KR20110135386A - 마그네슘 금속층을 포함하는 데이터 저장 매체 - Google Patents

마그네슘 금속층을 포함하는 데이터 저장 매체 Download PDF

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브라이엄 영 유니버시티
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Abstract

마그네슘 금속층과 반응성 재료층을 포함하는 광학 정보 매체가 개시된다. 마그네슘 금속은 반응성 재료층과 직접 반응하거나 레이저와 같은 소스로부터 에너지의 인가 후 반응성 재료층으로부터 방출된 화학물질과 직접 반응할 수 있다.

Description

마그네슘 금속층을 포함하는 데이터 저장 매체{Data Storage Media Containing Magnesium Metal Layer}
본 발명은 장기간 디지털 데이터 저장 매체 및 더욱 구체적으로 매우 안정한 디지털 데이터 저장 매체를 생산하는 재료 및 제조 방법에 관한 것이다. 특히, 마그네슘 층과 반응성 층을 포함하는 광학 디스크가 개시된다.
데이터 저장과 관련된 주요 이슈들 중 하나는 매체 수명이다. 오늘날 사용된 데이터 저장 방법은 50년, 100년 또는 그 이상의 데이터 저장에 불충분하다. 문서 보관자의 관점에서 본, 이런 수명 딜레마는 여러 양상을 가지며 동일하게 많은 그럴듯하나, 불행히도 결점이 있는 잠재적인 해결책을 가진다. 예를 들어, 인지된 장기간 데이터 저장의 한 방법은 광학 디지털 데이터 저장 디스크이다. 광학 디지털 데이터 저장은 컴팩트 디스크(CD), 미니-디스크, 디지털 비디오 디스크(DVD), 고해상도(HD) 및 BLU-RAY DISC®(BD)의 디스크 용량을 포함하나 이에 제한되지 않는 많은 용량과 포맷으로 생산되고 각 디스크 용량 내에서 여러 포맷 변형을 가지며, 약간의 예를 들면, 가장 일반적으로, R, +R, -RW, +RW 및 RAM을 포함한다. 이런 매체의 구조의 성질을 고려하면, 이들은 노화에 영향을 받지 않으며 주로 장-수명 예상 요구를 성취시킨다. 불행히도, 이런 매체 형태의 수명 예상에 대한 실험 데이터는 일부 제조사들에 의해 제공된 큰 수명 예측과 모순된다(예를 들어, Stability Comparison of Recordable Optical Discs - A Study of Error Rates in Harsh Conditions, J. Res . Natl . Inst . Stand Technol. 109, 517-524 (2004) 참조).
디지털 데이터의 장기간(통상적으로 5-7년 초과) 기억과 저장을 위한 긴 수명 딜레마를 해결하기 위한 다른 빈번하게 시도된 해결책은 테이프 또는 하드디스크와 같은 자성 매체에 데이터를 보관하고 데이터를 새로운 테이프, 하드드라이브 또는 광학 저장 디스크에 주기적으로 복사하여 저장된 데이터를 다시 만드는 것이다. 이런 방법에 대한 변형은 다양한 데이터 밀도와 포맷의 광학 데이터 저장 기술을 사용하여 이루어질 수 있다. 특정한 정보 검색 능력(searchability)은 광학 포맷으로의 데이터 전환에 의해 완화될 수 있는 반면, 이전에 저장한 데이터를 연속적으로 다시 쓰는 것은 실행가능한 해결책이 아니다. 한 휘발성 포맷으로부터 유사하거나 더 큰 민감성을 가진 다른 것으로 저장 데이터를 전송하는 것은 에러가 발생하기 쉬우며 본질적으로 위험하다(예를 들어, "Storage expert warns of short life span for burned CDs," John Blau, Computer world Magazine, January 10, 2006 참조). 비용은 다른 양상의 문제이다. 먼저, 임의의 특정 년 동안 회사 또는 다른 단체에 의해 발생된 데이터의 양을 저장하는 것은 어렵지 않거나 비용이 많이 들지 않으나, 임의의 새로운 데이터의 통합 이외에 전년으로부터 데이터가 새로운 매체로 반복적으로 다시 쓰이게 됨에 따라 저장 비용이 지수적으로 지불된다.
긴 수명 딜레마에 대한 해결책을 위한 연구는 시스템의 데이터 저장 기록 속도와 데이터 밀도를 증가시키는 것에 집중하는 새로운 데이터 저장 기술들을 개발을 유도하였다. 예들은 배향 나노 구조(Oriented Nano-Structure)(미국특허출원 2007/0195672(2007년 8월23일 발행)), 홀로그래픽(holographic)(미국특허출원 2007/0216981(2007년 9월20일 발행)) 및 다층 기술(multi-layer technology)(미국특허출원 2007/0242592(2007년 10월18일 발행))을 포함한다. 각각의 경우에, 초점은 현저하게 높은 데이터 저장 밀도이다: 배향 나노 구조의 경우 디스크당 대략 150 기가바이트, 홀로그래픽의 경우 디스크당 250 기가바이트 초과 및 다층 매체 기술의 경우 디스크당 대략 1 테라바이트. 또한, 본 명세서에서 논의될 것과 같이, 데이터 용량을 증가시키거나 기록 속도를 증가시키는 것은 이 문제에 긍정적으로 영향을 미치지 않았다.
상기한 기술 방향이 가진 한 문제는 새로운 매체 용량과 포맷은 더 오래된 매체 용량과 포맷과 동일한 수명 저하 영향을 겪는다는 것이다. 상기한 기술들에서 구현된 쓰기 방법(write methods)은 유사한 수단으로 데이터를 쓰고 이전 기술 세대의 재료들과 거의 유사한 재료들을 사용한다. 각각 이후 세대가 가진 하나의 현저한 변화는 더 높은 데이터 밀도를 허용하나 수명 저하 영향을 악화시키는 더 작은 피처 크기였다.
1964년에 소개될 때, 라이터블(writable) 광학 데이터 저장 장치는 MYLAR®-기판 필름스트립(filmstrip) 상에 알루미늄 또는 로듐의 박막으로 주로 제조된 마멸가능한 쓰기 층(ablatable write layer)에 아날로그-파 신호를 기록하기 위해 레이저를 사용하였다(예를 들어, 미국특허 제 3,314,073 참조). 쓰이지 않은 부분들은 리드 레이저에 대해 반사성이고 쓰인 부분들은 흡수성 또는 투과성이었다. 동일한 발명자들의 이후 특허들은 마멸가능한 층에 디지털 홀들을 인코딩하고(예를 들어, 미국특허 제 3, 474,457 참조), 드럼 상에 매체를 장착하고(예를 들어, 미국특허 제 3,654,624 참조) 표면 결함 및 에러 체킹을 첨가하여 읽기 및 쓰기 신뢰성을 증가시키는 것(예를 들어, 미국특허 제 3,657,707 참조)을 제안하였다. 이런 고 에너지 데이터 저장 디자인들은 [i]n이 변형된 레이저 에너지로 두꺼운 금속층 저장 매체를 선택적으로 태우기 때문에 부분적으로 손해를 보며, 필름 또는 금속층이 코팅된 기판을 태우거나 파괴하는 경향이 있다(예를 들어, 제 3,665,483, 3행 참조). 이런 초기 특허들에 의해 제안된 쓰기 방법들은 라이팅 옵틱(writing optics)에 마멸가능한 금속 재료를 증착하여, 쓰기 시스템을 효과적으로 오염시키는 단점을 더 가졌다.
