JP2007242728A

JP2007242728A - ディスプレイ用光学フィルター及びその製造方法

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Publication number: JP2007242728A
Application number: JP2006060073A
Authority: JP
Inventors: Masayoshi Hirano; 昌由平野; Tomoshi Nagatsuka; 知志長塚
Original assignee: Fujimori Kogyo Co Ltd; Mitsubishi Paper Mills Ltd
Current assignee: Fujimori Kogyo Co Ltd; Mitsubishi Paper Mills Ltd
Priority date: 2006-03-06
Filing date: 2006-03-06
Publication date: 2007-09-20

Abstract

【課題】ディスプレイ用光学フィルターの電磁波シールド層が、外部光を遮光する遮光層を兼ねており、高い電磁波シールド性を有すると共に、外部光の遮光性に優れる電磁波シールド層を、省資源に基づく安価な製造方法で製造する。
【解決手段】透明基材２の片面に導電性金属のメッシュパターン３を形成し、前記メッシュパターン３の上側の全面にネガ型感光性樹脂組成物８を塗布し、前記透明基材２の反対側から前記メッシュパターン３を露光マスクとして前記ネガ型感光性樹脂組成物８を露光し、露光されなかった前記メッシュパターン３上のネガ型感光性樹脂組成物８を除去して残存物を固化し、前記ネガ型感光性樹脂組成物の固化物６を型枠として前記メッシュパターン３上にメッキ層４を積層して、遮光板を兼ねた金属メッキ積層体５を作製する。
【選択図】図１

Description

本発明は、ＬＣＤ、ＥＬＤ、ＣＲＴ、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）などの各種ディスプレイに使用される光学フィルターに関する。さらに詳細には、ディスプレイ用光学フィルター（以下、単に「光学フィルター」という場合がある。）において、電磁波シールド層が外部光を遮光する遮光層を兼ねていて、高い電磁波シールド性を有すると共に、外部光の遮光性に優れ、コントラストの低下を抑えることにより鮮明な画像を得ることのできるディスプレイ用光学フィルター及びその製造方法に関する。

近年、ＬＣＤ、ＥＬＤ、ＣＲＴ、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）などのディスプレイにおいては、ディスプレイ前面から発生する電磁波が人体に悪影響を与えたり、周囲の電子機器を誤動作させることが問題とされるようになり、ディスプレイの画像の鮮明さと共に、ディスプレイが周囲へ与える影響への対策が益々重要視されつつある。
特に、大型の薄型ディスプレイとして需要の増大しているＰＤＰにおいては、電磁波シールドフィルム以外に、近赤外線の波長領域を使用している各種のリモコンスイッチの誤作動を防ぐための近赤外線吸収フィルム、その近赤外線吸収フィルムに使用されている近赤外線吸収剤の経時劣化を防ぐための紫外線吸収フィルム、さらには可視光領域の色調調整のためのネオン光カットフィルム、光学フィルターの表面に外部光が映り込むのを防ぐための反射防止フィルム等が、必要とされる機能に応じて組み合わせて構成されている。これらのフィルムをディスプレイ用光学フィルターとして用いることにより画像の映り具合の改善を図ると共に、周囲へ与える影響を低減する対策が採られている。

一方、ディスプレイから発生する電磁波が外部に漏洩して人体に与える悪影響を防ぐという要求に対しては、従来から、種々の透明導電性フィルムおよび電磁波シールドフィルムが開発されている。公知の電磁波シールド材は、大きく分けると、透明導電膜による電磁波シールド材と、導電性の金属メッシュによる電磁波シールド材の２つに区分される。このうち、透明導電膜による電磁波シールド材は、金属メッシュによる電磁波シールド材に比べて透明性に優れる反面、表面抵抗率が大きく、電磁波シールド性能に劣る。このため、ＰＤＰ等の強い電磁波を発生させる機器からの電磁波をシールドする用途では、金属メッシュによる電磁波シールド材が好ましい。

さらに、導電性の金属メッシュによる電磁波シールド材の製造方法としては、下記の（１）〜（３）に示す方法が挙げられる。
（１）透明基材に金属箔を貼り合わせ、または透明基材に金属の薄膜を蒸着した後、フォトリソグラフ法により導電性金属パターンを形成するエッチング法（例えば、特許文献１参照）。
（２）透明基材の上に導電性の金属ペーストをメッシュパターンに印刷した後にメッキして導電性金属パターンを形成する印刷−メッキ法（例えば、特許文献２参照）。
（３）細線パターンを写真製法により生成された現像銀で形成した後、この現像銀の薄膜の上にメッキすることにより導電性金属パターンを形成する写真銀−メッキ法（例えば、特許文献３および特許文献４参照）。

そして、写真製法により生成した現像銀でメッシュパターンを形成する方法には、下記の（ａ）、（ｂ）に示す２通りがある。

（ａ）支持体上に設けられた銀塩を含有する銀塩含有層を露光し、現像処理することにより金属銀部と光透過性部とを形成し、さらに前記金属銀部を物理現像及び／又はメッキ処理することにより前記金属銀部に導電性金属粒子を担持させた導電性金属部を形成する方法（例えば、特許文献３参照）。この方法は、露光マスクに覆われて露光されなかった部分には現像銀は発現せず、露光マスクに覆われていなくて露光された部分に現像銀が発現する、したがって、露光マスクと比較して反転した形に現像銀が表れるネガ型の露光・現像法である。

（ｂ）透明基材上に、物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層とをこの順で有する感光材料を露光し、物理現像核上に任意の細線パターンで金属銀を析出させ、次いで前記物理現像核上に設けられた層を除去した後、前記物理現像された金属銀を触媒核として金属をめっきする方法（例えば、特許文献４参照）。この方法は、露光マスクに覆われて露光されなかった部分には現像銀が発現し、露光マスクに覆われていなくて露光された部分には現像銀が発現しない、したがって、露光マスクと同じ形に現像銀が表れるポジ型の露光・現像法（銀錯塩拡散転写法、以降ＤＴＲ法と称す。）である。

一方、特許文献５〜８には、外部光を遮光してコントラストの低下を防ぐための遮光層、ライトコントロールフィルムが開示されている。
特開平１０−０７５０８７号公報特開平１１−１７０４２０号公報特開２００４−２２１５６４号公報国際公開第２００４／００７８１０号パンフレット特開平１１−０７２６０３号公報特公平０２−０１９４４９号公報特開２０００−１０５３０３号公報特開平０８−０１５５０５号公報

光学フィルターに組み込まれる電磁波シールド層の金属メッシュパターンを製造するに際し、上記（１）のエッチング法においては、細線部分となるほんのわずかな部分のみを残し、それ以外のほとんど大部分の金属をエッチングにより溶解除去するのは資源を節減するという観点から問題である。また、金属の薄膜を蒸着する方法では、膨大な設備費が必要となることから簡単に製造を行うことができないという問題があった。また、上記（１）のエッチング法においては、厚みが１２μｍ以上の厚肉の金属箔をエッチングするには、長時間を要するのでコストが掛かり過ぎるという問題があった。
上記（２）の印刷−メッキ法においては、金属メッシュパターンの線幅を３０μｍ以下にするのが困難であるという問題があった。また、導電性ペーストにはバインダーが含有されているため、導電性ペーストを用いて基材の上に印刷したのみでは低い導電率しか得られず、高い電磁波シールド性能が得られないという問題があった。
上記（３）の写真銀−メッキ法においては、高い電磁波シールド性能が得られ、また、透明基材の寸法に制約を受けることが無く、ロールｔｏロールで製造でき非常に生産性が高いことから好ましい製造方法である。

