KR20100079984A - 광학 필터 및 그 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 전자파 차폐층을 음각 패턴이 형성된 수지층의 내부에 형성함으로써, 안정적인 전자파 차폐 특성을 확보함과 아울러 콘트라스트 특성을 양호하게 유지하고, 공정 수율을 향상시키며 아울러 헤이즈를 저감하고 부착성을 향상시킬 수 있는 광학 필터 및 그 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명의 일례에 따른 광학 필터는 투명 베이스 기판, 투명 베이스 기판 상에 배치되고, 소정의 음각 패턴이 형성된 수지층 및 수지층의 음각 패턴 내부에 배치되고 전자파 차폐를 위한 전자파 차폐층을 포함한다.
또한, 본 발명의 일례에 따른 광학 필터의 제조 방법은 투명 베이스 기판 상에 수지층을 적층하는 적층단계;와 수지층에 소정의 음각 패턴을 형성하는 패턴 형성단계; 및 음각 패턴 내부에 전자파 차폐층을 형성하는 전자파 차폐층 형성단계;를 포함한다.
전자파 차폐, 음각 패턴, 콘트라스트

Description

광학 필터 및 그 제조 방법{Optical filter and manufacture method thereof}
본 발명은 디스플레이 장치에 포함되는 광학 필터 및 그 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 본 발명은 투병 베이스 기판 상에 형성되는 수지층에 소정의 음각 패턴을 형성하여 음각 패턴 내부에 전자파 차폐층을 형성한 광학 필터 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel: PDP) 및 액정 크리스털 디스플레이 패널(liquid crystal display Panel: LCD) 등의 디스플레이 장치들은 구동 회로 자체에 의한 전자파가 발생하거나, 패널 구동시 구동 방법에 따라 전자파가 발생하게 된다.
예를 들어, 플라즈마는디스플레이 패널은 He+Xe, Ne+Xe 등의 불활성 혼합가스가 방전할 때에 대략 147nm의 자외선에 의해 형광체를 여기시켜 적색, 녹색 및 청색을 발광시킴으로써 화면이 표시된다. 이와 같이 패널의 구동 과정 중에 구동부에서는 고압의 전압을 발생시키는 과정에 전자파가 발생하게 된다.
따라서 이와 같은 디스플레이 장치들은 이와 같은 전자파를 차폐하기 위하여 다양한 기능을 가진 광학 필터를 사용한다.
이와 같은 광학 필터는 PDP를 이용한 영상 표시 장치가 발생시키는 전자파와 근적외선 등을 차단하고 색보정, 반사방지 등의 기능을 수행한다.
이와 같은 광학 필터는 메쉬 타입의 필터와 도전막 타입의 필터로 나뉜다.
도 1a 및 도 1b는 종래의 메쉬 타입의 광학 필터로서, 도 1a는 동(Cu) 메쉬 타입이고, 도 1b는 은(Ag) 메쉬 타입이다.
도 1a에 도시된 바와 같이, 동 메쉬 타입의 광학 필터는 PET, PC, PMMA 등과 같은 투명 기재(14)에 접착제(21)를 이용하여 동박을 라미네이팅(Laminating)하여 제작한다.
이 과정에서 동(Cu)의 부착성을 향상시키고 동(Cu)의 반짝임에 의한 시인성 저하를 막기 위해 동(Cu)의 한쪽면에 화학 표면 처리를 실시한다. 그리고, 동(Cu) 메쉬의 패턴닝(Patterning) 방법으로는 포토리소그래피를 사용하고 메쉬 형상을 구현한 후 PET 등의 수지층(11)에 점착제 등을 라미네이팅한다.
전자파 차폐를 위한 광학 필터 상에는 도 1a에 도시된 바와 같이, 색보정층(17), NIR 차단층(18), 반사 방지막(19) 등의 기능층을 추가할 수 있다.
도 1b에 도시된 바와 같이, 은(Ag) 메쉬 타입의 경우, 투명기재(14)에 그리비아 옵셋 방식으로 은(Ag)를 전사시켜 메쉬 형성을 구현한 다음, PET 등의 수지층(11)에 점착제 등을 라미네이팅한다.
마찬가지로, 전자파 차폐 광학 필터 상에는 도 1b에 도시된 바와 같이, 색보정층(17), NIR 차단층(17), 반사 방지만(19) 등의 기능층을 추가할 수 있다.
도 1c는 종래 도전막 타입의 광학 필터를 나타낸다. 도전막 타입은 다수의 투명 금속층을 적층한 형태의 차폐층이다.
도 1c에 도시된 바와 같이, 다층의 ITO/Ag 도전막(22)을 형성하여 전자파 차폐 특성을 구현한다. 역시 마찬가지로, 전자파 차폐층 위에는 도 1b에 도시된 바와 같이, 색보정층(17), NIR 차단층(17), 반사 방지막(19) 등의 기능층을 추가할 수 있다.
그러나 종래의 동(Cu) 메쉬를 채용한 광학 필터의 경우, 재료를 라미네이팅 하는 과정에서 발생하는 접착제 층에서 미세 기포, 패임, 이물에 의해 포토에칭 공정 중에 동(Cu) 메쉬가 단락되거나 동(Cu)이 남는 불량이 발생되고, 동(Cu) 표면 또는 표면 처리한 면의 미세한 조도로 인해 헤이즈(Haze)가 상승되어 별도의 투명화 공정을 진행해야 되며 그 과정에서 기포, 눌림, 렌즈성 불량이 유발되는 단점이 있다.
또한, 은(Ag) 메쉬의 경우, 고가인 은(Ag) 사용에 따른 재료비 증가와 인쇄의 한계로 인해 전자파 차폐 특성이 동(Cu) 메쉬에 비해 저하되며 은(Ag) 메쉬의 부착성이 떨어지는 단점이 있으며, 도전막 타입의 경우도 다층의 증착막 형성에 따른 재료비 증가와 전자파 차폐 특성이 동(Cu) 메쉬에 비해 현저히 떨어지는 단점이 있다.
이와 같은 광학 필터가 플라즈마 디스플레이 장치에 사용되는 경우, 명실 콘트라스트 향상을 위해 별도의 콘트라스트 향상층을 더 사용한다. 이와 같은 콘트라스트 향상 필름은 동 메쉬 필름 또는 도전막층의 투명 기재층과 합지되어 외광을 차폐함으로써 명실 콘트라스트 향상 기능을 수행한다. 그러나 합지할 때에 동 메쉬와의 간섭에 의해 발생되는 모아레 문제와 고가의 필름이 적용됨에 따라 광학 필터의 제조 단가가 상승하는 단점이 있다.