현재 대부분의 CD 및 DVD -/+R 포맷은 낮은 탈색 에너지 염료들(low bleachable-energy dyes)을 포함한다. 쓰기 공정은 염료를 탈색하여 리드 레이저(read laser)에 대해 투명하게 하거나 염료를 "태워서", 염료를 리드 레이저에 대해 더욱 불투명하게 하는 비가역적 화학반응이 일어나는 지점까지 쓰기 레이저가 염료의 내부 에너지를 증가시킬 때 발생한다. 광학 디스크 제조사들은, 부분적으로, 비교적 낮은 활성화 에너지에서 쉽게 탈색되거나 연소될 이들의 능력 때문에 안료들을 선택한다. 이런 낮은 탈색 에너지 염료들은 상기한 것들과 동일하거나 더 큰 수명 저하 동역학으로 손해를 본다. 이런 염료들을 사용하여 제조된 디스크들은 3년 내지 5년의 적은 기간 후 읽을 수 없게 될 수 있다. 한편, 현존하는, 저 에너지 용융 또는 탈색 쓰기 공정들은 대부분의 현대의 광학 매체를 저장 매체로서 부적절하게 한다. 광학 마크를 기록하기 위해 적은 에너지를 필요로 하는 쓰기 층들은 최초 기록 후 임의의 시간에서 자연적인 화학적, 열적 또는 환경적 영향력에 의해 쓰이지 않은 부분을 변형하기 위해 적은 에너지를 필요로 한다.
대부분의 상업용 CD, DVD 및 BD 매체는 이들의 데이터 층에 유기 염료들을 사용한다. 일반적으로, 유기 염료들이 널리 이용되고 저렴하나, 나쁜 수명을 가진다. 염료들은 시간이 지남에 따라 산화될 수 있어서, 이들의 형광 특성을 잃을 수 있다. 염료들은 레이저에 의해 여기된 후 "탈색"될 수 있다. 화학적인 탈색은 염료들을 변화시켜 염료들이 더 이상 작동하지 않게 하고 탐지되지 않게 된다.
이상적으로, 저장 목적에 적합한 광학 매체 디스크를 제조하기 위해서, 재료들, 쓰기 방법들 및 제조 방법들은 열적 및 화학적 동역학적 노화 과정에 상당한 면역성을 갖는 것이 바람직하다. 또한, 재료들은 결국에 화학적 또는 기계적 파괴를 일으킬 수 있는 수명 저하 영향들을 받지 않는 것이 바람직하다. 쓰기 공정은 쓰기 층들의 쓰인 부분들은 영구적으로 변형되고 쓰이지 않은 부분들은 노화 또는 다른 퇴화 과정을 통해 쉽게 변형되지 않고 변형되지 않도록 충분한 에너지를 필요로 하는 것이 바람직하다. 따라서, 이상적인 매체에서, 쓰기 층은 쓰인 부분이 완전히 마멸되거나 제거되고 쓰이지 않은 부분은 고 전력 쓰기 공정을 거치는 것을 제외하고 제거되거나 변할 수 없기 때문에 영구적으로 변형된다.
광학 정보 매체에서 여러 보고된 개발에도 불구하고, 새로운 재료들과 방법들에 대한 요구가 여전히 있다.
마그네슘 금속층과 반응성 재료층을 포함하는 광학 정보 매체가 개시된다. 반응성 재료층은 마그네슘 금속과 직접 반응하거나 반응성 재료층에 에너지를 가할 때 마그네슘 금속과 반응하는 화학물질을 방출한다.
본 발명의 내용 중에 포함되어 있다.
다음 도면들은 본 명세서들의 일부를 형성하고 본 발명의 특정 태양들을 추가로 설명하기 위해 포함된다. 본 발명은 본 명세서에 제공된 상세한 실시예들의 상세한 설명과 함께 이런 도면들의 하나 이상을 참조하여 잘 이해될 것이다.
도 1은 지지 기판, 반응성 재료층 및 마그네슘 금속층을 가진 광학 정보 매체를 도시한다.
도 2는 지지 기판, 하나 이상의 삽입층, 반응성 재료층 및 마그네슘 금속층을 가진 광학 정보 매체를 도시한다.
도 3은 지지 기판, 반응성 재료층, 마그네슘 금속층 및 반사층을 가진 광학 정보 매체를 도시한다.
도 4는 제 1 지지 기판, 반응성 재료층, 마그네슘 금속층 및 제 2 지지 기판을 가진 광학 정보 매체를 도시한다.
도 5는 제 1 지지 기판, 반응성 재료층, 마그네슘 금속층, 반사층 및 제 2 지지 기판을 가진 광학 정보 매체를 도시한다.
도 6은 외부 보호층, 지지 기판, 반응성 재료층 및 마그네슘 금속층을 가진 광학 정보 매체를 도시한다.
도 7은 제 1 지지 기판, 기체 확산 차단층, 반응성 재료층, 마그네슘 금속층, 반사층 및 제 2 지지 기판을 가진 광학 정보 매체를 도시한다.
도 8은 제 1 외부 보호층, 제 1 지지 기판, 기체 확산 차단층, 반응성 재료층, 마그네슘 금속층, 반사층, 제 2 지지 기판 및 제 2 외부 보호층을 가진 광학 정보 매체를 도시한다.
도 9는 지지 기판, 반응성 재료층, 마그네슘 금속층 및 반사방지층을 가진 광학 정보 매체를 도시한다.
도 10은 직접 면 접촉(direct facial contact)된 지지 기판과 마그네슘 금속층을 가진 광학 정보 매체를 도시한다.
조성물들과 방법들은 여러 구성요소 또는 단계를 "포함하는"(포함하나 이에 제한되지 않는다는 의미로 해석된다) 의미로 해석되는 반면, 조성물들과 방법들은 여러 구성요소와 단계로 "필수적으로 이루어질 수 있고" 또는 "이루어질 수 있다". "필수적으로 이루어진" 또는 "이루어진" 이라는 용어는 필수적으로 제한된-구성원 그룹을 정의하는 것으로 해석돼야 한다.