一方、各種ディスプレイ、特にＰＤＰにおいては、ディスプレイに取り付ける光学フィルターとして、外部光（屋外光や室内照明光）による映り込みが生じることを防ぐために反射防止フィルム（ＡＲフィルム）を最外層に採用している。
近年、各種ディスプレイ、特にＰＤＰにおいては、暗い室内だけでなく、部屋を照明等で明るくしたままの状態で画像を見たいという要望が高まっている。しかし、部屋を明るくすると、外部光の反射や映り込みにより画像が白色化し、更には白黒のコントラストが低下して画像がぼやけるという現象が起きる。
このため、ＰＤＰにおいては、ＰＤＰの発光強度を減衰させないで鮮明な画像を映し出すため、全光線透過率が高くて輝度の低下が少ない光学フィルターが必要とされている。
また、外部光を遮光してコントラストの低下を抑えることができる光学フィルターが求められている。

ところで、特許文献５〜８には、外部光を遮光してコントラストの低下を防ぐための遮光層に関する記載があるが、これらの遮光層は、いずれも電磁波シールド材としての機能は有していない。
例えば特許文献５には、透明支持体上に銀塩感光層を塗布し、銀塩感光層の上に密着させたマスクを介して露光するか、あるいはレーザー光にて乳剤面に直接描画後、現像・定着し、格子模様などのパターン形状を形成することが開示されている。しかしながら、銀塩感光層の厚みを約３０μｍ以上の厚膜となるように塗布された乳剤層を露光する場合には、レーザー光等の強力な光線で露光描画する必要があり、露光速度が遅いという問題があった。また、この現像・定着された銀塩感光層内には、塗布乳剤液の乳化調整用のポリマーラテックスが含まれているので、銀粒子同士の接触を疎外して、導電性が発現しておらず、格子模様などのパターン形状は電磁波シールド材としての機能を有していない。

特許文献６には、透明板の上の感光性樹脂組成物を、その上に積層したマスクを通して露光し、非露光部分を除去して残る格子模様突起を遮光材として用いることが開示されている。格子模様突起の側面が粗面化されて乱反射により実質的には光の透過を防いでいるが、この格子模様突起は、感光性樹脂からなり導電性が無いので電磁波シールド材としての機能を有していない。

特許文献７には、柔軟性を有する線状部材を格子状に編み合わせ、あるいは板状部材に縦および横方向に等ピッチで多数の孔を形成して作製した遮光層が開示されている。この遮光版では、その明細書中の段落００２２には「線状部材の材質には、金属等の導電性を有する部材、プラスチックやナイロン等の合成樹脂、紙、ガラス等の様々な材質を用いることができる。」との記載があることから、電磁波シールド材としての機能を持たせることは意図されていない。また、線状部材を格子状に編み込んで作製した遮光層は、支持部材が単に周囲の枠のみであって、光を透過する開口部となる編み目形状の安定性に欠けるという問題があった。

特許文献８には、透明な合成樹脂板の主面に並列状の微小凹凸部を設け、この凹凸部の主面に垂直な側面部に遮光性を有する不透明層を形成した遮光層が開示されている。
明細書には、この遮光層の具体的な寸法は記載されていないが、その明細書中の段落００１３には「この不透明層を形成するには、例えば形成すべき微小面を化学処理したり、砂を吹き付けたりしていわゆる梨地状に荒らし、この上からつや消しの黒色塗料を塗布するような方法で容易に実施できる。」との記載があることから、遮光層の幅寸法は、砂粒より大きく、少なくとも数ｍｍ以上であると考えられる。この遮光層は、合成樹脂製であることから導電性が無いので電磁波シールド材としての機能を有していない。

このように、従来技術においては、光学フィルターに用いられる電磁波シールド層において、線幅が１５〜５０μｍ、且つ、厚みが１２μｍ以上であるメッシュパターンの電磁波シールド材を安価に製造することは困難であり、また、外部光を遮光する遮光層を兼ねていて、外部光を遮光してコントラストの低下を抑えることができる電磁波シールド層は提供されていなかった。

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、省資源に基づく安価な製造方法で光学フィルター用の電磁波シールド層を製造するものであって、その電磁波シールド層が、外部光を遮光する遮光層を兼ねていて、高い電磁波シールド性を有すると共に、外部光の遮光性に優れ、コントラストの低下を抑えることにより鮮明な画像を得ることのできる光学フィルター及びその製造方法を提供することを課題とする。

上記課題を解決するため、本発明は、電磁波シールド層を有するディスプレイ用光学フィルターであって、前記電磁波シールド層は、透明基材の片面に形成された導電性金属のメッシュパターン上にメッキ層が積層されてなる金属メッキ積層体を有し、かつ前記金属メッキ積層体が外部光を遮光する遮光板を兼ねていることを特徴とするディスプレイ用光学フィルターを提供する。
前記金属メッキ積層体は、前記導電性金属のメッシュパターンを露光マスクとして形成されたネガ型感光性樹脂組成物からなる固化物を型枠として、前記導電性金属のメッシュパターンの上にメッキ層が積層されてなるものであることが好ましい。
前記金属メッキ積層体のメッキ層は、無電解メッキおよび／または電解メッキにより形成されたものであることが好ましい。
前記金属メッキ積層体のパターン形状は、線幅が１５〜５０μｍ、厚みが１２〜１５０μｍ、厚み／線幅の比が０．８〜３．０であり、かつ、格子間隔が６０〜３００μｍであることが好ましい。
前記導電性金属のメッシュパターンは、ポジ型写真製法またはネガ型写真製法によって生成された現像銀メッシュパターンであることが好ましい。

また、本発明は、外部光を遮光する遮光層を兼ねた電磁波シールド層を有するディスプレイ用光学フィルターの製造方法であって、透明基材の片面に導電性金属のメッシュパターンを形成する工程と、前記導電性金属のメッシュパターンの上側の全面にネガ型感光性樹脂組成物を塗布する工程と、前記透明基材の反対側から、前記導電性金属のメッシュパターンを露光マスクとして前記ネガ型感光性樹脂組成物を露光する工程と、露光されなかった前記導電性金属のメッシュパターン上のネガ型感光性樹脂組成物を除去して残存物を固化する工程と、前記ネガ型感光性樹脂組成物の固化物を型枠として前記導電性金属のメッシュパターン上に無電解メッキおよび／または電解メッキによるメッキ層を積層する工程とを含むことを特徴とするディスプレイ用光学フィルターの製造方法を提供する。
前記導電性金属のメッシュパターンは、ポジ型写真製法またはネガ型写真製法によって生成された現像銀メッシュパターンであることが好ましい。

本発明のディスプレイ用光学フィルターによれば、電磁波シールド層が外部光を遮光する遮光層を兼ねているため、高い電磁波シールド性を有すると共に、外部光の遮光性に優れていて、コントラストの低下を抑えることにより鮮明な画像を得ることができる。

本発明のディスプレイ用光学フィルターの電磁波シールド層は、導電性金属のメッシュパターンを露光マスクとして形成したネガ型感光性樹脂組成物の固化物を型枠として、前記導電性金属のメッシュパターンの上に積層した金属メッキ積層体を備えることにより、アスペクト比（「厚み／線幅」で表される比）の大きな外部光の遮光板を兼ねた電磁波シールド層を容易に形成することができる。

