KR20110025182A - 3-메틸-2-티오펜카르복실산의 제조 방법 - Google Patents
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- IFLKEBSJTZGCJG-UHFFFAOYSA-N 3-methylthiophene-2-carboxylic acid Chemical compound CC=1C=CSC=1C(O)=O IFLKEBSJTZGCJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 31
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 16
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 21
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 claims abstract description 20
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 claims abstract description 16
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 claims abstract description 16
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 14
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims abstract description 5
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims abstract description 5
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 27
- QENGPZGAWFQWCZ-UHFFFAOYSA-N 3-Methylthiophene Chemical compound CC=1C=CSC=1 QENGPZGAWFQWCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N bromoethane Chemical compound CCBr RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000012320 chlorinating reagent Substances 0.000 claims description 8
- NAMYKGVDVNBCFQ-UHFFFAOYSA-N 2-bromopropane Chemical compound CC(C)Br NAMYKGVDVNBCFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical group ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 4
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical group IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims 2
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 claims 2
- QERYCTSHXKAMIS-UHFFFAOYSA-N thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CS1 QERYCTSHXKAMIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 32
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 21
- KQFADYXPELMVHE-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-3-methylthiophene Chemical compound CC=1C=CSC=1Cl KQFADYXPELMVHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 7
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- -1 alkali metal salt Chemical class 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 5
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JRNVZBWKYDBUCA-UHFFFAOYSA-N N-chlorosuccinimide Chemical compound ClN1C(=O)CCC1=O JRNVZBWKYDBUCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- YYJBWYBULYUKMR-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-3-methylthiophene Chemical compound CC=1C=CSC=1Br YYJBWYBULYUKMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 3
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trichloroethane Chemical compound ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 1,1-Diethoxyethane Chemical compound CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical compound C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 230000020477 pH reduction Effects 0.000 description 2
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 2
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N thioglycolic acid Chemical compound OC(=O)CS CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAAZPARNPHGIKF-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromoethane Chemical compound BrCCBr PAAZPARNPHGIKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- ULYZAYCEDJDHCC-UHFFFAOYSA-N isopropyl chloride Chemical compound CC(C)Cl ULYZAYCEDJDHCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- SKTCDJAMAYNROS-UHFFFAOYSA-N methoxycyclopentane Chemical compound COC1CCCC1 SKTCDJAMAYNROS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 239000000575 pesticide Substances 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
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- C07D333/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom
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- C07D333/38—Carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
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Abstract
본 발명은 3-메틸-2-티오펜카르복실산의 제조 방법을 제공한다.
화학식 Ι로 표시되는 화합물과 마그네슘을 할로겐화알킬의 존재하에 반응시켜서, 화학식 Ⅱ로 표시되는 그리냐르 시약을 제조하고, 화학식 Ⅱ의 그리냐르 시약과 이산화탄소를 반응시킨 후, 반응물을 산성화 처리하여 3-메틸-2-티오펜카르복실산을 제조하는 방법이다.
<화학식 Ι>
(식 중, X는 염소 원자 또는 브롬 원자임)
<화학식 Ⅱ>
(식 중, X는 상술한 바와 같음)
화학식 Ι로 표시되는 화합물과 마그네슘을 할로겐화알킬의 존재하에 반응시켜서, 화학식 Ⅱ로 표시되는 그리냐르 시약을 제조하고, 화학식 Ⅱ의 그리냐르 시약과 이산화탄소를 반응시킨 후, 반응물을 산성화 처리하여 3-메틸-2-티오펜카르복실산을 제조하는 방법이다.
<화학식 Ι>
(식 중, X는 염소 원자 또는 브롬 원자임)
<화학식 Ⅱ>
(식 중, X는 상술한 바와 같음)
Description
본 발명은 의(醫)농약의 제조 중간체 등으로서 유용한 3-메틸-2-티오펜카르복실산의 제조 방법에 관한 것이다.
특허문헌 1에는 3,4-디할로부탄-2-온과 티오글리콜산류를 염기의 존재하에 반응시켜서 3-메틸-2-티오펜카르복실산을 제조하는 방법이 기재되어 있다. 그러나, 이 방법은 악취물인 티오글리콜산의 사용 등, 공업적 실시에는 문제가 있다.
