KR20100089403A - 무기 소재 논슬립 바닥재 및 그 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 무기 소재 논슬립 바닥재 및 그 제조방법에 관한 것으로, 더욱 구체적으로는 상기 무기 소재 논슬립 바닥재는 표면에 무기계 비드 또는 유기계 비드가 첨가된 자외선 경화 표면처리제를 코팅한 후, 자외선경화되어 상기 표면에 노출시킨, 상기 무기계 비드 또는 상기 유기계 비드가 돌출된 요철을 포함하는 무기 소재 논슬립 바닥재 및 그 제조방법에 관한 것이다.
상술한 본 발명은, 기공을 발생하지 않고 천연석재, 세라믹, 인조석재 표면에 돌출된 요철을 비드를 포함한 자외선 경화 표면처리제를 경화시켜 형성하여 오염성을 현저히 개선함은 물론 표면 마찰계수를 증가시킴으로써 미끄럼성에 대한 안전성이 월등하고 표면이 미려하고, 오염물의 침투시 쉽게 제거되어 내오염성과 논슬립성의 지속적인 효과를 발현할 수 있다.
요철, 논슬립, 미끄럼 방지, 내오염성, 무기계 비드 유기계 비드, 무기 소재 바닥재, 자외선 경화 표면처리제, 마찰계수, 대리석, 세라믹

Description

무기 소재 논슬립 바닥재 및 그 제조방법{Inorganic Non-slip Flooring And Manufacturing Method Thereof}
본 발명은 무기 소재 논슬립 바닥재 및 그 제조방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 상기 무기 소재 논슬립 바닥재는 천연석재, 세라믹, 인조석재 표면에 돌출된 요철을 비드를 포함한 자외선 경화 표면처리제를 경화시켜 형성하여 오염성을 개선함은 물론 표면 마찰계수를 증가시킴으로써 미끄럼성에 대한 안전성을 제공한 무기 소재 논슬립 바닥재 및 그 제조방법에 관한 것이다.
일반적으로, 대리석과 같은 천연석과 폴리싱타일과 같은 자기질 소재의 무기소재가 고급 인테리어 바닥재로 사용되고 있으며, 수분에 변형이 없고, 고내구성에 따른 물성으로 목질류의 바닥재를 대체하는 소재로 인식되고 있다.
하지만, 이러한 대리석과, 폴리싱타일과 같은 무기 소재 인테리어 바닥재는 표면을 연마하여 제조되기 때문에 표면이 미끄러워 미끄럼에 대한 안전사고가 발생하는 문제가 대두되고 있다.
대리석과 폴리싱타일과 같은 무기소재 바닥재에 기능성을 구현할 수 있는 코팅 기술이 다양하게 진행되고 있으나, 대부분 표면에 광촉매(일본 특허공개 제2002-338374호) 및 발수 발유 코팅을 함으로써 오염성을 개선하는 수준의 연구가 진행되고 있다.
또한, 표면에 자외선 경화 타입의 코팅제를 적용한 사례가 있기는 하지만, 석재 표면의 색상차를 줄이고, 다양한 색상을 부여하는 목적으로 착색용 UV 코팅으로 접근하거나(미국 특허공개 제2004-0023513호), 내오염성 및 대리석의 표면을 보호하는 목적으로 UV 코팅 시스템을 접목하는 연구(미국 특허공개 제2002-0132871호)가 진행되었다.
하지만, 이러한 코팅 방법은 궁극적으로 내오염성 및 표면 보호 또는 착색의 목적으로 연구되어 왔고, 미끄럼에 대한 안전성은 제공할 수가 없다. 현재 미끄럼성에 대한 안전성을 구현하기 위한 시제품들이 유지보수용 처리제로 활용되고는 있는데, 석재 및 타일의 표면이 알칼리성으로 구성되어 있음을 이용하여 약산성의 표면처리제를 바닥재에 도포하여 산화, 부식시킴으로써, 표면에 미세한 기공을 부여하여 마찰계수를 증가시키는 처리제(대한민국 특허등록 제558,316호)가 개발, 적용되고 있으나, 이러한 처리 방법은 단기적으로 효과가 있을 뿐 다시 오염물이 기공을 채우면 다시 효과가 떨어지는 단점으로 주기적인 관리가 필요하다. 또한 미세 기공에 의한 오염이 현저하게 증가됨에 따라 고급 외관의 대리석등의 외관을 해치고, 유지관리에 어려움을 유발하는 문제점이 남아있다.