本発明のディスプレイ用光学フィルターの製造方法は、省資源に基づく安価な製造方法で電磁波シールド層を製造するものであって、基材の上に直接に形成された、写真製法により生成した現像銀のメッシュパターンを露光マスクとして使用するので、露光時にはネガ型感光性樹脂組成物と露光マスクとが完全に密着した露光を行なうことができ、メッキの型枠となるネガ型感光性樹脂組成物の固化物の壁面のだれが少なく、この壁面を利用してアスペクト比の大きなメッキ層を形成することができる。

以下、最良の形態に基づき、図面を参照して本発明を説明する。
図１は、本発明のディスプレイ用光学フィルターの遮光層兼電磁波シールド層を製造する方法の一例を工程順に示す模式的断面図であり、そのうち図１（ｅ）は、遮光層兼電磁波シールド層の層構成の一例を示す模式的断面図である。
この遮光層兼電磁波シールド層を組み込んだディスプレイ用光学フィルターは、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等の各種ディスプレイの前面パネルに直貼りで取り付けて使用することができる。

図１（ｅ）に示す遮光層兼電磁波シールド層１は、外部光を遮光する遮光層の機能と、電磁波を遮蔽する電磁波シールド層の機能を兼ね備えるものである。この遮光層兼電磁波シールド層１は、透明基材２の片面２ａに形成された導電性金属のメッシュパターン３の上にメッキ層４が積層されてなる金属メッキ積層体５を有する。この金属メッキ積層体５は、詳しくは後述するが、導電性金属のメッシュパターン３を露光マスクとして形成されたネガ型感光性樹脂組成物からなる固化物６を型枠として、導電性金属のメッシュパターン３の上にメッキ層４を積層することにより形成することができる。
金属メッキ積層体５を構成する導電性金属のメッシュパターン３及びメッキ層４はいずれも金属からなり、外部光を遮光する遮光板の機能と、電磁波シールドの機能とを兼備する。

さらに遮光層兼電磁波シールド層１は、金属メッキ積層体５のメッシュパターンの間において光を透過させる開口部として、透明基材２の片面２ａ上に積層された透明なネガ型感光性樹脂組成物の固化物６を有する。ネガ型感光性樹脂組成物の固化物６およびメッキ層４の上には、表面を平坦にして反射光を抑えるための透明化樹脂層７が設けられている。

なお、図１においては、ディスプレイ用光学フィルターの遮光層兼電磁波シールド層１のみを示しているが、透明基材２に紫外線吸収剤を添加して紫外線吸収層となし、その他、図示しないが、ディスプレイパネルに接する粘着剤層、バインダー樹脂に近赤外線吸収剤を混合した近赤外線吸収層、ネオン光吸収層、反射防止層などを組み合わせて、光学フィルターを実現することができる。

（反射防止層）
ここで、反射防止層は、光学フィルターの外側からの可視光線（外部光）の反射を防ぐためのものであって、例えば、透明基材の片面に単層で形成する場合は、透明基材に比べて屈折率の低い物質、例えばポリシロキサン構造を有するフッ素含有有機化合物等の薄膜を形成する。また多層からなる場合は、透明基材に比べて高屈折率の物質（例えば酸化チタンの蒸着薄膜）と、透明基材に比べて低屈折率の物質（例えば酸化ケイ素の薄膜）を交互に積層する。このような金属酸化物薄膜の形成方法は特に限定されず、スパッタリング法、真空蒸着法、湿式塗布法により、酸化ジルコニウム、ＩＴＯ、酸化ケイ素等の薄膜を形成することができる。

しかしながら、ディスプレイ用の光学フィルターの場合、複数のフィルムを積層していることから、その積層しているフィルム界面で反射が発生してしまう。そのため、光学フィルター全体では反射率が上昇してしまうことから、最外層の反射防止層のみでは、外部光の反射による画像の白色化および白黒のコントラストの低下を防止して画像を鮮明にするという課題を十分に解決することができていないのが現状である。

しかしながら、従来技術によれば、図２に示すように電磁波シールド層１１は、透明基材１２の片面に形成された導電性金属のメッシュパターン１３と、この導電性金属のメッシュパターン１３の上にメッキ層１４が積層された金属メッシュパターン１５からなるものである。透明基材１２およびメッキ層１４の上には、表面を平坦にして反射光を抑えるための透明化樹脂層１７が設けられている。
このように、従来の技術では金属メッシュパターン１５の厚み（透明基材１２からの高さ）は小さく、これを遮光板と兼用することはできなかった。

（遮光層兼電磁波シールド層）
そこで、本発明では、反射防止層を透過してきた外部光を反射・吸収させる機能を持たせるため、透明基材の片面に電磁波シールド材を兼用する外部光を遮光する遮光層を設け、光学フィルターの内部へ外部光が入射すること、光学フィルター内部に入射した外部光に由来する散乱光が再度フィルターの外側に出射すること、および、迷光となってディスプレイの画像と干渉することを低減する。これにより、ディスプレイの画像が白色化するのを防ぎ、白黒のコントラストの低下を抑えることができる。
本発明では、遮光層兼電磁波シールド層は、図１に示すように、透明基材２の片面２ａに形成された導電性金属のメッシュパターン３と、これを露光マスクとして形成されたネガ型感光性樹脂組成物の固化物６と、この固化物６を型枠として前記導電性金属のメッシュパターン３の上に積層されたメッキ層４とからなる。
本発明において、導電性金属のメッシュパターン３の上にメッキ層４が積層されてなる金属メッキ積層体５は、アスペクト比（厚み／線幅の比）が大きく、外部光を遮光する遮光板の機能を持たせることができる。

（感光性樹脂組成物）
ネガ型感光性樹脂組成物の固化物６は、例えば、紫外線によりパターン露光して硬化した後、未露光部分を現像処理により化学的に分解することにより、固化物のパターンを形成したものである。ネガ型感光性樹脂組成物としては、バインダー樹脂、モノマー、光反応開始剤、光吸収材などを均一に分散したものを用いることができる。
また、感光性樹脂組成物の固化物６は、外部光を吸収する微粒子状の光吸収材を０．５〜３０質量％含有することが好ましい。

前記ネガ型感光性樹脂組成物に用いられるバインダー樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレ−ト（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、ジアセテート樹脂、トリアセテート樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、トリアセチルセルロ−ス、ポリスチレン、ポリオレフィン、ポリウレタン系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアミド樹脂など挙げられる。バインダー樹脂の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分全量に対して３０〜５０重量％の範囲が好ましい。

前記ネガ型感光性樹脂組成物に用いられるモノマーとしては、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（ＨＤＤＡ）、ジエチレングリコールジアクリレート（ＤＥＧＤＡ）、ネオペンチルグリコールジアクリレート（ＮＰＧＤＡ）、トリプロピレングリコールジアクリレート（ＴＰＧＤＡ）、テトラエチレングリコールジアクリレート（ＴＥＧＤＡ）、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、ペンタエリストールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）、ペンタエリストールテトラアクリレート（ＰＥＴｅＡ）、ジペンタエリストールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）などが挙げられる。

光反応開始剤としては、ベンゾインアルキルエーテル類やベンゾフェノン類が用いられる。具体的には、４，４′−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノアセトフェノン、ベンジル、チオキサントン、４，４′−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノンなどが挙げられる。

