KR20100008374A - 모발 관리 조성물 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 (i) 알킬 개질된 실리콘의 유화된 입자, 및 (ii) 비-휘발성의 비-알킬 개질된 실리콘의 유화된 입자를 포함하는 모발 관리 조성물을 제공한다. 조성물은 모발의 처리 후 (전형적으로 샴푸 후) 세정되는 컨디셔너로서 사용하기에 특히 적합하다. 본 발명에 따른 조성물은 허용불가능하게 높은 침착 없이 모발에 효과적인 컨디셔닝을 제공한다.
알킬 개질된 실리콘의 유화된 입자, 비-휘발성의 비-알킬 개질된 실리콘의 유화된 입자, 컨디셔너

Description

모발 관리 조성물{HAIR CARE COMPOSITIONS}
본 발명은 알킬 개질된 실리콘을 포함하는 모발 관리 조성물에 관한 것이다.
알킬 개질된 실리콘은 화장품 범위 내의 용도, 특히 피부 관리 제품에서 보습제 (moisturiser) 및 선스크린 제품에서 전착제 (spreading agent)로서의 용도가 발견되었다.
WO91/09586호에는 특정 폴리메틸알킬실록산이 폴리디메틸실록산과 동일한 방식으로 모발에 개선된 광택 및 윤기 뿐만 아니라, 우수한 관리용이성 및 부드러운 감촉을 제공할 수 있는 방법이 기재되어 있으나, 이는 또한 덜 코팅된 느낌 및 기름진 외관을 모발에 남긴다. 또한 이들 폴리메틸알킬실록산이 폴리디메틸실록산 유체에 비해 모발을 보다 형태를 유지하게 하며 풍만하게 하고 부드럽게 한다고 주장되어 있다.
본 발명자들은 WO91/09586에 개시된 유형의 알킬 개질된 실리콘이 종래 모발 컨디셔너 베이스에 사용되면, 모발 상에 과도하게 침착되는 경향이 있다는 것을 발견하였다. 과도한 침착은 많은 소비자들이 바람직하지 않게 인식하는 감소된 모발 부피감과 관련된다.
본 발명자들은 이들 문제점이 알킬 개질된 실리콘의 유화된 입자를 특정 비- 알킬 개질된 실리콘의 유화된 입자와 배합함으로써 해결될 수 있다는 것을 발견하였다.
발명의 개요
본 발명은
(i) 알킬 개질된 실리콘의 유화된 입자, 및
(ii) 비-휘발성의 비-알킬 개질된 실리콘의 유화된 입자
를 포함하는 모발 관리 조성물을 제공한다.
본 발명에 따른 조성물은 허용불가능하게 높은 침착 없이 모발에 효과적인 컨디셔닝을 제공한다.
알킬 개질된 실리콘
본 발명의 모발 관리 조성물은 알킬 개질된 실리콘의 유화된 입자를 포함한다.
"알킬 개질된 실리콘"은 일반적으로 C6 이상 길이의 히드로카르빌 쇄를 갖는 하나 이상의 펜던트 알킬기가 중합체 주쇄를 형성하는 하나 이상의 규소 원자들 중 적어도 하나의 규소 원자로부터 연장되어 있는 유기실록산 중합체를 의미한다.
주위 조건에서, 알킬 개질된 실리콘의 물리적 형태는 일반적으로 알킬기 쇄의 길이, 분자 내 (메틸기 이외의) 알킬기의 수 및 실리콘 주쇄의 분자량과 같은 분자 매개변수에 따라 왁스에서 유체까지 다양하다.
본원에 사용된 용어 "주위 조건"은 1 대기압, 50％ 상대 습도 및 25℃에서의 주변 조건을 의미한다.
본 발명에서 사용하기 위한 바람직한 알킬 개질된 실리콘은 주위 조건 하에서 유체이다.
본 발명에서 사용하기 위한 바람직한 알킬 개질된 실리콘은 수평균 분자량 (Mn)이 10,000 내지 450,000, 더욱 바람직하게는 60,000 내지 110,000 돌턴 (dalton)의 범위이다.
본 발명의 모발 관리 조성물에 사용하기 위한 적합한 알킬 개질된 실리콘은 하기 화학식 (I)에 의해 화학적으로 특징화될 수 있다.
(CH3)3Si-O-[Si(CH3)(R)O]m-[Si(CH3)2O]n-Si(CH3)3
상기 식에서, m은 1 내지 450의 값이고, n은 1 내지 3000의 값이고, R은 탄소수 8 내지 60의 1가 알킬 라디칼이다.
화학식 (I)에서, -[Si(CH3)2O]- 단위는 전형적으로 -[Si(CH3)(R)O]- 단위와 무작위로 분포되어 있는다. m 및 n은 전형적으로 중합 공정의 특성으로 인한 평균값이다.
본 발명에서 사용하기 위한 화학식 (I)의 바람직한 물질은 m 값이 40 내지 100, 더욱 바람직하게는 50 내지 80의 범위이다.
본 발명에서 사용하기 위한 화학식 (I)의 바람직한 물질은 n 값이 500 내지 1400, 더욱 바람직하게는 700 내지 1200의 범위이다.
본 발명에서 사용하기 위한 화학식 (I)의 바람직한 물질은 m:n의 비가 15:85 내지 1:99, 더욱 바람직하게는 10:90 내지 5:95의 범위이다.
본 발명에서 사용하기 위한 화학식 (I)의 바람직한 물질에서, R은 탄소수 8 내지 22, 더욱 바람직하게는 8 내지 14, 가장 바람직하게는 10 내지 12의 선형 알킬 라디칼이다.
본 발명에서 사용하기에 적합한 알킬 개질된 실리콘의 제조 방법은 당업계에 공지되어 있으며 예를 들어, EP 495 596호 및 WO91/09586호에 기재되어 있다.
본 발명에서 사용하기에 적합한 알킬 개질된 실리콘은 또한 모멘티브 퍼포먼스 매테리얼스 인코포레이티드 (Momentive Performance Materials, Inc., 미국 코네티커트주 윌톤 소재) 및 다우 코닝 코포레이션 (Dow Corning Corporation, 미국 미시간주 미드랜드 소재)과 같은 공급업자로부터 상업적으로 입수가능하다.
알킬 개질된 실리콘은 본 발명의 모발 관리 조성물 중에 유화된 입자로서 존재한다.
알킬 개질된 실리콘의 유화된 입자는 전형적으로 본 발명의 조성물 중에서 사우터 (Sauter) 평균 입자 직경 (D3 ,2)이 0.1 내지 10 μm, 바람직하게는 1 내지 4 μm의 범위일 수 있다.
