KR20100135723A - 표시 장치용 유리 기판, 액정 표시 패널, 및 액정 표시 장치 - Google Patents

표시 장치용 유리 기판, 액정 표시 패널, 및 액정 표시 장치 Download PDF

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KR20100135723A
KR20100135723A KR1020107018671A KR20107018671A KR20100135723A KR 20100135723 A KR20100135723 A KR 20100135723A KR 1020107018671 A KR1020107018671 A KR 1020107018671A KR 20107018671 A KR20107018671 A KR 20107018671A KR 20100135723 A KR20100135723 A KR 20100135723A
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마사히로 이카다이
고지 후지타
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닛폰 이타가라스 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 셀 조립이 행해진 표시 패널의 표시 불균일을 없애고, 또한 후속 공정이 불필요하게 하거나 또는 후속 공정을 간이화할 수 있는 표시 장치용 유리 기판, 액정 표시 패널, 및 액정 표시 장치를 제공한다. 액정 패널(30)은, 서로 대향하는 유리(10, 32)와, 2장의 유리(10, 32) 사이에 주입된 액정층(34)과, 2장의 유리(10, 32)의 대향하는 면의 각각에 맞닿도록 배치된 구형의 스페이서(33a, 33b)를 구비한다. 유리(10)는, 두께가 1.1mm이며, 컷 오프치 0.8∼8 mm 의 측정 조건에 있어서,필터링된 파상도 곡선(filtered waviness curve)의 스펙트럼 해석에 의한 공간 주파수 2∼500 line/mm 사이의 주기 D가 20mm 보다 클 때, 그 진폭 A가 2㎛이하이며, 또한 주기 D가 20mm이하일 때, 진폭 A가 18nm이상이다.

Description

표시 장치용 유리 기판, 액정 표시 패널, 및 액정 표시 장치{GLASS SUBSTRATE FOR DISPLAY DEVICE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE}
본 발명은, 표시 장치용 유리 기판, 액정 표시 패널, 및 액정 표시 장치에 관한 것이다.
일반적인 액정 표시 장치에 사용되는 기판으로서, 판 두께 3∼5 mm의 플로우트 유리판(float glass plate)이 사용된다. 이 플로우트 유리판에는 플로우트의 흐름 방향에 대하여 수직인 방향으로 굴곡(undulation)이 있으며, 이 굴곡은 플로우트의 흐름 방향에 연속되어 있다. 즉, 플로우트 유리판에는 플로우트의 흐름 방향에 대하여 평행한 방향으로 줄모양의 무늬(streak-like pattern)가 형성되어 있다. 이 굴곡은 표면반사의 광학적 균일성에 영향을 미치므로, 이것이 다수 형성되어 있을 경우, 유리 기판이 액정 패널로 조립(이하, 「셀 조립」이라고 함)되면, 표시 불균일이 생기는 경우가 있다.
이와 같은 굴곡을 제거하여 상기 표시 불균일을 없애는 방법으로서는, 적어도 유리 기판의 한쪽의 표면을 소정의 표면 거칠기(컷 오프치 O.8mm∼8mm의 측정 조건에서, 0.05㎛ 이하)로 되도록 연마하는 종래 기술이나(예를 들면, 일본 공개특허 2001-235798호 공보 참조), 열 처리에 의해 유리 기판의 표면을 평탄화하는 종래 기술이나(예를 들면, 일본 공개특허 평11-199255호 공보 참조), 코팅을 행함으로써 유리 기판의 표면을 평탄화하는 종래 기술(예를 들면, 일본 공개특허 2005-26253593호 공보 참조)이 알려져 있다.
한편, 셀 조립을 행하면, 액정의 표면 장력으로 상기 굴곡이 교정되는 것이 알려져 있다. 그러므로, 예를 들면, 판 두께가 0.2∼1.1 mm(±0.1mm)이며, 상기 굴곡을 사인 커브로 근사시켰을 때의 주기가 적어도 3.0×10-2m 이상인 유리 기판을 사용하여 셀 조립을 행하면, 상기 표시 불균일은 관측되지 않는다는 것도 알려져 있다(예를 들면, 일본 공개특허 제2008/001954호 팜플렛 참조).
그러나, 전술한 종래 기술은 모두, 상기 표시 불균일을 제거하기 위해 원판(raw plate)의 제조 후에 연마 등의 후속 공정을 행할 필요가 있으므로, 고비용이 되고 있다.
