KR20090133092A - 실리카겔 및 그 제조 방법 - Google Patents
실리카겔 및 그 제조 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20090133092A KR20090133092A KR1020090055465A KR20090055465A KR20090133092A KR 20090133092 A KR20090133092 A KR 20090133092A KR 1020090055465 A KR1020090055465 A KR 1020090055465A KR 20090055465 A KR20090055465 A KR 20090055465A KR 20090133092 A KR20090133092 A KR 20090133092A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- silica gel
- aging
- pore
- silica
- pore diameter
- Prior art date
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 231
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 title claims abstract description 123
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 123
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 17
- 230000032683 aging Effects 0.000 claims abstract description 79
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 51
- 239000000017 hydrogel Substances 0.000 claims abstract description 46
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 14
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 claims abstract description 14
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 162
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 49
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 20
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 9
- -1 transition metal salt Chemical class 0.000 claims description 8
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims description 8
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 7
- 238000001879 gelation Methods 0.000 claims description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 abstract 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 abstract 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 36
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 13
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 9
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 7
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 6
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 5
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910000358 iron sulfate Inorganic materials 0.000 description 4
- BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L iron(2+) sulfate (anhydrous) Chemical compound [Fe+2].[O-]S([O-])(=O)=O BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 3
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical class [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 3
- 102100020895 Ammonium transporter Rh type A Human genes 0.000 description 2
- 101100301844 Arabidopsis thaliana RH50 gene Proteins 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101150107345 Rhag gene Proteins 0.000 description 2
- 241000705939 Shortia uniflora Species 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 150000002843 nonmetals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- 101100087414 Arabidopsis thaliana RH20 gene Proteins 0.000 description 1
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 159000000021 acetate salts Chemical class 0.000 description 1
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000003841 chloride salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N lithium metasilicate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])=O PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052912 lithium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000000053 physical method Methods 0.000 description 1
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/14—Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
- C01B33/157—After-treatment of gels
- C01B33/158—Purification; Drying; Dehydrating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Drying Of Gases (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
Abstract
(과제)저습도 하에서도 고습도 하에서도 흡습률이 높은 실리카겔 및 그 제조 방법을 제공한다.
(해결 수단)전체 세공(細孔) 용적이 0.45~1.0㎤/g이며, 또한, 세공 직경 2.5㎚ 이하의 영역에 세공 분포의 피크(최대치)가 존재하는 것을 특징으로 하는 실리카겔. 규산알칼리 수용액에 무기산 수용액을 가하여, pH10.5~11.5에서 졸을 형성한 후, 겔화시켜, 숙성 전 실리카히드로겔을 얻는 겔화 공정과, 그 숙성 전 실리카히드로겔을, pH4~7에서 1차 숙성하고, 1차 숙성 실리카히드로겔을 얻는 1차 숙성 공정과, 그 1차 숙성 실리카히드로겔을, pH0.5~2에서 2차 숙성하고, 2차 숙성 실리카히드로겔을 얻는 2차 숙성 공정과, 그 2차 숙성 실리카히드로겔을 건조하고, 실리카겔을 얻는 건조 공정을 가지는 것을 특징으로 하는 실리카겔의 제조 방법.
Description
본 발명은, 저습도 하에서도 고습도 하에서도 뛰어난 흡습 성능을 가지는 실리카겔 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
종래의 실리카겔에는, A형 실리카겔과 B형 실리카겔이 있지만, JIS Z0701(포장용 실리카겔 건조제)에는, A형은 「저습도에 있어서 습기를 흡착하는 힘이 강한 것」과, B형은 「고습도에 있어서 다량의 습기를 빨아들이고, 흡착 용량이 큰 것」으로 규정되고, A형의 상대 습도 20%, 50% 및 90%에 있어서의 흡습률이, 각각, 「8.0 이상, 20.0 이상, 30.0 이상」과, B형의 상대 습도 20%, 50 % 및 90%에 있어서의 흡습률이, 각각, 「3.0 이상, 10.0 이상, 50.0 이상」으로 규정되어 있다.
즉, A형 실리카겔은, 상대 습도 50% 이하의 저습도 하에서는, 비교적 흡습률이 높지만, 상대 습도가 높아짐에 따라 흡습률이 한계점에 이르게 된다. 한편, B형 실리카겔은, 상대 습도 90%를 넘는 고습도 하에서는, 매우 높은 흡습성을 나타내지만, 상대 습도 50% 이하에서는, 흡습률이 매우 작다.
상기와 같이, A형 실리카겔은 고습도에 있어서의 흡습률이 작고, 또, B형 실리카겔은 저습도에 있어서의 흡습률이 작다고 하는 문제가 있다. 이 때문에, A형 실리카겔이나 B형 실리카겔을 제습제로서 사용하는데는, 이들 제습제를 습도 환경에 따라 구분하여 사용할 필요가 있다.
일본국 특허공개평9-71410호 공보(특허 문헌 1)에는, 종래의 실리카겔에 비해 흡습률이 높은 실리카겔, 특히 고습도 하에서의 흡습률이 높은 실리카겔로서, 세공 구조 측정에 있어서 세공 용적이 1.0~1.3㎤/g, 비표면적이 700~800㎡/g, 평균 세공 직경이 5~7.5㎚인 실리카겔이 개시되어 있다. 그러나, 특허 문헌 1 기재의 흡습제는, 고습도 하에서는 높은 흡습률을 나타내지만, 상대 습도 50% 이하의 저습도 하에서는 A형 실리카겔에 비해, 흡습률이 낮은 것이었다.
