KR20110013793A - Apparatus for array test with cleaner - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: An array test device including a cleaner is provided to reduce the error of the test and improve the reliability of the array test process by removing foreign substances which is generated when the substrate is transferred or probing assembly is driven through the cleaner. CONSTITUTION: A probing assembly(300) is composed of a probe bar(310) and a probe frame(320). The probe bar applies a voltage to the substrate electrode through a probe pin. The probe frame is connected to the probe bar. The probe bar is transferred in the one direction of the substrate. The probe frame is connected to the cleaner.

Description

클리너를 구비한 어레이 테스트 장치{Apparatus for array test with cleaner}Apparatus for array test with cleaner

이 기술은 디스플레이의 검사장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 디스플레이 기판에 형성된 전극의 전기적 결함을 검사하는 어레이 테스트 장치에 관한 것이다.This technology relates to an inspection apparatus for a display, and more particularly, to an array test apparatus for inspecting an electrical defect of an electrode formed on a display substrate.

디스플레이 패널은 LCD, PDP 및, OLED 등의 평판 디스플레이 장치들을 포함한다. 일반적인 TFT(Thin Film Transister) LCD는 TFT기판과, 컬러필터 및 공통전극이 형성되어 TFT기판과 대향 배치된 컬러기판과, TFT기판과 컬러기판 사이에 형성된 액정 및, 백라이트 유닛으로 구성된다.Display panels include flat panel display devices such as LCDs, PDPs, and OLEDs. A general TFT (Thin Film Transister) LCD is composed of a TFT substrate, a color substrate on which color filters and a common electrode are formed to be disposed opposite to the TFT substrate, a liquid crystal formed between the TFT substrate and the color substrate, and a backlight unit.

이 경우, TFT기판 위에 형성된 TFT전극의 결함은 어레이 테스트 장치(Array tester)에 의하여 검사된다.In this case, the defect of the TFT electrode formed on the TFT substrate is inspected by an array tester.

이를 상세히 설명하면, 어레이 테스트 장치에 설치된 모듈레이터 및 TFT전극에 일정한 전압을 인가한 상태에서, 모듈레이터가 TFT기판에 근접하도록 하여 이들 사이에 전기장이 발생되도록 한다. 이때, TFT기판에 형성된 TFT전극에 결함이 있는 경우가 결함이 없는 경우보다 전기장의 크기가 작아진다. 따라서, 검출된 전기장의 크기에 따라 TFT기판의 결함 여부를 검출할 수 있다.In detail, in a state where a constant voltage is applied to the modulator and the TFT electrode installed in the array test apparatus, the modulator is brought close to the TFT substrate so that an electric field is generated therebetween. At this time, the case where there is a defect in the TFT electrode formed on the TFT substrate is smaller in size than the case where there is no defect. Therefore, it is possible to detect whether or not the TFT substrate is defective depending on the size of the detected electric field.

종래의 어레이 테스트 장치는 프로빙 어셈블리를 포함한다. 프로빙 어셈블리(Probing assembly)는 기판에 형성된 전극에 전압을 인가하는 수단이다. 몇가지 종류의 기능적인 테스트를 수행하기 위해서는, 반드시 기판 전극에 구동신호가 공급되어야 한다. 프로빙 어셈블리는 기판에 구동전압을 인가하기 위한 전기적 장치 및 전기적 장치를 기판에 대해 상대 이동시키거나 정렬을 수행하는 기계적 장치를 포함한다.Conventional array test apparatus includes a probing assembly. Probing assembly is a means for applying a voltage to an electrode formed on a substrate. In order to perform some kind of functional test, a driving signal must be supplied to the substrate electrode. The probing assembly includes an electrical device for applying a drive voltage to the substrate and a mechanical device for moving or aligning the electrical device relative to the substrate.

하지만, 종래의 어레이 테스트 장치는 기판의 이송 또는 테스트 공정에서 기판 표면에 이물질이 부착되는 문제점을 갖는다. 즉, 어레이 테스트 장치로 로딩되는 기판은 그 이전 공정에서 클리닝이 실시되기도 하지만, 어레이 테스트 장치 내에서도 추가적인 이물질이 개입될 가능성이 존재한다. 이와 같은 이물질은 테스트의 신뢰도를 저하시키는 원인이 된다.However, the conventional array test apparatus has a problem in that foreign matter adheres to the surface of the substrate in the transfer or test process of the substrate. That is, the substrate loaded into the array test apparatus may be cleaned in a previous process, but there is a possibility that additional foreign matter may also be involved in the array test apparatus. Such foreign matters cause a decrease in the reliability of the test.

이와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위하여, 기판 표면에 부착된 이물질을 제거하기 위한 클리너를 프로빙 어셈블리에 설치함으로써, 테스트 공정에서 추가적으로 발생하는 이물질을 별도의 클리너 구동수단을 설치하지 않고도 효과적으로 제거시킨다.In order to solve such a conventional problem, by installing a cleaner in the probing assembly to remove the foreign matter adhering to the substrate surface, the foreign matter additionally generated in the test process is effectively removed without installing a separate cleaner driving means.

기판에 형성된 전극의 결함을 테스트하기 위해 기판 전극에 전압을 인가하는 프로빙 어셈블리를 포함하며, 프로빙 어셈블리 일측에 클리너가 구비되는 어레이 테스트 장치를 제공한다.The present invention provides an array test apparatus including a probing assembly for applying a voltage to a substrate electrode to test a defect of an electrode formed on a substrate, and having a cleaner on one side of the probing assembly.

또한, 프로빙 어셈블리는 기판 전극에 전압을 인가하는 프로브 핀을 갖는 프로브 바 및, 프로브 바와 연결되어 프로브 바가 기판에 대해 일방향으로 이동되도록 구동되며 클리너와 연결되는 프로브 프레임을 포함한다.The probing assembly also includes a probe bar having a probe pin for applying a voltage to the substrate electrode, and a probe frame connected to the probe bar and driven to move in one direction with respect to the substrate and connected to a cleaner.