또한, 비특허문헌 1에는 3-메틸티오펜을 브롬화하여 얻은 2-브로모-3-메틸티오펜의 그리냐르 시약을 제조한 후, 이산화탄소와 반응시켜서 3-메틸-2-티오펜카르복실산을 제조하는 방법이 기재되어 있다. 그러나, 이 방법은 3-메틸-2-티오펜카르복실산의 제조 수율이 충분한 것은 아니다.
J. Am. Chem. Soc. 73, 2779-2781 (1951)
3-메틸-2-티오펜카르복실산은 의농약의 제조 중간체로서 유용하고, 간편하면서 효율적으로 환경을 배려한 수법으로 보다 경제적으로 제조하는 것이 요구되고 있다. 후술하는 화학식 Ι의 화합물을 후술하는 화학식 Ⅱ의 그리냐르 시약으로 하고, 계속해서 이산화탄소와 반응시켜서 3-메틸-2-티오펜카르복실산을 얻는 제조 루트는 공업적 제조법에의 이용 가치가 높은 것이지만, 통상의 반응 조건으로서는 비교적 반응성이 높은 2-브로모-3-메틸티오펜을 출발 물질로서 이용하더라도, 상당하는 그리냐르 시약으로의 전화율은 만족할 수 있는 것은 아니고, 결과적으로 3-메틸-2-티오펜카르복실산은 고수율로 얻어지지 않는다. 또한, 저렴한 가격인 2-클로로-3-메틸티오펜을 출발 물질로서 이용한 경우에는 반응성이 낮기 때문에, 상당하는 그리냐르 시약이 거의 생성되지 않는다는 과제가 있었다.
본 발명의 목적은 간편하면서 효율적으로 환경을 배려한 수법에 의해 고수율로 3-메틸-2-티오펜카르복실산을 제조하는 방법을 제공하는 것에 있다.
본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위해 연구한 결과, 그리냐르 시약의 제조 반응을 할로겐화알킬의 존재하에 행한 경우, 그리냐르 시약으로의 전화율이 특별히 향상되어, 3-메틸-2-티오펜카르복실산이 고수율로 얻어진다는 지견을 얻고, 또한 2-클로로-3-메틸티오펜과 같은 반응성이 낮은 화합물을 출발 물질로서 이용한 경우에도 동일한 효과가 얻어진다는 지견을 얻어서, 본 발명을 완성시켰다.
즉, 본 발명은 화학식 Ⅰ로 표시되는 화합물과 마그네슘을 할로겐화알킬의 존재하에 반응시켜서, 화학식 Ⅱ로 표시되는 그리냐르 시약을 제조하고, 화학식 Ⅱ의 그리냐르 시약과 이산화탄소를 반응시킨 후, 반응물을 산성화 처리하는 것을 특징으로 하는 3-메틸-2-티오펜카르복실산을 제조하는 방법이다.
<화학식 Ⅰ>
(식 중, X는 염소 원자 또는 브롬 원자임)
<화학식 Ⅱ>
(식 중, X는 상술한 바와 같음)
본 발명에 따르면, 의농약의 제조 중간체 등으로서 유용한 3-메틸-2-티오펜카르복실산을 간편하면서 효율적으로 환경을 배려한 수법으로 보다 경제적으로 제조할 수 있다.
이하에, 본 발명에 관련된 3-메틸-2-티오펜카르복실산의 제조 방법에 관하여 반응 플로우(공정)를 나타내어 상술한다.
<반응식 1>
화학식 중에서, X는 상술한 바와 같다.
제1 공정은 화학식 Ι의 화합물과 마그네슘을 할로겐화알킬의 존재하에 반응시켜서 화학식 Ⅱ의 그리냐르 시약을 제조하는 반응이고, 할로겐화알킬과 마그네슘을 반응시킴으로써 마그네슘을 활성화시켜 반응성을 향상시키고, 원하는 그리냐르 시약을 효율적으로 생성시키는 반응이다. 이 반응에서의 화학식 Ι의 화합물, 마그네슘 및 할로겐화알킬의 첨가 순서는 일괄 첨가일 수도 있고, 임의의 첨가 순서, 예를 들면 마그네슘과 할로겐화알킬을 미리 반응시켜 놓고, 거기에 할로겐화알킬(먼저 첨가한 것과 동종일 수도 있고 상이한 종류일 수도 있음)과 화학식 Ι의 화합물을 동시에 또는 따로따로 첨가하는 방법이나, 화학식 Ι의 화합물과 마그네슘의 혼합물에 할로겐화알킬을 서서히 적하하는 방법 등일 수도 있다.