（黒色顔料からなる光吸収材）
画像光を透過させると共に、外部光の遮光層となる感光性樹脂組成物の固化物６の中に、外部光を吸収する光吸収材を混入させて金属メッキ積層体５からなる遮光板を併用することにより、より一層、白黒のコントラストの低下を抑えることが可能となる。光吸収材としては、黒色顔料からなる光吸収材を用いることができる。
図１において、光吸収材（黒色顔料）が分散された感光性樹脂組成物の固化物６には、透明を有する感光性樹脂組成物の中に、上述の光吸収材（黒色顔料）を分散させることにより、光学フィルター内部に入射した外部光に由来する散乱光が再度光学フィルターの外部目視側に出射したり、迷光となってディスプレイの画像と重畳することを低減する。これにより、ディスプレイの画像が白色化するのを防ぎ、白黒のコントラストを高めることができる。

本発明に使用する光吸収材としては、カーボンブラック、黒鉛、アニリンブラック、シアニンブラック、チタンブラック、黒色酸化鉄、酸化クロム、酸化マンガンなどの黒色顔料の微粒子を使用することができる。光学フィルター全体としての色調を、無採色もしくは好ましい色調に調製するために、必要に応じて複数種の他の色材を使用しても良い。これらの顔料のうち、特に、カーボンブラックが好適に使用される。前記黒色顔料（光吸収材）の好ましい粒子径の分布範囲は０．０１〜０．５μｍの範囲であり、より好ましくは０．０５〜０．３μｍの範囲である。
白黒のコントラストを高めるために黒色顔料（光吸収材）の添加量を増やせば全光線透過率が低下して画像が暗くなるという現象が起こるので、黒色顔料（光吸収材）の添加量を無制限に増やすことはできないが、許容される全光線透過率に応じて黒色顔料（光吸収材）の添加条件を調整することにより、より一層、満足の得られる白黒コントラストが達成される。
なお、黒色顔料からなる光吸収材は、外部光の遮光層となる感光性樹脂組成物の固化物６の中だけでなく、必要に応じて、光学フィルターに用いられる粘着剤層に混入させて用いても良い。

（透明基材）
透明基材２を構成する透明材料としては、可視領域で透明であり、またフレキシブル性を有し、好ましくは耐熱性の良好な樹脂からなるプラスチックフィルムが挙げられる。そのようなフィルムとしては、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレ−ト（ＰＥＮ）等のポリエステル樹脂、ジアセテート樹脂、トリアセテート樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、トリアセチルセルロ−ス、ポリスチレン、ポリオレフィン、ポリウレタン系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂等からなる厚さが１０〜６００μｍの単層または複合フィルムが挙げられる。

本発明の光学フィルターにおいては、電磁波シールド層となる金属メッキ積層体５が積層される透明基材２の他にも、反射防止層、近赤外線吸収層、紫外線吸収層、ネオン光吸収層などの機能層が塗布され、各種の光学機能フィルムとしてそのまま積層されるために、透明基材を光学フィルターの層構成中に存在させることができる。全光線透過率の低下を抑える観点からは、極力、兼用して透明基材層の数を少なくすることが好ましい。そのような兼用の方法としては、透明基材の上に複数の機能層を順次形成したり、剥離紙の上に形成した機能層を転写する方法を挙げることができる。

（粘着剤層）
光学フィルターを構成する各種の光学機能フィルムを貼り合わせる粘着剤層に用いられる粘着剤としては、可視領域で透明であれば（すなわち、十分な透過率を有すれば）特に限定されない。透明であれば、上記の黒色顔料の分散した透明樹脂と同様な硬化型樹脂でも良いし、熱可塑性樹脂でも良い。透明性の観点からは、アクリル系樹脂が好適に用いられる。

（黒色顔料の分散した粘着剤層）
本発明においては、感光性樹脂組成物の固化物だけでなく、粘着剤層に光吸収材（黒色顔料）を分散させてもよい。光吸収材（黒色顔料）を分散して形成される粘着剤層の塗布厚みは、２〜５０μｍであるのが好ましい。光吸収材（黒色顔料）を分散させて形成する粘着剤層に使用される粘着剤（透明樹脂）は、透明であれば、硬化型樹脂でも良いし、熱可塑性樹脂でも良い。透明性の観点からは、アクリル系共重合体が好適に用いられる。
適切に選定された粘着剤に対して、上記の黒色顔料を均一に混合、分散させて光吸収材分散粘着剤層組成物を調製し、得られた光吸収材分散粘着材層組成物を、透明基材の上に、バーコーティング方法、ロールコーティング方法、グラビアリバースコーティング方法等の公知の塗布方法で塗布して光吸収材分散粘着剤層を形成することができる。
なお、ひとつの粘着剤層に多量の光吸収材を配合すると粘着剤の機能が低下して好ましくない場合は、所望の量の光吸収材を複数の粘着剤層に分けて配合しても良い。また、粘着剤層と透明基材の両方に光吸収材を配合しても良い。

（近赤外線吸収層）
近赤外線吸収層は、必要に応じて光学フィルターの適切な位置に一層または複数層設けることができる。近赤外線吸収層を形成する方法としては、透明基材や粘着剤層の中に近赤外線吸収剤を混入させる方法、近赤外線吸収剤を含有する塗工液を透明基材上に直接または他の層を介して塗布する方法などが挙げられる。近赤外線吸収剤としては、波長領域８００〜１１００ｎｍの近赤外線透過率が１５％以下、好ましくは１０％以下であることが望ましい。具体例としては、イモニウム塩系化合物、ジイモニウム塩系化合物、アミニウム塩系化合物、ニトロソ化合物及びその金属錯塩、シアニン系化合物、スクワリリウム系化合物、チオールニッケル錯塩系化合物、アミノチオールニッケル錯塩系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、トリアリールメタン系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アミノ化合物、カーボンブラック、酸化アンチモン、酸化インジウムをドープした酸化錫、周期表の４、５または６族に属する金属の酸化物若しくは炭化物若しくはホウ化物等が挙げられる。これらの近赤外線吸収剤は、１種類、または２種類以上複合して用いることができる。近赤外線吸収層を設けることにより、ディスプレイが発する近赤外線を吸収することができる。

（紫外線吸収層）
紫外線吸収層は、必要に応じて光学フィルターの適切な位置に一層または複数層設けることができる。紫外線吸収層を形成する方法としては、透明基材や粘着剤層の中に紫外線吸収剤を混入させる方法、紫外線吸収剤を含有する塗工液を透明基材上に直接または他の層を介して塗布する方法などが挙げられる。紫外線吸収層は、外部光による近赤外線吸収層の劣化を防ぐため、近赤外線吸収層よりも視覚側に設けられる。紫外線吸収剤としては、有機系紫外線吸収剤と無機系紫外線吸収剤のいずれも使用可能であるが、５０％透過率での波長が３５０〜４２０ｎｍが好ましく、より好ましくは３６０ｎｍ〜４００ｎｍである。前記５０％透過率での波長が３５０ｎｍより低波長では、紫外線遮断能が弱く、４２０ｎｍより高波長では着色が強くなり好ましくない。

有機系紫外線吸収剤としては、２−（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系化合物、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物、フェニルサリチレート、４−ｔ−ブチルフェニルサリチレート、２，５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ｎ−ヘキサデシルエステル、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシベンゾエート等のヒドロキシベンゾエート系化合物等が挙げられる。無機系紫外線吸収剤としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄、硫酸バリウム等が挙げられる。これらの紫外線吸収剤は、１種類、または２種類以上複合して用いることができる。

