KR20110135138A - Linear effusion cell with side orifice array, the method of manufacturing linear effusion cell with side orifice array and evaporator - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 진공속에서 도가니를 가열하여 도가니에서 방출되는 재료를 기판에 증착하는 방법을 사용하는 유기발광다이오드(OLED, organic light emitting diode) 증착장치 등과 같은 증발시스템에서 도가니와 발열부로 구성된 선형증발원, 그 선형증발원의 제작방법 및 선형증발기에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 방출부의 외부 표면에 발열 물질을 증착하고 이를 가열에 적합하게 패터닝하여 발열부를 만들고, 상기 방출부의 측면에 다수개의 방출구를 만들고, 상기 발열부에 전류를 주입함으로써 발열부에 직접 접하고 있는 방출부의 측면에 형성된 다수개의 방출구를 통하여 도가니의 측면으로 원료 물질이 방출되는 선형증발원, 그 제작 방법 및 선형증발기에 관한 것이다.The present invention is a linear evaporation source consisting of a crucible and a heating part in an evaporation system such as an organic light emitting diode (OLED) deposition apparatus using a method of heating a crucible in a vacuum and depositing a material emitted from the crucible onto a substrate. A method of manufacturing the linear evaporator and a linear evaporator. More specifically, a heating material is deposited on the outer surface of the emitting part and patterned to be suitable for heating to generate a heating part, a plurality of emitting holes are formed on the side of the emitting part, and the heating part is directly in contact with the heating part by injecting a current. The present invention relates to a linear evaporation source, a method for manufacturing the same, and a linear evaporator, through which a plurality of discharge openings formed on the side of the discharge portion are discharged to the side of the crucible.
기판에 박막을 형성하는 일반적인 방법으로는 진공 증착(evaporation)법, 이온 플레이팅(ion plating)법, 및 스퍼터링(sputtering)법과 같은 물리 기상 증착(PVD)법과, 가스 반응에 의한 화학 기상 증착(CVD)법 등이 있다. 유기발광다이오드 박막 성장장치는 유기발광다이오드를 구성하는 유기물을 진공 증착법에 의하여 기판에 증착함으로써 박막을 성장한다. 또한 유기발광다이오드에서 전극 형성을 위하여 알루미늄과 같은 금속은 진공 증착법을 이용하여 증착하게 된다.Typical methods for forming a thin film on a substrate include physical vapor deposition (PVD), such as vacuum evaporation, ion plating, and sputtering, and chemical vapor deposition by gas reaction. Law). The organic light emitting diode thin film growth apparatus grows a thin film by depositing an organic material constituting the organic light emitting diode on a substrate by a vacuum deposition method. In addition, in order to form an electrode in the organic light emitting diode, a metal such as aluminum is deposited using a vacuum deposition method.
이와 같이 진공 증착법을 이용하여 유기막 및 금속막을 증착하는 일반적인 증착장치에서, 증착 챔버의 상부에는 기판이 장착되고, 증착 챔버의 하부에는 증발원이 배치된다. 상기 증발원은 증착 물질을 함유하는 도가니와, 도가니의 외측에 설치되며 증착 물질을 증발시키기 위한 열원으로 작용하는 발열부를 포함한다. 상기한 증발원의 발열부에 전원을 가하면 도가니 및 도가니 내부의 재료 물질이 가열되고, 증발된 재료 물질이 도가니의 상부 개구부로 방출되어 챔버의 내측 상부에 장착된 기판에 증착되어 상기 기판에 유기막이나 금속막 등이 형성된다. 상기 증발원과 관련하여, 본 출원인이 특허출원한 출원번호 제10-2009-114068호의 “발열부 일체형 진공 박막 증착용 분자빔 증발원, 그 제작 방법 및 증발기”의 발명이 있다. 상기 특허출원의 발명은 진공에서 시료에 유기물 등의 재료를 증착하기 위한 증착시스템에 사용되는 상기 재료를 담기 위한 PBN으로 제작된 도가니와, 상기 PBN 도가니의 외부 표면에 발열부를 직접 증착하여 가열함으로써, 전도에 의해 도가니를 가열함으로써 열효율을 높이고, 구조를 단순하게 하는 발열부 일체형 증발원에 관한 것이다.As described above, in a general deposition apparatus for depositing an organic film and a metal film by using a vacuum deposition method, a substrate is mounted on an upper portion of the deposition chamber, and an evaporation source is disposed below the deposition chamber. The evaporation source includes a crucible containing a deposition material, and a heating unit installed outside the crucible and serving as a heat source for evaporating the deposition material. When power is applied to the heat generating part of the evaporation source, the crucible and the material material inside the crucible are heated, and the evaporated material material is discharged to the upper opening of the crucible and is deposited on a substrate mounted on the upper part of the chamber, whereby an organic film or A metal film or the like is formed. In relation to the evaporation source, there is an invention of the “molecular beam evaporation source for heating unit type vacuum thin film deposition, its manufacturing method and evaporator” of the patent application No. 10-2009-114068 filed by the applicant. The invention of the patent application is a crucible made of a PBN for containing the material used in the deposition system for depositing a material such as organic matter in a sample in a vacuum, and by heating by directly depositing the heating portion on the outer surface of the PBN crucible, The present invention relates to a heat generating unit integrated evaporation source that improves thermal efficiency by heating the crucible by conduction and simplifies the structure.
그러나 유기발광다이오드 기판은 크기가 대형화되면서 기판을 상부에 장착하면 휘어짐이 심하여 증착 물질의 균일도가 떨어지고 취급하기가 어려운 문제점이 있다. 따라서 대형 기판을 수직으로 혹은 수직에서 약 20도 이하의 각도로 기울여서(이하 수직에서 약 20도 이하의 각도로 기울어진 것도 수직이라 칭함) 장착하거나 하부에 장착하면 휘어짐이 없고 취급하기가 용이하다. 상기 증발원은 상부의 개구부를 통하여 재료 물질이 방출되기 때문에 수직이나 하부에 장착된 기판에 재료 물질을 증착할 수 없는 문제점이 있다.However, the organic light emitting diode substrate has a problem that it is difficult to handle the uniformity of the deposition material because the size is larger and the bending is severe when the substrate is mounted on the top. Therefore, when the large substrate is mounted vertically or at an angle of about 20 degrees or less from the vertical (hereinafter, tilted at an angle of about 20 degrees or less from the vertical is also referred to as vertical) or mounted at the bottom, it is easy to handle without bending. The evaporation source has a problem in that it is not possible to deposit the material material on a substrate mounted vertically or lower because the material material is discharged through the upper opening.
따라서 수직으로 장착되거나 하부에 장착된 기판에 원료 물질을 효율적으로 공급할 수 있는 측면 방출형 선형증발원의 개발이 요구된다.Accordingly, there is a need for the development of a side emission linear evaporator capable of efficiently supplying raw materials to a substrate mounted vertically or underneath.
본 발명은 상기 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 기판을 수직으로 장착하여 인라인으로 박막을 증착하는 시스템에서 사용할 수 있는, 측면으로 재료를 방출하기 위한 선형증발원, 그 선형증발원의 제조방법 및 선형증발기를 제공하는데 있다.The present invention is to solve the problems of the prior art, an object of the present invention can be used in a system for depositing a thin film in-line by mounting a substrate vertically, a linear evaporator for releasing material to the side, the linear evaporator To provide a method for producing and a linear evaporator.
상기 본 발명의 목적을 달성하기 위한 기술적 해결 수단으로서, 본 발명의 제1 관점은, 진공에서 시료에 유기물이나 금속 등의 재료를 증착하기 위한 증착시스템에 사용되는 상기 재료를 담기 위한 PBN으로 제작된 도가니와, 상기 PBN 도가니의 외부 표면에 가열에 적합하게 패터닝되어 증착된 PG로 구성되는 제1 발열부와, 상기 PBN 도가니와 상기 PG 제1 발열부를 관통하여 도가니의 측면에 형성된 다수개의 방출구를 포함하는 측면 방출형 선형증발원이 제시된다.As a technical solution for achieving the object of the present invention, the first aspect of the present invention is made of a PBN for containing the material used in the deposition system for depositing a material such as organic matter or metal to the sample in a vacuum A first heat generating portion comprising a crucible, PG deposited on the outer surface of the PBN crucible and suitably heated, and a plurality of discharge openings formed on the side of the crucible through the PBN crucible and the PG first heat generating portion. Including a side emission linear evaporator is provided.