제1 공정에서 사용되는 할로겐화알킬로서는 염소 원자, 브롬 원자 또는 요오드 원자로 치환된 탄소수 1 내지 6의 알킬을 들 수 있다. 구체적으로는 요오드화메틸, 브롬화에틸, 브롬화이소프로필, 이브롬화에틸렌, 염화이소프로필 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 요오드화메틸, 브롬화에틸 또는 브롬화이소프로필이 바람직하고, 브롬화에틸이 더욱 바람직하다. 또한, 할로겐화알킬은 1종 단독으로 이용할 수도 있고, 2종 이상을 적절하게 선택하여 병용할 수도 있다.
제2 공정은 제1 공정에서 얻어진 화학식 Ⅱ의 그리냐르 시약과 이산화탄소를 반응시키고, 반응물을 산성화 처리함으로써, 3-메틸-2-티오펜카르복실산을 생성시키는 반응이다.
본 발명에서 말하는 산성화 처리란, 산 또는 산성 수용액 등의 첨가에 의해 계 내를 산성으로 하는 것을 의미한다.
반응 종료 후, 3-메틸-2-티오펜카르복실산은 필요에 따라서 통상법에 의해 정제를 실시할 수도 있다. 예를 들면, 알칼리 금속염 또는 알칼리 토류 금속염을 형성시킴으로써 정제할 수 있다.
본 발명의 제조 방법은 상기 제1 공정 및 제2 공정에 의해 3-메틸-2-티오펜카르복실산을 제조하는 방법이지만, 통상적으로 화학식 Ι의 화합물과 마그네슘을 할로겐화알킬의 존재하에 반응시키고, 이어서 이산화탄소와 반응시킨 후, 반응물을 산성화 처리하는 절차를 연속하여 행할 수 있다.
본 발명의 제조 방법은 제1 공정과 제2 공정을 통하여 통상 용매의 존재하에 행할 수 있다. 용매로서는, 반응에 악영향을 끼치지 않는 것이면 특별히 한정되는 것은 없고, 예를 들면 디에틸에테르, 테트라히드로푸란, 테트라히드로피란, 1,4-디옥산, 시클로펜틸메틸에테르, 디에톡시에탄, 메틸 t-부틸에테르와 같은 에테르류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌과 같은 방향족 탄화수소류; 노르말파라핀, 이소파라핀, 나프텐과 같은 포화 탄화수소류 등을 들 수 있다. 용매로서는, 이들의 1종 또는 2종 이상을 적절하게 선택할 수 있다. 이들 용매 중에서는 에테르류가 바람직하고, 테트라히드로푸란 또는 테트라히드로피란이 더욱 바람직하다. 또한, 용매로서는 필요에 따라서 증류 또는 탈수제로 탈수한 것을 사용할 수도 있다. 용매의 사용량은 원료, 용매의 종류, 반응 조건의 차이에 의해 일률적으로 규정할 수 없지만, 통상적으로 화학식 Ι로 표시되는 화합물 1 중량부에 대하여 1 내지 30 중량부, 바람직하게는 2 내지 10 중량부이다.
제1 공정 및 제2 공정은 물과 접촉하면 수율이 저하되기 때문에, 질소, 헬륨, 아르곤과 같은 불활성 가스 분위기하에 행하는 것이 바람직하다.
본 발명에서 화학식 Ι의 화합물, 마그네슘, 할로겐화알킬, 이산화탄소 각각의 사용량은 원료, 용매의 종류, 반응 조건의 차이 등에 의해 일률적으로 규정할 수 없지만, 통상적으로 화학식 Ι의 화합물 1 mol에 대하여 이하의 비율이다. 즉, 마그네슘이 1.0 내지 3.0 mol, 바람직하게는 1.0 내지 1.50 mol의 비율이고, 할로겐화알킬이 0.01 내지 0.3 mol, 바람직하게는 0.05 내지 0.2 mol의 비율이고, 이산화탄소가 1.0 내지 3.0 mol, 바람직하게는 1.0 내지 2.0 mol의 비율이다.