사우터 평균 액적 직경 (D3 ,2)을 측정하기 위한 적합한 방법은 맬번 입도분석기 (Malvern Mastersizer)와 같은 기기를 사용한 레이저 광산란에 의한 것이다.
상기 기재된 알킬 개질된 실리콘의 임의의 혼합물을 또한 사용할 수 있다.
본 발명의 조성물 중에 사용하기 위한 알킬 개질된 실리콘은 상기 언급된 바와 같은 실리콘 공급업자로부터 예비-형성된 실리콘 에멀션으로 입수가능하다. 이러한 예비-형성된 실리콘 에멀션의 사용은 실리콘 입자 크기의 조정 및 가공의 용이성 때문에 바람직하다. 이러한 예비-형성된 실리콘 에멀션은 전형적으로 적합한 유화제, 예컨대 음이온성 또는 비이온성 계면활성제를 추가로 포함할 것이며, 에멀션 중합과 같은 화학적 유화 공정에 의해 또는 높은 전단 혼합기를 사용하는 기계적 유화에 의해 제조될 수 있다.
본 발명의 모발 관리 조성물 중의 알킬 개질된 실리콘의 총량은 일반적으로 조성물의 총 중량을 기준으로 0.01 내지 5 중량％, 바람직하게는 0.05 내지 2 중량％, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 1.5 중량％의 범위이다.
비-휘발성의 비- 알킬 개질된 실리콘
본 발명의 모발 관리 조성물은 비-휘발성의 비-알킬 개질된 실리콘의 유화된 입자를 포함한다.
본원에 사용된 용어 "비-휘발성"은 주위 조건 하에서 해당 물질의 증기압이 0.2 mmHg 이하, 바람직하게는 약 0.1 mmHg 이하인 것을 의미한다.
"비-알킬 개질된 실리콘"은 일반적으로 중합체 주쇄를 형성하는 하나 이상의 규소 원자로부터 연장되는 C6 이상 길이의 히드로카르빌 쇄를 갖는 임의의 펜던트 알킬기를 함유하지 않는 유기실록산 중합체를 의미한다.
본 발명에서 사용하기 위한 적합한 비-휘발성의 비-알킬 개질된 실리콘은 25℃에서 점도가 350 내지 200,000,000 mm2/초이다. 바람직하게는 점도는 25℃에서 5,000 mm2/초 이상, 더욱 바람직하게는 10,000 mm2/초 이상이다. 바람직하게는 점도는 25℃에서 20,000,000 mm2/초, 더욱 바람직하게는 10,000,000 mm2/초, 가장 바람직하게는 5,000,000 mm2/초를 초과하지 않는다.
본원에서 언급되는 모든 실리콘 점도는 달리 언급이 없는 한, 동적 점도이고, 일반적으로 실리콘 공급업자에 의해 제공되며, 25℃에서 중력 유동 조건 하에 눈금 모세관 유리 점도계를 사용하여 측정하거나, 또는 해당 물질의 분자량으로부터 추정한다.
본 발명에서 사용하기 위한 바람직한 비-휘발성의 비-알킬 개질된 실리콘은 수 평균분자량 (Mn)이 10,000 내지 1,000,000, 더욱 바람직하게는 100,000 내지 500,000 돌턴의 범위이다.
본 발명의 모발 관리 조성물에 사용하기 위한 적합한 비-휘발성의 비-알킬 개질된 실리콘은 하기 화학식 (II)에 의해 화학적으로 특징화될 수 있다.
A(R)2Si-O-[Si(R)2-O]x-Si(R)2A
상기 식에서, 각각의 R은 독립적으로 C1 -4 알킬 또는 아릴로부터 선택되고, x 는 200 내지 8,000의 정수이고 각각의 A는 독립적으로 C1 -4 알킬, C1 -4 알콕시, 아릴, 아릴옥시 또는 히드록실로부터 선택된다.
본 발명에서 사용하기 위한 바람직한 화학식 (II)의 물질에서, 모든 R기는 메틸이고 A기 둘다는 메틸 또는 히드록실이다. 이러한 물질은 각각 CTFA 명칭 "디메티콘" 및 "디메티코놀"을 갖는다. 가장 바람직하게는, 모든 R기는 메틸이고 A기 둘다는 히드록실이다.
또한 본 발명의 모발 관리 조성물에 사용하기에 적합한 비-휘발성의 비-알킬 개질된 실리콘은 CTFA 명칭 "암모디메티콘"을 갖고 하기 화학식 (III)으로 나타내지는 아미노관능성 폴리디메틸실록산이다.
HO-[Si(CH3)2-O-]x-[Si(R)(R1-NH-R2NH2)-O-]y-H
상기 식에서, R은 CH3 또는 OH이고, x 및 y는 1 이상의 독립된 정수이고, R1 및 R2는 각각 독립적으로 탄소수 2 내지 5의 알킬렌기이다.
또한 본 발명의 모발 관리 조성물에 사용하기에 적합한 비-휘발성의 비-알킬 개질된 실리콘은 CTFA 명칭 "트리메틸실릴암모디메티콘"을 갖고 화학식 (IV)로 나타내지는 아미노관능성 폴리디메틸실록산이다.
(CH3)3Si-O-[Si(CH3)2-O-]x-[Si(CH3)(R1-NH-R2NH2)-O-]y-Si(CH3)3
상기 식에서, x 및 y는 1 이상의 독립된 정수이고, R1 및 R2는 각각 독립적으로 탄소수 2 내지 5의 알킬렌기이다.
상기 기재된 비-휘발성의 비-알킬 개질된 실리콘의 임의의 혼합물을 또한 사용할 수 있다.
비-휘발성의 비-알킬 개질된 실리콘이 본 발명의 모발 관리 조성물 중에 유화된 입자로서 존재한다.
비-휘발성의 비-알킬 개질된 실리콘의 유화된 입자는 전형적으로 본 발명의 조성물 중에서 사우터 평균 입자 직경 (D3 ,2)이 0.01 내지 10 μm, 바람직하게는 0.1 내지 5 μm, 더욱 바람직하게는 0.5 내지 2.5 μm의 범위일 수 있다.
본 발명의 조성물 중에 사용하기 위한 비-휘발성의 비-알킬 개질된 실리콘은 상기 언급된 바와 같은 실리콘 공급업자로부터 예비-형성된 실리콘 에멀션으로서 입수가능하다. 이러한 예비-형성된 실리콘 에멀션의 사용은 실리콘 입자 크기의 조정 및 가공의 용이성 때문에 바람직하다. 이러한 예비-형성된 실리콘 에멀션은 전형적으로 적합한 유화제, 예컨대 음이온성 또는 비이온성 계면활성제를 추가로 포함할 것이며, 에멀션 중합과 같은 화학적 유화 공정에 의해 또는 높은 전단 혼합기를 사용하는 기계적 유화에 의해 제조될 수 있다.
