KR20100028525A

KR20100028525A - 이방성 막용 화합물

Info

Publication number: KR20100028525A
Application number: KR1020097018261A
Authority: KR
Inventors: 마사아키 니시무라; 히데오 사노; 도미오 요네야마; 류이치 하세가와
Original assignee: 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤
Priority date: 2007-07-09
Filing date: 2008-07-02
Publication date: 2010-03-12
Also published as: TWI394803B; CN101688065B; JP5374940B2; JP2009167379A; WO2009008298A1; TW200914539A; CN101688065A

Abstract

유리산의 형태가 하기 식 (1) 로 나타내는 이방성 막용 화합물. 편광막 등의 이방성 막에 유용한 단파장 영역 (380 ㎚ ∼ 500 ㎚) 에서 2색성이 높고, 내구성이 우수한 이방성 막용 화합물이 제공된다.

(L¹ 은 -(CH=CH)r- 기 또는 -(C≡C)s- 기. r, s 는 1 ∼ 5 의 정수. Ar¹ 은 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐렌기, 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸렌기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 복소 고리기. m 은 0 ∼ 3 의 정수. p 및 k 는 0 또는 1. p, k 가 모두 0 이 되는 일은 없다. X¹ 은 수소 원자 또는 유기기. X² 는 수소 원자, 니트로기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기, 또는 하기 식 (1-a) 로 나타내는 기. 단, X² 가 수소 원자, 니트로기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기일 때, m 은 0 이 아니다.)

Description

이방성 막용 화합물 {COMPOUND FOR ANISOTROPIC FILM}

본 발명은 조광 소자나 액정 소자 (LCD), 유기 일렉트로 루미네선스 소자 (OLED) 등의 발광형의 표시 소자, 터치 패널 등의 입출력 소자에 구비되는 편광막 등에 유용한 이방성 막용 화합물에 관한 것이다.

최근, LCD 등의 평면형 디스플레이는 텔레비전 수상기에 널리 사용되게 되어, 종래의 CRT 를 사용한 텔레비전을 대체하려 하고 있다. 또, 현재의 텔레비전 시스템인 NTSC 의 색 재현성은, CRT 의 형광체 특성을 기준으로 결정된 것으로, 실재하는 물체 색의 절반 정도밖에 표현할 수 없다는 문제가 있었다. 한편, 디지털 카메라나 캠코더 등의 촬상 장치는, NTSC 에서 정의된 범위보다 광범위한 색 표현 (색 재현) 이 최근 가능해져, 그 정보를 보다 정확하게 재현하는 확장 색 공간에 대응한 디스플레이가 요망되고 있다.

이와 같은 배경에 있어서, LCD 등의 CRT 를 대신하는 평면형 디스플레이는, 원리상 CRT 보다 고채도 색의 표현이 가능한 디바이스로, 평면형 디스플레이가 갖는 고기능성을 살린 신동영상용 확장 색 공간의 규격화가 진행되어 왔다. 그 결과, 국제 규격 IEC61966-2-4 로서,「동영상용 확장색 역 YCC 색 공간 (Extended-gamut YCC color space for video application-xyYCC)」가 발행되었다.

xyYCC 색 공간은, 실재하는 물체색의 거의 모두를 표현할 수 있는 규격으로, 이로써 색이 선명한 물체의 소재감이나 입체감까지도 표현할 수 있게 되었다.

그러나, 확장된 색 공간 정보를 종래의 LCD 로 표시하고자 한 경우, LCD 에 사용되는 각종 부재의 특성이 충분하지 않기 때문에, xyYCC 색 공간에 대응한 디스플레이를 구축하기 위해서 몇 가지 개량이 진행되고 있다.

그 예로서,

(1) RGB 3 원색의 색 순도가 양호한 백라이트의 채용,

(2) RGB 3 원색에 보색을 추가한 마이크로 컬러 필터의 채용

등을 들 수 있다.

(1) 의 대표적인 수단으로는, LED 의 채용이나 냉음극관에 사용되는 형광체의 발광 파장의 최적화이고, (2) 에서는 옐로우, 시안을 추가한 마이크로 컬러 필터의 채용을 들 수 있다 (특허 문헌 1, 2 참조).

이와 같이, LCD 의 색 재현성을 지배하는 인자는, 발광에 관계되는 부재나 가시광 파장역에 흡수를 갖는 부재이지만, 마이크로 컬러 필터와 동일하게 가시광 파장역에 흡수를 갖는 편광 필름 (편광막) 에 대해서는, 아직 충분한 검토가 진행되지 않은 상황에 있다.

xyYCC 확장 색 공간에 대한 대응에는, 백 라이트나 마이크로 컬러 필터의 개량 내용으로부터 추정되는 바와 같이, 가시광선의 양 단부에 해당하는 단파장 영역과 장파장 영역의 특성을 개선하는 것이 필요하다.

그러나, 종래의 편광 필름은, 가시광 파장 영역에 있어서의 흡광도나 2색성 등의 광학 특성이 일정하지 않기 때문에, 특정 파장이나 색에 있어서의 콘트라스트비가 저하되는 문제가 있었다. 특히, 청색광의 보색인 단파장 영역의 2색성이 낮기 때문에, 청색광의 색 순도가 저하되어, 색 재현성을 충분히 얻어지지 않는 경우가 있었다.

또, 확장 색 공간 대응 디스플레이 이외에 있어서도, 액정 프로젝터나 차재용 액정 패널의 경우에는, 고온시의 내구성의 문제때문에 요오드가 아니라, 가시광 파장 영역 전체에서 2색성을 갖는 유기 화합물이 사용되고 있다. 그러나, 단파장에 흡수를 갖는 화합물은, 분자 구조의 일반적인 특징으로서, 장파장에 흡수를 갖는 화합물보다 π 공액의 확장이 작은, 요컨대 분자 길이가 짧은 경향이 있다. 통상적으로 2색성 화합물에 있어서 충분한 어스팩트비를 얻기 위해서는, 분자 길이가 긴 것이 필요시되기 때문에, 특히 단파장에 흡수를 갖는 화합물을 2색성 화합물로서 이용하고자 하면, 이들을 양립시키기 어렵다. 이것에서 기인하여, 지금까지 사용되어 온 편광 필름에서는 단파장 영역의 2색성이 낮고, 이쪽에 있어서도 단파장 영역에서 높은 2색성을 갖는 화합물의 개발이 요망되었다. 또, 이들 용도에 있어서는, 프레임 고장 혹은 프레임 불균일이라고 하는 온습도 변화에 수반되는 필름의 수축 등에서 기인하는 결함이 발생하는 문제가 있기 때문에, 고온시의 내구성이 필요시되는 것, 또, 이 문제를 해결하는 변성 폴리비닐알코올(폴리비닐알코올 유도체) 등의 고분자 재료와 2색성 물질의 조합이 중요해진 점에서도, 신규 2색성 화합물의 개발이 요망되고 있다.

특허 문헌 1 : 일본 공개특허공보 2007-73290호

특허 문헌 2 : 일본 공개특허공보 2007-25285호

발명의 개요

본 발명은 광범위한 색 표현이 가능한 편광막에 유용한, 주로 단파장 영역에 흡수를 갖는 이방성 막용 화합물을 제공하는 것을 과제로 한다.

또, 본 발명은 내구성이 우수한 이방성 막용 화합물을 제공하는 것을 과제로 한다.

본 발명자들이 예의 검토한 결과, 유리산의 형태가 하기 식 (1) 로 나타내는 이방성 막용 화합물이 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명에 도달하였다.

즉, 본 발명은, 유리산의 형태가 하기 식 (1) 로 나타내는 것을 특징으로 하는 이방성 막용 화합물 (청구항 1) 에 있다.

[화학식 1]

〔식 (1) 중, L¹ 은 -(CH=CH)r- 기 또는 -(C≡C)s- 기를 나타낸다. r 및 s 는 각각 독립적으로 1 ∼ 5 의 정수를 나타낸다.

Ar¹ 은 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐렌기, 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸렌기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 복소 고리기를 나타낸다.

m 은 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.

p 및 k 는 각각 독립적으로 0 또는 1 을 나타내지만, p 및 k 가 모두 0 이 되는 일은 없다.

X¹ 은 수소 원자 또는 유기기를 나타낸다.

X² 는 수소 원자, 니트로기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기, 또는 하기 식 (1-a) 로 나타내는 기를 나타낸다. 단, X² 가 수소 원자, 니트로기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기일 때, m 은 0 이 아니다.

[화학식 2]

(식 (1-a) 중, Ar² 는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐렌기, 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸렌기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 복소 고리기를 나타낸다.

B¹ 은 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 복소 고리기를 나타낸다.

n 은 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.)〕

본 발명은 또한 유리산의 형태가 하기 식 (9) 로 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물 (청구항 9) 에 있다.

[화학식 3]

〔식 (9) 중, Ar²¹ 은 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐렌기, 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸렌기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 복소 고리기를 나타낸다.

h 는 1 ∼ 5 의 정수를 나타낸다.

t 는 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.

R²¹ 은 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 카르복시기 또는 수소 원자를 나타낸다.

X²² 는 수소 원자, 니트로기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기, 또는 하기 식 (9-a) 로 나타내는 기를 나타낸다. 단, X²² 가 수소 원자, 니트로기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기일 때, t 는 0 이 아니다.

[화학식 4]

(식 (9-a) 중, Ar²² 는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐렌기, 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸렌기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 복소 고리기를 나타낸다.

B²² 는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 복소 고리기를 나타낸다.

u 는 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.)〕

본 발명에 의하면, 편광막 등의 이방성 막에 유용한, 주로 단파장 영역에서 2색성이 높고, 내구성이 우수한 화합물을 제공할 수 있다.

상세한 설명

이하에 본 발명의 이방성 막용 화합물의 실시형태를 상세하게 설명한다.

이하에 기재하는 구성 요건의 설명은, 본 발명의 실시양태의 일례 (대표예)이며, 본 발명은 이들 내용에 특정되지는 않는다.

본 발명의 이방성 막용 화합물이 적용되는 이방성 막이란, 색소 등의 화합물을 함유하는 막의 두께 방향 및 임의의 직교하는 면내 2 방향의 입체 좌표계에 있어서의 합계 3 방향에서 선택되는 임의의 2 방향에 있어서의 전자기학적 성질에 이방성을 갖는 막이다. 전자기학적 성질로는, 흡수, 굴절 등의 광학적 성질, 저항, 용량 등의 전기적 성질 등을 들 수 있다. 흡수, 굴절 등의 광학적 이방성을 갖는 막으로는, 예를 들어, 직선 편광막, 원 편광막, 위상차막, 도전 이방성 막 등이 있다.

본 명세서에 있어서 단순히 이방성 막이라고 하는 경우에는, 본 발명의 이방성 막용 화합물을 함유하는 층을 가리키고, 통상적으로 이 층에는 추가로 저분자 재료 및/또는 고분자 재료를 함유하지만, 예를 들어 본 발명의 이방성 막용 화합물만으로 구성되는 층이어도 된다.

본 발명의 이방성 막용 화합물은, 이른바 색소로서의 기능도 갖는 화합물로서, 본 발명의 이방성 막용 화합물을 함유하는 이방성 막은, 색소 막으로서도 기능 할 수 있는 것이다. 또한, 여기에서 말하는 색소란, 일반적으로, 가시광 파장 영역에 있어서 흡수를 갖는 화합물을 의미한다.

본 발명의 이방성 막용 화합물을 사용하여 제조된 이방성 막은, 주된 효과로서 흡수 이방성을 갖는 기능성 막에 사용되는 것이 바람직하고, 편광막에 사용되는 것이 보다 바람직하다.

이하, 본 발명의 이방성 막용 화합물에 대해 상세히 서술한다.

또한, 본 발명에 있어서 치환기를 갖고 있어도 된다란, 치환기를 1 또는 2 이상 갖고 있어도 되는 것을 의미한다.

또, 본 명세서에 있어서 「치환기의 탄소수」라고 하는 경우에는, 그 치환기 중에 포함되는 탄소 원자의 수를 나타내고, 그 치환기가 추가적인 치환기를 가지고 있는 경우에는, 추가적인 치환기에 함유되는 탄소수도 포함한 모든 탄소수이다.

1. 이방성 막용 화합물

1-1. 식 (1) 로 나타내는 화합물

본 발명의 이방성 막용 화합물은, 유리산의 형태가 하기 식 (1) 로 나타내는 것을 특징으로 한다.

[화학식 5]

m 은 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.

X¹ 은 수소 원자 또는 유기기를 나타낸다.

[화학식 6]

n 은 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.)〕

본 발명의 이방성 막용 화합물은, 스틸벤 부위와 알케닐아미드 혹은 알키닐아미드 부위를 함께 갖는 아조 화합물이다. 스틸벤 부위와 알케닐아미드 혹은 알키닐아미드 부위는, 강직하고 직선성이 높은 구조이면서, 아조 화합물의 π 전자 공액계의 신장에 대한 기여가 작기 때문에, 본 발명의 이방성 막용 화합물은, 단파장 영역에 흡수를 가지면서도 큰 어스펙트비를 얻을 수 있어, 높은 2색성을 나타낸다. 본 발명의 이방성 막용 화합물은, 단파장 영역뿐만 아니라, 그 이외의 영역에 흡수를 가지는 화합물로서도 높은 2색성을 나타낸다.

<Ar¹ 및 Ar²>

식 (1) 에 있어서의 Ar¹ 및 식 (1-a) 에 있어서의 Ar² 는, 각각 독립적으로 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐렌기, 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸렌기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 복소 고리기를 나타낸다.

그 페닐렌기로는, 1,4-페닐렌기, 1,3-페닐렌기 등을 들 수 있지만, 분자 직선성의 관점에서 1,4-페닐렌기가 바람직하다.

그 나프틸렌기로는, 1,4-나프틸렌기, 2,6-나프틸렌기, 2,7-나프틸렌기 등을 들 수 있지만, 분자 직선성의 관점에서, 1,4-나프틸렌기, 2,6-나프틸렌기가 바람직하고, 1,4-나프틸렌기가 더욱 바람직하다.

그 복소 고리기는 2 가의 복소 고리기로서, 단고리 또는 2 고리성의 복소 고리 유래의 기가 바람직하다. 그 복소 고리기를 구성하는 탄소 이외의 원자로는, 질소 원자, 황 원자 및 산소 원자를 들 수 있지만, 질소 원자가 특히 바람직하다. 그 복소 고리기가 탄소 이외의 고리를 구성하는 원자를 복수 갖는 경우, 이들은 동일해도 되고 상이해도 된다.

그 복소 고리기가 단고리의 복소 고리 유래의 기인 경우에는, 분자 직선성의 관점에서, 하기 식 (1-a0) 과 같이, 2,5 위치 또는 3,6 위치에서 결합되는 2 가의 함질소 방향족 6 원자 고리가 바람직하고, 2,5-피리딘디일기가 특히 바람직하다.

[화학식 7]

〔식 (1-a0) 중, Q¹ ∼ Q⁴ 는 각각 독립적으로 탄소 원자 또는 질소 원자를 나타내지만, Q¹ ∼ Q⁴ 의 1 개 또는 2 개가 질소 원자이고, 나머지는 탄소 원자이며, Q¹ ∼ Q⁴ 의 탄소 원자는 치환기를 갖고 있어도 된다.〕

그 복소 고리기가 2 고리성의 복소 고리 유래의 기인 경우에는, 분자 직선성의 관점에서 하기 식 (1-a1) 로 나타내는 바와 같이, 연결 위치가 벤젠 고리 부위의 서로 파라 위치에 있는 2 가의 복소 고리기가 바람직하다.

[화학식 8]

〔식 (1-a1) 중, 고리 α 는 5 또는 6 원자 고리의 복소 고리이다. 고리 α 은 식 (1-a1) 중의 벤젠 고리와 결합하여 축합 고리를 형성한다. 식 (1-a1) 로 나타내는 기는 치환기를 갖고 있어도 된다.〕

식 (1-a1) 로 나타내는 결합 고리기로는, 퀴놀린디일기, 이소퀴놀린디일기, 프탈라진디일기, 퀴녹살린디일기, 벤조티아디아졸디일기, 프탈이미드디일기 등으로서, 5,8-퀴놀린디일기, 5,8-이소퀴놀린디일기, 5,8-프탈라진디일기, 및 5,8-퀴녹살린디일기가 특히 바람직하다.

Ar¹ 및 Ar² 로는, 각각 독립적으로 치환기를 갖고 있어도 되는 1,4-페닐렌기, 치환기를 갖고 있어도 되는 1,4-나프틸렌기 또는 상기 식 (1-a1) 로 나타내는 기가 특히 바람직하다.

{Ar¹ 및 Ar² 의 치환기}

Ar¹ 및 Ar² 의 치환기로는, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알콕시기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기, 카르복시기, 할로겐 원자, 술포기, 수산기를 들 수 있다.

이하에 Ar¹ 및 Ar² 가 갖고 있어도 되는 치환기의 구체예를 든다.

치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기는, 탄소수가 통상 1 이상, 통상 6 이하, 바람직하게는 4 이하, 더욱 바람직하게는 3 이하이다. 그 알킬기에 치환되어 있어도 되는 기로는, 알콕시기, 수산기, 할로겐 원자, 술포기 및 카르복시기 등을 들 수 있다. 알킬기의 구체예로는, 메틸기, 에틸기를 들 수 있고, 특히 치환기를 갖고 있어도 되는 저급 알킬기가 바람직하다.

치환기를 갖고 있어도 되는 알콕시기는, 탄소수가 통상 1 이상, 통상 6 이하, 바람직하게는 4 이하, 더욱 바람직하게는 3 이하이다. 그 알콕시기에 치환되어 있어도 되는 기로는, 알콕시기, 수산기, 할로겐 원자, 술포기 및 카르복시기 등을 들 수 있다. 알콕시기의 구체예로는, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, n-부톡시기, 히드록시에톡시기, 2,3-디히드록시프로폭시기 등의 치환기를 갖고 있어도 되는 알콕시기를 들 수 있고, 특히 치환기를 갖고 있어도 되는 저급 알콕시기가 바람직하다.

치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기는, 통상적으로 -NH₂, -NHR^α, -NR^βR^γ 로 나타내고, R^α ∼ R^γ 는 각각 독립적으로 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아실기를 나타낸다. 그 알킬기는, 탄소수가 통상 1 이상, 통상 4 이하, 바람직하게는 2 이하이다. 그 페닐기는, 탄소수가 통상 6 이상, 통상 10 이하, 바람직하게는 8 이하이다. 그 알킬기 및 그 페닐기에 치환되어 있어도 되는 기로는, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 4 의 알콕시기, 수산기, 술포기, 카르복시기 및 할로겐 원자 등을 들 수 있다.

그 아실기는, -COR^δ 로 나타내고, R^δ 는, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알콕시기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기를 나타낸다. 그 알킬기 및 그 알콕시기는, 각각, 탄소수가 통상 1 이상, 통상 4 이하, 바람직하게는 2 이하이다. 그 페닐기는, 탄소수가 통상 6 이상, 통상 10 이하, 바람직하게는 8 이하이다. 그 알킬기, 그 알콕시기 및 그 페닐기에 치환되어 있어도 되는 기로는, 탄소수가 1 ∼ 4 의 알킬기, 탄소수가 1 ∼ 4 의 알콕시기, 수산기, 술포기, 카르복시기 및 할로겐 원자 등을 들 수 있다.

치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기의 구체예로는, 아미노기, 메틸아미노기, 에틸아미노기, 프로필아미노기, 디메틸아미노기, 페닐아미노기, 아세틸아미노기, 벤조일아미노기 등을 들 수 있다.

할로겐 원자로는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등을 들 수 있다.

Ar¹ 및 Ar² 의 치환기로는, 분자 직선성, 물에 대한 용해성, 수소 결합 등에 의한 고분자 기재에 대한 염착성 면에서, 치환기를 갖지 않거나, 혹은 치환기로서 메틸기, 메톡시기, 2,3-디히드록시프로폭시기, 카르복시기, 술포기, 불소 원자, 수산기, 아미노기 또는 아세틸아미노기를 갖는 것이 바람직하고, 치환기를 갖지 않거나, 치환기로서 카르복시기, 술포기, 메틸기, 메톡시기를 갖는 것이 특히 바람직하다.

Ar¹ 및 Ar² 는, 각각 이들의 치환기를 1 개 갖고 있어도 되고, 2 개 이상 갖고 있어도 되지만, 치환기는 3 개 이하가 바람직하고, 2 개 이하가 특히 바람직하다. 이들 치환기를 2 개 이상 갖는 경우에는, 치환기는 고리가 서로 이웃하는 원자에 치환되지 않는 것이 바람직하다.

{바람직한 Ar¹ 및 Ar²}

Ar¹ 및 Ar² 는, 분자 직선성, 물에 대한 용해성, 수소 결합 등에 의한 고분자 기재에 대한 염착성 면에서, 각각 독립적으로, 특히 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐렌 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸렌기가 바람직하고, 특히, 비치환의 페닐렌기, 비치환의 1,4-나프틸렌기, 혹은 치환기로서 카르복시기, 술포기, 메틸기, 메톡시기, 수산기, 2,3-디히드록시프로폭시기, 아미노기, 아세틸아미노기를 갖는 페닐렌기, 혹은, 치환기로서 카르복시기, 술포기, 수산기를 갖는 1,4-나프틸렌기, 또는, 치환기로서 카르복시기, 술포기, 수산기를 갖는 2,6-나프틸렌기가 바람직하다.

<L¹>

L¹ 은 -(CH=CH)r- 기 또는 -(C≡C)s- 기를 나타낸다.

r 및 s 는 각각 독립적으로 1 ∼ 5 의 정수를 나타낸다. r 로는, 화합물의 안정성 면에서, 바람직하게는 1 ∼ 3, 더욱 바람직하게는 1 이다. 또, s 로는, 화합물의 안정성 면에서, 바람직하게는 1 ∼ 3, 더욱 바람직하게는 1 이다. 또한 분자 직선성의 관점에서는, L¹ 은 -(CH=CH)r- 기인 것이 바람직하고, 특히 -(CH=CH)- 기인 것이 바람직하다.

<B¹>

식 (1-a) 에 있어서의 B¹ 은 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 복소 고리기를 나타낸다.

B¹ 이 복소 고리기인 경우, 그 복소 고리기는 1 가의 복소 고리기이고, 바람직하게는 탄소수가 통상 3 이상, 통상 15 이하, 바람직하게는 12 이하의 복소 고리기이다.

이 복소 고리기로는, 구체적으로는, 피리딘 고리, 피라졸 고리, 피리돈 고리, 퀴놀론 고리, 퀴놀린 고리 또는 인돌 고리 유래의 기 등을 들 수 있고, 바람직하게는 피리딘 고리, 퀴놀론 고리, 퀴놀린 고리, 피라졸 고리 또는 피리돈 고리 유래의 기이다.

{B¹ 의 치환기}

B¹ 이 갖고 있어도 되는 치환기로는, 술포기, 카르복시기, 수산기, 니트로기, 시아노기, 할로겐 원자, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알콕시기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기, 치환기를 갖고 있어도 되는 카르바모일기, 치환기를 갖고 있어도 되는 술파모일기, 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아릴옥시기, 치환기를 갖고 있어도 되는 카르보닐옥시기 등을 들 수 있다.

치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기는, 탄소수가 통상 1 이상, 통상 6 이하, 바람직하게는 4 이하이다. 그 알킬기에 치환되어 있어도 되는 기로는, 알콕시기, 페녹시기, 수산기, 할로겐 원자, 술포기 및 카르복시기 등을 들 수 있다.

알킬기의 구체예로는, 메틸기, 에틸기 등을 들 수 있고, 특히 치환기를 갖고 있어도 되는 저급 알킬기가 바람직하다.

치환기를 갖고 있어도 되는 알콕시기는, 탄소수가 통상 1 이상, 통상 15 이하, 바람직하게는 13 이하, 더욱 바람직하게는 9 이하이다. 그 알콕시기에 치환되어 있어도 되는 기로는, 알콕시기, 페녹시기, 페닐기, 수산기, 할로겐 원자, 술포기 및 카르복시기 등을 들 수 있다.

알콕시기의 구체예로는, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, n-부톡시기, 히드록시에톡시기, 2,3-디히드록시프로폭시기, 카르복시메톡시기 등의 치환기를 갖고 있어도 되는 알콕시기를 들 수 있고, 특히 치환기를 갖고 있어도 되는 저급 알콕시기가 바람직하다.

치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기는, 통상적으로 -NH₂, -NHR⁸⁵, -NR⁸⁶R⁸⁷ 로 나타낸다. R⁸⁵ ∼ R⁸⁷ 은 각각 독립적으로, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아실기를 나타낸다. 그 알킬기는, 탄소수가 통상 1 이상, 통상 10 이하, 바람직하게는 6 이하, 더욱 바람직하게는 4 이하이다. 그 페닐기는, 탄소수가 통상 6 이상, 통상 12 이하, 바람직하게는 8 이하이다. R⁸⁵ ∼ R⁸⁷ 의 알킬기, 페닐기에 치환되어 있어도 되는 기로는, 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 4 의 알콕시기, 수산기, 술포기, 카르복시기 및 할로겐 원자 등을 들 수 있다. 그 페닐기에 치환되어 있어도 되는 기로는, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 4 의 알콕시기, 술포기, 카르복시기, 수산기 등을 들 수 있다.

그 아실기는, -COR⁸⁸ 로 나타내고, R⁸⁸ 은, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알콕시기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알케닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알키닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 복소 고리기를 나타낸다. 그 알킬기 및 그 알콕시기는, 각각, 탄소수가 통상 1 이상, 통상 8 이하, 바람직하게는 5 이하이다. 그 알케닐기 및 그 알키닐기는, 각각, 탄소수가 통상 2 이상, 통상 18 이하, 바람직하게는 12 이하, 더욱 바람직하게는 8 이하이다. 그 페닐기는, 탄소수가 통상 6 이상, 통상 18 이하, 바람직하게는 15 이하, 더욱 바람직하게는 9 이하이다. 그 방향족 복소 고리기는, 탄소수가 통상 3 이상, 통상 10 이하, 더욱 바람직하게는 6 이하이며, 구체적으로는, 치환기를 갖고 있어도 되는 피리딜기 등을 들 수 있다. 그 알킬기, 그 알콕시기, 그 알케닐기, 그 알키닐기, 그 페닐기 및 그 방향족 복소 고리기에 치환되어 있어도 되는 기로는, 수산기, 술포기, 카르복시기, 할로겐 원자, 니트로기, 치환되어 있어도 되는 알킬기, 치환되어 있어도 되는 알콕시기, 치환되어 있어도 되는 아미노기, 및 치환되어 있어도 되는 페닐기 등을 들 수 있다.

치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기의 구체예로는, 아미노기, 메틸아미노기, 에틸아미노기, 벤질아미노기, 4-카르복시벤질아미노기, 페닐아미노기, 4-술포페닐아미노기, 아세틸아미노기, 벤조일아미노기, 아크릴로일아미노기, 크로토노일아미노기, 3-카르복시-아크릴로일아미노기, 신나모일아미노기 등을 들 수 있다.

치환기를 갖고 있어도 되는 카르바모일기는, 탄소수가 통상 1 이상, 통상 6 이하, 바람직하게는 4 이하이다. 그 카르바모일기에 치환되어 있어도 되는 기로는, 치환되어 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 들 수 있다.

치환기를 갖고 있어도 되는 카르바모일기의 구체예로는, 카르바모일기, N-메틸카르바모일기를 들 수 있다.

치환기를 갖고 있어도 되는 술파모일기는, 탄소수가 통상 1 이상, 통상 6이하, 바람직하게는 4 이하이다. 그 술파모일기에 치환되어 있어도 되는 기로는, 치환되어 있어도 되는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 들 수 있다.

치환기를 갖고 있어도 되는 술파모일기의 구체예로는, 술파모일기, N-메틸 술파모일기를 들 수 있다.

치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기는, 탄소수가 통상 6 이상, 통상 10 이하, 바람직하게는 8 이하이다. 그 페닐기에 치환되어 있어도 되는 기로는, 알콕시기, 수산기, 술포기 및 카르복시기 등을 들 수 있다.

치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기의 구체예로는, 페닐기, 3-술포페닐기, 4-술포페닐기 등을 들 수 있다.

치환기를 갖고 있어도 되는 아릴옥시기를 구성하는 아릴기로는, 페닐기, 나프틸기가 바람직하고, 아릴기에 치환되어 있어도 되는 기로는, 알킬기, 알콕시기, 카르복시기, 술포기, 수산기 등을 들 수 있다.

치환기를 갖고 있어도 되는 아릴옥시기의 구체예로는, 페녹시기, 2-나프톡시기, p-톨릴옥시기, p-메톡시페녹시기, o-카르복시페녹시기 등을 들 수 있다.

치환기를 갖고 있어도 되는 카르보닐옥시기는, -O-COR⁸⁹ 로 나타내고, R⁸⁹ 는 상기 R⁸⁸ 과 동일하고, 바람직한 것도 R⁸⁸ 과 동일하다.

치환기를 갖고 있어도 되는 카르보닐옥시기의 구체예로는, 아세톡시기, 벤조일옥시기, 신나모일옥시기, 3-카르복시-아크릴로일아미노기, 3-술포벤조일옥시기 등을 들 수 있다.

{B¹ 의 치환기의 수, 위치}

B¹ 의 페닐기는 상기의 치환기를 1 개 갖고 있어도 되고, 2 개 이상 갖고 있어도 되지만, 치환기는 3 개 이하가 바람직하다. 치환기의 치환 위치는, 치환기가 1 개인 경우에는 아조기에 대해 4 위치에, 2 개 이상인 경우에는, 그 중 가장 부피가 큰 기가 아조기에 대해 4 위치에 치환되어 있는 것이 바람직하다.

B¹ 의 나프틸기는 상기의 치환기를 1 개 갖고 있어도 되고, 2 개 이상 갖고 있어도 되지만, 치환기는 3 개 이하가 바람직하다. 치환기의 치환 위치는, 1-나프탈기의 경우, 치환기가 1 개인 경우에는 아조기가 치환된 위치를 1 위치로 하여 4 위치에, 2 개 이상인 경우에는, 그 중 가장 부피가 큰 기가 아조기가 치환된 위치를 1 위치로 하여 4 위치에 치환되어 있는 것이 바람직하고, 2-나프틸기의 경우, 치환기가 1 개인 경우에는 아조기가 치환된 위치를 2 위치로 하여 6 위치에, 2 개 이상인 경우에는, 그 중 가장 부피가 큰 기가 아조기가 치환된 위치를 2 위치로 하여 6 위치에 치환되어 있는 것이 바람직하다.

그 B¹ 의 방향족 복소 고리기는 이들 치환기를 1 개 갖고 있어도 되고, 2 개 이상 갖고 있어도 되지만, 치환기는 3 개 이하가 바람직하다.

{바람직한 B¹}

B¹ 은 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸기가 바람직하고, 특히, 분자 직선성의 관점에서는, 치환기로서, 메틸기, 메톡시기, 수산기, 카르복시기, 술포기, 아미노기, 신나모일아미노기, 3-카르복시-아크릴로일아미노기 중의 1 ∼ 3 개를 갖는 페닐기 및 나프틸기가 바람직하다.

<X¹>

X¹ 은 수소 원자 또는 유기기를 나타낸다. 본 발명에서 말하는 유기기란 탄소 원자를 함유하는 기를 말하고, 구체적으로는, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 카르복시기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알콕시카르보닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸기, 치환기를 갖고 있어도 되는 복소 고리기를 들 수 있다.

그 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기는, 탄소수가 통상 1 이상, 통상 8 이하, 바람직하게는 5 이하이다. 그 알킬기에 치환되어 있어도 되는 기로는, 알콕시기 및 카르복시기 등을 들 수 있다. 그 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기의 구체예로는, 메틸기, 에틸기 등을 들 수 있고, 특히 치환기를 갖고 있어도 되는 저급 알킬기가 바람직하다.

그 치환기를 갖고 있어도 되는 알콕시카르보닐기는, 탄소수가 통상 2 이상, 통상 10 이하, 바람직하게는 8 이하이다. 그 알콕시카르보닐기에 치환되어 있어도 되는 기로는, 알콕시기, 페닐기, 및 카르복시기 등을 들 수 있다. 그 치환기를 갖고 있어도 되는 알콕시카르보닐기의 구체예로는, 메톡시카르보닐기, 에톡시카르보닐기 등을 들 수 있다.

그 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기는, 탄소수가 통상 6 이상, 통상 15 이하, 바람직하게는 12 이하이다. 그 페닐기에 치환되어 있어도 되는 기로는, 알킬기, 알콕시기, 니트로기, 카르복시기 및 치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기 등을 들 수 있다. 그 치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기의 구체예는 상기 B¹ 의 치환기로서 열거한 것과 동일하다. 그 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기의 구체예로는, 페닐기, 4-니트로페닐기 등의 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기를 들 수 있다.

그 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸기는, 탄소수가 통상 10 이상, 통상 15 이하, 바람직하게는 12 이하이다. 그 나프틸기에 치환되어 있어도 되는 기로는, 알킬기, 알콕시기, 및 카르복시기 등을 들 수 있다. 그 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸기의 구체예로는, 2-나프틸기, 6-메틸-2-나프틸기 등의 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸기를 들 수 있다.

그 치환기를 갖고 있어도 되는 복소 고리기는 1 가의 복소 고리기이고, 통상 방향족 복소 고리기이며, 탄소수가 통상 3 이상, 통상 10 이하, 바람직하게는 6 이하의 방향족 복소 고리기이다. 그 복소 고리기에 치환되어 있어도 되는 기로는, 알킬기, 알콕시기, 니트로기, 페닐기 및 카르복시기 등을 들 수 있다. 그 치환기를 갖고 있어도 되는 복소 고리기의 구체예로는, 피리딘 고리, 퀴놀린 고리, 푸란 고리 유래의 기 등을 들 수 있고, 바람직하게는 푸란 고리 유래의 기이다.

{바람직한 X¹}

X¹ 은 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 카르복시기 또는 수소 원자가 바람직하고, 특히, 화합물의 수용성의 관점에서는 카르복시기가 바람직하다. 2색성 및 화합물의 안정성의 관점에서는, 비치환의 페닐기, 또는, 치환기로서 니트로기, 아미노기, 카르복시기, 수산기, 신나모일아미노기, 벤조일아미노기 중 1 개를 갖는 페닐기가 바람직하다.

<L¹ 과 X¹ 의 바람직한 조합>

상기한 L¹ 과 X¹ 의 조합 중에서도, L¹ 이 -CH=CH- 기이며, X¹ 이 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기인 것이, 2색성 및 화합물 안정성의 관점에서 바람직하고, X¹ 은 페닐기인 것이 더욱 바람직하다. 또, 수용성의 관점에서는, L¹ 이 -CH=CH- 기이며, X¹ 이 카르복시기인 것이 바람직하다.

이들 중, 더욱 바람직한 화합물의 구체예에 대해서는, 1-2 ∼ 4 의 항에 있어서 더욱 상세히 서술한다.

<X²>

X² 는 수소 원자, 니트로기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기, 또는 하기 식 (1-a) 로 나타내는 기를 나타낸다.

[화학식 9]

X² 의 치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기는, 통상적으로 -NH₂, -NHR⁹⁵, -NR⁹⁶R⁹⁷ 로 나타낸다. R⁹⁵ ∼ R⁹⁷ 은 각각 독립적으로 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아실기를 나타낸다.

그 알킬기는, 탄소수가 통상 1 이상, 통상 6 이하, 바람직하게는 4 이하이다.

그 페닐기는, 탄소수가 통상 6 이상, 통상 18 이하, 바람직하게는 15 이하, 더욱 바람직하게는 9 이하이다.

R⁹⁵ ∼ R⁹⁷ 의 알킬기, 페닐기에 치환되어 있어도 되는 기로는, 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기, 알콕시기, 수산기, 술포기, 카르복시기 및 할로겐 원자 등을 들 수 있다. 그 페닐기에 치환되어 있어도 되는 기로는, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 4 의 알콕시기, 술포기, 카르복시기, 수산기 등을 들 수 있다.

그 아실기는 -COR⁹⁸ 로 나타내고, R⁹⁸ 은, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알콕시기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알케닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알키닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 복소 고리기를 나타낸다. 그 알킬기 및 그 알콕시기는, 각각, 탄소수가 통상 1 이상, 통상 8 이하, 바람직하게는 4 이하이다. 그 알케닐기 및 그 알키닐기는, 각각, 탄소수가 통상 2 이상, 통상 18 이하, 바람직하게는 12 이하, 더욱 바람직하게는 8 이하이다. 그 페닐기는, 탄소수가 통상 6 이상, 통상 18 이하, 바람직하게는 15 이하, 더욱 바람직하게는 9 이하이다. 그 방향족 복소 고리기는, 탄소수가 통상 3 이상, 통상 10 이하, 더욱 바람직하게는 6 이하이고, 구체적으로는, 치환기를 갖고 있어도 되는 피리딜기 등을 들 수 있다. 그 알킬기, 그 알콕시기, 그 알케닐기, 그 알키닐기, 그 페닐기 및 그 방향족 복소 고리기에 치환되어 있어도 되는 기로는, 수산기, 술포기, 카르복시기, 할로겐 원자, 니트로기, 치환되어 있어도 되는 알킬기, 치환되어 있어도 되는 알콕시기, 치환되어 있어도 되는 아미노기, 및 치환되어 있어도 되는 페닐기 등을 들 수 있다.

X² 의 치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기의 구체예로는, 아미노기, 메틸아미노기, 에틸아미노기, 벤질아미노기, 4-카르복시벤질아미노기, 페닐아미노기, 4-술포페닐아미노기, 아세틸아미노기, 벤조일아미노기, 아크릴로일아미노기, 크로토노일아미노기, 3-카르복시-아크릴로일아미노기, 신나모일아미노기 등을 들 수 있다.

X² 로는, 2색성의 관점에서는, 분자 길이가 긴 상기 식 (1-a) 로 나타내는 기가 바람직하다.

<m>

m 은 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다. 단, 상기 X² 가 수소 원자, 니트로기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기일 때, m 은 0 이 아니다.

목적으로 하는 색조에 따라 바람직한 m 의 값은 달라지지만, 주로 단파장 영역에 흡수를 갖는 화합물로는, m 은 바람직하게는 0 ∼ 2 이고, 더욱 바람직하게는 0 ∼ 1 이다.

상기 X² 가 수소 원자, 니트로기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기일 때, m 은 0 이 아닌데, 이것은, 유리산의 형태가 식 (1) 로 나타내는 화합물이 가시광 파장 영역에 흡수를 갖는 데에는, 분자 중에 1 이상의 아조기가 필요하기 때문이다.

<n>

n 은, 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다. 목적으로 하는 색조에 따라 바람직한 n 의 값은 달라지지만, 주로 단파장 영역에 흡수를 갖는 화합물로는, n 은 바람직하게는 0 ∼ 1 이다.

<p, k>

p 및 k 는 각각 독립적으로 0 또는 1 을 나타내지만, p 및 k 가 모두 0 이 되는 일은 없다. p 및 k 는, 물에 대한 용해도의 관점에서, 모두 1 인 것이 바람직하다.

<분자량>

유리산의 형태가 식 (1) 로 나타내는 본 발명의 이방성 막용 화합물의 분자량으로는, 유리산의 형태로, 500 이상이 바람직하고, 또, 1500 이하가 바람직하고, 1300 이하가 보다 바람직하고, 1200 이하가 특히 바람직하다.

<수용성>

본 발명의 이방성 막용 화합물은, 통상적으로 수용성의 화합물이다.

<염형에 대해>

본 발명의 이방성 막용 화합물은, 유리산의 형태 (유리산형) 인 채로 사용해도 되고, 산기의 일부가 염형을 취하고 있는 것이어도 된다. 또, 염형의 화합물과 유리산형의 화합물이 혼재하고 있어도 된다. 또, 제조시에 염형으로 얻어진 경우에는 그대로 사용해도 되고, 원하는 염형으로 변환해도 된다. 염형의 교환 방법으로는, 공지된 방법을 임의로 사용할 수 있고, 예를 들어 이하의 방법을 들 수 있다.

1) 염형으로 얻어진 화합물의 수용액에 염산 등의 강산을 첨가하고, 화합물을 유리산의 형태로 산석 (酸析) 시킨 후, 원하는 카운터 이온을 갖는 알칼리 용액 (예를 들어 수산화나트륨 수용액, 수산화리튬 수용액) 으로 화합물의 산성기를 중화시켜 염 교환하는 방법.

2) 염형으로 얻어진 화합물의 수용액에, 원하는 카운터 이온을 갖는 대과잉의 중성염 (예를 들어 염화나트륨, 염화리튬) 을 첨가하고, 염석 케이크 형태로 염 교환을 실시하는 방법.

3) 염형으로 얻어진 화합물의 수용액을 강산성 양이온 교환 수지로 처리하고, 화합물을 유리산의 형태로 산석시킨 후, 원하는 카운터 이온을 갖는 알칼리 용액 (예를 들어 수산화나트륨 수용액, 수산화리튬 수용액) 으로 화합물의 산성기를 중화시켜 염 교환하는 방법,

4) 미리 원하는 카운터 이온을 갖는 알칼리 용액 (예를 들어 수산화나트륨 수용액, 수산화리튬 수용액) 으로 처리한 강산성 양이온 교환 수지에, 염형으로 얻어진 화합물의 수용액을 작용시켜, 염 교환을 실시하는 방법.

본 발명의 이방성 막용 화합물의 산성기가 유리산형을 취할지, 염형을 취할지는, 화합물의 pKa 와 화합물 용액의 pH 에 따라 다르다. 그 때문에, 본 발명의 이방성 막용 화합물의 산성기는, 유리산형, 어느 염형, 산성기가 2 개 이상 있는 경우에는 유리산형와 염형의 혼합 또는 2 종류 이상의 염형의 혼합 등, 다양한 형태를 취할 수 있다. 특히, 이방성 막 중에서의 아조 화합물의 산성기는, 후술하는 이방성 막용 조성물의 바람직한 pH 나 이방성 막용 화합물을 함유한 기재의 해리성의 염을 함유하는 용액에서의 처리의 영향을 받아, 이방성 막을 제조하는 공정에서 사용한 것과는 상이한 염형을 하고 있는 경우도 있을 수 있다.

상기의 염형의 예로는, Na, Li, K 등의 알칼리 금속의 염, 알킬기 혹은 히드록시알킬기로 치환되어 있어도 되는 암모늄의 염, 또는 유기 아민의 염을 들 수 있다.

유기 아민의 예로서, 탄소수 1 ∼ 6 의 저급 알킬아민, 히드록시 치환된 탄소수 1 ∼ 6 의 저급 알킬아민, 카르복시 치환된 탄소수 1 ∼ 6 의 저급 알킬아민 등을 들 수 있다.

이들 염형의 경우, 그 종류는 1 종류에 한정되지 않고 복수종 혼재하고 있어도 된다. 또, 화합물의 1 분자 중에 복수종 혼재해도 되고, 조성물 중에 복수종 혼재하고 있어도 된다.

본 발명의 이방성 막용 화합물의 산성기의 바람직한 형으로는, 화합물의 제조 공정, 후술하는 이방성 막용 조성물의 내용이나 바람직한 pH 등에 따라 다르지만, 물에 대해 고용해도가 필요한 경우 (예를 들어, 기재에 대한 화합물 이행능을 높이기 위해, 이방성 막용 조성물 중에 있어서 높은 화합물 농도가 필요한 경우 등) 에는, 리튬염, 트리에틸아민염, 수용성기가 치환된 유기 아민염 또는 이들 염을 1 이상 갖는 것이 바람직하다. 한편, 물에 대해 저용해도가 필요한 경우 (예를 들어, 화합물 제조 공정에 있어서 화합물 용액으로부터 그 화합물을 석출시키고자 하는 경우 등) 에는, 유리산의 형태, 나트륨염, 칼륨염, 칼슘염 등의 알칼리토금속염 또는 이들 염을 1 이상 갖는 것이 바람직하다.

유리산의 형태가 상기 식 (1) 로 나타내는 이방성 막용 화합물의 구체예로는, 후기 식 (2) ∼ (8) 에 기재된 이방성 막용 화합물의 구체예를 들 수 있지만, 그 외에도 예를 들어 이하와 같은 이방성 막용 화합물을 들 수 있다.

[화학식 10]

1-2. 식 (2) 및 식 (3) 으로 나타내는 화합물

유리산의 형태가 상기 식 (1) 로 나타내는 이방성 막용 화합물 중에서도, 유리산의 형태가 하기 식 (2) 로 나타내는 이방성 막용 화합물이 바람직하다.

[화학식 11]

〔식 (2) 중, Ar², B¹, L¹, X¹, k, n 및 p 는 각각 상기 식 (1) 에 있어서와 동일한 의미이다.〕

유리산의 형태가 상기 식 (2) 로 나타내는 이방성 막용 화합물 중에서도, 추가로 유리산의 형태가 하기 식 (3) 으로 나타내는 이방성 막용 화합물이 바람직하다.

[화학식 12]

〔식 (3) 중, Ar², B¹, L¹, X¹ 및 n 은, 각각 상기 식 (2) 에 있어서와 동일한 의미이다.〕

유리산의 형태가 상기 식 (2) 또는 (3) 으로 나타내는 이방성 막용 화합물 중에서도, 유리산의 형태가 하기 식 (3-I) 로 나타내는 이방성 막용 화합물이 바람직하다.

[화학식 13]

〔식 (3-Ⅰ) 중, X¹, B¹, Ar² 및 n 은 상기 식 (3) 에 있어서와 동일한 의미이다.〕

또, 유리산의 형태가 하기 식 (3-Ⅱ) 로 나타내는 이방성 막용 화합물도 바람직하다.

[화학식 14]

〔식 (3-Ⅱ) 중, X³² 는 수소 원자 또는 유기기를 나타낸다. B³² 는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐렌기, 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸렌기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 복소 고리기를 나타낸다. X¹, Ar² 및 n 은 상기 식 (3-I) 에 있어서와 동일한 의미이다.〕

<X³²>

X³² 는 수소 원자 또는 유기기를 나타내고, 그 구체예 및 바람직한 예는, 전술한 X¹ 의 구체예 및 바람직한 예로서 열거한 것과 동일하다. X³² 는 X¹ 과 동일해도 되고, 상이해도 되지만, 합성 용이함의 관점에서는, 동일한 것이 바람직하다.

<B³²>

B³² 는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐렌기, 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸렌기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 복소 고리기를 나타내고, 그 구체예 및 바람직한 예, 그리고 B³² 의 페닐렌기, 나프틸렌기, 복소 고리기가 갖고 있어도 되는 치환기의 구체예 및 바람직한 예는, 전술한 Ar¹ 및 Ar² 에 있어서와 동일하다.

유리산의 형태가 상기 식 (2) 또는 (3) 으로 나타내는 이방성 막용 화합물의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다. 또한, 이하의 구체예는, 유리산의 형태로 기재한다.

[화학식 15]

[화학식 16]

[화학식 17]

[화학식 18]

[화학식 19]

[화학식 20]

[화학식 21]

[화학식 22]

[화학식 23]

[화학식 24]

1-3. 식 (4), 식 (5) 및 식 (6) 으로 나타내는 화합물

유리산의 형태가 상기 식 (1) 로 나타내는 이방성 막용 화합물 중에서, 유리산의 형태가 하기 식 (4) 로 나타내는 이방성 막용 화합물도 바람직하게 사용된다.

[화학식 25]

〔식 (4) 중, Ar¹, Ar², B¹, L¹, X¹, k, n 및 p 는 각각 상기 식 (1) 에 있어서와 동일한 의미이다.〕

유리산의 형태가 상기 식 (4) 로 나타내는 이방성 막용 화합물 중에서도, 유리산의 형태가 하기 식 (4-I) 로 나타내는 이방성 막용 화합물이 바람직하다.

[화학식 26]

〔식 (4-I) 중, X¹, Ar¹, Ar², B¹ 및 n 은 상기 식 (4) 에 있어서와 동일한 의미이다.〕

유리산의 형태가 상기 식 (4) 로 나타내는 이방성 막용 화합물 중에서도, 유리산의 형태가 하기 식 (5) 로 나타내는 이방성 막용 화합물도 바람직하다.

[화학식 27]

〔식 (5) 중, B¹² 는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐렌기, 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸렌기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 복소 고리기를 나타낸다.

L² 는 -(CH=CH)r'- 기 또는 -(C≡C)s'- 기를 나타낸다. r' 및 s' 는 각각 독립적으로 1 ∼ 5 의 정수를 나타낸다.

X³ 은 수소 원자 또는 유기기를 나타낸다.

Ar¹, L¹, X¹, p 및 k 는 각각 상기 식 (4) 에 있어서와 동일한 의미이다.〕

<L²>

식 (5) 에 있어서, L² 는, -(CH=CH)r'- 기 또는 -(C≡C)s'- 기를 나타내고, r' 및 s' 는, 각각 독립적으로 1 ∼ 5 의 정수를 나타낸다. 이들의 구체예 및 바람직한 예로는, 상기 L¹ 의 구체예 및 바람직한 예로서 열거한 것과 동일하다.

<B¹²>

식 (5) 에 있어서, B¹² 는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐렌기, 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸렌기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 복소 고리기를 나타낸다. 이들의 구체예 및 바람직한 예로는, 상기 Ar¹ 및 Ar² 의 구체예 및 바람직한 예로서 열거한 것과 동일하다.

<X³>

식 (5) 에 있어서, X³ 은 수소 원자 또는 유기기를 나타낸다. X³ 의 구체예 및 바람직한 예로는, 상기 X¹ 의 구체예 및 바람직한 예로서 열거한 것과 동일하다.

유리산의 형태가 상기 식 (5) 로 나타내는 이방성 막용 화합물 중에서도, 유리산의 형태가 하기 식 (6) 으로 나타내는 이방성 막용 화합물이 바람직하다.

[화학식 28]

〔식 (6) 중, Ar¹¹ 은 치환기를 갖고 있어도 되는 1,4-페닐렌기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 1,4-나프틸렌기를 나타낸다.

B¹³ 은 치환기를 갖고 있어도 되는 1,4-페닐렌기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 1,4-나프틸렌기를 나타낸다.

X¹ 및 X³ 은 각각 상기 식 (5) 에 있어서와 동일한 의미이다.〕

<Ar¹¹>

식 (6) 에 있어서, Ar¹¹ 은 치환기를 갖고 있어도 되는 1,4-페닐렌기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 1,4-나프틸렌기를 나타낸다. Ar¹¹ 의 바람직한 치환기의 예는, Ar¹ 에 있어서의 치환기를 갖고 있어도 되는 1,4-페닐렌기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 1,4-나프틸렌기의 경우와 동일하다.

<B¹³>

식 (6) 에 있어서, B¹³ 은 치환기를 갖고 있어도 되는 1,4-페닐렌기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 1,4-나프틸렌기를 나타낸다. B¹³ 의 바람직한 치환기의 예는, Ar² 에 있어서의 치환기를 갖고 있어도 되는 1,4-페닐렌기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 1,4-나프틸렌기의 경우와 동일하다.

유리산의 형태가 상기 식 (4), 식 (5) 또는 식 (6) 으로 나타내는 이방성 막용 화합물의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다. 또한, 이하의 구체예는, 유리산의 형태로 기재한다.

[화학식 29]

[화학식 30]

[화학식 31]

[화학식 32]

[화학식 33]

[화학식 34]

[화학식 35]

[화학식 36]

1-4. 식 (7) 및 식 (8) 로 나타내는 화합물

유리산의 형태가 상기 식 (1) 로 나타내는 이방성 막용 화합물 중에서, 유리산의 형태가 하기 식 (7) 로 나타내는 이방성 막용 화합물도 바람직하게 사용된다.

[화학식 37]

〔식 (7) 중, X¹² 는 수소 원자, 니트로기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기를 나타낸다.

A¹ 및 A² 는 각각 독립적으로 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐렌기, 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸렌기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 복소 고리기를 나타낸다.

j 는 0 ∼ 2 의 정수를 나타낸다.

L¹, X¹, k 및 p 는 각각 상기 식 (1) 에 있어서와 동일한 의미이다.〕

<X¹²>

식 (7) 에 있어서, X¹² 는 수소 원자, 니트로기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기를 나타낸다.

치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기는, 통상적으로 -NH₂, -NHR⁵¹, -NR⁵²R⁵³ 으로 나타내고, R⁵¹ ∼ R⁵³ 은 각각 독립적으로 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아실기를 나타낸다.

그 알킬기는, 탄소수가 통상 1 이상, 통상 4 이하, 바람직하게는 2 이하이다.

그 아실기는, -COR⁵⁴ 로 나타내고, R⁵⁴ 는 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알콕시기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기를 나타낸다. R⁵⁴ 로서의 그 알킬기 및 그 알콕시기는, 각각, 탄소수가 통상 1 이상, 통상 4 이하, 바람직하게는 2 이하이다. R⁵⁴ 로서의 그 알킬기, 그 알콕시기 및 그 페닐기에 치환되어 있어도 되는 기로는, 알콕시기 (통상적으로 탄소수 1 ∼ 4), 수산기, 술포기, 카르복시기, 아미노기 (구체적으로는 상기 -NH₂, -NHR⁵¹, -NR⁵²R⁵³ 으로 나타내는 아미노기) 및 할로겐 원자 등을 들 수 있다.

상기 R⁵¹ ∼ R⁵³ 의 알킬기, 페닐기 또는 아실기에 치환되어 있어도 되는 기로는, 알콕시기, 수산기, 술포기, 카르복시기 및 할로겐 원자 등을 들 수 있다.

X¹² 로는, 특히, 수소 원자, 니트로기, 아미노기, 아세틸아미노기, 벤젠 고리에 치환기를 갖고 있어도 되는 벤조일아미노기가 바람직하다.

<A¹ 및 A²>

식 (7) 에 있어서, A¹ 및 A² 는, 각각 독립적으로 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐렌기, 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸렌기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 복소 고리기를 나타낸다.

A¹ 및 A² 의 구체예 및 바람직한 예는, 전술한 Ar¹ 및 Ar² 의 구체예 및 바람직한 예로서 열거한 것과 동일하다.

<j>

식 (7) 에 있어서, j 는 0 ∼ 2 의 정수를 나타낸다. 목적으로 하는 색조에 따라 바람직한 j 의 값은 다르지만, 주로 단파장 영역에 흡수를 갖는 화합물로는, j 는 바람직하게는 0 ∼ 1 이다.

유리산의 형태가 상기 식 (7) 로 나타내는 이방성 막용 화합물 중에서도, 유리산의 형태가 하기 식 (8) 로 나타내는 이방성 막용 화합물이 바람직하다.

[화학식 38]

〔식 (8) 중, X¹, X¹², A¹, A², L¹ 및 j 는 각각 상기 식 (7) 에 있어서와 동일한 의미이다.〕

유리산의 형태가 상기 식 (8) 로 나타내는 이방성 막용 화합물 중에서도, 유리산의 형태가 하기 식 (8-I) 로 나타내는 이방성 막용 화합물이 바람직하다.

[화학식 39]

〔식 (8-I) 중, X¹², A¹, A², X¹ 및 j 는 상기 식 (8) 에 있어서와 동일한 의미이다.〕

유리산의 형태가 상기 식 (7) 또는 식 (8) 로 나타내는 이방성 막용 화합물의 구체예를 이하에 나타내지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다. 또한, 이하의 구체예는, 유리산의 형태로 기재한다.

[화학식 40]

[화학식 41]

[화학식 42]

[화학식 43]

2. 식 (9) 로 나타내는 화합물

본 발명의 화합물은 유리산의 형태가 하기 식 (9) 로 나타내는 신규 화합물로, 이방성 막용 화합물로서의 용도에 바람직하다.

[화학식 44]

h 는 1 ∼ 5 의 정수를 나타낸다.

t 는 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.

[화학식 45]

u 는 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.)〕

<Ar²¹ 및 Ar²²>

Ar²¹ 및 식 (9-a) 에 있어서의 Ar²² 는, 각각 독립적으로 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐렌기, 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸렌기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 복소 고리기를 나타내고, 그 구체예 및 바람직한 예, 그리고, Ar²¹ 및 Ar²² 의 페닐렌기, 나프틸렌기, 복소 고리기가 갖고 있어도 되는 치환기의 구체예 및 바람직한 예는, 각각 독립적으로 전술한 Ar¹ 및 Ar² 에 있어서와 동일하다.

<B²²>

식 (9-a) 에 있어서의 B²² 는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 복소 고리기를 나타내고, 그 구체예 및 바람직한 예, 그리고, B²² 의 페닐기, 나프틸기, 복소 고리기가 갖고 있어도 되는 치환기의 구체예 및 바람직한 예, 치환기의 수나 치환기의 위치는 전술한 B¹ 에 있어서와 동일하다.

<R²¹>

R²¹ 은 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기, 카르복실기 또는 수소 원자를 나타내고, 이 중, 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬기의 구체예 및 바람직한 예, 그리고, R²¹ 의 페닐기, 알킬기가 갖고 있어도 되는 치환기의 구체예 및 바람직한 예는, 전술한 X¹ 에 있어서와 동일하다.

<X²²>

X²² 는 수소 원자, 니트로기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기, 또는 하기 식 (9-a) 로 나타내는 기를 나타낸다.

[화학식 46]

X²² 의 구체예 및 바람직한 예, 그리고 X²² 의 치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기의 구체예 및 바람직한 예, 그리고, 아미노기가 갖고 있어도 되는 치환기의 구체예 및 바람직한 예는, 상기 X² 의 치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기에 있어서와 동일하다.

<t>

t 는 O ∼ 3 의 정수를 나타낸다. 단, 상기 X²² 가 수소 원자, 니트로기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기일 때, t 는 0 이 아니다.

목적으로 하는 색조에 따라 바람직한 t 의 값은 달라지지만, 주로 단파장 영역에 흡수를 갖는 화합물로는, t 는 바람직하게는 0 ∼ 2 이고, 더욱 바람직하게는, 0 ∼ 1 이다.

상기 X²² 가 수소 원자, 니트로기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기일 때, t 는 0 이 아니지만, 이것은, 유리산의 형태가 식 (9) 로 나타내는 화합물이 가시광 파장 영역에 흡수를 갖는 데에는, 분자 중에 1 이상의 아조기가 필요하기 때문이다.

<u>

u 는, 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다. 목적으로 하는 색조에 따라 바람직한 u 의 값은 달라지지만, 주로 단파장 영역에 흡수를 갖는 화합물로는, u 는 바람직하게는 0 ∼ 1 이다.

<h>

h 는 1 ∼ 5 의 정수를 나타낸다. h 는 바람직하게는 1 ∼ 3, 더욱 바람직하게는 1 ∼ 2 이다.

상기한 h 와 R²¹ 의 조합 중에서도, h 가 1 이고, R²¹ 이 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기인 것이, 2색성 및 화합물 안정성의 관점에서 바람직하고, R²¹ 은 페닐기인 것이 더욱 바람직하다. 또 수용성의 관점에서는, h 가 1 이고, R²¹ 이 카르복시기인 것이 바람직하다.

<X² 와 t 의 바람직한 조합>

유리산의 형태가 상기 식 (9) 로 나타내는 화합물 중에서도, X² 및 t 가 다음의 조합인 화합물이 바람직하다.

(Ⅰ) t 가 0 이고, X²² 가 상기 식 (9-a) 로 나타내는 기인 화합물이 바람직하다. 이 경우, h 가 1 인 것이 바람직하다. R²¹ 은 카르복시기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기인 것이 바람직하고, 카르복시기 또는 비치환의 페닐기인 것이 특히 바람직하다.

(Ⅱ) t 가 1 이고, X²² 가 상기 식 (9-a) 로 나타내는 기인 화합물이 바람직하다. 이 경우, h 가 1 인 것이 바람직하다. R²¹ 은 카르복시기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기인 것이 바람직하고, 카르복시기 또는 비치환의 페닐기인 것이 특히 바람직하다.

(Ⅲ) t 가 1 ∼ 3 이고, X²² 가 수소 원자, 니트로기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기인 화합물이 바람직하다. 이 경우, h 가 1 인 것이 바람직하다. X²² 는, 분자 직선성의 관점에서, 니트로기, 아미노기, 벤조일아미노기, 아세틸아미노기 또는 4-페닐벤조일아미노기인 것이 바람직하다.

<분자량>

유리산의 형태가 상기 식 (9) 로 나타내는 본 발명의 화합물의 분자량으로는, 유리산의 형태이고, 500 이상, 또, 1500 이하가 바람직하고, 1300 이하가 보다 바람직하고, 1200 이하가 특히 바람직하다.

<수용성>

유리산의 형태가 상기 식 (9) 로 나타내는 본 발명의 화합물은, 통상적으로 수용성 화합물이다.

<염형에 대해>

유리산의 형태가 상기 식 (9) 로 나타내는 본 발명의 화합물은, 유리산의 형태 (유리산형) 인 채로 사용해도 되고, 산기의 일부가 염형을 취하고 있는 것이어도 된다. 또, 염형의 화합물과 유리산형의 화합물이 혼재하고 있어도 된다. 또, 제조시에 염형으로 얻어진 경우에는 그대로 사용해도 되고, 원하는 염형으로 변환해도 된다. 염형의 교환 방법으로는, 염의 종류, 그 바람직한 예 등에 대해서는, 전술한 본 발명의 이방성 막용 화합물에 있어서의 염형에 대한 기재와 같다.

<구체예>

유리산의 형태가 상기 식 (9) 로 나타내는 본 발명의 화합물의 구체예로는, 유리산의 형태가 상기 식 (1) 내지 (8) 로 나타내는 이방성 막용 화합물의 구체예로서 예시한 것 중, 식 (9) 의 조건을 만족하는 것을 들 수 있지만, 조금도 이들에 한정되는 것은 아니다.

3. 화합물의 합성 방법

유리산의 형태가 상기 식 (1) ∼ (8) 로 나타내는 본 발명의 이방성 막용 화합물, 및 유리산의 형태가 상기 식 (9) 로 나타내는 본 발명의 화합물은, 그 자체의 주지된 방법에 따라 제조할 수 있다.

3-1. 식 (2) 및 식 (3) 으로 나타내는 화합물의 합성 방법

예를 들어, 유리산의 형태가 상기 (2-1) 로 나타내는 화합물은, 하기 〈1〉∼ 〈3〉의 공정에 따라 제조할 수 있다.

〈1〉4-아미노-4'-니트로스틸벤-2,2'-디술폰산나트륨을 N-메틸-2-피롤리돈에 실온에서 용해시키고, 신남산클로라이드와 탄산나트륨을 첨가, 실온에서 2 시간 아실화를 실시한다. 반응 종료 후, 물에 배출하여, 염석에 의해 아실화물을 꺼낸다.

〈2〉얻어진 아실화물을 물에 용해시키고, 60 ∼ 70℃ 로 승온, 수황화나트륨을 첨가하여, 환원 반응을 실시한다. 반응 종료 후, 실온까지 강온하여, 염석에 의해 환원된 화합물을 꺼낸다.

〈3〉얻어진 화합물을 통상적인 방법 {예를 들어 호소다 유타카 저 「신염료 화학」(1973 년 12 월 21 일, 기호도 발행) 396 페이지 ∼ 409 페이지 참조} 에 따라 디아조화하고, 페놀에 커플링시킴으로써 유리산의 형태가 상기 (2-1) 로 나타나는 화합물을 나트륨염으로서 얻는다.

또한, 유리산의 형태가 상기 식 (9) 로 나타내는 본 발명의 화합물에 대해서도, 동일한 방법으로 합성할 수 있다.

3-2. 식 (4), 식 (5) 및 식 (6) 으로 나타내는 화합물의 합성 방법

예를 들어, 하기 식 (4-4a) 로 나타내는 화합물은, 하기 (A), (B) 의 공정으로 제조할 수 있다.

[화학식 47]

(A) 4,4'-디아미노스틸벤-2,2'-디술폰산을, 통상적인 방법 {예를 들어, 호소다 유타카 저 「신염료 화학」(1973 년 12 월 21 일, 기호도 발행) 396 페이지 ∼ 409 페이지 참조} 에 따라 테트라조화하고, 8-아미노나프탈렌-2-술폰산(1,7-클리브산) 과 산성 조건하에서 커플링을 실시한 후, 수산화나트륨 수용액으로 중화시킴으로써, 하기 식 (4-4b) 로 나타내는 화합물을 얻는다.

[화학식 48]

(B) 상기 화합물 (4-4b) 와 신남산클로라이드를, N-메틸-2-피롤리돈 중, 탄산나트륨의 존재하에서 반응시킴으로써, 목적하는 상기 식 (4-4a) 로 나타내는 화합물을 얻는다.

3-3. 식 (7) 및 식 (8) 로 나타내는 화합물의 합성 방법

예를 들어, 유리산의 형태가 상기 식 (7-1) 로 나타내는 화합물은, 하기의 (i) ∼ (iv) 의 공정으로 제조할 수 있다.

(i) 4-아미노-4'-니트로스틸벤-2,2'-디술폰산을, 통상적인 방법 {예를 들어, 호소다 유타카 저 「신염료 화학」1973 년 12 월 21 일, 기호도 발행, p.396 ∼ p.409 참조} 에 따라 디아조화하고, 아닐린-ω-메탄술폰산과 커플링 반응을 실시한다.

(ⅱ) 다음으로, 가성 소다를 첨가하고, 60 ∼ 70℃ 에서 가수 분해 반응을 실시한다. 그 후, 반응액을 염석 여과하여 모노아조 화합물을 얻는다.

(ⅲ) 얻어진 모노아조 화합물을 N-메틸-2-피롤리돈에 분산하고, 탈산제로서 탄산나트륨을 첨가하여 70 ∼ 80℃ 로 승온시키고, 신남산클로라이드를 첨가하여 아실화를 실시한다.

(iv) 반응 종료 후, 물에 배출하고, 염석 여과함으로써 유리산의 형태가 상기 식 (7-1) 로 나타내는 화합물을 나트륨염으로서 얻는다.

4. 이방성 막용 조성물

이방성 막을 제조할 때에, 이방성 막용 조성물을 사용할 수 있다.

이방성 막용 조성물은, 본 발명의 이방성 막용 화합물과 통상 추가로 용제를 함유하고, 본 발명의 화합물이 용제에 용해 혹은 분산된 것이다.

또한, 이방성 막용 조성물 중 또는 이하에 상세히 서술하는 이방성 막에 있어서, 본 발명의 이방성 막용 화합물은 1 종을 단독으로 사용할 수 있지만, 본 발명의 이방성 막용 화합물을 2 종 이상 조합하여 사용하거나, 요오드나 공지된 2색성 화합물 등의 다른 2색성 물질을 조합하여 사용할 수도 있다. 또 제조되는 이방성 막에 원하는 성능을 부여하거나 제조에 바람직한 조성물로 하기 위해서, 여러 가지 용제, 첨가제 등을 적절히 조합하여 사용할 수 있다. 또한 배향을 저하시키지 않을 정도로 자외선 흡수 화합물이나 근적외선 흡수 화합물 등의 다른 화합물과 혼합하여 사용할 수 있다. 이로써, 이방성 막의 내구성의 향상, 색상의 보정, 편광 성능의 향상을 도모함과 함께, 각종 색상을 갖는 이방성 막을 제조할 수 있다.

이방성 막용 조성물에 사용하는 용제로는, 물, 물 혼화성이 있는 유기 용제, 혹은 이들의 혼합물이 적합하다. 유기 용제의 구체예로는, 메틸알코올, 에틸알코올, 이소프로필알코올 등의 알코올류, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 글리세린 등의 다가 알코올류, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브 등의 셀로솔브류, N-메틸피롤리돈, N,N-디메틸포름아미드 등의 비프로톤성 용제 등의 단독 또는 2 종 이상의 혼합 용제를 들 수 있다.

이들 용제에 본 발명의 이방성 막용 화합물을 용해시키는 경우의 농도로는, 화합물의 용해성이나 회합 상태의 형성 농도에 따라서도 다르지만, 바람직하게는 0.001 중량% 이상, 보다 바람직하게는 0.01 중량% 이상, 바람직하게는 10 중량% 이하, 보다 바람직하게는 5 중량% 이하, 특히 바람직하게는 1 중량% 이하이다.

또, 이방성 막용 조성물은, 본 발명의 이방성 막용 화합물의 용해성 향상 등을 위해, 필요에 따라 계면 활성제 등의 첨가제를 첨가할 수 있다. 계면 활성제로는, 아니온계, 카티온계, 노니온계 모두 사용할 수 있다. 그 첨가 농도는 통상 0.01 중량% 이상, 10 중량% 이하가 바람직하다.

또한, 본 발명에 관련된 이방성 막용 조성물은, 기재에 대한 염착성 등의 향상을 위해 필요에 따라 첨가제를 사용할 수 있다. 구체적으로는, 아사하라 테루조 편저 「신염료 가공 강좌 제 7 권 염색 Ⅱ」 교리츠 출판 주식회사, 1972 년 6 월 15 일 발행, 233 페이지 내지 251 페이지나 야마시타 유우야, 네모토 요시로 공저 「고분자 활성제와 염색 보조제의 계면 화학」주식회사 세이분도 신코샤, 1963 년 9 월 5 일 발행, 94 페이지 내지 173 페이지 등에 기재된 섬유용 염색에 사용되는 염색 보조제, 및 그 수법이나 전술한 계면 활성제, 알코올류, 글리콜류, 우레아, 염화나트륨, 망초 등의 무기염 등이다. 그 첨가 농도는 통상 0.01 중량% 이상, 10 중량% 이하가 바람직하다.

5. 이방성 막

본 발명의 이방성 막용 화합물을 사용하여 이방성 막을 제조할 수 있다.

이 이방성 막은, 본 발명의 이방성 막용 화합물 외에, 필요에 따라 그 밖의 화합물, 예를 들어, 공지된 청색 2색성 염료, 요오드 등이나 상기와 같은 계면 활성제 등의 첨가제를 함유하고 있어도 된다. 물론, 본 발명의 이방성 막용 화합물로 나타내는 화합물끼리를 조합하여 함유하고 있어도 된다.

이방성 막의 제조 방법으로는, 다음의 (a) ∼ (d) 방법 등을 들 수 있다.

(a) 연신된 폴리비닐알코올 등의 고분자 기재를, 본 발명의 이방성 막용 화합물을 함유하는 용액 (이방성 막용 조성물) 등으로 염색하는 방법

(b) 폴리비닐알코올 등의 고분자 기재를, 본 발명의 이방성 막용 화합물을 함유하는 용액 (이방성 막용 조성물) 등으로 염색한 후, 연신하는 방법

(c) 폴리비닐알코올 등의 고분자 기재를, 본 발명의 이방성 막용 화합물을 함유하는 용액 (이방성 막용 조성물) 등의 용액에 용해시키고, 필름상으로 막 형성한 후에 연신하는 방법

(d) 본 발명의 이방성 막용 화합물을 적당한 용제에 용해시켜, 막 형성용 (이방성 막 형성용) 조성물을 조제하고, 이 막 형성용 조성물을 사용하여 유리판 등의 각종 기재 표면에 습식 막 형성법에 의해 막 형성하고, 조성물 중에 함유되는 이방성 막용 화합물을 배향·적층시키는 방법

본 발명에 있어서는 상기 (a) ∼ (d) 중 어느 것을 사용해도 되지만, (a) ∼ (c) 를 사용하는 것이 특히 바람직하다.

이하에, 본 발명의 이방성 막용 화합물을 사용하여 이방성 막을 제조하는 방법에 대해 설명하지만, 특히, 본 발명의 이방성 막용 화합물에 있어서 바람직하게 사용되는 상기 (a) ∼ (c) 방법에 의해 이방성 막을 제작하는 경우의 조성물에 대해 상세히 서술한다.

또한, 상기 (d) 방법에 의해 이방성 막을 제작하는 방법이나, 그 경우에 사용되는 조성물에 대해서는, 공지된 방법 및 조성물을 적절히 사용할 수 있지만, 예를 들어, 국제 공개 제2006/107035호 팜플렛 등에 기재된 방법 및 조성물 등을 들 수 있다.

본 발명의 이방성 막용 화합물을 사용하여, 이방성 막을 형성하는 경우, 예를 들어 상기 (a) ∼ (c) 중 어느 방법에 있어서도, 본 발명의 이방성 막용 화합물을 적당한 용제에 용해시켜 사용한다. 용제로는, 상기 이방성 막용 조성물에 함유되는 용제를 들 수 있다.

또한, 상기 (a), (b) 방법에 있어서의 본 발명의 이방성 막용 화합물을 함유하는 용액으로 염색하는 기재나, 상기 (c) 방법에 있어서 본 발명의 이방성 막용 화합물과 함께 연신되어 이루어지는 기재로는, 폴리비닐알코올계의 수지, 폴리아세트산비닐 수지, 에틸렌/아세트산비닐 (EVA) 수지, 나일론 수지, 폴리에스테르 수지 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 폴리비닐알코올 등, 본 발명의 이방성 막용 화합물과의 친화성이 높은 고분자 재료가 바람직하다.

폴리비닐알코올의 종류로는, 일반적으로 고분자량이며 또한 고비누화도인 것이, 편광도나 2색성 등의 광학 특성의 관점에서 바람직하지만, 온습도에 의한 수축에 따른 결함을 억제하는 것이나 광학 특성과 내(耐)환경 성능의 양립을 도모하는 것 등의 목적에서, 2색성 물질의 종류와 폴리비닐알코올의 비누화도나 변성도 (소수성 공중합 성분비) 를 적절히 조정한 폴리비닐알코올 유도체를 선택할 수 있다.

고분자 재료와 본 발명의 이방성 막용 화합물의 상호 작용을 제어하는 구체적 수법으로는, 고분자 재료와 본 발명의 이방성 막용 화합물의 각각에 프로톤 공여성의 -OH, -NH₂, -NHR, -NHCO-, -NHCONH- 등에 대해, 프로톤 수용성의 -N=N-, -OH, -NH₂, -NRR', -OR, -CN, -C≡C- 및 페닐기나 나프틸기 등의 방향 고리를 관능기로서 조합함으로써, 유효한 것으로 할 수 있다 (R 및 R' 는 임의의 치환기이다). 또한, 관능기의 밀도를 조정함으로써, 2색성이나 염착성의 향상에 효과가 얻어진다.

상기 (a) ∼ (c) 방법에 있어서의, 염색 및 막 형성 그리고 연신은, 일반적인 하기 방법에 의해 실시할 수 있다.

상기의 이방성 막용 조성물 및 필요에 따라 염화나트륨, 망초 등의 무기염, 계면 활성제 등의 염색 보조제를 첨가한 염욕 중에 통상 35℃ 이상, 통상 80℃ 이하에서, 통상 10 분 이하, 고분자 필름을 침지시켜 염색하고, 이어서 필요에 따라 붕산 처리하여 건조시킨다. 혹은, 고분자 중합체를 물 및/또는 알코올, 글리세린, 디메틸포름아미드 등의 친수성 유기 용매에 용해시키고, 본 발명에 관련된 이방성 막용 조성물을 첨가하여 원액 염색을 실시하고, 이 염색 원액을 유연(流延)법, 용액 도포법, 압출법 등에 의해 막 형성하여 염색 필름을 제조한다. 용매에 용해시키는 고분자 중합체의 농도로는, 고분자 중합체의 종류에 따라서도 다르지만, 통상 5 중량% 이상, 바람직하게는 10 중량% 이상 정도이고, 통상 30 중량% 이하, 바람직하게는 20 중량% 이하 정도이다. 또, 용매에 용해되는 본 발명의 이방성 막용 화합물의 농도로는, 고분자 중합체에 대해 통상 0.1 중량% 이상, 바람직하게는 0.8 중량% 이상 정도이고, 통상 5 중량% 이하, 바람직하게는 2.5 중량% 이하 정도이다.

상기와 같이 하여 염색 및 막 형성하여 얻어진 미연신 필름은, 적당한 방법에 의해 1 축 방향으로 연신한다. 연신 처리함으로써 본 발명의 이방성 막용 화합물 분자가 배향되어, 2색성이 발현된다. 1 축으로 연신하는 방법으로는, 습식법에 의해 인장 연신을 실시하는 방법, 건식법에 의해 인장 연신을 실시하는 방법, 건식법에 의해 롤간 압축 연신을 실시하는 방법 등이 있고, 어느 방법을 사용하여 실시해도 된다. 연신 배율은 2 배 이상, 9 배 이하로 실시되지만, 고분자 중합체로서 폴리비닐알코올 및 그 유도체를 사용한 경우에는 3 배 이상, 6 배 이하의 범위가 바람직하다.

연신 배향 처리한 후에, 그 연신 필름의 내구성 향상과 편광도 향상의 목적에서 붕산 처리를 실시한다. 붕산 처리에 의해, 이방성 막의 광선 투과율과 편광도가 향상된다. 붕산 처리의 조건으로는, 사용하는 친수성 고분자 중합체 및 본 발명의 이방성 막용 화합물의 종류에 따라 다르지만, 일반적으로는 붕산 농도로는, 통상 1 중량% 이상, 바람직하게는 5 중량% 이상 정도이고, 통상 15 중량% 이하, 바람직하게는 10 중량% 이하 정도이다. 또, 처리 온도로는 통상 30℃ 이상, 바람직하게는 50℃ 이상이고, 통상 80℃ 이하의 범위에 있는 것이 바람직하다. 붕산 농도가 1 중량% 미만이거나, 처리 온도가 30℃ 미만인 경우에는, 처리 효과가 작고, 또, 붕산 농도가 15 중량% 를 초과하거나, 처리 온도가 80℃ 이상을 초과하는 경우에는 이방성 막이 취약해지는 경우가 있다.

(a) ∼ (c) 방법에 의해 얻어지는 이방성 막의 막 두께는 통상 50 ㎛ 이상, 특히 80 ㎛ 이상이고, 200 ㎛ 이하가 바람직하고, 특히 100 ㎛ 이하인 것이 바람직하다.

본 발명의 이방성 막용 화합물은, 단파장 영역에 있어서의 2색성의 개량이 특히 우수한 효과를 나타내고, 또한 단파장 영역뿐만 아니라 흡수가 있는 영역 전체에 있어서 높은 2색성을 나타내는 것이다. 여기에서, 단파장 영역이란, 통상 380 ㎚ ∼ 500 ㎚ 부근의 영역을 가리키고, 본 발명의 이방성 막용 화합물은 이 영역에 있어서 흡수를 갖고, 높은 2색성을 발현하는 것을 하나의 특징으로 하고 있다. 단, 그 화합물은 보다 장파장 측에도 흡수를 갖고 있어도 되고, 또, 흡수의 극대치는 단파장 영역에 있어도 되며, 단파장 영역에 없어도 된다. 상기 영역에 흡수를 가지고, 높은 2색성을 발현하는 것이면, 바람직하게 사용할 수 있다.

본 발명의 이방성 막용 화합물을 함유하는 이방성 막은, 광 흡수의 이방성을 이용하고, 직선 편광, 원 편광, 타원 편광 등을 얻는 편광막으로서 기능하는 것 외에, 막 형성 프로세스와 기재나 본 발명의 이방성 막용 화합물을 함유하는 조성물의 선택에 의해, 굴절률 이방성이나 전도 이방성 등의 각종 이방성 막으로서 기능화가 가능해져, 여러 종류의, 다양한 용도에 적용할 수 있는 편광 소자로 할 수 있다.

그 이방성 막을 편광 소자로서 사용하는 경우, 상기 (a) ∼ (c) 로 대표되는 방법에 의해 제조된 이방성 막 그 자체를 사용해도 되고, 또 그 이방성 막 상에 보호층, 점착층, 반사 방지층, 위상차층 등, 여러 기능을 갖는 층을 적층 형성하여, 적층체로서 사용해도 된다.

본 발명의 이방성 막을 기판 상에 형성하여 편광 소자로서 사용하는 경우, 형성된 이방성 막 그 자체를 사용해도 되고, 또 상기와 같은 보호층 외, 점착층 혹은 반사 방지층, 배향막, 위상차 필름으로서의 기능, 휘도 향상 필름으로서의 기능, 반사 필름으로서의 기능, 반투과 반사 필름으로서의 기능, 확산 필름으로서의 기능 등의 광학 기능을 갖는 층 등, 여러 기능을 갖는 층을 습식 막 형성법 등에 의해 적층 형성하여, 적층체로서 사용해도 된다.

이들 광학 기능을 갖는 층은, 예를 들어 이하의 같은 방법에 의해 형성할 수 있다.

위상차 필름으로서의 기능을 갖는 층은, 예를 들어 일본 공개특허공보 평2-59703호, 일본 공개특허공보 평4-230704호 등에 기재된 연신 처리를 실시하거나, 일본 공개특허공보 평7-230007호 등에 기재된 처리를 실시하거나 함으로써 형성할 수 있다.

또, 휘도 향상 필름으로서의 기능을 갖는 층은, 예를 들어 일본 공개특허공보 2002-169025호나 일본 공개특허공보 2003-29030호에 기재된 방법에 의해 미세 구멍을 형성하는 것, 혹은, 선택 반사의 중심 파장이 상이한 2 층 이상의 콜레스테릭 액정층을 중첩함으로써 형성할 수 있다.

반사 필름 또는 반투과 반사 필름으로서의 기능을 갖는 층은, 증착이나 스퍼터링 등에 의해 얻어진 금속 박막을 사용하여 형성할 수 있다.

확산 필름으로서의 기능을 갖는 층은, 상기의 보호층에 미립자를 함유하는 수지 용액을 코팅함으로써 형성할 수 있다.

또, 위상차 필름이나 광학 보상 필름으로서의 기능을 갖는 층은, 디스코틱 액정성 화합물, 네마틱 액정성 화합물 등의 액정성 화합물을 도포하여 배향시킴으로써 형성할 수 있다.

본 발명의 이방성 막용 화합물을 사용한 이방성 막은, 광범위한 색 표현이 가능하고, 고내열성의 편광 소자를 얻을 수 있다는 점에서, 액정 디스플레이나 유기 EL 디스플레이뿐만 아니라 액정 프로젝터나 차재용 표시 패널 등, 고내열성이 요구되는 용도에도 바람직하게 사용할 수 있다.

실시예

다음으로, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 그 요지를 벗어나지 않는 한 이하의 실시예에 한정되는 것이 아니다.

또한, 이하의 실시예 중, 2색비는 프리즘 편광자를 입사 광학계에 배치된 분광 광도계로 이방성 막의 투과율을 측정한 후, 다음 식에 의해 계산하였다.

2색비 (D) = Az/Ay

Az = -log (Tz)

Ay = -log (Ty)

Tz : 이방성 막의 흡수 축 방향의 편광에 대한 투과율

Ty : 이방성 막의 편광 축 방향의 편광에 대한 투과율

[실시예 1]

4-아미노-4'-니트로스틸벤-2,2'-디술폰산2나트륨 8.9 중량부를 N-메틸피롤리돈 90 중량부에 용해시키고, 탄산나트륨 1.6 중량부, 및 신남산클로라이드 5.0 중량부를 첨가하여 60℃ 에서 30 분간 반응시켰다. 반응 종료 후, 물에 배출하여, 염석함으로써 발생된 침전을 여과 채취하였다. 이것을 물 115 중량부에 현탁시켜, 수황화 나트륨 (70% 제품) 2.4 중량부를 첨가하여 60℃ 에서 30 분 반응시켰다. 반응 종료 후, 염석에 의해 하기 식 (2-1a) 로 나타내는 화합물을 나트륨염으로서 얻었다.

[화학식 49]

상기 식 (2-1a) 로 나타내는 화합물의 나트륨염 5 중량부를 물 100 중량부에 용해시켰다. 염산 산성 조건하에 아질산나트륨 0.73 중량부를 첨가하여 디아조화하고, 페놀 0.94 중량부와 알카리성 조건하 커플링하여 염석함으로써, 목적으로 하는 하기 식 (2-1) 로 나타내는 화합물을 나트륨염으로서 얻었다.

이 화합물의 10 ppm 수용액 중의 극대 흡수 파장 (λmax) 은 386 ㎚ 이었다.

[화학식 50]

[실시예 2]

실시예 1 과 동일하게, 4-아미노-4'-니트로스틸벤-2,2'-디술폰산2나트륨을 신남산으로 아실화하고, 동일하게 수황화나트륨으로 환원 반응을 실시하여, 상기 식 (2-1a) 로 나타내는 화합물을 나트륨염으로서 얻었다. 이어서, 동일하게 디아조화 반응을 실시하고, o-크레졸 1.08 중량부와 알카리성 조건하에 커플링하여 염석함으로써, 목적으로 하는 하기 식 (2-2) 로 나타내는 화합물을 나트륨염으로서 얻었다.

이 화합물의 10 ppm 수용액 중의 극대 흡수 파장 (λmax) 은 389 ㎚ 이었다.

[화학식 51]

[실시예 3]

4-아미노-4'-니트로스틸벤-2,2'-디술폰산2나트륨 8.9 중량부를 물 90 중량부에 용해시켰다. 염산 산성 조건하에 아질산나트륨 1.5 중량부를 첨가하여 디아 조화하고, 페놀 1.9 중량부와 알칼리성 조건하 커플링하여 염석함으로써, 하기 식 (2-3a) 로 나타내는 화합물을 나트륨염으로서 얻었다.

[화학식 52]

상기 식 (2-3a) 로 나타내는 화합물의 나트륨염 5 중량부를 물 100 중량부 용해시켰다. 이어서 수산화나트륨 4 중량부와 디메틸황산 2 중량부를 첨가하여 90℃ 에서 6 시간 반응시켰다. 반응 종료 후 염석함으로써 발생된 침전을 여과 채취하였다. 이것을 물 100 중량부에 현탁시켜, 수황화나트륨 (70% 제품) 1.2 중량부를 첨가하여 60℃ 에서 30 분 반응시켰다. 반응 종료 후, 염석에 의해 하기 식 (2-3b) 로 나타내는 화합물을 나트륨염으로서 얻었다.

[화학식 53]

상기 식 (2-3b) 로 나타내는 화합물의 나트륨염 5.3 중량부를 N-메틸피롤리돈 50 중량부에 용해시키고, 탄산나트륨 0.6 중량부, 및 신남산클로라이드 2.5 중량부를 첨가하여 60℃ 에서 30 분간 반응시켰다. 반응 종료 후, 물에 배출하여 염석함으로써 발생된 침전을 여과 채취함으로써, 목적으로 하는 하기 식 (2-3) 으 로 나타내는 화합물을 나트륨염으로서 얻었다.

이 화합물의 10 ppm 수용액 중의 극대 흡수 파장 (λmax) 은 363 ㎚ 이었다.

[화학식 54]

[실시예 4]

4-아미노-4'-니트로스틸벤-2,2'-디술폰산2나트륨 8.9 중량부를 물 90 중량부에 용해시켰다. 염산 산성 조건하에 아질산나트륨 1.5 중량부를 첨가하여 디아조화하고, 아닐린-ω-메탄술폰산나트륨 4.2 중량부와 산성 조건하, 커플링하였다. 반응 종료 후, 수산화나트륨을 첨가하고, 60℃ 로 승온시켜, 강알카리성으로 가수 분해 반응을 실시하였다. 반응 종료 후, 염산으로 중성으로 한 후, 수황화나트륨 (70% 제품) 2.4 중량부를 첨가하여 60℃ 에서 30 분 반응시켰다. 반응 종료 후 염석함으로써, 하기 식 (2-6a) 로 나타내는 화합물을 나트륨염으로서 얻었다.

[화학식 55]

상기 식 (2-6a) 로 나타내는 화합물의 나트륨염 4.7 중량부를 N-메틸피롤리 돈 50 중량부에 용해시키고, 탄산나트륨 1.6 중량부, 및 신남산클로라이드 5.0 중량부를 첨가하여 60℃ 에서 30 분간 반응시켰다. 반응 종료 후, 물에 배출하여 염석함으로써 발생된 침전을 여과 채취함으로써, 목적으로 하는 하기 식 (2-6) 으로 나타내는 화합물을 나트륨염으로서 얻었다.

이 화합물의 10 ppm 수용액 중의 극대 흡수 파장 (λmax) 은 400 ㎚ 이었다.

[화학식 56]

[실시예 5]

4-아미노-4'-니트로스틸벤-2,2'-디술폰산2나트륨 8.9 중량부를 실시예 4 와 동일하게 디아조화하고, m-톨루이딘 2.2 중량부와 산성 조건하, 커플링하였다. 반응 종료 후, 이것을 물 150 중량부에 현탁시켜, 수황화나트륨 (70% 제품) 2.4 중량부를 첨가하여 60℃ 에서 30 분 반응시켰다. 반응 종료 후 염석함으로써, 하기 식 (2-60a) 로 나타내는 화합물을 나트륨염으로서 얻었다.

[화학식 57]

상기 식 (2-60a) 로 나타내는 화합물의 나트륨염 4.9 중량부를 N-메틸피롤리돈 50 중량부에 용해시키고, 탄산나트륨 1.6 중량부, 신남산클로라이드 5.0 중량부를 첨가하여 60℃ 에서 30 분간 반응시켰다. 반응 종료 후, 물에 배출하여 염석함으로써 발생된 침전을 여과 채취함으로써, 목적으로 하는 하기 식 (2-60) 으로 나타내는 화합물을 나트륨염으로서 얻었다.

이 화합물의 10 ppm 수용액 중의 극대 흡수 파장 (λmax) 은 407 ㎚ 이었다.

[화학식 58]

[실시예 6]

4-아미노-4'-니트로스틸벤-2,2'-디술폰산2나트륨 8.9 중량부를 실시예 4 와 동일하게 디아조화하고, 1-아미노나프탈렌-8-술폰산 (페리산) 4.5 중량부와 산성 조건하, 커플링하였다. 반응 종료 후, 염석에 의해 화합물을 취출하였다. 이것을 물 250 중량부에 현탁시켜, 수황화나트륨 (70% 제품) 2.4 중량부를 첨가하여 60℃ 에서 30 분 반응시켰다. 반응 종료 후 염석함으로써, 하기 식 (2-25a) 로 나타내는 화합물을 나트륨염으로서 얻었다.

[화학식 59]

상기 식 (2-25a) 로 나타내는 화합물의 나트륨염 6.3 중량부를 N-메틸피롤리돈 80 중량부에 용해시키고, 탄산나트륨 1.6 중량부, 및 신남산클로라이드 5.0 중량부를 첨가하여 60℃ 에서 1 시간 반응시켰다. 반응 종료 후, 물에 배출하여 염석함으로써 발생된 침전을 여과 채취함으로써, 목적으로 하는 하기 식 (2-25) 로 나타내는 화합물을 나트륨염으로서 얻었다.

이 화합물의 10 ppm 수용액 중의 극대 흡수 파장 (λmax) 은 420 ㎚ 이었다.

[화학식 60]

[실시예 7]

4-아미노-4'-니트로스틸벤-2,2'-디술폰산2나트륨 8.9 중량부를 실시예 4 와 동일하게 디아조화하고, 8-아미노-2-나프탈렌술폰산 (1,7-클리브산) 4.5 중량부와 산성 조건하, 커플링하였다. 반응 종료 후, 염석에 의해 화합물을 취출하였다. 이것을 물 250 중량부에 현탁시켜, 수황화나트륨 (70% 제품) 2.4 중량부를 첨가하여 60℃ 에서 1 시간 반응시켰다. 반응 종료 후 염석함으로써, 하기 식 (2-26a) 로 나타내는 화합물을 나트륨염으로서 얻었다.

[화학식 61]

상기 식 (2-26a) 로 나타내는 화합물의 나트륨염 6.3 중량부를 N-메틸피롤리돈 80 중량부에 용해시키고, 탄산나트륨 1.6 중량부, 및 신남산클로라이드 5.0 중량부를 첨가하여 60℃ 에서 1 시간 반응시켰다. 반응 종료 후, 물에 배출하여 염석함으로써 발생된 침전을 여과 채취함으로써, 목적으로 하는 하기 식 (2-26) 으로 나타내는 화합물을 나트륨염으로서 얻었다.

이 화합물의 10 ppm 수용액 중의 극대 흡수 파장 (λmax) 은 415 ㎚ 이었다.

[화학식 62]

[실시예 8]

4-아미노-4'-니트로스틸벤-2,2'-디술폰산2나트륨 8.9 중량부를 실시예 4 와 동일하게 디아조화하고, 5-아미노나프탈렌-2-술폰산(1,6-클리브산) 4.5 중량부와 산성 조건하, 커플링하였다. 반응 종료 후, 염석에 의해 화합물을 꺼내었다. 이것을 물 250 중량부에 현탁시켜, 수황화나트륨 (70% 제품) 2.4 중량부를 첨가하여 60℃ 에서 1 시간 반응시켰다. 반응 종료 후 염석함으로써, 하기 식 (2-27a) 로 나타내는 화합물을 나트륨염으로서 얻었다.

[화학식 63]

상기 식 (2-27a) 로 나타내는 화합물의 나트륨염 6.3 중량부를 N-메틸피롤리돈 80 중량부에 용해시키고, 탄산나트륨 1.6 중량부, 및 신남산클로라이드 5.0 중량부를 첨가하여 60℃ 에서 1 시간 반응시켰다. 반응 종료 후, 물에 배출하여 염석함으로써 발생된 침전을 여과 채취함으로써, 목적으로 하는 하기 식 (2-27) 로 나타내는 화합물을 나트륨염으로서 얻었다.

[화학식 64]

[실시예 9]

증류수 100 중량부에, 하기 식 (2-1) 로 나타내는 화합물의 나트륨염 0.05 중량부와 무수 황산나트륨 0.02 중량부를 첨가하고 교반 용해시켜, 염색액으로 하였다. 폴리비닐알코올 필름 (OPL 필름, 일본 합성 화학 공업사 제조, 막 두께 75 ㎛) 을 50℃ 의 이 염색액에 1 분간 침지시켜 염색하고, 50℃ 의 수욕에서 잉여의 염료를 세정한 후, 50℃ 의 4 중량% 붕산 수용액 중에서 6 배로 연신하였다. 연신 후, 실온의 수욕 중에서 잉여의 붕산을 세정하고, 송풍 건조시킴으로써 두께 30 ㎛ 의 이방성 막을 얻었다.

이 이방성 막의 최대 흡수 파장과 그 파장에서의 단체 투과율 및 2색비를 표 1 에 기재하는데, 높은 2색성을 가지고 있는 것을 알 수 있었다.

[화학식 65]

[실시예 10]

상기 식 (2-1) 로 나타내는 화합물의 나트륨염 대신에, 하기 식 (2-2) 로 나타내는 화합물의 나트륨염을 사용한 것 이외에는, 실시예 9 와 동일한 방법을 사용하여 이방성 막을 얻었다. 이 이방성 막의 최대 흡수 파장과 그 파장에서의 단체 투과율 및 2색비를 표 1 에 기재하는데, 높은 2색성을 가지고 있는 것을 알 수 있었다.

[화학식 66]

[실시예 11]

상기 식 (2-1) 로 나타내는 화합물의 나트륨염 대신에, 하기 식 (2-3) 으로 나타내는 화합물의 나트륨염을 사용한 것 이외에는, 실시예 9 와 동일한 방법을 사용하여 이방성 막을 얻었다. 이 이방성 막의 최대 흡수 파장과 그 파장에서의 단체 투과율 및 2색비를 표 1 에 기재하는데, 높은 2색성을 가지고 있는 것을 알 수 있었다.

[화학식 67]

[실시예 12]

상기 식 (2-1) 로 나타내는 화합물의 나트륨염 대신에, 하기 식 (2-6) 으로 나타내는 화합물의 나트륨염을 사용한 것 이외에는, 실시예 9 와 동일한 방법을 사용하여 이방성 막을 얻었다. 이 이방성 막의 최대 흡수 파장과 그 파장에서의 단체 투과율 및 2색비를 표 1 에 기재하는데, 높은 2색성을 가지고 있는 것을 알 수 있었다.

[화학식 68]

[실시예 13]

상기 식 (2-1) 로 나타내는 화합물의 나트륨염 대신에, 하기 식 (2-60) 으로 나타내는 화합물의 나트륨염을 사용한 것 이외에는, 실시예 9 와 동일한 방법을 사용하여 이방성 막을 얻었다. 이 이방성 막의 최대 흡수 파장과 그 파장에서의 단체 투과율 및 2색비를 표 1 에 기재하는데, 높은 2색성을 갖고 있는 것을 알 수 있었다.

[화학식 69]

[실시예 14]

상기 식 (2-1) 로 나타내는 화합물의 나트륨염 대신에, 하기 식 (2-25) 로 나타내는 화합물의 나트륨염을 사용하는 것 이외에는, 실시예 9 와 동일한 방법을 사용하여 이방성 막을 얻었다. 이 이방성 막의 최대 흡수 파장과 그 파장에서의 단체 투과율 및 2색비를 표 1 에 기재하는데, 높은 2색성을 가지고 있는 것을 알 수 있었다

[화학식 70]

[실시예 15]

상기 식 (2-1) 로 나타내는 화합물의 나트륨염 대신에, 하기 식 (2-26) 으로 나타내는 화합물의 나트륨염을 사용한 것 이외에는, 실시예 9 와 동일한 방법을 사용하여 이방성 막을 얻었다. 이 이방성 막의 최대 흡수 파장과 그 파장에서의 단체 투과율 및 2색비를 표 1 에 기재하는데, 높은 2색성을 가지고 있는 것을 알 수 있었다.

[화학식 71]

[실시예 16]

상기 식 (2-1) 로 나타내는 화합물의 나트륨염 대신에, 하기 식 (2-27) 로 나타내는 화합물의 나트륨염을 사용한 것 이외에는, 실시예 9 와 동일한 방법을 사용하여 이방성 막을 얻었다. 이 이방성 막의 최대 흡수 파장과 그 파장에서의 단체 투과율 및 2색비를 표 1 에 기재하는데, 높은 2색성을 가지고 있는 것을 알 수 있었다.

[화학식 72]

[비교예 1]

상기 식 (2-1) 로 나타내는 화합물의 나트륨염 대신에, 탈염 정제한 도쿄 화성사 제조 「크리소페닌 (CI-24895) (하기 구조식)」을 사용한 것 이외에는, 실시예 9 와 동일한 방법을 사용하여 이방성 막을 얻었다. 이 이방성 막의 최대 흡수 파장과 그 파장에서의 단체 투과율 및 2색비를 표 1 에 기재하는데, 2색성이 불충분한 것을 알 수 있었다.

[화학식 73]

크리소페닌 (CI-24895)

[비교예 2]

상기 식 (2-1) 로 나타내는 화합물의 나트륨염 대신에, 하기 식 (B-1) 로 나타내는 화합물의 나트륨염을 사용한 것 이외에는, 실시예 9 와 동일한 방법을 사용하여 이방성 막을 얻었다. 이 이방성 막의 최대 흡수 파장과 그 파장에서의 단체 투과율 및 2색비를 표 1 에 기재하는데, 2색성이 불충분한 것을 알 수 있었다.

[화학식 74]

[실시예 17]

4,4'-디아미노스틸벤-2,2'-디술폰산 23 중량부를 물 500 중량부에 용해시키고, 염산 산성 조건하에 아질산나트륨 10 중량부를 첨가하여 디아조화하고, 8-아미노 나프탈렌-2-술폰산(1,7-클리브산) 27 중량부와 산성 조건하, 커플링하였다. 반응 후, 수산화나트륨 수용액으로 중화시킴으로써 하기 식 (4-4') 로 나타내는 화합물을 나트륨염으로서 얻었다.

[화학식 75]

상기 식 (4-4') 로 나타내는 화합물의 나트륨염 9 중량부를 N-메틸피롤리돈 200 중량부에 현탁시켜, 탄산나트륨 3 중량부, 신남산클로라이드 5 중량부를 첨가하여 60℃ 에서 2 시간 반응시켜, 목적으로 하는 하기 식 (4-4) 로 나타내는 화합물을 나트륨염으로서 얻었다.

이 화합물의 10 ppm 수용액 중에서의 극대 흡수 파장 (λmax) 은 444 ㎚ 이었다.

[화학식 76]

[실시예 18]

4,4'-디아미노스틸벤-2,2'-디술폰산 29 중량부를 물 625 중량부에 용해시키고, 염산 산성 조건하에 아질산나트륨 11 중량부를 첨가하여 디아조화하고, 5-아미노나프탈렌-2-술폰산(1,6-클리브산) 34 중량부와 산성 조건하, 커플링하였다. 반응 후, 수산화나트륨 수용액으로 중화시킴으로써 하기 식 (4-5') 로 나타내는 화합물을 나트륨염으로서 얻었다.

[화학식 77]

상기 식 (4-5') 로 나타내는 화합물의 나트륨염 9 중량부를 N-메틸피롤리돈 200 중량부에 현탁시켜, 탄산나트륨 3 중량부, 신남산클로라이드 5 중량부를 첨가하여 60℃ 에서 2 시간 반응시켜, 목적으로 하는 하기 식 (4-5) 로 나타내는 화합물을 나트륨염으로서 얻었다.

이 화합물의 10 ppm 수용액 중에서의 극대 흡수 파장 (λmax) 은 434 ㎚ 이었다.

[화학식 78]

[실시예 19]

4-아미노-4'-니트로스틸벤-2,2'-디술폰산2나트륨 33 중량부를 물 670 중량부에 용해시키고, 염산 산성 조건하에 아질산나트륨 7 중량부를 첨가하여 디아조화하고, m-톨루이딘 8 중량부와 산성 조건하, 커플링하였다. 반응 후, 수산화나트륨 수용액에 의해 중화시킴으로써 하기 식 (4-29a) 로 나타내는 화합물을 나트륨염으로서 얻었다.

[화학식 79]

상기 식 (4-29a) 로 나타내는 화합물의 나트륨염 30 중량부를 N-메틸피롤리돈 600 중량부에 현탁시켜, 탄산나트륨 9 중량부, 신남산클로라이드 13 중량부를 첨가하여 60℃ 에서 30 분간 반응시켰다. 반응 후, 식염수를 계에 첨가하여 발생된 침전을 여과 채취하였다. 이 케이크를 물 1250 중량부에 현탁시켜, 수황화나트륨 (70% 제품) 을 8 중량부 첨가하여 60℃ 에서 1 시간 반응시킴으로써 하기 식 (4-29b) 로 나타내는 화합물을 나트륨염으로서 얻었다.

[화학식 80]

상기 식 (4-29b) 로 나타내는 화합물의 나트륨염 31 중량부를 물 300 중량부와 N-메틸피롤리돈 160 중량부에 용해시키고, 염산 산성 조건하에 아질산나트륨 2 중량부를 첨가하여 디아조화하고, 8-아미노-2-나프탈렌술폰산(1,7-클리브산) 6 중량부와 산성 조건하, 커플링하였다. 반응 후, 수산화나트륨 수용액으로 중화시킴으로써 하기 식 (4-29c) 로 나타내는 화합물을 나트륨염으로서 얻었다.

[화학식 81]

상기 식 (4-29c) 로 나타내는 화합물의 나트륨염 10 중량부를 물 70 중량부와 N-메틸피롤리돈 160 중량부에 용해시켰다. 염산 산성 조건하에 아질산나트륨 1 중량부를 첨가하여 디아조화하고, m-크레졸 2 중량부와 알칼리성 조건하, 커플링함으로써, 목적으로 하는 하기 식 (4-29) 로 나타내는 화합물을 나트륨염으로서 얻었다. 이 화합물의 10 ppm 수용액 중에서의 극대 흡수 파장 (λmax) 은 461 ㎚ 이었다.

[화학식 82]

[실시예 20]

증류수 100 중량부에, 상기 식 (4-4) 으로 나타내는 화합물의 나트륨염 0.05중량부와 무수 황산나트륨 0.02 중량부를 첨가하고 교반 용해시켜, 염색액으로 하였다. 닛폰 합성 화학 공업사 제조의 폴리비닐알코올 필름 (OPL 필름) 을, 50℃ 의 이 염색액에 표 2 에 기재된 시간동안 침지하고 염색하여, 50℃ 의 수욕에서 잉여의 염료를 세정한 후, 50℃ 의 4 중량% 붕산 수용액 중에서 6 배로 연신하였다. 연신 후, 실온의 수욕 중에서 잉여의 붕산을 세정하고, 송풍 건조시킴으로써 두께 30 ㎛ 의 이방성 막을 얻었다.

이 이방성 막의 380 ∼ 780 ㎚ 에 있어서의 최대 흡수 파장과 그 파장에서의 단체 투과율 및 2색비를 표 2 에 기재하는데, 높은 2색성을 가지고 있는 것을 알 수 있었다.

[실시예 21]

상기 식 (4-4) 으로 나타내는 화합물의 나트륨염 대신에, 상기 식 (4-5) 로 나타내는 화합물의 나트륨염을 사용한 것 이외에는, 실시예 20 과 동일한 방법을 사용하여 이방성 막을 얻었다.

[실시예 22]

상기 식 (4-4) 로 나타내는 화합물의 나트륨염 대신에, 상기 식 (4-29) 로 나타내는 화합물의 나트륨염을 사용하고 표 2 에 기재된 염색 시간으로 한 것 이외에는, 실시예 20 과 동일한 방법을 사용하여 이방성 막을 얻었다.

[비교예 3]

상기 식 (4-4) 로 나타내는 화합물의 나트륨염 대신에, 탈염 정제한 도쿄 화성사 제조 「크리소페닌 (CI-24895)」를 사용한 것 이외에는, 실시예 20 과 동일한 방법을 사용하여 이방성 막을 얻었다.

이 이방성 막의 380 ∼ 780 ㎚ 에 있어서의 최대 흡수 파장과 그 파장에서의 단체 투과율 및 2색비를 표 2 에 기재하는데, 2색성이 불충분하다는 것을 알 수 있었다.

[실시예 23]

4-아미노-4'-니트로스틸벤-2,2'-디술폰산2나트륨 8.9 중량부를 물 90 중량부에 용해시켰다. 염산 산성 조건하에 아질산나트륨 1.5 중량부를 첨가하여 디아조화하고, 아닐린-ω-메탄술폰산나트륨 4.2 중량부와 산성 조건하 커플링하였다. 반응 종료 후, 수산화나트륨을 첨가하여, 60℃ 로 승온시키고 강알카리성으로 가수 분해 반응을 실시하였다. 반응 종료 후, 염산에 의해 중성으로 한 후, 염석함으로써, 하기 식 (7-1a) 로 나타내는 화합물을 나트륨염으로서 얻었다.

[화학식 83]

상기 식 (7-1a) 로 나타내는 화합물의 나트륨염 5.2 중량부를 N-메틸피롤리돈 50 중량부에 용해시키고, 탄산나트륨 0.6 중량부, 및 신남산클로라이드 2.5 중량부를 첨가하여 60℃ 에서 30 분간 반응시켰다. 반응 종료 후, 물에 배출하여 염석함으로써 발생된 침전을 여과 채취함으로써, 목적으로 하는 하기 식 (7-1) 로 나타내는 화합물을 나트륨염으로서 얻었다.

이 화합물의 10 ppm 수용액 중의 극대 흡수 파장 (λmax) 은 397 ㎚ 이었다.

[화학식 84]

[실시예 24]

4-아미노-4'-니트로스틸벤-2,2'-디술폰산2나트륨 8.9 중량부를 물 90 중량부에 용해시켰다. 염산 산성 조건하에 아질산나트륨 1.5 중량부를 첨가하여 디아조화하고, 아닐린-ω-메탄술폰산나트륨 4.2 중량부와 산성 조건하 커플링하였다. 반응 종료 후, 수산화나트륨을 첨가하고, 60℃ 로 승온시켜 강알카리성으로 가수 분해 반응을 실시하였다. 반응 종료 후, 염산으로 중성으로 한 후, 염석함으로써, 하기 식 (7-2a) 로 나타내는 화합물을 나트륨염으로서 얻었다.

[화학식 85]

상기 식 (7-2a) 로 나타내는 화합물의 나트륨염 5.2 중량부를 N-메틸피롤리돈 50 중량부에 용해시키고, 탄산나트륨 0.6 중량부, 및 신남산클로라이드 2.5 중량부를 첨가하여 60℃ 에서 30 분간 반응시켰다. 반응 종료 후, 물에 배출하여 염석함으로써 발생된 침전을 여과 채취하였다. 이것을 물 100 중량부에 현탁시키고, 수황화나트륨 (70% 제품) 1.2 중량부를 첨가하여 60℃ 에서 30 분 반응시켰다. 반응 종료 후, 물에 배출하여 염석함으로써 발생된 침전을 여과 채취함으로써, 목적으로 하는 하기 식 (7-2) 로 나타내는 화합물을 나트륨염으로서 얻었다.

이 화합물의 10 ppm 수용액 중의 극대 흡수 파장 (λmax) 은 403 ㎚ 이었다.

[화학식 86]

[실시예 25]

증류수 100 중량부에, 하기 식 (7-1) 로 나타내는 화합물의 나트륨염 0.05 중량부와 무수 황산나트륨 0.02 중량부를 첨가하고 교반 용해시켜, 염색액으로 하였다. 폴리비닐알코올 필름 (OPL 필름) 을, 50℃ 의 이 염색액에 1 분간 침지시켜 염색하고, 50℃ 의 수욕에서 잉여의 염료를 세정한 후, 50℃ 의 4 중량% 붕산 수용액 중에서 6 배로 연신하였다. 연신 후, 실온의 수욕 중에서 잉여의 붕산을 세정하고, 송풍 건조시킴으로써 두께 30㎛ 의 이방성 막을 얻었다.

이 이방성 막의 최대 흡수 파장은 420 ㎚ 이고, 그 파장에서의 단체 투과율은 40.9%, 2색비는 49.1 이며, 높은 2색성을 가지고 있었다.

[화학식 87]

[실시예 26]

상기 식 (7-1) 로 나타내는 화합물의 나트륨염 대신에, 하기 식 (7-2) 로 나타내는 화합물의 나트륨염을 사용한 것 이외에는, 실시예 25 와 동일한 방법을 사용하여 이방성 막을 얻었다.

이 이방성 막의 최대 흡수 파장은 415 ㎚ 이고, 그 파장에서의 단체 투과율은 44.2%, 2색비는 37.1 이며, 높은 2색성을 가지고 있었다.

[화학식 88]

본 발명을 특정의 양태를 사용하여 상세하게 설명했는데, 본 발명의 의도와 범위를 벗어나지 않고 여러 변경이 가능한 것은 당업자에게 분명하다.

또한, 본 출원은, 2007 년 7 월 9 일자로 출원된 일본 특허 출원 (일본 특허 출원 2007-179638), 2007 년 9 월 7 일자로 출원된 일본 특허 출원 (일본 특허 출원 2007-232958), 2007 년 9 월 14 일자로 출원된 일본 특허 출원 (일본 특허 출원2007-239812), 2007 년 11 월 15 일자로 출원된 일본 특허 출원 (일본 특허 출원2007-296231), 및 2007 년 12 월 21 일자로 출원된 일본 특허 출원 (일본 특허 출원 2007-330489) 에 기초하고 있고, 그 전체가 인용에 의해 원용된다.

Claims

유리산의 형태가 하기 식 (1) 로 나타내는 것을 특징으로 하는 이방성 막용 화합물.

[화학식 89]

〔식 (1) 중, L¹ 은 -(CH=CH)r- 기 또는 -(C≡C)s- 기를 나타낸다. r 및 s 는 각각 독립적으로 1 ∼ 5 의 정수를 나타낸다.

Ar¹ 은 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐렌기, 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸렌기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 복소 고리기를 나타낸다.

m 은 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.

p 및 k 는 각각 독립적으로 0 또는 1 을 나타내지만, p 및 k 가 모두 0 이 되는 일은 없다.

X¹ 은 수소 원자 또는 유기기를 나타낸다.

X² 는 수소 원자, 니트로기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기, 또는 하기 식 (1-a) 로 나타내는 기를 나타낸다. 단, X² 가 수소 원자, 니트로기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기일 때, m 은 0 이 아니다.

[화학식 90]

(식 (1-a) 중, Ar² 는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐렌기, 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸렌기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 복소 고리기를 나타낸다.

B¹ 은 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 복소 고리기를 나타낸다.

n 은 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.)〕
제 1 항에 있어서,

상기 식 (1) 이 하기 식 (2) 로 나타내는 것을 특징으로 하는 이방성 막용 화합물.

[화학식 91]

〔식 (2) 중, Ar², B¹, L¹, X¹, k, n 및 p 는 각각 상기 식 (1) 에 있어서와 동일한 의미이다.〕
제 2 항에 있어서,

상기 식 (2) 가 하기 식 (3) 으로 나타내는 것을 특징으로 하는 이방성 막용 화합물.

[화학식 92]

〔식 (3) 중, Ar², B¹, L¹, X¹ 및 n 은, 각각 상기 식 (2) 에 있어서와 동일한 의미이다.〕
제 1 항에 있어서,

상기 식 (1) 이 하기 식 (4) 로 나타내는 것을 특징으로 하는 이방성 막용 화합물.

[화학식 93]

〔식 (4) 중, Ar¹, Ar², B¹, L¹, X¹, k, n 및 p 는 각각 상기 식 (1) 에 있어서와 동일한 의미이다.〕
제 4 항에 있어서,

상기 식 (4) 가 하기 식 (5) 로 나타내는 것을 특징으로 하는 이방성 막용 화합물.

[화학식 94]

〔식 (5) 중, B¹² 는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐렌기, 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸렌기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 복소 고리기를 나타낸다.

L² 는 -(CH=CH)r'- 기 또는 -(C≡C)s'- 기를 나타낸다. r' 및 s' 는 각각 독립적으로 1 ∼ 5 의 정수를 나타낸다.

X³ 은 수소 원자 또는 유기기를 나타낸다.

Ar¹, L¹, X¹, p 및 k 는 각각 상기 식 (4) 에 있어서와 동일한 의미이다.〕
제 5 항에 있어서,

상기 식 (5) 가 하기 식 (6) 으로 나타내는 것을 특징으로 하는 이방성 막용 화합물.

[화학식 95]

〔식 (6) 중, Ar¹¹ 은 치환기를 갖고 있어도 되는 1,4-페닐렌기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 1,4-나프틸렌기를 나타낸다.

B¹³ 은 치환기를 갖고 있어도 되는 1,4-페닐렌기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 1,4-나프틸렌기를 나타낸다.

X¹ 및 X³ 은 각각 상기 식 (5) 에 있어서와 동일한 의미이다.〕
제 1 항에 있어서,

상기 식 (1) 이 하기 식 (7) 로 나타내는 것을 특징으로 하는 이방성 막용 화합물.

[화합물 96]

〔식 (7) 중, X¹² 는 수소 원자, 니트로기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기를 나타낸다.

A¹ 및 A² 는 각각 독립적으로 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐렌기, 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸렌기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 복소 고리기를 나타낸다.

j 는 0 ∼ 2 의 정수를 나타낸다.

L¹, X¹, k 및 p 는 각각 상기 식 (1) 에 있어서와 동일한 의미이다.〕
제 7 항에 있어서,

상기 식 (7) 이 하기 식 (8) 로 나타내는 것을 특징으로 하는 이방성 막용 화합물.

[화학식 97]

〔식 (8) 중, X¹, X¹², A¹, A², L¹ 및 j 는 각각 상기 식 (7) 에 있어서와 동일한 의미이다.〕
유리산의 형태가 하기 식 (9) 로 나타내는 것을 특징으로 하는 화합물.

[화학식 98]

〔식 (9) 중, Ar²¹ 은 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐렌기, 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸렌기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 복소 고리기를 나타낸다.

h 는 1 ∼ 5 의 정수를 나타낸다.

t 는 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.

R²¹ 은 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 알킬 기, 카르복시기 또는 수소 원자를 나타낸다.

X²² 는 수소 원자, 니트로기, 치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기, 또는 하기 식 (9-a) 로 나타내는 기를 나타낸다. 단, X²² 가 수소 원자, 니트로기, 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 아미노기일 때, t 는 0 이 아니다.

[화학식 99]

(식 (9-a) 중, Ar²² 는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐렌기, 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸렌기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 복소 고리기를 나타낸다.

B²² 는 치환기를 갖고 있어도 되는 페닐기, 치환기를 갖고 있어도 되는 나프틸기 또는 치환기를 갖고 있어도 되는 복소 고리기를 나타낸다.

u 는 0 ∼ 3 의 정수를 나타낸다.)〕