본 발명은 전자파 차폐층을 음각 패턴이 형성된 수지층의 내부에 형성함으로써, 안정적인 전자파 차폐 특성을 확보함과 아울러 콘트라스트 특성을 양호하게 유지하고, 공정 수율을 향상시키며 아울러 헤이즈를 저감하고 부착성을 향상시킬 수 있는 광학 필터 및 그 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
또한, 본 발명은 콘트라스트와 전자파 차폐를 동시에 수행하기 위해 음각 패턴 내부에 전자파 차폐층을 형성함으로써, 모아레 현상과 제조 단가를 낮출 수 있는 광학 필터 및 그 제조 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명의 일례에 따른 광학 필터는 투명 베이스 기판, 투명 베이스 기판 상에 배치되고, 소정의 음각 패턴이 형성된 수지층 및 수지층의 음각 패턴 내부에 배치되고 전자파 차폐를 위한 전자파 차폐층을 포함한다.
여기서, 음각 패턴에 의해 형성된 수평 단면의 형상은 삼각형, 사각형중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.
또한, 수평 단면 형상은 사각형을 포함하고, 음각 패턴의 피치는 적어도 10um이상 300um이하가 되도록 할 수 있다.
또한, 사각형은 직사각형을 포함하고, 음각 패턴의 단변 피치는 20um이상 50um이하가 되도록 할 수 있다.
여기서, 음각 패턴의 장변 피치는 80um이상 200um이하가 되도록 할 수 있다.
여기서, 음각 패턴의 단변 피치의 값이 작아질수록 장변 피치의 값은 증가되도록 할 수 있다.
또한, 음각 패턴의 폭은 적어도 3um이상 20um이하가 되도록 할 수 있다.
여기서, 음각 패턴의 폭은 적어도 3um이상 10um이하가 되도록 할 수 있다.
여기서, 음각 패턴의 수직 단면의 형상은 삼각형, 사각형 또는 사다리꼴 또는 타원형 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다.
여기서, 음각 패턴의 수직 단면 깊이는 10um이상 40um이하가 되도록 할 수 있다.
여기서, 음각 패턴의 수직 단면 깊이는 20um이상 30um이하가 되도록 할 수 있다.
여기서, 전자파 차폐층은 수지층 내부에 소정의 두께로 형성된 금속 시드층 및 금속 시드층 내부에 형성된 금속층을 포함할 수 있다.
여기서, 금속 시드층의 두께는 적어도 0.01um이상 4um이하가 되도록 할 수 있다.
여기서, 금속 시드층의 두께는 적어도 0.01um이상 2um이하가 되도록 할 수 있다.
여기서, 금속 시드층은 블랙 계열의 물질이 되도록 할 수 있다.
여기서, 금속 시드층은 동(Cu), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 철(Fe), 텅스텐(W), 인(P), 코발트(Co), 은(Ag), 니켈-인(Ni-P), 니켈-크롬(Ni-Cr), 산화구리Ⅱ(CuO) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
여기서, 금속층은 동(Cu), 은(Ag), 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 니켈-인(Ni-P), 니켈-크롬(Ni-Cr), 산화구리Ⅱ(CuO) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.
여기서, 투명 베이스 기판은 수지성 필름(Film) 또는 투명 글라스(Glass) 중 어느 하나를 포함할 수 있다.
여기서, 수지성 필름(Film)은 아크릴 감압성 접착제(Pressure Sensitive Adhesive:PSA)를 포함할 수 있다.
또한, 본 발명의 일례에 따른 광학 필터의 제조 방법은 투명 베이스 기판 상에 수지층을 적층하는 적층단계;와 수지층에 소정의 음각 패턴을 형성하는 패턴 형성단계; 및 음각 패턴 내부에 전자파 차폐층을 형성하는 전자파 차폐층 형성단계;를 포함한다.
여기서, 패턴 형성단계는 소정의 음각 패턴이 형성되도록 하는 양각 형상을 포함하는 몰드(Mold)를 수지층의 상부에 압박하는 임프린팅(Imprinting)단계를 포함할 수 있다.
여기서, 전자파 차폐층은 블랙계열의 금속 시드층과 금속 시드층 내부에 형성되는 금속층을 포함하고, 전자파 차폐층 형성단계는 금속 시드층과 수지층과의 부착성을 향상시키기 위한 표면 처리단계;와 수지층의 음각 패턴 내부에 금속 시드층을 소정의 두께로 형성하는 금속 시드층 형성 단계; 및 금속 시드층의 내부에 금속층을 형성하는 금속층 형성 단계;를 포함할 수 있다.
여기서, 표면 처리단계는 에칭 처리, 촉매 처리, 플라즈마 처리 또는 이온빔 처리 중 어느 하나에 의할 수 있다.
여기서, 금속 시드층 형성단계는 무전해 도금, 화학 증착 공법(Chemical Vapor Deposition;CVD), 스퍼터링(Sputtering) 또는 인쇄 중 어느 하나의 방법에 의할 수 있다.
여기서, 금속 시드층 형성 단계는 금속 시드층을 수지층 상에 무전해도금하고, 금속층 형성 단계는 금속 시드층 내부에 금속층을 선택적으로 전해 도금할 수 있다.
여기서, 전자파 차폐층 형성 단계는 수지층에서 음각 패턴 내부를 제외한 양각부에 형성된 금속 시드층을 제거하는 양각부 금속시드층 제거단계;를 더 포함할 수 있다.
여기서, 양각부 금속시드층 제거단계는 CMP(Chemical Mechanical Polishing) 공법, 연마 방법, 브러싱(Brushing) 방법 중 어느 하나에 의할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 광학 필터를 포함하는 디스플레이 장치는 상기와 같은 광학 필터를 포함한다.
본 발명에 따른 광학 필터는 전자파 차폐층을 표면이 음각 패턴으로 형성된 수지층 내부에 전자파 차폐층을 형성함으로 헤이즈를 충분히 낮출수 있고, 부착성이 월등히 향상된 광학 필터 특성을 확보하는 효과가 있다.
또한, 본 발명에 따른 광학 필터는 전자파 차폐층을 금속층과 금속 시드층이 포함되도록 하고, 금속 시드층으로 블랙 계열 물질을 사용함으로써 전자파 차폐 특 성을 안정적으로 유지함과 아울러 외부광을 효과적으로 차단할 수 있어 콘트라스트 비를 향상 시키는 효과가 있다.
또한, 또한, 본 발명에 따른 광학 필터의 제조 방법은 전자파 차폐층의 두께를 용이하게 조절할 수 있을 뿐만 아니라, 제조 공정 또한 단순화하여 공정 수율을 향상시킬 수 있을 뿐만 아니라 유니포머티를 향상시키고, 제조 단가를 줄이는 효과가 있다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면들을 참조하여 상세히 설명한다.