따라서, 본 발명의 목적은 종래의 미끄럼 방지 처리제를 사용하였을 때 발생하는 미세기공에 의한 오염 증가에 의한 논슬립성의 저해와 천연석 및 폴리싱타일의 외관을 해치는 문제를 천연석 및 폴리싱타일 등의 무기질 소재 표면에 수 ~ 수십 마이크로미터의 구형 비드를 UV코팅제에 첨가하여 자외선 경화한 후 노출시켜 표면에 요철을 형성하게 하여 슬립성을 해결한 무기 소재 논슬립 바닥재 및 그 제조방법을 제공하는 데 그 목적이 있다.
상술한 바와 같은 목적을 해결하기 위하여 본 발명은 무기 소재 논슬립 바닥재로서, 표면에 무기계 비드 또는 유기계 비드가 첨가된 자외선 경화 표면처리제를 코팅한 후, 자외선경화되어 상기 표면에 노출시킨, 상기 무기계 비드 또는 상기 유기계 비드가 돌출된 요철을 포함하는 무기 소재 논슬립 바닥재를 제공한다.
또한, 본 발명은 무기 소재 논슬립 바닥재 제조방법으로서,
무기 소재 바닥재 표면을 준비하는 단계;
상기 무기 소재 바닥재 표면에 상기 무기계 비드 또는 상기 유기계 비드, 우레탄아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트, 또는 폴리에스터아크릴레이트를 포함하는 올리고머, 이에이치피에이(EHPA), 에이치디디엔(HDDN), 또는 티엠피이오티에 이(TMPEOTA)를 포함하는 모노머, 및 아세토페논 또는 벤조페논의 광개시제를 포함하는 자외선 경화 표면처리제를 코팅하는 단계; 및
자외선 경화기로 상기 자외선 경화 표면처리제를 경화시켜 상기 무기계 비드 또는 상기 유기계 비드를 돌출시키는 단계;를 포함하는 무기 소재 논슬립 바닥재 제조방법을 제공한다.
본 발명의 무기 소재 논슬립 바닥재 및 그 제조방법은 기공을 발생하지 않고 천연석재, 세라믹, 인조석재 표면에 돌출된 요철을 비드를 포함한 자외선 경화 표면처리제를 경화시켜 형성하여 오염성을 현저히 개선함은 물론 표면 마찰계수를 증가시킴으로써 미끄럼성에 대한 안전성이 월등하고 표면이 미려하고, 오염물의 침투시 쉽게 제거되어 내오염성과 논슬립성의 지속적인 효과를 발현할 수 있다.
본 발명은 무기 소재 논슬립 바닥재로서, 표면에 무기계 비드 또는 유기계 비드가 첨가된 자외선 경화 표면처리제를 코팅한 후, 자외선경화되어 상기 표면에 노출시킨, 상기 무기계 비드 또는 상기 유기계 비드가 돌출된 요철을 포함한다.
구체적으로, 상기 무기 소재 논슬립 바닥재는 미끄럼을 방지하는 바닥재로서 천연석 및 폴리싱타일 등의 무기질 소재 표면에 수 ~ 수십㎛의 구형 또는 다각형의 무기계 비드 또는 유기계 비드를 자외선 경화 표면처리제에 첨가하고, 상기 자외선 경화 표면처리제를 자외선을 이용하여 경화하는 과정에서 상기 무기계 비드 또는 상기 유기계 비드를 코팅제 상부에 노출시킴으로서 표면에 요철을 부여하고, 기공을 형성시키지 않기 때문에 오염물이 침투되지 않아 오염이 안되고, 쉽게 오염물이 제거 될 수 있는 무기 소재 논슬립 바닥재로서 요철의 형성이 반영구적이어서 논슬립(미끄럼 방지; non-slip)이 현저하고 오염물의 침투가 없고, 안전성이 월등하고 표면이 미려하고, 오염물의 침투시 쉽게 제거되어 내오염성과 논슬립성의 지속적인 효과를 발현할 수 있다.