（ネオン光吸収層）
ネオン光吸収層は、必要に応じて光学フィルターの適切な位置に一層または複数層設けることができる。ネオン光吸収層は、ＰＤＰの発光するネオン光（吸収波長５８０〜６２０ｎｍ）を、ネオン光吸収剤を用いて除去することにより画像の赤色をより鮮明にするためのものである。
ネオン光吸収層を形成する方法としては、透明基材や粘着剤層の中にネオン光吸収剤を混入させる方法、ネオン光吸収剤を含有する塗工液を透明基材上に直接または他の層を介して塗布する方法などが挙げられる。前記ネオン光吸収剤としては、例えば、シアニン系、スクアリリウム系、アゾメチン系、キサンテン系、オキソノール系、アゾ系等の色素のうち、波長５８０〜６２０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する適当な色素が挙げられる。これらのネオン光吸収剤は、１種類、または２種類以上複合して用いることができる。

（電磁波シールド材）
従来、ディスプレイから発生する電磁波が外部に漏洩して人体への悪影響を防ぐという要求に対して、種々の透明導電性フィルムおよび電磁波シールドフィルムが開発されている。公知の電磁波シールド層は、大きく分けると、透明導電膜による電磁波シールド材と、導電性の金属メッシュによる電磁波シールド材の２つに区分される。透明導電膜による電磁波シールド材は金属メッシュによる電磁波シールド材に比べて、透明性に優れる反面、表面抵抗率が大きく、電磁波シールド性能に劣る。プラズマディスプレイは多量の電磁波を発生させるので、金属メッシュによる電磁波シールド材が好ましい。
さらに、導電性の金属メッシュの製造方法としては、高い電磁波シールド効果と高い透明性（高い全光線透過率）とを両立させ得る点で、写真銀−メッキ法によるものが優れており、より高い透明性（高い全光線透過率）が得られるので、黒色顔料（光吸収材）の添加濃度をより高い濃度とすることが可能となり、白黒コントラストをより高めることができる。

（電磁波シールド層の製造方法）
本発明で用いる電磁波シールド層の製造方法は、異なる２つの銀塩写真現像法（ポジ型写真製法−メッキ法、ネガ型写真製法−メッキ法）のうち、いずれかの方法を用いて透明基材の上に写真製法により生成された現像銀からなる細線パターンの薄膜を形成し、この細線パターンの上に、無電解メッキおよび／または無電解メッキにより導電性金属のメッキ層を積層するものである。現像銀の細線パターンとしては、メッシュ、格子状、櫛歯状、その他の種々のパターンから特に制限なく採用することができる。

銀塩写真現像法の１つの方法は、古くから知られる通常のいわゆる銀塩写真フィルムを用いて行う方法（ネガ型写真製法）であって、例えば、特許文献３に記載された方法、すなわち、支持体上に設けられた銀塩を含有する銀塩含有層を露光し、現像処理することにより金属銀部と光透過性部とを形成し、さらに前記金属銀部を物理現像及び／又はメッキ処理することにより前記金属銀部に導電性金属粒子を担持させた導電性金属部を形成する方法である。

銀塩写真現像法のもう１つの方法（ポジ型写真製法）は、特許文献４に記載された方法、すなわち、銀塩写真現像法を応用し、ハロゲン化銀を可溶性銀錯塩形成剤で溶解して可溶性銀錯塩にし、同時にハイドロキノン等の還元剤（現像主薬）で還元して現像核上に任意の細線パターンの金属銀を析出させる方法である。
なお、特公昭４２−２３７４５号公報には、ハロゲン化銀乳剤層とハロゲン化銀溶剤（銀錯塩形成材）を応用し、銀錯塩拡散転写現像法（ＤＴＲ現像法）により物理現像銀からなる導電性層を形成する技術が記載されている。しかしながら、上述したように近年の電磁波シールド材に要求される、全光線透過率５０％以上の透光性と表面抵抗率１０オーム／□以下の導電性とを同時に満足させるには、上記特許公報に記載された技術だけでは達成することができなかった。

以下、ポジ型写真製法―メッキ法とネガ型写真製法―メッキ法では、説明が重複するので、上述のポジ型写真―メッキ法を主体として、写真製法により生成した現像銀で細線パターンを形成する方法を説明するが、ネガ型写真製法−メッキ法による場合についても基本的には、ポジ型写真製法−メッキ法に準じて実施することができる。すなわち、本発明には、ポジ型写真製法とネガ型写真製法とのいずれでも適用できる。

（ポジ型写真製法−メッキ法：物理現像核）
現像銀の細線パターンが形成される透明基材には、予め物理現像核層が設けられていることが好ましい。
物理現像核としては、重金属あるいはその硫化物からなる微粒子（粒子サイズは１〜数十ｎｍ程度）が用いられる。例えば、金、銀等のコロイド、パラジウム、亜鉛等の水溶性塩と硫化物を混合した金属硫化物等が挙げられる。これらの物理現像核の微粒子層は、真空蒸着法、カソードスパッタリング法、コーティング法等によって透明基材上に設けることができる。生産効率の面からコーティング法が好ましく用いられる。物理現像核層における物理現像核の含有量は、固形分で１平方メートル当たり０．１〜１０ｍｇ程度が適当である。

透明基材は、塩化ビニリデンやポリウレタン等のポリマーラテックス層の接着層を設けることができ、また接着層と物理現像核層との間にはゼラチン等の親水性バインダーからなる中間層を設けることもできる。

物理現像核層には、親水性バインダーを含有するのが好ましい。親水性バインダー量は物理現像核に対して１０〜３００質量％程度が好ましい。親水性バインダーとしては、ゼラチン、アラビアゴム、セルロース、アルブミン、カゼイン、アルギン酸ナトリウム、各種デンプン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、アクリルアミドとビニルイミダゾールの共重合体等を用いることができる。物理現像核層には親水性バインダーの架橋剤を含有することもできる。

物理現像核層や前記中間層等の塗布には、例えばディップコーティング、スライドコーティング、カーテンコーティング、バーコーティング、エアーナイフコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティングなどの塗布方式で塗布することができる。本発明において物理現像核層は、上記したコーティング法によって、通常連続した均一な層として設けることが好ましい。

本発明において、物理現像核層に金属銀を析出させるためのハロゲン化銀の供給は、透明基材上に物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層をこの順に一体的に設ける方法、あるいは別の紙やプラスチック樹脂フィルム等の基材上に設けられたハロゲン化銀乳剤層から可溶性銀錯塩を供給する方法がある。コスト及び生産効率の面からは前者の物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層を一体的に設けるのが好ましい。

（ネガ型写真製法−メッキ法：ハロゲン化銀乳剤）
本発明において、ハロゲン化銀乳剤は、ハロゲン化銀写真感光材料の一般的なハロゲン化銀乳剤の製造方法に従って製造することができる。ハロゲン化銀乳剤は、通常、硝酸銀水溶液、塩化ナトリウムや臭化ナトリウムのハロゲン水溶液をゼラチンの存在下で混合熟成することによって作られる。
本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤層のハロゲン化銀組成は、塩化銀を８０モル％以上含有するのが好ましく、特に９０モル％以上が塩化銀であることが好ましい。塩化銀含有率を高くすることによって形成された物理現像銀の導電性が向上する。