본 발명에서의 반응 온도 및 반응 시간은 화학식 Ι로 표시되는 화합물, 마그네슘, 할로겐화알킬, 이산화탄소 및 용매의 각각의 종류, 사용 형태, 첨가 순서, 사용량 등에 따라서 상이하며, 일률적으로 규정할 수 없다.
그러나, 제1 공정에서의 반응 온도는 통상적으로 0 내지 150 ℃, 바람직하게는 0 내지 100 ℃이고, 반응 시간은 0.1 내지 24 시간, 바람직하게는 1 내지 10 시간이다.
또한, 제2 공정에서의 반응 온도는 통상적으로 0 내지 150 ℃, 바람직하게는 0 내지 100 ℃이고, 반응 시간은 0.1 내지 24 시간, 바람직하게는 0.5 내지 10 시간이다.
본 발명에서의 여러 가지 구성 요소는 상술한 복수의 예시나 조건 중에서 적절하게 선택하고, 또한 서로 조합할 수 있다. 즉, 화학식 Ι로 표시되는 화합물, 마그네슘, 할로겐화알킬, 이산화탄소 및 용매의 각각의 종류, 사용 형태, 첨가순서 또는 사용량; 반응 온도; 반응 시간 등은 상술한 통상 범위의 예시나 조건과, 바람직한 범위의 예시나 조건 중에서 적절하게 선택하고, 또한 서로 조합할 수 있다.
화학식 Ι의 화합물은 이하의 방법에 의해 제조할 수 있다.
본 발명에서는 화학식 Ι의 화합물로서, 2-클로로-3-메틸티오펜을 사용하면 경제적이고, 공업적 제조법으로서의 이용 가치가 보다 높아진다.
2-클로로-3-메틸티오펜은 여러 가지 방법으로 제조할 수 있지만, 3-메틸티오펜과 염소화제를 반응시켜서 제조할 수 있다.
3-메틸티오펜과 염소화제를 반응시키고, 2-클로로-3-메틸티오펜을 제조하는 반응은 무용매하에 또는 용매 존재하에, 0 내지 150 ℃의 반응 온도, 0.1 내지 24 시간의 반응 시간으로 행할 수 있다.
2-클로로-3-메틸티오펜을 제조하는 반응에서 사용되는 염소화제의 구체예로서는, N-클로로숙신이미드(NCS), 염화술푸릴, 염소 등을 들 수 있다. 이들 중에서, 공업적으로는 염화술푸릴 또는 염소가 바람직하다.
2-클로로-3-메틸티오펜을 제조하는 반응에서, 염소화제의 사용량은 원료, 용매의 종류, 반응 조건 등의 차이에 따라서 일률적으로 규정할 수 없지만, 통상적으로 3-메틸티오펜 1 당량에 대하여 1.0 내지 5.0 당량, 바람직하게는 1.0 내지 1.5 당량이다.
2-클로로-3-메틸티오펜을 제조하는 반응을 용매 존재하에 행하는 경우에 사용되는 용매로서는, 반응에 악영향을 끼치지 않는 것이면 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 메탄올, 에탄올과 같은 알코올류; 아세트산과 같은 산류; 아세토니트릴과 같은 니트릴류; N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드와 같은 아미드류; 염화메틸렌, 클로로포름, 1,2-디클로로에탄, 1,1,2-트리클로로에탄과 같은 할로겐화 탄화수소류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 니트로벤젠, 클로로벤젠과 같은 방향족 탄화수소류; 노르말파라핀, 이소파라핀, 나프텐과 같은 포화 탄화수소류; 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산프로필과 같은 에스테르류; 디에틸에테르, 1,4-디옥산, 테트라히드로푸란, 1,2-디메톡시에탄과 같은 에테르류; 피리딘, 퀴놀린과 같은 질소 함유 방향족 화합물 등을 들 수 있다. 용매로서는, 이들의 1종 또는 2종 이상을 적절하게 선택할 수 있다. 또한 본 반응은 필요에 따라서 질소, 헬륨, 아르곤과 같은 불활성 가스 분위기하에 행할 수 있다.