상업적으로 입수가능한 예비-형성된 에멀션의 적합한 예에는 다우 코닝® 1784 에멀션 및 다우 코닝® 1785 에멀션이 있다. 이들은 모두 디메티코놀의 음이온성 에멀션이다.
본 발명의 모발 관리 조성물 중의 비-휘발성의 비-알킬 개질된 실리콘의 총량은 일반적으로 조성물의 총 중량을 기준으로 0.1 내지 10 중량％, 바람직하게는 0.5 내지 5 중량％, 더욱 바람직하게는 1 내지 3 중량％의 범위이다.
본 발명의 조성물에서, (상기 언급된 바와 같은) 알킬 개질된 실리콘 대 (상기 언급된 바와 같은) 비-휘발성의 비-알킬 개질된 실리콘의 중량비는 일반적으로 10:1 내지 1:10, 바람직하게는 1:1 내지 1:10, 더욱 바람직하게는 내지 1:2 내지 1:8의 범위이다.
생성물 형태
본 발명의 조성물은 전형적으로 모발에 도포한 후 세정하여 없애는 "린스-오프" 조성물이다.
본 발명에 따른 조성물을 위한 특히 바람직한 생성물 형태는 모발의 처리 후 (전형적으로 샴푸 후) 세정되는 컨디셔너이다.
컨디셔너 조성물
본 발명에 따른 컨디셔너는 전형적으로 화장품용으로 허용가능하고 모발에 국소 적용하기에 적합한 1종 이상의 양이온성 계면활성제를 포함할 것이다.
적합한 양이온성 계면활성제의 화학식은 [N(R1)(R2)(R3)(R4)]+(X)-이고, 식 중 R1, R2, R3 및 R4는 독립적으로 (C1 내지 C30) 알킬 또는 벤질이고 X는 할로겐, 아세 테이트, 시트레이트, 락테이트, 글리콜레이트, 포스페이트, 니트레이트, 술페이트 및 메토술페이트 라디칼로부터 선택되는 염-형성 음이온이다. 바람직하게는, R1, R2, R3 및 R4 중 하나, 둘 또는 세개는 독립적으로 (C4 내지 C30) 알킬이고 나머지 R1, R2, R3 및 R4기 또는 기들은 (C1-C6) 알킬 또는 벤질이다. 더욱 바람직하게는, R1, R2, R3 및 R4 중 하나 또는 두개는 독립적으로 (C6 내지 C30) 알킬이고 나머지 R1, R2, R3 및 R4기는 (C1-C6) 알킬 또는 벤질이다. 임의로, 알킬기는 알킬쇄 중에 하나 이상의 에스테르 (-OCO- 또는 -COO-) 및/또는 에테르 (-O-) 결합을 포함할 수 있다. 알킬기는 하나 이상의 히드록실기로 임의로 치환될 수 있다. 알킬기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있거나 또는 탄소수 3 이상의 알킬기의 경우 환형일 수 있다. 알킬기는 포화되거나 하나 이상의 탄소-탄소 이중 결합을 함유 (예를 들어, 올레일)할 수 있다. 알킬기는 알킬쇄 상에서 하나 이상의 에틸렌옥시기로 임의로 에톡실화된다.
본 발명에 따른 컨디셔너 조성물에 사용하기 위한 적합한 양이온성 계면활성제의 예에는 세틸트리메틸암모늄 클로라이드, 베헤닐트리메틸암모늄 클로라이드, 세틸피리디늄 클로라이드, 테트라메틸암모늄 클로라이드, 테트라에틸암모늄 클로라이드, 옥틸트리메틸암모늄 클로라이드, 도데실트리메틸암모늄 클로라이드, 헥사데실트리메틸암모늄 클로라이드, 옥틸디메틸벤질암모늄 클로라이드, 데실디메틸벤질 암모늄 클로라이드, 스테아릴디메틸벤질암모늄 클로라이드, 디도데실디메틸암모늄 클로라이드, 디옥타데실디메틸암모늄 클로라이드, 탈로우트리메틸암모늄 클로라이드, 2-수소화 탈로우 디메틸 암모늄 클로라이드 (예를 들어, 아르쿼드 (Arquad) 2HT/75, 악조 노벨 (Akzo Nobel) 제품), 코코트리메틸암모늄 클로라이드, PEG-2-올레암모늄 클로라이드 및 이들의 상응하는 수산화물이 포함된다. 기타 적합한 양이온성 계면활성제에는 CTFA 명칭 쿼터늄 (Quaternium)-5, 쿼터늄-31 및 쿼터늄-18을 갖는 이들 물질이 포함된다.
본 발명에 따른 컨디셔너에 사용하기 위한 특히 유용한 양이온성 계면활성제에는 예를 들어 제나민 (GENAMIN) CTAC (훽스트 셀라니즈 (Hoechst Celanese) 제품)으로 상업적으로 입수가능한 세틸트리메틸암모늄 클로라이드가 있다. 본 발명에 따른 컨디셔너에 사용하기 위한 또다른 특히 유용한 양이온성 계면활성제에는 예를 들어 제나민 KDMP (클라리안트 (Clariant) 제품)으로 상업적으로 입수가능한 베헤닐트리메틸암모늄 클로라이드가 있다.
본 발명에서 사용하기 위한 적합한 양이온성 계면활성제 부류의 또다른 예는
(i) 하기 화학식 1에 상응하는 아미도아민
R1CONH(CH2)mN(R2)(R3)
(식 중, R1은 탄소수 10 이상의 히드로카르빌쇄이고, R2 및 R3은 독립적으로 탄소수 1 내지 10의 히드로카르빌쇄로부터 선택되고, m은 1 내지 약 10의 정수임); 및
(ii) 산
의 조합물이다.
본원에 사용된 바와 같이, 용어 히드로카르빌쇄는 알킬 또는 알케닐쇄를 의미한다.
바람직한 아미도아민 화합물은 R1이 탄소수 약 11 내지 약 24의 히드로카르빌 잔기이고, R2 및 R3이 각각 독립적으로 히드로카르빌 잔기, 바람직하게는 탄소수 1 내지 약 4의 알킬기이고, m은 1 내지 약 4의 정수인 상기 화학식 1에 상응하는 화합물이다.
바람직하게는, R2 및 R3은 메틸 또는 에틸기이다.
바람직하게는, m은 2 또는 3이며, 즉 에틸렌 또는 프로필렌기이다.