本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤層は、各種の光源に対して感光性を有している。電磁波シールド材を作製するための１つの方法として、例えば網目状などの細線パターンの物理現像銀の形成が挙げられる。この場合、ハロゲン化銀乳剤層は細線パターン状に露光されるが、露光方法として、細線パターンの透過原稿とハロゲン化銀乳剤層を密着して紫外光で露光する方法、あるいは各種レーザー光を用いて走査露光する方法等がある。前者の紫外光を用いた密着露光は、ハロゲン化銀の感光性は比較的低くても可能であるが、レーザー光を用いた走査露光の場合は比較的高い感光性が要求される。従って、後者の露光方法を用いる場合は、ハロゲン化銀の感光性を高めるために、ハロゲン化銀は化学増感あるいは増感色素による分光増感を施してもよい。化学増感としては、金化合物や銀化合物を用いた金属増感、硫黄化合物を用いた硫黄増感、あるいはこれらの併用が挙げられる。好ましくは、金化合物と硫黄化合物を併用した金−硫黄増感である。上記したレーザー光で露光する方法においては、４５０ｎｍ以下の発振波長の持つレーザー光、例えば４００〜４３０ｎｍに発振波長を有する青色半導体レーザー（バイオレットレーザーダイオードとも云う）を用いることによって、明室下（明るいイエロー蛍光灯下）でも取り扱いが可能となる。

本発明において、物理現像核層が設けられる透明基材上の任意の位置、たとえば接着層、中間層、物理現像核層あるいはハロゲン化銀乳剤層、または支持体を挟んで設けられる裏塗り層にハレーションないしイラジエーション防止用の染料もしくは顔料を含有させてもよい。

（ポジ型写真製法−メッキ法：露光・現像）
前記物理現像核層の上に直接にあるいは中間層を介してハロゲン化銀乳剤層が塗設された感光材料を用いて電磁波シールド材を作製する場合は、網目状パターンのような任意の細線パターンの透過原稿と上記感光材料を密着して露光、あるいは、任意の細線パターンのデジタル画像を各種レーザー光の出力機で上記感光材料に走査露光した後、可溶性銀錯塩形成剤と還元剤の存在下でアルカリ液中で処理することにより銀錯塩拡散転写現像（ＤＴＲ現像）が起こり、未露光部のハロゲン化銀が溶解されて銀錯塩となり、物理現像核上で還元されて金属銀が析出して細線パターンの物理現像銀薄膜を得ることができる。露光された部分はハロゲン化銀乳剤層中で化学現像されて黒化銀となる。現像後、ハロゲン化銀乳剤層及び中間層、あるいは必要に応じて設けられた保護層は水洗除去されて、細線パターンの物理現像銀薄膜が表面に露出する。

ＤＴＲ現像後、物理現像核層の上に設けられたハロゲン化銀乳剤層等の除去方法は、水洗除去あるいは剥離紙等に転写剥離する方法がある。水洗除去は、スクラビングローラ等を用いて温水シャワーを噴射しながら除去する方法や温水をノズル等でジェット噴射しながら水の勢いで除去する方法がある。

一方、物理現像核層が塗布された透明基材とは別の基材上に設けたハロゲン化銀乳剤層から可溶性銀錯塩を供給する場合、前述と同様にハロゲン化銀乳剤層に露光を与えた後、物理現像核層が塗布された透明基材と、ハロゲン化銀乳剤層が塗布された別の感光材料とを、可溶性銀錯塩形成剤と還元剤の存在下でアルカリ液中で重ね合わせて密着し、アルカリ液中から取り出した後、数十秒〜数分間経過した後に、両者を剥がすことによって、物理現像核上に析出した細線パターンの物理現像銀薄膜が得られる。

次に、銀錯塩拡散転写現像のために必要な可溶性銀錯塩形成剤、還元剤、及びアルカリ液について説明する。可溶性銀錯塩形成剤は、ハロゲン化銀を溶解し可溶性の銀錯塩を形成させる化合物であり、還元剤はこの可溶性銀錯塩を還元して物理現像核上に金属銀を析出させるための化合物であり、これらの作用はアルカリ液中で行われる。

本発明に用いられる可溶性銀錯塩形成剤としては、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウムのようなチオ硫酸塩、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸アンモニウムのようなチオシアン酸塩、アルカノールアミン、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸水素カリウムのような亜硫酸塩、Ｔ．Ｈ．ジェームス編のザ・セオリー・オブ・ザ・フォトグラフィック・プロセス４版の４７４〜４７５項（１９７７年）に記載されている化合物等が挙げられる。

前記還元剤としては、写真現像の分野で公知の現像主薬を用いることができる。例えば、ハイドロキノン、カテコール、ピロガロール、メチルハイドロキノン、クロルハイドロキノン等のポリヒドロキシベンゼン類、１−フェニル−４，４−ジメチル−３−ピラゾリドン、１−フェニル−３−ピラゾリドン、１−フェニル−４−メチル−４−ヒドロキシメチル−３−ピラゾリドン等の３−ピラゾリドン類、パラメチルアミノフェノール、パラアミノフェノール、パラヒドロキシフェニルグリシン、パラフェニレンジアミン等が挙げられる。

上記した可溶性銀錯塩形成剤及び還元剤は、物理現像核層と一緒に透明基材に塗布してもよいし、ハロゲン化銀乳剤層中に添加してもよいし、またはアルカリ液中に含有させてもよく、更に複数の位置に含有してもよいが、少なくともアルカリ液中に含有させるのが好ましい。

アルカリ液中への可溶性銀錯塩形成剤の含有量は、現像液１リットル当たり、０．１〜５モルの範囲で用いるのが適当であり、還元剤は現像液１リットル当たり０．０５〜１モルの範囲で用いるのが適当である。

アルカリ液のｐＨは１０以上が好ましく、更に１１〜１４の範囲が好ましい。銀錯塩拡散転写現像を行うためのアルカリ液の適用は、浸漬方式であっても塗布方式であってもよい。浸漬方式は、例えば、タンクに大量に貯流されたアルカリ液中に、物理現像核層及びハロゲン化銀乳剤層が設けられた透明基材を浸漬しながら搬送するものであり、塗布方式は、例えばハロゲン化銀乳剤層上にアルカリ液を１平方メートル当たり４０〜１２０ｍｌ程度塗布するものである。

（細線パターンの寸法）
前述したように、細線パターンとしては、たとえば線幅１０〜１００μｍ程度の細線を縦横に格子状に設けられたものがあるが、細線幅を小さくして格子の間隔を大きくすると透光性は上がるが導電性は低下し、逆に細線幅を大きくして格子の間隔を小さくすると透光性は低下して導電性は高くなる。本発明にかかる透明基材上に形成された任意の細線パターンの物理現像銀は、全光線透過率５０％以上の透光性と表面抵抗率１０オーム／□以下の導電性とを同時に満足させることは困難である。具体的にはこの物理現像銀は、表面抵抗率５０オーム／□以下、好ましくは２０オーム／□以下の導電性を有しているが、細線幅５０μｍ以下、たとえば細線幅２０μｍのパターンで、全光線透過率５０％以上とした場合には、表面抵抗率は数百オーム／□〜千オーム／□以上にもなってしまう。しかしながら、この物理現像銀自身は、しっかりした銀画像が形成されて通電性を有しているため、銅やニッケルなどの金属による鍍金（メッキ）、特に電解メッキを施すことにより、現像銀の細線パターンの上にメッキ層を積層してなる金属メッキ積層体のパターン形状は、厚みが１２〜１５０μｍ、及び線幅が１５〜５０μｍであるとき、全光線透過率５０％以上、好ましくは６０％以上の透光性の細線パターンであっても、表面抵抗率１０オーム／□以下、好ましくは７オーム／□以下の導電性を保持することができる。
金属メッキ積層体の全光線透過率を向上させるためには、パターンの細線が設けられた領域の面積に対して、細線間の光透過部の面積を十分に広くする必要がある。このため、細線の間隔は、５０〜６００μｍであることが好ましく、より好ましくは６０〜３００μｍである。