즉, 상기 무기 소재 논슬립 바닥재는 천연석재, 세라믹, 인조석재 표면에 돌출된 요철을 비드를 포함한 자외선 경화 표면처리제를 경화시켜 형성하여 오염성을 개선함은 물론 표면 마찰계수를 증가시킴으로써 미끄럼성에 대한 안전성을 제공한다.
상기 무기 소재 표면에 상기 자외선 경화 표면처리제를 적용함에 있어, 수 ~ 수십㎛의 구형 또는 다각형의 비드를 상기 자외선 경화 표면처리제에 첨가함으로써 자외선에 의한 상기 자외선 경화 표면처리제의 경화 후 비드를 노출할 수 있고, 이에 따라 표면에 요철을 부여할 수 있다. 이때 도료가 도포되는 도막 두께는 비드 사이즈보다 작아야 효과를 극대화 할 수 있으며, 도료 위에 부상할수록 효과가 크다.
이때, 논슬립(non-slip)은 슬립성(slip) 즉 미끄럼을 방지하는 용어이다.
여기서, 상기 무기계 비드는 유리 소재 또는 세라믹 소재를 포함하는 무기소재로 구성되어 1 ~ 100㎛의 직경을 갖는 구형 또는 다각형으로 형성된다.
상기 무기계 비드는 도기, 자기 소재를 더 포함한다.
또한, 상기 무기계 비드의 갯수는 상기 무기 소재 논슬립 바닥재의 논슬립성을 위해 상기 무기 소재 논슬립 바닥재의 단위 면적당(cm2) 수개 ~ 수백만개 사용한다.
또한, 상기 무기계 비드는 수지의 비중보다 기능한한 낮은 것을 사용하여 표면에 노출되는 효과를 증대시킨다.
여기서, 첨가되는 상기 무기계 비드의 크기는 동일하거나 서로 다르다.
상기 무기계 비드의 크기가 상기 범위 미만인 경우에는 표면에 돌출되는 양이 적어 미끄럼을 방지할 수 없고, 상기 범위를 초과하는 경우 발에 걸려 넘어지는 문제점이 있으나 상기 유기계 비드를 배치하는 정도에 따라 그 제한은 사라진다.
상기 무기계 비드는 구형 또는 삼각형, 사각형, 마름모 등을 포함하는 다각형으로 형성되어 상기 무기 소재 논슬립 바닥재의 미끄럼을 방지한다.
또한, 상기 유기계 비드는 폴리프로필렌(Polypropyren, PP), 폴리에틸렌(PE), 폴리우레탄(PU), 에폭시, 폴리에스테르, 또는 나일론(Nylone)을 포함하는 고분자 소재의 유기소재로 구성되어 1 ~ 100㎛의 직경을 갖는 구형 또는 다각형으로 형성된다.
상기 유기계 비드는 도기, 자기 소재를 더 포함한다.
또한, 상기 유기계 비드의 갯수는 상기 무기 소재 논슬립 바닥재의 논슬립성 을 위해 상기 무기 소재 논슬립 바닥재의 단위 면적당(cm2) 수개 ~ 수백만개 사용한다.
또한, 상기 유기계 비드는 수지의 비중보다 낮은 것을 사용하여 표면에 노출되는 효과를 증대시킨다.
여기서, 첨가되는 상기 유기계 비드의 크기는 동일하거나 서로 다르다.
상기 유기계 비드의 크기가 상기 범위 미만인 경우에는 표면에 돌출되는 양이 적어 미끄럼을 방지할 수 없고, 상기 범위를 초과하는 경우 발에 걸려 넘어지는 문제점이 있으나 상기 유기계 비드를 배치하는 정도에 따라 그 제한은 사라진다.