우선 각 도면의 구성 요소들에 참조 부호를 부가함에 있어서, 동일한 구성 요소들에 대해서는 비록 다른 도면상에 표시되더라도 가능한 한 동일한 부호를 가지도록 하고 있음에 유의해야 한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어, 관련된 공지 구성 또는 기능에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명은 생략한다. 또한, 이하에서 본 발명의 바람직한 실시예를 설명할 것이나, 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정하거나 제한되지 않고 당업자에 의해 변형되어 다양하게 실시될 수 있음은 물론이다.
도 2는 본 발명의 일례에 따른 광학 필터의 일례를 설명하기 위한 도이다.
도 2의(a) 및 (b)에 도시된 바와 같이, 광학 필터는 투명 베이스 기판(210), 수지층(220), 수지층(220)의 음각 패턴(221) 내부에 배치되는 전자파 차폐층(230)을 포함한다.
투명 베이스 기판(210)은 수지성 필름(Film) 또는 투명 글라스(Glass) 중 어느 하나를 포함할 수 있다.
투명 베이스 기판(210)이 수지성 필름인 경우, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트(PC), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 트리아세테이트 셀룰로즈(TAC), 폴리에테르설폰(PES) 등의 열가소성 수지를 수지성 필름으로 사용함으로써 강도를 높일 수 있고, 디스플레이 패널이 외부 충격으로부터 손상되는 것을 방지할 수 있다. 이때, 두께는 예를 들면, 25~300um(마이크로미터) 범위로 할 수 있고, 광선 투과율은 80%(퍼센트) 이상이 되도록 할 수 있다.
여기서, 수지성 필름(Film)은 아크릴 감압성 접착제(Pressure Sensitive Adhesive : PSA)를 포함할 수 있다. 이와 같이 반고체 상태의 물질인 아크릴 감압성 접착제(PSA)를 사용함으로써 작은 압력으로 수지층(220)을 투명 베이스 기판(210)에 단단하게 결합되도록 할 수 있다.
다음, 수지층(220)은 도시된 바와 같이, 투명 베이스 기판(210) 상에 배치되고, 소정의 음각 패턴(221)이 형성되어 있다. 이와 같은 수지층(220)으로는 UV 경화 수지 또는 열경화성 수지를 사용할 수 있다. 소정의 음각 패턴(221)에 대해서 도 3의 (a) 및 (b)에는 음각 패턴(221)에 의해 형성된 수평 단면의 형상이 사각형인 경우를 일례로 들었으나, 이와 다르게 삼각형, 오각형 또는 육각형이 될 수도 있다. 또한, 도 3에서는 음각 패턴(221)의 수직 단면의 형상이 삼각형(a), 사각 형(b) 인 경우를 일례로 들었으나 사다리꼴이 될 수도 있다. 이에 대해서는 도 5a 및 도 5c에서 보다 자세히 설명한다.
다음, 전자파 차폐층(230)은 수지층(220)의 음각 패턴(221) 내부에 배치되고 전자파를 차폐하는 기능을 한다. 이와 같은 전자파 차폐층(230)은 수지층(220) 내부에 소정의 두께로 형성된 금속 시드층 및 금속 시드층 내부에 형성된 금속층을 포함할 수 있다. 이에 대해서는 도 6에서 보다 상세히 설명한다.
도 3은 본 발명의 일례에 따른 광학 필터에서 수지층에 형성된 소정의 음각 패턴의 다양한 일례를 설명하기 위한 도이다.
음각 패턴(221)에 의해 형성된 수평 단면의 형상은 삼각형 또는 사각형 중 어느 하나를 포함할 수 있다. 즉 도 3의 (a)에 도시된 바와 같이, 음각 패턴(221)에 의해 형성되는 수평 단면의 양각부(222) 형상은 사각형의 형상이 포함되도록 할 수 있다. 또한, (b)와 같이 삼각형이 되도록 할 수도 있고, 이외에 (c), (d), (e)와 같이 구현될 수도 있다.
도 4a 내지 4d는 본 발명의 일례에 따른 광학 필터에서 음각 패턴이 형성된 수지층의 수평 단면에 대해서 보다 자세히 설명하기 위한 도이다.
도 4a에 도시된 바와 같이, 음각 패턴(221)의 수평 단면 형상은 사각형을 포함하고, 음각 패턴(221)의 피치는 적어도 10um이상 300um이하가 되도록 할 수 있다.
이와 같이 음각 패턴(221)의 피치가 적어도 10um이상이 되도록 하고, 음각 패턴(221)이 형성된 내부에 전자파 차폐층(230)이 형성되도록 함으로써 디스플레이 패널로부터 발생되는 30M Hz ~ 1G Hz의 전자파를 적절하게 차폐할 수 있는 효과가 있다.
또한, 음각 패턴(221)의 피치가 적어도 300um이하가 되도록 하고, 음각 패턴(221)이 형성된 내부에 전자파 차폐층(230)이 형성되도록 함으로써 전자파를 적절하게 차폐함과 아울러 디스플레이 패널로부터 발생되는 영상의 빛 투과율을 적절하게 확보할 수 있어 휘도를 향상시키는 효과가 있다.
보다 바람직하게는, 음각 패턴(221)의 수평 단면 형상이 직사각형을 포함되도록 하고, 음각 패턴(221)의 단변 피치는 20um이상 50um이하가 되도록 하고, 음각 패턴(221)의 장변 피치는 80um이상 200um이하가 되도록 할 수 있다.
이와 같이, 음각 패턴(221)의 단변 피치가 20um이상 50um이하가 되도록 하고, 장변 피치는 80um이상 200um이하가 되도록 하는 것은 적정 수준 이상의 광투과율을 유지하면서, 전자파 차폐 특성을 향상시키기 위함이다.
보다 구체적으로 음각 패턴(221)의 단변 피치20um이상 50um이하가 되도록 하고, 음각 패턴(221)의 장변 피치는 80um이상 200um이하가 되도록 함으로써, 차폐층의 면저항을 요구되는 표준 저항인 0.1 옴/cm^2 보다 양호한 0.1 옴/cm^2 보다 양호한 0.005 옴/cm^2 ~ 0.1 옴/cm^2 수준으로 유지할 수 있는 효과가 있다.
예를 들어, 음각 패턴의 폭을 10um, 피치를 300 um로 한 경우 표준 저항인 0.1 옴/cm^2 보다 양호한 0.04 옴/cm^2 으로 유지할 수 있고 광투과율은 대략 96%의 수준을 확보할 수 있는데, 음각 패턴의 폭을 동일하게 유지하면서 장변피치를 100 um, 단변피치를 50 um 로 형성하면, 광투과율을 비슷한 수준을 유지하면서, 표 면 저항을 0.02 옴/cm^2 이하로 향상시킬 수 있는 효과가 있다.
이와 같이 표면 저항을 일정 수준(예를 들면,0.1 옴/cm^2) 이하가 되도록 함으로써, 42인치급 Full HD PDP급에서 요구되는 전자파 차폐 특성을 만족시킬 수 있는 것이다.
