형상 가공하고자 하는 글라스를 일정 시간 마다 180도 회전시켜 에칭 용액이 스며드는 글라스의 일부분에 글라스의 상부에서 흘러 내려온 슬러지나 이물질이 쌓이지 않도록 할 수 있다. 따라서, 본 발명에 따른 화학적 에칭 방식에 의한 전자 제품의 커버용 유리를 형상 가공하는 장치는 슬러지나 이물질로 인해 발생 될 수 있는 제품 불량을 최소화시킬 수 있으면서, 규격에 맞는 글라스를 생산할 수 있다. 또한, 면취 공정을 최소화하여 면취 공정에 따른 인력과 시간을 절감할 수 있다는 장점이 있다.

Description

화학적 에칭 방식에 의한 전자 제품의 커버용 유리를 형상 가공하는 장치{Apparatus for processing cover glass form of electrical product by chemical etching method}
본 발명은 화학적 에칭 방식을 이용하여 전자 제품에 적용되는 커버용 글라스를 특정 형태로 형상화하는 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 화학적 에칭 방식을 이용하여 특정 형상을 갖는 글라스를 제조할 때, 화학적 에칭 방식에 의해 발생 될 수 있는 글라스의 외곽 치수 편차 및 테이퍼(taper)의 불균일 현상을 최소화하여 에칭 공정 이후 공정인 면취 공정 절차를 최소화할 수 있는 화학적 에칭 방식에 의한 전자 제품의 커버용 유리를 형상 가공하는 장치에 관한 것이다.
일반적으로 개인 휴대폰의 디스플레이 부분이나 터치 패널의 디스플레이 부분에는 형상 가공된 투명 부재가 설치된다.
이때, 상기 투명 부재로는 통상적으로 플라스틱 재질로 이루어진 투명 부재가 주로 사용되었으나, 상기 플라스틱 재질로 이루어진 투명 부재는 강도가 약해 시간이 지남에 따라 스크래치 등에 의하여 그 투명도가 저하될 수 있다는 문제점이 있었다.
따라서, 상기 제시한 문제점을 해결하고자, 근래에는 플라스틱 재질로 이루어진 투명 부재 대신 글라스 재질로 이루어진 투명 부재가 주로 사용되고 있다.
한편, 상기 글라스 재질로 이루어진 투명 부재를 형상 가공하기 위한 제조 방법으로는 워터 제트 커팅(Water jet cutting) 방식 또는 레이저 커팅(Laser cutting) 방식 등이 사용될 수 있으나 상기 제시한 제조 방법은 공정 수율 및 품질 수준의 문제로 점차 지양되고 있는 추세이고, 현재로서는 화학적 에칭 방식을 이용하여 글라스 재질로 이루어진 투명 부재를 형상화하고 있는 추세이다.
상기 글라스 재질로 이루어진 투명 부재가 화학적 에칭 방식에 의해 형상화 되는 과정을 순차적으로 설명하면 다음과 같다.
먼저, 제 1 단계로 글라스의 전면에 마스킹 잉크를 도포한 다음, 건조한다. 다음, 제 2 단계로 글라스를 형상화하고자 하는 패턴을 갖는 필름을 이용하여 식각을 진행할 부분을 노광 처리한다.
다음, 제 3 단계로 탄산 나트륨을 이용하여 화학적 에칭이 이루어질 부분에 마스킹된 잉크를 제거한 다음, 글라스를 건조한다.
다음, 제 4 단계로 글라스에 화학적 에칭 용액을 분사하여 글라스를 특정 형상으로 가공하고, 가공된 글라스의 외곽 부분을 면취하여 글라스의 외곽 편차 및 테이퍼(taper)의 불균일 현상을 최소화한다.
다음, 제 5 단계로 면취 작업까지 완료된 글라스를 고온상에서 이온 치환법을 이용하여 강화시킴으로써, 상기 형상화된 글라스를 특정 가전 제품에 적용할 수 있다.