[특허 문헌 1:일본국 특허공개평9-71410호 공보(특허 청구의 범위)]
따라서, 본 발명의 목적은, 저습도 하에서도 고습도 하에서도 흡습률이 높은 실리카겔 및 그 제조 방법을 제공하는 것에 있다.
이러한 실정에 있어서, 본 발명자들은 예의 검토를 행한 결과, (1)pH10.5~11.5에서 규산알칼리로부터 실리카졸을 형성시키고, 겔화하고, 다음에, 얻어진 히드로실리카겔을, pH4~7과 pH0.5~2의 2단계로 숙성을 행함으로써, 종래의 A형 실리카겔에는 거의 없었던, 5~25㎚의 세공 직경의 세공을 형성시킬 수 있는 것 과, (2)그러한 세공을 가지는 실리카겔은, 세공 용적이 0.45~1.0㎤/g으로 A형 실리카겔보다 많음에도 불구하고, 세공 직경 2.5㎚ 이하의 영역에 세공 분포의 피크(최대치)를 가지고 있는 것, (3)또한, 세공 직경 5~25㎚의 합계 세공 용적(V1)과 세공 직경 2~25㎚의 합계 세공 용적(V2)의 비 (V1)/(V2)가, 0.25~0.7이며, A형 실리카겔에 비해, 세공 직경 5~25㎚의 세공의 합계 세공 용적이 매우 큰 것, (4)그리고, 이들 물성을 가지는 실리카겔은, RH20%~50%의 저습도 하에서도 RH90%의 고습도 하에서도, 높은 흡습률을 나타내는 것 등을 발견하고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
즉, 본 발명은, 전체 세공 용적이 0.45~1.0㎤/g이며, 또한, 세공 직경 2.5㎚ 이하의 영역에 세공 분포의 피크(최대치)가 존재하는 것을 특징으로 하는 실리카겔을 제공하는 것이다.
또, 본 발명은, 규산알칼리 수용액에 무기산 수용액을 가하여, pH10.5~11.5에서 졸을 형성한 후, 겔화시켜, 숙성 전 실리카히드로겔을 얻는 겔화 공정과,
그 숙성 전 실리카히드로겔을, pH4~7에서 1차 숙성하고, 1차 숙성 실리카히드로겔을 얻는 1차 숙성 공정과,
그 1차 숙성 실리카히드로겔을, pH0.5~2에서 2차 숙성하고, 2차 숙성 실리카히드로겔을 얻는 2차 숙성 공정과,
그 2차 숙성 실리카히드로겔을 건조하여, 실리카겔을 얻는 건조 공정을 가지는 것을 특징으로 하는 실리카겔의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명에 의하면, 저습도 하에서도 고습도 하에서도 흡습률이 높은 실리카겔 및 그 제조 방법을 제공할 수 있다.
본 발명의 실리카겔은, 전체 세공 용적이 0.45~1.0㎤/g이며, 또한, 세공 직경 2.5㎚ 이하의 영역에 세공 분포의 피크(최대치)가 존재하는 실리카겔이다.
본 발명의 실리카겔의 전체 세공 용적은, 0.45~1.0㎤/g, 바람직하게는 0.55~0.75㎤/g이다. 전체 세공 용적이 상기 범위에 있고, 또한, 세공 직경 2.5㎚ 이하의 영역에 세공 분포의 피크(최대치)가 존재하고, 세공 직경 5~25㎚의 세공을 가짐으로써, A형 실리카겔이면서, 고습도 하에서의 흡습률이 높아진다. 한편, 전체 세공 용적이, 상기 범위 미만이면, 고습도 하에서의 흡습률이 낮아지고, 또, 상기 범위를 넘으면, 저습도 하에서의 흡습률이 낮아진다. 또한, 본 발명에 있어서, 전체 세공 용적은, 일본벨사제 벨소프 Mini를 사용하여, 150℃에서 3시간 진공 가열 탈기에 의한 사전 처리 후, 측정을 행하고, BET법에 따라 계산하여 구한 값이다.
본 발명의 실리카겔은, 세공 직경 2.5㎚ 이하의 영역에 세공 분포의 피크(최대치)가 존재한다. 세공 직경 2.5㎚ 이하의 영역에 세공 분포의 피크(최대치)가 존재함으로써, 저습도 하에서의 흡습률이 높아진다. 한편, 세공 직경 2.5㎚를 넘는 영역에 세공 분포의 피크(최대치)가 존재하면, 저습도 하에서의 흡습률이 낮아진다.
그리고, 본 발명의 실리카겔의, 세공 직경 5~25㎚의 합계 세공 용적(V1)과 세공 직경 2~25㎚의 합계 세공 용적(V2)의 비 (V1)/(V2)가, 0.25~0.7인 것이 바람직하고, 0.25~0.55인 것이 특히 바람직하다. (V1)/(V2)의 값이, 상기 범위에 있음으로써, 저습도 하에서도 고습도 하에서도 흡습률이 높아진다는 본 발명의 효과가 높아진다. 한편, (V1)/(V2)의 값이, 상기 범위보다 작으면 고습도 하에서의 흡습률이 낮아지고, 또, 상기 범위보다 크면 저습도 하에서의 흡습률이 낮아진다.