이 경우, 클리너는 탈부착 가능하게 다수개가 구비될 수 있다.In this case, the cleaner may be provided with a plurality of detachable.

또한, 클리너는 프로브 프레임에 대해 길이 방향으로 구동될 수 있다.In addition, the cleaner may be driven longitudinally relative to the probe frame.

한편, 클리너는 기판으로부터 이물질을 박리하기 위한 박리부를 포함할 수 있다.On the other hand, the cleaner may include a peeling unit for peeling off the foreign matter from the substrate.

또한, 클리너는 기판 표면의 이물질 또는 주변 대기를 흡인하는 흡입부를 포함할 수 있다.In addition, the cleaner may include a suction unit that sucks in foreign matter or ambient atmosphere on the substrate surface.

이 경우, 흡입부는 기판을 향해 수직으로 복수개 형성되는 핀을 구비할 수 있다.In this case, the suction part may include a plurality of fins formed vertically toward the substrate.

한편, 클리너는 초음파를 발생시키는 초음파헤드를 포함할 수 있다.On the other hand, the cleaner may include an ultrasonic head for generating ultrasonic waves.

이 경우, 클리너는 초음파헤드의 외측으로 에어가 통과되도록 초음파헤드와의 사이에 간극을 형성시키는 커버를 더 구비할 수 있다.In this case, the cleaner may further include a cover that forms a gap between the ultrasonic head so that air passes through the outer side of the ultrasonic head.

또한, 클리너는 기판 표면 또는 주변 대기의 금속 이물질을 끌어 당기는 자력부를 포함할 수 있다.The cleaner may also include a magnetic force that attracts metal foreign matter from the substrate surface or the surrounding atmosphere.

어레이 테스트 공정에서 기판의 이송 또는 프로빙 어셈블리의 구동 시 발생할 수 있는 추가적인 이물질이 클리너를 통해 제거됨으로써, 테스트의 에러를 줄이고 신뢰도를 향상시킬 수 있다.In the array test process, additional debris that may occur during substrate transfer or driving of the probing assembly is removed by the cleaner, reducing errors in the test and improving reliability.

또한, 어레이 테스트 장치 내에 별도로 클리너를 설치하지 않기 때문에, 클리너를 설치하기 위한 추가적인 공간을 요구하지 않으며 클리너를 구동시키기 위한 구동수단 없이 대면적 기판의 클리닝을 수행할 수 있다.In addition, since no cleaner is separately installed in the array test apparatus, it is possible to perform cleaning of a large area substrate without requiring additional space for installing the cleaner and without driving means for driving the cleaner.

또한, 기판으로부터 분리된 이물질이 기판 주변의 대기에 떠돌아다니지 않고 어레이 테스트 장치의 외부로 완전히 제거될 수 있다.In addition, foreign matter separated from the substrate can be completely removed to the outside of the array test apparatus without floating in the atmosphere around the substrate.

어레이 테스트 장치는 프로빙 어셈블리를 구비한다. 프로빙 어셈블리(Probing assembly)는 기판에 형성된 전극의 어레이(Array)를 테스트하기 위해 기판 전극에 전압을 인가하는 장치이다. The array test apparatus has a probing assembly. Probing assembly is a device that applies a voltage to a substrate electrode to test an array of electrodes formed on the substrate.

특히, 프로빙 어셈블리는 클리너를 포함한다. 클리너는 프로빙 어셈블리에 설치되어, 기판에 부착된 이물질을 제거한다. 따라서, 기판의 이송 공정 또는 프로빙 어셈블리의 구동 시 발생할 여지가 있는 미세 이물질을 효율적으로 제거할 수 있다.In particular, the probing assembly comprises a cleaner. The cleaner is installed in the probing assembly to remove debris attached to the substrate. Therefore, it is possible to efficiently remove the fine foreign matter that may occur during the transfer process of the substrate or the driving of the probing assembly.

이하 첨부된 도면에 따라서 클리너를 구비한 어레이 테스트 장치의 기술적 구성을 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the technical configuration of an array test apparatus having a cleaner according to the accompanying drawings will be described in detail.

도 1은 일 실시 예에 따른 어레이 테스트 장치의 사시도이고, 도 2는 일 실시 예에 따른 클리너가 설치된 상태를 도시한 측면도이다.1 is a perspective view of an array test apparatus according to an embodiment, and FIG. 2 is a side view illustrating a state in which a cleaner according to an embodiment is installed.

도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 어레이 테스트 장치(100)는 로딩부(70)와, 언로딩부(80)와, 모듈레이터(20)와, 검출부(60)와, 광원(30) 및, 프로빙 어셈블리(300)를 구비한다.As shown in FIGS. 1 and 2, the array test apparatus 100 includes a loading unit 70, an unloading unit 80, a modulator 20, a detection unit 60, a light source 30, And a probing assembly 300.

로딩부(70)는 테스트될 기판(90)을 어레이 테스트 장치(100) 내로 진입되게 한다. 로딩부(70)를 통해 들어온 기판(90)은 테스트가 이루어지는 후술할 광원(30)의 상부까지 이송된다. 로딩부(70)는 로딩 플레이트 및 복수의 에어홀(71)들을 구비할 수 있다. 기판(90)의 이송은, 기판(90) 하면에 에어홀(71)들로부터 고압의 에어를 분사하여 기판(90)을 로딩 플레이트에서 부상시킨 상태로 그립(Grip)수단(95) 을 이용해 이송시키는 방식 등에 의해 달성될 수 있다.The loading unit 70 allows the substrate 90 to be tested to enter the array test apparatus 100. The substrate 90 introduced through the loading unit 70 is transferred to the upper portion of the light source 30 to be described later, which is tested. The loading unit 70 may include a loading plate and a plurality of air holes 71. The transfer of the substrate 90 is carried out by using the grip means 95 while injecting high pressure air from the air holes 71 on the lower surface of the substrate 90 to raise the substrate 90 from the loading plate. It may be achieved by a method such as.