또한, 상기 액정의 표면 장력에 의한 교정이 이루어지는 정도는, 미소한 파형의 요철의 주기가 작아질수록 낮아지므로, 셀 조립을 행한 후의 표시 불균일도 쉽게 관측된다. 따라서, 이러한 주기가 작은 요철에 의해 생기는 표시 불균일은, 종래 기술의 방법으로는 해소할 수 없었다.
일본 공개특허 2001-235798호 공보 일본 공개특허 평11-199255호 공보 일본 공개특허 2005-26253593호 공보 일본 공개특허 제2008/001954호 팜플렛
본 발명의 목적은, 셀 조립이 행해진 표시 패널의 표시 불균일을 없애고, 또한 후속 공정이 불필요하게 하거나 또는 후속 공정을 간이화할 수 있는 표시 장치용 유리 기판, 액정 표시 패널, 및 액정 표시 장치를 제공하는 것에 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 제1 태양에 의하면, 판형의 용융 유리에 대하여, 상기 용융 유리의 표면과 동일한 평면에서, 서로 수직인 2방향으로 인장 응력을 부여함으로써 제조된 두께 t mm의 표시 장치용 유리 기판으로서, 컷 오프치 0.8∼8 mm의 측정 조건에 있어서, 필터링된 파상도 곡선(filtered waviness curve)의 스펙트럼 해석에 의한 공간 주파수 2∼500 line/mm 사이의 주기 D가 20 mm보다 클 때, 그 진폭 A가 2×(1.1/t)3㎛ 이하이며, 또한 상기 주기 D가 20mm 이하이고 t가 1.1mm일 때의 상기 진폭 A가 18nm 이상인 표시 장치용 유리 기판이 제공된다.
이로써, 판형의 용융 유리에 대하여, 이 용융 유리의 표면과 동일한 평면에서, 서로 수직인 2방향으로 인장 응력을 부여함으로써 형성된 두께 t mm의 표시 장치용 유리 기판으로서, 컷 오프치 0.8∼8 mm의 측정 조건에 있어서, 필터링된 파상도 곡선의 스펙트럼 해석에 의한 공간 주파수 2∼500 line/mm 사이의 주기 D가 20 mm보다 클 때, 그 진폭 A가 2×(1.1/t)3㎛ 이하이며, 또한 주기 D가 20mm 이하이고 t가 1.1mm일 때, 진폭 A가 18nm 이상이면, 주기가 20mm 이하일 때의 진폭을 20nm 이하로 억제할 수 있고, 셀 조립이 행해진 표시 패널의 표시 불균일을 없애고, 또한 후속 공정이 불필요하게 하거나 또는 후속 공정을 간이화할 수 있다.
본 제1 태양에 있어서, 상기 주기 D가 20mm 이하일 때, 상기 진폭 A가 12nm 이하인 것이 바람직하다.
이에 따라, 주기 D가 20mm 이하일 때, 진폭 A가 12nm 이하이므로, 후속 공정으로서의 표면 연마를 행하지 않아도, 이것을 사용하여 표시 불균일이 없는 표시 패널을 제조할 수 있다.
본 제1 태양에 있어서, 표면 연마를 행함으로써, 상기 주기가 20mm 이하일 때의 상기 진폭을 12nm 이하로 하는 것이 바람직하다.
이에 따라, 표면 연마를 행함으로써, 주기가 20mm 이하일 때의 진폭을 12nm 이하로 하므로, 후속 공정으로서의 표면 연마를 통상보다 짧게 행해도, 이것을 이용하여 표시 불균일이 없는 표시 패널을 제조할 수 있다.
본 제1 태양에 있어서, 상기 표시 장치용 유리 기판은, 플로우트법에 의해 제조되는 것이 바람직하다.
상기 플로우트법에 의해 제조되므로, 상기 표시 장치용 유리 기판을 확실하게 제조할 수 있다.
본 제1 태양에 있어서, 상기 표시 장치용 유리 기판은, 액정 표시용 유리 기판인 것이 바람직하다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 제2 태양에 따르면, 상기 표시 장치용 유리 기판을 사용한 액정 표시 패널이 제공된다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 제3 태양에 따르면, 상기 표시 장치용 유리 기판을 사용한 액정 표시 장치가 제공된다.