재료
본 발명의 한 실시예는 저장 목적에 적절한 광학 정보 매체를 포함한다. 재료와 제조 공정은 매우 내구성이 있고 상당한 정도로 수명-저하 영향을 받지 않도록 설계된다. 마찬가지로, 정보 쓰기 공정은 영구적이고 상당한 정도로 수명-저하 영향을 받지 않는다.
도 1-10에 도시된 대로, 매체는 적어도 하나의 마그네슘 금속층(5), 적어도 하나의 반응성 재료층(10) 및 적어도 하나의 지지 기판(15)을 포함한다. 마그네슘 금속층(5)과 반응성 재료층(10)은 서로 접하여 접촉하는 것이 바람직하다.
광학 정보 매체는 일반적으로 임의의 크기와 모양일 수 있다. 현재 바람직한 모양은 평평하고 둥근 디스크이다. 다른 모양은 드럼 또는 직선 테이프를 포함한다. 현재 고려되는 크기는 약 8cm 지름, 약 12cm 지름(통상적인 CD 또는 DVD), 약 13cm 지름, 약 20cm 지름, 약 10인치(약 25.4cm) 지름, 약 26cm 지름 및 약 12인치(약 30.48cm) 지름이다.
광학 정보 매체의 단면도는 대칭 또는 비대칭일 수 있다. 여러 실시예에서, 단면은 비대칭이다.
마그네슘 금속층(5)은 마그네슘 금속(Mg)을 포함하고, 마그네슘 금속(Mg)으로 필수적으로 이루어지거나 이루어진다. 소량의 마그네슘 산화물 또는 다른 마그네슘 재료들은 마그네슘 금속층(5)을 생산하는 동안 생산될 수 있으나, 층의 성능에 현저하게 영향을 주지 않을 것이다. 소량의 이런 마그네슘 재료들은 마그네슘 금속층(5)과 반응성 재료층(10)의 계면에서 한 단층 또는 여러 단층으로서 존재할 수 있다.
마그네슘 금속층(5)은 일반적으로 임의의 두께일 수 있다. 낮은 두께 한계는 약 1nm, 약 5nm 또는 약 10nm일 수 있다. 높은 두께 한계는 약 200nm, 약 250nm 또는 약 300nm일 수 있다. 예시적 두께는 약 1nm, 약 5nm, 약 10nm, 약 20nm, 약 30nm, 약 40nm, 약 50nm, 약 60nm, 약 70nm, 약 80nm, 약 90nm, 약 100nm, 약 120nm, 약 140nm, 약 160nm, 약 180nm, 약 200nm, 약 250nm, 약 300nm 및 이들 값들 중 임의의 둘 사이의 범위이다.
반응성 재료층(10)은 충분한 에너지를 가할 때 마그네슘 금속과 반응하는 적어도 하나의 재료 또는 에너지를 가할 때 마그네슘 금속과 반응하는 화학물질을 방출하는 적어도 하나의 재료를 포함하고, 이 재료로 필수적으로 이루어지거나 이루어진다. 마그네슘 금속과 반응하는 재료들의 예는 산소첨가 탄화수소, 폴리바이닐 알코올, 폴리카보네이트, 폴리(메틸메타크릴레이트), 폴리[(메틸메타크릴레이트)-코-(디스퍼스 레드 1 메타크릴레이트)](poly[(methylmethacryIate)-co-(Disperse Red 1 methacrylate)]), 폴리(메틸 아크릴레이트), 폴리(말레산), 폴리(DL-락티드), 폴리(프로필렌 카보네이트), 폴리(아크릴산-코-말레산), 당, 모노사카라이드, 폴리사카라이드, 글루코오스, 수크로오스, 락토오스, D-글루쿠론산, 소르비톨, 셀룰로오스 및 나이트로셀룰로오스를 포함하나 이에 제한되지 않는다. 마그네슘 금속과 반응할 수 있는 방출된 화학물질들은 이산화탄소, 일산화탄소, 에탄올, 메탄올, 아세트산, 폼산, 다이메틸 에터 및 물을 포함하나 이에 제한되지 않는다. 이런 화학물질들을 방출하는 재료들은, 예를 들어, 상기한 재료와 같은 산소첨가 폴리머들을 포함한다. 일부 실시예들에서, 에너지는 레이저의 사용에 의해 가해질 수 있다.
마그네슘은 마그네슘 재료층에서 광학적으로 탐지가능한 변화를 일으키는 여러 재료들과 반응할 수 있다. 다음은 마그네슘과 반응할 수 있는 구체적인 화학물질들의 예들이다. 마그네슘은 다음 반응식에 따라 이산화탄소와 발열반응을 한다: 2Mg + CO2 => 2MgO + C. 이 반응은 -744.2kJ/mol의 ㅿG 값을 가진다. 마그네슘은 다음 반응식에 따라 폼산과 발열반응을 한다: 3Mg + 2HCO2H => 2MgO + C2H2 + Mg(OH)2. 이 반응은 -1401kJ/mol의 ㅿG 값을 가진다. 마그네슘은 다음 반응식에 따라 아세트산과 발열반응을 한다: 3Mg + 2CH3CO2H => 2MgO + CH3CCCH3 + Mg(OH)2. 이 반응은 -1397kJ/mol의 ㅿG 값을 가진다. 마그네슘은 다음 반응식에 따라 다이메틸 에터와 발열반응을 한다: Mg + CH3OCH3 => MgO + C2H6. 이 반응은 -488.7kJ/mol의 ㅿG 값을 가진다. 마그네슘은 다음 반응식에 따라 메탄올과 발열반응을 한다: Mg + CH3OH => Mg(OH)2 + C2H6. 이 반응은 -699.1kJ/mol의 ㅿG 값을 가진다.
반응성 재료층(10)은 일반적으로 임의의 두께일 수 있다. 낮은 두께 한계는 약 1nm일 수 있다. 높은 두께 한계는 약 50nm 또는 약 100nm일 수 있다. 예시적 두께는 약 1nm, 약 5nm, 약 10nm, 약 15nm, 약 20nm, 약 30nm, 약 40nm, 약 50nm, 약 60nm, 약 70nm, 약 80nm, 약 90nm, 약 100nm 및 이들 값들 중 임의의 둘 사이의 범위이다.