언로딩부(80)는 테스트 완료된 기판(90)을 이송시켜 어레이 테스트 장치(100) 외부로 배출되게 한다. 언로딩부(80)는 언로딩 플레이트 및 복수의 에어홀(81)들을 구비할 수 있다. 기판(90)의 이송은 로딩부(70)와 같은 방식으로, 기판(90) 하면에 에어홀(81)들로부터 고압의 에어를 분사하여 기판(90)을 언로딩 플레이트에서 부상시킨 상태로 그립수단을 이용해 이송시키는 방식 등에 의해 달성될 수 있다.The unloading unit 80 transfers the tested substrate 90 to be discharged to the outside of the array test apparatus 100. The unloading unit 80 may include an unloading plate and a plurality of air holes 81. The transfer of the substrate 90 is performed in the same manner as that of the loading unit 70. The substrate 90 is gripped in a state in which the substrate 90 is raised from the unloading plate by spraying high pressure air from the air holes 81 on the lower surface of the substrate 90. By means of conveying by means, or the like.

모듈레이터(20)는 기판(90)의 상측에 배치되는 것으로, 기판(90)의 상면과 매우 인접하게 위치된다. 모듈레이터(20)는 전극층 및 전광물질층을 구비할 수 있다. 모듈레이터의 전극층은 기판(90)의 전극층과 전기장을 형성하는 것으로, ITO(Indium Tin Oxide)나 CNT(Carbon Nano Tube) 물질 등이 사용될 수 있다. 또한, 모듈레이터의 전광물질층은 전기장의 세기에 따라 통과되는 빛의 광량을 변경시키는 것으로, 액정(LC:Liquid Crystal), 무기EL(Electro Luminance), PDLC(Polymer Dispersed Liquid Crystal) 등을 사용할 수 있다.The modulator 20 is disposed above the substrate 90 and is located very close to the top surface of the substrate 90. The modulator 20 may include an electrode layer and an allergic material layer. The electrode layer of the modulator forms an electric field with the electrode layer of the substrate 90. Indium tin oxide (ITO) or carbon nano tube (CNT) material may be used. In addition, the all mineral layer of the modulator is to change the amount of light passing according to the intensity of the electric field, liquid crystal (LC), inorganic EL (electroluminescence), PDLC (Polymer Dispersed Liquid Crystal) may be used. .

일 예로, 전압이 기판(90)의 전극층 및 모듈레이터(20)의 전극층에 인가되면 기판(90)의 불량 유무에 따라 모듈레이터(20)의 특정 물성치가 변경된다. 즉, 모듈레이터(20)는 테스트될 기판(90)에 형성된 전극층이 정상인 경우, 내부에 전기장이 형성되며 전기장에 의해 분자 배열이 일정한 방향으로 배열되어 빛이 통과할 수 있게 된다. 이와 반대로, 기판(90)에 형성된 전극층이 불량인 경우, 내부에 전기장이 형성되지 않고 분자 배열이 변경되지 않음으로써 빛이 통과할 수 없게 된다.For example, when a voltage is applied to the electrode layer of the substrate 90 and the electrode layer of the modulator 20, specific physical properties of the modulator 20 are changed according to whether the substrate 90 is defective. That is, in the modulator 20, when the electrode layer formed on the substrate 90 to be tested is normal, an electric field is formed therein, and the molecular array is arranged in a predetermined direction by the electric field so that light can pass therethrough. On the contrary, when the electrode layer formed on the substrate 90 is defective, light cannot pass through because no electric field is formed therein and the molecular arrangement is not changed.

한편, 어레이 테스트 장치(100)는 옵틱척(Optic chuck)을 더 구비할 수 있다. 옵틱척은 테스트될 기판(90)의 하측에 배치되며 기판(90)이 옵틱척에 안착된다. 옵틱척은 빛을 투과시키는 유리와 같은 투광 소재로 이루어진다. 옵틱척은 기판(90)을 흡착 및 부상시키는 복수의 에어홀들을 구비할 수 있다.The array test apparatus 100 may further include an optical chuck. The optical chuck is disposed below the substrate 90 to be tested and the substrate 90 rests on the optical chuck. The optical chuck is made of a light transmitting material such as glass that transmits light. The optical chuck may include a plurality of air holes that adsorb and float the substrate 90.

검출부(60)는 모듈레이터(20)의 상측에 배치된다. 검출부(60)는 모듈레이터(20)의 변경된 특정 물성치를 측정하여 기판(90) 전극층의 불량 유무를 검출한다. 일 예로, 검출부(60)는 기판(90)에 형성된 전극층의 정상 여부에 따라 투과되는 빛의 양을 촬상하고 그 데이터를 신호처리부를 통해 판별하여 기판(90)의 불량 유무를 검출할 수 있다.The detector 60 is disposed above the modulator 20. The detector 60 detects whether the electrode layer of the substrate 90 is defective by measuring the changed specific physical property of the modulator 20. For example, the detector 60 may detect the defect of the substrate 90 by capturing the amount of light transmitted according to whether the electrode layer formed on the substrate 90 is normal and determining the data through the signal processor.