또한, 도 4b에 도시된 바와 같이, 음각 패턴(221)의 단변 피치의 값이 작아질수록 장변 피치의 값이 증가되도록 할 수 있다.
음각 패턴(221)의 단변 피치의 값이 작아질수록 장변 피치의 값이 증가되도록 함으로써, 단변 피치와 장변 피치의 곱에 의해 형성되는 면적 비율을 일정 수준으로 유지함으로써 전체적인 전자파 차폐효율을 적절하게 유지할 수 있다.
또한, 도 4c의 (a) 및 (b)에서 음각 패턴(221)의 폭은 적어도 3um이상 20um이하가 되도록 할 수 있다. 이와 같이 음각 패턴(221)의 폭은 적어도 3um이상 20um이하가 되도록 하는 것은 3um이상이 되도록 하여 음각 패턴(221) 내부에 형성되는 전자파 차폐층(230)의 폭을 일정 수준 이상으로 형성되도록 함으로써 전자파 차폐층(230)의 전기저항을 낮추어 전자파 차폐효과를 향상시킴과 아울러 20um이하가 되도록 하여 적절한 휘도 특성을 유지하기 위함이다. 또한, 이와 같이 함으로써 전체적으로 일정수준 이상의 적절한 콘트라스트 특성을 유지할 수 있는 것이다.
보다 바람직하게는 음각 패턴(221)의 폭은 적어도 3um이상 10um이하가 되도록 할 수 있다. 이와 같이 음각 패턴(221)의 폭은 적어도 3um이상 10um이하가 되도록 하는 것은 전자파 차폐층의 면저항을 적정 수준이하로 유지함으로써 일정 수준 이상의 전자파 차폐 효과를 유지하면서 콘트라스트 특성을 일정 수준 이상으로 향 상시키기 위함이다.
예를 들어, 음각 패턴(221)의 폭이 10um인 경우, 전자파 차폐층의 면저항은 대략 0.02 옴/cm^2 ~ 0.04 옴/cm^2 수준으로 유지될 수 있다.
이때, 도 4c의 (a)와 같이 음각 패턴(221)의 단변 폭과 장변 폭이 서로 동일하게 되도록 형성할 수 있으나, (a)와 다르게 도 4c의 (b)와 같이 단변 폭보다 장변 폭을 더 넓게 형성하거나, (b)와 다르게 장변 폭보다 단변 폭을 더 넓게 형성할 수도 있다. 이는 광학 필터의 이면에 배치되는 디스플레이 패널의 R, G, B 단위 셀의 휘도 특성을 고려하기 위함이다. 예를 들어 R, G, B 단위 셀은 각각 다른 휘도 특성을 가지는데, 상대적으로 강한 휘도 특성을 갖는 단위 셀과 인접한 부분에 형성되는 음각 패턴(221)은 장변 폭을 상대적으로 두껍게 함으로써 전체적으로 고른 휘도 특성을 갖도록 할 수 있을 것이다. 이와 같은 음각 패턴(221)의 폭은 광학 필터의 수평 단면 위치에 따른 휘도 특성, 콘트라스트 비율 특성 및 전자파 차폐 특성을 고려하여 광학 필터의 수평 단면 위치에 따라 음각 패턴(221)의 폭을 다르게 형성할 수 있는 것이다.
도 5a 내지 5b는 본 발명의 일례에 따른 광학 필터에서 음각 패턴이 형성된 수지층의 수직 단면에 대해서 보다 자세히 설명하기 위한 도이다.
도 5a에 도시된 바와 같이, 음각 패턴(221)의 수직 단면의 형상은 도 5a와 같이, 삼각형(b), 사각형(a) 또는 사다리꼴(c)이 되도록 할 수도 있고, 도 5a의 (d)와 같은 삼각형의 형상이 변형 형성되도록 할 수도 있고, 도 5a의 (e)와 같이 삼각형, 사각형, 사다리꼴의 형상이 모두 포함되도록 음각 패턴(221)의 수직 단면을 형성할 수 있다. 도 5a의 (e)와 같은 경우, 광학 필터의 수평 단면 위치에 따른 휘도 특성, 콘트라스트 비율 특성, 전자파 차폐 특성이 다를 수 있으므로, 이를 고려하여 광학 필터의 위치에 따라 음각 패턴(221)의 수직 단면의 형상을 달리 할 수 있는 것이다.
여기서, 음각 패턴(221)의 깊이는 10um이상 40um이하가 되도록 할 수 있다. 이와 같이 음각 패턴(221)의 깊이가 10um이상 40um이하가 되도록 하는 것은 수지층(220)의 음각 패턴(221) 내부에 형성되는 전자파 차폐층(230)의 두께를 적정 수준에서 형성되도록 함으로써, 적정 수준이하로 전자파 차페층의 전기저항을 낮추어 전자파 차폐효율을 적정수준으로 유지함과 아울러 콘트라스트 특성을 일정수준 이상으로 향상시키기 위함이다. 이와 같이 음각 패턴(221)의 깊이도 전술한 바와 같이, 광학 필터의 수평 단면 위치에 따른 휘도 특성, 콘트라스트 비율 특성 및 전자파 차폐 특성을 고려하여 광학 필터의 수평 단면 위치에 따라 다르게 형성할 수 있다.
또한, 더욱 바람직하게는 음각 패턴(221)의 깊이는 20um이상 30um이하가 되도록 할 수 있다. 이와 같이 음각 패턴(221)의 깊이가 20um이상 30um이하가 되도록 하는 것은 전자파 차폐층의 면저항을 일정 수준 이하로 양호하게 유지함으로써 일정수준의 전자파 차폐 특성을 유지하면서, 콘트라스트 특성을 일정 수준 이상으로 향상시키기 위함이다.
예를 들어, 음각 패턴(221)의 수직 단면 형상이 삼각형이고, 깊이가 25um인 경우, 전자파 차폐층의 면저항은 대략 0.02 옴/cm^2 ~ 0.04 옴/cm^2 수준으로 유지되고, 외부광이 전반사되는 비율을 상대적으로 더 낮추어 반사광을 줄일 수 있고, 이로 인해 콘트라스트 비가 향상될 수 있다.
이와 같은 음각 패턴(221)의 폭과 깊이는 도 5b의 (a), (b), (c)와 같이, 광학 필터의 수평 단면의 위치에 따라 다르게 형성할 수 있다. 예를 들어, 광학 필터의 외곽 부위보다 중앙 부위의 콘트라스트 비 및 휘도 특성을 상대적으로 높게 유지하기 위해 음각 패턴(221)의 폭을 상대적으로 좁게, 깊이는 상대적으로 더 깊게 형성할 수 있는 것이다. 이와 같이 하면, 음각 패턴의 폭과 깊이에 의해 형성되는 부피를 적절하게 확보할 수 있어 광학 필터 전체적으로 균일한 전자파 차폐 효율을 얻으면서도, 디스플레이 패널의 중앙과 외곽 부분에서의 서로 다른 휘도 특성을 교정할 수 있는 것이다.