하지만, 상기와 같은 공정은 화학적 에칭 용액을 분사하여 글라스를 특정 형태로 형상화할 때, 화학적 에칭 용액이 세로 방향으로 세워진 글라스의 위쪽에서 아래쪽으로 흘러내리기 때문에 글라스의 하부에 위치해 있으면서 마스킹 잉크가 도포되지 않은 글라스의 식각 처리 부분에 슬러지나 이물질이 쌓여 에칭 처리된 글라스의 형상이 정형화되지 않는다는 문제점이 있었다.
또한, 상기와 같은 방법은 위에서 아래 방향으로 내려오는 화학적 에칭 용액에 의하여 글라스의 외곽 부분이 날카로워질 수 있다는 문제점이 있었고, 글라스의 어느 한 측면의 길이와 상기 어느 한 측면을 마주보고 있는 다른 한 측면의 길이가 서로 달라질 수 있다는 문제점이 있었다.
한편, 상기와 같은 문제점을 해결하고자, 면취 공정을 통해 에칭 공정이 끝난 글라스의 외곽 부분을 다듬고 글라스의 양측면 길이를 맞추고 있으나 면취 공정의 특성상 글라스의 상,하,좌,우에 따라 면취 진행량을 따로 정할 수 없기 때문에 제품에 대한 수율이 떨어질 수 밖에 없고 면취 작업시 많은 시간이 소요된다는 문제점이 있었다.
이에 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하고자, 화학적 에칭 방식을 진행하는 중 발생 될 수 있는 글라스의 외곽 치수 편차 또는 글라스의 테이퍼(taper) 불균일 현상을 최소화하여 다음 공정인 면취 공정을 최소화하거나 면취 공정을 생략해도 될 수 있는 화학적 에칭 방식에 의한 전자 제품의 커버용 유리를 형상 가공하는 장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
상기한 바의 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 화학적 에칭 방식에 의한 전자 제품의 커버용 유리를 형상 가공하는 장치는 글라스를 식각하는 장치에 있어서, 프레임과, 상기 프레임을 관통하는 2개 이상의 외곽홀, 상기 각각의 외곽홀에 끼워지면서 내측에 글라스 삽입홀이 관통된 내곽틀, 및 상기 내곽틀과 프레임을 동시에 관통하여 상기 내곽틀이 프레임에 연결된 상태에서 축 선회 되도록 하는 회전축을 구비한다.
또한, 상기 글라스 삽입홀에는 형상 가공하고자 하는 글라스가 끼워질 수 있고, 상기 글라스와 글라스 삽입홀 사이에는 글라스를 내곽틀에 고정시킬 수 있도록 연결 부재가 부가 장착될 수 있다.
또, 본 발명은 상기 글라스에 화학적 에칭 용액을 분사시켜 줄 수 있는 에칭 용액 공급 수단을 구비하고, 상기 에칭 용액 공급 수단은 프레임을 사이에 두고 서로 마주보게 배치될 수 있다.
이러한 구조로 이루어진 본 발명에 따른 화학적 에칭 방식에 의한 전자 제품의 커버용 유리를 형상 가공하는 장치는 형상 가공하고자 하는 글라스를 일정 시간 간격으로 180도 회전시켜 에칭 용액이 스며드는 글라스 셀의 가장자리에 글라스의 상부로부터 흘러 내려오는 슬러지나 이물질이 쌓이지 않도록 할 수 있다.
따라서, 본 발명은 에칭 용액이 글라스 상에서 어느 한 방향으로만 흐르지 않도록 하여 글라스의 하부에 위치하면서, 마스킹 잉크가 도포되지 않은 글라스 셀의 가장자리에 슬러지나 이물질이 쌓이지 않도록 하고, 글라스 셀의 외곽 치수 또는 글라스 셀의 테이퍼(taper)를 균일하게 해 줄 수 있으며, 슬러지나 이물질로 인해 발생 될 수 있는 제품 불량을 최소화하여 제품 수율을 늘릴 수 있다.