본원에서 유용한 바람직한 아미도아민에는 스테아르아미도프로필디메틸아민, 스테아르아미도프로필디에틸아민, 스테아르아미도에틸디에틸아민, 스테아르아미도에틸디메틸아민, 팔미트아미도프로필디메틸아민, 팔미트아미도프로필디에틸아민, 팔미트아미도에틸디에틸아민, 팔미트아미도에틸디메틸아민, 베헨아미도프로필디메틸아민, 베헨아미도프로필디에틸아민, 베헨아미도에틸디에틸아민, 베헨아미도에틸디메틸아민, 아라키드아미도프로필디메틸아민, 아라키드아미도프로필디에틸아민, 아라키드아미도에틸디에틸아민, 아라키드아미도에틸디메틸아민 및 이들의 혼합물이 포함된다.
본원에서 유용한 특히 바람직한 아미도아민에는 스테아르아미도프로필디메틸아민, 스테아르아미도에틸디에틸아민 및 이들의 혼합물이 있다.
본원에서 유용한 상업적으로 입수가능한 아미도아민에는 이놀렉스 (Inolex, 미국 펜실배니아주 필라델피아 소재)로부터 상품명 렉스아민 (LEXAMINE) S-13으로 입수가능한 스테아르아미도프로필디메틸아민 및 니코 (Nikko, 일본 도쿄 소재)로부터 입수가능한 아미도아민 (AMIDOAMINE) MSP, 니코로부터 상품명 아미도아민 S로 입수가능한 스테아르아미도에틸디에틸아민, 크로다 (Croda, 영국 노쓰 험버사이드 소재)로부터 상품명 인크로민 (INCROMINE) BB로 입수가능한 베헨아미도프로필디메틸아민, 및 셔 (Scher, 미국 뉴저지주 클리프톤 소재)로부터 상표명 셔코딘 (SCHERCODINE)으로 입수가능한 다양한 아미도아민이 포함된다.
산 (ii)은 모발 처리 조성물 중 아미도아민을 양성자화할 수 있는 임의의 유기 또는 무기산일 수 있다. 본원에서 유용한 적합한 산에는 염산, 아세트산, 타르타르산, 푸마르산, 락트산, 말산, 숙신산 및 이들의 혼합물이 포함된다. 바람직하게는, 산은 아세트산, 타르타르산, 염산, 푸마르산 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된다.
산의 일차적인 역할은 모발 처리 조성물 중 아미도아민을 양성자화하여 모발 처리 조성물 중 동일계 내에서 4차 아민 염 (TAS)을 형성하는 것이다. 실제로 TAS는 비-영구적인 4차 암모늄 또는 유사-4차 암모늄 양이온성 계면활성제이다.
적합하게는, 산은 존재하는 모든 아미도아민을 양성자화하기에 충분한 양, 즉 조성물 중에 존재하는 아미도아민의 양에 대해 등몰량 (equimolar) 이상의 수준 으로 포함된다.
상기 기재된 양이온성 계면활성제의 임의의 혼합물을 또한 사용할 수 있다.
본 발명의 컨디셔너에서, 양이온성 계면활성제의 수준은 일반적으로 조성물의 총 중량을 기준으로 0.01 내지 10 중량％, 더욱 바람직하게는 0.05 내지 7.5 중량％, 가장 바람직하게는 0.1 내지 5 중량％의 범위일 것이다.
본 발명의 컨디셔너는 또한 전형적으로 지방 알콜과 혼화될 것이다. 컨디셔닝 조성물 중 지방 알콜 및 양이온성 계면활성제의 조합된 사용은 그로 인해 양이온성 계면활성제가 분산되어 있는 라멜라 상 (lamellar phase)의 형성이 유도되기 때문에 특히 유리하다고 믿어진다.
대표적인 지방 알콜은 탄소수가 8 내지 22, 더욱 바람직하게는 16 내지 22이다. 지방 알콜은 전형적으로 직쇄 알킬기를 함유하는 화합물이다. 적합한 지방 알콜의 예에는 세틸 알콜, 스테아릴 알콜 및 이들의 혼합물이 포함된다. 이들 물질의 사용은 또한 이들이 본 발명의 조성물의 전체적인 컨디셔닝 특성에 기여한다는 점에서 유리하다.
본 발명의 컨디셔너 중 지방 알콜의 수준은 일반적으로 조성물 중량의 0.01 내지 10 중량％, 바람직하게는 0.1 내지 8 중량％, 더욱 바람직하게는 0.2 내지 7 중량％, 가장 바람직하게는 0.3 내지 6 중량％의 범위일 것이다. 양이온성 계면활성제 대 지방 알콜의 중량비는 적합하게는 1:1 내지 1:10, 바람직하게는 1:1.5 내지 1:8, 임의로는 1:2 내지 1:5이다. 양이온성 계면활성제 대 지방 알콜의 중량비가 너무 높은 경우, 조성물이 눈을 자극할 수 있다. 이 중량비가 너무 낮은 경우, 일부 소비자에게 모발이 거칠다 (squeaky)는 느낌을 줄 수 있다.
또다른 바람직한 생성물 형태는 샴푸 조성물이다.
샴푸 조성물
본 발명의 샴푸 조성물은 일반적으로 수성이다. 즉, 이들의 주요 성분으로서 물 또는 수용액 또는 유방성 액정상을 갖는다. 적합하게는, 조성물은 조성물의 총 중량을 기준으로 50 내지 98 중량％, 바람직하게는 60 내지 90 중량％의 물을 포함할 것이다.
음이온성 세정 계면활성제
본 발명에 따른 샴푸 조성물은 일반적으로 화장품용으로 허용되며 모발에의 국소 적용에 적합한 1종 이상의 음이온성 세정 계면활성제를 포함할 것이다.
적합한 음이온성 세정 계면활성제의 예에는 알킬 술페이트, 알킬 에테르 술페이트, 알카릴 술포네이트, 알카노일 이세티오네이트, 알킬 숙시네이트, 알킬 술포숙시네이트, 알킬 에테르 술포숙시네이트, N-알킬 사르코시네이트, 알킬 포스페이트, 알킬 에테르 포스페이트, 및 알킬 에테르 카르복실산 및 그의 염, 특히 그의 나트륨, 마그네슘, 암모늄 및 모노-, 디- 및 트리에탄올아민 염이 있다. 알킬 및 아실기는 일반적으로 탄소수가 8 내지 18, 바람직하게는 10 내지 16이고 불포화일 수 있다. 알킬 에테르 술페이트, 알킬 에테르 술포숙시네이트, 알킬 에테르 포스페이트, 및 알킬 에테르 카르복실산 및 그의 염은 분자 당 1 내지 20개의 에틸렌 옥시드 또는 프로필렌 옥시드 단위를 함유할 수 있다.