본 발명의 제2 관점은, 진공에서 시료에 유기물 등의 재료를 증착하기 위한 증착시스템에 사용되는 상기 재료를 담기 위한 PBN으로 제작된 도가니와, 상기 PBN 도가니의 외부 표면에 가열에 적합하게 패터닝되어 증착된 PG로 구성되는 제1 발열부와, 상기 PBN 도가니의 내부 표면에 증착되어 알루미늄과 같이 PBN에 잘 유착되는 시료로부터 도가니를 보호하기 위하여 증착된 PG로 구성되는 제1 보호막과, 상기 제1 발열부와 상기 제1 보호막을 전기적으로 절연하기 위한 절연부와, 상기 PBN 도가니, 상기 PG 제1 발열부 및 상기 제1 보호막을 관통하여 도가니의 측면에 형성된 다수개의 방출구를 포함하는 측면 방출형 선형증발원이 제시된다. 알루미늄과 같은 일부 재료들은 냉각시 액체상태에서 고체상태로 바뀌면서 PBN 도가니와 잘 붙게 되어서 도가니의 냉각시 시료와 도가니의 열팽창 계수 차이로 인하여 도가니가 파손되는 문제점이 있다. 이러한 시료들은 PG와는 잘 붙지 않으므로 도가니의 내부에 PG로 된 보호막을 형성함으로써 도가니 파손의 문제점을 해결할 수 있다.According to a second aspect of the present invention, a crucible made of PBN for holding the material used in a deposition system for depositing a material such as an organic substance on a sample in a vacuum, and an outer surface of the PBN crucible are patterned to be suitable for heating. A first passivation layer comprising a PG deposited to protect the crucible from a sample that is deposited on an inner surface of the PBN crucible and adheres well to PBN, such as aluminum; A side emission type including an insulation portion for electrically insulating the heat generating portion and the first passivation layer, and a plurality of discharge openings formed on the side of the crucible through the PBN crucible, the PG first heat generating portion, and the first passivation layer. Linear evaporators are shown. Some materials, such as aluminum, change from a liquid state to a solid state during cooling, so that they adhere well to the PBN crucible, and thus, when the crucible is cooled, the crucible is damaged due to a difference in thermal expansion coefficient between the sample and the crucible. Since these samples do not adhere well to PG, the problem of crucible breakage can be solved by forming a PG protective film inside the crucible.
본 발명의 제3 관점은, 본 발명의 상기 제1 관점의 발명에서, 상기 PBN도가니의 개구부를 덮기 위한 PBN 뚜껑체와, 상기 PBN 뚜껑체의 외부 표면에 가열에 적합하게 패터닝되어 증착된 PG로 구성되는 제2 발열부를 포함하는 측면 방출형 선형증발원이 제시된다.According to a third aspect of the present invention, in the invention of the first aspect of the present invention, the PBN cap body for covering the opening of the PBN crucible and PG deposited and patterned on the outer surface of the PBN cap body are suitable for heating. A lateral emission linear evaporation source is provided that includes a second heat generating portion.
본 발명의 제4 관점은, 본 발명의 상기 제2 관점의 발명에서, 상기 PBN 도가니의 개구부를 덮기 위한 PBN 뚜껑체와, 상기 PBN 뚜껑체의 외부 표면에 가열에 적합하게 패터닝되어 증착된 PG로 구성되는 제2 발열부와, 상기 PBN 뚜껑체의 내부 표면에 증착되어 알루미늄과 같이 PBN에 잘 유착되는 시료로부터 도가니를 보호하기 위한 PG로 구성되는 제2 보호막과, 상기 제2 발열부와 상기 제2 보호막을 전기적으로 절연하기 위한 절연부를 포함하는 측면 방출형 선형증발원이 제시된다.According to a fourth aspect of the present invention, in the invention of the second aspect of the present invention, the PBN cap body for covering the opening of the PBN crucible and PG deposited and patterned on the outer surface of the PBN cap body are suitable for heating. A second protective film composed of a second heat generating portion configured to protect the crucible from a sample deposited on an inner surface of the PBN lid and adhered to PBN, such as aluminum, and the second heat generating portion and the second 2 A side emission linear evaporation source is provided that includes an insulation for electrically insulating a protective film.
본 발명의 제5 관점은, PBN으로 제작된 도가니와, 상기 PBN 도가니의 외부 표면에 가열에 적합하게 패터닝되어 증착된 PG로 구성되는 제1 발열부를 포함하는 증발부와, PBN으로 제작된 방출부와, 상기 PBN 방출부의 외부 표면에 가열에 적합하게 패터닝되어 증착된 PG로 구성되는 제2 발열부와, 상기 PBN 방출부와 상기 PG 제2발열부를를 관통하여 방출부의 측면에 형성된 다수개의 방출구를 포함하는 방출부로 구성되는 측면 방출형 선형증발원이 제시된다.According to a fifth aspect of the present invention, there is provided an evaporation unit including a crucible made of PBN, a first heating part including PG deposited and patterned on the outer surface of the PBN crucible so as to be suitable for heating, and a discharge part made of PBN. And a second heat generating part including PG deposited and patterned on the outer surface of the PBN emitting part and suitable for heating, and a plurality of discharge holes formed on the side of the emitting part through the PBN emitting part and the PG second heat generating part. A lateral emission linear evaporation source is provided which consists of a discharge portion comprising.
본 발명의 제6 관점은, 상기 본 발명의 제5관점의 발명에서, 상기 PBN 도가니와 상기 PBN 방출부의 내부 표면에 증착되어 알루미늄과 같이 PBN에 잘 유착되는 시료로부터 도가니를 보호하기 위한 PG로 구성되는 보호막을 포함하는 측면 방출형 선형증발원이 제시된다.According to a sixth aspect of the present invention, in the fifth aspect of the present invention, the PBN crucible and the PG for protecting the crucible from a sample deposited on the inner surface of the PBN discharge portion and adhered to PBN, such as aluminum, are well adhered. A lateral emission linear evaporation source is provided comprising a protective film.
본 발명의 제7 관점은, 상기 본 발명의 제1 내지 제 6 관점의 측면 방출형 선형증발원을 제작하는 방법이 제시된다.In a seventh aspect of the present invention, a method of manufacturing the side emission linear evaporator of the first to sixth aspects of the present invention is presented.
본 발명의 제 8 관점은, 상기 측면 방출형 선형증발원을 진공 플랜지에 장착할 때 전원 공급용 전극을 지지대로 활용하는 선형증발기가 제시된다.In an eighth aspect of the present invention, a linear evaporator is provided which utilizes a power supply electrode as a support when mounting the lateral emission linear evaporator to a vacuum flange.
본 발명의 제 9 관점은, 상기 측면 방출형 선형증발원을 진공 플랜지에 장착할 때 선형증발원이 힘을 받아서 움직이거나 파손되는 것을 방지하기 위하여 접촉 면적이 최소화되도록 설계된 간격 유지 장치(스페이서)를 더 포함하는 선형증발기가 제시된다.A ninth aspect of the present invention further includes a spacer (spacer) designed to minimize the contact area in order to prevent the linear evaporator from moving or breaking under force when mounting the lateral emission linear evaporator to a vacuum flange. A linear evaporator is shown.
본 발명의 제 10 관점은, 상기 측면 방출형 선형증발원을 진공 플랜지에 장착할 때, 선형 증발원과 전극의 고정 시 힘을 분산하면서, 전류도 분산하여 발열부에 균일한 전류를 공급하기 위한 분산기(스프레더, spreader)를 더 포함하는 선형증발기가 제시된다.A tenth aspect of the present invention is a disperser for supplying a uniform current to the heat generating part by dispersing the current while distributing the force at the time of fixing the linear evaporation source and the electrode when the side emission linear evaporation source is mounted on the vacuum flange ( A linear evaporator is further provided that further includes a spreader.
본 발명의 측면 방출형 선형증발원에 의하면, 기판을 수직으로 장착하여 인라인으로 진공 증착하는 시스템에서, 측면 방향으로 재료 물질을 효율적으로 방출함으로써, 대형 기판에도 균일하게 재료 물질을 용이하게 증착할 수 있는 효과가 있다.According to the side-emission linear evaporation source of the present invention, in a system in which a substrate is vertically mounted and in-line vacuum deposition, the material is efficiently discharged in the lateral direction, whereby the material can be easily uniformly deposited on a large substrate. It works.