또한, 글라스 셀의 외곽이 에칭 용액에 의해 날카롭게 깍이지 않도록 하고, 다음 공정인 면취 공정을 최소화하여 면취 공정에 따른 인력과 시간을 절감할 수 있다는 장점이 있다.
도면 1은 종 방향으로 자른 본 발명을 정면에서 바라본 도면,
도면 2a는 에칭 용액 공급 수단에 대한 제 1 실시예를 설명하기 위한 도면,
도면 2b 내지 도면 2c는 에칭 용액 공급 수단에 대한 제 2 실시예를 설명하기 위한 도면,
도면 3은 글라스와 글라스 셀 사이에 테이프가 부착된 상태를 설명하기 위한 도면.
먼저, 본 발명의 구체적인 설명에 들어가기에 앞서, 본 발명에 관련된 공지 기술 또는 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다.
또한, 후술 되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례 등에 따라 달라질 수 있으므로, 그 정의는 본 발명에 따른 화학적 에칭 방식에 의한 전자 제품의 커버용 유리를 형상 가공하는 장치를 설명하는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 자세히 설명한다.
본 발명에 따른 화학적 에칭 방식에 의한 전자 제품의 커버용 유리를 형상 가공하는 장치는 도면 1에 도시한 바와 같이, 글라스를 식각하는 장치에 있어서, 프레임(1)과, 상기 프레임(1)을 관통하는 2개 이상의 외곽홀(3), 상기 각각의 외곽홀(3)에 끼워지면서 내측에 글라스 삽입홀(5)이 관통된 내곽틀(7), 및 상기 내곽틀(7)과 프레임(1)을 동시에 관통하여 상기 내곽틀(7)이 프레임(1)에 연결된 상태에서 축 선회 되도록 하는 회전축(9)을 구비한다.
또한, 상기 회전축(9)에는 도면 1에 도시한 바와 같이, 손잡이(11)가 부착될 수 있어 사람의 손에 의해 회전축(9)이 회전될 수 있다.
또, 상기 회전축(9)에는 손잡이(11) 대신에 전기 모터가 연결될 수 있어 전기 모터에 의해 상기 회전축(9)이 회전될 수도 있다.
이때, 상기 전기 모터에는 일정 시간마다 전기 모터를 구동시키거나 정지시킬 수 있는 제어부가 장착됨이 바람직하다.
또, 상기 글라스 삽입홀(5)에는 형상 가공하고자 하는 글라스(13)가 끼워질 수 있고, 상기 글라스(13)와 글라스 삽입홀(5) 사이에는 글라스(13)를 내곽틀(7)에 고정시킬 수 있도록 연결 부재(15)가 부가 장착될 수 있다.
또, 상기 내곽틀(7)의 상·하단면과 외곽홀(3)의 상·하단면에는 영구 자석(17a,17b,18a,18b)이 장착될 수 있다.
따라서, 상기 내곽틀(7)이 회전축(9)에 의해 축 선회되어 내곽틀(7)의 하단면이 외곽홀(3)에 갖추어진 상단면과 마주보게 되면, 상기 내곽틀(7)의 하단면에 장착된 영구 자석(17b)이 외곽홀(3)의 상단면에 갖추어진 영구 자석(18a)에 이끌려 상기 내곽틀(7)이 외곽홀(3)과 일직선을 유지한 상태로 곧게 세워지게 된다.
반면, 상기 내곽틀(7)이 축 선회되어 내곽틀(7)의 상단면이 외곽홀(3)에 갖추어진 하단면과 마주보게 되면, 상기 내곽틀(7)의 상단면에 장착된 영구자석(17a)이 외곽홀(3)의 하단면에 갖추어진 영구 자석(18b)에 이끌려 상기 내곽틀(7)이 외곽홀(3)과 일직선을 유지한 상태로 곧게 세워지게 된다.
따라서, 상기 영구 자석(17a,17b,18a,18b)은 글라스(13)를 세로 방향으로 반듯하게 세워줌으로써 글라스(13)의 전면과 후면에 에칭 용액이 고르게 분사되도록 해 준다.
