KR20090109593A

KR20090109593A - 금속 티에탄 화합물, 이를 포함하는 중합성 조성물, 수지 및 그 사용

Info

Publication number: KR20090109593A
Application number: KR1020097019117A
Authority: KR
Inventors: 마사카즈 무라카미; 토모유키 안도; 히로노리 쿠보이; 히데토시 하야시; 오사무 코고; 세이이치 코바야시
Original assignee: 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤
Priority date: 2007-02-20
Filing date: 2008-02-19
Publication date: 2009-10-20
Also published as: JPWO2008102545A1; CN101616958A; EP2123695B1; JP5602893B2; WO2008102545A1; US20100240862A1; JP2013139449A; CN101616958B; KR101129857B1; US8293864B2; JP5432702B2; EP2123695A4; US20130018169A1; US8426551B2; EP2123695A1

Abstract

하기 일반식(120)으로 표시되는 금속 티에탄 화합물.

(하기 일반식(120) 중, M은 Bi, Sb, Ti, Zr 및 Ta로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종, X₁ 및 X₂는 각각 독립적으로 유황 원자 또는 산소 원자, R₁은 2가의 유기기이다. 점선과 실선으로 표시된 M-T간의 결합은 단결합 또는 이중결합을 나타낸다. m은 0 또는 1 이상의 정수, n은 M의 가수, p는 1 이상 n 이하의 정수이다. r=1일 때, q=0, Y는 1가의 무기 또는 유기기이다. r=1 또한 n-p-q가 2 이상의 경우, 복수의 Y는 각각 독립적으로 1가의 무기 또는 유기기이다. r=1 또한 n-p-q가 2 이상의 경우, 복수의 Y가 서로 결합하여 M을 포함하는 환을 형성하고 있어도 좋다. r=2일 때, n-p-q=1 또는 2, Y는 2가의 기이다. r=2 또한 n-p-q=2의 경우, 2개의 Y가 2개의 M과 함께 환을 형성하고 있어도 좋다. r=2 또한 q=2의 경우, 복수의 T는 각각 독립적으로 무기 또는 유기기이다.)

금속 티에탄 화합물

Description

금속 티에탄 화합물, 이를 포함하는 중합성 조성물, 수지 및 그 사용{METAL THIETANE COMPOUND, POLYMERIZABLE COMPOSITION COMPRISING THE COMPOUND, RESIN, AND USE OF THE RESIN}

본 발명은, 금속 티에탄 화합물, 이를 포함하는 중합성 조성물, 수지 및 그 사용에 관한 것이다.

　최근, 무기 유리에 대신하는 투명성 재료로서, 투명성 유기 고분자 재료가 사용되고 있다. 이러한 재료를 예를 들면 광학용 수지에 이용하는 경우, 일반적으로, 예를 들면 투명성, 열적 특성, 기계적 특성 등의 일반적으로 요구되는 특성을 가지면서, 한편 고굴절률로 하는 것이 요구된다.

이러한 수지에 관한 종래의 기술로서, 특허 문헌 1에 기재된 것이 있다. 동 문헌에는, 금속 함유 티에탄 화합물이 기재되어 있다. 또한, 굴절률(nd) 1.7을 초과하는 고굴절률의 광학용 수지가 기재되어 있다.

특허 문헌 1: 국제 공개 제2005/095490호 팜플렛

특허 문헌 2: 일본 특허공개공보 제2003-327583호

특허 문헌 3: 일본 특허공개공보 평10-130250호

발명의 개시

발명이 해결하고자 하는 과제

본 발명은, 고굴절률의 투명성 수지를 얻는 신규한 화합물을 제공한다.

과제를 해결하기 위한 수단

본 발명은,

[1] 하기 일반식(120)으로 표시되는 금속 티에탄 화합물.

[화학식 1]

(상기 일반식(120) 중, M은, Bi, Sb, Ti, Zr 및 Ta로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종의 금속 원자이다. X₁ 및 X₂는 각각 독립적으로 유황 원자 또는 산소 원자이다. R₁은 2가의 유기기이다.

