KR20110110004A - 구리 갈륨 합금 및 그 제조 방법 - Google Patents

구리 갈륨 합금 및 그 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20110110004A
KR20110110004A KR1020110028676A KR20110028676A KR20110110004A KR 20110110004 A KR20110110004 A KR 20110110004A KR 1020110028676 A KR1020110028676 A KR 1020110028676A KR 20110028676 A KR20110028676 A KR 20110028676A KR 20110110004 A KR20110110004 A KR 20110110004A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
concentration
gallium alloy
gallium
alloy
temperature
Prior art date
Application number
KR1020110028676A
Other languages
English (en)
Inventor
모토키 다카하시
도시아키 구마가이
Original Assignee
스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 filed Critical 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤
Publication of KR20110110004A publication Critical patent/KR20110110004A/ko

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C11ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11DDETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D9/00Compositions of detergents based essentially on soap
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22FCHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
    • C22F1/00Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
    • C22F1/08Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working of copper or alloys based thereon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C23C14/3414Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C2202/00Physical properties

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

과제
예를 들어 용해 주조에 의해 제조된 Ga 의 조성비가 비교적 큰 구리 갈륨 합금 덩어리라도, 합금 덩어리 내부에서의 Ga 농도의 편차를 적게 하여, 잘 균열되지 않는 스퍼터링 타깃재에 적합한 구리 갈륨 합금을 제공한다.
해결 수단
갈륨 농도가 몰 농도로 20 % ∼ 40 % 이고, 잔부가 Cu 및 불가피한 불순물로 이루어지는 용해 주조법으로 얻은 구리 갈륨 합금 덩어리를, 원하는 스퍼터링 타깃 형상으로 절단 가공한 후, 500 ℃ ∼ 650 ℃ 의 온도에서 가열 처리한 후, 당해 가열 처리 온도에서 300 ℃ 까지 30 ℃/분 이하의 속도로 냉각시킨다.