도 6은 본 발명의 일례에 따른 광학 필터에서 음각 패턴 내부에 형성되는 전자파 차폐층에 대해서 보다 자세히 설명하기 위한 도이다.
도시된 바와 같이, 전자파 차폐층(230)은 음각 패턴이 형성된 수지층(220) 내부에 소정의 두께로 형성된 금속 시드층(231) 및 금속 시드층(231) 내부에 형성된 금속층(232)을 포함할 수 있다.
여기서, 금속 시드층(231)의 두께는 적어도 0.01um이상 4um이하가 되도록 할 수 있다. 이와 같이 금속 시드층(231)의 두께가 적어도 0.01um이상이 되도록 하는 것은 금속 시드층(231)의 두께를 적절하게 확보함으로써 금속 시드층(231)의 저항값이 일정 수준 이하가 되도록 하여 적절한 전자파 차폐효율을 확보하기 위함이다. 또한, 금속 시드층(231)의 두께가 적어도 4um이하가 되도록 하는 것은 금속 시드층(231)의 두께를 적정 수준이하가 되도록 함으로써 금속층(232)의 두께를 적절하게 확보할 수 있어, 상대적으로 저항값이 낮은 금속층(232)을 통해 전자파에 의해 금속층(232) 내부에 형성된 전류가 광학 필터 외부로 보다 용이하게 배출되도록 하기 위함이다.
더욱 바람직하게는 금속 시드층(231)의 두께가 적어도 0.01um이상 2um이하가 되도록 할 수 있다. 이와 같이 금속 시드층(231)의 두께가 적어도 0.01um이상 2um이하가 되도록 하는 것은 전자파 차폐 특성을 적절하게 유지하기 위해 표면 저항을 안정적으로 유지함과 아울러 금속층의 도금을 원할히 수행하기 위함이다. 예를 들어, 금속층(232)을 구리로 도금하는 경우, Ni-P 또는 Ni-Cr이 사용될 수 있는데, 이때, 금속 시드층(231)을 약 0.05um로 형성할 때 금속 시드층의 표면저항을 3~5홈 수준으로 유지하면서도, 안정적인 구리 도금이 가능하게 된다.
또한, 여기서, 금속 시드층(231)은 블랙 계열의 물질이 포함되도록 할 수 있다. 이와 같이 금속 시드층(231)은 블랙 계열이 되도록 함으로써, 광학 필터를 통하여 디스플레이 패널 내부로 흡수되는 외부광을 효과적으로 흡수시킬 수 있어, 외부광이 디스플레이 패널 내부로 입사되어 반사되는 것을 차단할 수 있다. 이에 따라 디스플레이 패널 내부로 입사되는 외부광의 반사율을 저감시켜 콘트라스트 특성을 개선시킬 수 있다.
또한, 이에 따라 두 개 이상의 주기적인 물결무늬가 겹쳐져 생기는 간섭무늬(interference fringe)인 모아레(Moire)현상을 방지할 수 있는 것이다.
보다 구체적으로, 콘트라스트 비는 (백색광 휘도+반사광 휘도)/(흑색광 휘도+반사광 휘도)로 정의될 수 있는데, 여기서, 금속 시드층(231)은 외부광에 의한 반사를 흡수하여 반사광 휘도를 낮추는 효과가 있고, 이로 인하여 콘트라스트 비가 향상되는 효과가 있다. 이는 블랙 계열의 금속 시드층(231)을 사용하지 않았을 경우보다 대략 2배 이상의 콘트라스트 비율 향상 효과가 있다.(ex. 사용전 120:1, 사용후 250:1)
또한, 여기서, 금속 시드층(231)은 동(Cu), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 철(Fe), 텅스텐(W), 인(P), 코발트(Co), 은(Ag), 니켈-인(Ni-P), 니켈-크롬(Ni-Cr), 산화구리Ⅱ(CuO) 중 적어도 하나를 포함하도록 할 수 있다. 이와 같이, 금속 시드층(231)이 전술한 바와 같은 물질이 포함되도록 함으로써, 금속 시드층(231)의 색깔이 블랙 계열의 물질이 되도록 할 수 있고, 전기 전도율도 높여 전자파 차폐의 효과를 더욱 향상 시킬 수 있는 효과가 있다.
또한, 금속층(232)은 동(Cu), 은(Ag), 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 니켈-인(Ni-P), 니켈-크롬(Ni-Cr), 산화구리Ⅱ(CuO) 중 적어도 하나를 포함하도록 할 수 있다. 이와 같이 금속층(232)이 전술한 바와 같은 물질이 포함되도록 함으로써, 금속층(232)의 전기 전도율이 상대적으로 금속 시드층(231)의 물질과 같거나 더 높은 특성을 가지도록 할 수 있다. 이에 따라 금속 시드층(231)에서 흡수된 전자파를 더욱 용이하게 광학 필터 외부로 배출되도록 함으로써 전자파 차폐의 효과를 더욱 높이는 효과가 있다.
도 7은 본 발명의 일례에 따른 광학 필터에서 전자파 차폐층(230) 이외의 다 른 기능성 필터층이 형성된 일례를 설명하기 위한 도이다.
도 7의 (a)에 도시된 바와 같이, 투명 베이스 기판(210) 상에 음각 패턴(221)이 형성된 수지층(220)을 배치하고, 수지층(220)의 음각 패턴(221) 내부에 금속층(232)과 금속 시드층(231)을 포함하는 전자파 차폐층(230)을 형성하고, 수지층(220) 상에 색보정층(710), 근적외선(Near Infrared Ray:NIR) 차폐층(720), 반사 방지(Anti-Reflection:AR)층(730), 눈부심 방지(Anti-Glared:AG)층(740)이 더 형성되도록 할 수 있다.
이와 같이, 금속 시드층(231)은 외부로부터 들어오는 빛을 흡수하고, 반사를 최소화함으로써, 콘트라스트를 더욱 향상시킬 수 있고, 사용자는 더욱 선명한 화질을 감상할 수 있도록 도와준다.
이하 각 기능 층에 대해 보다 상세히 설명한다.
눈부심 방지(Anti-Glared:AG)층(740)은 표면에 작은 돌기가 형성되면 외부로부터 들어오는 빛은 작은 돌기에 의해 여러 방향으로 산란하여 난반사 하게 된다.
이와 같이 되면, 사용자가 디스플레이 장치에 의하여 표시된 영상을 관측할 때 외부로부터 디스플레이 화면에 입사되는 빛은 작은 돌기로 인해 산란, 난반사 하게 되고 이로 인해 빛은 여러 방향으로 퍼지게 된다.
따라서 필터 표면의 작은 돌기는 외부 빛의 입사에 대한 직접적인 반사광을 줄이고, 사용자의 눈으로 입사되는 외부 빛을 최대한 억제할 수 있는 것이다.