본 발명의 샴푸 조성물에 사용하기 위한 전형적인 음이온성 세정 계면활성제 에는 나트륨 올레일 숙시네이트, 암모늄 라우릴 술포숙시네이트, 나트륨 라우릴 술페이트, 나트륨 라우릴 에테르 술페이트, 나트륨 라우릴 에테르 술포숙시네이트, 암모늄 라우릴 술페이트, 암모늄 라우릴 에테르 술페이트, 나트륨 도데실벤젠 술포네이트, 트리에탄올아민 도데실벤젠 술포네이트, 나트륨 코코일 이세티오네이트, 나트륨 라우릴 이세티오네이트, 라우릴 에테르 카르복실산 및 나트륨 N-라우릴 사르코시네이트가 포함된다.
바람직한 음이온성 세정 계면활성제에는 나트륨 라우릴 술페이트, 나트륨 라우릴 에테르 술페이트 (n)EO (여기서, n은 1 내지 3임), 나트륨 라우릴 에테르 술포숙시네이트 (n)EO (여기서, n은 1 내지 3임), 암모늄 라우릴 술페이트, 암모늄 라우릴 에테르 술페이트 (n)EO (여기서, n은 1 내지 3임), 나트륨 코코일 이세티오네이트 및 라우릴 에테르 카르복실산 (n)EO (여기서, n은 10 내지 20임)이 있다.
상기 음이온성 세정 계면활성제의 임의의 혼합물이 또한 적합할 수 있다.
본 발명의 샴푸 조성물 중 음이온성 세정 계면활성제의 총량은 일반적으로 조성물의 총 중량을 기준으로 0.5 내지 45 중량％, 바람직하게는 1.5 내지 35 중량％, 더욱 바람직하게는 5 내지 20 중량％의 범위이다.
추가 성분
임의로, 본 발명의 샴푸 조성물은 성능 및/또는 소비자 수용도의 향상을 위하여 하기 기재된 바와 같은 추가 성분을 함유할 수 있다.
공-계면활성제
상기 조성물은 미적, 물리적 또는 세정 성질을 조성물에 부여하는데 기여하 기 위해 공-계면활성제를 포함할 수 있다.
공-계면활성제의 일 예는 비이온성 계면활성제이며, 이는 조성물의 총 중량을 기준으로 0.5 내지 8 중량％, 바람직하게는 2 내지 5 중량％ 범위의 양으로 포함될 수 있다.
예를 들어, 본 발명의 샴푸 조성물에 포함될 수 있는 대표적 비이온성 계면활성제에는 알킬렌 옥시드, 보통 에틸렌 옥시드와 지방족 (C8-C18) 1차 또는 2차 선형 또는 분지쇄 알콜 또는 페놀의 축합 생성물 (일반적으로 6 내지 30개의 에틸렌 옥시드기를 가짐)이 포함된다.
다른 대표적 비이온성 계면활성제에는 모노- 또는 디-알킬 알칸올아미드가 포함된다. 예에는 코코 모노- 또는 디-에탄올아미드 및 코코 모노-이소프로판올아미드가 포함된다.
본 발명의 샴푸 조성물에 포함될 수 있는 추가의 비이온성 계면활성제는 알킬 폴리글리코시드 (APG)이다. 전형적으로, APG는 하나 이상의 글리코실기의 블록에 (임의로 가교기를 통해) 연결된 알킬기를 포함하는 것이다. 바람직한 APG는 하기 화학식에 의해 정의된다.
RO - (G)n
상기 식에서, R은 포화 또는 불포화일 수 있는 분지 또는 직쇄 알킬기이고, G는 사카라이드기이다.
R은 약 C5 내지 약 C20의 평균 알킬 쇄 길이를 나타낼 수 있다. 바람직하게 는 R은 약 C8 내지 약 C12의 평균 알킬 쇄 길이를 나타낸다. 가장 바람직하게는 R의 값이 약 9.5 내지 약 10.5 사이에 있다. G는 C5 또는 C6 모노사카라이드 잔기로부터 선택될 수 있고, 바람직하게는 글루코시드이다. G는 글루코스, 크실로스, 락토스, 프룩토스, 만노스 및 이들의 유도체를 포함하는 군으로부터 선택될 수 있다. 바람직하게는 G는 글루코스이다.
중합도 n은 약 1 내지 약 10 이상의 값일 수 있다. 바람직하게는, n의 값은 약 1.1 내지 약 2이다. 가장 바람직하게는, n의 값은 약 1.3 내지 약 1.5이다.
본 발명에 사용하기에 적합한 알킬 폴리글리코시드는 상업적으로 입수가능하며, 예를 들어 세픽 (Seppic)의 오라믹스 (Oramix) NS10; 및 헨켈 (Henkel)의 플란타렌 (Plantaren) 1200 및 플란타렌 2000과 같은 물질이 있다.
본 발명의 조성물에 포함될 수 있는 다른 당-유래 비이온성 계면활성제에는 C10-C18 N-알킬 (C1-C6) 폴리히드록시 지방산 아미드, 예컨대, 예를 들어 WO 92 06154 및 US 5 194 639에 기술된 C12-C18 N-메틸 글루카미드, 및 N-알콕시 폴리히드록시 지방산 아미드, 예컨대 C10-C18 N-(3-메톡시프로필) 글루카미드가 포함된다.
공-계면활성제의 바람직한 예는 양쪽성 또는 쯔비터이온성 (zwitterionic) 계면활성제이며, 이는 조성물의 총 중량을 기준으로 0.5 내지 약 8 중량％, 바람직하게는 1 내지 4 중량％ 범위의 양으로 포함될 수 있다.
양쪽성 또는 쯔비터이온성 계면활성제의 예에는 알킬 아민 옥시드, 알킬 베 타인, 알킬 아미도프로필 베타인, 알킬 술포베타인 (술타인), 알킬 글리시네이트, 알킬 카르복시글리시네이트, 알킬 암포아세테이트, 알킬 암포프로피오네이트, 알킬암포글리시네이트, 알킬 아미도프로필 히드록시술타인, 아실 타우레이트 및 아실 글루타메이트가 포함되며, 여기서 알킬 및 아실 기는 탄소수가 8 내지 19이다. 본 발명의 샴푸에 사용하기 위한 전형적인 양쪽성 및 쯔비터이온성 계면활성제에는 라우릴 아민 옥시드, 코코디메틸 술포프로필 베타인, 라우릴 베타인, 코카미도프로필 베타인 및 나트륨 코코암포아세테이트가 포함된다.
특히 바람직한 양쪽성 또는 쯔비터이온성 계면활성제는 코카미도프로필 베타인이다.
상기 양쪽성 또는 쯔비터이온성 계면활성제의 임의의 혼합물이 또한 적합할 수 있다. 바람직한 혼합물은 코카미도프로필 베타인과 상기 기재된 추가의 양쪽성 또는 쯔비터이온성 계면활성제와의 혼합물이다. 바람직한 추가의 양쪽성 또는 쯔비터이온성 계면활성제는 나트륨 코코암포아세테이트이다.