도 1은, 본 발명의 제1 실시 형태에 따른 표시 장치용 유리 기판의 연속 성형 방법을 설명하기 위해 사용되는 도면이다.
도 2는, 도 1의 유리로 셀 조립이 행해진 액정 패널의 구성을 개략적으로 나타내는 단면도이다.
도 3은, 인접하는 스페이서 사이의 유리를 빔으로 가정할 때의 역학 모델을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 4a 및 도 4b는, 실시 형태 1의 측정 결과를 나타내는 도면이며, 도 4a는 실시 형태 1의 두께 차 측정의 결과이며, 도 4b는 실시 형태 1의 주파수 해석의 결과이다.
도 5a 및 도 5b는, 비교예 1의 측정 결과를 나타내는 도면이며, 도 5a는 비교예 1의 두께 차 측정의 결과이며, 도 5b는 비교예 1의 주파수 해석의 결과이다.
도 6a 및 도 6b는, 실시 형태 2의 측정 결과를 나타내는 도면이며, 도 6a는 실시 형태 2의 두께 차 측정의 결과이며, 도 6b는 실시 형태 2의 주파수 해석의 결과이다.
본 발명자는, 상기 목적을 달성하기 위해 연구를 거듭한 결과, 평형 두께(equilibrium thickness)를 가지는 판형의 유리에 대하여, 상기 유리의 표면과 동일한 평면에서, 서로 수직인 2방향으로 인장 응력을 부여함으로써 형성된 두께 t mm의 표시 장치용 유리 기판으로서, 컷 오프치 0.8∼8 mm의 측정 조건에 있어서, 필터링된 파상도 곡선의 스펙트럼 해석에 의한 공간 주파수 2∼500 line/mm 사이의 주기 D가 20mm보다 크면, 그 진폭 A가 2×(1.1/t)3㎛ 이하이고, 또한 주기 D가 20mm 이하이며 t가 1.1mm일 때의 진폭 A가 18nm 이상이면, 유리 기판의 액정 패널에 대한 조립(이하, 「셀 조립」이라고 함)을 행한 후의 표시 불균일을 없애고, 또한 후속 공정이 불필요하게 하거나 또는 후속 공정을 간이화할 수 있는 것을 발견하였다.
본 발명은, 전술한 지견(知見)에 따라 행해진 것이다.
이하, 본 발명의 실시 형태를 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.
도 1은, 본 발명의 실시 형태에 따른 표시 장치용 유리 기판의 연속 성형 방법을 설명하기 위해 사용되는 도면이다.
본 발명의 실시 형태에 따른 표시 장치용 유리 기판은, 유리를 판형으로 형성한 후 인장 응력에 의해 박형화하는 연속 성형 방법 중, 플로우트법을 사용하여 제조된다. 그리고, 본 실시 형태에 있어서는, 유리(10)를 플로우트법을 사용하여 제조하였으나, 연속 성형으로 박판 유리를 제조하는 방법이라면 이에 한정되지 않고, 예를 들면, 다운드로법을 사용해도 된다.
도 1에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 실시 형태에 따른 표시 장치용 유리 기판(20)인 유리(10)를 성형하는 장치(1)는, 로(2)로부터 유입된 용융 유리(5)가 판형으로 되어 떠오르는 주석욕(tin bath; 3)과, 주석욕(3) 상의 용융 유리(5)를 드로잉 방향으로 당김으로써, 두께 1.1mm의 유리(10)를 성형·반송하는 반송 롤러(6)와, 주석욕(3) 상의 용융 유리(5)의 단부에 거는 복수개의 기어상(狀)의 탑 롤러(7)를 구비한다.
로(2)로부터 주석욕(3)에 유입된 용융 유리(5)는, 아무런 인장 응력이 인가되어 있지 않은 상태에 있어서는, 평형 두께인 6∼7 mm의 두께로 되어 주석욕(3) 상으로 퍼진다. 또한, 용융 유리(5)의 박판화는, 주석욕(3) 상으로 퍼져나간 용융 유리(5)의 선단을 반송 롤러(6)에 의해 드로잉 방향으로 당김으로써 행해진다. 이러한 방법으로 박판화되는 용융 유리(5)의 두께는, 반송 롤러(6)의 회전 속도를 높이고, 용융 유리(5)에 대한 드로잉 방향의 인장 응력을 크게 할수록 얇아진다.