지지 기판(15)은 일반적으로 원하는 광학적 및 기계적 특성을 가진 폴리머 또는 세라믹 재료와 같은 광학 정보 저장에 사용하는데 상용성이 있는 임의의 재료일 수 있다. 지지 기판은 폴리카보네이트, 폴리스티렌, 알루미늄 산화물, 폴리다이메틸 실록세인, 폴리메틸메타크릴레이트, 실리콘 산화물, 유리, 알루미늄, 스테인리스 강 또는 이의 혼합물을 포함할 수 있다. 기판 투명성이 바람직하지 않은 경우, 금속 기판은 지지 기판으로서 사용될 수 있다. 광학적으로 투명한 플라스틱 또는 폴리머가 사용될 수 있다. 지지 기판은 충분한 강성(rigidity or stiffness)을 가진 재료들로부터 선택된다. 강성은 단위면적당 압력의 단위로 영율로 일반적으로 측정되며 약 0.5 GPa 내지 약 70GPa가 바람직하다. 강성 값의 구체적인 예들은 약 0.5 GPa, 약 1 GPa, 약 5 GPa, 약 10 GPa, 약 20 GPa, 약 30 GPa, 약 40 GPa, 약 50 GPa, 약 60 GPa, 약 70 GPa 및 이들 값들 중 임의의 둘 사이의 범위이다. 지지 기판은 약 1.45 내지 약 1.70의 굴절률을 가진 재료들로부터 선택될 수 있다. 굴절률의 구체적인 예들은 약 1.45, 약 1.5, 약 1.55, 약 1.6, 약 1.65, 약 1.7 및 이들 값들 중 임의의 둘 사이의 범위이다.
지지 기판(15)은 수명 저하 영향을 받지 않은 재료들을 포함하는 것이 바람직하다. 현재 바람직한 것은 폴리카보네이트와 실리콘 산화물(용융 실리카)이다.
지지 기판(15)은 일반적으로 임의의 두께일 수 있다. 기판 두께는 구동 용량의 함수로서 선택될 수 있다. 예를 들어, 1.2 밀리미터-두께 기판들은 CD 드라이브와 상용가능하고, 0.6 밀리미터-두께 기판들은 DVD 드라이브와 상용가능하고 0.1 밀리미터-두께 기판들은 BD 드라이브와 상용가능하다.
광학 정보 매체는 도 4에 도시된 대로, 제 1 지지 기판(15)과 제 2 지지 기판(30)을 포함할 수 있다. 제 1 지지 기판(15)과 제 2 지지 기판(30)은 동일한 재료로 제조될 수 있거나 다른 재료로 제조될 수 있다. 일부 실시예들에서, 제 1 지지 기판(15)과 제 2 지지 기판(30)은 이들이 광학 정보 매체의 외부 두 층(즉, 단면으로 볼 때 제 1 층과 마지막 층)을 형성하도록 위치된다. 이것은 특히 DVD-타입 포맷에서도 동일하다.
광학 정보 매체는 적어도 하나의 반사층(25)을 더 포함할 수 있다. 반사층(25) 재료들은 이들의 최대 내구성과 반사성을 위해 선택되고, 예를 들어, 실리콘, 은, 티타늄, 크롬, 백금, 로듐, 금, 알루미늄 또는 이의 합금과 같은 재료들을 포함할 수 있다. 반사층(25)은 반사층이 지지 기판(15)과 반응성 재료층(10) 사이에 있거나 두 지지 기판(15)과 마그네슘 금속층(5)으로부터 떨어지게 위치될 수 있다. 첫 번째 경우에, 단면은 먼저, 지지 기판(15), 그 후, 반사층(25), 그 후, 반응성 재료층(10), 그 후, 마그네슘 금속층(5)을 가로지를 수 있다. 두 번째 경우에, 단면은 먼저, 지지 기판(15), 그 후, 반응성 재료층(10), 그 후, 마그네슘 금속층(5), 그 후, 반사층(25)을 가로지를 수 있다. 이런 구조의 한 예는 도 3에 도시된다. 이 도면에서, 반사층(25)은 마그네슘 금속층(5)과 접하여 접촉하나, 반사성 재료층(10)과는 접하여 접촉하지 않는다.
반응성 재료층(10)은 지지 기판(15)과 접하여 접촉할 수 있고 마그네슘 금속층(5)은 반응성 재료층(10)과 접하여 접촉할 수 있다. 이 배열은 도 1에 도시된다. 선택적으로, 적어도 하나의 삽입층(20)이 도 2에 도시된 대로 지지 기판(15)과 반응성 재료층(10) 사이에 위치될 수 있다.
본 발명의 광학 정보 매체는 다른 층들 중 임의의 두 개 사이에 위치된 적어도 하나의 삽입층(20)을 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 삽입층(20)은 지지 기판(15)과 반응성 재료층(10) 사이에 위치될 수 있다. 다른 실시예들에서, 삽입층(20)은 마그네슘 금속층(5)과 반사층(25) 사이에 위치될 수 있다.
삽입층(20)의 한 예는 기체 확산 차단층(40)이다. 기체 확산 차단층(40)은, 실리콘 산화물, 알루미늄 산화물, 유리, 세라믹 또는 다른 유리질 재료와 같은 다양한 재료로 제조될 수 있다.
마그네슘 금속층(5)과 반응성 재료층(10)은 두 지지 기판(제 1 지지 기판(15)과 제 2 지지 기판(30)) 사이에 "삽입"될 수 있다. 이의 예는 도 4에 도시된다. 이 도면에서, 단면은 먼저 제 1 기판, 그 후, 반응성 재료층(10), 그 후 마그네슘 금속층(5), 그 후, 제 2 지지 기판(30)을 가로지를 수 있다. 더욱 복잡한 예는 도 5에 도시되며, 여기서 반사층(25)은 마그네슘 금속층(5)과 제 2 지지 기판(30) 사이에 첨가된다. 이 도면에서, 단면은 먼저 제 1 지지 기판(15), 그 후 반응성 재료층(10), 그 후 마그네슘 재료층(5), 그 후 반응성 층(25), 그 후 제 2 지지 기판(30)을 가로지를 수 있다.
광학 정보 매체는 적어도 하나의 외부 보호층(35)을 더 포함할 수 있다. 외부 보호층(35)은 반응성 재료층(10)과 마그네슘 금속층(5)으로부터 떨어져 위치된 지지 기판(15)과 접하여 접촉할 수 있다. 이런 배열에서, 외부 보호층(35)은 바깥 코팅을 형성할 수 있어서, 외부 힘들 또는 재료들로부터 광학 정보 매체를 보호한다. 단면은 먼저 외부 보호층(35), 그 후 지지 기판(15), 반응성 재료층(10), 그 후 마그네슘 금속층(5)을 가로지를 수 있다. 본 발명의 이 실시예는 도 6에 도시된다.