본 발명의 샴푸 조성물 중 (임의의 공-계면활성제 및/또는 임의의 유화제를 포함한) 계면활성제의 총량은 일반적으로 조성물의 총 중량을 기준으로 1 내지 50 중량％, 바람직하게는 2 내지 40 중량％, 더욱 바람직하게는 10 내지 25 중량％이다.
양이온성 중합체
양이온성 중합체는 컨디셔닝 성능을 향상시키기 위한 본 발명의 샴푸 조성물 중의 바람직한 성분이다.
적합한 양이온성 중합체는 양이온성으로 치환된 단일중합체일 수 있거나, 또는 2종 이상의 단량체로부터 형성될 수 있다. 상기 중합체의 중량 평균 (Mw) 분자량은 일반적으로 100000 내지 2백만 돌턴일 것이다. 중합체는 양이온성 질소 함유기, 예컨대 4차 암모늄 또는 양성자화된 아미노기, 또는 이들의 혼합물을 가질 것이다. 중합체의 분자량이 너무 작은 경우, 컨디셔닝 효과가 불량하다. 너무 큰 경우, 부을 때 조성물의 예사성 (stringiness)을 초래하는 고-연신 점도의 문제점이 있을 수 있다.
양이온성 질소-함유 기는 일반적으로 양이온성 중합체의 전체 단량체 단위의 일부 상에 치환체로서 존재할 것이다. 따라서 상기 중합체가 단일중합체가 아닐 경우에, 이는 스페이서 (spacer) 비-양이온성 단량체 단위를 함유할 수 있다. 이러한 중합체는 CTFA 화장품 원료 요람 (Cosmetic Ingredient Directory) 제 3 개정판에 개시되어 있다. 양이온성 단량체 단위 대 비-양이온성 단량체 단위의 비는 일반적으로 0.2 내지 3.0 meq/gm인 요구되는 범위의 양전하 밀도를 갖는 중합체를 제공하도록 선택된다. 상기 중합체의 양전하 밀도는 US 약전에 기재된 바와 같은 질소 측정에 대한 화학적 시험 하의 켈달 (Kjeldahl) 법을 통해 적합하게 측정된다.
적합한 양이온성 중합체에는 예를 들어, (메트)아크릴아미드, 알킬 및 디알킬 (메트)아크릴아미드, 알킬 (메트)아크릴레이트, 비닐 카프로락톤 및 비닐 피롤리딘과 같은 수용성 스페이서 단량체와 양이온성 아민 또는 4차 암모늄 관능기를 갖는 비닐 단량체와의 공중합체가 포함된다. 알킬 및 디알킬 치환된 단량체는 바 람직하게는 C1-C7 알킬기, 더욱 바람직하게는 C1-3 알킬기를 갖는다. 다른 적합한 스페이서에는 비닐 에스테르, 비닐 알콜, 말레산 무수물, 프로필렌 글리콜 및 에틸렌 글리콜이 포함된다.
양이온성 아민은 특정 종 및 조성물의 pH에 따라 1차, 2차 또는 3차 아민일 수 있다. 일반적으로 2차 및 3차 아민, 특히 3차 아민이 바람직하다.
아민 치환된 비닐 단량체 및 아민은 아민 형태로 중합되고, 이어서 4차화에 의해 암모늄으로 전환될 수 있다.
양이온성 중합체는 아민- 및/또는 4차 암모늄-치환된 단량체 및/또는 상용성 스페이서 단량체로부터 유도된 단량체 단위의 혼합물을 포함할 수 있다.
적합한 양이온성 중합체에는, 예를 들어, 하기가 포함된다:
- 예를 들어, 산업계 (CTFA)에서 각각 폴리쿼터늄 6 및 폴리쿼터늄 7로서 지칭되는, 디메틸디알릴암모늄 클로라이드 단일중합체 및 아크릴아미드와 디메틸디알릴암모늄 클로라이드와의 공중합체를 비롯한 양이온성 디알릴 4차 암모늄-함유 중합체;
- 탄소수 3 내지 5의 불포화 카르복실산의 단일중합체 및 공중합체의 아미노-알킬 에스테르의 무기산 염 (U.S. 특허 4,009,256에 기재된 바와 같음);
- 양이온성 폴리아크릴아미드 (WO95/22311에 기재된 바와 같음).
사용될 수 있는 다른 양이온성 중합체에는 양이온성 폴리사카라이드 중합체, 예컨대 양이온성 셀룰로스 유도체, 양이온성 전분 유도체 및 양이온성 구아 검 유도체가 포함된다.
본 발명의 조성물에 사용하기에 적합한 양이온성 폴리사카라이드 중합체는 하기 화학식의 단량체를 포함한다.
A-O-[R-N+(R1)(R2)(R3)X-]
상기 식에서, A는 무수글루코스 잔기, 예컨대 전분 또는 셀룰로스 무수글루코스 잔기이다. R은 알킬렌, 옥시알킬렌, 폴리옥시알킬렌 또는 히드록시알킬렌기, 또는 이들의 조합이다. R1, R2 및 R3은 독립적으로 알킬, 아릴, 알킬아릴, 아릴알킬, 알콕시알킬 또는 알콕시아릴기를 나타내며, 각각의 기는 탄소수가 약 18 이하이다. 각각의 양이온성 잔기에 대한 탄소 원자의 총 개수 (즉, R1, R2 및 R3의 탄소 원자의 합)는 바람직하게는 약 20개 이하이고, X는 음이온성 짝이온이다.
양이온성 셀룰로스의 또다른 유형에는 산업계 (CTFA)에서 폴리쿼터늄 24로서 지칭되는, 라우릴 디메틸 암모늄-치환 에폭시드와 반응한 히드록시에틸 셀룰로스의 중합체성 4차 암모늄 염이 포함된다. 이들 물질은 아머콜 코포레이션 (Amerchol Corporation)으로부터, 예를 들어 상표명 폴리머 LM-200으로 입수가능하다.
다른 적합한 양이온성 폴리사카라이드 중합체에는 4차 질소-함유 셀룰로스 에테르 (예를 들어 미국 특허 3,962,418에 기재된 바와 같음), 및 에테르화 셀룰로스와 전분과의 공중합체 (예를 들어 미국 특허 3,958,581에 기재된 바와 같음)가 포함된다.
사용될 수 있는 특히 적합한 유형의 양이온성 폴리사카라이드 중합체는 양이온성 구아 검 유도체, 예컨대 구아 히드록시프로필트리메틸암모늄 클로라이드 (재 규어(JAGUAR) 상표명 시리즈로 로디아(Rhodia)로부터 상업적으로 입수가능함)이다. 이러한 물질의 예는 재규어 C13S, 재규어 C14, 재규어 C15, 재규어 C17, 재규어 C16, 재규어 CHT 및 재규어 C162이다.
