KR20100130422A - Ｅｕｖ 마스크용 공간 영상 측정 장치 및 방법 - Google Patents

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Abstract

EUV 마스크용 공간 영상 측정 장치 및 공간 영상 측정 방법에 관해 개시한다. 일 실시예에 따른 공간 영상 측정 장치는, 상부에 반사형 EUV(extreme ultra-violet) 마스크가 위치되고, 상기 반사형 EUV 마스크를 x축 혹은 y축의 방향으로 이동시키는 이동부, 상기 이동부의 상부에 위치하고, 간섭 EUV 광 중 일정 파장의 광을 선택하여 반사시키는 X-ray 거울(mirror), 상기 이동부와 상기 X-ray 거울의 사이에 위치하고, 반사된 상기 간섭 EUV 광을 상기 반사형 EUV 마스크의 일부 영역에 집속시키는 존플레이트(zoneplate) 렌즈, 및 상기 이동부의 상부에 위치하고, 집속된 상기 간섭 EUV 광이 상기 반사형 EUV 마스크의 일부 영역에 의하여 반사되는 경우, 반사된 상기 간섭 EUV 광의 에너지를 감지하는 검출부를 포함하고, 상기 존플레이트 렌즈, 상기 검출부 및 노광기(scanner)의 각각의 개구수(numeric aperture) NAzoneplate, NAdetector, 및 NAscanner와, 상기 노광기의 사입사도(
Figure 112009033638466-PAT00001
)는, NAzoneplate=NAscanner/4 및 NAdetector=NAscanner/4*
Figure 112009033638466-PAT00002
의 관계를 만족한다.
공간 영상, 에어리얼 이미지, 결함, 노광 공정

Description

ＥＵＶ 마스크용 공간 영상 측정 장치 및 방법{Apparatus and method for measuring an aerial image of EUV mask}
본 발명은 반도체 소자 제조 공정에 관련된 발명으로서, 더욱 상세하게는 반도체 소자 제조 공정 중에 노광 공정을 이용한 미세 패턴 형성에 사용되는 원판 마스크의 오차를 측정하는 마스크 측정 방법에 관한 것이다.
최근 반도체 회로 선폭의 미세화를 위해 보다 짧은 파장의 조명 광원이 요구되어, 노광 광원으로 파장이 50nm 이하인 극자외선(EUV, extreme ultra-violet)을 사용한 노광 공정이 활발히 연구되고 있다.
이와 같이 노광 공정의 난이도가 점점 증가함에 따라, 마스크(mask) 자체의 작은 에러는 웨이퍼상의 회로 패턴에 심각한 오류를 발생시킨다. 따라서, 포토마스크를 사용하여 웨이퍼상에 패턴을 구현할 때, 포토마스크상에 존재하는 각종 결함들이 웨이퍼에 미치는 영향을 미리 검증하기 위하여, 마스크의 공간 영상(aerial image)이 측정되고 이들의 결함들이 검사된다.
기존 EUV 마스크용 공간 영상 측정 장치는 다수의 EUV용 거울(mirror)들을 사용하여, 거울들의 설치 및 제작에 많은 기술이 필요하게 된다. 또한 각 거울들 의 반사율이 100%가 아니므로 다수의 거울들의 사용을 하여야 한다. 따라서 매우 큰 소스 전력(source power)이 필요하다는 문제가 있다. 나아가 기존 EUV 마스크용 공간 영상 측정 장치는 고가의 제작 비용을 요하고, 주문 후의 개발 기간이 수 년 이상이 걸리기 때문에, 이를 구매하기가 쉽지 않다.
따라서 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 전체적인 복잡도와 요구되는 기술적 수준을 낮추더라도, 노광기의 개구수(NA, numeric aperture)와 사입사도(
Figure 112009033638466-PAT00003
)를 완벽하게 묘사(emulation)할 수 있는 EUV 마스크용 공간 영상 측정 장치를 제공하는 것이다.
본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는, 기존 EUV 마스크용 공간 영상 측정 장치에 비하여 개발 기간 및 비용이 단축된 EUV 마스크용 공간 영상 측정 장치를 제공하는 것이다.
본 발명이 이루고자 하는 또 다른 기술적 과제는, 상기 공간 영상 측정 장치를 이용한 공간 영상 측정 방법을 제공하는 것이다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 태양에 따른 공간 영상 측정 장치가 제공된다. 상기 공간 영상 측정 장치는 상부에 반사형 EUV(extreme ultra-violet) 마스크가 위치되고, 상기 반사형 EUV 마스크를 x축 혹은 y축의 방향으로 이동시키는 이동부, 상기 이동부의 상부에 위치하고, 간섭 EUV 광 중 일정 파장의 광을 선택하여 반사시키는 X-ray 거울(mirror), 상기 이동부와 상기 X-ray 거울의 사이에 위치하고, 반사된 상기 간섭 EUV 광을 상기 반사형 EUV 마스크의 일부 영역에 집속시키는 존플레이트(zoneplate) 렌즈, 및 상기 이동부의 상부에 위치하고, 집속된 상기 간섭 EUV 광이 상기 반사형 EUV 마스크의 일부 영역에 의하여 반 사되는 경우, 반사된 상기 간섭 EUV 광의 에너지를 감지하는 검출부를 포함하고, 상기 존플레이트 렌즈, 상기 검출부 및 노광기(scanner)의 각각의 개구수(numeric aperture) NAzoneplate, NAdetector, 및 NAscanner와, 상기 노광기의 사입사도(
Figure 112009033638466-PAT00004
)는, NAzoneplate=NAscanner/4 및 NAdetector=NAscanner/4*
Figure 112009033638466-PAT00005
의 관계를 만족할 수 있다.
상기 공간 영상 측정 장치의 일 예에 의하면, 상기 공간 영상 측정 장치는 상기 반사형 EUV 마스크와 상기 검출부 사이에 위치하는 어퍼쳐(aperture)를 더 포함할 수 있다.
상기 공간 영상 측정 장치의 다른 예에 의하면, 상기 공간 영상 측정 장치의 상기 X-ray 거울은 몰리브덴층 및 실리콘층이 교번하여 적층된 다층막 구조일 수 있다.