Description

구리 갈륨 합금 및 그 제조 방법 {Cu-Ga ALLOY AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF}
본 특허 출원은, 일본 특허출원 제 2010-081676 호 (2010년 3월 31일 출원) 에 기초하는 파리 조약상의 우선권을 주장하는 것으로, 여기에 인용함으로써 상기 출원에 기재된 내용 전체가 본 명세서 중에 편입되는 것으로 한다.
본 발명은, 구리 갈륨 합금 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
구리 갈륨 합금을 용해 주조법에 의해 제조하는 방법은 이미 공지되어 있다 (예를 들어 특허문헌 1 을 참조). 또 Ga 농도가 20 몰% 를 초과하는 구리 갈륨 합금은 부서지기 쉽고, 굽힘 강도가 낮으며, 타깃재로서 사용하여 스퍼터링을 실시하면, 균열이 발생하기 쉬운 것이 알려져 있다 (특허문헌 2).
일본 공개특허공보 2000-73163 호 (2000년 3월 7일 공개) 일본 공개특허공보 2004-43875 호 (2004년 2월 12일 공개)
본 발명은, Ga 농도가 20 몰% 를 초과하는 구리 갈륨 합금을 타깃재로서 사용하는 경우, 균열이 잘 발생하지 않는 구리 갈륨 합금 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 하는 것이다.
즉, 본 발명은, 이하의 바람직한 양태를 포함한다.
〔1〕 최대 굽힘 응력이 100 ㎫ 이상이고, 갈륨 농도의 편차가 1 몰% 이내이며, 갈륨 농도가 몰 농도로 20 % ∼ 40 % 이고, 잔부가 Cu 및 불가피한 불순물로 이루어지는 구리 갈륨 합금.
〔2〕 상기 〔1〕 에 기재된 구리 갈륨 합금으로 이루어지는 스퍼터링 타깃.
〔3〕 갈륨 농도가 몰 농도로 20 % ∼ 40 % 이고, 잔부가 Cu 및 불가피한 불순물로 이루어지는 구리 갈륨 합금을 500 ℃ ∼ 650 ℃ 의 온도에서 가열 처리하는 공정, 및 당해 가열 처리 온도에서 300 ℃ 까지 30 ℃/분 이하의 속도로 냉각시키는 공정을 포함하는 구리 갈륨 합금의 제조 방법.
〔4〕 상기 〔3〕 에 기재된 방법을 포함하는 스퍼터링 타깃의 제조 방법.
본 발명의 방법으로 얻어지는 구리 갈륨 합금은, 갈륨 농도가 몰 농도로 20 % ∼ 40 % 로 고농도이면서, 균열이 잘 발생하지 않는다. 이 때문에, 우수한 타깃재로서 적용할 수 있다.
도 1 은, 구리 갈륨 합금 내의 갈륨 농도의 편차를 구하기 위한 측정점을 나타내는 설명도이다.
도 2 는, 3 점 굽힘 시험을 나타내는 설명도이다.
본 발명의 구리 갈륨 합금은, 갈륨 농도가 몰 농도로 20 % ∼ 40 % 이고, 잔부가 Cu 및 불가피한 불순물로 이루어지는 구리 갈륨 합금이며, 최대 굽힘 응력이 100 ㎫ 이상이고, 갈륨 농도의 편차가 1 몰% 이내이다.
본 발명의 구리 갈륨 합금이 함유하는 불가피한 불순물로는, P, S 및 Ag 등을 들 수 있다.
상기 최대 굽힘 응력은, 공지된 3 점 굽힘 시험기를 사용하여, 크로스 헤드 스피드를 1 ㎜/분으로 하여, 3 점 굽힘 시험을 실시했을 때의 최대 응력이다. 상기 최대 굽힘 응력으로서 바람직하게는 150 ㎫ 이상이다. 또한, 상기 최대 굽힘 응력으로서 바람직하게는 500 ㎫ 이하이고, 보다 바람직하게는 300 ㎫ 이하이다.
상기 갈륨 농도의 편차는, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 측정 시료인 합금 덩어리의 표리 3 지점 (합계 6 지점) 에 대해서, 형광 X 선 분석 장치를 사용하여 갈륨 농도를 측정하고, 얻어진 측정치의 최대치와 최소치의 차이다.
본 발명의 구리 갈륨 합금의 갈륨 농도는, 상기 6 지점의 측정 결과의 평균으로, 바람직하게는 25 % ∼ 40 % 이다.
이러한 구리 갈륨 합금은, 갈륨 농도가 몰 농도로 20 % ∼ 40 % (바람직하게는 25 % ∼ 40 %) 이고, 잔부가 Cu 및 불가피한 불순물로 이루어지는 구리 갈륨 합금을 500 ℃ ∼ 650 ℃ 의 온도에서 가열 처리한 후, 그 가열 처리 온도에서 300 ℃ 까지 30 ℃/분 이하의 속도로 냉각시킴으로써 얻을 수 있다.
본 발명에 있어서 상기의 가열 처리에 제공하는 구리 갈륨 합금은 공지된 방법으로 제조한 것을 사용할 수 있다. 그 주된 방법으로는 용해 주조법, 분말 야금 (소결, 용결) 법 등을 들 수 있는데, 입수의 용이성, 열처리 효과의 발현성의 점에서 용해 주조법으로 얻어진 구리 갈륨이 바람직하게 사용된다.