상기 유기계 비드는 구형 또는 삼각형, 사각형, 마름모 등을 포함하는 다각형으로 형성되어 상기 무기 소재 논슬립 바닥재의 미끄럼을 방지한다.
또한, 상기 자외선 경화 표면처리제는 상기 무기계 비드 또는 상기 유기계 비드, 우레탄아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트, 또는 폴리에스터아크릴레이트를 포함하는 올리고머, 2-디에틸헥실포스포릭산(2-diethyl hexylphosphoricacid;
EHPA), 헥산디올디노보넨카르복실레이트(Hexanediol dinorbornenecarboxy-late;HDDN), 또는 트리메틸올프로판에톡실레이트트리아크릴레이트(trimethylol-propane ethoxylate triacrylate;TMPEOTA)를 포함하는 모노머, 및 아세토페논 또는 벤조페논의 광개시제를 포함한다.
여기서, 상기 올리고머는 모노머가 2 ~ 20개 정도 연결된 것으로서 자외선 경화반응을 신속히 하고 표면에 고분자 형태로 피막을 형성하기 용이하도록 첨가한다.
이때 올리고머는 반응기가 적은 단관능성의 수지를 적용하면 이상적으로 부착될 수 있고, 소재를 유연하게 하여 내미끄럼성에 한층 효과를 부여할 수 있다.
또한, 상기 단관능 2-디에틸헥실포스포릭산(2-diethyl hexylphosphoricacid;
EHPA) 모노머와 이관능 헥산디올디노보넨카르복실레이트(Hexanediol dinorbornene
-carboxylate;HDDN) 모노머와 삼관능 트리메틸올프로판에톡실레이트트리아크릴레이트(trimethylol-propane ethoxylate triacrylate;TMPEOTA) 모노머는 상기 올리고머의 희석 및 점도조절, 부착증대를 위하여 첨가한다.
상기 광개시제는 상기 올리고머와 모노머의 관능기가 자외선에 의해 경화되도록 반응을 시작하는 개시제의 역활을 한다.
또한, 상기 자외선 경화 표면처리제는 첨가제인 반응성 실리콘과 무광첨가제인 매팅제(Matting Agent)로서 실리카를 더 포함한다.
여기서, 상기 자외선 경화 표면처리제의 상기 무기계 비드 또는 상기 유기계 비드의 함량은 3 ~ 10 중량부, 우레탄아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트, 또는 폴리에스터아크릴레이트를 포함하는 올리고머의 함량은 20 ~ 70 중량부, 2-디에틸헥실포스포릭산(2-diethyl hexylphosphoric acid;EHPA), 헥산디올디노보넨카르복실레이트(Hexanediol dinorbornenecarboxylate;HDDN), 또는 트리메틸올프로판에톡실레이트트리아크릴레이트(trimethylol-propane ethoxylate triacrylate;TMPEOTA)를 포 함하는 모노머의 함량은 0.5 ~ 80 중량부, 및 아세토페논 또는 벤조페논의 광개시제의 함량은 0.5 ~ 10 중량부이다.
상기 무기계 비드 또는 상기 유기계 비드의 함량이 상기 범위 미만인 경우에는 표면에 돌출되는 양이 적어 미끄럼을 방지할 수 없고, 상기 범위를 초과하는 경우 발에 걸려 넘어지는 문제점이 있다.
상기 올리고머의 함량이 상기 범위 미만인 경우에는 점도가 너무 묽어 표면에 상기 무기계 비드 또는 상기 유기계 비드를 고정할 수 없고, 상기 범위를 초과하는 경우 점도가 너무 커 작업성이 떨어지고 광경화가 안되는 부분이 남아있게 된다.
상기 모노머의 함량이 상기 범위 미만인 경우에는 상기 올리고머를 희석시킬 수 없어 작업성이 떨어지고, 상기 범위를 초과하는 경우 점도가 너무 묽어 상기 무기계 비드 또는 상기 유기계 비드를 고정할 수 없다.