본 발명에 있어서, 세공 분포의 피크(최대치) 및 (V1)/(V2)는, 일본벨사제 벨소프 Mini를 사용하여, 150℃에서 3시간 진공 가열 탈기에 의한 사전 처리 후, 측정을 행하고, 공지의 BJH법에 따르는 세공 분포 계산 결과로부터 구해진다. 이것들에 대해서, 도 1을 참조하여 설명한다. 도 1 중, 부호 1로 나타내는 곡선은, 본 발명의 일례의 실리카겔의 BJH법에 따르는 세공 분포 계산 결과 얻어진 세공 분포 곡선이다. 도 1 중, 세공 분포 곡선(1)은, 2㎚ 부근에 피크(최고치)(부호 2)를 가지고 있다. 그리고, 그 피크(최대치)(2)의 위치는, 2.5㎚ 이하의 영역에 있다. 따라서, 도 1에 나타내는 세공 분포 곡선을 가지는 실리카 겔에서는, 세공 직경 2.5㎚ 이하의 영역에 세공 분포의 피크(최대치)가 존재한다. 또, 도 2 중, 부호 3으로 나타내는 세공 분포 곡선과 같이, 세공 분포 곡선이 1㎚ 부근까지 계속 상승하고 있는 경우, 피크(최대치)가 관찰되지 않지만, 그 세공 분포 곡선(3)으로부터는, 2.5㎚ 이하의 범위에 피크(최대치)가 있는 것은 분명하므로, 이와 같은 경우 도, 세공 직경 2.5㎚ 이하로 세공 분포의 피크(최대치)가 존재한다고 할 수 있다. 또한, BJH법에 따르는 세공 분포 계산에서는, 정밀도 좋게 측정할 수 있는 하한은 세공 직경이 2㎚이지만, 세공 직경이 1~2㎚여도, 정밀도는 떨어져도 세공의 존재 및 세공 용적을 측정할 수는 있다.
또, 세공 직경 5~25㎚의 합계 세공 용적(V1)은, 도 1 중, 5~25㎚의 범위의 세공 분포 곡선과 X축으로 둘러싸인 부분(도 1 중, 좌상으로부터 우하로 향하는 사선으로 나타내는 부분)의 면적이며, 5~25㎚의 세공 용적의 적산치이다. 또, 세공 직경 2~25㎚의 합계 세공 용적(V2)은, 도 1 중, 2~25㎚의 범위의 세공 분포 곡선과 X축으로 둘러싸인 부분(도 1 중, 우상으로부터 좌하로 향하는 사선으로 나타내는 부분)의 면적이며, 2~25㎚의 세공 용적의 적산치이다.
BJH법에 따르는 세공 분포 계산에 있어서, 세공의 측정은, 질소 흡착등온선 측정 방법이며, 해석은 세공 형상이 원통형이라고 하는 가정에 기초하고 있다. 또한, 세공 직경 1~2㎚의 측정 정밀도는, 세공 직경 2㎚ 이상의 측정 정밀도에 비해 떨어지기 때문에, 또, 세공 직경 25㎚를 넘는 세공은 무시할 수 있을 만큼 적기 때문에, 합계 세공 용적의 비의 계산에서는, 2~25㎚의 범위에서 행했다. 또, (V1) 및 (V2)는 세공 분포 곡선으로부터 수동 계산 또는 자동 계산에 의해 구할 수 있다.
본 발명의 실리카겔에는, 도 1에 나타내는 세공 분포와 같이, 세공 분포의 피크(최대치)가 2.5㎚ 이하인 영역에 존재하고, 또한, 세공 직경이 5㎚ 이상인 큰 세공도 많이 존재하고 있다. 한편, 종래의 A형 실리카겔은, 세공 분포의 피크(최 대치)가 2.5㎚ 이하인 영역에 존재하지만, 세공 직경이 5㎚ 이상인 큰 세공은 거의 없다. 또, 종래의 B형 실리카겔은, 예를 들면 세공 직경 4.0~8.0㎚의 영역에서 세공 분포의 피크(최대치)가 존재한다.
본 발명의 실리카겔의 비표면적은 580~900㎡/g, 평균 세공 직경은 2.5~5㎚의 범위이다. 또한, 본 발명에 있어서, 비표면적 및 평균 세공 직경은, 일본벨사제 벨소프 Mini를 사용하여, 150℃에서 3시간 진공 가열 탈기에 의한 사전 처리 후, 측정을 행하고, BET법에 의해 계산하여 구한 것이다.
본 발명의 실리카겔은, 전이 금속 또는 비금속(卑金屬)을 함유하는 것이어도 된다. 본 발명의 실리카겔이, 전이 금속 또는 비금속을 함유함으로써, 흡탈착 성능이 높아진다. 즉, 본 발명의 적합한 실리카겔은, 실리카겔로서의 산화규소에 대해서, 전이 금속 또는 비금속의 산화물이 배합되어 있다. 전이 금속 또는 비금속의 산화물의 배합량으로서는, 산화규소 100질량부 중, 0.1~10.0질량부이다. 전이 금속 및 비금속으로서는, 철, 티탄, 알루미늄, 지르코늄을 들 수 있고, 이들 중, 철이 흡탈착 성능이 뛰어난 점에서 바람직하다.