따라서 사용자는 외부 빛이 일 방향으로 반사되는 빛의 양에 비해 훨씬 작은 양의 빛이 반사된 외부광만을 인식하게 되므로, 눈부심 현상을 훨씬 덜 느끼게 된 다. 그리하여 사용자는 본래 관측하고자 하는 플라즈마 디스플레이 장치에 의하여 구현되는 영상을 보다 선명하고 용이하게 관측할 수 있고 보다 선명한 영상을 감상할 수는 것이다.
반사 방지(AR)층(730)은 디스플레이 패널이나 컴퓨터, 모니터 등의 화면을 볼 때 자외선 차단 및 외부 반사광을 줄임으로써 콘트라스트를 향상시키는 기능이 있다.
일반적으로, 완전히 투명하다고 생각하는 유리의 경우도 실제 투과도는 92% 미만이다. 나머지는 반사에 의해 일어나는 손실이다. 이와 같이 반사에 의해 일어나는 손실을 줄이기 위해, 빛 투과율이 거의 100%에 인접하는 반사 방지(AR)층(730)을 이용하여 이러한 반사를 줄임으로써 보다 선명한 영상을 감상할 수 있는 것이다.
근적외선 차폐층(720)은 근적외선을 차폐하는 기능이 있다. 예를 들어, 플라즈마 디스플레이 장치는 플라즈마 방전을 위해 고전압 및 고주파를 인가하여 화상을 구현하기 때문에 Ne, Xe과 같은 불활성 가스로부터 유도되는 0.75㎛∼3㎛인 파장의 근적외선(Near Infrared Ray)을 방출하게 되는데, 이러한 근적외선은 가전제품의 리모트 컨트롤러 파장과 매우 가까워 오작동을 일으키는 문제점이 있을 수 있는데, 근적외선 차폐층(720)은 이와 같은 문제를 일으키는 근적외선을 차폐하는 기능을 한다.
색보정층(710)은 색 조절 염료를 포함하여 색조를 조절함으로써 색 순도를 높이는 역할을 한다. 이와 같은 색 보정층은 PDP 패널 등의 디스플레이 장치로부터 입사되는 가시광 중 특정색의 휘도는 낮추고, 특정색의 휘도는 높일 수 있는 효과가 있다. 예를 들어, 적색 및 녹색의 휘도를 낮추고, 청색의 휘도를 상대적으로 높여 광특성을 향상시킬 수 있는 것이다.
이와 같은 각 기능층들은 점착층을 형성하는 접착막으로 접착되도록 할 수 있다. 이와 같은 점착층들은 실리콘계 또는 아크릴계 점착층 등을 사용할 수 있고, 이러한 점착제에는 자외선 차단제 및 착색염료, 열화 방지제와 같은 첨가물들이 적절하게 점가될 수 있다.
또한, 도 7의 (a)와 다르게, (b)와 같이, 음각 패턴(221)의 수직 단면 형상을 삼각형으로 한 경우, 금속 시드층(231)에 의해 외부로부터 들어오는 빛이 흡수됨과 아울러 수지층(220)의 음각 패턴(221)에 의해 외부로부터 들어오는 빛이 반사되더라도 직접적으로 사용자에게 반사되지 아니하도록 할 수 있어 콘트라스트 특성을 더욱 향상시키는 효과가 있다.
도 8은 본 발명의 일례에 따른 광학 필터의 제조 방법 일례를 설명하기 위한 도이다.
도시된 바와 같이, 본 발명의 일례에 따른 광학 필터를 제조 방법은 적층단계(S10), 패턴 형성단계(S20) 및 전자파 차폐층(230) 형성단계(S30)를 포함한다.
적층단계(S10)에서는 투명 베이스 기판(210) 상에 수지층(220)을 적층한다. 그리고, 패턴 형성단계(S20)에서는 수지층(220)에 소정의 음각 패턴(221)을 형성한다. 여기서, 음각 패턴(221)을 형성하기 위해 패턴 형성 단계는 소정의 음각 패 턴(221)이 형성되도록 하는 양각 형상을 포함하는 몰드(Mold)를 수지층(220)의 상부에 압박하는 임프린팅(Imprinting)단계를 더 포함할 수 있다.
이와 같이 몰드를 이용하여 수지층(220)에 음각 패턴(221)을 형성하는 방법은 제조 공정을 간단히 하고 제조 시간을 단축하여 생산 수율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다. 예컨대, 이와 같이 몰드를 이용한 임프린팅 단계는 종래의 방법에서 필요한 노광, 현상 공정 같은 복잡하고 고가인 공정을 요구하지 않으며, 오프셋 방식(Offset) 공정과 같이 별도의 장비를 요구하지 않는다. 따라서 광학 필터의 제조 공정을 상대적으로 간소화할 수 있고, 제조 비용도 상대적으로 절감하는 효과가 있다.
여기서, 음각 패턴(221)의 수평 단면의 형상은 삼각형, 사각형, 오각형 또는 육각형 중 적어도 어느 하나를 포함할 수 있다. 이때, 수평 단면의 형성이 사각형인 경우, 음각 패턴(221)의 피치는 적어도 10um이상 300um이하가 되도록 할 수 있다. 보다 바람직하게는 음각 패턴(221)의 수평 단면 형상은 직사각형을 포함하는 경우, 음각 패턴(221)의 단변 피치는 20um이상 50um이하가 되도록 할 수 있고, 음각 패턴(221)의 장변 피치는 80um이상 200um이하가 되도록 할 수 있다.
이때, 음각 패턴(221)의 단변 피치의 값이 작아질수록 장변 피치의 값은 증가되도록 음각 패턴(221)을 형성할 수 있다.
또한, 음각 패턴(221)의 최대 폭은 적어도 3um이상 20um이하가 되도록 할 수 있다. 보다 바람직하게는 음각 패턴(221)의 최대 폭은 적어도 3um이상 10um이하가 되도록 제조할 수 있다.
그리고 음각 패턴(221)의 수직 단면의 형상은 삼각형, 사각형 또는 사다리꼴 중 적어도 어느 하나를 포함되도록 제조할 수 있다. 여기서, 음각 패턴(221)의 깊이는 10um이상 40um이하가 되도록 제조할 수 있다. 보다 바람직하게는 음각 패턴(221)의 깊이는 20um이상 30um이하가 되도록 제조할 수 있다.
전자파 차폐층(230) 형성단계(S30)에서는 음각 패턴(221) 내부에 전자파 차폐층(230)을 형성한다. 이와 같은 전자파 차폐층(230) 형성단계(S30)는 도 9에서 보다 자세히 설명한다.
도 9는 본 발명의 일례에 따른 광학 필터의 제조 방법에서 전자파 차폐층(230)을 제조하기 위한 일례를 설명하기 위한 도이다.