상기 공간 영상 측정 장치의 다른 예에 의하면, 상기 공간 영상 측정 장치는 고출력 펨토세컨드(femtosecond) 레이저를 생성하는 광원, 상기 고출력 펨토세컨드 레이저로부터 일정 파장의 간섭(coherent) EUV 광을 생성하는 가스 셀(gas cell), 및 상기 고출력 펨토세컨드 레이저를 렌즈 상기 가스 셀로 집속시키는 렌즈를 포함하는 EUV 광 생성부를 더 포함할 수 있다.
상기 공간 영상 측정 장치의 다른 예에 의하면, 상기 일정 파장의 간섭 EUV 광 중 13.5 nm 의 파장의 생성 효율이 최적화될 수 있도록, 상기 EUV 광 생성부의 상기 가스 셀 내부에 네온 가스가 채워져 있을 수 있다.
상기 공간 영상 측정 장치의 다른 예에 의하면, 상기 공간 영상 측정 장치의 상기 X-ray 거울은 상기 EUV 광 생성부로부터 방출된 상기 EUV 광을 상기 반사형 EUV 마스크의 법선에서 4 내지 8 o 기울어진 각도로 상기 반사형 EUV 마스크의 일부 영역을 향하여 반사시키도록 설계될 수 있다.
상기 공간 영상 측정 장치의 다른 예에 의하면, 상기 공간 영상 측정 장치의 상기 존플레이트 렌즈는 상기 EUV 광이 상기 반사형 EUV 마스크의 법선에서 4 내지 8 o 기울어진 각도로 상기 반사형 EUV 마스크의 일부 영역에 집속시키도록 설계될 수 있다.
상기 공간 영상 측정 장치의 다른 예에 의하면, 상기 검출부에서 감지한 에너지로 상기 반사형 EUV 마스크의 이미지를 재구성(reconstruction)하는 연산부를 더 포함할 수 있다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 다른 태양에 따른 공간 영상 측정 장치가 제공된다. 상기 공간 영상 측정 장치는, 상부에 반사형 EUV(extreme ultra-violet) 마스크를 위치시키고, 상기 반사형 EUV 마스크를 x축 혹은 y축의 방향으로 이동시키는 이동부, 상기 이동부의 상부에 위치하고, EUV 광을 상기 반사형 EUV 마스크의 법선에서 노광기와 동일한 각도로 상기 반사형 EUV 마스크의 일부 영역에 집속시키는 존플레이트 렌즈, 및 상기 이동부의 상부에 위치하고, 집속된 상기 EUV 광이 상기 반사형 EUV 마스크의 일부 영역에 의하여 반사되는 경우, 반사된 상기 EUV 광의 에너지를 감지하는 검출부를 포함하고, 상기 존플레이트 렌즈, 상기 검출부 및 노광기(scanner)의 각각의 개구수(numeric aperture) NAzoneplate, NAdetector, 및 NAscanner와, 상기 노광기의 사입사도(
Figure 112009033638466-PAT00006
)는, NAzoneplate=NAscanner/n 및 NAdetector=NAscanner/n*
Figure 112009033638466-PAT00007
의 관계를 만족하고, n은 상기 노광기의 축소배율일수 있다.
상기 또 다른 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 태양에 따른 공간 영상 측정 방법이 제공된다. 상기 측정 방법은, EUV 광을 생성하는 제 1 단계, 상기 EUV 광을 X-ray 거울에 반사시키는 제 2 단계, 상기 X-ray 거울에서 반사된 상기 EUV 광을 존플레이트 렌즈에 투과시키는 제 3 단계, 투과된 상기 EUV 광을 반사형 EUV 마스크의 상부의 일부 영역에 반사시키는 제 4 단계, 상기 반사형 EUV 마스크에서 반사된 상기 EUV 광의 에너지를 검출부로 감지하는 제 5 단계, 상기 검출부에서 감지한 에너지를 이미지 정보로 변환하고, 상기 이미지 정보를 행렬 데이터로 저장하는 제 6 단계, 및 상기 행렬 데이터를 기초로 하여 상기 반사형 EUV 마스크의 공간 영상을 출력하는 제 7단계를 포함하고, 상기 X-ray 거울 또는 상기 존플레이트 렌즈는 상기 EUV 광이 상기 반사형 EUV 마스크의 법선에서 4 내지 8 o 기울어진 각도로 상기 반사형 EUV 마스크의 일부 영역에 입사되고, 상기 존플레이트 렌즈, 상기 검출부 및 노광기의 개구수를 각각 NAzoneplate, NAdetector, 및 NAscanner라 하고, 상기 노광기의 사입사도를
Figure 112009033638466-PAT00008
라 할 경우, NAzoneplate=NAscanner/4 및, NAdetector=NAscanner/4*
Figure 112009033638466-PAT00009
의 관계를 만족하며, 상기 반사형 EUV 마스크를 x축 혹은 y축의 방향으로 이동시키며, 상기 제 1 단계 내지 상기 제 6 단계를 복수 반복할 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따른 공간 영상 측정 장치는, 종래 공간 영상 측정 장치에 비하여 구성을 단순화시킴으로써, 공간 영상 측정 장치의 전체적인 복잡도를 낮출 수 있고, 이의 개발에 요구되는 기술적 수준을 완화시킬 수 있다.
본 발명의 실시예들에 따른 공간 영상 측정 방법은, 노광기의 개구수(NA, numeric aperture)와 사입사도(
Figure 112009033638466-PAT00010
)를 완벽하게 묘사(emulation)하여, EUV 마스의 공간 영상을 측정할 수 있다. 따라서 노광 단계 이전에 마스크의 결함을 발견하고 이를 수정할 수 있어, 양질의 EUV용 마스크를 제작할 수 있고, 결국 웨이퍼 수율의 향상을 도모할 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다.
본 발명의 실시예들은 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이며, 아래의 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시예들로 한정되는 것은 아니다. 오히려, 이들 실시예는 본 개시를 더욱 충실하고 완전하게 하며 당업자에게 본 발명의 사상을 완전하게 전달하기 위하여 제공되는 것이다.