도 1은 본 발명의 측면 방출형 선형증발원의 제1 실시예에 관한 개략적인 구성도이다.
도 2는 본 발명의 측면 방출형 선형증발원의 제2 실시예에 관한 개략적인 구성도이다.
도 3는 본 발명의 측면 방출형 선형증발원의 제3 실시예에 관한 개략적인 구성도이다.
도 4는 본 발명의 측면 방출형 선형증발원의 제4 실시예에 관한 개략적인 구성도이다.
도 5는 종래의 증발기에 관한 구성도이다.
도 6은 본 발명의 측면 방출형 선형증발원을 이용한 선형증발기의 실시예에 관한 개략적인 구성도이다.
도 7은 진공 플랜지를 상부에 위치하게 하면서, 본 발명의 측면 방출형 선형증발원을 이용한 선형증발기의 실시예에 관한 개략적인 구성도이다.
도 8은 본 발명의 측면 방출형 선형증발원의 제조방법의 제1 실시예를 설명하기 위한 흐름도이다.
도 9는 본 발명의 측면 방출형 선형증발원의 제조방법의 제2 실시예를 설명하기 위한 흐름도이다.
도 10은 본 발명의 측면 방출형 선형증발원의 제조방법의 제3 실시예를 설명하기 위한 흐름도이다.
도 11는 본 발명의 측면 방출형 선형증발원의 제조방법의 제4 실시예를 설명하기 위한 흐름도이다.1 is a schematic diagram of a first embodiment of a side emission linear evaporator of the present invention.
Figure 2 is a schematic diagram of a second embodiment of a side emission linear evaporator of the present invention.
Figure 3 is a schematic diagram of a third embodiment of a side emission linear evaporator of the present invention.
Figure 4 is a schematic diagram of a fourth embodiment of a side emission linear evaporator of the present invention.
5 is a block diagram of a conventional evaporator.
Figure 6 is a schematic diagram of an embodiment of a linear evaporator using a side emission linear evaporator of the present invention.
Figure 7 is a schematic diagram of an embodiment of a linear evaporator using the side emission linear evaporator of the present invention with the vacuum flange positioned on top.
8 is a flowchart for explaining a first embodiment of the method for producing a side emission linear evaporator of the present invention.
9 is a flowchart illustrating a second embodiment of the method of manufacturing a side emission linear evaporator of the present invention.
10 is a flowchart illustrating a third embodiment of the method of manufacturing a side emission linear evaporator of the present invention.
11 is a flowchart illustrating a fourth embodiment of the method of manufacturing a side emission linear evaporator of the present invention.
이하 본 발명의 실시예에 관한 발명의 구성을 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings, the configuration of the invention according to an embodiment of the present invention will be described in detail.
참고로 도 5는 기존의 일반적인 증발원의 개략적인 구성도이다. 도 5에 도시한 바와 같이, 종래의 증발원은 도가니(1), 열차단막(2), 도가니(1)와 열차단막(2) 사이에 설치되는 히터(3), 열전대(4), 하부열차단막(5), 진공플랜지(6), 전원공급용전극(7) 및 전원접속자(8)를 포함하는 구성이다. 기존의 일반적인 증발원의 발열부는 도가니와 격리된 상태에서 도가니의 측면을 둘러싸고 있기 때문에 도가니의 측면에 방출구를 형성할 수 없으며, 상부의 개구부를 통하여 재료 물질이 방출되게 된다. For reference, Figure 5 is a schematic diagram of a conventional general evaporation source. As shown in FIG. 5, the conventional evaporation source includes a crucible 1, a heat shield 2, a
도1은 본 발명의 측면 방출형 선형증발원의 제1 실시예에 관한 개략적인 구성도이다. 1 is a schematic diagram of a first embodiment of a side emission linear evaporator of the present invention.
도 1(A)에 도시한 바와 같이, 진공에서 시료에 유기물, 금속 등의 재료를 증착하기 위한 증착시스템에 있어서, 상기 재료(30)를 담기 위한 PBN(Pyrolytic Boron Nitride: 열분해 질화붕소)으로 제작된 도가니(10)와, 상기 PBN 도가니(10)의 외부 표면에 가열에 적합하게 패터닝되어 증착된 PG(Pyrolytic Graphite: 열분해 흑연)으로 구성되는 제1 발열부(20)와, 상기 PBN 도가니(10)와 상기 PBN 도가니(10)의 외부 표면에 증착된 PG(20)를 관통하여 측면에 형성된 다수개의 방출구(40)와, 상기 PBN 도가니(10)의 개구부를 덮는 PBN으로 구성된 뚜껑체(50)와, 상기 PBN 뚜껑체(50)의 외부 표면에 가열에 적합하게 패터닝(예를 들면, 대칭형 패턴)되어 증착된 PG로 구성되는 제2 발열부(60)를 포함하는 구성이다.As shown in FIG. 1 (A), in a deposition system for depositing a material such as an organic material, a metal, or the like on a sample under vacuum, it is made of PBN (Pyrolytic Boron Nitride) for containing the
상기 제1 발열부(20) 및 제2 발열부(60)에 전압을 인가했을 때, 상기 PBN 뚜껑체(50)의 온도가 상기 PBN 도가니(10)의 온도보다 높거나 같게 유지되도록 상기 PBN 뚜껑체(50)에 증착된 제2 발열부(60) PG의 두께와 상기 PBN 도가니(10)에 증착된 제1 발열부(20) PG의 두께의 비나 상기 제1 및 제2 발열부의 패턴을 조절하는 것이 바람직하다.When the voltage is applied to the first
도 1(B)는 도 1(A)의 A-A’의 단면의 개략도이다. 상기 제1 발열부의 형태의 한 예는 상기 A-A’ 단면의 개략도에 도시한 바와 같이 도가니의 측면 중 방출구와 직각된 방향에서 측면 바닥에서 측면 상단부에 이르는 너비 약 0.5mm 이하의 PG로 구성된 발열부의 일부를 제거함으로써 형성할 수 있다. 이러한 구조에서는 방출구 부근의 저항이 커지고 따라서 다른 부분에 비하여 방출구 부근의 온도가 더 높은 온도 분포를 얻을 수 있으므로 단순한 대칭형 패턴으로 바람직한 온도 분포를 용이하게 얻을 수 있다.FIG. 1B is a schematic diagram of a cross section taken along the line A-A 'in FIG. An example of the form of the first heat generating portion is a heat generation composed of PG having a width of about 0.5 mm or less from the bottom of the side to the top of the side in a direction perpendicular to the discharge port among the sides of the crucible, as shown in the schematic view of the cross section A-A '. It can form by removing a part of part. In such a structure, the resistance in the vicinity of the outlet is increased, so that a temperature distribution in which the temperature in the vicinity of the outlet is higher than that of other parts can be obtained, so that a preferable temperature distribution can be easily obtained with a simple symmetrical pattern.
상기 본 발명의 제1 실시예와 같이, 상기 PBN 도가니(10)의 외부 표면에 PG를 직접 증착함으로써, 제1 발열부(20)와 상기 PBN 도가니(10)가 붙어 있는 일체형 선형증발원을 구현할 수 있고, 상기 선형증발원의 측면에 상기 다수개의 방출구(40)을 용이하게 형성할 수 있다.As in the first embodiment of the present invention, by directly depositing the PG on the outer surface of the
도가니의 상부로 갈수록 압력이 낮아지므로 상부쪽 방출구의 간격을 더 좁게 만들거나, 상부쪽 방출구의 구멍을 크게 함으로써 기판에 증착되는 물질의 두께를 균일하게 만들 수 있다.Since the pressure is lowered toward the top of the crucible, the thickness of the material deposited on the substrate can be made uniform by narrowing the gap between the upper discharge holes or by increasing the hole of the upper discharge holes.
인라인으로 증착되는 대면적 기판의 전면적에 대해서 증착이 이루어질 수 있도록 방출구가 형성된 부분의 높이는 기판의 높이보다는 조금 더 높은 것이 바람직하다.It is preferable that the height of the portion where the discharge port is formed is slightly higher than the height of the substrate so that the deposition can be performed on the entire area of the large-area substrate which is deposited inline.