광학 정보 매체는 적어도 하나의 반사방지층(50)을 더 포함할 수 있다. 반사방지 재료들은 포토레지스트 시장에서 널리 사용된다. 반사방지층(50)은 빛을 반사시키기보다는 빛을 산란 및/또는 흡수함으로써 작용한다. 반사방지층(50)의 예들은 알루미늄 크롬 합금, 티타늄 질화물, 금속 질화물 또는 금속 실리콘 질화물(참조문헌은 본 명세서의 명백한 교시와 일치하지 않는 정도로 참조로 본 명세서에 포함된 미국특허 제 6,614,085(2003년 9월2일 출원))이다.
광학 정보 매체의 한 실시예는 제 1 지지 기판(15), 기체 확산 차단층(40), 반응성 재료층(10), 마그네슘 금속층(5), 반사층(25) 및 제 2 지지 기판(30)을 포함할 수 있고, 필수적으로 이루어지거나 이루어질 수 있다. 이 실시예는 도 7에 도시된다. 제 1 지지 기판(15)은 기체 확산 차단층(40)과 접하여 접촉하고, 기체 확산 차단층(40)은 반응성 재료층(10)과 접하여 접촉하고, 반응성 재료층(10)은 마그네슘 금속층(5)과 접하여 접촉하고, 마그네슘 금속층(5)은 반사층(25)과 접하여 접촉하고 반사층(25)은 제 2 지지 기판(30)과 접하여 접촉한다. 단면은 먼저 제 1 지지 기판(15), 그 후 기체 확산 차단층(40), 그 후 반응성 재료층(10), 그 후 마그네슘 금속층(5), 그 후 반사층(25), 그 후 제 2 지지 기판(30)을 가로지를 수 있다.
광학 정보 매체의 다른 실시예는 제 1 외부 보호층(35), 제 1 지지 기판(15), 기체 확산 차단층(40), 반응성 재료층(10), 마그네슘 금속층(5), 반사층(25), 제 2 지지 기판(30) 및 제 2 외부 보호층(45)을 포함할 수 있고, 필수적으로 이루어지거나 이루어질 수 있다. 이 실시예는 도 8에 도시된다. 제 1 외부 보호층(35)은 제 1 지지 기판(15)과 접하여 접촉하고, 제 1 지지 기판(15)은 기체 확산 차단층(40)과 접하여 접촉하고, 기체 확산 차단층(40)은 반응성 재료층(10)과 접하여 접촉하고, 반응성 재료층(10)은 마그네슘 금속층(5)과 접하여 접촉하고, 마그네슘 금속층(5)은 반사층(25)과 접하여 접촉하고 반사층(25)은 제 2 지지 기판(30)과 접하여 접촉한다. 단면은 먼저 제 1 지지 외부 보호층(35), 그 후 제 1 지지 기판(15), 그 후 기체 확산 차단층(40), 그 후 반응성 재료층(10), 그 후 마그네슘 금속층(5), 그 후 반사층(25), 그 후 제 2 지지 기판(30), 그 후 제 2 외부 보호층(45)을 가로지를 수 있다.
광학 정보 매체의 또 다른 실시예는 지지 기판(15), 반응성 재료층(10), 마그네슘 금속층(5) 및 반사방지층(50)을 포함할 수 있고, 필수적으로 이루어지거나 이루어질 수 있다. 지지 기판(15)은 반응성 재료층(10)과 접하여 접촉하고, 반응성 재료층(10)은 마그네슘 금속층(5)과 접하여 접촉하고, 마그네슘 금속층(5)은 반사방지층(50)과 접하여 접촉한다. 이것은 도 9에 도시된다. 이 도면에서, 단면은 먼저 지지 기판(15), 반응성 재료층(10), 마그네슘 금속층(5) 및 반사방지층(50)을 가로지를 수 있다. 반사방지층(50)이 존재하면 반응하지 않은 마그네슘 층 부분과 반응성 재료층(또는 반응성 재료층(10)으로부터 방출된 화학물질)과 반응된 마그네슘 층 부분 사이의 콘트라스트를 증가시킬 것이다.
본 발명의 다른 실시예는 지지 기판(15)과 마그네슘 금속층(5)을 포함하며, 지지 기판(15)과 마그네슘 금속층(5)이 서로 접하여 접촉하는 광학 정보 매체에 관한 것이다. 이런 배열은 도 10에 도시된다. 이 실시예에서, 지지 기판(15)은 지지 기판(15)과 반응성 재료층(10) 모두로 작용할 수 있다. 다시 말하면, 지지 기판(15)과 반응성 재료층(10)은 동일한 층이다. 특정 실시예들에서, 지지 기판(15)은 마그네슘 금속층(5)과 반응할 수 있는 재료로 제조된다. 이런 재료들의 예는 폴리카보네이트 또는 본 명세서에 나열된 다른 산소첨가 폴리머와 같은 유기 폴리머이다.
제조 방법
본 발명의 다른 실시예들은 광학 정보 매체를 제조하는 방법에 관한 것이다.
한 실시예에서, 이 방법은 지지 기판을 제공하는 단계, 반응성 재료층을 도포하는 단계 및 마그네슘 금속층을 도포하는 단계를 포함할 수 있다. 층들은 반응성 재료층이 지지 기판과 접하여 접촉하고 마그네슘 금속층이 반응성 재료층과 접하여 접촉하도록 도포될 수 있다. 이런 방법을 수행하면 도 1에 도시된 광학 정보 매체를 생산할 수 있다.
다른 실시예에서, 이 방법은 지지 기판을 제공하는 단계, 적어도 하나의 삽입층을 도포하는 단계, 반응성 재료층을 도포하는 단계 및 마그네슘 금속층을 도포하는 단계를 포함할 수 있다. 층들은 삽입층이 지지 기판과 접하여 접촉하고, 반응성 재료층이 삽입층과 접하여 접촉하고 마그네슘 금속층이 반응성 재료층과 접하여 접촉하도록 도포될 수 있다. 이런 방법을 수행하면 도 2에 도시된 광학 정보 매체를 생산할 수 있다.
본 발명의 다른 실시예는 지지 기판을 제공하는 단계, 지지 기판과 반응성 재료층이 서로 접하여 접촉하도록 반응성 재료층을 도포하는 단계, 반응성 재료층과 마그네슘 금속층이 서로 접하여 접촉하도록 마그네슘 금속층을 도포하는 단계 및 마그네슘 금속층과 반사층이 서로 접하여 접촉하도록 반사층을 도포하는 단계를 포함하는 방법에 관한 것이다. 이런 방법을 수행하면 도 3에 도시된 광학 정보 매체를 생산할 수 있다.
또 다른 실시예는 제 1 지지 기판을 제공하는 단계, 제 1 지지 기판과 반응성 재료층이 서로 접하여 접촉하도록 반응성 재료층을 도포하는 단계, 반응성 재료층과 마그네슘 금속층이 서로 접하여 접촉하도록 마그네슘 금속층을 도포하는 단계 및 마그네슘 금속층과 제 2 지지 기판이 서로 접하여 접촉하도록 제 2 지지 기판을 도포하는 단계를 포함하는 방법에 관한 것이다. 이런 방법을 수행하면 도 4에 도시된 광학 정보 매체를 생산할 수 있다.