또한, 본 발명에는 글라스(13)에 화학적 에칭 용액을 분사시켜 줄 수 있는 에칭 용액 공급 수단(19)이 설치되는바, 상기 에칭 용액 공급 수단(19)은 도면 2a 내지 도면 2c에 도시한 바와 같이, 글라스(13)를 사이에 두고 서로 마주보게 배치될 수 있다.
이러한 구조로 이루어진 본 발명은 상기 에칭 용액 공급 수단(19)으로부터 글라스(13) 방향으로 화학적 에칭 용액이 분사되면 상기 글라스(13)가 글라스 삽입홀(5)에 끼워진 상태에서 내곽틀(7)을 따라 일정 시간마다 축 선회 되면서 화학적 에칭 용액에 의해 식각 될 수 있다.
이때, 상기 에칭 용액 공급 수단(19)은 도면 2a에 도시한 제 1 실시 예와 같이, 글라스(13)의 가로 방향으로 눕혀져 외부로부터 에칭 용액을 공급받을 수 있는 메인 관로(20)와, 상기 메인 관로(20)의 외부 둘레면에 설치되어 에칭 용액을 글라스(13) 방향으로 분사시키는 분사 노즐(22)로 이루어질 수 있다.
또, 상기 에칭 용액 공급 수단(19)은 도면 2b에 도시한 제 2 실시 예와 같이, 글라스(13)의 가로 방향으로 눕혀져 외부로부터 에칭 용액을 공급받을 수 있는 메인 관로(20)와, 상기 글라스(13)의 세로 방향으로 세워져 있으면서 일단이 메인 관로(20)에 연결되어 상기 메인 관로(20)로부터 에칭 용액을 공급받는 2개 이상의 부설 관로(24)를 구비할 수 있고, 상기 글라스(13)와 마주보고 있는 부설 관로(24)에는 도면 2c에 도시한 바와 같이, 에칭 용액을 글라스(13) 방향으로 분사시키는 분사 노즐(22)이 갖추어질 수 있다.
이때, 상기 프레임(1)을 사이에 두고 서로 마주보게 배치된 에칭 용액 공급 수단(19)은 글라스(13)의 전면과 후면에 에칭 용액을 분사시키게 되는데, 이때, 에칭 용액 공급 수단(19)으로부터 분사된 화학적 에칭 용액은 중력에 의해 글라스(13)의 상부에서 하부 방향으로 흘러내릴 수 있다.
한편, 상기 연결 부재(15)는 화학적 에칭 용액에 부식되지 않도록 내산성을 가진 집게가 사용됨이 바람직하다.
또한, 상기 글라스(13)는 도면 1 또는 도면 3에 도시한 바와 같이, 글라스(13)의 내측에 2개 이상의 글라스 셀(21)을 구비하고, 상기 글라스 셀(21)의 가장자리에는 마스킹 잉크가 도포되지 않아 글라스 셀(21)의 가장자리 부분이 에칭 용액에 의해 부식될 수 있다.
따라서, 상기 글라스(13)에 화학적 에칭 용액이 일정 시간 도포되면, 상기 화학적 에칭 용액이 마스킹 잉크가 도포 되지 않은 글라스 셀(21)의 가장자리를 부식시켜, 상기 글라스 셀(21)이 글라스(13)로부터 분리될 수 있다.
또한, 상기 글라스(13)와 글라스 셀(21)에는 글라스(13)에 화학적 에칭 용액이 분사되던 중 상기 글라스 셀(21)이 글라스(13)로부터 분리되지 않도록 도면 1과 도면 3에 도시한 바와 같이, 글라스(13)와 글라스 셀(21)을 연결시킬 수 있는 테이프(23)가 부착될 수 있다.
이때, 상기 테이프(23)는 화학적 에칭 용액에 의해 부식되지 않도록 내산성을 지녀야 하며, 에칭되어야 할 글라스 셀(21)의 가장자리 부분이 테이프(23)에 의하여 미 에칭(etching) 되지 않도록 테이프(23)의 너비는 2mm 이내로 함이 바람직하다.