본 명세서에서 사용된 용어는 특정 실시예를 설명하기 위하여 사용되며, 본 발명을 제한하기 위한 것이 아니다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이 단수 형태는 문맥상 다른 경우를 분명히 지적하는 것이 아니라면, 복수의 형태를 포함할 수 있 다. 또한, 본 명세서에서 사용되는 경우 “포함한다(comprise)” 및/또는 “포함하는(comprising)”은 언급한 형상들, 숫자, 단계, 동작, 부재, 요소 및/또는 이들 그룹의 존재를 특정하는 것이며, 하나 이상의 다른 형상, 숫자, 동작, 부재, 요소 및/또는 그룹들의 존재 또는 부가를 배제하는 것이 아니다. 본 명세서에서 사용된 바와 같이, 용어 “및/또는”은 해당 열거된 항목 중 어느 하나 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다.
본 명세서에서 제1, 제2 등의 용어가 다양한 부재, 영역 및/또는 부위들을 설명하기 위하여 사용되지만, 이들 부재, 부품, 영역, 층들 및/또는 부위들은 이들 용어에 의해 한정되어서는 안됨은 자명하다. 이들 용어는 특정 순서나 상하, 또는 우열의 의미하지 않으며, 하나의 부재, 영역 또는 부위를 다른 부재, 영역 또는 부위와 구별하기 위하여만 사용된다. 따라서, 이하 상술할 제1 부재, 영역 또는 부위는 본 발명의 가르침으로부터 벗어나지 않고서도 제2 부재, 영역 또는 부위를 지칭할 수 있다.
이하, 본 발명의 실시예들은 본 발명의 이상적인 실시예들을 개략적으로 도시하는 도면들을 참조하여 설명한다. 도면들에 있어서, 예를 들면, 제조 기술 및/또는 공차에 따라, 도시된 형상의 변형들이 예상될 수 있다. 따라서, 본 발명의 실시예는 본 명세서에 도시된 영역의 특정 형상에 제한된 것으로 해석되어서는 아니 되며, 예를 들면 제조상 초래되는 형상의 변화를 포함하여야 한다.
도 1 및 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 공간 영상 측정 장치를 개략적으로 나타낸 것이다.
도 1을 참조하면, 공간 영상 측정 장치는 EUV 광 생성부(10), X-ray 거울(20), 존플레이트 렌즈(30), 반사형 EUV(extreme ultra-violet) 마스크(40, 이하에서는, "마스크"로 지칭함), 검출부(50), 및 연산부(60)를 포함할 수 있다. EUV 광 생성부(10)에서는 12 내지 14 nm의 파장을 가지는 간섭(coherent) EUV 광이 생성될 수 있다.
상기 EUV 광은 X-ray 거울(20)을 통해 존플레이트 렌즈(30)의 방향으로 반사된다. 상기 X-ray 거울(20)은 EUV 광 중 12 내지 14 nm 파장의 광을 선택하여 반사시킬 수 있다. 반사된 상기 EUV 광은 존플레이트 렌즈(30)를 통해 마스크(40)의 일부 영역(45)에 집속된다. 일부 영역(45)에 집속된 상기 EUV 광은 마스크(40)를 통해 검출부(50)의 방향으로 반사된다. 검출부(50)는 상기 EUV 광의 에너지를 감지하여 연산부(60)에 에너지 정보를 전달한다.
X- ray 거울(20)은 그 재료로서 Pd/C, Mo/Si 물질을 사용할 수 있으며, 특히 X-ray 거울(20)은 약 80개의 몰리브덴층 및 실리콘층들로 교번하여 적층된 Mo/Si 다층막 구조일 수 있다. 상기 몰리브덴층 및 상기 실리콘층은 스퍼터링 방식으로 형성된 박막일 수 있다. 특히, 상기 X-ray 거울(20)은 EUV 광 중 13.5 nm 파장의 광을 선택하여 반사시킬 수 있다.
마스크(40)는 반사물질을 포함하며, 특히 상부 표면에 45nm 이하의 미세 회로 패턴이 형성된 마스크(40)일 수 있다.
선택적으로, 공간 영상 측정 장치는 마스크로부터 반사된 EUV 광을 투과시키는 어퍼쳐(46, aperture)를 더 포함할 수 있다. 상기 어퍼쳐 내 핀홀들(47, pinholes)의 홀 크기를 변화시켜 존플레이트 렌즈(30)의 개구수를 조절할 수 있다.
도 2를 참조하면, EUV 광 생성부(10)는 광원(11), 렌즈(12), 및 가스 셀(13, gas cell)을 포함할 수 있다. 광원(11)에서는 고출력 펨토세컨드(femtosecond) 레이저가 생성되며, 상기 레이저는 특히 800nm의 파장을 가지는 Ti:Sapphire 레이저일 수 있다. 상기 고출력 레이저는 렌즈(12)를 통해 가스 셀(13)에 집속된다. 가스 셀(13)은 진공내에서 가스 셀(13) 앞뒤로 레이저가 진행하는 방향으로 미세 구멍이 나 있는 구조이다. 가스 셀(13) 내부에 13.5 nm의 EUV 파장의 생성효율이 최적화될 수 있도록 네온 가스가 채워질 수 있다.
X-ray 거울(20)은 생성된 상기 EUV 광이 마스크(40)의 법선에서 노광기의 입사각과 동일한 각도로 마스크(40)의 일부 영역(45)에 입사될 수 있도록 설계될 수 있다. 존플레이트 렌즈(30) 또한 X-ray 거울(20)과 동일한 역할을 수행할 수 있다. 다시 말해, 존플레이트 렌즈(30)는 X-ray 거울(20)에서 반사된 EUV 광이 마스크(40)의 법선에서 노광기의 입사각과 동일한 각도로 마스크(40)의 일부 영역(45)에 입사될 수 있도록 설계될 수 있다.
선택적으로, 노광기의 입사각은 4 내지 8 o 일 수 있으며, 특히 6 o 일 수 있다. 이 경우, X-ray 거울(20)은, 생성된 상기 EUV 광이 마스크(40)의 법선에서 6 o 기울어진 각도로 마스크(40)의 일부 영역(45)에 입사될 수 있도록 설계된다. X-ray 거울 대신에, 존플레이트 렌즈(30)가 X-ray 거울(20)에서 반사된 상기 EUV 광이 마스크(40)의 법선에서 6 o 기울어진 각도로 마스크(40)의 일부 영역(45)에 입사 될 수 있도록 설계될 수 있다.