상기 광개시제의 함량이 상기 범위 미만인 경우 상기 자외선 경화 표면처리제를 광경화하기 어려워 경화되지 않는 부분이 남아있게 되고, 상기 범위를 초과하는 경우 상기 무기 소재 논슬립 바닥재가 푸석푸석해지는 문제점이 있다.
여기서, 상기 무기 소재는 대리석과 같은 천연석재와, 세라믹 및 시멘트계 인조석과 같은 무기질 성분이다.
상기 대리석과 상기 세라믹, 상기 인조석은 표면이 연마되어 미끄러우나, 상기 자외선 경화 표면처리제를 코팅한 후 자외선 경화시켜 상기 자외선 경화 표면처 리제에 있는 상기 무기계 비드와 상기 유기계 비드를 돌출시키면 미끄럼이 방지된다.
또한, 본 발명은 상기 무기 소재 논슬립 바닥재로 제조한 바닥 장식재 및 이의 응용 제품을 제공한다.
상기 응용 제품에는 계단, 마루, 지붕, 처마, 복도, 거실용의 바닥재 및 장식재를 포함한다.
또한, 본 발명의 무기 소재 논슬립 바닥재 제조방법으로서, 상기 무기 소재 논슬립 바닥재 제조방법은,
무기 소재 바닥재 표면을 준비하는 단계;
상기 무기 소재 바닥재 표면에 상기 무기계 비드 또는 상기 유기계 비드, 우레탄아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트, 또는 폴리에스터아크릴레이트를 포함하는 올리고머, 2-디에틸헥실포스포릭산(2-diethyl hexylphosphoric acid;EHPA), 헥산디올디노보넨카르복실레이트(Hexanediol dinorbornenecarboxylate;HDDN), 또는 트리메틸올프로판에톡실레이트트리아크릴레이트(trimethylolpropane ethoxylate tri-
acrylate; TMPEOTA)를 포함하는 모노머, 및 아세토페논 또는 벤조페논의 광개시제를 포함하는 자외선 경화 표면처리제를 코팅하는 단계; 및
자외선 경화기로 상기 자외선 경화 표면처리제를 경화시켜 상기 무기계 비드 또는 상기 유기계 비드를 돌출시키는 단계;를 포함한다.
구체적으로, 상기 무기 소재 논슬립 바닥재 제조방법은 미끄럼을 방지하는 바닥재 제조방법으로서 천연석 및 폴리싱타일 등의 무기질 소재 표면에 수 ~ 수십㎛의 구형 또는 다각형의 무기계 비드 또는 유기계 비드를 자외선 경화 표면처리제에 첨가하고, 상기 자외선 경화 표면처리제를 자외선을 이용하여 경화하는 과정에서 상기 무기계 비드 또는 상기 유기계 비드를 코팅제 상부에 노출시킴으로서 표면에 요철을 부여하고, 기공을 형성시키지 않기 때문에 오염물이 침투되지 않아 오염이 안되고, 쉽게 오염물이 제거 될 수 있도록 하는 무기 소재 논슬립 바닥재 제조방법이다.
상기 무기 소재 표면에 상기 자외선 경화 표면처리제를 적용함에 있어, 수 ~ 수십㎛의 구형 또는 다각형의 비드를 상기 자외선 경화 표면처리제에 첨가함으로써 자외선에 의한 상기 자외선 경화 표면처리제의 경화 후 비드를 노출할 수 있고, 이에 따라 표면에 요철을 부여할 수 있다. 이때 도료가 도포되는 도막 두께는 비드 사이즈보다 작아야 효과를 극대화 할 수 있으며, 도료 위에 부상할수록 효과가 크다.
이때 올리고머는 반응기가 적은 단관능성의 수지를 적용하면 이상적으로 부착될 수 있고, 소재를 유연하게 하여 내미끄럼성에 한층 효과를 부여할 수 있다.
또한 비드는 수지의 비중보다 낮을수록 표면에 노출될 수 있는 효과가 크다.