그러나, 유리의 연속 성형의 특성상, 로(2) 측이 반고정 상태에서, 반송 롤러(6)에 의해 드로잉 방향으로 용융 유리(5)에 대한 인장 응력이 부여된다. 이 때, 용융 유리(5)의 폭 방향, 즉 용융 유리(5)의 표면과 동일한 평면에서, 드로잉 방향과 수직인 방향으로도 인장 응력이 부여되지 않으면, 얻어진 유리(10)에는 수지 필름이나 고무가 늘어나듯이 드로잉 방향에 평행하게 절곡되는 줄 모양의 변형이 발생한다. 폭 방향의 단면을 보면 이것은 두께가 균일한 파형의 굴곡으로 된다. 한편, 탑 롤러(11)를 용융 유리(5)의 단부에 걸어서, 용융 유리(5)의 폭 방향으로도 충분한 인장 응력이 부여되고 있는 경우, 유리(10)에 생기는 상기 파형의 굴곡을 해소할 수 있다. 그러나, 이 경우, 얻어진 유리(10)의 강도가 취약한 부분에서는 크리프 변형(creep deformation)이 일어나고, 강도가 강한 부분은 탄성 변형된다. 이 결과, 유리(10)에는, 상기 파형의 굴곡 대신 섬세한 두께 차를 수반하는 요철이 발생한다.
일반적으로, 연속 성형된 유리에 대하여, 컷 오프치 0.8∼8 mm의 측정 조건에 있어서 필터링된 파상도 곡선의 스펙트럼 해석을 행한 경우, 그 공간 주파수 2∼500 line/mm 사이의 주기 D 중, 상기 파형의 굴곡에 의한 것은 최대 20mm, 평균 수mm 정도로 된다. 한편, 주기 D 중, 상기 섬세한 두께 차를 수반한 요철에 의한 것은 20mm 보다 크게 된다. 그리고, 컷 오프치는 JIS B O601로 규정되어 있고, 필터링된 파상도 곡선은 JIS B O651로 규정되어 있다.
도 2는, 도 1의 유리(10)로 셀 조립이 행해진 액정 패널의 구성을 개략적으로 나타내는 단면도이다. 여기서, 본 실시 형태에 따른 액정 패널은 TFT 방식에 의한 것이다.
도 2에 있어서, 액정 패널(30)은, 서로 대향하는 유리(10, 32)와, 2장의 유리(10, 32) 사이에 주입된 액정층(34)과, 2장의 유리(10, 32)의 대향하는 면 각각에 맞닿도록 배치된 구형(球形)의 스페이서(33a, 33b)를 구비한다.
이 액정 패널(30)에 있어서, 유리(10)에는, 유리(10)의 제법(플로우트법)에 기인하여, 전술한 파형의 굴곡이 형성되어 있으므로, 유리(10)에 맞닿는 스페이서(33a)와, 맞닿지 않는 스페이서(33b)가 존재하게 된다.
즉, 이 파형의 굴곡의 산과 골의 높이의 차이는, 전술한 진폭 A에 상당하고, 어떤 골로부터 인접하는 골까지의 1주기의 길이는 전술한 주기 D에 상당하고, 주기 D의 양단의 골과 2개의 스페이서(33a)가 맞닿는 경우, 양단의 골 사이에 존재하는 산의 부분에 배치된 스페이서(33b)는, 유리(10)로부터 진폭 A 만큼 이격된 위치에 배치된다.
그러나, 실제로는, 유리(10, 32) 사이에는 액정층(34)이 주입되어 있고, 액정층(34)은 표면 장력을 가지고 있으므로, 상기 표면 장력에 의해 유리(10)는 액정층(34) 측으로 끌어당겨져서, 진폭 A가 교정되어 스페이서(33b)와 유리(10)의 거리는, 실제로는 ΔA가 되는 것으로 추측된다.
이에, 본 발명자들은, 전술한 현상에 대하여, 인접하는 스페이서(33a) 사이의 유리(10)를 빔으로 가정하여, 이하의 역학 모델을 적용하였다.
도 3은, 인접하는 스페이서(33a) 사이의 유리(10)가 빔으로 가정되었을 때의 역학 모델을 개략적으로 나타낸 도면이다.