도 2는 본 발명의 측면 방출형 선형증발원의 제2 실시예에 관한 개략적인 구성도이다. 도 2에 도시한 바와 같이, 본 발명의 제2 실시예는 상기 제1 실시예에서 상기 PBN 도가니(10) 및 PBN 뚜껑체(50)의 내부 표면 및 상기 방출구(40)의 표면에 상기 PG를 증착하여 보호막을 구성한 것이다. 본 발명의 제2 실시예는, 알루미늄과 같이 PBN에 잘 유착되는 시료로부터 PBN 도가니(10)를 보호하기 위하여 상기 PBN 도가니(10)의 내부 표면 및 상기 방출구(40)의 표면에 증착된 PG로 구성된 제1 보호막(70)과, 상기 방출구(40)의 주변에서 상기 제1 발열부(20)와 상기 제1 보호막(70)을 전기적으로 절연하기 위하여 PG가 제거된 제1 절연부(80)와, 상기 PBN 도가니(10)의 상단부에서 상기 제1 발열부(20)와 상기 제1 보호막(70)을 전기적으로 절연하기 위하여 PG가 제거된 제2절연부(100)를 포함하며, 상기 PBN 뚜껑체(50)의 내부 표면에 증착된 PG로 구성된 제2보호막(90)과, 상기 제2발열부(60)와 상기 제2 보호막(90)을 전기적으로 절연하기 위하여 PG가 제거된 제3절연부(110)를 포함하는 구성이다.Figure 2 is a schematic diagram of a second embodiment of a side emission linear evaporator of the present invention. As shown in FIG. 2, the
상기 제1절연부(80) 및 제2 절연부(100)의 형성은 예를 들면, 상기 PBN 도가니(10)에 측면 방출구(40)를 형성한 다음, 상기 PBN 도가니(10)의 내외부에 PG를 증착하고 상기 제1 발열부(20)와 제1 보호막(70)이 전기적으로 절연 되도록 증착된 PG의 일부를 제거함으로써 제1절연부(80) 및 제2절연부(100)를 형성할 수 있다. 또 다른 예는 제1실시예에서와 같이 발열부를 형성한 다음, 전극접촉부를 제외한 부분을 PBN으로 모두 증착한 다음, 도가니의 내부 표면 및 상기 방출구에 PG 보호막을 형성할 수도 있다.For example, the first insulating
상기 제3절연부(110)의 형성은 예를 들면, 상기 PBN 뚜껑체(50)의 내외부에 PG를 증착하고 상기 제2 발열부(60)와 상기 제2 보호막(90)이 전기적으로 절연 되도록 증착된 PG의 일부를 제거함으로써 제3절연부(110)를 형성할 수 있다.For example, the third insulating
상기 본 발명의 제2 실시예에 의해, 알루미늄과 같이 PBN에 유착되는 재료(30)를 냉각할 때 열팽창 계수의 차이에 의하여 PBN 도가니(10)가 파손되는 것을 막을 수 있으므로 재료를 신속하게 냉각시킬 수 있다. 예를 들면 500cc 이상의 도가니에서 보호막이 없을 경우 알루미늄의 융점인 섭씨 660도보다 높은 온도에서 섭씨 100도까지 냉각하기 위하여는 8시간 이상이 걸리지만 보호막이 있는 경우에는 1시간 이하의 짧은 시간에 냉각이 가능하다.According to the second embodiment of the present invention, when cooling the
도3은 본 발명의 측면 방출형 선형증발원의 제3 실시예에 관한 개략적인 구성도이다. Figure 3 is a schematic diagram of a third embodiment of a side emission linear evaporator of the present invention.
도 3에 도시한 바와 같이, 진공에서 시료에 유기물, 금속 등의 재료를 증착하기 위한 증착시스템에 있어서, 상기 재료(30)를 담기 위한 PBN(Pyrolytic Boron Nitride: 열분해 질화붕소)으로 제작된 도가니(10)와, 상기 PBN 도가니(10)의 외부 표면에 가열에 적합하게 패터닝되어 증착된 PG(Pyrolytic Graphite: 열분해 흑연)로 구성되는 제1 발열부(20)와, 상기 PBN 도가니(10)의 개구부를 덮는 PBN으로 구성된 방출부(200)와, 상기 PBN 방출부(200)의 외부 표면에 가열에 적합하게 패터닝(예를 들면, 대칭형 패턴)되어 증착된 PG로 구성되는 제2 발열부(220)와, 상기 PBN 방출부(200)와 상기 PBN 방출부(200)의 외부 표면에 증착된 PG(220)를 관통하여 측면에 형성된 다수개의 방출구(240)를 포함하는 구성이다.As shown in FIG. 3, in a deposition system for depositing a material such as an organic material, a metal, or the like on a sample in a vacuum, a crucible made of PBN (Pyrolytic Boron Nitride) for containing the material 30 ( 10), a first
상기 제1 발열부(20) 및 제2 발열부(220)에 전압을 인가했을 때, 상기 PBN 방출부(200)의 온도가 상기 PBN 도가니(10)의 온도보다 높거나 같게 유지되도록 상기 PBN 방출부(200)에 증착된 제2 발열부(220) PG의 두께와 상기 PBN 도가니(10)에 증착된 제1 발열부(20) PG의 두께의 비나 상기 제1 및 제2 발열부의 패턴을 조절하는 것이 바람직하다.When voltage is applied to the first
방출부의 상부로 갈수록 압력이 낮아지므로 상부쪽 방출구의 간격을 더 좁게 만들거나, 상부쪽 방출구의 구멍을 크게 함으로써 기판에 증착되는 물질의 두께를 균일하게 만들 수 있다.As the pressure is lowered toward the top of the discharge section, the gap between the top discharge port can be made narrower, or the thickness of the material deposited on the substrate can be made uniform by increasing the hole of the upper discharge port.
인라인으로 증착되는 대면적 기판의 전면적에 대해서 증착이 이루어질 수 있도록 방출구가 형성된 부분의 높이는 기판의 높이보다는 조금 더 높은 것이 바람직하다.It is preferable that the height of the portion where the discharge port is formed is slightly higher than the height of the substrate so that the deposition can be performed on the entire area of the large-area substrate which is deposited inline.
도4는 본 발명의 측면 방출형 선형증발원의 제4 실시예에 관한 개략적인 구성도이다. Figure 4 is a schematic diagram of a fourth embodiment of a side emission linear evaporator of the present invention.
도 4에 도시한 바와 같이, 본 발명의 제4 실시예는 상기 제3 실시예에서 상기 PBN 도가니(10) 및 PBN 방출부(200)의 내부 표면 및 상기 방출구(240)의 표면에, 상기 제2실시예와 같은 방법으로 상기 PG를 증착하여 보호막(70, 270)을 구성한 것이다.As shown in FIG. 4, the fourth embodiment of the present invention has the inner surface of the
도 6은 상기 본 발명의 실시예 4에 개시된 측면 방출형 선형증발원을 사용한 선형증발기의 제5실시예에 관한 개략적인 구성도이다. 도6(A)에 도시한 바와 같이, 본 발명의 측면 방출형 선형증발원을 전원 공급용 전극(600)과 열전대(Thermocouple, T/C)용 전극(300)이 장착된 진공 플랜지(400)에 장착할 수 있다. 이 때 전원 공급용 전극(600)은 상기 제1 발열부(20)와 제2 발열부(220)에 전원을 공급하도록 연결되고, 열전대용 전극(300)은 선형증발원의 온도를 측정할 수 있도록 연결된다. 상기 전원 공급용 전극(600)을 지지대로 사용함으로써 구조를 단순화할 수 있다. 상기 전원 공급용 전극(600)이 측면 방출구(240)에 방해를 주지 않도록 두 전극으로부터 측면 방출구(240)가 먼 곳에 위치하도록 전극이 배치되어 있다. 6 is a schematic diagram of a fifth embodiment of a linear evaporator using the side emission linear evaporator disclosed in Example 4 of the present invention. As shown in Fig. 6A, the side emission type linear evaporation source of the present invention is mounted on a
상기 선형증발기는 본 발명의 측면 방출형 선형증발원의 하측 및 상측에 설치되는 스페이서(500a)(500b)와, 상기 선형증발원의 바닥면 제1 발열부(20)에 접촉되도록 설치되는 열전대(Thermocouple, T/C)용 전극(300)과, 상기 선형증발원의 하측에서 소정거리 이격되어 설치되는 진공플랜지(400)와, 상기 선형증발원의 방출구(240)를 사이에 두고 상기 스페이서(500a)(500b)를 관통하여 상기 제1 발열부(20) 및 제2 발열부(220)에 접촉되도록 설치되는 1쌍 이상의 전원공급용전극(600)과, 제1발열부(20)의 전극 접촉부 하부에 위치하는 분산기(700a)와 제2발열부(220)의 전극 접촉부 상부에 위치하는 분산기(700b)를 포함하고 있다. The linear evaporator is a thermocouple (Thermocouple, which is installed to be in contact with the
도 6(B)는 도 6(A)의 스페이서의 개략도이다.Fig. 6B is a schematic view of the spacer of Fig. 6A.