도시된 바와 같이, 전자파 차폐층(230) 형성단계(S30)는 표면 처리단계(S31), 금속 시드층(231) 형성 단계(S32), 양각부(222) 금속 시드층(231) 제거단계(S33), 금속층(232) 형성 단계(S34)를 포함할 수 있다.
표면 처리단계(S31)에서는 금속 시드층(231)과 수지층(220)과의 부착성을 향상시키기 위하여 음각 패턴(221)으로 패터닝(Patterning)된 수지층(220) 상부를 화학표면 처리를 통해 아민계의 반응기를 부여하여 촉매(염화카드늄)와의 반응성이 향상되도록 표면처리 한다. 이와 같은 표면 처리단계(S31)를 위해 에칭 처리, 촉매 처리, 플라즈마 처리 또는 이온빔 처리 중 어느 하나에 의한 방법을 사용할 수 있다.
금속 시드층(231) 형성 단계(S32)에서는 수지층(220)의 음각 패턴(221) 내부 에 금속 시드층(231)을 소정의 두께로 형성한다. 이와 같은 금속 시드층(231) 형성을 위해 무전해 도금, 화학 증착 공법(Chemical Vapor Deposition;CVD), 스퍼터링(Sputtering) 또는 인쇄 중 어느 하나의 방법을 사용할 수 있다.
이와 같이 무전해 도금, 화학 증착 공법(Chemical Vapor Deposition;CVD), 스퍼터링(Sputtering) 또는 인쇄 중 어느 하나의 방법을 사용하여 금속 시드층(231)을 형성함으로써, 광학 필터 형성시 가장 문제되는 기포를 거의 발생시키지않아 영상 필터의 유니포머티(Uniformity)를 획기적으로 높일 수 있는 효과가 있다.
또한, 공정 중에 자연스럽게 영상 필터의 유니포머티를 향상시킴으로써, 불량률을 상대적으로 감소시킬 수 있고, 공정 수율을 상대적으로 향상시키는 효과가 있다.
또한, 이와 같은 방식에 의하면, 미세 두께를 요구하는 금속 시드층(231)의 두께를 보다 용이하게 형성할 수 있어 제작시 불량률을 크게 감소시키는 효과가 있다.
이때, 금속 시드층(231)의 두께는 적어도 0.01um이상 4um이하가 되도록 할 수 있다. 보다 바람직하게는 금속 시드층(231)의 두께는 적어도 0.01um이상 2um이하가 되도록 할 수 있다. 이때, 금속 시드층(231)은 블랙 계열의 물질을 사용할 수 있고, 동(Cu), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 철(Fe), 텅스텐(W), 인(P), 코발트(Co), 은(Ag), 니켈-인(Ni-P), 니켈-크롬(Ni-Cr), 산화구리Ⅱ(CuO) 중 적어도 하나를 포함되도록 제조할 수 있다.
양각부(222) 금속 시드층(231) 제거단계에서는 수지층(220) 상에서 음각 패턴(221) 내부를 제외한 양각부(222)에 형성된 금속 시드층(231)을 제거한다. 이를 위해, 양각부(222) 금속시드층 제거단계에서는 CMP(Chemical Mechanical Polishing) 공법, 연마 방법, 브러싱(Brushing) 방법 중 어느 하나의 방법을 사용하여 양각부(222)에 형성된 금속 시드층(231)을 제거할 수 있다.
금속층 형성 단계에서는 금속 시드층(231)의 내부에 금속층(232)을 형성한다. 이와 같은 금속층(232)의 물질은 동(Cu), 은(Ag), 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 니켈-인(Ni-P), 니켈-크롬(Ni-Cr), 산화구리Ⅱ(CuO) 중 적어도 하나를 포함하여 음각 패턴(221)내부에 형성된 금속 시드층(231) 내부에 금속층(232)을 선택적으로 형성할 수 있다.
일례로, 금속 시드층(231) 형성 단계(S32)에서는 금속 시드층(231)을 음각패턴이 형성된 수지층(220)의 음각 패턴(221) 내부와 음각 패턴(221)을 제외한 양각부(222)에 상에 무전해 도금하고, 양각부(222)에 형성된 금속 시드층(231)을 CMP(Chemical Mechanical Polishing) 공법, 연마 방법, 브러싱(Brushing) 방법 중 어느 하나를 사용하여 제거한 다음, 금속 시드층(231) 내부에 금속층(232)을 선택적으로 전해 도금함으로써, 금속층(232)을 선택적으로 형성할 수 있는 것이다.
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 수정, 변경 및 치환이 가능할 것 이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예 및 첨부된 도면들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예 및 첨부된 도면에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
도 1a 내지 도 1c는 종래 기술에 따른 광학 필터의 구조를 설명하기 위한 도.
도 2는 본 발명의 일례에 따른 광학 필터의 일례를 설명하기 위한 도.
도 3은 본 발명의 일례에 따른 광학 필터에서 수지층에 형성된 소정의 음각 패턴의 다양한 일례를 설명하기 위한 도.
도 4a 내지 4c는 본 발명의 일례에 따른 광학 필터에서 음각 패턴이 형성된 수지층의 수평 단면에 대해서 보다 자세히 설명하기 위한 도.
도 5a 내지 5b는 본 발명의 일례에 따른 광학 필터에서 음각 패턴이 형성된 수지층의 수직 단면에 대해서 보다 자세히 설명하기 위한 도.
도 6은 본 발명의 일례에 따른 광학 필터에서 음각 패턴 내부에 형성되는 전자파 차폐층에 대해서 보다 자세히 설명하기 위한 도.
도 7은 본 발명의 일례에 따른 광학 필터에서 전자파 차폐층 이외의 다른 기능성 필터층이 형성된 일례를 설명하기 위한 도.
도 8은 본 발명의 일례에 따른 광학 필터의 제조 방법 일례를 설명하기 위한 도.
도 9는 본 발명의 일례에 따른 광학 필터의 제조 방법에서 전자파 차폐층을 제조하기 위한 일례를 설명하기 위한 도.