선택적으로, 공간 영상 측정 장치는 마스크(40)의 하부에 위치하는 이동부(35)를 포함할 수 있다. 상기 이동부(35)는 마스크(40)를 x축 혹은 y축의 방향으로 이동시켜 검출부(50)가 마스크(40)의 상면 전체를 스캐닝(scanning)할 수 있도록 한다.
도 3a는 본 발명의 실시예에 따른 공간 영상 측정 장치의 존플레이트 렌즈(30a) 및 검출부(50a)를 개략적으로 나타낸 것이다. 도 3b는 노광기(scanner)를 개략적으로 나타낸 것이다. 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 공간 영상 측정 장치의 마스크(도 1, 2의 40)는 검출부(도 1,2의 50)를 향하여 EUV 광을 반사시키나, 도 3a에서는 편의를 위해, 마스크(40a)가 검출부(50a)를 향하여 EUV 광을 투과시키는 형태로 나타내었다.
EUV 노광 공정에서, 노광기는 EUV 광을 마스크에 반사시키고, 이를 웨이퍼 표면상의 포토레지스트(photoresist)에 축소된 배율로 투영시킨다. 예를 들어, 노광기 내 마스크에 형성된 패턴과 노광기에 의해 웨이퍼 표면에 투영되어 형성된 실체 패턴과의 크기 비율은 4:1 내지 5:1일 수 있다. 노광기의 상기 투영시의 형성된 패턴 크기 비율, 즉 축소 비율을 이용하여 존플레이트 렌즈 및 검출부의 개구수를 조절한다. 또한, 노광기에 의해 투영되어 형성된 패턴이 묘사(emulation)될 수 있도록, 노광기의 사입사도롤 고려하여 검출부의 개구수를 조절한다.
도 3a를 참조하면, 존플레이트 렌즈(30a), 검출부(50a) 및 노광기의 개구 수(NA, numeric aperture)를 각각 NAzoneplate, NAdetector, 및 NAscanner라 하고, 상기 노광기의 사입사도를
Figure 112009033638466-PAT00011
라 하며, 상기 노광기의 축소배율을 n이라 할 때, 이들간의 관계를 수식으로 나타내면 다음과 같다.
Figure 112009033638466-PAT00012
도 3b를 참조하면, 노광기의 집속 렌즈(41)에 의하여 집속되는 EUV 광이 그 중심부와 이루는 각도를 x, 마스크(40)에 의하여 집속 거울(42)의 방향으로 반사되는 EUV 광이 그 중심부와 이루는 각도를 y라고 할 때, 상기 NAscanner 및 상기
Figure 112009033638466-PAT00013
는 다음과 같다.
Figure 112009033638466-PAT00014
예를 들어, 마스크에 형성된 패턴과 노광기에 의해 웨이퍼 표면에 집속 투영되어 형성된 실체 패턴과의 크기 비율은 4:1일 수 있다. 이 경우 노광기의 축소 비율은 4이므로, 수학식 2를 통해 노광기의 NAscanner 및
Figure 112009033638466-PAT00015
값을 구하고, 수학식 1에 따라 NAzoneplate=NAscanner/4 이고, NAdetector=NAscanner/4*
Figure 112009033638466-PAT00016
의 관계식을 만족하도록 존플레이트 렌즈(30a) 및 검출부(50a)를 설계한다.
결과적으로, 공간 영상 측정 장치는, 간섭 EUV 광, 마스크(40a)의 법선에서 노광기의 입사각과 동일한 각도로 마스크(40a)의 일부 영역에 입사되도록 설정된 상기 간섭 EUV 광의 입사각(25), 및 수학식 1을 만족하도록 설정된 존플레이트 렌즈(30a) 및 검출부(50a)의 개구수(NAzoneplate, NAdetector)를 고려하여 설계된다. 이렇게 설계된 공간 영상 측정 장치는 노광기의 개구수 및 사입사도를 완벽하게 묘사(emulation)할 수 있다. 따라서, 상기 마스크(40a)가 상부 표면에 회로 패턴이 형성된 반사형 EUV 마스크인 경우 노광기에서 웨이퍼의 포토레지스트 상에 전사(projection)되는 회로 패턴과 동일한 공간 영상이 본 장치에 의해 측정될 수 있다.
도 4a는 본 발명의 실시예에 따른 공간 영상 측정 장치의 연산부(60)를 개략적으로 보여주는 블록도이고, 도 4b는 본 발명의 실시예에 따른 공간 영상 측정 장치의 검출부(50) 및 연산부(60)의 작동 과정을 나타낸 것이다.
도 4a를 참조하면, 연산부(60)는 제어부(70), 저장부(80), 출력부(90)를 포함할 수 있다. 마스크(40)의 일부 영역(45)에서 EUV 광(100)이 반사되어 검출 부(50)에서 EUV 광(100)이 감지되면, 에너지 정보(200)가 제어부(70)로 전달된다. 제어부(70)는 전달된 에너지 정보(200)를 기초로 하여 그 이미지를 재구성한다. 재구성된 이미지 정보(300)는 EUV 광(100)의 광도를 0 내지 1의 값으로 환산한 수치일 수 있다. 상기 재구성된 이미지 정보(300)는 저장부(80)로 전달된다. 저장부(80)는 마스크(40)의 일부 영역(45)에 대한 이미지 정보를 행렬 데이터(400)로 저장할 수 있다. 예를 들면, 마스크(40)의 영역이 5행 5열로 구분될 경우, 5행 5열의 행렬 데이터(400)를 사용하여 각 영역별로 재구성된 이미지 정보(300)를 저장할 수 있다. 제어부(70)는 저장부(80)에 저장된 상기 행렬 데이터(400)를 로딩(loading)하여 출력부(90)로 전달한다. 출력부(90)는 전달된 상기 행렬 데이터(400)를 바탕으로 마스크(40)의 공간 영상을 출력한다.