광원(30)은 기판(90)을 기준으로 모듈레이터(20)와 반대 방향측에 배치된다. 광원(30)은 모듈레이터(20)를 향해 빛을 조사한다. 광원(30)으로부터 나온 빛은 옵틱척, 기판(90), 모듈레이터(20)를 순차적으로 지나 검출부(60)에 도달한다. 광원(30)으로부터 나오는 빛은 제논, 소디움, 수정할로겐 램프 및 레이저 등을 포함한 여러 종류의 빛일 수 있다.The light source 30 is disposed on the side opposite to the modulator 20 with respect to the substrate 90. The light source 30 irradiates light toward the modulator 20. The light emitted from the light source 30 passes through the optical chuck, the substrate 90, and the modulator 20 in order to reach the detection unit 60. The light emitted from the light source 30 may be various kinds of light including xenon, sodium, quartz lamp, laser, and the like.

한편, 프로빙 어셈블리(300)는 프로브 바(310) 및 프로브 프레임(320)을 구비한다. Meanwhile, the probing assembly 300 includes a probe bar 310 and a probe frame 320.

프로브 바(310)는 프로브 핀(312)을 구비한다. 프로브 핀(312)은 기판(90) 전극에 전압을 인가한다. 또한, 프로브 프레임(320)은 프로브 바(310)를 결합시키는 것으로, 프로브 바(310)가 기판(90)에 대해 적어도 일방향으로 이동되도록 구동된다.The probe bar 310 has a probe pin 312. The probe pin 312 applies a voltage to the electrode of the substrate 90. In addition, the probe frame 320 couples the probe bars 310, and the probe bars 310 are driven to move in at least one direction with respect to the substrate 90.

즉, 프로브 프레임(320)은 리니어 모터(321)를 구비한다. 리니어 모터(321)는 X축 방향으로 길게 형성되어 프로브 프레임(320)에 고정된다. 리니어 모터(321)에 X축 슬라이드 부재(311)가 연결되며, X축 슬라이드 부재(311)는 프로브 프레임(320)에 대해 X축 방향으로 슬라이드 가능하다. That is, the probe frame 320 includes a linear motor 321. The linear motor 321 is formed long in the X-axis direction and fixed to the probe frame 320. The X-axis slide member 311 is connected to the linear motor 321, and the X-axis slide member 311 is slidable in the X-axis direction with respect to the probe frame 320.

또한, X축 슬라이드 부재(311)에 Z축 구동부(315)가 연결되며, 프로브 바(310)는 Z축 구동부(315)에 연결된다. 또한, 프로브 프레임(320)은 Y축 슬라이드 부재(330)에 결합된다. Y축 슬라이드 부재(330)는 Y축 가이드 레일(340)에 연결되어, Y축 방향으로 슬라이드 가능하다.In addition, the Z-axis driving unit 315 is connected to the X-axis slide member 311, and the probe bar 310 is connected to the Z-axis driving unit 315. In addition, the probe frame 320 is coupled to the Y-axis slide member 330. The Y-axis slide member 330 is connected to the Y-axis guide rail 340 and slides in the Y-axis direction.

따라서, 프로브 프레임(320)은 기판(90)에 대해 Y축 방향으로 구동 가능하며, 프로브 바(310)는 기판(90)에 대해 X축, Y축 및, Z축 방향으로 구동 가능하다. 프로브 바(310)에 형성된 프로브 핀(312)은 기판(90)의 상부에서 X축 및 Y축 방향으로 이동하고 Z축 방향으로 승강되면서 기판(90) 전극에 접촉될 수 있다.Accordingly, the probe frame 320 may be driven in the Y-axis direction with respect to the substrate 90, and the probe bar 310 may be driven in the X-axis, Y-axis, and Z-axis directions with respect to the substrate 90. The probe pin 312 formed on the probe bar 310 may contact the substrate 90 electrode while moving in the X-axis and Y-axis directions on the probe bar 310 and being elevated in the Z-axis direction.

특히, 클리너(200)는 프로브 프레임(320)에 연결되는 것이 바람직하다. 따라서, 클리너(200)는 프로브 프레임(320)과 함께 연동되면서 기판(90) 상면에 부착된 이물질을 제거할 수 있다. 결국, 클리너(200)의 이동은 별도의 구동장치의 동력을 이용하지 않고 프로브 프레임(320)의 구동장치의 동력을 이용하게 된다.In particular, the cleaner 200 is preferably connected to the probe frame 320. Therefore, the cleaner 200 may be interlocked with the probe frame 320 to remove the foreign matter attached to the upper surface of the substrate 90. As a result, the movement of the cleaner 200 uses the power of the driving device of the probe frame 320 without using the power of a separate driving device.

따라서, 프로브 프레임(320)의 이동 중 발생할 수 있는 추가적인 이물질까지 클리너(200)에 의해 제거될 수 있다.Therefore, additional foreign matter that may occur during the movement of the probe frame 320 may be removed by the cleaner 200.

한편, 클리너(200)는 프로브 프레임(320)에 탈부착 가능하게 다수개가 결합될 수 있다. 기판(90)의 사이즈가 대면적일 경우, 클리너(200)는 서로 적정 간격 이격된 상태로 일렬로 배치되는 것이 바람직하다. 따라서, 클리너(200)를 지나는 기판(90)이 빈틈없이 클리닝 될 수 있다. 또한, 클리너(200)가 프로브 프레임(320)으로부터 탈부착 가능하여, 클리너(200)의 교체 및 유지보수가 용이해진다.Meanwhile, a plurality of cleaners 200 may be coupled to the probe frame 320 in a detachable manner. When the size of the substrate 90 is a large area, the cleaners 200 are preferably arranged in a line in a state spaced apart from each other at appropriate intervals. Therefore, the substrate 90 passing through the cleaner 200 may be cleaned without gaps. In addition, since the cleaner 200 is detachable from the probe frame 320, the cleaner 200 may be easily replaced and maintained.