코팅을 함에 있어 코팅액의 도막 두께는 상기 무기계 비드보다 작게 도포되어야 비드의 효과를 극대화 할 수 있으며, 도막 두께가 비드보다 클 경우에는 비드가 도막안에 삽입되어 노출 효과가 현저히 떨어지게 된다.
여기서, 상기 자외선 경화 표면처리제의 상기 무기계 비드 또는 상기 유기계 비드의 함량은 3 ~ 10 중량부, 우레탄아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트, 또는 폴리에스터아크릴레이트를 포함하는 올리고머의 함량은 20 ~ 70 중량부, 2-디에틸헥실포스포릭산(2-diethyl hexylphosphoric acid;EHPA), 헥산디올디노보넨카르복실레이트(Hexanediol dinorbornenecarboxylate;HDDN), 또는 트리메틸올프로판에톡실레이트트리아크릴레이트(trimethylol-propane ethoxylate triacrylate;TMPEOTA)를 포함하는 모노머의 함량은 0.5 ~ 80 중량부, 및 아세토페논 또는 벤조페논의 광개시제의 함량은 0.5 ~ 10 중량부이다.
상기 자외선 경화 표면처리제의 성분과 함량에 대한 기재는 앞의 기재를 원용한다.
이하, 본 발명을 실시예에 의해 상세히 설명한다.
단, 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐, 본 발명의 내용이 하기 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.
실시예 무기 소재 논슬립 바닥재의 제조
대리석 바닥재 표면 위에 우레탄아크릴레이트 올리고머 40중량부, 상기 올리고머의 희석, 점도조정, 부착증대를 위한 단관능 모노머 2-디에틸헥실포스포릭산
(2-diethyl hexylphosphoric acid;EHPA) 7 ~ 11 중량부, 이관능 모노머 헥산디올디노보넨카르복실레이트(Hexanediol dinorbornenecarboxylate;HDDN) 23 ~ 34 중량부, 삼관능 모노머 트리메틸올프로판에톡실레이트트리아크릴레이트(trimethylol-
propane ethoxylate triacrylate; TMPEOTA) 2 ~ 5 중량부, 광개시제 아세토페논 4 중량부, 첨가제 반응성 실리콘 1 중량부, 매팅제(Matting agent) 실리카 5 중량부를 혼합한 자외선 경화 표면처리제에 50㎛의 직경을 갖는 폴리프로필렌(Polypropyrene,PP) 비드(bead)를 5 중량부 첨가하여 혼합시키고, 20m/min의 속도와 30㎛의 두께로 롤 코팅한 다음 300watt/in 출력의 중압수 Silver램프 4 ~ 7개를 사용하여 자외선 경화시켜, 대리석 표면에 돌출된 요철부를 갖는 자외선 경화 표면처리층을 형성하였다(도 1 참조).
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 무기 소재 논슬립 바닥재의 단면도이다.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명*
1: 무기 소재 기재 2: 비드
3: 자외선 경화 표면처리층

Claims (9)

  1. 표면에 무기계 비드 또는 유기계 비드가 첨가된 자외선 경화 표면처리제를 코팅한 후, 자외선경화되어 상기 표면에 노출시킨, 상기 무기계 비드 또는 상기 유기계 비드가 돌출된 요철을 포함하는 무기 소재 논슬립 바닥재.
  2. 제1항에 있어서, 상기 무기계 비드는 유리 소재 또는 세라믹 소재를 포함하는 무기소재로 구성되어 1 ~ 100㎛의 직경을 갖는 구형 또는 다각형으로 형성되는 것을 특징으로 하는 무기 소재 논슬립 바닥재.
  3. 제1항에 있어서, 상기 유기계 비드는 폴리프로필렌(Polypropyren, PP), 폴리에틸렌(PE), 폴리우레탄(PU), 에폭시, 폴리에스테르, 또는 나일론(Nylone)을 포함하는 고분자 소재의 유기소재로 구성되어 1 ~ 100㎛의 직경을 갖는 구형 또는 다각형으로 형성되는 것을 특징으로 하는 무기 소재 논슬립 바닥재.