（細線パターンの現像銀へのメッキ）
写真製法による現像銀の細線パターンに金属メッキする厚みは、所望とする特性により任意に変えることができる。本発明では、現像銀の細線パターンの上にメッキ層を積層してなる金属メッキ積層体が、電磁波シールド材としてだけではなく、外部光の遮光板の機能をも持たせるために、金属メッキ積層体のパターン形状は、メッキ厚み１０〜２００μｍ、好ましくは１２〜１５０μｍの範囲である。
本発明の電磁波シールド層の金属メッキ積層体のパターン形状は、厚みが１２〜１５μｍ、線幅が１〜４０μｍの線幅であるとき、全光線透過率５０％以上、かつ表面抵抗率が１０オーム／□以下という優れた透光性能と導電性能を持ち、３０ＭＨｚ〜１，０００ＭＨｚのような広い周波数帯に亘って３０ｄＢ以上のシールド効果を発揮することができるが、外部光の遮光板の機能を持たせるために、金属メッキ積層体のパターン形状は、線幅が１５〜５０μｍ、厚みが１２〜１５０μｍ、厚み／線幅の比（アスペクト比）が０．８〜３．０であり、且つ、パターンの格子間隔が６０〜３００μｍであることが好ましい。

現像銀の細線パターンへのメッキは、無電解メッキ法、電解メッキ法あるいは両者を組み合わせたメッキ法のいずれでも可能であるが、透明基材上に電磁波シールド層を作製するにあたり、透明基材上に物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層を設けたロール状の長尺ウェブに、少なくとも細線パターンの露光、現像処理およびメッキ処理という一連の処理を施すことができる観点からも、電解メッキあるいはそれに無電解メッキを組み合わせた方法が好ましい。

（メッキ方法）
本発明においては、細線パターンの現像銀層をメッキして、メッキ層を積層する方法は、次による。
基材の片面に、写真製法により生成された現像銀層の細線パターンを形成し、当該現像銀層の上に、銅（Ｃｕ）および／またはニッケル（Ｎｉ）をメッキする。
本発明において、金属メッキ法は公知の方法で行うことができるが、例えば電解メッキ法は、銅、ニッケル、銀、金、半田、あるいは銅／ニッケルの多層あるいは複合系などの従来公知の方法を使用でき、これらについては、「表面処理技術総覧；（株）技術資料センター、１９８７年１２月２１日初版、２８１〜４２２頁」等の文献を参照することができる。
メッキが容易で、かつ導電性に優れ、さらに厚膜にメッキでき、低コスト等の理由により、銅および／またはニッケルを用いることが好ましい。

（無電解銅メッキ）
無電解銅メッキ液としては、金属銅（Ｃｕ）の濃度として０．５〜１０ｇ／リットルが好ましく、さらに好ましくは２〜３ｇ／リットルの濃度である。
メッキ処理液の温度としては、３０〜８０℃が好ましく、さらに好ましくは４０〜５０℃である。メッキ処理液の温度が３０℃より低いと銅のメッキ析出速度が遅くなり、８０℃以上になると、エネルギー費用が嵩むことから好ましくない。
メッキ厚みは０．０１〜１μｍが好ましく、さらに好ましくは０．０５〜０．２μｍである。また、無電解銅メッキ液は、公知のメッキ液であればどのような液であっても問題はない。

（電解銅メッキ）
電解銅メッキの場合は、硫酸銅、青化銅、ピロリン酸銅など、どのようなメッキ液でも良いが、その中でも硫酸銅がコスト面から見て好ましい。これらの電解銅メッキ液において、銅（Ｃｕ）の濃度は、それぞれ適当な濃度に設定すればよい。
硫酸銅メッキ浴を用いる場合、硫酸濃度が２０〜４００ｇ／リットルが好ましく、さらに好ましくは７０〜３００ｇ／リットルである。硫酸濃度が２０ｇ／リットルより低いと、メッキ液が不安定となり、３００ｇ／リットルより高いとメッキ粒子に異常が生じるから好ましくない。
メッキ処理温度としては、１０〜６０℃が好ましく、さらに好ましくは２０〜４０℃である。メッキ処理液の温度が、１０℃より低いとメッキ時間が長く掛かりコストアップとなり、６０℃より高いとメッキ外観が悪くなる。
電解メッキの電流密度としては、０．０５〜２０Ａ／ｃｍ^２が好ましく、さらに好ましくは０．５〜８Ａ／ｃｍ^２である。電解メッキの電流密度が０．０５Ａ／ｃｍ^２より低いと、メッキ時間が長くなりコストアップとなる。また、電解メッキの電流密度が２０Ａ／ｃｍ^２より高いと、メッキ皮膜の外観が悪くなるから好ましくない。

（電解ニッケルメッキ）
電解ニッケルメッキを行う場合には、ニッケルメッキ処理液として、ワット浴（硫酸ニッケル、塩化ニッケル、ホウ酸）、スルファミン酸ニッケル浴（スルファミン酸ニッケル、塩化ニッケル、ホウ酸）その他、どのようなメッキ浴でもよい。

（黒化処理）
メッキ層４の最表面４ａは、メッキした金属の光沢による光の反射を防ぐために黒化処理することが好ましい。ニッケルメッキ表面の黒化処理の方法として、黒化処理皮膜の種類および用いる黒化処理液の配合について特に制限はないが、好ましい一例として、黒ニッケルを使用する場合、当該黒化処理液の硫酸濃度は、１０〜５０ｇ／リットルで行うのが好ましく、さらに好ましくは２０〜４０ｇ／リットルである。硫酸ニッケルの濃度が１０ｇ／リットルより低いと、メッキ析出が遅くなりコストアップとなり、５０ｇ／リットルより高いと黒化処理の仕上げ色が安定しないから好ましくない。

（光学フィルターの製造方法）
本発明では、光学フィルターを構成する透明基材２の片面に導電性金属のメッシュパターン３を形成し、この導電性金属のメッシュパターン３を露光マスクとして形成されたネガ型感光性樹脂組成物の固化物６を型枠として、前記導電性金属のメッシュパターン３の上にメッキ層４が積層された金属メッキ積層体５からなる電磁波シールド層１が用いられる。

この電磁波シールド層１は、例えば図１に示す手順に従って製造することができる。
図１（ａ）に示すように透明基材２の片面２ａに形成される導電性金属のメッシュパターン３は、異なる２つの銀塩写真現像法（ポジ型写真製法−メッキ法、ネガ型写真製法−メッキ法）のうち、いずれかの方法を用いて透明基材２の上に写真製法により生成された現像銀からなる細線パターンの薄膜であることが好ましい。