또한, 클리너(200)는 프로브 프레임(320)에 대해 적어도 일 자유도로 구동될 수 있다. 즉, 클리너(200)는 단일개로 구비되며, 프로브 프레임(320)에 대해 X축 방향으로 이동 가능하게 연결될 수 있다. 따라서, 하나의 클리너(200)가 프로브 프레임(320)을 따라 X축 방향으로 이동되면서 기판(90) 상면의 이물질을 효율적으로 제거할 수 있다. 이 경우, 클리너(200)는 프로브 프레임(320)에 대해 X축 뿐 아니라 Y축 및 Z축 방향으로 구동되면서, 기판(90) 전체 면적의 이물질을 제거하는 것도 가능하다.In addition, the cleaner 200 may be driven with at least one degree of freedom with respect to the probe frame 320. That is, the cleaner 200 may be provided as a single piece and may be connected to the probe frame 320 so as to be movable in the X-axis direction. Therefore, one cleaner 200 may be moved along the probe frame 320 in the X-axis direction to efficiently remove foreign substances on the upper surface of the substrate 90. In this case, the cleaner 200 may be driven in the Y-axis and Z-axis directions as well as the X-axis with respect to the probe frame 320, and may remove foreign substances in the entire area of the substrate 90.

한편, 클리너(200)는 프로브 프레임(320)이 기판(90) 상부에서 구동될 때, 작동되도록 구현될 수 있다. 따라서, 기판(90)의 테스트 진행중에 각 픽셀 전극을 향해 이동되는 프로브 프레임(320)의 구동시마다 반복적으로 기판(90)을 클리닝할 수 있다.Meanwhile, the cleaner 200 may be implemented to operate when the probe frame 320 is driven on the substrate 90. Therefore, the substrate 90 may be repeatedly cleaned every time the probe frame 320 moved toward each pixel electrode during the test of the substrate 90.

또한, 클리너(200)는 기판(90)이 프로브 바(310) 측으로 이송될 때 주기적으로 작동되도록 구현될 수 있다. 따라서, 기판(90)의 이송 과정에서 프로브 프레임(320)을 통과하는 기판(90) 상면의 이물질을 효율적으로 제거할 수 있다.In addition, the cleaner 200 may be implemented to operate periodically when the substrate 90 is transferred to the probe bar 310 side. Therefore, foreign matter on the upper surface of the substrate 90 passing through the probe frame 320 may be efficiently removed during the transfer of the substrate 90.

또한, 어레이 테스트 장치(100)는 센싱부를 구비할 수 있다. 센싱부는 기판(90)에 부착된 이물질을 감지한다. 이 경우, 클리너(200)는 센싱부가 이물질을 감지할 때 작동될 수 있다. 또한, 센싱부는 이물질의 위치를 감지하도록 구현될 수 있다.In addition, the array test apparatus 100 may include a sensing unit. The sensing unit detects a foreign matter attached to the substrate 90. In this case, the cleaner 200 may operate when the sensing unit detects a foreign substance. In addition, the sensing unit may be implemented to detect the position of the foreign matter.

한편, 도 3은 기판에 부착된 이물질에 의해 에러가 발생된 것을 도시한 것이다.On the other hand, Figure 3 shows that the error is caused by the foreign matter attached to the substrate.

도 3을 참조하면, 기판(90)이 모듈레이터(20)의 하부에 인접하게 위치하고 있다. 기판(90)의 상면에는 전극들(92)(93)(94)이 형성된다. 이 경우, 하나의 전극(93)은 결함을 갖고 있으며, 다른 전극들(92)(94)은 정상이라고 가정한다. 모듈레이터(20) 내에는 복수의 액정 분자들(1)(2)(3)이 분산되어 있으며, 일면에 투명전극(21)이 형성되어 있다.Referring to FIG. 3, the substrate 90 is located adjacent to the bottom of the modulator 20. Electrodes 92, 93, 94 are formed on the upper surface of the substrate 90. In this case, it is assumed that one electrode 93 has a defect and the other electrodes 92 and 94 are normal. In the modulator 20, a plurality of liquid crystal molecules 1, 2, and 3 are dispersed, and a transparent electrode 21 is formed on one surface thereof.

모듈레이터(20)의 투명전극(21)과 기판(90)의 전극(92)(93)(94)에 전압을 인가하면, 모듈레이터(20)와 정상인 전극(92)(94) 사이에 전기장(8)이 형성된다. 전기장(8)이 형성된 부위의 액정 분자(1)(3)는 배열이 변화되며, 전기장이 형성되지 않은 부위의 액정 분자(2)는 배열이 변화되지 않는다. 광원(30)으로부터 조사된 빛(5)(6)(7)은 배열이 변화된 액정 분자(1)(3)를 투과할 수 있으며, 배열이 변화되지 않은 액정 분자(2)는 투과할 수 없다. 따라서, 빛의 투과량을 측정하여 기판에 형성된 전극의 결함을 검출하게 된다.When a voltage is applied to the transparent electrodes 21 of the modulator 20 and the electrodes 92, 93, 94 of the substrate 90, an electric field 8 is applied between the modulator 20 and normal electrodes 92, 94. ) Is formed. The arrangement of the liquid crystal molecules 1 and 3 at the portion where the electric field 8 is formed is changed, and the arrangement of the liquid crystal molecules 2 at the portion where the electric field is not formed is changed. The light 5, 6, 7 irradiated from the light source 30 can pass through the liquid crystal molecules 1 and 3 in which the arrangement is changed, and the liquid crystal molecules 2 in which the arrangement is not changed can not pass. . Therefore, the amount of light transmitted is measured to detect defects of the electrodes formed on the substrate.