상기 양이온성 중합체의 임의의 혼합물을 사용할 수 있다.
양이온성 중합체는 일반적으로 조성물의 총 중량을 기준으로 0.01 내지 5 중량％, 바람직하게는 0.05 내지 1 중량％, 더욱 바람직하게는 0.08 내지 0.5 중량％의 수준으로 본 발명의 샴푸 조성물 중에 존재할 것이다.
현탁화제
바람직하게는 본 발명의 수성 샴푸 조성물은 현탁화제를 추가로 포함한다. 적합한 현탁화제는 폴리아크릴산, 아크릴산의 가교 중합체, 아크릴산과 소수성 단량체와의 공중합체, 카르복실산-함유 단량체와 아크릴 에스테르와의 공중합체, 아크릴산과 아크릴레이트 에스테르와의 가교 공중합체, 헤테로폴리사카라이드 검 및 결정성 장쇄 아실 유도체로부터 선택된다. 장쇄 아실 유도체는 바람직하게는 에틸렌 글리콜 스테아레이트, 탄소수 16 내지 22의 지방산의 알칸올아미드 및 이들의 혼합물로부터 선택된다. 에틸렌 글리콜 디스테아레이트 및 폴리에틸렌 글리콜 3 디스테아레이트는 이들이 조성물에 펄광택 (pearlescence)을 부여하기 때문에 장쇄 아실 유도체로서 바람직하다. 폴리아크릴산은 카보폴 (Carbopol) 420, 카보폴 488 또는 카보폴 493으로서 상업적으로 입수가능하다. 다관능성 작용제와 가교된 아크릴산의 중합체가 또한 사용될 수 있으며, 이들은 카보폴 910, 카보폴 934, 카보폴 941 및 카보폴 980으로서 상업적으로 입수가능하다. 카르복실산 함유 단량체와 아 크릴산 에스테르와의 적합한 공중합체의 예는 카보폴 1342이다. 모든 카보폴 (상표명) 물질은 굿리치 (Goodrich)로부터 입수가능하다.
아크릴산과 아크릴레이트 에스테르와의 적합한 가교 중합체는 페뮬렌 (Pemulen) TR1 또는 페뮬렌 TR2이다. 적합한 헤테로폴리사카라이드 검은 예를 들어 켈잔 무 (Kelzan mu)로서 입수가능한 크산탄 검이다.
상기 현탁화제의 임의의 혼합물을 사용할 수 있다. 아크릴산과 결정성 장쇄 아실 유도체와의 가교 중합체의 혼합물이 바람직하다.
현탁화제는 일반적으로 조성물의 총 중량을 기준으로 0.1 내지 10 중량％, 바람직하게는 0.5 내지 6 중량％, 더욱 바람직하게는 0.9 내지 4 중량％의 수준으로 본 발명의 샴푸 조성물 중에 존재할 것이다.
추가 컨디셔닝제
본 발명의 조성물은 습식 또는 건식 컨디셔닝 이점을 최적화하기 위해 상기 기재된 물질 이외에 추가 컨디셔닝제를 포함할 수 있다.
적합한 추가 컨디셔닝제의 예는 휘발성 실리콘이다.
본원에 사용된 용어 "휘발성"은 주위 조건 하에서의 해당 물질의 증기압이 에탄올의 증기압 이상인 것을 의미한다.
본 발명의 조성물에 사용하기에 적합한 휘발성 실리콘에는 선형 및 환형 실리콘 모두가 포함된다. 선형 휘발성 실리콘은 일반적으로 25℃에서 점도가 5 mm2/초 (센티스토크) 이하일 것이나, 환형 휘발성 실리콘은 일반적으로 25℃에서 점도 가 10 mm2/초 이하일 것이다.
적합한 환형 휘발성 실리콘에는 시클로폴리실록산, 예컨대 시클로알킬실록산 및 시클로알킬알콕시실록산이 포함되며, 여기서 알킬 및 알콕시기는 C1-C8 알킬기를 함유한다.
적합한 환형 휘발성 실리콘의 화학식은 하기와 같다.
[(R1)(R2)Si-O-]n
상기 식에서, n은 3 내지 7이고, R1 및 R2는 독립적으로 C1-C8 알킬, 아릴 (특히 페닐) 및 알카릴 (예를 들어, C1-C8 치환된 아릴)로부터 선택된다.
바람직하게는 R1 및 R2는 C1-C2 알킬이다. 가장 바람직하게는 R1 및 R2는 C1 알킬이다 (이러한 물질은 CTFA 명칭 시클로메티콘을 갖음).
바람직하게는 n은 4 내지 6, 가장 바람직하게는 4 또는 5이다.
가장 바람직한 환형 휘발성 실리콘의 특정 예는 옥타메틸 시클로테트라실록산, 데카메틸 시클로펜타실록산 및 이들의 혼합물이다.
선형 휘발성 실리콘에는 폴리유기실록산, 예컨대 폴리디알킬실록산 및 폴리알킬아릴실록산이 포함된다.
적합한 선형 휘발성 실리콘의 화학식은 하기와 같다.
(R1)(R2)(R3)Si-O-[Si(R4)(R5)O]nSi(R6)(R7)(R8)
상기 식에서, n은 1 내지 7이고, R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 및 R8은 독립적으로 C1-C8 알킬, 아릴 (특히 페닐) 및 알카릴 (예를 들어, C1-C8 치환된 아릴)로부터 선택된다.
바람직하게는 R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 및 R8은 C1-C2 알킬이다. 가장 바람직하게는 R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 및 R8은 C1 알킬이다 (이러한 물질은 CTFA 명칭 시클로메티콘을 갖음).
상기 기재된 유형의 실리콘은 예를 들어, 다우 코닝 코포레이션으로부터 DC 244, 245, 344, 345 및 200 유체로서 상업적으로 입수가능하다.
기타 임의적인 성분
본 발명의 조성물은 성능 및/또는 소비자 수용도의 향상을 위하여 기타 성분을 함유할 수 있다. 이러한 성분에는 향료, 염료 및 안료, pH 조정제, 펄광택제 또는 유백제, 점도 변성제, 보존제, 및 식물성, 과일 추출물, 당 유도체 및 아미노산과 같은 자연 모발 영양제가 포함된다.
사용 방식
본 발명의 조성물은 모발 섬유의 표면 특성, 예컨대 모발 섬유의 매끄러움, 반드러움 (smoothness), 부드러움, 관리용이성, 정렬 (alignment) 및 광택을 개선시키기 위해, 주로 린스-오프 조성물로 인간 대상체의 모발 및/또는 두피에의 국소 적용을 위한 것이다.