상기 스페이서(500a)(500b)는 선형증발원이 움직이지 않도록 선형증발원을 고정하는 역할을 하며 열손실을 최소화하기 위하여 선형증발원과의 접촉을 최소화하는 구조의 접촉부(520)와, 전원공급용전극(600)이 통과하는 관통홀(511-514)을 포함하고 있다.The
도 6(C)는 도 6(A)의 분산기의 개략도이다.Fig. 6C is a schematic diagram of the disperser of Fig. 6A.
상기 분산기(700a)(700b)는 선형 증발원의 무게가 전극 접촉부에 밀집되는 것을 방지하고 힘을 분산하는 역할을 한다. 또한 전류가 한 곳으로 집중되는 것을 방지하여 발열부에서 열이 균일하게 발열되도록 하는 역할을 한다. 상기 분산기(700a)(700b)는 도 6 (C)에 도시한 바와 같이, 전원공급용전극(600)이 통과하는 관통홀(711-714)을 포함하고 있다.The
상기 분산기는 그래파이트로 제작하는 것이 바람직하다. 그러나 고온 특성이 우수한 몰리브덴 등의 금속으로 제작할 수도 있다.The disperser is preferably made of graphite. However, it can also be made of a metal such as molybdenum having excellent high temperature characteristics.
도 7은 상기 본 발명의 실시예 4에 게시된 측면 방출형 선형증발원을 사용한 선형증발기의 제6실시예에 관한 개략적인 구성도이다.7 is a schematic diagram of a sixth embodiment of a linear evaporator using the side emission linear evaporator disclosed in Example 4 of the present invention.
도 7(A)에 도시한 바와 같이, 제5 실시예에서와 달리 진공 플랜지를 선형증발원의 상부에 장착하는 선형증발기의 구성이다. 따라서 도 7(B)와 같이, 열전대(Thermocouple, T/C)용 전극(300)이 통과할 수 있는 관통홀(530)과, 양측의 전원공급용전극(600)이 통과할 수 있는 관통홀(511-514) 및 접촉부(520)를 포함하고 있다.As shown in Fig. 7A, unlike in the fifth embodiment, it is a configuration of a linear evaporator that mounts a vacuum flange on top of the linear evaporator. Therefore, as shown in FIG. 7B, the through-
도 7(C)는 도 6(C)와 같은 취지의 분산기(700a)(700b)에 관한 개략적인 구성도이다. 상기 분산기(700a)(700b)는 도 7(C)에 도시한 바와 같이, 열전대(Thermocouple, T/C)용 전극(300)이 통과할 수 있는 관통홀(730)과, 양측의 전원공급용전극(600)이 통과할 수 있는 관통홀(711-714)을 포함하고 있다.FIG. 7C is a schematic diagram of the
도 8은 본 발명의 측면 방출형 선형증발원 제작방법에 관한 제1 실시예를 설명하기 위한 흐름도이다. 도 8에 도시한 바와 같이, 본 발명의 측면 방출형 선형증발원 제작방법은, 진공 증착시스템의 선형증발원 제작방법에 있어서, PBN 도가니를 준비하는 단계(S100)와, 상기 PBN 도가니의 외부 표면에 PG를 증착하여 제1 발열층을 형성하는 단계(S110)와, 상기 PBN 도가니의 측면에 소정 크기의 방출구를 상기 PBN 도가니의 길이방향으로 다수개를 형성하는 단계(S120)와, 상기 PBN 도가니 외부 표면에 형성된 제1 발열층에 가열에 적합한 패턴(예를 들면, 대칭형 패턴)을 형성하는 단계(S130)를 포함한다.8 is a flowchart illustrating a first embodiment of a method of manufacturing a side emission linear evaporator of the present invention. As shown in FIG. 8, the method of manufacturing a side-emission linear evaporator of the present invention includes preparing a PBN crucible in a linear evaporator manufacturing method of a vacuum deposition system (S100), and PG on an outer surface of the PBN crucible. Depositing a first heating layer (S110), forming a plurality of discharge holes having a predetermined size in a length direction of the PBN crucible (S120), and the outside of the PBN crucible And forming a pattern (for example, a symmetric pattern) suitable for heating in the first heating layer formed on the surface (S130).
또한, 본 발명의 상기 측면 방출형 선형증발원 제작방법은, 상기 PBN 도가니의 상측 개구부를 덮기 위한 PBN 뚜껑체를 준비하는 단계(S140)와, 상기 PBN 뚜껑체의 외부 표면에 PG를 증착하여 제2 발열층을 형성하는 단계(S150)와, 상기 PBN 뚜껑체의 외부 표면에 형성된 제2 발열층에 가열에 적합한 패턴(예를 들면, 대칭형 패턴)을 형성하는 단계(S160)를 더 포함할 수 있다. 상기 제2 발열층은 바람직하게는 두께 1000 마이크로미터 이하의 PG로 증착되는 것이 바람직하다. In addition, the method of manufacturing a side emission type linear evaporator of the present invention comprises the steps of preparing a PBN cap body for covering the upper opening of the PBN crucible (S140), and depositing PG on the outer surface of the PBN cap body by a second The method may further include forming a heating layer (S150) and forming a pattern (eg, a symmetric pattern) suitable for heating on the second heating layer formed on the outer surface of the PBN cap body (S160). . The second heating layer is preferably deposited with PG of 1000 micrometers or less in thickness.
도 9은 본 발명의 측면 방출형 선형증발원 제작방법에 관한 제2 실시예를 설명하기 위한 흐름도이다. 도 9 도시한 바와 같이, 본 발명의 측면 방출형 선형증발원 제작방법에 관한 제2 실시예는 상기 제1 실시예에서, 상기 PBN 도가니의 내부 표면 및 상기 PBN 뚜껑체의 하부표면에 PG를 증착하여 보호막을 더 형성하는 것을 특징으로 한다.9 is a flowchart illustrating a second embodiment of a method of manufacturing a side emission linear evaporator of the present invention. As shown in FIG. 9, according to the second embodiment of the method of manufacturing a side emission linear evaporation source of the present invention, PG is deposited on the inner surface of the PBN crucible and the lower surface of the PBN cap body in the first embodiment. It is characterized by further forming a protective film.
본 발명의 측면 방출형 선형증발원 제작방법에 관한 제2 실시예는, 진공 증착시스템의 선형증발원 제작방법에 있어서, PBN 도가니를 준비하는 단계(S200)와, 상기 PBN 도가니의 측면에 소정 크기의 방출구를 상기 PBN 도가니의 길이방향으로 다수개를 형성하는 단계(S210)와, 상기 PBN 도가니의 내부 및 외부 표면에 PG를 증착하여 상기 PBN 도가니의 외부표면에 제1 발열층과 내부표면에 제1 보호막을 형성하는 단계(S220)와, 상기 PBN 도가니 외부 표면에 형성된 제1 발열층에 가열에 적합한 패턴(예를 들면, 대칭형 패턴)을 형성하는 단계(S230)와, 상기 제1 발열층과 제1 보호막을 전기적으로 절연시키는 절연부를 형성하는 단계(S240)를 포함한다.According to a second embodiment of a method of manufacturing a side-emission linear evaporation source of the present invention, in the method of manufacturing a linear evaporation source of a vacuum deposition system, a step of preparing a PBN crucible (S200) and a room of a predetermined size on the side of the PBN crucible Forming a plurality of outlets in the longitudinal direction of the PBN crucible (S210), and depositing PG on the inner and outer surfaces of the PBN crucible to form a first heating layer and an inner surface on the outer surface of the PBN crucible; Forming a protective film (S220), forming a pattern suitable for heating (for example, a symmetrical pattern) on the first heating layer formed on the outer surface of the PBN crucible (S230), and forming the first heating layer and the first heating layer. 1 to form an insulating portion for electrically insulating the protective film (S240).