또한, 마스킹 잉크가 도포 된 상기 글라스(13)에 흠집이 발견되었을 경우 에칭 용액에 의해 상기 흠집이 점점 커질 수 있으므로 상기 흠집 부위에 내산 테이프(23)를 부착함이 바람직하다.
상기와 같은 구조로 이루어진 본 발명이 동작 되는 과정을 도면 1 내지 도면 3을 참조하여 설명하면 다음과 같다.
먼저, 에칭 준비가 완료된 글라스(13)를 형상화하기 위해 상기 글라스(13)를 글라스 삽입홀(5)에 끼워넣고, 상기 글라스(13)를 연결 부재(15)를 이용하여 내곽틀(7)에 연결한다.
따라서, 상기 글라스(13)는 연결 부재(15)에 의해 글라스 삽입홀(5)을 벗어날 수 없다.
이때, 상기 회전축(9)에 의해 축 선회 되는 내곽틀(7)과 글라스(13)에는 글라스(13)가 회전된 횟수를 용이하게 파악할 수 있도록 상,하 표시가 표시됨이 바람직하다.
다음, 상기 에칭 용액 공급 파이프에 에칭 용액을 공급하여 상기 에칭 용액 공급 파이프에 갖추어진 분사 구멍으로부터 에칭 용액이 분사되도록 한다.
이때, 상기 에칭 용액 공급 파이프로부터 분사된 에칭 용액은 글라스(13)의 상부로 분사된 다음, 중력에 의해 글라스(13)의 하부로 흘러내리게 된다.
또한, 글라스(13)의 상부 방향에서 하부 방향으로 흘러 내려오는 에칭 용액은 마스킹 잉크가 도포되지 않은 글라스 셀(21)의 가장자리로 스며들어 글라스 셀(21)의 가장자리를 부식시키게 된다.
다음, 일정 시간이 경과 되면, 회전축(9)을 회전시켜 상기 내곽틀(7)의 하단이 외곽홀(3)의 상단과 마주 보도록 하여 결과적으로 상기 글라스(13)의 상·하가 서로 뒤바뀌도록 한다.
이때, 상기 내곽틀(7)의 하단면에 갖추어진 영구 자석(17b)은 외곽홀(3)의 상단면에 갖추어진 영구자석(18a)과 맞대응되어 서로 끌어당기게 되고, 상기 내곽틀(7)의 상단면에 갖추어진 영구 자석(17a)은 외곽홀(3)의 하단면에 갖추어진 영구 자석(18b)과 맞대응되어 서로 끌어당기게 된다.
따라서, 상기 내곽틀(7)은 서로 맞대응된 영구 자석(17a,17b,18a,18b)들의 인력에 의해 곧게 세워질 수 있다.
한편, 상기 내곽틀(7)을 일정 시간마다 회전시키는 이유는 글라스(13)의 상부에서 발생된 슬러지나 이물질이 에칭 용액을 따라 글라스(13)의 하부로 흘러 내려오면서 글라스(13)의 하부에 위치한 글라스 셀(21)의 가장자리에 쌓이게 됨을 방지하기 위함이다.
따라서, 상기 글라스(13)의 하부에 위치한 글라스 셀(21)은 에칭 용액이 스며드는 글라스 셀(21)의 가장자리에 슬러지나 이물질이 쌓임에 따라 글라스(13)로부터 분리될 수 없고, 결과적으로 제품 불량을 발생하게 된다.
이때, 상기와 같은 문제는 에칭 용액이 스며드는 글라스 셀(21)의 가장자리 폭을 넓혀줌으로써 해결할 수도 있으나 상기 글라스 셀(21)의 가장자리 폭이 지나치게 넓게 되면, 하나의 글라스(13)당 포함될 수 있는 글라스 셀(21)의 개수가 한정되기 때문에 제품에 대한 수율이 떨어진다는 문제점이 있었다.