본 발명에 의해 제공되는 조성물은 바람직하게는 모발의 처리 이후 (전형적 으로 샴푸 후) 세정되는 컨디셔너 조성물이다.
별법으로 본 발명에 의해 제공되는 조성물은 수성 샴푸 조성물일 수 있으며, 조성물을 모발에 마사지 한 후 깨끗한 물로 세정하고 이후 모발을 건조시킨다. 임의로, 별도의 컨디셔닝 제형물이 세정 후 및 건조 전에 도포될 수 있으나, 이는 본 발명의 수성 샴푸 조성물이 모발에 세척 및 컨디셔닝 모두를 제공하는 것을 목적으로 할 경우에는 필요하지 않을 수 있다.
본 발명은 하기의 비-제한적 실시예로 추가로 설명될 것이며, 여기서 모든 백분율은 달리 언급이 없는 한, 총 중량을 기준으로 한 중량에 관한 것이다. 본 발명에 따른 실시예는 숫자에 의해 지시된다. 비교 실시예 (본 발명에 따르지 않음)는 문자에 의해 지시된다.
모발 컨디셔너 제형물을 하기 표 1에 기재된 성분을 사용하여 제조하였다.
Figure 112009077096350-PCT00001
(1) 세트리모늄 클로라이드 (50 중량％ a.i.).
(2) 디(수소화 탈로우) 디메틸암모늄 클로라이드 (75 중량％ a.i.).
(3) R이 C12 선형 알킬 라디칼이고, m이 75이고, n이 1150인 상기 화학식 (I)의 알킬 개질된 실리콘의 에멀션 (65 중량％ a.i., 비이온성 계면활성제 포함) (모멘티브 퍼포먼스 매테리얼스 인코포레이티드 제품).
(4) R이 C12 선형 알킬 라디칼이고, m이 50이고, n이 770인 상기 화학식 (I)의 알킬 개질된 실리콘의 에멀션 (65 중량％ a.i., 비이온성 계면활성제 포함) (모멘티브 퍼포먼스 매테리얼스 인코포레이티드 제품).
(5) 디메티코놀의 에멀션 (60 중량％ a.i., 음이온성 계면활성제 포함).
표 1의 제형물을 이들의 모발 정렬 및 모발 상의 이들의 규소 침착에 대하여 평가하였다. 모발 정렬 시험을 위해, 시험 제형물을 평균 질량 및 치수의 모발의 모발 꼭지 (hair switch)에 도포하였다. 이들 모발 꼭지를 조절된 조건 하에 건조시키고 사진을 촬영하였다. 패널들에게 기준 참조 이미지에 대해 이들 사진에서의 모발 꼭지의 비정렬도를 비교하여 짝짓도록 하였다. 각각의 시험 제형물에 대해 36개의 비교 쌍이 나왔다.
X-선 형광 분광법을 이용하여 규소 침착을 측정하였다.
시험 제형물로 처리한 후 모발 꼭지의 부피를 또한 측정하였다.
상기 분석의 결과를 하기 표 2에 기재하였다.
Figure 112009077096350-PCT00002
모발 비정렬에 대해, 보다 낮은 점수가 바람직하다. 모발 상의 과도한 수준의 규소 침착을 피하는 것이 또한 바람직하다. 상기 데이터로부터 높은 수준의 규소 침착이 감소된 모발 꼭지 부피와 어떤 상관 관계가 있는지 알 수 있다.
실시예 1 (본 발명) 및 실시예 A 내지 C (비교용) 모두에 알킬 개질된 실리콘(3)을 다양한 활성 수준으로 사용하였다. 이들 내에서, 실시예 1 및 실시예 C가 최상의 (즉, 가장 낮은) 모발 비정렬 점수를 나타내었다. 그러나, 실시예 C는 실시예 1과 비교하여, 바람직하지 못하게 11배 증가한 모발 상의 규소 침착 및 상당히 감소한 모발 꼭지 부피를 나타내었다.
실시예 2 (본 발명) 및 실시예 D 내지 F (비교용) 모두에 알킬 개질된 실리콘(4)을 다양한 활성 수준으로 사용하였다. 이들 내에서, 실시예 2 및 실시예 F가 최상의 (즉, 가장 낮은) 모발 비정렬 점수를 나타내었다. 그러나, 실시예 F는 실시예 2와 비교하여, 바람직하지 못하게 24배 증가한 모발 상의 규소 침착 및 상당히 감소한 모발 꼭지 부피를 나타내었다.
비교 실시예 G는 실시예 2의 규소 침착 수준과 대략 동등한 규소 침착 수준을 나타내었다. 그러나 모발 비정렬에 대한 실시예 G의 성능은 실시예 2의 성능에 비해 상당히 열등하였다.
이와 같이 본 발명의 제형물은 비교 실시예에 비하여 모발 정렬, 규소 침착 및 모발 부피의 우수한 조화를 제공하였다.

Claims (7)

  1. (i) 알킬 개질된 실리콘의 유화된 입자, 및
    (ii) 비-휘발성의 비-알킬 개질된 실리콘의 유화된 입자
    를 포함하는 모발 관리 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 알킬 개질된 실리콘이 하기 화학식 (I)으로 나타내어지는 것인 조성물.
    <화학식 I>
    (CH3)3Si-O-[Si(CH3)(R)O]m-[Si(CH3)2O]n-Si(CH3)3
    상기 식에서, m은 1 내지 450의 값이고, n은 1 내지 3000의 값이고, R은 탄소수 8 내지 60의 1가 알킬 라디칼이다.
  3. 제2항에 있어서, R이 탄소수 10 내지 12의 선형 알킬 라디칼인 조성물.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 비-휘발성의 비-알킬 개질된 실리콘이 하기 화학식 (II)로 나타내어지는 것인 조성물.
    <화학식 II>
    A(R)2Si-O-[Si(R)2-O]x-Si(R)2A
    상기 식에서, 각각의 R은 독립적으로 C1 -4 알킬 또는 아릴로부터 선택되고, x는 200 내지 8,000의 정수이고, 각각의 A는 독립적으로 C1 -4 알킬, C1 -4 알콕시, 아릴, 아릴옥시 또는 히드록실로부터 선택된다.
  5. 제4항에 있어서, 모든 R기가 메틸이고, A기가 둘다 히드록실인 조성물.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 알킬 개질된 실리콘 대 비-휘발성의 비-알킬 개질된 실리콘의 중량비가 1:2 내지 1:8의 범위인 조성물.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 모발의 처리 후 (샴푸 후) 세정되는 컨디셔너 형태인 조성물.
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