도 4b를 참조하면, 25개의 영역으로 구분되는 마스크(40)의 제 1 영역에서 EUV 광이 반사되고, 검출부(50)는 EUV 광을 감지하여 제 1 에너지 정보(110)를 연산부(60)로 전달한다. 전달된 제 1 에너지 정보(110)를 기초로 하여, 연산부(60) 내의 제어부(70)에서 그 이미지가 재구성된다. 재구성된 제 1 영역의 이미지 정보(110')는 저장부(80)로 전달되고, 저장부(80)는 5행 5열의 행렬 데이터(400)의 1행 1열에 이를 저장한다. 이후 이동부(35)는 마스크(40)를 -x축의 방향으로 이동시킨다.
마스크(40)의 제 2 영역에서 EUV 광이 반사되고, 검출부(50)는 EUV 광을 감지하여 제 2 에너지 정보(120)를 연산부(60)로 전달한다. 전달된 제 2 에너지 정보(120)를 기초로 하여, 연산부(60) 내의 제어부(70)에서 그 이미지가 재구성된다. 재구성된 제 2 영역의 이미지 정보(120')는 저장부(80)로 전달되고, 저장부(80)는 상기 행렬 데이터(400)의 1행 2열에 이를 저장한다. 이후 이동부(35)는 다시 마스크(40)를 -x축의 방향으로 이동시킨다.
이와 같은 과정을 반복하여 마스크(40)의 제 5 영역까지의 이미지가 재구성되고 저장부(80)의 행렬 데이터(400)에 저장되면, 이동부(35)는 마스크(40)를 +y축의 방향으로 이동시킨다. 따라서 마스크(40)의 제 6 영역에서 EUV 광이 반사되고, 검출부(50)에서 감지된 제 6 에너지 정보(160)가 연산부(60)로 전달된다. 전달된 제 6 에너지 정보(160)는 제어부(70)에서 그 이미지가 재구성되고, 재구성된 제 6 영역의 이미지 정보(160')는 저장부(80)로 전달되어 상기 행렬 데이터(400)의 2행 5열에 저장된다.
마스크(40)의 위치를 x축 혹은 y축 방향으로 이동시키면서 마스크(40)의 제 25 영역까지의 이미지가 재구성되고, 이는 저장부(80)의 행렬 데이터(400)에 저장된다. 마스크(40)의 모든 영역의 재구성된 이미지 정보가 저장부(80)에 저장되면, 제어부(70)는 저장부(80)의 행렬 데이터(400)를 로딩한다. 출력부(90)는 제어부(70)로부터 전달된 상기 행렬 데이터(400)를 바탕으로 마스크(40)의 공간 영상을 출력한다.
도 5 내지 도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 공간 영상 측정 장치의 제어부에서 이미지가 재구성되고, 출력부에서 마스크(40)로부터 반사된 공간 영상이 출력되는 과정을 나타낸 것이다. 도 6은 출력부에서 상기 공간 영상을 명암의 형태로 나타낸 것이고, 도 7은 출력부에서 상기 공간 영상을 도 5의 a-a, b-b, c-c에 따른 단면도의 형태로 나타낸 것이다.
도 5를 참조하면, 36개의 영역으로 구분되는 마스크(40)를 x축 혹은 y축의 방향으로 이동시키면서, 마스크(40)의 제 36 영역까지의 이미지를 재구성한다. 재구성된 각각의 이미지 정보는 저장부 내의 3행 12열의 행렬 데이터(400a)에 저장된다.
마스크의 제 1 영역의 경우, 대부분의 EUV 광의 에너지가 검출부에서 감지된다. 따라서 검출부의 제 1 에너지 정보를 기초로 하여 제어부에서 재구성된 이미지 정보는 1이 된다. 제어부는 1을 저장부에 전달하고, 행렬 데이터의 1행 1열에 1이 저장된다.
이후 이동부(35)는 마스크(40)를 -x축의 방항으로 이동시킨다. 마스크(40)의 제 2 영역에 EUV 광이 조사된다. 제 2 영역의 경우, 검출부에서 감지된 EUV 광의 에너지를 기초로 하여 제어부에서 재구성된 이미지 정보는 1이 된다. 제어부는 1을 저장부에 전달하고, 행렬 데이터(400a)의 1행 2열에 1이 저장된다.
이후 이동부(35)는 마스크(40)를 -x 축의 방향으로 이동시킨다. 마스크(40)의 제 3 영역에 EUV 광이 조사된다. 제 3 영역의 경우, 검출부에서 감지된 EUV 광의 에너지를 기초로 하여 제어부에서 재구성된 이미지 정보는 1이 된다. 제어부는 1을 저장부에 전달하고, 행렬 데이터(400a)의 1행 3열에 1이 저장된다.
이후 이동부(35)는 마스크(40)를 -x 축의 방향으로 이동시킨다. 마스크(40)의 제 4 영역에 EUV 광이 조사된다. 제 4 영역의 경우, EUV 광의 일부가 패턴(500)에 흡수되므로, 50%의 EUV 광의 에너지만이 검출기에서 감지된다. 따라서 검출부에서 감지된 EUV 광의 에너지를 기초로 하여 제어부에서 재구성된 이미지 정보는 0.5가 된다. 제어부는 0.5를 저장부에 전달하고, 행렬 데이터(400a)의 1행 4열에 0.5가 저장된다.
이후 이동부(35)는 마스크(40)를 -x축의 방향으로 이동시킨다. 마스크(40)의 제 5 영역에 EUV 광이 조사된다. 제 5 영역의 경우, 대부분의 EUV 광의 에너지가 패턴(500)에 흡수된다. 따라서 검출부에서 감지된 EUV 광의 에너지를 기초로 하여 제어부에서 재구성된 이미지 정보는 0이 된다. 제어부는 0을 저장부에 전달하고, 행렬 데이터(400a)의 1행 4열에 0이 저장된다.
이와 같은 과정을 반복하여 마스크(40)의 제 12 영역까지 EUV 광이 조사되어 EUV 광의 에너지 정보가 재구성된다. 따라서 행렬 데이터(400a)의 1행 12열까지의 이미지 정보가 저장된다.
이후 이동부(35)는 마스크(40)를 +y축의 방향으로 이동시킨다. 마스크(40)의 제 13 영역에 EUV 광이 조사된다. 제 13 영역의 경우, 검출부에서 감지된 EUV 광의 에너지를 기초로 하여 제어부에서 재구성된 이미지 정보는 0.5가 된다. 제어부는 0.5를 저장부에 전달하고, 행렬 데이터(400a)의 2행 12열에는 0.5가 저장된다.