구리 갈륨 합금 (덩어리) 의 가열 처리는, 통상 약 500 ℃ ∼ 약 650 ℃ 의 온도에서 실시한다. 갈륨 농도가 약 20 % ∼ 약 30 % 인 경우에는 바람직하게는 550 ℃ ∼ 약 650 ℃ 에서, 갈륨 농도가 약 30 % ∼ 약 35 % 인 경우에는 바람직하게는 약 500 ℃ ∼ 약 600 ℃ 에서, 그 가열 처리를 실시한다. 가열 처리의 상한 온도는, 가열 처리에 제공하는 구리 갈륨 합금의 고상선보다 낮은 온도에서 실시한다. 고상선을 초과하는 경우에는 갈륨 농도의 편차가 커진다.
가열 처리는, 목적으로 하는 온도까지 합금이 가열된 후, 그 온도로 유지하여 실시해도 된다. 유지하는 시간도 포함한 가열 처리 시간은, 가열 처리 온도나 가열 처리에 제공하는 구리 갈륨 합금 (덩어리) 의 크기에 의존하고, 작업성, 제조 비용 등의 관점에서, 통상 약 1 일 이내, 바람직하게는 약 1 시간 ∼ 약 12 시간, 보다 바람직하게는 약 2 시간 ∼ 약 12 시간이다. 가열 처리의 분위기는 특별히 제한되는 것은 아니고, 대기 분위기면 된다.
본 발명에 있어서는, 가열 처리 후의 구리 갈륨 합금을 특정 온도까지는 특정 온도 조건에서 냉각시킨다. 구체적으로는 가열 처리 온도에서 300 ℃ 까지의 냉각을 30 ℃/분 이하의 속도로 냉각시킨다. 냉각 속도로서 바람직하게는 5 ℃/분 ∼ 30 ℃/분이다. 냉각 속도가 상기 범위를 벗어나면, 얻어진 구리 갈륨 합금이 균열되기 쉬워진다.
상기 가열 처리 후의 구리 갈륨 합금의 냉각 방법으로는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어 가열로 내에서 온도 조정을 하면서 송풍 혹은 방랭에 의해 냉각시키면 된다.
실시예
이하 본 발명을 실시예에 의해 더욱 상세하게 설명하는데, 본 발명은 이것에 의해 한정되는 것은 아니다.
[실시예 1]
용해 온도 930 ℃ 의 구리 갈륨 합금 용탕 (溶湯) (갈륨 농도가 32 몰%) 을 흑연 주형의 중앙부에 있는 탕 입구로부터 흘려 넣는 방식의 용해 주조법에 의해 얻어진 두께 50 ㎜, 폭 250 ㎜, 길이 500 ㎜ 의 구리 갈륨 합금 덩어리로부터, 와이어 방전 가공에 의해 두께 10 ㎜, 폭 40 ㎜, 길이 140 ㎜ 의 사이즈로 절단하여, 구리 갈륨 합금을 시험편으로서 제작하였다. 이 시험편을 전기로 중에서 약 2 ℃/분의 속도로 표 1 에 기재된 가열 처리 온도까지 승온하고, 이어서 2 시간, 그 가열 처리 온도에서 유지하였다. 이와 같이 하여 가열 처리한 시험편을 전기로 내에 유지한 채로, 냉각용 공기를 도입하여, 표 1 에 나타내는 냉각 속도로 시험편의 온도를 300 ℃ 가 될 때까지 냉각시키고, 그 후 대기 중에 꺼내어 자연 방랭시켰다.
이와 같이 하여 얻어진 가열 처리 전과 가열 처리 후의 시험편의 갈륨 농도를 형광 X 선 분석 장치 (시마즈 제작소 EDX-700L) 로 측정하였다. 측정점은 도 1 에 나타내는 바와 같이, 표리 3 점, 합계 6 점을 실시하고, 그 중에서의 최대치와 최소치의 차이를 편차로 하였다.
또, 상기 방법으로 얻은 시험편을 사용하여, 이하에 나타내는 방법에 의한 3 점 굽힘 시험을 실시하였다. 그 결과를 표 1 에 나타낸다. 여기서 나타내는 최대 굽힘 응력이란, 시험편을 일정 거리에 배치된 2 지지점 상에 두고, 지지점 사이 중앙의 한 점에 하중을 가하였을 때의 최대 굽힘 응력이다. 도 2 에 나타내는 바와 같이, 3 점 굽힘 시험에 있어서의 시험편의 크기는 40 ㎜ × 140 ㎜ × 10 ㎜, 크로스 헤드 스피드는 1 ㎜/분, 지지봉과 지지점봉은 각각 12.7 ㎜ø × 50 ㎜ 였다.
[비교예 1] ∼ [비교예 3]
가열 처리 온도, 냉각 속도를 표 1 에 기재된 조건으로 바꾼 것 이외에는 실시예 1 과 동일 방법으로 시험편을 작성하고, 시험편의 균열 상태, 굽힘 강도, Ga 농도의 편차를 조사하였다. 그 결과를 표 1 에 기재한다.
Figure pat00001
비교예 1 은, 고온에서 가열 처리한 결과, 가열 처리 후의 최대 굽힘 응력은 커졌지만, 갈륨 농도의 편차가 커져, 스퍼터링시에 균열이 발생하기 쉽다. 비교예 2 는, 저온에서 가열 처리한 결과, 가열 처리 후의 최대 굽힘 응력은 충분히 커지지 않아, 스퍼터링시에 균열이 발생하기 쉽다. 비교예 3 은 냉각 속도를 크게 한 결과, 냉각을 끝낸 시점에서 이미 균열을 일으켰다.
본 발명에 의하면, 얻어진 구리 갈륨 합금은 갈륨 농도가 몰 농도로 20 % ∼ 40 % 로 고농도이면서, 최대 굽힘 응력이 100 ㎫ 이상이고, 합금 덩어리 내부의 갈륨 농도의 편차가 1 몰% 이내로 적다. 이 때문에, 스퍼터링시에 균열이 잘 발생하지 않아, 우수한 스퍼터링 타깃의 제조 등의 폭넓은 산업상의 이용이 가능하다.
1 : 시험편