次に、図１（ｂ）に示すように透明基材２上の全面（導電性金属のメッシュパターン３の上を含む。）にネガ型感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層８を形成したのち、導電性金属のメッシュパターン３を露光マスクとしてネガ型感光性樹脂組成物８（図１（ｂ）参照）をパターン化する。ネガ型感光性樹脂組成物８の露光は、透明基材２の下側（図１（ｂ）の下側）から透明基材２を通して露光することで、導電性金属のメッシュパターン３上のネガ型感光性樹脂組成物８は露光せず、透明基材２上に直接積層された部分が露光される。露光されたネガ型感光性樹脂組成物を硬化した後、未露光部分を現像処理により化学的に分解することにより、導電性金属のメッシュパターン３の上の感光性樹脂層が除去され、図１（ｃ）に示すように導電性金属のメッシュパターン３の両側に壁面９、９を有するネガ型感光性樹脂組成物の固化物６が形成される。

次に、このネガ型感光性樹脂組成物の固化物６を型枠として、図１（ｄ）に示すように前記導電性金属のメッシュパターン３の上にメッキ層４を積層することにより、パターン状の金属メッキ積層体５が透明基材２上に形成される。
メッキ層４の最表面４ａを黒化処理する場合は、該最表面４ａがネガ型感光性樹脂組成物の固化物６から露出しているので、その部分を黒化処理することで、メッキした金属の光沢による光の反射を防ぐことができる。

光学フィルターの製造方法は特に限定されないが、例えば、以下に示す方法を用いることができる。なお、製造工程中または工程後に、粘着剤層を保護するため、任意に剥離紙を積層してもよい。
（１）透明基材Ａの上に形成された、写真製法により生成された現像銀のメッシュパターンと、この導電性金属のメッシュパターンを露光マスクとして形成されたネガ型感光性樹脂組成物の固化物を型枠として、前記導電性金属のメッシュパターンの上に積層された金属メッキ積層体からなる、外部光を遮光する遮光層を兼用する電磁波シールド層を準備する。
（２）電磁波シールド層の、金属メッキ積層体の上面に透明樹脂を埋め込み、表面を平滑にして透明化処理を行う。
（３）透明基材Ａの金属メッキ積層体を設けた面とは反対側に、バインダ樹脂層中に赤外線吸収剤を混合してフィルムに伸ばした赤外線吸収層を、粘着剤（第１の粘着剤層）により貼り合わせて積層体Ｃを作製する。
（４）透明基材Ｂの片面に、反射防止層を設けて積層体（ＡＲフィルム）Ｃを作製する。
（５）積層体Ｃの反射防止層を設けた面とは反対側の面に、粘着剤層（第２の粘着剤層）を設ける。その粘着剤層の上に、電磁波シールド層及び赤外線吸収層からなる積層体Ｄを貼り合わせて光学フィルターを得る。
なお、上記の製造例の工程（１）〜（５）で得られる光学フィルターの全体の層構成は、「赤外線吸収層／フィルム／第１の粘着剤層／透明基材Ａ／電磁波シールド層（金属メッキ積層体及びネガ型感光性樹脂組成物の固化物）／透明化樹脂層／第２の粘着剤層／透明基材Ｂ／反射防止層」となる。

以上説明したように、本発明の光学フィルターによれば、その電磁波シールド材が外部光を遮光する遮光層を兼用していて、高い電磁波シールド性を有すると共に、外部光の遮光性に優れ、コントラストの低下を抑えることにより鮮明な画像を得ることのできる光学フィルターを提供することができる。

本発明の光学フィルターに用いる電磁波シールド層は、透明基材の片面に形成された導電性金属のメッシュパターンと、これを露光マスクとして形成されたネガ型感光性樹脂組成物の固化物を型枠として、前記導電性金属のメッシュパターンの上にメッキ層を積層するので、かかる金属メッキ積層体は、アスペクト比の大きな外部光の遮光板を兼用した電磁波シールド層として用いることができる。

本発明によれば、省資源に基づく安価な製造方法で電磁波シールド層を製造するものであって、基材の上に直接に形成された、写真製法により生成した現像銀のメッシュパターンを露光マスクとして使用するので、露光時にはネガ型感光性樹脂組成物と露光マスクとが完全に密着した露光を行なうことができ、メッキの型枠となるネガ型感光性樹脂組成物の固化物の壁面のだれが少なく、アスペクト比の大きなメッキ層を形成することができる。

本発明は、ＣＲＴ、ＰＤＰ（プラズマディスプレイ）、液晶、ＥＬなどの各種ディスプレイに使用される、外部光を遮光する遮光層を兼用した電磁波シールド層を有する光学フィルターとして利用することができる。

（ａ）〜（ｅ）は、本発明のディスプレイ用光学フィルターの遮光層兼電磁波シールド層を製造する方法の一例を工程順に示す模式的断面図である。従来のディスプレイ用光学フィルターの層構成の一例を示す模式的断面図である。

符号の説明

１…遮光層兼電磁波シールド層、２…透明基材、３…導電性金属のメッシュパターン、４…メッキ層、５…金属メッキ積層体（遮光板と兼用）、６…ネガ型感光性樹脂組成物の固化物、７…透明化樹脂層、８…未固化のネガ型感光性樹脂組成物、９…壁面。

Claims

電磁波シールド層を有するディスプレイ用光学フィルターであって、前記電磁波シールド層は、透明基材の片面に形成された導電性金属のメッシュパターン上にメッキ層が積層されてなる金属メッキ積層体を有し、かつ前記金属メッキ積層体が外部光を遮光する遮光板を兼ねていることを特徴とするディスプレイ用光学フィルター。
前記金属メッキ積層体は、前記導電性金属のメッシュパターンを露光マスクとして形成されたネガ型感光性樹脂組成物からなる固化物を型枠として、前記導電性金属のメッシュパターンの上にメッキ層が積層されてなることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ用光学フィルター。
前記金属メッキ積層体のメッキ層は、無電解メッキおよび／または電解メッキにより形成されたものであることを特徴とする請求項２に記載のディスプレイ用光学フィルター。
前記金属メッキ積層体のパターン形状は、線幅が１５〜５０μｍ、厚みが１２〜１５０μｍ、厚み／線幅の比が０．８〜３．０であり、かつ、格子間隔が６０〜３００μｍであることを特徴とする請求項２または３に記載のディスプレイ用光学フィルター。
前記導電性金属のメッシュパターンは、ポジ型写真製法またはネガ型写真製法によって生成された現像銀メッシュパターンであることを特徴とする請求項２ないし４のいずれかに記載のディスプレイ用光学フィルター。
外部光を遮光する遮光層を兼ねた電磁波シールド層を有するディスプレイ用光学フィルターの製造方法であって、透明基材の片面に導電性金属のメッシュパターンを形成する工程と、前記導電性金属のメッシュパターンの上側の全面にネガ型感光性樹脂組成物を塗布する工程と、前記透明基材の反対側から、前記導電性金属のメッシュパターンを露光マスクとして前記ネガ型感光性樹脂組成物を露光する工程と、露光されなかった前記導電性金属のメッシュパターン上のネガ型感光性樹脂組成物を除去して残存物を固化する工程と、前記ネガ型感光性樹脂組成物の固化物を型枠として前記導電性金属のメッシュパターン上に無電解メッキおよび／または電解メッキによるメッキ層を積層する工程とを含むことを特徴とするディスプレイ用光学フィルターの製造方法。
前記導電性金属のメッシュパターンは、ポジ型写真製法またはネガ型写真製法によって生成された現像銀メッシュパターンであることを特徴とする請求項６に記載のディスプレイ用光学フィルターの製造方法。