2-클로로-3-메틸티오펜의 제조 반응을 용매 존재하에 행하는 경우, 용매의 사용량은 원료, 용매의 종류, 반응 조건 등의 차이에 따라서 일률적으로 규정할 수 없지만, 통상적으로 3-메틸티오펜 1 중량부에 대하여 1 내지 30 중량부, 바람직하게는 1 내지 10 중량부이다.
이하에 본 발명의 바람직한 실시 형태의 일례를 열거하지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니다.
(1) 할로겐화알킬의 존재하에 화학식 Ι의 화합물을 마그네슘과 반응시켜서 화학식 Ⅱ의 그리냐르 시약을 제조하고, 이것을 이산화탄소와 반응시킨 후, 반응물을 산성화 처리하여 3-메틸-2-티오펜카르복실산을 제조하는 방법.
(2) 화학식 Ι의 화합물이 2-클로로-3-메틸티오펜인 상기 (1)에 기재된 방법.
(3) 2-클로로-3-메틸티오펜이 3-메틸티오펜과 염소화제를 반응시켜서 얻은 것인 것을 특징으로 하는, 상기 (2)에 기재된 방법.
(4) 염소화제가 염화술푸릴 또는 염소인, 상기 (3)에 기재된 방법.
(5) 할로겐화알킬이 요오드화메틸, 브롬화에틸 또는 브롬화이소프로필인, 상기 (1) 내지 (4) 중 어느 하나에 기재된 방법.
다음에 본 발명의 실시예를 기재하지만, 본 발명은 이들에 한정하여 해석되는 것은 아니다.
<실시예>
(실시예 1)
교반기, 온도계, 냉각관 및 적하 깔때기를 구비한 사구 플라스크에, 질소 분위기하에 마그네슘 11.8 g과 테트라히드로푸란 250 mL를 투입한 후에, 브롬화에틸 2.05 g을 투입하고, 가열 환류하에 15분간 반응시켰다. 그 후, 환류 상태를 유지하면서 2-클로로-3-메틸티오펜 50 g과 브롬화에틸 4.1 g의 혼합액을 적하하고, 가열 환류하에 30분간 반응시켰다. 그 후, 브롬화에틸 4.11 g을 투입하고, 가열 환류하에 1 시간 더 반응시켰다.
얻어진 반응액에 25 내지 35 ℃에서 이산화탄소를 도입하고, 실온에서 2 시간 반응시켰다. 얻어진 반응액에 물을 투입 후, 진한 염산을 가하여, 반응액을 pH 2이하로 조정하였다. 그 후, 수층을 분액 제거하여, 얻어진 유기층에 물을 가한 후, 용매를 증류 제거하여, 3-메틸-2-티오펜카르복실산의 슬러리를 얻었다. 얻어진 슬러리를 여과, 건조하여, 3-메틸-2-티오펜카르복실산 50.5 g을 얻었다.
(실시예 2)
교반기, 온도계, 냉각관 및 적하 깔때기를 구비한 사구 플라스크에, 질소 분위기하에 마그네슘 1.65 g과 테트라히드로푸란 50 mL를 투입한 후에, 브롬화이소프로필 0.69 g을 투입하고, 가열 환류하에 30분간 반응시켰다. 그 후, 환류 상태를 유지하면서 2-브로모-3-메틸티오펜 10 g을 적하하여, 가열 환류하에 30분간 반응시켰다.
얻어진 반응액에 25 내지 35 ℃에서 이산화탄소를 도입하여, 실온에서 2 시간 반응시켰다. 얻어진 반응액에 물을 투입 후, 진한 염산을 가하고, 반응액을 pH 2 이하로 조정하였다. 그 후, 아세트산에틸로써 추출하고, 수층을 분액 제거하였다. 유기층을 황산마그네슘으로 건조시킨 후, 용매를 증류 제거하여, 3-메틸-2-티오펜카르복실산 7.95 g을 얻었다.