Claims (4)

  1. 최대 굽힘 응력이 100 ㎫ 이상이고, 갈륨 농도의 편차가 1 몰% 이내이며, 갈륨 농도가 몰 농도로 20 % ∼ 40 % 이고, 잔부가 Cu 및 불가피한 불순물로 이루어지는 구리 갈륨 합금.
  2. 제 1 항에 기재된 구리 갈륨 합금으로 이루어지는 스퍼터링 타깃.
  3. 갈륨 농도가 몰 농도로 20 % ∼ 40 % 이고, 잔부가 Cu 및 불가피한 불순물로 이루어지는 구리 갈륨 합금을 500 ℃ ∼ 650 ℃ 의 온도에서 가열 처리하는 공정, 및 당해 가열 처리 온도에서 300 ℃ 까지 30 ℃/분 이하의 속도로 냉각시키는 공정을 포함하는 구리 갈륨 합금의 제조 방법.
  4. 제 3 항에 기재된 방법을 포함하는 스퍼터링 타깃의 제조 방법.
KR1020110028676A 2010-03-31 2011-03-30 구리 갈륨 합금 및 그 제조 방법 KR20110110004A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2010-081676 2010-03-31
JP2010081676 2010-03-31

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20110110004A true KR20110110004A (ko) 2011-10-06

Family

ID=44695827

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020110028676A KR20110110004A (ko) 2010-03-31 2011-03-30 구리 갈륨 합금 및 그 제조 방법

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2011225986A (ko)
KR (1) KR20110110004A (ko)
CN (1) CN102206770A (ko)
TW (1) TW201202446A (ko)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5818139B2 (ja) * 2010-06-28 2015-11-18 日立金属株式会社 Cu−Ga合金ターゲット材およびその製造方法
KR20130094352A (ko) * 2011-08-29 2013-08-23 제이엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤 Cu-Ga 합금 스퍼터링 타깃 및 그 제조 방법
JP5891699B2 (ja) 2011-10-13 2016-03-23 コベルコ建機株式会社 作業機械
JP5750393B2 (ja) * 2012-03-28 2015-07-22 Jx日鉱日石金属株式会社 Cu−Ga合金スパッタリングターゲット及びその製造方法
CN103447535B (zh) * 2012-05-30 2015-09-09 宁波江丰电子材料股份有限公司 靶材的制作方法
CN103225066B (zh) * 2012-12-28 2015-04-29 中国神华能源股份有限公司 一种溅射用铜镓合金靶材及其制备方法
JP5828350B2 (ja) 2014-04-11 2015-12-02 三菱マテリアル株式会社 円筒型スパッタリングターゲット用素材の製造方法
TWI573882B (zh) * 2016-08-10 2017-03-11 中國鋼鐵股份有限公司 銅鎵合金靶材及其製造方法與應用
CN109136635A (zh) * 2018-11-13 2019-01-04 江苏迪丞光电材料有限公司 铜镓合金溅射靶材的制备方法及靶材
CN114086132B (zh) * 2021-11-26 2023-11-17 先导薄膜材料(广东)有限公司 一种铜镓靶材及其制备方法与应用

Also Published As

Publication number Publication date
CN102206770A (zh) 2011-10-05
JP2011225986A (ja) 2011-11-10
TW201202446A (en) 2012-01-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20110110004A (ko) 구리 갈륨 합금 및 그 제조 방법
CN108193088A (zh) 一种析出强化型AlCrFeNiV体系高熵合金及其制备方法
KR20180040513A (ko) 적층조형용 Ni계 초합금분말
TW201520346A (zh) 銅合金、銅合金薄板及銅合金之製造方法
JP2012067386A (ja) スパッタリング用チタンターゲット
CN106893951A (zh) 铜基块体非晶合金复合材料及其制备方法
CN106536769A (zh) 铸造用模具材料及Cu‑Cr‑Zr合金原材料
CN112011712A (zh) 新型轻质难熔高熵合金的成分配方及制备工艺
CN108350530A (zh) 铜合金材料
CN103325435B (zh) 用于热电偶补偿导线的合金材料及制备方法
CN110184510A (zh) 一种新型高导热铝合金材料
JP2012193423A (ja) Cu−Ga合金材およびその製造方法
US10047415B2 (en) Metallic wire rod comprising iridium-containing alloy
CN110438364A (zh) 钯钒精密高阻合金及其制备方法
KR20120105964A (ko) 산화물 분산강화형 백금-로듐 합금의 제조방법
CN108026611A (zh) 电子电气设备用铜合金、电子电气设备用组件、端子及汇流条
EP3486340B1 (en) Aluminum alloy plastic working material and production method therefor
CN114134355A (zh) 一种难熔高熵合金的强韧化调控方法
CN103614578A (zh) 一种钯钨系合金的制备方法
JP4607440B2 (ja) チタン合金線材または棒材,チタン合金部材,およびチタン合金線材または棒材の製造方法
JP2014189831A (ja) 銅合金
JP2010275218A (ja) 歯科用合金材料及びその製造方法
Su et al. Effect of heat treatment on microstructures and mechanical properties in a full lamellar PM TiAl alloy
KR20170059435A (ko) 주조용 몰드재 및 Cu-Cr-Zr 합금 소재
JP2017002368A (ja) 銅合金材

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination