KR20100073018A - 고점도 금속 가공유용 세정 조성물 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 탄화수소계 또는 에스테르계 화합물로부터 선택되는 1종 이상과, 알코올류, 글리콜에테르류 및 물을 함유하는 금속 인발유 세정용 조성물에 관한 것이다.
본 발명에 따른 세정용 조성물은 염소 등 할로겐 원소를 함유하지 않아 친환경적이며, 휘발성이 높지 않아 인체에 대한 독성이 적고 증발 감량에 따른 교환주기가 길어 경제적일 뿐만 아니라 금속 가공 공정에서 높은 점도 및 극성을 갖는 인발유를 효과적으로 제거할 수 있는 장점이 있다.
금속 인발유, 세정제
Description
본 발명은 금속 가공 공정, 특히 금속 인발 공정 후 금속 가공유를 효과적으로 제거하는 세정용 조성물에 관한 것이다.
종래 금속 가공 공정, 예를 들면 절삭, 프레스, 인발 공정 등에 사용되는 가공유를 제거하기 위한 용제로서, 1,1,2-트리클로로에틸렌(TCE), 디클로로프로판, 메틸렌클로라이드 등의 염소계 용제를 함유하는 조성물이 사용되어 왔다. 그러나, 상기 염소계 용제는 휘발성이 크고 인체 및 환경에 유해하여 이를 대체하는 세정제에 대한 연구가 진행되고 있다.
대체 세정제로서 탄화수소계 세정제가 많이 사용되고 있으나, 이는 인화성 및 건조 문제가 지적되고 있다. 또한 벤젠, 자일렌 등 방향족계 탄화수소를 포함하는 세정제의 경우 인체 독성이 높고 환경 오염성에 문제가 있어 규제의 대상이 되고 있다.
인체 안전성과 인화 안정성 등과 같은 작업 안전성을 고려할 때, 물을 함유 한 준수계 또는 수계 세정제 기술도 개발되고 있다. 물을 함유한 세정제는 기름에 대한 용해력이 낮고 이를 개선하기 위해서는 적절한 유기 용제와 계면활성제 시스템 개발이 요구되고 있는 실정이다.
한편, 금속 가공유를 제거하기 위한 준수계 세정제로서 일본공개특허 제1994-146041호에서는 프로필렌글리콜에테르 및 물을 함유하는 세정제 조성물이 개시되어 있다. 또한 기계, 전기 및 전자 분야의 전자 부품 또는 정밀 부품 등의 표면 오염물을 세정하기 위한 탄화수소계 세정제로서 대한민국 공개특허 제2008-0045616호에서는 탄화수소계 용제 및 아세테이트류 화합물을 함유하는 세정제 조성물이 공지되어 있다. 그러나 상기 특허에 개시된 세정조성물은 고점도이고 할로겐원소로 다량 치환된 금속 인발유에 대하여 충분한 세정력을 가지고 있지 못하다.
본 발명의 목적은 염소 등 할로겐 원소를 함유하지 않아 친환경적이며, 휘발성이 높지 않아 인체에 대한 독성이 적고 증발 감량에 따른 교환주기가 길어 경제적일 뿐만 아니라 금속 가공 공정에서 높은 점도 및 극성을 갖는 인발유를 효과적으로 제거할 수 있는 세정제 조성물을 제공하는 데 목적이 있다.
본 발명은 상기 기술적 과제를 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 방향족탄화수소를 제외한 탄화수소계 화합물 또는 에스테르계 화합물로부터 선택되는 1종 이상과, 알코올류, 글리콜에테르류 및 물을 함유하는 세정제 조성물에 관한 것이다.
보다 구체적으로 본 발명은 (a) C5~C20의 탄화수소류, C4~C10의 에스테르류, 또는 이의 혼합물 20 ~ 65중량%, (b) C3~C10의 알코올류 10 ~ 60 중량%, (c) C2~C10의 글리콜에테르류 1 ~ 40 중량%, 및 (d) 물 1 ~ 20 중량%를 함유하는 금속 인발유 제거용 세정제 조성물을 제공한다.
금속 인발유는 금속 인발 공정에 사용되는 고점도 오일로 스테인레스강 파이프의 인발 가공 시에 사용되는 고점도 클로로파라핀계 오일은 종래 트리클로로에틸렌 등 염소계 세정제로도 잘 세정되지 않으며, 종래 트리클로로에틸렌 등 할로겐 원소를 함유하는 용제의 경우 비중이 커서 세정 시 인발유에 함유된 불용성 성분이 표면에 부유하여 세정 공정 후 후속 공정으로 이동 시 표면에 부유하고 있던 성분이 금속 표면에 재오염되는 문제점이 있었다. 금속표면에 오염물이 잔존하면 인발제품의 후속 공정인 열처리공정에서 오염물의 탄화물이 재료내부로 침투되어 재료의 성상을 변질시키거나 재료표면에 얼룩을 만드는 원인이 된다. 이런 경우의 제품은 반도체용 혹은 의료용과 같은 고청정 파이프를 사용해야하는 고부가가치 산업에의 적용이 불가능하다. 따라서, 클로로파라핀계 오일 성분을 잘 용해하되 용해하기 어려운 첨가제 성분들은 침전되도록 비중이 낮은 세정제 조성물이 필요하며, 휘발성이 낮아 인체에 유해성이 적고, 증발에 의한 손실이 적은 세정제가 바람직하다.
본 발명에 따른 세정제 조성물은 인화성 및 휘발성이 낮아 인체에 독성이 적으며 할로겐 원소를 함유하지 않아 친환경적일 뿐만 아니라 스테인레스 스틸 인발 공정에 사용되는 클로로파라핀계 오일과 같이 고점도이고 할로겐으로 다량 치환된 탄화수소계 물질을 주로 함유하고 있는 가공유를 효과적으로 제거할 수 있으며, 종래에 사용되어오던 1,1,2-트리클로로에틸렌 등 염소계 세정제에 비해 비중이 낮아 비용해성 물질을 침전시킴으로써 세정 공정에서 비용해성 물질이 금속 표면을 재오염시키는 문제점을 해결할 수 있다.
이하 본 발명을 상세히 설명한다.
이때, 사용되는 기술 용어 및 과학 용어에 있어서 다른 정의가 없다면, 이 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 통상적으로 이해하고 있는 의미를 가진다. 또한, 종래와 동일한 기술적 구성 및 작용에 대한 반복되는 설명은 생략하기로 한다.
본 발명은 하기의 조성을 함유하는 세정제 조성물을 제공한다.
(a) C5~C20의 탄화수소류 1종 이상, C4~C10의 에스테르류, 또는 이의 혼합물 20 ~ 65중량%;
(b) C3~C10의 알코올류 10 ~ 50 중량%;
(c) C2~C10의 글리콜에테르류 1 ~ 40 중량%; 및
(d) 물 1 ~ 20 중량%.
상기 탄화수소류는 방향족고리를 포함하지 않는 지환족 또는 지방족 탄화수소이고, 단독 또는 1종 이상의 물질을 혼합하여 사용할 수 있다. 상기 지환족 탄화수소로는 싸이클로펜탄, 싸이클로헥산, 싸이클로 헵탄 등을 예로 들 수 있고, 상기 지방족 탄화수소는 직쇄 또는 분지쇄의 탄화수소가 모두 가능하다. C5~C6의 지환족 탄화수소 및 C5~C20의 지방족 탄화수소를 혼합하여 사용하는 것이 더욱 바람직하다. 탄화수소계 용제로서 지환족 탄화수소 및 지방족 탄화수소가 혼합된 상용화된 제품을 사용할 수 있으며, 예를 들면 이수화학 D-SOL 시리즈 중 150L, 150, 혹은 170이 있다.
상기 에스테르류는 아세테이트류 화합물 또는 이의 혼합물을 사용하는 것이 더욱 바람직하고 상기 아세테이트류는 하기 화학식 1로 표시할 수 있다.
[화학식 1]
[상기 화학식 1에서 R1은 직쇄 또는 분쇄의 (C2~C8)알킬기로부터 선택된다.]
구체적인 화합물로서 예를 들면, 에틸 아세테이트, 프로필 아세테이트, 부틸아세테이트, 펜틸 아세테이트, 헥실 아세테이트, 헵틸 아세테이트 및 옥틸 아세테이트를 사용할 수 있고, 부틸 아세테이트가 건조속도, 인화안정성 및 다른 성분과의 상용성 등을 고려할 때 인발유 제거 효과 측면에서 보다 바람직하다. 상기 프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 헵틸 및 옥틸기는 직쇄 또는 분지쇄기를 포함한 것이다.
본 발명에 따른 세정제 조성물은 상기 탄화수소류 또는 에스테르류 중 1종 이상을 20 ~ 65중량%, 보다 좋게는 25 ~ 60중량%로 함유하는데, 이는 상기 범위를 벗어나는 경우 고점도 클로로파라핀계 오일의 용해성이 저하되기 때문이다. 이유를 설명하면, 인발 가공 공정에서는 금속의 표면조도를 높이기 위하여 인발유의 극압 성능을 최대화 시켜야하는바, 이를 위해 인발유에는 클로로파라핀 뿐만 아니라 극성이 높은 인(P) 혹은 황(S)성분을 포함하는 첨가제들을 다량 사용하게 된다. 따라서 스테인레스강을 가공하는데 사용하는 인발유는 점도가 높고 동시에 극성이 매우 높은 물질을 함유하므로 이들을 용해시키는 세정제도 용해력을 최대화 할 수 있는 범위의 극성을 갖도록 조성하여야한다. 위의 탄화수소류 또는 에스테르류는 비교적 극성이 낮은 화합물이므로 상기 범위 이상의 농도를 사용하면 세정제 전체용액의 극성이 낮아서 인발유에 대한 용해력이 저하되며, 상기 범위 이하의 농도에서는 세정제 전체용액의 극성이 높아져서 인발유에 대한 용해력이 저하되었다.
상기 알코올류는 탄소수 3 내지 10의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기 및 히드록시 기(-OH)로 이루어지며, 금속 표면과 인발유 사이로 침투하여 금속 표면으로부터 오염된 인발유 성분을 분리하는 역할을 하는 것으로 인식된다. 구체적인 화합물로는 부탄올, 펜탄올, 헥산올 및 헵탄올로부터 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있다. 상기 알코올류의 함량은 조성물 총 중량에 대하여 10 ~ 60 중량%, 보다 좋게는 20 내지 50 중량%인 것이 바람직하다. 상기 함량보다 낮은 농도에서는 금속표면으로부터 인발유를 분리시키는데 많은 시간을 필요로하며, 상기 함량보다 높은 농도에서는 세정 후 자연상태(상온, 대기압)에서 건조시간이 길어지므로 가열 및 열풍 장치 등을 추가로 설치해야 하는 등의 어려움이 있다.
상기 글리콜에테르류는 금속 표면에서 분리된 인발유 성분이 재흡착되는 것을 방지하고 인발유 성분의 용해성을 향상시키는 역할을 하는 것으로 인식되며, (C3~C10)의 에틸렌글리콜 모노알킬에테르로부터 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있으며, 에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌글리콜 모노프로필에테르 또는 에틸렌글리콜 모노부틸에테르 중 1종 이상을 사용하는 것이 더욱 바람직하다. 상기 글리콜에테르류의 함량은 조성물 총 중량에 대하여 1 ~ 40 중량%, 보다 좋게는 3 내지 35 중량%인 것이 바람직하다. 상기 함량을 벗어나는 경우 인발유가 재흡착되거나 용해성이 저하됨으로써 인발유에 대한 세정성이 저하될 수 있다. 특히, 글리콜에테르류는 극성이 높은 물질, 즉 세정용액 중의 물 또는 인발유중의 극성이 높은 첨가제들의 분해물에 대한 상용성이 우수하여 세정 중에 발생하는 불용성 부유물들을 최소화하므로서 세정액의 청정도를 지속시키는 효과가 있다.