다른 실시예는 제 1 지지 기판을 제공하는 단계, 제 1 지지 기판과 반응성 재료층이 서로 접하여 접촉하도록 반응성 재료층을 도포하는 단계, 반응성 재료층과 마그네슘 금속층이 서로 접하여 접촉하도록 마그네슘 금속층을 도포하는 단계, 마그네슘 금속층과 반사층이 서로 접하여 접촉하도록 반사층을 도포하는 단계 및 반사층과 제 2 지지 기판이 서로 접하여 접촉하도록 제 2 지지 기판을 도포하는 단계를 포함하는 방법에 관한 것이다. 이런 방법을 수행하면 도 5에 도시된 광학 정보 매체를 생산할 수 있다.
본 발명의 다른 실시예는 제 1 면과 제 2 면을 가진 지지 기판을 제공하는 단계, 제 1 면과 외부 보호층이 서로 접하여 접촉하도록 외부 보호층을 도포하는 단계, 제 2 면과 반응성 재료층이 서로 접하여 접촉하도록 반응성 재료층을 도포하는 단계 및 반응성 재료층과 마그네슘 금속이 서로 접하여 접촉하도록 마그네슘 금속층을 도포하는 단계를 포함하는 방법에 관한 것이다. 이런 방법을 수행하면 도 6에 도시된 광학 정보 매체를 생산할 수 있다.
본 발명의 다른 실시예는 제 1 지지 기판을 제공하는 단계, 제 1 지지 기판과 기체 확산 차단층이 서로 접하여 접촉하도록 기체 확산 차단층을 도포하는 단계, 기체 확산 차단층과 반응성 재료층이 서로 접하여 접촉하도록 반응성 재료층을 도포하는 단계, 반응성 재료층과 마그네슘이 서로 접하여 접촉하도록 마그네슘 금속층을 도포하는 단계, 마그네슘 금속층과 반사층이 서로 접하여 접촉하도록 반사층을 도포하는 단계 및 반사층과 제 2 지지 기판이 서로 접하여 접촉하도록 제 2 지지 기판을 도포하는 단계를 포함하는 방법에 관한 것이다. 이런 방법을 수행하면 도 7에 도시된 광학 정보 매체를 생산할 수 있다.
본 발명의 여러 실시예에서의 도포 단계는 물리적기상증착(예를 들어, 스퍼터링, 반응성 스퍼터링, e-빔 증착 및 표적의 레이저 어블레이션) 또는 화학적기상증착을 포함할 수 있다.
사용 방법
상기 광학 정보 매체 중 임의의 것이 디지털 데이터를 저장하는데 사용될 수 있다. 본 발명의 다양한 실시예들은 적어도 하나의 지지 기판, 적어도 하나의 마그네슘 금속층 및 적어도 하나의 반응성 재료층을 포함하는 광학 정보 매체를 제공하는 단계 및 마그네슘 금속층에 탐지가능한 변화를 일으키기 위해 매체에 있는 위치들(sites)에 에너지를 가하는 단계를 포함하는 방법에 관한 것이다. 이 방법은 마그네슘 금속층에서 변화를 탐지하는 단계를 더 포함할 수 있다. 상기 광학 정보 매체들 중 임의의 것이 사용될 수 있다.
금속 재료층에 있는 위치에 에너지를 가하는 것은 지지 기판에 있는 트랙들을 변형시키는데 충분한 열을 국소적으로 발생시킬 수 있다. 지지 기판에서 변형된 위치들은 연속적으로 탐지될 수 있다.
레이저는 에너지 단계를 가하는 단계뿐만 아니라 탐지하는 단계에서도 사용될 수 있다. 레이저의 주요 종류들은 기체, 다이오드-펌프 고체상 및 다이오드 레이저를 포함한다.
다음 예들은 본 발명의 바람직한 실시예들을 설명하기 위해 포함된다. 다음 예들에 개시된 기술들은 본 발명의 실시에서 잘 작동하기 위해 본 발명자(들)에 의해 발견된 기술들을 나타내며 이의 실시를 위해 바람직한 양태를 구성하는 것으로 생각된다. 그러나, 당업자들은, 본 발명의 관점에서, 여러 변화는 개시된 구체적인 실시예들에서 이루어질 수 있고 본 발명의 범위로부터 벗어나지 않고 동일하거나 유사한 결과를 얻을 수 있다는 것을 안다.
실시예
실시예 1: 재료
폴리카보네이트 빈 디스크들은 베이어 머티리얼사이언스 AG(독일, 레버쿠젠), 제너럴일렉트릭사(CT, 페어필드) 및 테이진 리미티드(일본, 오사카)와 같은 여러 공급사로부터 구입할 수 있다. 용융 실리카 빈 디스크들은 코닝 인코퍼레이티드(NY, 코닝), 호야 코퍼레이션(일본, 토쿄) 및 스콧 AG(독일, 마인즈)와 같은 공급사로부터 구입할 수 있다.
흑연 표적, 99.999%는 Kurt J. Lesker Company(Clariton, PA), Part No. EJTCXXX503A2, Lot No. VPU014000 / 4-7-08에 의해 공급되었다. 크롬 표적, 99.95%는 Kurt J. Lesker Company (Clariton, PA) Part No. EJTCXXX353A2, Lot No. L5791/D05 / 601713에 의해 공급되었다. 마그네슘 표적, 99.95%는 Plasmaterials, Inc. (Livermore, CA), Lot No. PLA 18926에 의해 공급되었다.
라디오 주파수(RF) 스퍼터링은 PVD 75 장비(Kurt J. Lesker Company; Pittsburgh, PA)를 사용하여 수행하였다. 시스템은 하나의 RF 전원, 3인치(7.62cm) 표적을 고정할 수 있는 세 개의 마그네트론 건 및 두 개의 스퍼터 기체들을 위한 장비로 구성되었다. 표적들을 스퍼터-업(sputter-up) 구조로 배열하였다. 뚜겅을 세 표적들의 각각에 덮었다. 기판들을 200℃까지 가열될 수 있는 회전 압반(platen) 상에 장착하였다. 회전 압반을 표적들 위에 위치시켰다. 실험의 대부분은 압반의 능동 가열 없이 실시하였다. 능동 가열 없이, 압반의 온도를 온도가 최대 약 60℃ - 70℃에 도달할 때까지 400w에서 스퍼터링 시간을 증가시키면서 점차 증가시킨다. 최대 온도는 약 3시간 후 도달한다. 스퍼터링 이전 챔버에서 최초 온도는 통상적으로 약 27℃이었다. 시간, 표적 및 스퍼터링 원료들은 다음 실시예들에서 기술한 대로 달랐다.