도 3에 있어서, 폭 W, 판 두께 t의 빔은, 빔 길이가 D로 되도록 삼각기둥으로 지지된다. 이 경우, 빔의 상부로부터 수직으로 하중 F를 걸면, 빔이 δ만큼 휜다. 이 때, 빔의 단면 2차 모멘트는 하기 식 (1)로 나타내어지고,
I = t3×W/12 …(1)
또한, 휨 δ는 단면 2차 모멘트 I를 사용하면, 하기 식 (2)로 나타내어진다.
δ = F×D3/(48×E×I) …(2)(단, E는 영률이다)
상기 식 (1) 및 식 (2)로부터, 휨 δ는 하기 식 (3)으로 나타낸 바와 같이 된다.
δ = F×D3/(4×E×W×t3) …(3)
도 3의 역학 모델을 도 2의 액정 패널에 적용하면, 도 3에서의 하중 F가 도 2에서의 표면 장력에 해당한다. 여기서, 표면 장력에 의한 유리(10)의 끌림량(amount of attraction)(휨 δ)이 진폭 A 이상인 경우에는, 표면 장력에 의해 유리(10)의 파형의 굴곡은 교정·완화되어, 표면 불균일의 문제가 생기지 않는다.
그러나, 1.1mm의 두께가 되도록 형성된 유리(10)에 있어서, 상기 파형의 굴곡의 주기(파장)가 2㎛보다 크면, 셀 조립을 행한 후에도 그 진폭을 완화할 수 없게 된다. 그 결과, 표시 불균일의 문제가 생기거나, 또한, 접합할 수 없게 되어 셀 조립 그 자체에 문제가 생긴다. 또한, 식 (3)으로부터 명백한 바와 같이, 휨 δ는, 유리(10) 두께 t의 3제곱에 반비례한다. 따라서, 두께 t의 표시용 유리 기판에 생기는 파형의 굴곡의 주기(파장)의 진폭 A로서 허용되는 최대값 Amax는 Amax ≤ 2×(1.1/t)3㎛로 된다.
한편, 휨 δ는, 유리(10)의 주기 D의 3제곱에 비례한다. 따라서, 주기 D가 20mm 보다 큰 상기 파형의 굴곡은 셀 조립에 의해 완화되는 비해, 주기 D가 20mm 미만인 전술한 섬세한 두께 차를 수반한 요철은 셀 조립에 의해서는 완화될 수 없다.
이상으로부터, 연속 성형 시의 폭 방향의 인장 응력을 통상보다 줄이면서, 또한 드로잉 방향의 인장 응력을 통상보다 증가시키도록 하고, 유리(10)에 생기는 주기 D가 20mm 보다 큰 파형의 굴곡을 셀 조립에 의해 완화할 수 있는 범위에서 잔존시키면, 주기 D가 20mm 미만인 전술한 섬세한 두께 차를 수반하는 요철을 최소한으로 억제할 수 있는 것으로 추측되었다.
본 발명자는, 연속 성형 시의 폭 방향 및 드로잉 방향의 2방향의 인장 응력을 조정한 결과, 두께 1.1mm, 주기 D가 20mm 보다 큰 범위에서의 진폭 A가 18nm 이상인 유리를 제조하면, 제조된 유리(10)의 진폭 A는, 주기 D가 20mm 이하인 범위에서 20nm 이하로 억제할 수 있다는 지견을 얻었다.
도 4a, 도 4b 및 도 5a, 도 5b는, 상기 2방향의 인장 응력을 조정하여 제조한 유리의 측정 결과이다.
먼저, 제조된 각 유리의 두께 차를, 도 4a, 도 5a에 나타낸 바와 같이, JIS B O601, JIS B 0651에 준거하는, 컷 오프치 0.8∼8 mm의 측정 조건으로 측정하였다.
다음으로, 도 4b, 도 5b에 나타낸 바와 같이, 얻어진 각 유리의 두께 차를 주파수 해석(푸리에 변환)하였다. 이 결과, 모든 유리가 주기 D가 20mm 이하의 범위에서, 진폭 A가 20nm 이하로 되는 것을 알았다.
이하, 도 4b에 나타낸 바와 같이, 제조된 유리 중, 진폭 A의 최대값이, 주기 D가 20mm 이하일 때 12nm인 유리를 실시예 1이라고 한다. 한편, 도 5b에 나타낸 바와 같이, 제조된 유리 중, 진폭 A의 최대값이, 주기 D가 20mm 이하인 16nm 유리를 비교예 1이라고 한다.