상기 물은 본 발명의 세정용 조성물의 극성을 조절하는 역할을 하며 1 내지 20 중량%인 것이 인발유 제거에 적합하며, 인발유 중에서도 스테인레스 스틸 인발유로 사용되는 고점도 클로로파라핀계 오일을 제거하기 위한 조성물에서는 3 내지 15 중량% 범위에서 조절하는 것이 더욱 바람직하다.
본 발명에 따른 바람직한 실시예에 따르면 금속 인발유 세정용 조성물은 (a) C5~C6의 지환족 탄화수소 및 C5~C20의 지방족 탄화수소의 혼합물, 부틸아세테이트 또는 이들의 혼합물 25 ~ 65중량%, (b)부탄올 20 ~ 50 중량%, (c) 에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌글리콜 모노프로필에테르 또는 에틸렌글리콜 모노부틸에테르 중 1종 이상 3 ~ 35중량%, 및 (d) 물 3 ~ 15 중량%을 함유한다.
본 발명에 따른 세정제 조성물은 인화성 및 휘발성이 낮아 인체에 독성이 적으며 할로겐 원소를 함유하지 않아 친환경적일 뿐만 아니라 고점도 클로로파라핀계 금속 인발유를 효과적으로 제거할 수 있다.
이하, 실시예에 의해 본 발명을 보다 상세히 설명하나, 이는 발명의 구성 및 효과를 이해시키기 위한 것일 뿐, 본 발명의 범위를 제한하고자 하는 것은 아니다.
[실시예]
하기 표 1의 조성으로 세정 조성물을 제조하였다. 하기 표 1에서 HY는 지환 족 및 지방족 탄화수소 혼합물로 싸이클로펜탄, 싸이클로헥산, 옥탄, 및 도데칸이 3:3:2:2의 중량비로 혼합된 것이다. ES는 부틸아세테이트, Al은 부탄올, GE1은 에톡시에탄올 GE2는 부톡시부탄올이다.
용해도 평가
스테인레스강 파이프 인발공정에 사용하는 고점도 클로로파라핀계 인발유(제조사:미국,행스터퍼(Hangsterfer), 제품명:인발유,제이투(J-2))에 대한 용해도 평가를 진행하였다. 용해도 평가는 각 세정 조성물 10ml를 투명한 시험관에 넣은 후 상기 인발유 1g을 투입하여 혼합한 후 30분 경과시 용액의 투명도 및 불용분의 거동을 확인하였다. 용액의 투명도를 평가하여 불투명한 경우는 불량(X), 반투명한 경우는 보통(△), 약간의 탁도가 생기는 경우는 양호(○), 완전히 투명한 경우는 우수(◎)로 표시하였다. 하기 표 1의 결과를 참조하면, 조성성분 및 함량에 따라 용해도 성능의 차이를 보였으며, 본 발명에 따른 세정 조성물이 고점도 인발유에 대한 탁월한 용해성능을 나타내었다. 비교예 7 내지 9의 염소계 세정제의 경우에는 고점도 인발유에 대한 용해능도 좋지 않을 뿐만 아니라 비중이 높아 불용분이 가라앉지 않는 문제점이 나타났다.