이후 이동부(35)는 마스크(40)를 +x축의 방향으로 이동시킨다. 마찬가지의 방법으로, 마스크(40)의 제 14 영역 내지 제 24 영역까지에 EUV 광이 조사되고, 제어부는 각각의 영역들에서 반사된 EUV 광의 에너지 정보를 재구성한다. 재구성된 제 14 내지 제 24 이미지 정보들은 저장부의 행렬 데이터(400a)의 2행 11열 내지 2 행 1열에 저장된다. 특히, 제 17 영역의 경우, 일부 EUV 광이 마스크 패턴의 결함 부분(600)에서 흡수되므로, 80%의 EUV 광의 에너지만이 검출기에서 감지된다. 따라서 제어부에서 재구성된 이미지 정보는 0.8이고, 행렬 데이터(400a)의 2행 8열에는 0.8이 저장된다.
마스크(40)의 제 13내지 제 24 영역의 이미지 정보들이 재구성되고 저장부의 행렬 데이터(400a)의 2행 9열 내지 2행 1열에 저장되면, 이후 이동부(35)는 마스크(40)를 다시 +y축의 방향으로 이동시킨다. 마찬가지의 방법으로 마스크의 제 25 영역 내지 제 36영역까지에 EUV 광이 조사되고, 제어부는 각각의 영역들에서 반사된 EUV 광의 에너지 정보를 재구성한다. 재구성된 제 25 내지 제 36 이미지 정보들은 저장부의 행렬 데이터의 3행 1열 내지 3행 12열에 저장된다.
저장부에 저장된 행렬 데이터(400a)는 출력부로 전달된다. 출력부는 행렬 데이터의 수치값들을 기초로 하여 명암 또는 단면도의 형태로 공간 영상을 출력할 수 있다.
도 6을 참조하면, 전달된 행렬 데이터(도 5의 400a)의 수치값을 기초로, 출력부는 마스크로부터 반사된 공간 영상을 명암의 형태로 출력한다. 예를 들어, 행렬 데이터의 수치값에 따라, 0은 검정색, 1은 흰색, 0.5는 회색으로 출력될 수 있다. 상기 행렬 데이터(도 5의 400a)를 바탕으로 마스크로부터 반사된 공간 영상이 출력되면, 명암의 패턴을 보고 결함 유무를 판단할 수 있다.
제 1 내지 제 12 영역의 명암은 양호한 패턴 형태(510, 1-1-1-0.5-0-0.5)가 반복되므로, 양호한 노광(scanning)이 이루어짐을 기대할 수 있다. 제 19 영역 내 지 제 14 영역 및 제 25 영역 내지 제 36 영역 역시 양호한 패턴 형태(510, 1-1-1-0.5-0-0.5)가 반복되므로, 양호한 노광이 이루어짐을 기대할 수 있다. 그러나 제 13 영역 내지 제 18 영역은 제 17 영역의 결함(550)으로 인해 잘못된 패턴 형태(520, 1-0.8-1-0.5-0-0.5)를 나타내므로, 노광 후 현상(development)시 포토레지스트(photoresist)에 결함(defect)이 발생할 수 있음을 예측할 수 있다.
도 7을 참조하면, 전달된 행렬 데이터(도 5의 400a)의 수치값을 기초로, 출력부는 마스크에 반사된 공간 영상을 단면도의 형태로 출력한다. 예를 들어, 상기 행렬 데이터(도 5의 400a)의 제 1행의 값들을 기초로, 출력부는 마스크의 a-a' 단면에 반사된 공간 영상을 출력할 수 있다. 마찬가지로 상기 행렬 데이터(도 5의 400a)의 제 2 행 및 제 3 행의 값들을 기초로, 마스크 b-b' 단면 및 c-c' 단면에 반사된 공간 영상이 출력될 수 있다.
a-a' 단면(제 1 영역 내지 제 12 영역), c-c' 단면(제 25 영역 내지 제 36 영역)의 경우, 양호한 패턴 형태(610, 1-1-1-0.5-0-0.5)가 반복되므로, 양호한 노광이 이루어짐을 기대할 수 있다. b-b' 단면(제 13 영역 내지 제 24 영역)의 경우, 제 19 영역 내지 제 24 영역은 양호한 패턴 형태(610, 1-1-1-0.5-0-0.5)를 나타낸다. 그러나, 제 13 영역 내지 제 18 영역은 제 17 영역의 결함(650)으로 인해 잘못된 패턴 형태(620, 1-0.8-1-0.5-0-0.5)를 나타내므로, 노광 후 현상시 포토레지스트에 결함(defect)이 발생할 수 있음을 예측할 수 있다.
선택적으로, 출력부는 상기 단면도들을 x축으로 대칭시킨 화면을 출력함으로써, 마스크에 반사된 공간 영상이 아닌, 노광 후 현상된 웨이퍼 상의 포토레지스트 패턴의 공간 영상이 예측될 수 있다.
도 8a 및 도 8b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 공간 영상 측정 장치의 출력부에서 공간 영상을 단면도의 형태로 나타낸 모습과, 포토레지스트에 조사된 영상의 단면도를 비교한 것이다.
도 8a를 참조하면, 노광기의 개구수(NAscanner)는 0.25이고, 사입사도(
Figure 112009033638466-PAT00017
)가 0이므로, 상기 수학식 1에 의해 도출된 개구수들(NAzoneplate=0.25/4=0.0625, NAdetector=0)에 따라, 본 발명의 공간 영상 측정 장치의 존플레이트 렌즈 및 검출부가 설계된다.
도 8b를 참조하면, 노광기의 개구수(NAscanner)는 0.25이고, 사입사도(
Figure 112009033638466-PAT00018
)가 1이므로, 상기 수학식 1에 의해 도출된 개구수들(NAzoneplate=0.25/4=0.0625, NAdetector=0.0625)에 따라, 본 발명의 공간 영상 측정 장치의 존플레이트 렌즈 및 검출부가 설계된다.
포토레지스트에 조사된 영상의 단면도(800a, 800b)와, 상기 수학식 1에 따라 설계된 상기 공간 영상 측정 장치를 이용하여 출력된 공간 영상(810a, 810b)이 일치함을 알 수 있다. 따라서 본 발명의 공간 영상 측정 장치는, 실제 노광기의 개구수 및 사입사도를 이용하여 포토레지스트에 조사된 영상을 묘사할 수 있다.