본 발명의 실리카겔의 제조 방법은, 규산알칼리 수용액에 무기산 수용액을 가하여, pH10.5~11.5에서 졸을 형성한 후, 겔화시켜, 숙성 전 실리카히드로겔을 얻는 겔화 공정과,
그 숙성 전 실리카히드로겔을, pH4~7에서 1차 숙성하고, 1차 숙성 실리카히드로겔을 얻는 1차 숙성 공정과,
그 1차 숙성 실리카히드로겔을, pH0.5~2에서 2차 숙성하고, 2차 숙성 실리카 히드로겔을 얻는 2차 숙성 공정과,
그 2차 숙성 실리카히드로겔을 건조하고, 실리카겔을 얻는 건조 공정을 가지는 실리카겔의 제조 방법이다.
본 발명의 실리카겔의 제조 방법에 관한 그 겔화 공정은, 규산알칼리 수용액으로부터 숙성 전 실리카히드로겔을 얻는 공정이다.
규산알칼리 수용액은, 규산나트륨, 규산칼륨, 규산리튬 등의 규산알칼리의 수용액이다. 예를 들면, 규산알칼리 수용액이 규산나트륨인 경우의 SiO2/Na2O(몰비)는, 2~3.3이 바람직하고, 이러한 규산알칼리 수용액으로서는, JIS 3호 규산나트륨 수용액, 1호 규산나트륨 수용액을 들 수 있다. 규산알칼리 수용액 중의 SiO2 농도는, 5~15질량%가 바람직하다.
무기산 수용액에 관한 무기산으로서는, 예를 들면, 황산, 염산을 들 수 있다. 또한, 후술하는, 1차 숙성 공정 및 2차 숙성 공정에 관한 무기산도 마찬가지이다.
그리고, 겔화 공정에서는, 먼저, pH10.5~11.5의 범위에서, 규산알칼리 수용액에 무기산 수용액을 가하고, pH10.5~11.5의 졸을 형성시킨다. 겔화 공정에서, 규산알칼리 수용액에 무기산 수용액을 가할 때의 pH가, 10.5 미만이면, 무기산 수용액 첨가시에 겔화해 버리기 때문에, 불균일한 겔이 되고, 한편, pH가 11.5를 넘으면, pH가 규산 알칼리의 pH와 같은 정도가 되기 때문에 실리카의 졸이 거의 형성되지 않고, 겔화에 시간이 너무 걸린다. 그 규산알칼리 수용액에 그 무기산 수용 액을 가할 때의 온도는, 15~35℃이다. 다음에, 얻어진 그 pH10.5~11.5의 졸을, 15~35℃에서 방치하여, 바람직하게는 15~35℃에서 20~30분간 방치하여 겔화시켜, 숙성 전 실리카히드로겔을 얻는다. 그 후, 얻어진 숙성 전 실리카히드로겔을, 5~10㎜ 정도의 크기로 분쇄한다.
1차 숙성 공정은, 숙성 전 실리카히드로겔을, pH4~7에서 1차 숙성하여, 1차 숙성 실리카히드로겔을 얻는 공정이다.
1차 숙성 공정에서는, 물에, 숙성 전 실리카히드로겔을 가하여, 무기산으로 pH를 4~7로 조절하고, 가열하여, 1차 숙성을 행한다. 1차 숙성시의 pH가 4 미만이면, 세공 직경이 5㎚ 이상인 큰 세공이 적어지기 때문에, 전체 세공 용적이 적어지고, 그 때문에, 고습도 하에서의 흡습률이 낮아진다. 또, 1차 숙성시의 pH가 7을 넘으면, 세공 직경이 5㎚ 이상인 큰 세공이 너무 많아지기 때문에, 세공 직경이 2~5㎚인 작은 세공이 적어지므로, 저습도 하에서의 흡습률이 낮아진다. 또, 1차 숙성 공정을 행하지 않고, 0.5~2정도의 낮은 pH영역에서만 숙성을 행하면, 세공 직경이 5㎚ 이상인 큰 세공이 거의 형성되지 않기 때문에, 고습도 하에서의 흡습률이 낮아진다. 1차 숙성 공정에서 1차 숙성할 때, 숙성 온도는, 30~40℃이며, 또, 숙성 시간은 0.3~1시간이다. 그 후, 얻어진 1차 숙성 실리카히드로겔을 여과한다.
2차 숙성 공정은, 1차 숙성 실리카히드로겔을, pH0.5~2에서 2차 숙성하여, 2차 숙성 실리카히드로겔을 얻는 공정이다.
2차 숙성 공정에서는, 물에, 1차 숙성 실리카히드로겔을 가하고, 무기산을 가하여 pH를 0.5~2로 조절하고, 가열하여, 2차 숙성을 행한다. 2차 숙성시의 pH가 0.5 미만이면, 세공 직경이 5㎚ 이상인 큰 세공이 적어지기 때문에, 전체 세공 용적이 적어지고, 그 때문에, 고습도 하에서의 흡습률이 낮아진다. 또, 2차 숙성시의 pH가 2를 넘으면, 세공 직경 2~5㎚인 작은 세공이 형성되기 어려워지고, 세공 직경이 작은 세공이 적어지므로, 저습도 하에서의 흡습률이 낮아진다. 2차 숙성 공정에서 2차 숙성할 때, 숙성 온도는, 30~40℃이며, 또, 숙성 시간은 1~2시간이다. 그 후, 얻어진 2차 숙성 실리카히드로겔을, 물세정하고, 여과한다.