  4. 제1항에 있어서, 상기 자외선 경화 표면처리제는 상기 무기계 비드 또는 상기 유기계 비드, 우레탄아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트, 또는 폴리에스터아크릴 레이트를 포함하는 올리고머, 2-디에틸헥실포스포릭산(2-diethyl hexylphosphoric acid;EHPA), 헥산디올디노보넨카르복실레이트(Hexanediol dinorbornenecarboxy-late;HDDN), 또는 트리메틸올프로판에톡실레이트트리아크릴레이트(trimethylol-propane ethoxylate triacrylate;TMPEOTA)를 포함하는 모노머, 및 아세토페논 또는 벤조페논의 광개시제를 포함하는 것을 특징으로 하는 무기 소재 논슬립 바닥재.
  5. 제4항에 있어서, 상기 자외선 경화 표면처리제의 상기 무기계 비드 또는 상기 유기계 비드의 함량은 3 ~ 10 중량부, 우레탄아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트, 또는 폴리에스터아크릴레이트를 포함하는 올리고머의 함량은 20 ~ 70 중량부, 2-디에틸헥실포스포릭산(2-diethyl hexylphosphoric acid;EHPA), 헥산디올디노보넨카르복실레이트(Hexanediol dinorbornenecarboxylate;HDDN), 또는 트리메틸올프로판에톡실레이트트리아크릴레이트(trimethylol-propane ethoxylate triacrylate; TMPEOTA)를 포함하는 모노머의 함량은 0.5 ~ 80 중량부, 및 아세토페논 또는 벤조페논의 광개시제의 함량은 0.5 ~ 10 중량부인 것을 특징으로 하는 무기 소재 논슬립 바닥재.
  6. 제1항에 있어서, 상기 무기 소재는 대리석과 같은 천연석재와, 세라믹 및 시멘트계 인조석과 같은 무기질 성분인 것을 특징으로 하는 무기 소재 논슬립 바닥 재.
  7. 제1항 내지 제6항에 기재된 상기 무기 소재 논슬립 바닥재로 제조한 바닥 장식재 및 이의 응용 제품.
  8. 무기 소재 바닥재 표면을 준비하는 단계;
    상기 무기 소재 바닥재 표면에 상기 무기계 비드 또는 상기 유기계 비드, 우레탄아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트, 또는 폴리에스터아크릴레이트를 포함하는 올리고머, 2-디에틸헥실포스포릭산(2-diethyl hexylphosphoric acid;EHPA), 헥산디올디노보넨카르복실레이트(Hexanediol dinorbornenecarboxylate;HDDN), 또는 트리메틸올프로판에톡실레이트트리아크릴레이트(trimethylolpropaneethoxylate- triacrylate;TMPEOTA)를 포함하는 모노머, 및 아세토페논 또는 벤조페논의 광개시제를 포함하는 자외선 경화 표면처리제를 코팅하는 단계; 및
    자외선 경화기로 상기 자외선 경화 표면처리제를 경화시켜 상기 무기계 비드 또는 상기 유기계 비드를 돌출시키는 단계;를 포함하는 무기 소재 논슬립 바닥재 제조방법.
  9. 제8항에 있어서, 상기 자외선 경화 표면처리제의 상기 무기계 비드 또는 상기 유기계 비드의 함량은 3 ~ 10 중량부, 우레탄아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트, 또는 폴리에스터아크릴레이트를 포함하는 올리고머의 함량은 20 ~ 70 중량부, 2-디에틸헥실포스포릭산(2-diethyl hexylphosphoric acid;EHPA), 헥산디올디노보넨카르복실레이트(Hexanediol dinorbornenecarboxylate;HDDN), 또는 트리메틸올프로판에톡실레이트트리아크릴레이트(trimethylol-propane ethoxylate triacrylate; TMPEOTA)를 포함하는 모노머의 함량은 0.5 ~ 80 중량부, 및 아세토페논 또는 벤조페논의 광개시제의 함량은 0.5 ~ 10 중량부인 것을 특징으로 하는 무기 소재 논슬립 바닥재 제조방법.
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