도 9a 내지 도 9c는 본 발명의 다른 실시예에 따른 공간 영상 측정 장치의 출력부에서 공간 영상을 명암의 형태로 나타낸 모습을 보여준 것이다.
도 9a를 참조하면, 노광기의 개구수(NAscanner)는 0.25이므로, 수학식 1에 따라, 존플레이트 렌즈의 개구수(NAzoneplate)는 NAscanner/4인 0.0625가 된다. 노광기의 사입사도(
Figure 112009033638466-PAT00019
)가 0.5 이므로, 검출부의 개구수(NAdetector)는 NAscanner/4*
Figure 112009033638466-PAT00020
인 0.03125가 된다. 본 발명의 공간 영상 측정 장치의 존플레이트 렌즈 및 검출부는 상기 개구수들(NAzoneplate, NAdetector) 에 따라 설계된다. 40 nm 크기의 결함(910)을 포함하는 마스크(900)가 본 발명의 공간 영상 측정 장치로 측정된다.
도 9b 및 도 9c를 참조하면, 상기 결함(910)이 입체적으로 또는 명암의 형태로 본 발명의 공간 영상 측정 장치의 출력부의 한 가운데 부분(920)에 나타난다. 상기 결함(910)은 10% 이상의 공간 영상 강도(aerial image intensity)에 변화를 준다. 따라서, 실제 노광기에 의해 마스크가 노광될 경우, 웨이퍼 상의 포토레지스트의 패턴 오류가 유발될 수 있음을 예측할 수 있다. 즉, 노광 단계 이전에 마스크의 결함을 발견하고 이를 수정할 수 있다.
도 10은 본 발명의 실시예에 의한 공간 영상 측정 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
도 10을 참조하면, 먼저 EUV 광을 생성하고(S100), 생성된 EUV광을 X-ray 거울에 반사시킨다(S200). X-ray 거울은 EUV 광이 마스크의 법선에서 4 내지 8 o 기울어진 각도로 마스크의 일부 영역에 입사되도록 설계될 수 있다. 반사된 EUV 광은 존플레이트 렌즈에 투과된다(S300). 존플레이트 렌즈는 EUV 광이 마스크의 법 선에서 법선에서 4 내지 8 o 기울어진 각도로 마스크의 일부 영역에 집속되도록 설계될 수 있다. 마스크의 일부 영역에 집속된 EUV 광은 반사물질을 포함하는 마스크에 의에 반사된다(S400). 검출부는 마스크에 의해 반사된 EUV 광의 에너지를 감지한다(S500). 상기 존플레이트 렌즈 및 상기 검출부는 상기 수학식 1을 만족하도록 설계될 수 있다. 감지된 에너지는 수치화된 이미지 정보로 재구성되고, 수치화된 이미지 정보는 저장부의 행렬 데이터에 저장된다(S600). 이후 이동부는 마스크를 x축 혹은 y축의 방향으로 이동시키고(S700), 다시 상기 과정들이 반복된다. 마스크의 모든 영역에 대한 이미지 정보가 행렬 데이터에 저장되면, 행렬 데이터를 기초로 하여 마스크의 공간 영상이 출력된다(S800).
본 발명을 명확하게 이해시키기 위해 첨부한 도면의 각 부위의 형상은 예시적인 것으로 이해하여야 한다. 도시된 형상 외의 다양한 형상으로 변형될 수 있음에 주의하여야 할 것이다.
이상에서 설명한 본 발명이 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것은, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.
도 1 및 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 공간 영상 측정 장치를 개략적으로 나타낸 것이다.
도 3a는 본 발명의 실시예에 따른 공간 영상 측정 장치의 존플레이트 렌즈 및 검출부를 개략적으로 나타낸 것이고, 도 3b는 노광기를 개략적으로 나타낸 것이다.
도 4a는 본 발명의 실시예에 따른 공간 영상 측정 장치의 연산부를 개략적으로 보여주는 블록도이고, 도 4b는 본 발명의 실시예에 따른 공간 영상 측정 장치의 검출부 및 연산부의 작동 과정을 나타낸 것이다.
도 5 내지 도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 공간 영상 측정 장치의 제어부에서 이미지가 재구성되고, 출력부에서 마스크로부터 반사된 공간 영상이 출력되는 과정을 나타낸 것이다.
도 8a 및 도 8b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 공간 영상 측정 장치의 출력부에서 공간 영상을 단면도의 형태로 나타낸 모습과, 포토레지스트에 조사된 영상의 단면도를 비교한 것이다.
도 9a 내지 도 9c는 본 발명의 다른 실시예에 따른 공간 영상 측정 장치의 출력부에서 공간 영상을 명암의 형태로 나타낸 모습을 나타낸 것이다.
도 10은 본 발명의 실시예에 의한 공간 영상 측정 방법을 설명하기 위한 순서도이다.