건조 공정은, 2차 숙성 실리카히드로겔을 건조하여, 실리카겔을 얻는 공정이다.
건조 공정에서, 건조를 행할 때의 건조 온도는, 100~150℃, 또, 건조 시간은 3~15시간이다.
본 발명의 실리카겔의 제조 방법에 관한 2차 숙성 공정에서는, 물에 무기산을 가하여 pH를 조절하지만, 그 때에, 물에 전이 금속염 또는 비금속(卑金屬)염도 가함으로써, 2차 숙성 공정을, 전이 금속염 또는 비금속염의 존재 하에서 행할 수 있다. 이로 인해, 실리카겔로서의 산화규소에 대해서, 전이 금속 또는 비금속의 산화물을 배합(도프)시킬 수 있다.
전이 금속염 또는 비금속염에 관한 전이 금속 또는 비금속으로서는, 철, 티탄, 알루미늄, 지르코늄을 들 수 있고, 이들 중, 철이 흡탈착 성능이 뛰어난 점에서 바람직하다. 또, 전이 금속염 또는 비금속염에 관한 염으로서는, 특별히 제한되지 않고, 염화물염, 황산염, 질산염, 아세트산염을 들 수 있다. 전이 금속염 또는 비금속염의 첨가량은, 산화물 환산으로, 산화규소 100질량부에 대해서, 0.1~10.0질량부이다.
본 발명의 실리카겔의 제조 방법은, 본 발명의 실리카겔을 제조하기 위해서, 적합하게 이용된다.
본 발명의 실리카겔 및 본 발명의 실리카겔의 제조 방법에 의해 얻어지는 실리카겔은, JIS Z0701에 기초하는, 25℃의 흡습률이, 상대 습도 20%에 있어서 10~13.2중량%, 상대 습도 50%에 있어서 24.0~29.0중량%, 상대 습도 90%에 있어서 45.0~67.5중량%이다. 즉, 본 발명의 실리카겔 및 본 발명의 실리카겔의 제조 방법에 의해 얻어지는 실리카겔은, 저습도 하에서의 흡습률이, 종래의 A형 실리카겔과 동등 또는 그 이상이며, 또한, 고습도하에서의 흡습률이, 종래의 B형 실리카겔과 같은 정도 또는 그 이상이다. 따라서, 본 발명의 실리카겔 및 본 발명의 실리카겔의 제조 방법에 의해 얻어지는 실리카겔은, 저습도 하에서도 고습도 하에서도 뛰어난 흡습 성능을 나타낸다. 그 때문에, 본 발명의 실리카겔 및 본 발명의 실리카겔의 제조 방법에 의해 얻어지는 실리카겔은, 회전 재생식 제습기용의 제습제로서, 뛰어난 성능을 발휘한다.
다음에, 실시예를 들어 본 발명을 더 구체적으로 설명하지만, 이것은 단지 예시로서, 본 발명을 제한하는 것은 아니다.
(실시예 1)
(실리카겔의 합성)
＜겔화 공정＞
SiO2/Na2O(몰비)=3의 규산나트륨(JIS 3호) 수용액(SiO2 농도 10%)에, 12% 농도의 황산 수용액을, 20℃에서 첨가하여, pH11의 졸을 형성시켰다. 다음에, 그 졸을 20℃에서 20분간 방치하고, 겔화시키고, 숙성 전 실리카히드로겔을 얻었다. 다음에, 얻어진 숙성 전 실리카히드로겔을, 5~10㎜정도로 분쇄했다.
＜1차 숙성 공정＞
다음에, 얻어진 숙성 전 실리카히드로겔을 물에 가하고, 2% 농도의 황산 수용액을 첨가하여, pH를 5.5로 조절하고, 35℃에서 30분간 가열하고, 숙성을 행했다. 숙성 후, 여과하여, 1차 숙성 실리카히드로겔을 얻었다.
＜2차 숙성 공정＞
다음에, 얻어진 1차 숙성 실리카히드로겔을 물에 가하고, 황산과, 황산철(산화철 환산으로, 산화규소 100질량부에 대해서 3질량부)을 수용액으로 하여 첨가하여, pH를 1.4로 조절하고, 35℃에서 90분간 가열하고, 숙성했다. 숙성 후, 여과하여, 2차 숙성 실리카히드로겔을 얻었다.
＜건조 공정＞
다음에, 얻어진 2차 숙성 실리카히드로겔을, 110℃에서 15시간 건조하여, 실리카겔을 얻었다.
(실리카겔의 평가)
＜물성 측정＞
일본벨사제 벨소프 Mini를 사용하여, 150℃에서 3시간 진공 가열 탈기에 의 한 사전 처리 후, 얻어진 실리카겔의 측정을 행하고, BET법에 따르는 비표면적, 전체 세공 용적, 평균 세공 지름을 계산했다. 그 결과를, 표 1에 나타낸다.