점선과 실선으로 표시된 M-T간의 결합은, 단결합 또는 이중결합을 나타낸다. 점선과 실선으로 표시된 M-T간의 결합이 단결합의 경우, T는 1가의 무기 또는 유기기이며, q는 0 또는 1 이상 n-2 이하의 정수이며, r은 1 또는 2이다. 점선과 실선으로 표시된 M-T간의 결합이 이중결합의 경우, T는 산소 원자 또는 유황 원자이며, q=1, r=1이다.

m은 0 또는 1 이상의 정수이다.

n은 M의 가수이며, p는 1 이상 n 이하의 정수이다.

r=1일 때, q=0이며, Y는 1가의 무기 또는 유기기이다. r=1 또한 n-p-q가 2 이상의 경우, 복수의 Y는, 각각 독립적으로 1가의 무기 또는 유기기이다. r=1 또한 n-p-q가 2 이상의 경우, 복수의 Y가 서로 결합하여, M을 포함하는 환을 형성하고 있어도 좋다.

r=2일 때, n-p-q=1 또는 2이며, Y는 2가의 기이다. r=2 또한 n-p-q=2의 경우, 2개의 Y가, 2개의 M과 함께 환을 형성하고 있어도 좋다. r=2 또한 q=2의 경우, 복수의 T는, 각각 독립적으로 무기 또는 유기기이다.)

[2] 하기 일반식(110)으로 표시되는 금속 티에탄 화합물;

[화학식 2]

(상기 일반식(110) 중, M은 Bi, Sb, Ti, Zr 및 Ta로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종의 금속 원자이다. X₁ 및 X₂는 각각 독립적으로 유황 원자 또는 산소 원자이다. R₁은 2가의 유기기이다.

m은 0 또는 1 이상의 정수이다.

n은 M의 가수이며, p는 1 이상 n 이하의 정수이다.

q는 0 또는 1 이상 n-2 이하의 정수이다.

Y는 1가 또는 2가의 기이며, T는 무기 또는 유기기이다.

r은 1 또는 2이다.

r=1일 때, q=0이며, Y는 1가의 무기 또는 유기기이다. r=1 또한 n-p-q가 2 이상의 경우, 복수의 Y는, 각각 독립적으로 1가의 무기 또는 유기기이다. r=1 또한 n-p-q가 2 이상의 경우, 복수의 Y가 서로 결합하고, 금속 원자 M을 포함하는 환을 형성하고 있어도 좋다.

r=2일 때, n-p-q=1 또는 2이며, Y는 2가의 기이다. r=2 또한 n-p-q=2의 경우, 2개의 Y가, 2개의 금속 원자 M과 함께 환을 형성하고 있어도 좋다. r=2 또한 q=2의 경우, 복수의 T는, 각각 독립적으로 무기 또는 유기기이다.)

[3] 하기 일반식(100)으로 표시되는 금속 티에탄 화합물;

[화학식 3]

(상기 일반식(100) 중, X₁ 및 X₂는 각각 독립적으로 유황 원자 또는 산소 원자이다. R₁은 2가의 유기기이다.

m은 0 또는 1 이상의 정수이다.

n은 3 또는 5이다. n=3일 때, p는 1 이상 3 이하의 정수이다. n=5일 때, p는 1 이상 5 이하의 정수이다.

q는 0 또는 1 이상 n-2 이하의 정수이다.

Y는 1가 또는 2가의 기이며, T는 무기 또는 유기기이다.

r은 1 또는 2이다.

r=1일 때, q=0이며, Y는 1가의 무기 또는 유기기이다. r=1 또한 n-p-q가 2 이상의 경우, 복수의 Y는, 각각 독립적으로 1가의 무기 또는 유기기이다. r=1 또한 n-p-q가 2 이상의 경우, 복수의 Y가 서로 결합하고, Sb원자를 포함하는 환을 형성하고 있어도 좋다.

　r=2일 때, n-p-q=1 또는 2이며, Y는 2가의 기이다. r=2 또한 n-p-q=2의 경우, 2개의 Y가, 2개의 Sb원자와 함께 환을 형성하고 있어도 좋다. r=2 또한 q=2의 경우, 복수의 T는, 각각 독립적으로 무기 또는 유기기이다.)