또한, 상기 글라스(13)를 180도 회전시켜 주며, 글라스(13)를 식각할 때, 글라스 식각에 대한 효과를 극대화하기 위해서는 우선 에칭 용액에 의하여 글라스(13)가 식각 되는 속도를 계산한 다음, 글라스(13)의 전체 두께를 글라스(13)가 식각 되는 속도로 나눠 해당 글라스(13)에 알맞는 식각 시간을 계산한다.
다음, 이전 단계에서 계산된 식각 시간동안 에칭 용액을 글라스(13)에 분사하되, 글라스 셀(21)의 외곽 치수 편차 또는 글라스 셀(21)의 테이퍼(taper) 크기가 균일하도록 함과 더불어, 글라스 셀(21)의 가장자리에 슬러지나 이물질이 쌓이지 않도록 글라스(13)를 짝수번(2,4,6) 회전시켜줌이 바람직하다.
이때, 상기 글라스(13)의 회전은 사람의 수동작에 의해 회전되거나 전기 모터에 의해 회전될 수도 있다.
한편, 상기와 같은 과정이 완료되어 글라스 셀(21)이 글라스(13)로부터 분리되면, 글라스 셀(21)을 테이프(23)로부터 분리한 다음, 글라스 셀(21)의 외곽 치수를 측정한다.
다음, 글라스 셀(21)의 일부분에서 테이퍼(taper)의 불균일 현상이 나타날 수 있으므로 글라스(13)를 상,하 회전하지 않은 상태에서 에칭 용액을 추가적으로 분사하여 글라스 셀(21)이 보다 오랫동안 식각 되도록 한다.
다음, 상기와 같은 과정이 완료되면, 다시 테이프(23)로부터 글라스 셀(21)을 떼어내어 외곽 치수를 재측정하고, 외곽 치수가 생산하고자 하는 외곽 치수와 일치한다면 상기 글라스 셀(21)을 테이프(23)로부터 떼어내어 분류한다.
이러한 구조로 이루어진 본 발명은 형상 가공하고자 하는 글라스(13)를 일정 시간 간격으로 180도 회전시켜 에칭 용액이 스며드는 글라스 셀(21)의 가장자리에 글라스(13)의 상부에서 흘러 내려온 슬러지나 이물질이 쌓이지 않도록 한다.
따라서, 본 발명에 따른 화학적 에칭 방식에 의한 전자 제품의 커버용 유리를 형상 가공하는 장치는 규격에 맞는 글라스 셀(21)을 생산할 수 있고, 슬러지나 이물질로 인해 발생 될 수 있는 불량 제품을 최소화하여 제품 수율을 늘릴 수 있다.
또한, 에칭 후 공정인 면취 공정을 최소화하여 면취 공정에 따른 인력과 시간을 절감할 수 있다는 장점이 있다.
이상에서 설명한 본 발명은 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환과 변형 및 변경이 가능하므로 전술한 실시 예 및 도면에 한정되는 것이 아니다.