＜세공 분포＞
일본벨사제 벨소프 Mini를 사용하여, 150℃에서 3시간 진공 가열 탈기에 의한 사전 처리 후, 얻어진 실리카겔의 측정을 행하고, BJH법에 따르는 세공 분포 계산에 의해, 세공 분포 곡선을 구했다. 그 결과를 도 3에 나타낸다. 또, 얻어진 세공 분포 곡선으로부터, 세공 직경 5~25㎚의 합계 세공 용적(V1), 세공 직경 2~25㎚의 합계 세공 용적(V2)을 구한다. 그 결과를 표 1에 나타낸다.
＜흡습 시험＞
얻어진 실리카겔의 흡습 시험을, JIS Z0701에 준거해 행했다. 그 결과를 표 3에 나타낸다.
(실시예 2)
(실리카겔의 합성)
1차 숙성 공정에서, pH를 5.5로 조절하는 대신에, pH를 4.8로 조절하는 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법으로 행하여, 실리카겔을 얻었다.
(실리카겔의 평가)
실시예 1과 같은 방법으로 행했다. 그 결과를, 표 1, 표 3 및 도 4에 나타낸다.
(실시예 3)
(실리카겔의 합성)
1차 숙성 공정에서, pH를 5.5로 조절하는 대신에, pH를 6.5로 조절하는 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법으로 행하여, 실리카겔을 얻었다.
(실리카겔의 평가)
실시예 1과 같은 방법으로 행했다. 그 결과를, 표 1, 표 3 및 도 5에 나타낸다.
(실시예 4)
(실리카겔의 합성)
1차 숙성 공정에서, pH를 5.5로 조절하는 대신에, pH를 4.9로 조절하는 것, 및 2차 숙성 공정에서, 황산철(산화철 환산으로, 산화규소 100질량부에 대해서 3질량부) 대신에, 황산알루미늄(산화알루미늄 환산으로, 산화규소 100질량부에 대해서 2.2질량부)으로 하는 이외는, 실시예 1과 같은 방법으로 행하여, 실리카겔을 얻었다.
(실리카겔의 평가)
실시예 1과 같은 방법으로 행했다. 그 결과를, 표 1, 표 3 및 도 6에 나타낸다.
(실시예 5)
(실리카겔의 합성)
1차 숙성 공정에서, pH를 5.5로 조절하는 대신에, pH를 4.9로 조절하는 것, 및 2차 숙성 공정에서, 황산철을 첨가하지 않는 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법 으로 행하여, 실리카겔을 얻었다.
(실리카겔의 평가)
실시예 1과 같은 방법으로 행했다. 그 결과를, 표 1, 표 3 및 도 7에 나타낸다.
(비교예 1)
(실리카겔의 합성)
1차 숙성 공정에서, pH를 5.5로 조절하는 대신에, pH를 3.1로 조절하는 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법으로 행하여, 실리카겔을 얻었다.
(실리카겔의 평가)
실시예 1과 같은 방법으로 행했다. 그 결과를, 표 2, 표 4 및 도 8에 나타낸다.
(비교예 2)
(실리카겔의 합성)
1차 숙성 공정에서, pH를 5.5로 조절하는 대신에, pH를 9.7로 조절하는 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법으로 행하여, 실리카겔을 얻었다.
(실리카겔의 평가)
실시예 1과 같은 방법으로 행했다. 그 결과를, 표 2, 표 4 및 도 8에 나타낸다.
(비교예 3)
(실리카겔의 합성)
＜겔화 공정＞
SiO2/Na2O(몰비)=3의 규산나트륨(JIS 3호) 수용액(SiO2 농도 10%)에, 12% 농도의 황산 수용액을, 20℃에서 첨가하여, pH11의 졸을 형성시켰다. 다음에, 그 졸을, 20℃에서 20분간 방치하고, 겔화시켜, 숙성 전 실리카히드로겔을 얻었다. 다음에, 얻어진 숙성 전 실리카히드로겔을, 5~10㎜정도로 분쇄했다.
＜숙성 공정＞
다음에, 얻어진 숙성 전 실리카히드로겔을 물에 가하고, 황산과 황산철(산화철 환산으로, 산화규소 100질량부에 대해서 3질량부)을 수용액으로 하여 첨가하여, pH를 1.4로 조절하고, 35℃에서 90분간 가열하고, 숙성했다. 숙성 후, 여과하여, 숙성 실리카히드로겔을 얻었다.
＜건조 공정＞
다음에, 얻어진 숙성 실리카히드로겔을, 110℃에서 15시간 건조하고, 실리카겔을 얻었다.
(실리카겔의 평가)
실시예 1과 같은 방법으로 행했다. 그 결과를, 표 2, 표 4 및 도 8에 나타낸다.
(비교예 4~6)
시판의 A형 실리카겔을 준비했다.
비교예 4：도카이화학공업소사제 A형 실리카겔
비교예 5：아사히가라스에스아이테크사제 A형 실리카겔
비교예 6：토요타화공사제 A형 실리카겔
(실리카겔의 평가)
실시예 1과 같은 방법으로 행했다. 그 결과를, 표 2, 표 4 및 도 9에 나타낸다.
이들 결과로부터, 실시예 1~5에서 얻어진 실리카겔에서는, 세공 직경이 2.5㎚ 이하의 영역에 세공 분포의 피크(최대치)가 존재하고 있었다. 또, 세공 직경이 2~5㎚인 작은 세공과, 세공 직경이 5㎚ 이상인 큰 세공의 양쪽 모두를 포함하는 세공 구조를 가지고 있었다. 실시예 1에서 얻어진 실리카겔은, 저습도 하(RH50% 이하)에서는 A형 실리카겔과 동등한 흡습률이며, 또, 고습도 하(RH90%)에서는 B형 실리카겔과 동등한 흡습률이었다.