실시예 2: 마그네슘과 탄소 적층 디스크(65)의 제조
그 위에 코팅이 없고, 지름이 120mm이고 두께가 0.6mm인 폴리카보네이트 광학 디스크를 PVD 75 장비에 있는 압반 상에 장착하였다. 디스크 상에 제 1 층을 형성하기 위해서, 탄소 흑연 표적을 스퍼터 기체로서 98%(v/v)Ar 및 2%(v/v) CO2로 1시간 동안 스퍼터하였고 전체 카프만 압력(Capman pressure)을 3mtorr로 유지하였고 마그네트론 전력을 400w RF로 설정하였다. 카프만 압력은 장치 변수이고 카프만 압력 값은 플라즈마 챔버의 압력에 근접한다. 결과로 얻은 탄소필름은 약 28nm 두께이었다.
디스크 상에 제 2 층을 형성하기 위해서, 마그네슘 표적을 스터퍼 기체로서 100%(v/v) Ar로 3분 동안 스퍼터하였고 전체 카프만 압력을 3mtorr로 유지하였고 마그네트론 전력을 400w RF로 설정하였다. 결과로 얻은 탄소필름은 약 125nm 두께이었다.
디스크 상의 제 3 및 최종 층의 경우, 크롬 표적을 스터퍼 기체로서 100%(v/v) Ar로 10분 동안 스퍼터하였고 전체 카프만 압력을 4mtorr로 유지하였고 마그네트론 전력을 400w RF로 설정하였다. 결과로 얻은 탄소필름은 약 92nm 두께이었다.
결과로 얻은 디스크는 폴리카보네이트 지지 기판, 탄소 및 이산화탄소 반응성 재료층, 마그네슘 층 및 크롬 반사층을 가졌다.
실시예 3: 마그네슘과 탄소 적층 디스크(139)의 제조
그 위에 코팅이 없고, 지름이 120mm이고 두께가 0.6mm인 폴리카보네이트 광학 디스크를 PVD 75 장비에 있는 압반 상에 장착하기 전에 플라즈마 세척하였다(Harrick Plasma, model PDC-001 , Ithaca, NY). 디스크 상에 제 1 층을 형성하기 위해서, 탄소 흑연 표적을 스퍼터 기체로서 98%(v/v)Ar 및 2%(v/v) CO2로 1시간 동안 스퍼터하였고 전체 카프만 압력을 3mtorr로 유지하였고 마그네트론 전력을 400w RF로 설정하였다. 카프만 압력은 장치 변수이다. 카프만 압력 값은 플라즈마 챔버의 압력에 근접한다. 결과로 얻은 탄소필름은 약 28nm 두께이었다.
디스크 상에 제 2 층을 형성하기 위해서, 마그네슘 표적을 스터퍼 기체로서 100%(v/v) Ar로 3분 동안 스퍼터하였고 전체 카프만 압력을 3mtorr로 유지하였고 마그네트론 전력을 400w RF로 설정하였다. 결과로 얻은 탄소필름은 약 125nm 두께이었다.
디스크 상의 제 3 및 최종 층의 경우, 크롬 표적을 스터퍼 기체로서 100%(v/v) Ar로 5분 동안 스퍼터하였고 전체 카프만 압력을 4mtorr로 유지하였고 마그네트론 전력을 400w RF로 설정하였다. 결과로 얻은 탄소필름은 약 46nm 두께이었다.
결과로 얻은 디스크는 폴리카보네이트 지지 기판, 탄소 및 이산화탄소 반응성 재료층, 마그네슘 층 및 크롬 반사층을 가졌다.
실시예 4: 디스크에 데이터를 쓰는 일반적인 방법
마크들을 Pulstec ODU 1000 장치(Pulstec Industrial Co., Ltd.; Hamamatsu-City; Japan)를 사용하고 다이오드 레이저를 650nm의 파장으로 설정하여 다양한 디스크에 만들었다. 모든 쓰기는 1X 속도(3.49m/second)에서 수행하였고 모든 쓰기는 달리 나타내지 않는 한 한 트랙 상에서 수행하였다. HF 신호는 모든 경우에서 보았고 마크들은 현미경을 사용하여 확실히 관찰하였다.
실시예 5: 디스크(65)에 데이터 쓰기
디스크(65)에 데이터 쓰기는 6mW 내지 60mW의 전력 수준에서 시도하였으나, 쓰여진 데이터의 증거가 관찰되지 않았다. 75mW의 전력 수준에서 쓰기의 작은 증거가 있었다. 데이터의 쓰기는 다음의 75mW보다 높은 전력 수준: 77.5mW, 80mW, 85mW, 90mW 및 100mW에서 확실히 관찰되었다. 캐슬(castle)과 멀티펄스(multipulse) 전략 모두를 사용하였다. 다음 마크 길이는 높은 전력에서 성공적으로 쓰여졌고 현미경으로 확인하였다: 5T(663nm), 14T(1857nm) 및 ECC(모든 펄스 길이)
실시예 6: 디스크(139)에 데이터 쓰기
디스크(139)에 데이터 쓰기는 33% 효율(duty)에서 멀티펄스 전략을 사용하여 100mW 전력에서 수행하였다. 14t(1857nm)의 마크 길이는 성공적으로 쓰여졌고 현미경으로 확인하였다.
실시예 7: 디스크에 데이터 쓰기의 요약
다음 표는 다양한 디스크와 얻은 결과들을 요약한다.
디스크
번호		 홈
깊이		 탄소층 Mg 층 크롬층 쓰인
데이터
65 170 28 125 92 예(전력≥77.5mW)
139 60 14 25 46 예(100mW 전력)
실시예 8: 쓰인 디스크의 분석
디스크들은 데이터를 기록하는데 필요한 에너지의 양, 쓰인 데이터의 품질과 물리적 특징(예를 들어, 둥근 모양, 측벽 모양, 평지의 존재 또는 부존재), 내구성 및 안정성에 의해 특징을 나타낼 수 있다.
본 명세서에 개시되고 청구된 조성물 및/또는 방법 및/또는 공정 및/또는 장치의 전부는 본 명세서의 면에서 지나친 실험 없이 이루어지고 수행되었다. 본 발명의 조성물과 방법은 바람직한 실시예들의 면에서 기술되었으나, 본 발명의 개념과 범위를 벗어나지 않고 본 명세서에 기술된 조성물 및/또는 장치 및/또는 공정 및/또는 방법들의 단계 또는 일련의 단계에 변화를 가할 수 있다는 것은 당업자에게 명백할 것이다. 더욱 구체적으로, 화학적으로 및 물리적으로 모두 관련이 있는 특정 물질들은 본 명세서에 개시된 물질들을 대체할 수 있으면서 동일하거나 유사한 결과를 얻을 수 있다는 것이 명백할 것이다. 당업자에게 명백한 모든 이런 유사한 대체물 및 변형물은 본 발명의 범위와 개념 내에 있다고 생각된다.