[4] 하기 일반식(1)로 표시되는 금속 티에탄 화합물;

[화학식 4]

(상기 일반식(1) 중, X₁ 및 X₂는 각각 독립적으로 유황 원자 또는 산소 원자이다. R₁은 2가의 유기기이다.

m은 0 또는 1 이상의 정수이다. n은 3 또는 5이다. n=3일 때, p는 1 이상 3 이하의 정수이며, n=5일 때, p는 1 이상 5 이하의 정수이다.

Y는 1가의 무기 또는 유기기이다. n-p가 2 이상의 경우, 복수의 Y는, 각각 독립적으로 1가의 무기 또는 유기기이다. n-p가 2 이상의 경우, 복수의 Y가 서로 결합하고, Sb원자를 포함하는 환을 형성하고 있어도 좋다.)

[5] [2] 내지 [4] 중 어느 하나에 기재된 금속 티에탄 화합물에 있어서, m=0인, 금속 티에탄 화합물;

[6] [2] 내지 [5] 중 어느 하나에 기재된 금속 티에탄 화합물에 있어서, X₁이 유황 원자인, 금속 티에탄 화합물;

[7] [4]에 기재된 금속 티에탄 화합물에 있어서, 하기 일반식(3)으로 표시되는, 금속 티에탄 화합물;

[화학식 5]

(상기 일반식(3)에 있어서, Y, n 및 p는, 각각, 상기 일반식(1)에 있어서의 Y, n 및 p와 같다.)

[8] [2] 내지 [7] 중 어느 하나에 기재된 금속 티에탄 화합물에 있어서, n=p=3인, 금속 티에탄 화합물;

[9] [8]에 기재된 금속 티에탄 화합물에 있어서, 하기 식(4)로 표시되는, 금속 티에탄 화합물;

[화학식 6]

[10] [2] 내지 [7] 중 어느 하나에 기재된 금속 티에탄 화합물에 있어서, n=p=5인, 금속 티에탄 화합물;

[11] [10]에 기재된 금속 티에탄 화합물에 있어서, 하기 식(5)로 표시되는, 금속 티에탄 화합물;

[화학식 7]

[12] [2] 내지 [11] 중 어느 하나에 기재된 적어도 1종의 금속 티에탄 화합물을 포함하는, 중합성 조성물;

[13] [12]에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 티올 화합물, 에폭시 화합물, 에피티오 화합물, 분자 구조 중에 금속 원자를 포함하지 않은 비금속 티에탄 화합물 중 적어도 하나를 더 포함하는, 중합성 조성물;

[14] [13]에 기재된 중합성 조성물에 있어서,

상기 티올 화합물이, 3-메르캅토티에탄, 1,2-에탄디티올, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸 및 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상이며,

상기 에폭시 화합물이, 비스(2,3-에폭시프로필)디설파이드, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 이소시아눌산트리글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 1,4-시클로헥산디메탄올디글리시딜에테르, 트리메티롤프로판트리글리시딜에테르, 비스페놀 F디글리시딜에테르, 비스페놀 A디글리시딜에테르, 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3',4'-에폭시시클로헥산카르복실레이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상이며,

상기 에피티오 화합물이, 비스(2,3-에피티오프로필)설파이드, 비스(2,3-에피티오프로필)디설파이드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상이며,

상기 비금속 티에탄 화합물이, 비스티에타닐디설파이드, 비스티에타닐테트라설파이드, 비스(티에타닐티오)메탄, 3-(((티에타닐티오)메틸티오)메틸티오)티에탄으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인, 중합성 조성물;

[15] [12]에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 하기 식(130)으로 표시되는 비금속 티에탄 화합물을 더 포함하는, 중합성 조성물;

[화학식 8]

[16] [12]에 기재된 중합성 조성물에 있어서,

상기 금속 티에탄 화합물이, 하기 식(4)로 표시하는 금속 티에탄 화합물로서,

[화학식 9]