<도면의 주요부분에 대한 설명>
10: EUV 광 생성부 11: 광원
12: 렌즈 13: 가스 셀
20: X-ray 거울 25: 간섭 EUV 광의 입사각
30, 30a: 존플레이트 렌즈 35: 이동부
40, 40a: 마스크 41: 집속 렌즈
42: 집속 거울 45: 마스크의 일부 영역
46: 어퍼쳐 47: 핀홀
50, 50a: 검출부 60: 연산부
70: 제어부 80: 저장부
90: 출력부 100: EUV 광
110: 제 1 에너지 정보 110': 제 1 영역의 이미지 정보
120: 제 2 에너지 정보 120': 제 2 영역의 이미지 정보
160: 제 6 에너지 정보 160': 제 6 영역의 이미지 정보
200: 에너지 정보 300: 이미지 정보
400, 400a: 행렬 데이터
500: 패턴 600: 마스크 패턴의 결함
510, 610: 양호한 패턴 형태 520, 620: 잘못된 패턴 형태
550: 명암 형태의 제 17 영역의 결함
650: 단면도 형태의 제 17 영역의 결함
800a, 800b: 포토레지스트의 단면도
810a, 810b: 출력된 공간 영상
900: 마스크 910: 결함

Claims (10)

  1. 상부에 반사형 EUV(extreme ultra-violet) 마스크가 위치되고, 상기 반사형 EUV 마스크를 x축 혹은 y축의 방향으로 이동시키는 이동부;
    상기 이동부의 상부에 위치하고, 간섭 EUV 광 중 일정 파장의 광을 선택하여 반사시키는 X-ray 거울(mirror);
    상기 이동부와 상기 X-ray 거울의 사이에 위치하고, 반사된 상기 간섭 EUV 광을 상기 반사형 EUV 마스크의 일부 영역에 집속시키는 존플레이트(zoneplate) 렌즈; 및
    상기 이동부의 상부에 위치하고, 집속된 상기 간섭 EUV 광이 상기 반사형 EUV 마스크의 일부 영역에 의하여 반사되는 경우, 반사된 상기 간섭 EUV 광의 에너지를 감지하는 검출부;를 포함하고,
    상기 존플레이트 렌즈, 상기 검출부 및 노광기(scanner)의 각각의 개구수(numeric aperture) NAzoneplate, NAdetector, 및 NAscanner와, 상기 노광기의 사입사도(
    Figure 112009033638466-PAT00021
    )는, NAzoneplate=NAscanner/4 및 NAdetector=NAscanner/4*
    Figure 112009033638466-PAT00022
    의 관계를 만족하는 공간 영상(aerial image) 측정 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 반사형 EUV 마스크와 상기 검출부 사이에 위치하는 어퍼쳐(aperture)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 영상 측정 장치;
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 X-ray 거울은 몰리브덴층 및 실리콘층은 교번하여 적층된 다층막 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 영상 측정 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    고출력 펨토세컨드(femtosecond) 레이저를 생성하는 광원;
    상기 고출력 펨토세컨드 레이저로부터 일정 파장의 간섭(coherent) EUV 광을 생성하는 가스 셀(gas cell); 및
    상기 고출력 펨토세컨드 레이저를 렌즈 상기 가스 셀로 집속시키는 렌즈;를 포함하는 EUV 광 생성부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 영상 측정 장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 일정 파장의 간섭 EUV 광 중 13.5 nm 의 파장의 생성 효율이 최적화될 수 있도록, 상기 가스 셀 내부에 네온 가스가 채워져 있는 것을 특징으로 하는 공간 영상 측정 장치.
  6. 제 4 항에 있어서,
    상기 X-ray 거울은 상기 EUV 광 생성부로부터 방출된 상기 간섭 EUV 광을 상 기 반사형 EUV 마스크의 법선에서 4 내지 8 o 기울어진 각도로 상기 반사형 EUV 마스크의 일부 영역을 향하여 반사시키는 것을 특징으로 하는 공간 영상 측정 장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 존플레이트 렌즈는 반사된 상기 간섭 EUV 광이 상기 반사형 EUV 마스크의 법선에서 4 내지 8 o 기울어진 각도로 상기 반사형 EUV 마스크의 일부 영역에 집속시키는 것을 특징으로 하는 공간 영상 측정 장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 검출부에서 감지한 에너지로부터 상기 반사형 EUV 마스크의 이미지를 재구성(reconstruction)하는 연산부; 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 공간 영상 측정 장치.
  9. 상부에 반사형 EUV(extreme ultra-violet) 마스크를 위치시키고, 상기 반사형 EUV 마스크를 x축 혹은 y축의 방향으로 이동시키는 이동부;
    상기 이동부의 상부에 위치하고, EUV 광을 상기 반사형 EUV 마스크의 법선에서 노광기와 동일한 각도로 상기 반사형 EUV 마스크의 일부 영역에 집속시키는 존플레이트 렌즈; 및
    상기 이동부의 상부에 위치하고, 집속된 상기 EUV 광이 상기 반사형 EUV 마 스크의 일부 영역에 의하여 반사되는 경우, 반사된 상기 EUV 광의 에너지를 감지하는 검출부;를 포함하고,
    상기 존플레이트 렌즈, 상기 검출부 및 상기 노광기의 각각의 개구수(numeric aperture) NAzoneplate, NAdetector, 및 NAscanner와, 상기 노광기의 사입사도(
    Figure 112009033638466-PAT00023
    )는, NAzoneplate=NAscanner/n 및 NAdetector=NAscanner/n*
    Figure 112009033638466-PAT00024
    의 관계를 만족하고, n은 상기 노광기의 축소배율인 공간 영상(aerial image) 측정 장치.
  10. EUV 광을 생성하는 제 1 단계;
    상기 EUV 광을 X-ray 거울에 반사시키는 제 2 단계;
    상기 X-ray 거울에서 반사된 상기 EUV 광을 존플레이트 렌즈에 투과시키는 제 3 단계;
    투과된 상기 EUV 광을 반사형 EUV 마스크의 상부의 일부 영역에 반사시키는 제 4 단계;
    상기 반사형 EUV 마스크에서 반사된 상기 EUV 광의 에너지를 검출부로 감지하는 제 5 단계;
    상기 검출부에서 감지한 에너지를 이미지 정보로 변환하고, 상기 이미지 정보를 행렬 데이터로 저장하는 제 6 단계;
    상기 행렬 데이터를 기초로 하여 상기 반사형 EUV 마스크의 공간 영상을 출력하는 제 7단계;를 포함하고,
    상기 X-ray 거울 또는 상기 존플레이트 렌즈는 상기 EUV 광이 상기 반사형 EUV 마스크의 법선에서 4 내지 8 o 기울어진 각도로 상기 반사형 EUV 마스크의 일부 영역에 입사되고,
    상기 존플레이트 렌즈, 상기 검출부 및 노광기(scanner)의 각각의 개구수(numeric aperture) NAzoneplate, NAdetector, 및 NAscanner와, 상기 노광기의 사입사도(
    Figure 112009033638466-PAT00025
    )는, NAzoneplate=NAscanner/4 이고, NAdetector=NAscanner/4*
    Figure 112009033638466-PAT00026
    의 관계를 만족하며,
    상기 반사형 EUV 마스크를 x축 혹은 y축의 방향으로 이동시키며, 상기 제 1 단계 내지 상기 제 6 단계를 복수 반복하는 것을 특징으로 하는 공간 영상 측정 방법.
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