(참고예)
2-클로로-3-메틸티오펜의 합성
교반기, 온도계, 냉각관 및 적하 깔때기를 구비한 사구 플라스크에, 3-메틸티오펜 20 g을 투입, 15 ℃ 이하에서 염화술푸릴 28.6 g을 적하하고, 15 ℃ 이하에서 1 시간 반응시켰다.
얻어진 반응액에 아세트산에틸을 가하여 희석한 후, 수세하고, 이어서 수산화나트륨 수용액(10 질량％ 수용액)으로써 세정하여, 2-클로로-3-메틸티오펜의 아세트산에틸 용액을 얻었다. 얻어진 용액을 감압 증류하고, 비점 84 내지 86 ℃/ 120 내지 133 hPa의 2-클로로-3-메틸티오펜 24.7 g을 얻었다.
본 발명의 제조 방법은 의농약의 제조 중간체 등으로서 유용한 3-메틸-2-티오펜카르복실산을 간편하면서 효율적으로 환경을 배려한 수법으로 보다 저렴한 가격으로 제조할 수 있어서, 산업상 유용하다.
또한, 2008년 6월 26일에 출원된 일본 특허 출원 제2008-167970호의 명세서, 특허 청구의 범위 및 요약서의 전체 내용을 여기에 인용하여, 본 발명의 명세서의 개시로서 도입하는 것이다.
Claims (6)
- 화학식 Ι로 표시되는 화합물과 마그네슘을 할로겐화알킬의 존재하에 반응시켜서 화학식 Ⅱ로 표시되는 그리냐르 시약을 제조하고, 화학식 Ⅱ의 그리냐르 시약과 이산화탄소를 반응시킨 후, 반응물을 산성화 처리하는 것을 특징으로 하는 3-메틸-2-티오펜카르복실산을 제조하는 방법.
<화학식 Ι>
(식 중, X는 염소 원자 또는 브롬 원자임)
<화학식 Ⅱ>
(식 중, X는 상술한 바와 같음) - 제1항에 있어서, 상기 화학식 Ι로 표시되는 화합물이, 화학식 Ι 중의 X가 염소 원자인 화합물인 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 할로겐화알킬이 요오드화메틸, 브롬화에틸 또는 브롬화이소프로필인 방법.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 화학식 Ι로 표시되는 화합물이 3-메틸티오펜과 할로겐화제를 반응시켜서 얻은 것인 방법.
- 제4항에 있어서, 상기 할로겐화제가 염소화제인 방법.
- 제5항에 있어서, 상기 염소화제가 염화술푸릴 또는 염소인 방법.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008167970 | 2008-06-26 | ||
| JPJP-P-2008-167970 | 2008-06-26 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20110025182A true KR20110025182A (ko) | 2011-03-09 |
| KR101583851B1 KR101583851B1 (ko) | 2016-01-08 |
Family
ID=41444588
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020107029110A KR101583851B1 (ko) | 2008-06-26 | 2009-06-25 | 3-메틸-2-티오펜카르복실산의 제조 방법 |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8350057B2 (ko) |
| EP (1) | EP2298756B1 (ko) |
| JP (1) | JP5578809B2 (ko) |
| KR (1) | KR101583851B1 (ko) |
| CN (1) | CN102076677B (ko) |
| AU (1) | AU2009263303B2 (ko) |
| BR (1) | BRPI0913890A2 (ko) |
| DK (1) | DK2298756T3 (ko) |
| HU (1) | HUE032685T2 (ko) |
| IL (1) | IL210278A0 (ko) |
| PL (1) | PL2298756T3 (ko) |
| WO (1) | WO2009157525A1 (ko) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103556686A (zh) * | 2013-10-25 | 2014-02-05 | 吴江市永利工艺制品有限责任公司 | 一种双层水槽滤斗 |
| KR20190068520A (ko) * | 2016-10-26 | 2019-06-18 | 이시하라 산교 가부시끼가이샤 | 3-메틸-2-티오펜카르복실산의 제조 방법 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3277275A4 (en) * | 2015-03-31 | 2018-07-11 | Monsanto Technology LLC | Processes for the preparation of 2-thiophenecarbonyl chloride |
| BR112018069255A2 (pt) | 2016-03-24 | 2019-01-22 | Monsanto Technology Llc | processos para a preparação de ácidos heteroaril carboxílicos |
| CN106518840B (zh) * | 2016-11-17 | 2019-03-01 | 山东铂源药业有限公司 | 一种2-氯噻吩-5-甲酸的合成方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001247563A (ja) | 2000-03-03 | 2001-09-11 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | ３−メチル−２−チオフェンカルボン酸類の製造方法 |