한편, 비교예 1에서 얻어진 실리카겔에서는, 측정 영역에서는 세공 분포의 피크(최대치)가 관찰되지 않았지만, 얻어진 세공 분포 곡선으로부터, 세공 직경이 2.5㎚ 이하인 영역에 세공 분포의 피크(최대치)가 존재하는 것은 분명하다. 또, 세공 직경이 2~5㎚인 작은 세공과, 세공 직경이 5㎚ 이상인 큰 세공의 양쪽 모두를 포함하는 세공 구조를 가지고 있지만, 실시예 1에서 얻어진 실리카겔에 비해, 세공 직경이 5㎚ 이상인 큰 세공이 적고, 전체 세공 용적이 작고, 고습도 하(RH 90%)에서의 흡습률이 낮았다.
비교예 2에서 얻어진 실리카겔에서는, 세공 직경이 2.5㎚ 이하의 영역에는 세공 분포의 피크(최대치)는 존재하지 않았다. 또, 세공 직경이 2~5㎚인 작은 세공과, 세공 직경이 5㎚ 이상인 큰 세공의 양쪽 모두를 포함하는 세공 구조를 가지고 있었지만, 실시예 1에서 얻어진 실리카겔에 비해, 세공 직경이 5㎚ 이상인 큰 세공이 너무 많고, 전체 세공 용적도 너무 크고, 저습도 하(RH50% 이하)에서의 흡습률이 낮았다.
비교예 3에서 얻어진 실리카겔 및 비교예 4~6의 실리카겔에서는, 측정 영역에서는 세공 분포의 피크(최대치)가 관찰되지 않았지만, 얻어진 세공 분포 곡선으로부터, 세공 직경이 2.5㎚ 이하인 영역에 세공 분포의 피크(최대치)가 존재하는 것은 분명하다. 또, 세공 직경이 5㎚ 이상인 큰 세공은, 거의 없고, 실시예1에서 얻어진 실리카겔에 비해, 고습도 하(RH90%)에서의 흡습률이 낮았다.
도 1은 본 발명의 실리카겔의 세공 분포 곡선의 일례를 나타내는 도면이다.
도 2는 다른 실리카겔의 세공 분포 곡선의 일례를 나타내는 도면이다.
도 3은 실시예 1의 실리카겔의 세공 분포 곡선을 나타내는 도면이다.
도 4는 실시예 2의 실리카겔의 세공 분포 곡선을 나타내는 도면이다.
도 5는 실시예 3의 실리카겔의 세공 분포 곡선을 나타내는 도면이다.
도 6은 실시예 4의 실리카겔의 세공 분포 곡선을 나타내는 도면이다.
도 7은 실시예 5의 실리카겔의 세공 분포 곡선을 나타내는 도면이다.
도 8은 비교예 1~3의 실리카겔의 세공 분포 곡선을 나타내는 도면이다.
도 9는 비교예 4~6의 실리카겔의 세공 분포 곡선을 나타내는 도면이다.
Claims (5)
- 전체 세공(細孔) 용적이 0.45~1.0㎤/g이며, 또한, 세공 직경 2.5㎚ 이하의 영역에 세공 분포의 피크(최대치)가 존재하는 것을 특징으로 하는 실리카겔.
- 청구항 1에 있어서,세공 직경 5~25㎚의 합계 세공 용적(V1)과 세공 직경 2~25㎚의 합계 세공 용적(V2)의 비 (V1)/(V2)가, 0.25~0.7인 것을 특징으로 하는 실리카겔.
- 청구항 1에 있어서,전이 금속 또는 비금속(卑金屬)을 함유하는 것을 특징으로 하는 실리카겔.
- 규산 알칼리 수용액에 무기산 수용액을 가하여, pH10.5~11.5에서 졸을 형성한 후, 겔화시켜, 숙성 전 실리카히드로겔을 얻는 겔화 공정과,상기 숙성 전 실리카히드로겔을, pH4~7에서 1차 숙성하고, 1차 숙성 실리카히드로겔을 얻는 1차 숙성 공정과,상기 1차 숙성 실리카히드로겔을, pH0.5~2에서 2차 숙성하고, 2차 숙성 실리카히드로겔을 얻는 2차 숙성 공정과,상기 2차 숙성 실리카히드로겔을 건조하여, 실리카겔을 얻는 건조 공정을 가 지는 것을 특징으로 하는 실리카겔의 제조 방법.