Claims (26)

  1. 적어도 하나의 지지 기판;
    적어도 하나의 마그네슘 금속층; 및
    적어도 하나의 반응성 재료층을 포함하는 광학 정보 매체.
  2. 제 1 항에 있어서,
    마그네슘 금속층은 마그네슘 금속(Mg)으로 이루어지는 광학 정보 매체.
  3. 제 1 항에 있어서,
    반응성 재료층은 충분한 에너지를 가할 때 마그네슘 금속과 반응하는 광학 정보 매체.
  4. 제 1 항에 있어서,
    반응성 재료층은 산소첨가 탄화수소, 폴리바이닐 알코올, 폴리카보네이트, 폴리(메틸메타크릴레이트), 폴리[(메틸메타크릴레이트)-코-(디스퍼스 레드 1 메타크릴레이트)], 폴리(메틸 아크릴레이트), 폴리(말레산), 폴리(DL-락티드), 폴리(프로필렌 카보네이트), 폴리(아크릴산-코-말레산), 당, 모노사카라이드, 폴리사카라이드, 글루코오스, 수크로오스, 락토오스, D-글루쿠론산, 소르비톨, 셀룰로오스 또는 나이트로셀룰로오스를 포함하는 광학 정보 매체.
  5. 제 1 항에 있어서,
    반응성 재료층은 충분한 에너지를 가할 때 마그네슘 금속과 반응하는 화학물질을 방출하는 광학 정보 매체.
  6. 제 1 항에 있어서,
    반응성 재료층은 충분한 에너지를 가할 때 마그네슘 금속과 반응하는 화학물질을 방출하고;
    방출된 화학물질은 이산화탄소, 일산화탄소, 에탄올, 메탄올, 아세트산, 폼산, 다이메틸에터 또는 물인 광학 정보 매체.
  7. 제 1 항에 있어서,
    마그네슘 금속층은 반응성 재료층과 접하여 접촉하는 광학 정보 매체.
  8. 제 1 항에 있어서,
    지지 기판은 반응성 재료층과 접하여 접촉하는 광학 정보 매체.
  9. 제 1 항에 있어서,
    지지 기판은 반응성 재료층과 접하여 접촉하고;
    반응성 재료층은 마그네슘 금속층과 접하여 접촉하는 광학 정보 매체.
  10. 제 1 항에 있어서,
    지지 기판과 반응성 재료층 사이에 적어도 하나의 삽입층을 더 포함하는 광학 정보 매체.
  11. 제 1 항에 있어서,
    지지 기판은 폴리카보네이트, 폴리스티렌, 알루미늄 산화물, 폴리다이메틸 실록세인, 폴리메틸메타크릴레이트, 실리콘 산화물, 유리, 용융 실리카 또는 이의 혼합물을 포함하는 광학 정보 매체.
  12. 제 1 항에 있어서,
    지지 기판은 폴리카보네이트를 포함하는 광학 정보 매체.
  13. 제 1 항에 있어서,
    적어도 하나의 반사층을 더 포함하는 광학 정보 매체.
  14. 제 1 항에 있어서,
    적어도 하나의 기체 확산 차단층을 더 포함하는 광학 정보 매체.
  15. 제 1 항에 있어서,
    적어도 하나의 외부 보호층을 더 포함하는 광학 정보 매체.
  16. 제 1 항에 있어서,
    제 1 지지 기판과 제 2 지지 기판을 포함하는 광학 정보 매체.
  17. 제 1 항에 있어서,
    지지 기판과 반응성 재료층은 동일한 층인 광학 정보 매체.
  18. 폴리카보네이트를 포함하는 지지 기판;
    지지 기판과 접하여 접촉하는 반응성 재료층; 및
    반응성 재료층과 접하여 접촉하는 마그네슘 금속층을 포함하는 광학 정보 매체.
  19. 폴리카보네이트를 포함하는 제 1 지지 기판;
    제 1 지지 기판과 접하여 접촉하는 기체 확산 차단층;
    기체 확산 차단층과 접하여 접촉하는 반응성 재료층;
    반응성 재료층과 접하여 접촉하는 마그네슘 금속층;
    마그네슘 금속층과 접하여 접촉하는 반사층; 및
    반사층과 접하여 접촉하는 제 2 지지 기판을 포함하는 광학 정보 매체.
  20. 지지 기판을 제공하는 단계;
    반응성 재료층을 도포하는 단계; 및
    반응성 재료층이 마그네슘 금속층과 접하여 접촉하도록 마그네슘 금속층을 도포하는 단계를 포함하는 광학 정보 매체 제조 방법.
  21. 제 20 항에 있어서,
    마그네슘 금속층을 도포하는 단계는 스퍼터링, 반응성 스퍼터링, e-빔 증착, 표적의 레이저 어블레이션 또는 화학적기상증착을 포함하는 광학 정보 매체 제조 방법.
  22. 제 20 항에 있어서,
    반응성 재료층을 도포하는 단계는 스퍼터링, 반응성 스퍼터링, e-빔 증착, 표적의 레이저 어블레이션 또는 화학적기상증착을 포함하는 광학 정보 매체 제조 방법.
  23. 제 20 항에 있어서,
    삽입층이 지지 기판과 반응성 재료층 모두와 접하여 접촉하도록 적어도 하나의 삽입층을 도포하는 단계를 더 포함하는 광학 정보 매체 제조 방법.
  24. 제 1 지지 기판을 제공하는 단계;
    반응성 재료층을 도포하는 단계;
    마그네슘 금속층이 반응성 재료층과 접하여 접촉하도록 마그네슘 금속층을 도포하는 단계; 및
    제 2 지지 기판을 도포하는 단계를 포함하는 광학 정보 매체 제조 방법.
  25. 적어도 하나의 기판, 적어도 하나의 반응성 재료층 및 적어도 하나의 마그네슘 금속층을 포함하는 광학 정보 매체를 제공하는 단계; 및
    마그네슘 금속층에 탐지가능한 변화를 일으키도록 마그네슘 금속층에 있는 위치들에 에너지를 가하는 단계를 포함하는 디지털 데이터 저장 방법.
  26. 제 25 항에 있어서,
    마그네슘 금속층에서 변화를 탐지하는 단계를 더 포함하는 디지털 데이터 저장 방법.
KR1020117011903A 2008-11-03 2009-11-02 마그네슘 금속층을 포함하는 데이터 저장 매체 KR20110135386A (ko)

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