하기 식(12)로 표시하는 화합물을 더 포함하는, 중합성 조성물;

[화학식 10]

[17] [16]에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 티올 화합물, 에폭시 화합물, 에피티오 화합물, 분자 구조 중에 금속 원자를 포함하지 않은 비금속 티에탄 화합물 중 적어도 하나를 더 포함하는, 중합성 조성물;

[18] [16]에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 하기 식(130)으로 표시되는 비금속 티에탄 화합물을 더 포함하는, 중합성 조성물;

[화학식 11]

[19] [12] 내지 [18] 중 어느 하나에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 일반식(110)으로 표시한 금속 티에탄 화합물을 포함하고, 중합성 화합물의 총중량에 대한 상기 일반식(110)으로 표시되는 화합물의 함유량이, 50중량% 이상인, 중합성 조성물;

[20] [12] 내지 [19] 중 어느 하나에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 블루잉제를 더 포함하는, 중합성 조성물;

[21] [12] 내지 [20] 중 어느 하나에 기재된 중합성 조성물을 주형 중합하는 공정을 포함하는, 수지의 제조방법;

[22] [12] 내지 [20] 중 어느 하나에 기재된 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 수지;

[23] [22]에 기재된 수지로 이루어지는 광학 부품;

[24] [12] 내지 [20] 중 어느 하나에 기재된 중합성 조성물의 광학 부품으로서의 사용;

[25] [12] 내지 [20] 중 어느 하나에 기재된 중합성 조성물을 중합시킨 수지의 광학 부품으로서의 사용;

[26] 하기 일반식(201)로 표시되는 티에탄 화합물;

[화학식 12]

(상기 일반식(201) 중, X₁은 유황 원자 또는 산소 원자를 나타낸다. Z는 유황 원자 또는 산소 원자를 나타낸다. p는 1 이상 5 이하의 정수를 나타낸다. q는 0 이상 2 이하의 정수이다. r은 0 이상 4 이하의 정수를 나타낸다. p＋r＋2q=5 또는 3이다.

r이 2 이상의 정수의 경우, 복수의 Y는, 각각 독립적으로 무기 또는 유기잔기를 나타낸다. 또한, 복수의 Y가 서로 결합하고, Bi원자를 포함하는 환을 형성하고 있어도 좋다.)

[27] [26]에 기재된 티에탄 화합물에 있어서, 상기 일반식(201)에 있어서, q=0인, 티에탄 화합물;

[28] [26] 또는 [27]에 기재된 티에탄 화합물에 있어서, 상기 일반식(201)에서, p=3, q=0, r=0인, 티에탄 화합물;

[29] [26]에 기재된 티에탄 화합물에 있어서, 상기 일반식(201)에 있어서, q=1인 티에탄 화합물;

[30] [29]에 기재된 티에탄 화합물에 있어서, 상기 일반식(201)에 있어서, Z가 산소 원자인, 티에탄 화합물;

[31] [26] 내지 [30] 중 어느 하나에 기재된 티에탄 화합물에 있어서, 상기 일반식(201)에 있어서, X₁이 유황 원자인, 티에탄 화합물;

[32] [26] 내지 [31] 중 어느 하나에 기재된 티에탄 화합물을 포함하는, 중합성 조성물;

[33] [32]에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 티올 화합물을 더 포함하는, 중합성 조성물;

[34] [33]에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 상기 티올 화합물이, 3-메르캅토티에탄, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸 및 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인, 중합성 조성물;

[35] [32] 내지 [34] 중 어느 하나에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 중합성 화합물의 총중량에 대한 상기 일반식(201)로 표시되는 화합물의 함유량이, 50중량% 이상인, 중합성 조성물;

[36] [32] 내지 [35] 중 어느 하나에 기재된 중합성 조성물을 주형 중합하는 공정을 포함하는, 수지의 제조방법;

[37] [32] 내지 [35] 중 어느 하나에 기재된 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 수지;

[38] [37]에 기재된 수지로 이루어지는 광학 부품;

[39] [32] 내지 [35] 중 어느 하나에 기재된 중합성 조성물의 광학 부품으로서의 사용; 및

[40] [32] 내지 [35] 중 어느 하나에 기재된 중합성 조성물을 중합시킨 수지의 광학 부품으로서의 사용이다.