그 후, 실시예 1 및 비교예 1의 유리를 사용하여 셀 조립을 행하고, 육안관찰로 액정 패널의 표시 불균일의 유무를 확인하였다. 이 결과, 실시예 1을 이용하여 셀 조립을 행한 액정 패널에는 표시 불균일이 발생하지 않았는데 비해, 비교예 1을 이용하여 셀 조립을 행한 액정 패널에는 표시 불균일이 발생하였다.
이상의 결과로부터, 전술한 바와 같이 제조된 유리 중, 주기 D가 20mm 이하의 범위에서 진폭 A가 12nm 이하의 것을 사용하여 셀 조립을 행하면, 액정 패널에 대한 표시 불균일을 없애고, 또한 후속 공정이 불필요한 것을 알았다.
다음으로, 연속 성형 시의 폭 방향 및 드로잉 방향의 2방향의 인장 응력을 전술한 바와 같이 조정하지 않고, 통상의 설정으로 제조한 유리를 연마 레이트 1㎛/분으로 표면 연마하여, 얻어진 유리의 진폭 A가, 주기 D가 20mm 이하의 범위에서 12nm이하로 할 때까지 걸리는 시간을 측정하였다. 이 결과, 연마 시간은 3분이었다. 이하, 이 표면 연마 후의 유리를 비교예 2라고 한다.
한편, 상기 비교예 1의 유리를 연마 레이트 1㎛/분으로 표면 연마하여, 얻어진 유리의 진폭 A가, 주기 D가 20mm 이하의 범위에서 12nm 이하로 할 때까지 걸리는 시간을 측정하였다. 그 결과, 도 6a, 도 6b에 나타내는 형상이 될 때까지 걸린 연마 시간은 1분이었다. 이하, 이 표면 연마 후의 유리를 실시예 2라고 한다.
그 후, 실시예 2 및 비교예 2의 유리를 사용하여 셀 조립을 행하고, 육안으로 액정 패널의 표시 불균일의 유무를 확인하였다. 그 결과, 비교예 2의 모든 유리를 사용하여 셀 조립을 행한 액정 패널에 표시 불균일이 생기지 않았다.
이상의 결과로부터, 전술한 바와 같이 제조된 유리 중, 비교예 1과 같이, 주기 D가 20mm 이하인 범위에서 진폭 A가 12nm보다 크더라도, 셀 조립 후의 액정 패널에 표시 불균일이 생기지 않을 정도로까지 연마하는 데 걸리는 시간은, 통상보다 짧게 할 수 있는 것을 알 수 있다. 이는, 비교예 1의 표면 연마 전의 상태에 비해, 실시예 2의 표면 연마 전 상태는, 주기 D가 20mm 이하인 범위에서의 진폭 A의 값이 작기 때문인 것으로 추측된다.

Claims (7)

  1. 판형의 용융 유리에 대하여, 상기 용융 유리의 표면과 동일한 평면에서, 서로 수직인 2방향으로 인장 응력을 부여함으로써 제조된 두께 t mm의 표시 장치용 유리 기판으로서,
    컷 오프치 0.8∼8 mm의 측정 조건에 있어서, 필터링된 파상도 곡선(filtered waviness curve)의 스펙트럼 해석에 의한 공간 주파수 2∼500 line/mm 사이에서의 주기 D가 20mm보다 클 때, 상기 필터링된 파상도 곡선의 진폭 A가 2×(1.1/t)3㎛ 이하이며, 또한 상기 주기 D가 20mm 이하이고 t가 1.1mm일 때, 상기 진폭 A가 18nm 이상인,
    표시 장치용 유리 기판.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 주기 D가 20mm 이하일 때, 상기 진폭 A가 12nm 이하인, 표시 장치용 유리 기판.
  3. 제1항에 있어서,
    표면 연마함으로써, 상기 주기가 20mm 이하일 때의 상기 진폭을 12nm 이하로 하는, 표시 장치용 유리 기판.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 유리 기판은 플로우트법에 의해 제조되는, 표시 장치용 유리 기판.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 유리 기판은 액정 표시용 유리 기판인, 표시 장치용 유리 기판.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 따른 표시 장치용 유리 기판을 사용한, 액정 표시 패널.
  7. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 따른 표시 장치용 유리 기판을 사용한, 액정 표시 장치.
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