JP5508935B2 - Euvマスク用空間映像測定装置及び方法 - Google Patents
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Description
本発明の他の目的は、EUVマスク用空間映像測定装置を利用した空間映像測定方法を提供することにある。
前記空間映像測定装置の一例によれば、前記反射型EUVマスクと前記検出部との間のアパーチュアを更に備える。
前記空間映像測定装置の一例によれば、前記X線鏡は、少なくとも一つのモリブデン層及び少なくとも一つのシリコン層が交互に積層された複数層膜構造を備える。
前記空間映像測定装置の一例によれば、前記空間映像測定装置はEUV光生成器を更に備え、前記EUV光生成器は、高出力フェムト秒レーザービームを出力するように調節された高出力フェムト秒レーザーと、前記高出力フェムト秒レーザーから選択された波長を持つ干渉EUV光を生成するように調節されたガスセルと、前記高出力フェムト秒レーザービームを前記ガスセルに集束させるように調節されたレンズと、を備える。
前記空間映像測定装置の一例によれば、前記一定波長の干渉EUV光のうちの13.5nmの波長の生成効率が最適化するように、前記ガスセル内部にネオンガスが充填される。
前記空間映像測定装置の一例によれば、前記X線鏡は、前記EUV光生成器から放出された前記干渉EUV光を、前記反射型EUVマスクの法線から4°〜8°傾いた角度で、前記反射型EUVマスクの一部領域に向けて反射させるように調節される。
前記空間映像測定装置の一例によれば、前記ゾーンプレートレンズは、反射された前記干渉EUV光が前記反射型EUVマスクの法線で4°〜8°傾いた角度で、前記反射型EUVマスクの一部領域に集束させるように調節される。
前記空間映像測定装置の一例によれば、前記空間映像測定装置は、前記検出部で感知したエネルギーに基づいて、前記反射型EUVマスクのイメージを再構成するように調節される演算部を更に備える。
前記空間映像測定装置の一例によれば、前記空間映像測定装置は、上部に前記EUVマスクが配置される移動部を更に備え、前記移動部は、x軸及びy軸のいずれかの方向又は両方向に前記EUVマスクを移動させるように調節される。
前記空間映像測定装置の一例によれば、前記EUVマスクは、反射物質を含む反射型EUVマスクである。
前記空間映像測定装置の一例によれば、前記検出部は、前記反射型EUVマスクで反射されたEUV光のエネルギーを感知するように調節される。
前記空間映像測定装置の一例によれば、前記空間映像測定装置は、EUV光生成器及び該EUV光生成器からの前記EUV光を選択的に反射させるように調節されたX線鏡を更に備える。
前記空間映像測定装置の一例によれば、前記EUV光生成器は、高出力フェムト秒レーザーを備える。
前記空間映像測定装置の他の例によれば、前記EUVマスクは、透過型EUVマスクである。
前記空間映像測定装置の他の例によれば、前記検出部は、前記透過型EUVマスクを通じて透過された干渉EUV光のエネルギーを感知するように調節される。
前記空間映像測定方法の一例によれば、前記EUV光を生成するステップは、高出力フェムト秒レーザービームを生成するステップを含む。
前記空間映像測定方法の一例によれば、前記X線鏡を使用して前記生成されたEUV光を反射させるステップは、前記EUVマスクの法線に対して4°〜8°傾いた角度で前記EUVマスクの一部領域に向けて、EUV光生成器から放出された前記EUV光を反射させるステップを含む。
前記空間映像測定方法の一例によれば、前記ゾーンプレートレンズを使用して、前記X線鏡から前記反射されたEUV光を透過させるステップは、前記EUVマスクの法線に対して4°〜8°傾いた角度で前記EUVマスクの一部領域に向けて、前記X線鏡から反射された前記EUV光を透過させるステップを含む。
11 光源
12 レンズ
13 ガスセル
20 X線鏡
25 干渉EUV光の入射角
30、30a ゾーンプレートレンズ
35 移動部
40、40a、900 マスク