| JP2006008617A (ja) * | 2004-06-28 | 2006-01-12 | Sumitomo Chemical Co Ltd | ５−フタランカルボニトリル化合物の製造方法、その中間体およびその製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AT376436B (de) * | 1982-11-05 | 1984-11-26 | Laevosan Gmbh & Co Kg | Verfahren zur herstellung neuer thiophen-2carbons[urederivate und pharmazeutisch vertraeglicher saeure- oder basenadditionssalze davon |
| JP4473882B2 (ja) | 2007-01-12 | 2010-06-02 | 株式会社藤商事 | 遊技機 |
-
2009
- 2009-06-18 JP JP2009145417A patent/JP5578809B2/ja active Active
- 2009-06-25 US US13/000,937 patent/US8350057B2/en active Active
- 2009-06-25 DK DK09770235.1T patent/DK2298756T3/en active
- 2009-06-25 AU AU2009263303A patent/AU2009263303B2/en not_active Ceased
- 2009-06-25 BR BRPI0913890-0A patent/BRPI0913890A2/pt not_active Application Discontinuation
- 2009-06-25 PL PL09770235T patent/PL2298756T3/pl unknown
- 2009-06-25 CN CN200980124306.5A patent/CN102076677B/zh active Active
- 2009-06-25 KR KR1020107029110A patent/KR101583851B1/ko active IP Right Grant
- 2009-06-25 EP EP09770235.1A patent/EP2298756B1/en active Active
- 2009-06-25 HU HUE09770235A patent/HUE032685T2/en unknown
- 2009-06-25 WO PCT/JP2009/061661 patent/WO2009157525A1/ja active Application Filing
-
2010
- 2010-12-26 IL IL210278A patent/IL210278A0/en active IP Right Grant
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001247563A (ja) | 2000-03-03 | 2001-09-11 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | ３−メチル−２−チオフェンカルボン酸類の製造方法 |
| JP2006008617A (ja) * | 2004-06-28 | 2006-01-12 | Sumitomo Chemical Co Ltd | ５−フタランカルボニトリル化合物の製造方法、その中間体およびその製造方法 |
Non-Patent Citations (3)
| Title |
|---|
| J. Am. Chem. Soc. 73, 2779-2781 (1951) |
| Journal of the American Chemical Society, Vol. 70, pp. 415-416(1948년)* * |
| Journal of the American Chemical Society, Vol. 73, pp. 2779-2781(1951년)* * |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103556686A (zh) * | 2013-10-25 | 2014-02-05 | 吴江市永利工艺制品有限责任公司 | 一种双层水槽滤斗 |
| KR20190068520A (ko) * | 2016-10-26 | 2019-06-18 | 이시하라 산교 가부시끼가이샤 | 3-메틸-2-티오펜카르복실산의 제조 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP2298756A1 (en) | 2011-03-23 |
| PL2298756T3 (pl) | 2017-08-31 |
| US8350057B2 (en) | 2013-01-08 |
| HUE032685T2 (en) | 2017-10-30 |
| WO2009157525A1 (ja) | 2009-12-30 |
| AU2009263303A1 (en) | 2009-12-30 |
| AU2009263303B2 (en) | 2013-02-28 |
| JP5578809B2 (ja) | 2014-08-27 |
| EP2298756A4 (en) | 2012-02-22 |
| BRPI0913890A2 (pt) | 2015-07-28 |
| JP2010030991A (ja) | 2010-02-12 |
| IL210278A0 (en) | 2011-03-31 |
| CN102076677B (zh) | 2014-11-05 |
| KR101583851B1 (ko) | 2016-01-08 |
| DK2298756T3 (en) | 2017-05-01 |
| EP2298756B1 (en) | 2017-03-08 |
| CN102076677A (zh) | 2011-05-25 |
| US20110112311A1 (en) | 2011-05-12 |
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