1. 프레임 3. 외곽홀
5. 글라스 삽입홀 7. 내곽틀
9. 회전축 11. 손잡이
13. 글라스 15. 연결 부재
17a. 영구 자석 19. 에칭 용액 공급 수단
20. 메인 관로 21. 글라스 셀
22. 분사 노즐 23. 테이프
24. 부설 관로

Claims (8)

  1. 글라스를 식각하는 장치에 있어서,
    프레임(1)과;
    상기 프레임(1)을 관통하는 2개 이상의 외곽홀(3);
    상기 각각의 외곽홀(3)에 끼워지면서 내측에 글라스 삽입홀(5)이 관통된 내곽틀(7);
    상기 내곽틀(7)과 프레임(1)을 동시에 관통하여 상기 내곽틀(7)이 프레임(1)에 연결된 상태에서 축선회 되도록 하는 회전축(9);
    상기 글라스 삽입홀(5)에 끼워지는 글라스(13);
    상기 글라스(13)를 내곽틀(7)에 고정시키는 연결 부재(15);
    상기 글라스(13)에 화학적 에칭 용액을 분사시키는 에칭 용액 공급 수단(19)으로 이루어지고,
    상기 에칭 용액 공급 수단(19)은 프레임(1)을 사이에 두고 서로 마주보게 배치되어 상기 에칭 용액 공급 수단(19)으로부터 글라스(13) 방향으로 화학적 에칭 용액이 분사되면, 상기 글라스(13)가 내곽틀(7)에 갖추어진 글라스 삽입홀(5)에 끼워진 상태에서 내곽틀(7)을 따라 일정 시간 간격에 따라 축선회되며 화학적 에칭 용액에 의해 식각되는 것을 특징으로 하는 화학적 에칭 방식에 의한 전자 제품의 커버용 유리를 형상 가공하는 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 회전축(9)에는 손잡이(11)가 부착되는 것을 특징으로 하는 화학적 에칭 방식에 의한 전자 제품의 커버용 유리를 형상 가공하는 장치.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 회전축(9)은 전기 모터에 의해 회전되고 상기 전기 모터에는 일정 시간마다 전기 모터를 구동시키거나 정지시키는 제어부가 장착되는 것을 특징으로 하는 화학적 에칭 방식에 의한 전자 제품의 커버용 유리를 형상 가공하는 장치.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 내곽틀(7)의 상·하단면과 외곽홀(3)의 상·하단면에는 영구 자석(17a,17b,18a,18b)이 장착되어 상기 내곽틀(7)이 외곽홀(3)안에서 축선회 될 때 상기 내곽틀(7)에 갖추어진 영구 자석(17a,17b)이 외곽홀(3)에 갖추어진 영구 자석(18a,18b)과 맞대응되는 것을 특징으로 하는 화학적 에칭 방식에 의한 전자 제품의 커버용 유리를 형상 가공하는 장치.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 글라스(13)는 글라스(13)의 내측에 2개 이상의 글라스 셀(21)을 구비하고,
    상기 글라스 셀(21)의 가장자리에는 마스킹 잉크가 도포되지 않으며,
    화학적 에칭 용액이 분사되는 중 상기 글라스 셀(21)이 글라스(13)로부터 이탈되지 않도록 상기 글라스 셀(21)과 글라스(13)에는 글라스 셀(21)과 글라스(13)를 연결시키는 테이프(23)가 부착되고,
    상기 테이프(23)는 내산성을 지닌 것을 특징으로 하는 화학적 에칭 방식에 의한 전자 제품의 커버용 유리를 형상 가공하는 장치.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 테이프(23)의 너비는 2mm 이내인 것을 특징으로 하는 화학적 에칭 방식에 의한 전자 제품의 커버용 유리를 형상 가공하는 장치.
  7. 제 1항에 있어서,
    상기 에칭 용액 공급 수단(19)은 글라스(13)의 가로 방향으로 눕혀져 외부로부터 에칭 용액을 공급받는 메인 관로(20)와;
    상기 글라스(13)의 세로 방향으로 세워져 있으면서 일단이 메인 관로(20)에 연결되어 상기 메인 관로(20)로부터 에칭 용액을 공급받는 2개 이상의 부설 관로(24)를 구비하고,
    상기 글라스(13)와 마주보고 있는 부설 관로(24)에는 에칭 용액을 글라스(13) 방향으로 분사시키는 분사 노즐(22)이 갖추어진 것을 특징으로 하는 화학적 에칭 방식에 의한 전자 제품의 커버용 유리를 형상 가공하는 장치.
  8. 제 1항에 있어서,
    상기 에칭 용액 공급 수단(19)은 글라스(13)의 가로 방향으로 눕혀져 외부로부터 에칭 용액을 공급받는 메인 관로(20)와;
    상기 메인 관로(20)의 외부 둘레면에 설치되어 에칭 용액을 글라스(13) 방향으로 분사시키는 분사 노즐(22)로 이루어진 것을 특징으로 하는 화학적 에칭 방식에 의한 전자 제품의 커버용 유리를 형상 가공하는 장치.
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