41 集束レンズ
42 集束鏡
45 マスクの一部領域
46 アパーチュア
47 ピンホール
50、50a 検出部
60 演算部
70 制御部
80 保存部
90 出力部
100 EUV光
110 第1エネルギー情報
110’ 第1領域のイメージ情報
120 第2エネルギー情報
120’ 第2領域のイメージ情報
160 第6エネルギー情報
160’ 第6領域のイメージ情報
200 エネルギー情報
300 イメージ情報
400、400a 行列データ
500 パターン
510、610 良好なパターン形態
520、620 間違ったパターン形態
550 明暗形態の第17領域の欠陥
600 マスクパターンの欠陥部分
650 断面図形態の第17領域の欠陥
800a、800b フォトレジストの断面図
810a、810b 出力された空間映像
910、920 欠陥
Claims (20)
- 露光器を使用してスキャニングすることで形成された半導体パターンと相応するパターンの空間映像を測定するための装置であって、
上部に反射型EUVマスクが位置し、該反射型EUVマスクをx軸及びy軸のいずれかの方向又は両方向に移動させるように調節される移動部と、
前記移動部の上部に配置され、干渉EUV光のうちの一定波長の光を選択して反射させるように調節されたX線鏡と、
前記移動部と前記X線鏡との間に位置し、反射された前記干渉EUV光を前記反射型EUVマスクの一部領域に集束させるように調節されたゾーンプレートレンズと、
前記移動部の上部に配置され、集束された前記干渉EUV光が前記反射型EUVマスクの一部領域によって反射される場合、反射された前記干渉EUV光のエネルギーを感知するように調節された検出部と、を備え、
前記ゾーンプレートレンズ、前記検出部、及び前記露光器のそれぞれの開口数NAzoneplate、NAdetector、及びNAscannerと、前記露光器の斜入射度(σ)とは、NAzoneplate=NAscanner/4、及びNAdetector=NAscanner/4×σの関係を満たすことを特徴とする空間映像測定装置。 - 前記反射型EUVマスクと前記検出部との間のアパーチュアを更に備えることを特徴とする請求項1に記載の空間映像測定装置。
- 前記X線鏡は、少なくとも一つのモリブデン層及び少なくとも一つのシリコン層が交互に積層された複数層膜構造を備えることを特徴とする請求項1に記載の空間映像測定装置。
- EUV光生成器を更に備え、
前記EUV光生成器は、
高出力フェムト秒レーザービームを出力するように調節された高出力フェムト秒レーザーと、
前記高出力フェムト秒レーザーから選択された波長を持つ干渉EUV光を生成するように調節されたガスセルと、
前記高出力フェムト秒レーザービームを前記ガスセルに集束させるように調節されたレンズと、を備えることを特徴とする請求項1に記載の空間映像測定装置。 - 前記一定波長の干渉EUV光のうちの13.5nmの波長の生成効率が最適化するように、前記ガスセル内部にネオンガスが充填されることを特徴とする請求項4に記載の空間映像測定装置。
- 前記X線鏡は、前記EUV光生成器から放出された前記干渉EUV光を、前記反射型EUVマスクの法線から4°〜8°傾いた角度で、前記反射型EUVマスクの一部領域に向けて反射させるように調節されることを特徴とする請求項4に記載の空間映像測定装置。
- 前記ゾーンプレートレンズは、反射された前記干渉EUV光が前記反射型EUVマスクの法線において4°〜8°傾いた角度で、前記反射型EUVマスクの一部領域に集束させるように調節されること特徴とする請求項1に記載の空間映像測定装置。
- 前記検出部で感知したエネルギーに基づいて、前記反射型EUVマスクのイメージを再構成するように調節される演算部を更に備えることを特徴とする請求項1に記載の空間映像測定装置。
- 露光器を使用してスキャニングすることで形成された半導体パターンと相応するパターンの空間映像を測定するための装置であって、