또한, 본 발명의 상기 측면 방출형 선형증발원 제작방법은, 상기 PBN 도가니를 덮고, 증발을 위한 방출구가 형성된 PBN 뚜껑체를 준비하는 단계(S250)와, 상기 PBN 뚜껑체의 내부 및 외부 표면에 PG를 증착하여 상기 PBN 뚜껑체의 외부 표면에 제2 발열층과 내부 표면에 제2 보호막을 형성하는 단계(S260)와, 상기 PBN 뚜껑체의 외부 표면에 형성된 상기 제2 발열층에 가열에 적합한 패턴(예를 들면, 대칭형 패턴)을 형성하는 단계(S270)와, 상기 제2 발열층과 상기 제2 보호막을 전기적으로 절연시키기 위한 절연부를 형성하는 단계(S280)를 포함한다.In addition, the method of producing a side-release linear evaporator of the present invention, covering the PBN crucible, preparing a PBN cap body formed with a discharge port for evaporation (S250), and on the inner and outer surfaces of the PBN cap body Depositing PG to form a second heating layer on the outer surface of the PBN cap body and a second protective film on the inner surface (S260); and suitable for heating on the second heating layer formed on the outer surface of the PBN cap body Forming a pattern (for example, a symmetrical pattern) (S270), and forming an insulating part for electrically insulating the second heating layer and the second passivation layer (S280).
도 10은 본 발명의 측면 방출형 선형증발원 제작방법에 관한 제3 실시예를 설명하기 위한 흐름도이다. 도 10 도시한 바와 같이, 본 발명의 측면 방출형 선형증발원 제작방법에 관한 제2 실시예는, PBN 도가니를 준비하는 단계(S300)와, 상기 PBN 도가니의 외부 표면에 PG를 증착하여 제1 발열층을 형성하는 단계(S310)와, 상기 PBN 도가니 외부 표면에 형성된 상기 제1 발열층에 가열에 적합한 패턴을 형성하는 단계(S320)와, PBN 방출부를 준비하는 단계(S330)와, 상기 PBN 방출부의 외부 표면에 PG를 증착하여 제2 발열층을 형성하는 단계(S340)와, 상기 PBN 방출부 외부 표면에 형성된 상기 제2 발열층에 가열에 적합한 패턴을 형성하는 단계(S350)와, 상기 PBN 방출부의 측면에 소정 크기의 다수개의 방출구를 형성하는 단계(S360)를 포함하고 있다.10 is a flowchart illustrating a third embodiment of a method of manufacturing a side emission linear evaporator of the present invention. As shown in FIG. 10, the second embodiment of the method of manufacturing a side emission linear evaporation source of the present invention includes preparing a PBN crucible (S300) and depositing PG on an outer surface of the PBN crucible to generate a first heat generation. Forming a layer (S310), forming a pattern suitable for heating in the first heating layer formed on the outer surface of the PBN crucible (S320), preparing a PBN emitter (S330), and the PBN emission Depositing PG on a negative outer surface to form a second heating layer (S340), forming a pattern suitable for heating on the second heating layer formed on the outer surface of the PBN emission unit (S350), and the PBN Forming a plurality of discharge holes of a predetermined size on the side of the discharge unit (S360).
도 11은 본 발명의 측면 방출형 선형증발원 제작방법에 관한 제4 실시예를 설명하기 위한 흐름도이다. 도 11에 도시한 바와 같이, 본 발명의 측면 방출형 선형증발원 제작방법에 관한 제4 실시예는, PBN 도가니를 준비하는 단계(S400)와, 상기 PBN 도가니의 내외부 표면에 PG를 증착하여 제1 발열층 및 제1 보호막을 형성하는 단계(S410)와, 상기 PBN 도가니 외부 표면에 형성된 상기 제1 발열층에 가열에 적합한 패턴을 형성하는 단계(S420)와, 상기 제1 발열층과 상기 제1 보호막 사이에 전기적으로 절연시키기 위한 절연부를 형성하는 단계(S430)와, 상기 PBN 도가니를 덮는 PBN 방출부를 준비하는 단계(S440)와, 상기 PBN 방출부의 측면에 방출구를 형성하는 단계(S450)와, 상기 PBN 방출부의 내부 및 외부 표면에 PG를 증착하여 상기 PBN 방출부의 외부 표면에 제2 발열층과 내부 표면에 제2 보호막을 형성하는 단계(S460)와, 상기 PBN 방출부의 외부 표면에 형성된 상기 제2 발열층에 가열에 적합한 패턴을 형성하는 단계(S470)와, 상기 제2 발열층과 상기 제2 보호막을 전기적으로 절연시키기 위한 절연부를 형성하는 단계(S480)를 포함하고 있다.11 is a flowchart for explaining a fourth embodiment of the method of manufacturing a side-emitting linear evaporator of the present invention. As shown in FIG. 11, the fourth embodiment of the method of manufacturing a side emission linear evaporation source of the present invention includes preparing a PBN crucible (S400) and depositing PG on the inner and outer surfaces of the PBN crucible to form a first method. Forming a heating layer and a first passivation layer (S410), forming a pattern suitable for heating on the first heating layer formed on an outer surface of the PBN crucible (S420), and forming the first heating layer and the first heating layer. Forming an insulating portion for electrically insulating between the protective film (S430), preparing a PBN emitting portion covering the PBN crucible (S440), and forming an ejection opening on a side surface of the PBN emitting portion (S450); Depositing PG on the inner and outer surfaces of the PBN emitter to form a second heating layer on the outer surface of the PBN emitter and a second passivation layer on the inner surface (S460); On the second heating layer Column and a step (S470) and a step (S480) of forming the insulation for electrically insulating the second heating layer and the second protective film to form a suitable pattern.
이상에서 설명한 본 발명의 측면 방출형 선형증발원 및 그 제작방법에 관한 발명의 기술적 범위는 상술한 실시예 들로 한정되는 것이 아니다. 본 발명의 기술적 사상에 포함되는 예측 가능한 다양한 실시예를 당연히 포함하고 있다. 예를 들면, 상술한 본 발명의 실시예에 적용된 발열부를 보호하기 위하여 제1발열부 및 제2 발열부의 외부에 PBN을 추가로 증착할 수 있다. 이 때에는 전원공급용 전극과의 연결을 위한 부분에는 PBN이 증착되지 않도록 한다. 또한 발열부로 사용되는 PG 대신에 고온 발열이 가능한 텅스텐(W), 몰리브덴(Mo), 티타늄(Ti) 등의 물질을 사용할 수 있다. 또한 상기의 선형 증발기에서 진공시스템으로 열을 방출하는 것을 최소화하기 위하여 선형증발기의 외부에 열차단막을 장착할 수 있다.The technical scope of the present invention regarding the side emission linear evaporator and the manufacturing method of the present invention described above is not limited to the above-described embodiments. Naturally, various predictable embodiments included in the technical idea of the present invention are included. For example, PBN may be further deposited on the outside of the first heat generating unit and the second heat generating unit to protect the heat generating unit applied to the above-described embodiment of the present invention. At this time, the PBN is not deposited on the portion for connection with the power supply electrode. In addition, instead of PG used as a heat generating unit, a material such as tungsten (W), molybdenum (Mo), and titanium (Ti), which can generate high temperature, may be used. In addition, a heat shield may be installed outside the linear evaporator in order to minimize the heat dissipation from the linear evaporator to the vacuum system.