즉, 광원(30)으로부터 조사된 일부의 빛(5)(7)은 직진하여 액정 분자(1)(3)를 투과하고, 다른 빛(6)은 액정 분자(2)를 투과하지 못한다. 따라서, 전극(93)이 결함이 있음을 감지할 수 있다.That is, some of the light 5 and 7 irradiated from the light source 30 go straight to pass through the liquid crystal molecules 1 and 3, and the other light 6 does not pass through the liquid crystal molecules 2. Thus, it is possible to detect that the electrode 93 is defective.

하지만, 이물질(9)이 옵틱척(50)에 부착되게 되면, 광원(30)으로부터 조사된 빛(7)은 직진하지 못하고 이물질(9)에 의해 굴절 또는 산란되게 된다. 따라서, 정 상인 전극(94)을 결함이 있는 것으로 판별하는 에러가 발생될 수 있다.However, when the foreign matter 9 is attached to the optical chuck 50, the light 7 irradiated from the light source 30 does not go straight but is refracted or scattered by the foreign matter 9. Thus, an error may be generated that determines that the electrode 94 that is normal is defective.

결국, 클리너(200)는 기판(90) 표면에 부착된 이물질(9)을 제거하여, 검사의 에러를 줄이고 검사의 신뢰도를 향상시킬 수 있다.As a result, the cleaner 200 may remove the foreign matter 9 attached to the surface of the substrate 90, thereby reducing the error of the inspection and improving the reliability of the inspection.

한편, 도 4는 박리부를 도시한 클리너의 부분 단면도이다. 도 4에 도시된 바와 같이, 클리너(200)는 박리부(180)를 포함할 수 있다. 박리부(180)는 기판(90)으로부터 이물질을 박리하는 기능을 한다. 박리부(180)는 기판(90) 상면을 향해 에어를 분사하는 에어분사기가 될 수 있다. 에어분사기는 고압의 에어를 분사하여, 기판(90) 표면에 부착된 이물질을 기판(90) 표면으로부터 분리시킨다. 4 is a partial sectional view of the cleaner which shows the peeling part. As shown in FIG. 4, the cleaner 200 may include a peeling unit 180. The peeling unit 180 functions to peel off foreign matter from the substrate 90. The peeling unit 180 may be an air injector that injects air toward the upper surface of the substrate 90. The air injector injects high pressure air to separate foreign matter attached to the surface of the substrate 90 from the surface of the substrate 90.

도 5는 흡입부를 도시한 클리너의 부분 단면도이다. 도 5에 도시된 바와 같이, 클리너(200)는 흡입부(170)를 포함할 수 있다. 흡입부(170)는 기판(90) 표면의 이물질 또는 주변 대기를 흡인하는 기능을 한다. 따라서, 기판(90)으로부터 분리된 이물질은 기판(90)의 주변 대기중에서 떠돌아다니지 않고 어레이 테스트 장치(100) 외부로 완전히 제거될 수 있다.5 is a partial cross-sectional view of the cleaner showing the suction unit. As shown in FIG. 5, the cleaner 200 may include a suction unit 170. The suction unit 170 sucks a foreign substance on the surface of the substrate 90 or the surrounding atmosphere. Therefore, the foreign matter separated from the substrate 90 may be completely removed from the array test apparatus 100 without floating in the ambient atmosphere of the substrate 90.

또한, 도 6은 도 5의 변형 예에 따른 클리너의 부분 단면도이고, 도 7은 도 5의 다른 변형 예에 따른 클리너의 부분 단면도이며, 도 8은 도 5의 또 다른 변형 예에 따른 클리너의 부분 단면도이다.6 is a partial cross-sectional view of the cleaner according to a modification of FIG. 5, FIG. 7 is a partial cross-sectional view of the cleaner according to another modification of FIG. 5, and FIG. 8 is a part of the cleaner according to another modification of FIG. 5. It is a cross section.

도 6에 도시된 바와 같이, 박리부(180) 및 흡입부(170)는 하나씩 서로 나란하게 배치될 수 있다. 또한, 도 7에 도시된 바와 같이, 하나의 박리부(180) 양측에 흡입부(170)를 각각 구비할 수 있다. 따라서, 기판(90)에 부착된 이물질 및 대기중의 이물질을 흡착하여 청정 상태를 안정적으로 유지할 수 있다. 또한, 도 8에 도시 된 바와 같이, 하나의 흡입부(170) 양측에 박리부(180)를 각각 설치하는 것도 가능하다.As illustrated in FIG. 6, the peeling unit 180 and the suction unit 170 may be arranged side by side with each other. In addition, as shown in FIG. 7, the suction parts 170 may be provided at both sides of one peeling part 180. Therefore, the foreign matter adhering to the substrate 90 and the foreign matter in the air can be adsorbed to maintain the clean state stably. In addition, as shown in FIG. 8, it is also possible to provide peeling units 180 on both sides of one suction unit 170.

또한, 도 9는 핀을 구비한 클리너의 부분 단면도이다. 도 9에 도시된 바와 같이, 흡입부(170)는 복수개의 핀(171)을 구비할 수 있다. 핀(171)은 흡입부(170)의 상면에 기판(90)을 향해 수직(Z축 방향)으로 형성된다. 흡입부(170)에 핀(171)들을 설치함으로써, 흡인공에 흡인되는 기류에 수직 방향의 흐름이 교대로 발생한다. 따라서, 기판(90) 주변의 이물질이 수평방향 흐름과 수직방향 흐름에 의해 기판(90)의 표면으로부터 분리되어 흡인하기 쉬워진다.9 is a partial sectional view of the cleaner provided with a pin. As shown in FIG. 9, the suction unit 170 may include a plurality of pins 171. The fin 171 is formed vertically (Z-axis direction) toward the substrate 90 on the upper surface of the suction unit 170. By installing the fins 171 in the suction unit 170, the flow in the vertical direction alternately occurs in the air flow sucked into the suction hole. Therefore, foreign matters around the substrate 90 are easily separated from the surface of the substrate 90 by the horizontal flow and the vertical flow.