前記パターンを有するEUVマスクの第1側上に配置され、EUV光を前記EUVマスクの法線に対して前記露光器が配置される角度と同じ角度で前記EUVマスクの一部分上に集束させるように調節されたゾーンプレートレンズと、
前記EUVマスクの第2側上に配置され、前記EUVマスクから前記EUV光のエネルギーを感知するように調節された検出部と、を備え、
前記ゾーンプレートレンズ、前記検出部、及び前記露光器のそれぞれの開口数NAzoneplate、NAdetector、及びNAscannerと、前記露光器の斜入射度(σ)とは、NAzoneplate=NAscanner/n、及びNAdetector=NAscanner/n×σの関係を満たし、nは前記露光器の縮小倍率であることを特徴とする空間映像測定装置。 - 上部に前記EUVマスクが配置される移動部を更に備え、
前記移動部は、x軸及びy軸のいずれかの方向又は両方向に前記EUVマスクを移動させるように調節されることを特徴とする請求項9に記載の空間映像測定装置。 - 前記EUVマスクは、反射物質を含む反射型EUVマスクであることを特徴とする請求項9に記載の空間映像測定装置。
- 前記検出部は、前記反射型EUVマスクで反射されたEUV光のエネルギーを感知するように調節されることを特徴とする請求項11に記載の空間映像測定装置。
- EUV光生成器及び該EUV光生成器からの前記EUV光を選択的に反射させるように調節されたX線鏡を更に備えることを特徴とする請求項9に記載の空間映像測定装置。
- 前記EUV光生成器は、高出力フェムト秒レーザーを備えることを特徴とする請求項13に記載の空間映像測定装置。
- 前記EUVマスクは、透過型EUVマスクであることを特徴とする請求項9に記載の空間映像測定装置。
- 前記検出部は、前記透過型EUVマスクを通じて透過された干渉EUV光のエネルギーを感知するように調節されることを特徴とする請求項15に記載の空間映像測定装置。
- 露光器を使用してスキャニングすることで形成された半導体パターンと相応するパターンの空間映像を測定する方法であって、
EUV光を生成するステップと、
X線鏡を使用して前記生成されたEUV光を反射させるステップと、
ゾーンプレートレンズを使用して、前記X線鏡からEUVマスク上の前記パターンに向けて前記反射されたEUV光を透過させるステップと、
検出部を使用して、前記EUVマスクから前記EUV光のエネルギーを感知するステップと、
前記感知されたエネルギーをイメージ情報に変換し、前記イメージ情報を保存するステップと、
前記EUVマスクをx軸及びy軸のいずれかの方向又は両方向に移動させるステップと、
前記保存されたイメージ情報に基づいて、前記EUVマスクの前記パターンの前記空間映像を出力するステップと、を有し、
前記ゾーンプレートレンズ、前記検出部、及び前記露光器のそれぞれの開口数NAzoneplate、NAdetector、及びNAscannerと、前記露光器の斜入射度(σ)とは、NAzoneplate=NAscanner/4、及びNAdetector=NAscanner/4×σの関係を満たすことを特徴とする空間映像測定方法。 - 前記EUV光を生成するステップは、高出力フェムト秒レーザービームを生成するステップを含むことを特徴とする請求項17に記載の空間映像測定方法。
- 前記X線鏡を使用して前記生成されたEUV光を反射させるステップは、
前記EUVマスクの法線に対して4°〜8°傾いた角度で前記EUVマスクの一部領域に向けて、EUV光生成器から放出された前記EUV光を反射させるステップを含むことを特徴とする請求項17に記載の空間映像測定方法。 - 前記ゾーンプレートレンズを使用して、前記X線鏡から前記反射されたEUV光を透過させるステップは、
前記EUVマスクの法線に対して4°〜8°傾いた角度で前記EUVマスクの一部領域に向けて、前記X線鏡から反射された前記EUV光を透過させるステップを含むことを特徴とする請求項17に記載の空間映像測定方法。
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