10 : PBN 도가니
20 : 제1 발열부
30 : 재료(시료)
40, 240 : 방출구
50 : PBN 뚜껑체
60, 220 : 제2 발열부
70 : 제1 보호막
90, 270 : 제2 보호막
80, 100, 110 : 절연부
300 : 열전대
500a, 500b : 스페이서
600 : 전원공급용 전극
700a, 700b : 스프레더
10: PBN Crucible
20: first heating unit
30 material (sample)
40, 240: discharge port
50: PBN lid body
60, 220: second heating unit
70: first protective film
90, 270: Second protective film
80, 100, 110: insulation
300: thermocouple
500a, 500b: spacer
600: power supply electrode
700a, 700b: Spreader
Claims (20)
재료를 담기 위한 상측이 개구된 PBN(pyrolytic boron nitride, 열분해질화붕소) 도가니와,
상기 PBN 도가니의 외부 표면에 증착되고, 가열에 적합한 패턴이 형성된 제1 발열부와,
상기 PBN 도가니의 측면과 상기 제1 발열부를 관통하여 형성된 다수개의 측면 방출구를 포함하는 측면 방출형 선형증발원.In linear evaporators used in vacuum deposition systems,
A pyrolytic boron nitride (PBN) crucible with an open top for containing the material,
A first heating part deposited on an outer surface of the PBN crucible and having a pattern suitable for heating;
Side emission linear evaporation source comprising a plurality of side outlets formed through the side of the PBN crucible and the first heating portion.
상기 PBN 도가니의 내부 표면 및 상기 방출구의 표면에 형성된 제1 보호막과,
상기 제1 발열부와 상기 제1 보호막을 전기적으로 절연시키기 위한 절연부를 더 포함하는 측면 방출형 선형증발원.The method according to claim 1,
A first protective film formed on an inner surface of the PBN crucible and a surface of the discharge opening;
The side emission type linear evaporator of claim 1, further comprising an insulating portion for electrically insulating the first heating portion and the first passivation layer.
상기 PBN 도가니의 개구부를 덮는 PBN 뚜껑체와,
상기 PBN 뚜껑체의 외부 표면에 증착되고, 가열에 적합한 패턴이 형성된 제2 발열부를 더 포함하는 측면 방출형 선형증발원.The method according to claim 1,
A PBN lid body covering an opening of the PBN crucible,
And a second heat generating part deposited on an outer surface of the PBN cap body and having a pattern suitable for heating.
상기PBN 도가니 및 상기 방출구의 내부 표면에 증착되고, 상기 제1 발열부와 전기적으로 절연되어 있는 제1 보호막과,
상기 PBN 뚜껑체의 하측 표면에 증착되고, 상기 제2 발열부와 전기적으로 절연되어 있는 제2 보호막을 더 포함하는 측면 방출형 선형증발원.The method according to claim 3,
A first passivation layer deposited on the inner surface of the PBN crucible and the discharge opening and electrically insulated from the first heat generating unit;
And a second passivation layer deposited on a lower surface of the PBN cap body and electrically insulated from the second heat generating unit.
재료를 담기 위한 PBN(pyrolytic boron nitride, 열분해질화붕소) 도가니와,
상기 PBN 도가니의 외부 표면에 증착되고, 가열에 적합한 패턴이 형성된 제1 발열부와,
PBN으로 구성된 방출부와,
상기 PBN 방출부의 외부 표면에 증착되고, 가열에 적합한 패턴이 형성된 제2 발열부와,
상기 PBN 방출부의 측면과 상기 제2 발열부를 관통하여 형성된 측면 방출구를 포함하는 측면 방출형 선형증발원.In linear evaporators used in vacuum deposition systems,
PBN (pyrolytic boron nitride) crucibles for holding materials,
A first heating part deposited on an outer surface of the PBN crucible and having a pattern suitable for heating;
A discharge part composed of PBN,
A second heat generating part deposited on an outer surface of the PBN emitting part and having a pattern suitable for heating;
Side emission linear evaporation source comprising a side discharge port formed through the side of the PBN discharge portion and the second heating portion.
상기PBN 도가니의 내부 표면에 증착되고, 상기 제1 발열부와 전기적으로 절연되어 있는 제1 보호막과,
상기 PBN 방출부의 내부 표면 및 상기 방출구의 표면에 증착되고, 상기 제2 발열부와 전기적으로 절연되어 있는 제2 보호막을 더 포함하는 측면 방출형 선형증발원.The method according to claim 5
A first passivation layer deposited on an inner surface of the PBN crucible and electrically insulated from the first heat generating unit;
And a second passivation layer deposited on an inner surface of the PBN emission unit and a surface of the emission opening and electrically insulated from the second heating unit.
상기 제1 및 제2 발열부에 전류를 인가했을 때, 상기 제2 발열부의 온도가 상기 제1 발열부의 온도보다 높게 유지되도록 구성되는 것을 특징으로 하는 측면 방출형 선형증발원.The method according to any one of claims 3 to 6,
When the current is applied to the first and second heat generating portion, the side emission type linear evaporator, characterized in that configured to maintain the temperature of the second heat generating portion higher than the temperature of the first heat generating portion.
상기 발열부 및 보호막은 두께 1000 마이크로미터 이하의 열분해 흑연(PG, Pyrolytic Graphite)으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 측면 방출형 선형증발원.The method according to any one of claims 1 to 6,
The heat generating part and the protective film is a side emission linear evaporator, characterized in that made of pyrolytic graphite (PG, PG, Pyrolytic Graphite) having a thickness of less than 1000 micrometers.
상기 발열부의 패턴은 대칭형인 것을 특징으로 하는 측면 방출형 선형증발원.The method according to any one of claims 1 to 6,
Side emission type linear evaporator, characterized in that the pattern of the heating portion is symmetrical.
상부와 하부의 증착 속도를 같게 유지하기 위하여, 상부 방출구의 간격이 하부 방출구의 간격보다 좁은 것을 특징으로 하는 측면 방출형 선형증발원.The method according to claim 1 or 5,
A side emission linear evaporator, characterized in that the spacing of the upper outlet is narrower than the spacing of the lower outlet in order to keep the deposition rates of the top and bottom equal.
상부와 하부의 증착 속도를 같게 유지하기 위하여, 상부와 하부의 방출구의 간격을 일정하게 유지하면서, 상부 방출구의 크기가 하부 방출구의 크기보다 큰 것을 특징으로 하는 측면 방출형 선형증발원.The method according to claim 1 or 5,
A side emission linear evaporator, characterized in that the size of the upper outlet is larger than the size of the lower outlet, while maintaining a constant gap between the top and bottom outlets to maintain the same deposition rate of the top and bottom.
PBN 도가니를 준비하는 단계와,
상기 PBN 도가니의 외부 표면에 PG를 증착하여 제1 발열층을 형성하는 단계와,
상기 PBN 도가니의 측면에 소정 크기의 다수개의 방출구를 형성하는 단계와,
상기 PBN 도가니 외부 표면에 형성된 상기 제1 발열층에 가열에 적합한 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 측면 방출형 선형증발원 제조 방법.In the method of manufacturing a linear evaporator of a vacuum deposition system,
Preparing a PBN crucible,
Depositing PG on an outer surface of the PBN crucible to form a first heating layer;
Forming a plurality of discharge holes of a predetermined size on a side of the PBN crucible;
And forming a pattern suitable for heating in the first heat generating layer formed on the outer surface of the PBN crucible.
상기 PBN 도가니의 상측 개구부를 덮기 위한 PBN 뚜껑체를 준비하는 단계와, 상기 PBN 뚜껑체의 외부 표면에 PG를 증착하여 제2 발열층을 형성하는 단계와,
상기 PBN 뚜껑체의 외부 표면에 형성된 제2 발열층에 가열에 적합한 패턴을 형성하는 단계를 더 포함하는 측면 방출형 선형증발원 제조 방법.The method of claim 12,
Preparing a PBN lid for covering an upper opening of the PBN crucible, depositing PG on an outer surface of the PBN lid and forming a second heating layer;
And forming a pattern suitable for heating in the second heating layer formed on the outer surface of the PBN cap body.
PBN 도가니를 준비하는 단계와,
상기 PBN 도가니의 측면에 소정 크기의 다수개의 방출구를 형성하는 단계와,
상기 PBN 도가니의 내부 및 외부 표면에 PG를 증착하여 상기 PBN 도가니의 외부표면에 제1 발열층과 내부표면에 제1 보호막을 형성하는 단계와,
상기 PBN 도가니 외부 표면에 형성된 제1 발열층에 가열에 적합한 패턴을 형성하는 단계와,
상기 제1 발열층과 제1 보호막을 전기적으로 절연시키는 절연부를 형성하는 단계를 포함하는 측면 방출형 선형증발원 제조 방법.In the method of manufacturing a linear evaporator of a vacuum deposition system,
Preparing a PBN crucible,
Forming a plurality of discharge holes of a predetermined size on a side of the PBN crucible;
Depositing PG on the inner and outer surfaces of the PBN crucible to form a first heating layer on an outer surface of the PBN crucible and a first protective film on an inner surface thereof;
Forming a pattern suitable for heating on a first heating layer formed on the outer surface of the PBN crucible;
And forming an insulating portion electrically insulating the first heating layer and the first passivation layer.