한편, 도 10은 초음파헤드를 도시한 클리너의 부분 단면도이다. 도 10에 도시된 바와 같이, 클리너(200)는 초음파헤드(150)를 구비할 수 있다. 초음파헤드(150)는 초음파를 발생시켜, 기판(90) 표면에 부착된 이물질이 활성화된 상태로 기판(90) 표면으로부터 분리되게 한다.10 is a partial cross-sectional view of the cleaner showing the ultrasonic head. As shown in FIG. 10, the cleaner 200 may include an ultrasonic head 150. The ultrasonic head 150 generates ultrasonic waves to separate foreign substances attached to the surface of the substrate 90 from the surface of the substrate 90 in an activated state.

도 11은 커버를 구비한 클리너의 부분 단면도이다. 도 11에 도시된 바와 같이, 클리너(200)는 커버(160)를 더 포함할 수 있다.11 is a partial cross-sectional view of a cleaner with a cover. As shown in FIG. 11, the cleaner 200 may further include a cover 160.

커버(160)는 초음파헤드(150)의 외측을 감싸면서 초음파헤드(150)와의 사이에 소정의 간극을 형성시킨다. 커버(160)의 일측은 에어분사기와 연결되며 타측은 기판(90)의 표면을 향해 에어를 분사하도록 분사구(161)가 형성된다. 에어분사기로부터 공급된 에어는 초음파헤드(150)와 커버(160) 사이에 형성된 간극을 통과하여 기판(90)의 표면으로 분사된다.The cover 160 forms a predetermined gap between the ultrasonic head 150 and the outer surface of the ultrasonic head 150. One side of the cover 160 is connected to the air injector and the other side is formed with a jet port 161 to inject air toward the surface of the substrate (90). Air supplied from the air injector is injected to the surface of the substrate 90 through a gap formed between the ultrasonic head 150 and the cover 160.

따라서, 초음파헤드(150)에 의해 이물질이 기판(90)의 표면으로부터 일차적 으로 분리되고, 커버(160)의 분사구(161)로부터 분사되는 고압의 에어에 의해 이물질이 옵틱척(90)의 표면으로부터 이차로 분리되어 더욱 효율적인 클리닝 작업이 수행될 수 있다.Therefore, the foreign matter is first separated from the surface of the substrate 90 by the ultrasonic head 150, and the foreign matter is separated from the surface of the optical chuck 90 by the high pressure air injected from the injection hole 161 of the cover 160. Separation can be carried out on a secondary basis so that a more efficient cleaning operation can be performed.

도 12는 도 10의 변형 예에 따른 클리너의 부분 단면도이고, 도 13은 도 11의 변형 예에 따른 클리너의 부분 단면도이다.12 is a partial cross-sectional view of the cleaner according to the modification of FIG. 10, and FIG. 13 is a partial cross-sectional view of the cleaner according to the modification of FIG. 11.

도 12에 도시된 바와 같이, 흡입부(170) 양측에 초음파헤드(150)를 각각 구비할 수 있다. 또한, 도 13에 도시된 바와 같이, 초음파헤드(150) 및 커버(160)의 양측에 각각 흡입부(170)를 설치하는 것도 가능하다.As shown in FIG. 12, the ultrasonic heads 150 may be provided at both sides of the suction unit 170. In addition, as shown in FIG. 13, it is also possible to provide suction portions 170 on both sides of the ultrasonic head 150 and the cover 160, respectively.

또한, 도시되지는 않았으나, 클리너(200)는 정전기 흡착수단을 구비할 수 있다. 정전기 흡착수단은 기판(90) 표면에 부착된 이물질을 제전하여 흡착력을 감쇠시킨다. 따라서, 클리너(200)는 이물질의 흡인을 더욱 용이하게 수행할 수 있다.In addition, although not shown, the cleaner 200 may be provided with an electrostatic adsorption means. The electrostatic adsorption means desorbs foreign matter attached to the surface of the substrate 90 to attenuate the adsorption force. Therefore, the cleaner 200 may more easily carry out suction of the foreign matter.

또한, 도 14는 자력부를 구비한 클리너의 부분 단면도이다. 도 14에 도시된 바와 같이, 클리너(200)는 자력부(172)를 포함할 수 있다. 자력부(172)는 기판(90) 표면 또는 주변 대기의 금속 이물질을 끌어 당기는 기능을 한다. 자력부(172)는 영구자석, 전자석 등으로 구현될 수 있다. 14 is a partial sectional view of the cleaner provided with a magnetic force part. As shown in FIG. 14, the cleaner 200 may include a magnetic force part 172. The magnetic force portion 172 serves to attract metal foreign matter on the surface of the substrate 90 or in the surrounding atmosphere. The magnetic force unit 172 may be implemented as a permanent magnet, an electromagnet or the like.

도 3을 참조하면, 금속 이물질은 모듈레이터(20)의 투명전극(21)과 기판(90) 전극(92)(94) 사이에 전기장(8)이 형성되는 것을 방해할 수 있다. 결국, 클리너(200)에 구비된 자력부(172)가 금속 이물질을 제거하여, 검사의 에러를 줄이고 신뢰도를 향상시킨다.Referring to FIG. 3, the metal foreign matter may prevent the electric field 8 from being formed between the transparent electrode 21 of the modulator 20 and the electrodes 92 and 94 of the substrate 90. As a result, the magnetic force unit 172 provided in the cleaner 200 removes the metal foreign matter, thereby reducing the error of the inspection and improve the reliability.

지금까지, 클리너를 구비한 어레이 테스트 장치는 도면에 도시된 실시 예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당업자라면 누구든지 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시 예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.Up to now, the array test apparatus with cleaner has been described with reference to the embodiment shown in the drawings, but this is only illustrative, and those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible. Therefore, the true technical protection scope should be defined by the technical spirit of the appended claims.