- 청구항 4에 있어서,상기 2차 숙성 공정을, 전이 금속염 또는 비금속염의 존재하에서 행하는 것을 특징으로 하는 실리카겔의 제조 방법.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008162978A JP5232545B2 (ja) | 2008-06-23 | 2008-06-23 | シリカゲル |
| JPJP-P-2008-162978 | 2008-06-23 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20090133092A true KR20090133092A (ko) | 2009-12-31 |
| KR101612548B1 KR101612548B1 (ko) | 2016-04-14 |
Family
ID=41493021
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020090055465A KR101612548B1 (ko) | 2008-06-23 | 2009-06-22 | 실리카겔 및 그 제조 방법 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5232545B2 (ko) |
| KR (1) | KR101612548B1 (ko) |
| CN (1) | CN101613109B (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114314598A (zh) * | 2020-09-30 | 2022-04-12 | 航天特种材料及工艺技术研究所 | 一种硅溶胶及其制备方法 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3000784B1 (en) * | 2013-05-20 | 2020-07-15 | Nissan Chemical Corporation | Silica sol and silica-containing epoxy resin composition |
| CN115219490B (zh) * | 2022-08-05 | 2024-11-29 | 青岛美高集团有限公司 | 一种pH变色指示型硅胶及其制备方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3305602B2 (ja) * | 1996-12-05 | 2002-07-24 | ニチアス株式会社 | 除湿素子の製造法 |
| JP2002274835A (ja) * | 2001-03-21 | 2002-09-25 | Keio Gijuku | 多孔質シリカ発泡体およびその製造方法 |
| US7377965B2 (en) * | 2005-06-20 | 2008-05-27 | J.M. Huber Corporation | Air filtration media comprising metal-doped silicon-based gel materials |
| KR100803938B1 (ko) | 2006-12-13 | 2008-02-18 | 한국화학연구원 | 실리카 메조세공체를 이용한 저온수분흡착제 |
-
2008
- 2008-06-23 JP JP2008162978A patent/JP5232545B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-06-11 CN CN200910145928.8A patent/CN101613109B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2009-06-22 KR KR1020090055465A patent/KR101612548B1/ko active IP Right Grant
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114314598A (zh) * | 2020-09-30 | 2022-04-12 | 航天特种材料及工艺技术研究所 | 一种硅溶胶及其制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN101613109B (zh) | 2014-02-26 |
| CN101613109A (zh) | 2009-12-30 |
| JP2010001197A (ja) | 2010-01-07 |
| JP5232545B2 (ja) | 2013-07-10 |
| KR101612548B1 (ko) | 2016-04-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP3305726B1 (en) | Method for preparing metal oxide-silica composite aerogel | |
| EP3388391B1 (en) | Method for manufacturing metal oxide-silica composite aerogel | |
| EP3305725B1 (en) | Method for preparing metal oxide-silica composite aerogel | |
| JP5528296B2 (ja) | エアロゲル | |
| EP3202712B1 (en) | Method for preparing hydrophobic metal oxide-silica composite aerogel, and hydrophobic metal oxide-silica composite aerogel prepared thereby | |
| KR101907737B1 (ko) | 금속산화물-실리카 복합 에어로겔의 제조방법 및 이를 이용하여 제조된 금속산화물-실리카 복합 에어로겔 | |
| KR101409884B1 (ko) | 소수성 모노리스형 실리카 에어로젤의 제조방법 | |
| JP2008208019A (ja) | 多孔質材及びその調製方法 | |
| KR102087801B1 (ko) | Lta 제올라이트 흡착제 및 그의 제조방법 | |
| KR20180029500A (ko) | 실리카 에어로겔의 제조방법 및 이에 의해 제조된 실리카 에어로겔 | |
| JP2012501958A (ja) | 調整可能な多孔率及び表面形態を有する含シリカ物質並びにその合成方法 | |
| KR20090133092A (ko) | 실리카겔 및 그 제조 방법 | |
| Fang et al. | Silica gel adsorbents doped with Al, Ti, and Co ions improved adsorption capacity, thermal stability and aging resistance | |
| CN104525099A (zh) | 一种具有高吸附性能的硅胶及其制备方法和用途 | |
| JPH07138013A (ja) | 高い比表面積とコントロールされた高構造性を有するシリカゲル及びその製造方法 | |
| KR102113655B1 (ko) | 실리카 에어로겔의 제조방법 및 이에 의해 제조된 실리카 에어로겔 | |
| JP2019147099A (ja) | Ｃｏ２吸着材 | |
| Azmia et al. | Rapid one pot synthesis of mesoporous ceria nanoparticles by sol-gel method for enhanced CO2 capture | |
| JP5688065B2 (ja) | シリカゲルの製造方法 | |
| CN105688872A (zh) | 一种胺功能化吸附剂及其制备方法 | |
| JP5841413B2 (ja) | 調湿剤 | |
| JP4769927B2 (ja) | シリカ吸着材の製造方法 | |
| CN114433037B (zh) | M41s介孔材料吸附剂的制备方法及m41s介孔材料吸附剂和应用 | |
| JP2012012267A (ja) | アルミニウムケイ酸塩複合体の製造方法 | |
| JP2017185809A5 (ko) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20090622 |
|
| PG1501 | Laying open of application | ||
| A201 | Request for examination | ||
| PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20140618 Comment text: Request for Examination of Application Patent event code: PA02011R01I Patent event date: 20090622 Comment text: Patent Application |
|
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20150825 Patent event code: PE09021S01D |
|
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| PE0701 | Decision of registration |
Patent event code: PE07011S01D Comment text: Decision to Grant Registration Patent event date: 20160219 |
|
| GRNT | Written decision to grant | ||
| PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20160407 Patent event code: PR07011E01D |
|
| PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20160407 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
| PG1601 | Publication of registration | ||
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20200317 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20210324 Start annual number: 6 End annual number: 6 |
|
| PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20220323 Start annual number: 7 End annual number: 7 |
|
| PC1903 | Unpaid annual fee |
Termination category: Default of registration fee Termination date: 20240118 |