상기 PBN 도가니를 덮고, 증발을 위한 방출구가 형성된 PBN 뚜껑체를 준비하는 단계와,
상기 PBN 뚜껑체의 내부 및 외부 표면에 PG를 증착하여 상기 PBN 뚜껑체의 외부 표면에 제2 발열층과 내부 표면에 제2 보호막을 형성하는 단계와,
상기 PBN 뚜껑체의 외부 표면에 형성된 상기 제2 발열층에 가열에 적합한 패턴을 형성하는 단계와,
상기 제2 발열층과 상기 제2 보호막을 전기적으로 절연시키기 위한 절연부를 형성하는 단계를 더 포함하는 측면 방출형 선형증발원 제조 방법.The method according to claim 14,
Covering the PBN crucible, preparing a PBN cap body formed with a discharge port for evaporation,
Depositing PG on the inner and outer surfaces of the PBN lid to form a second heating layer on the outer surface of the PBN lid and a second protective film on the inner surface;
Forming a pattern suitable for heating on the second heat generating layer formed on an outer surface of the PBN cap body;
And forming an insulating portion for electrically insulating the second heating layer and the second passivation layer.
PBN 도가니를 준비하는 단계와,
상기 PBN 도가니의 외부 표면에 PG를 증착하여 제1 발열층을 형성하는 단계와,
상기 PBN 도가니 외부 표면에 형성된 상기 제1 발열층에 가열에 적합한 패턴을 형성하는 단계와,
PBN 방출부를 준비하는 단계와,
상기 PBN 방출부의 외부 표면에 PG를 증착하여 제2 발열층을 형성하는 단계와,
상기 PBN 방출부 외부 표면에 형성된 상기 제2 발열층에 가열에 적합한 패턴을 형성하는 단계와,
상기 PBN 방출부의 측면에 소정 크기의 방출구를 형성하는 단계를 포함하는 측면 방출형 선형증발원 제조 방법.In the method of manufacturing a linear evaporator of a vacuum deposition system,
Preparing a PBN crucible,
Depositing PG on an outer surface of the PBN crucible to form a first heating layer;
Forming a pattern suitable for heating on the first heating layer formed on the outer surface of the PBN crucible;
Preparing a PBN discharge;
Depositing PG on an outer surface of the PBN emission unit to form a second heating layer;
Forming a pattern suitable for heating on the second heat generating layer formed on the outer surface of the PBN emission unit;
Method for producing a side-emission linear evaporator comprising the step of forming a discharge port of a predetermined size on the side of the PBN discharge.
상기 PBN 방출부의 내부 및 외부 표면에 PG를 증착하여 상기 PBN 방출부의 외부 표면에 제2 발열층과 내부 표면에 제2 보호막을 형성하는 단계와,
상기 PBN 방출부의 외부 표면에 형성된 상기 제2 발열층에 가열에 적합한 패턴을 형성하는 단계와,
상기 제2 발열층과 상기 제2 보호막을 전기적으로 절연시키기 위한 절연부를 형성하는 단계를 더 포함하는 측면 방출형 선형증발원 제조 방법.The method according to claim 16,
Depositing PG on the inner and outer surfaces of the PBN emitter to form a second heating layer on the outer surface of the PBN emitter and a second protective film on the inner surface;
Forming a pattern suitable for heating on the second heat generating layer formed on an outer surface of the PBN emitting portion;
And forming an insulating portion for electrically insulating the second heating layer and the second passivation layer.
상기 선형증발기는 진공 플랜지 및 전원공급용전극을 포함하고, 상기 전원공급용전극을 지지대로 하여 상기 선형증발원이 상기 진공플랜지에 장착되는 것을 특징으로 하는 선형증발기.The method according to claim 18,
The linear evaporator includes a vacuum flange and a power supply electrode, wherein the linear evaporator is mounted on the vacuum flange by supporting the power supply electrode as a support.
상기 전원공급용전극은 상기 PBN 도가니에 형성된 측면 방출구로부터 소정거리 떨어진 위치에 배치되는 것을 특징으로 하는 선형증발기.The method of claim 19,
The power supply electrode is a linear evaporator, characterized in that disposed at a predetermined distance from the side discharge port formed in the PBN crucible.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020100054881A KR101265067B1 (en) | 2010-06-10 | 2010-06-10 | Linear effusion cell with side orifice array, the method of manufacturing linear effusion cell with side orifice array and evaporator |
JP2013514091A JP5732531B2 (en) | 2010-06-10 | 2010-07-30 | Side emission type linear evaporation source, manufacturing method thereof, and linear evaporator |
PCT/KR2010/005031 WO2011155661A1 (en) | 2010-06-10 | 2010-07-30 | Linear effusion cell, method of manufacturing the same and evaporator using the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020100054881A KR101265067B1 (en) | 2010-06-10 | 2010-06-10 | Linear effusion cell with side orifice array, the method of manufacturing linear effusion cell with side orifice array and evaporator |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20110135138A true KR20110135138A (en) | 2011-12-16 |
KR101265067B1 KR101265067B1 (en) | 2013-05-16 |
Family
ID=45098249
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020100054881A KR101265067B1 (en) | 2010-06-10 | 2010-06-10 | Linear effusion cell with side orifice array, the method of manufacturing linear effusion cell with side orifice array and evaporator |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5732531B2 (en) |
KR (1) | KR101265067B1 (en) |
WO (1) | WO2011155661A1 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102012108225A1 (en) | 2011-12-15 | 2013-06-20 | Hyundai Motor Company | Thermoelectric generator of a vehicle |
US10242784B2 (en) | 2015-01-26 | 2019-03-26 | Mando Corporation | Coil assembly |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102045384B1 (en) * | 2015-07-13 | 2019-11-15 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | Evaporation source |
JP6533601B2 (en) * | 2018-02-26 | 2019-06-19 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | Evaporation source |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0585888A (en) * | 1991-09-24 | 1993-04-06 | Nec Corp | Apparatus for emitting molecular beam |
JPH1053868A (en) * | 1996-08-07 | 1998-02-24 | Kao Corp | Thin film forming device |
KR100889758B1 (en) * | 2002-09-03 | 2009-03-20 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | Heating crucible of organic thin film forming apparatus |
DE10256038A1 (en) * | 2002-11-30 | 2004-06-17 | Applied Films Gmbh & Co. Kg | A steamer |
JP2004197116A (en) * | 2002-12-16 | 2004-07-15 | Ge Speciality Materials Japan Kk | Hearth liner for electron beam deposition |
KR20060060994A (en) * | 2004-12-01 | 2006-06-07 | 삼성에스디아이 주식회사 | Deposition source and deposition apparatus therewith |
KR100659762B1 (en) * | 2005-01-17 | 2006-12-19 | 삼성에스디아이 주식회사 | Vapor deposition source and evaporating apparatus and method for deposition using the same |
EP1752555A1 (en) * | 2005-07-28 | 2007-02-14 | Applied Materials GmbH & Co. KG | Vaporizing device |
US8747554B2 (en) * | 2006-06-20 | 2014-06-10 | Momentive Performance Materials Inc. | Multi-piece ceramic crucible and method for making thereof |
US8512806B2 (en) * | 2008-08-12 | 2013-08-20 | Momentive Performance Materials Inc. | Large volume evaporation source |
-
2010
- 2010-06-10 KR KR1020100054881A patent/KR101265067B1/en active IP Right Grant
- 2010-07-30 WO PCT/KR2010/005031 patent/WO2011155661A1/en active Application Filing
- 2010-07-30 JP JP2013514091A patent/JP5732531B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102012108225A1 (en) | 2011-12-15 | 2013-06-20 | Hyundai Motor Company | Thermoelectric generator of a vehicle |
US10242784B2 (en) | 2015-01-26 | 2019-03-26 | Mando Corporation | Coil assembly |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101265067B1 (en) | 2013-05-16 |
JP5732531B2 (en) | 2015-06-10 |
JP2013529258A (en) | 2013-07-18 |
WO2011155661A1 (en) | 2011-12-15 |
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