<도면의 주요 부분에 대한 도면 부호의 설명>
210 : 투명 베이스 기판220 : 수지층
221 : 음각 패턴230 : 전자파 차폐층
231 : 금속 시드층232 : 금속층

Claims (28)

  1. 투명 베이스 기판;
    상기 투명 베이스 기판 상에 배치되고, 소정의 음각 패턴이 형성된 수지층; 및
    상기 수지층의 음각 패턴 내부에 배치되고 전자파 차폐를 위한 전자파 차폐층;
    을 포함하는 광학 필터.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 음각 패턴에 의해 형성된 수평 단면의 형상은 삼각형 또는 사각형 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 수평 단면 형상은 사각형을 포함하고,
    상기 음각 패턴의 피치는 적어도 10um이상 300um이하인 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 사각형은 직사각형을 포함하고,
    상기 음각 패턴의 단변 피치는 20um이상 50um이하인 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 음각 패턴의 장변 피치는 80um이상 200um이하인 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 음각 패턴의 단변 피치의 값이 작아질수록 상기 장변 피치의 값은 증가하는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  7. 제 4 항에 있어서,
    상기 음각 패턴의 폭은 적어도 3um이상 20um이하인 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  8. 제 4 항에 있어서,
    상기 음각 패턴의 폭은 적어도 3um이상 10um이하인 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  9. 제 2 항에 있어서,
    상기 음각 패턴의 수직 단면의 형상은 삼각형, 사각형 또는 사다리꼴 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 음각 패턴의 수직 단면 깊이는 10um이상 40um이하인 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  11. 제 9 항에 있어서,
    상기 음각 패턴의 수직 단면 깊이는 20um이상 30um이하인 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  12. 제 1 항에 있어서,
    상기 전자파 차폐층은 상기 수지층 내부에 소정의 두께로 형성된 금속 시드층 및 상기 금속 시드층 내부에 형성된 금속층을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  13. 제 12 항에 있어서,
    금속 시드층의 두께는 적어도 0.01um이상 4um이하인 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  14. 제 12 항에 있어서,
    금속 시드층의 두께는 적어도 0.01um이상 2um이하인 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  15. 제 12 항에 있어서,
    상기 금속 시드층은 블랙 계열의 물질인 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  16. 제 12 항에 있어서,
    상기 금속 시드층은 동(Cu), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 철(Fe), 텅스텐(W), 인(P), 코발트(Co), 은(Ag), 니켈-인(Ni-P), 니켈-크롬(Ni-Cr), 산화구리Ⅱ(CuO) 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  17. 제 12 항에 있어서,
    상기 금속층은 동(Cu), 은(Ag), 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 크롬(Cr), 니켈-인(Ni-P), 니켈-크롬(Ni-Cr), 산화구리Ⅱ(CuO) 중 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  18. 제 1 항에 있어서,
    상기 투명 베이스 기판은
    수지성 필름(Film) 또는 투명 글라스(Glass) 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  19. 제 18 항에 있어서,
    상기 수지성 필름(Film)은 아크릴 감압성 접착제(Pressure Sensitive Adhesive:PSA)를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터.
  20. 투명 베이스 기판 상에 수지층을 적층하는 적층단계;
    상기 수지층에 소정의 음각 패턴을 형성하는 패턴 형성단계; 및
    상기 음각 패턴 내부에 전자파 차폐층을 형성하는 전자파 차폐층 형성단계;
    광학 필터의 제조 방법.
  21. 제 20 항에 있어서,
    상기 패턴 형성단계는
    상기 소정의 음각 패턴이 형성되도록 하는 양각 형상을 포함하는 몰드(Mold)를 상기 수지층의 상부에 압박하는 임프린팅(Imprinting)단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터의 제조 방법.
  22. 제 20 항에 있어서,
    상기 전자파 차폐층 형성단계는
    상기 금속 시드층과 상기 수지층과의 부착성을 향상시키기 위한 표면 처리단 계;
    상기 수지층의 음각 패턴 내부에 상기 금속 시드층을 소정의 두께로 형성하는 금속 시드층 형성 단계; 및
    상기 금속 시드층의 내부에 상기 금속층을 형성하는 금속층 형성 단계;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터의 제조 방법.
  23. 제 22 항에 있어서,
    상기 표면 처리단계는
    에칭 처리, 촉매 처리, 플라즈마 처리 또는 이온빔 처리 중 어느 하나에 의한 것을 특징으로 하는 광학 필터의 제조 방법.
  24. 제 22 항에 있어서,
    상기 금속 시드층 형성단계는
    무전해 도금, 화학 증착 공법(Chemical Vapor Deposition;CVD), 스퍼터링(Sputtering) 또는 인쇄 중 어느 하나의 방법에 의한 것을 특징으로 하는 광학 필터의 제조 방법.
  25. 제 22 항에 있어서,
    상기 금속 시드층 형성 단계는 상기 금속 시드층을 상기 수지층 상에 무전해도금하고,
    상기 금속층 형성 단계는 상기 금속 시드층 내부에 상기 금속층을 선택적으로 전해 도금하는 것을 특징으로 하는 광학 필터의 제조 방법.
  26. 제 22 항에 있어서,
    상기 전자파 차폐층 형성 단계는
    상기 수지층에서 상기 음각 패턴 내부를 제외한 양각부에 형성된 금속 시드층을 제거하는 양각부 금속시드층 제거단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 필터의 제조 방법.
  27. 제 26 항에 있어서,
    상기 양각부 금속시드층 제거단계는
    CMP(Chemical Mechanical Polishing) 공법, 연마 방법, 브러싱(Brushing) 방법 중 어느 하나에 의한 것을 특징으로 하는 광학 필터의 제조 방법.
  28. 광학 필터를 포함하는 디스플레이 장치에 있어서,
    상기 제 1 항 내지 제 19 항에 따른 광학 필터를 포함하는 디스플레이 장치.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101866118B1 (ko) * 2017-01-23 2018-06-08 한국과학기술원 항공기 캐노피용 전자파 차폐 필름 및 그의 제조방법
CN109309012A (zh) * 2017-07-28 2019-02-05 Tdk株式会社 导电性基板、电子装置以及显示装置的制造方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4002672B2 (ja) * 1998-06-03 2007-11-07 共同印刷株式会社 電磁波シールド付き光学フィルタ及びその製造方法
JP2007242728A (ja) * 2006-03-06 2007-09-20 Fujimori Kogyo Co Ltd ディスプレイ用光学フィルター及びその製造方法
KR20080043673A (ko) * 2006-11-14 2008-05-19 엘지마이크론 주식회사 하이브리드 필터, 그 제조방법 및 이를 포함하는 플라즈마디스플레이 패널 필터
CN101606447B (zh) * 2007-02-16 2012-07-04 株式会社东进世美肯 用于屏蔽电磁干扰的过滤器及设置该过滤器的显示器

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101866118B1 (ko) * 2017-01-23 2018-06-08 한국과학기술원 항공기 캐노피용 전자파 차폐 필름 및 그의 제조방법
CN109309012A (zh) * 2017-07-28 2019-02-05 Tdk株式会社 导电性基板、电子装置以及显示装置的制造方法
KR20190013594A (ko) * 2017-07-28 2019-02-11 티디케이가부시기가이샤 도전성 기판, 전자 장치 및 표시 장치의 제조 방법
US10784122B2 (en) 2017-07-28 2020-09-22 Tdk Corporation Method of producing electroconductive substrate, electronic device and display device
US11410855B2 (en) 2017-07-28 2022-08-09 Tdk Corporation Method of producing electroconductive substrate, electronic device and display device

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