세정 후 금속 표면 외관 및 잔존유분량에 의한 평가
고점도 클로로파라핀계 인발유(제조사:미국,행스터퍼(Hangsterfer), 제품명:인발유,제이투(J-2))를 사용하여 인발 가공된 직경 12mm의 스테인레스 스틸 파이프를 길이 30mm의 크기로 절단하여 시편을 제작하였다. 이 시편에는 가공 중 사용된 인발유가 표면에 점착되어 있으므로 시편과 점착되어있는 인발유가 합산된 중량을 소수점 이하 4째자리 까지 측정하여 기록하고, 이 시편을 하기 표 1의 각 세정제 조성물 10mL에 10분간 침지하여 인발유가 세정액으로 용해되도록 한 후, 건조하여 시편의 무게 감소분을 측정하였다. 그리고 각각의 금속표면 상태는 현미경으로 관찰하였다. 유분의 감소에 의해 무게가 줄어든 위의 시편을 톨루엔 용매를 사용하는 속슬렛 장치를 이용하여 3시간 동안 추출하여 표면에 잔존하는 유분을 완전히 제거하고 건조시킨 후, 다시 무게(시편만의 무게)를 측정하였다. 이 값을 이용하여 초기에 시편에 점착되어 있던 유분의 량과 세정제에 의해 제거된 유분의 량을 산출하여 백분율로 나타내고 이 값을 80%, 95% 및 99%를 기준으로 하는 범위를 설정하여 이를 기호로 표시하여 비교하였다. 즉, 시편에 점착되어 있던 초기 유분량의 80% 미만이 제거된 경우는 불량(X), 80이상~95%미만 제거된 경우는 보통(△), 95% 이상~99%미만 제거된 경우는 양호(○), 99%이상으로 제거된 경우는 우수(◎)로 표시하였다. 그리고 유분이 잔존하는 경우는 현미경으로 관찰하여 유분을 확인하였다. 하기 표 1의 결과를 참조하면, 본 발명에 따른 실시예 조성물은 표면 오염 물질을 모두 완벽하게 제거하였고, 실제로 표면의 오염물질이 현미경에 의해서도 확인되지 않았다. 이에 비해 비교예의 조성물은 일부 또는 다량의 오염물질이 잔존하는 것을 확인하였다.
[표 1]
Claims (7)
- (a) C5~C20의 탄화수소류, C4~C10의 에스테르류, 또는 이의 혼합물 20 ~ 65중량%;(b) C3~C10의 알코올류 10 ~ 60 중량%;(c) C2~C10의 글리콜에테르류 1 ~ 40 중량%; 및(d) 물 1 ~ 20 중량%;를 함유하는 금속 인발유 세정용 조성물.
- 제 1항에 있어서,상기 탄화수소류는 C5~C6의 지환족 탄화수소 및 C5~C20의 지방족 탄화수소의 혼합물인 금속 인발유 세정용 조성물.
- 제 1항에 있어서,상기 에스테르류는 하기 화학식 1의 아세테이트류 화합물 또는 이의 혼합물인 금속 인발유 세정용 조성물.[화학식 1]
[상기 화학식 1에서 R1은 직쇄 또는 분쇄의 (C2~C8)알킬기로부터 선택된다.] - 제 3항에 있어서,상기 알코올류는 부탄올, 펜탄올, 헥산올 및 헵탄올로부터 선택되는 1종 이상인 금속 인발유 세정용 조성물.
- 제 4항에 있어서,상기 글리콜에테르류는 (C3~C10)의 에틸렌글리콜 모노알킬에테르인 금속 인발유 세정용 조성물.
- 제 5 항에 있어서,(a) C5~C6의 지환족 탄화수소 및 C5~C20의 지방족 탄화수소의 혼합물, 부틸아세테이트 또는 이들의 혼합물 25 ~ 60중량%, (b)부탄올 20 ~ 50 중량%, (c) 에틸렌글리콜 모노에틸에테르, 에틸렌글리콜 모노프로필에테르 또는 에틸렌글리콜 모노부틸에테르 중 1종 이상 3 ~ 35중량%, 및 (d) 물 3 ~ 15 중량%을 함유하는 금속 인발유 세정용 조성물.
- 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 금속 인발유는 클로로파라핀계 스테인레스 스틸 인발유인 금속 인발유 세정용 조성물.
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