도 1은 일 실시 예에 따른 어레이 테스트 장치의 사시도이고,1 is a perspective view of an array test apparatus according to an embodiment;

도 2는 도 1의 실시 예에 따른 클리너가 설치된 상태를 도시한 측면도이고,2 is a side view illustrating a state in which a cleaner according to the embodiment of FIG. 1 is installed;

도 3은 기판에 부착된 이물질에 의해 에러가 발생된 것을 도시한 것이고,Figure 3 shows that the error is caused by the foreign matter attached to the substrate,

도 4는 박리부를 도시한 클리너의 부분 단면도이고,4 is a partial cross-sectional view of the cleaner showing the peeling portion;

도 5는 흡입부를 도시한 클리너의 부분 단면도이고,5 is a partial cross-sectional view of the cleaner showing the suction portion;

도 6은 도 5의 변형 예에 따른 클리너의 부분 단면도이고,6 is a partial cross-sectional view of a cleaner according to a modification of FIG. 5,

도 7은 도 5의 다른 변형 예에 따른 클리너의 부분 단면도이고,7 is a partial cross-sectional view of a cleaner according to another modification of FIG. 5,

도 8은 도 5의 또 다른 변형 예에 따른 클리너의 부분 단면도이고,FIG. 8 is a partial cross-sectional view of a cleaner according to still another modification of FIG. 5;

도 9는 핀을 구비한 클리너의 부분 단면도이고,9 is a partial cross-sectional view of a cleaner with a pin,

도 10은 초음파헤드를 도시한 클리너의 부분 단면도이고,10 is a partial cross-sectional view of the cleaner showing the ultrasonic head,

도 11은 커버를 구비한 클리너의 부분 단면도이고,11 is a partial cross-sectional view of a cleaner with a cover,

도 12는 도 10의 변형 예에 따른 클리너의 부분 단면도이고,12 is a partial cross-sectional view of a cleaner according to a modification of FIG. 10,

도 13은 도 11의 변형 예에 따른 클리너의 부분 단면도이고,FIG. 13 is a partial cross-sectional view of a cleaner according to a modification of FIG. 11;

도 14는 자력부를 구비한 클리너의 부분 단면도.14 is a partial cross-sectional view of a cleaner having a magnetic force portion.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

20 : 모듈레이터 30 : 광원20: modulator 30: light source

60 : 검출부 70 : 로딩부60: detection unit 70: loading unit

80 : 언로딩부 90 : 기판80: unloading unit 90: substrate

100 : 어레이 테스트 장치 150 : 초음파헤드100: array test device 150: ultrasonic head

160 : 커버 170 : 흡입부160: cover 170: suction

180 : 박리부 200 : 클리너180: peeling unit 200: cleaner

Claims (10)

기판에 형성된 전극의 결함을 테스트하기 위해 기판 전극에 전압을 인가하는 프로빙 어셈블리를 포함하는 어레이 테스트 장치에 있어서,An array test apparatus comprising a probing assembly for applying a voltage to a substrate electrode to test a defect of an electrode formed on the substrate, 상기 프로빙 어셈블리 일측에 클리너가 구비되는 어레이 테스트 장치.Array test apparatus provided with a cleaner on one side of the probing assembly. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 프로빙 어셈블리는:The probing assembly is: 기판 전극에 전압을 인가하는 프로브 핀을 갖는 프로브 바; 및A probe bar having a probe pin for applying a voltage to the substrate electrode; And 상기 프로브 바와 연결되어 상기 프로브 바가 기판에 대해 일방향으로 이동되도록 구동되는 프로브 프레임;을 포함하여 이루어지되,Probe frame connected to the probe bar is driven to move in one direction with respect to the substrate bar; 상기 프로브 프레임은 상기 클리너와 연결되는 어레이 테스트 장치.And the probe frame is connected to the cleaner. 제1항 또는 제2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 클리너는 탈부착 가능하게 다수개가 구비되는 어레이 테스트 장치.Array cleaner device is provided with a plurality of the detachable. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 클리너는 상기 프로브 프레임의 길이 방향으로 구동되는 어레이 테스트 장치.And the cleaner is driven in the longitudinal direction of the probe frame. 제1항 또는 제2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 클리너는:The cleaner is: 기판으로부터 이물질을 박리하기 위한 박리부;를 포함하는 어레이 테스트 장치.An array test apparatus comprising a; peeling unit for peeling off foreign matter from the substrate. 제1항 또는 제2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 클리너는:The cleaner is: 기판 표면의 이물질 또는 주변 대기를 흡인하는 흡입부;를 포함하는 어레이 테스트 장치.And an intake unit for sucking foreign substances or ambient air on the surface of the substrate. 제6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 흡입부는:The suction unit: 기판을 향해 수직으로 복수개 형성되는 핀;을 구비하는 어레이 테스트 장치.And a plurality of pins formed vertically toward the substrate. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 클리너는:The cleaner is: 초음파를 발생시키는 초음파헤드;를 포함하는 어레이 테스트 장치.And an ultrasonic head for generating ultrasonic waves. 제8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 클리너는:The cleaner is: 상기 초음파헤드의 외측으로 에어가 통과되도록 상기 초음파헤드와의 사이에 간극을 형성시키는 커버;를 더 구비하는 어레이 테스트 장치.And a cover for forming a gap between the ultrasonic head and air so that air passes out of the ultrasonic head. 제1항 또는 제2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 클리너는:The cleaner is: 기판 표면 또는 주변 대기의 금속 이물질을 끌어 당기는 자력부;를 포함하는 어레이 테스트 장치.And a magnetic portion attracting metallic foreign substances on the surface of the substrate or the surrounding atmosphere.
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