발명의 효과

본 발명에 의하면, 구성 원소로서 금속 원자를 포함하는 신규한 티에탄 화합물이 제공된다.

발명을 실시하기 위한 최선의 형태

이하, 본 발명에 관하여, 구체예를 사용하여 설명하지만, 본 발명은, 이에 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명에 있어서, 각 성분 또는 기에 관하여, 예시된 것을 단독으로 사용해도 좋고, 복수 조합하여 사용해도 좋다.

처음에, 본 발명의 금속 티에탄 화합물에 관하여 설명한다.

본 발명의 금속 티에탄 화합물은, 분자 내에 티에탄기 및 특정한 금속 원자를 함유하는 화합물이며, 하기 일반식(120)으로 표시된다.

[화학식 13]

m은 0 또는 1 이상의 정수이다.

n은 M의 가수이며, p는 1 이상 n 이하의 정수이다.

r=1일 때, q=0이며, Y는 1가의 무기 또는 유기기이다. r=1 또한 n-p-q가 2 이상의 경우, 복수의 Y는, 각각 독립적으로 1가의 무기 또는 유기기이다. r=1 또한 n-p-q가 2 이상의 경우, 복수의 Y가 서로 결합하고, M을 포함하는 환을 형성하고 있어도 좋다.

상기 일반식(120)으로 표시한 화합물로서, 구체적으로는, 하기 일반식(110)으로 표시하는 화합물 및 하기 일반식(201)로 표시하는 화합물(후술)을 들 수 있다. 이하, 각각에 관하여 상세하게 설명한다.

처음에, 하기 일반식(110)으로 표시하는 화합물에 관하여 설명한다.

[화학식 14]

(상기 일반식(110) 중, M은 금속 원자이다. X₁ 및 X₂는 각각 독립적으로 유황 원자 또는 산소 원자이다. R₁은 2가의 유기기이다.

m은 0 또는 1 이상의 정수이다.

n은 M의 가수이며, p는 1 이상 n 이하의 정수이다.

q는 0 또는 1 이상 n-2 이하의 정수이다.

Y는 1가 또는 2가의 기이며, T는 무기 또는 유기기이다.

r은 1 또는 2이다.

이하, 본 발명의 금속 티에탄 화합물이 상기 일반식(110)으로 표시한 화합물인 경우의 구체적 구성을, 금속 원자 M이 Sb원자인 경우를 주로 예로 들면서, 더욱 상세하게 설명한다.

M이 Sb원자일 때, 본 발명의 금속 티에탄 화합물은, 분자 내에 티에탄기 및 Sb원자를 함유하는 화합물이며, 하기 일반식(100)으로 표시된다.

[화학식 15]

m은 0 또는 1 이상의 정수이다.

q는 0 또는 1 이상 n-2 이하의 정수이다.

Y는 1가 또는 2가의 기이며, T는 무기 또는 유기기이다.

r은 1 또는 2이다.

이하, 상기 일반식(100)에 관하여 구체적으로 설명한다.

우선, 상기 일반식(100) 중, r=1의 경우에 관하여 설명한다. r=1일 때, q=0이며, 본 발명의 금속 티에탄 화합물은 하기 일반식(1)로 표시되는 화합물로 된다.

[화학식 16]

이하, 상기 일반식(1)에 관하여 구체적으로 설명한다.

우선, 상기 일반식(1)에 있어서, X₁ 및 X₂는, 각각 독립적으로 유황 원자 또는 산소 원자를 나타낸다. 본 발명의 소망하는 효과인 고굴절률인 것을 감안하면, X₁ 및 X₂로서, 유황 원자는 보다 바람직하다.

상기 일반식(1)에 있어서, R₁은 2가의 유기기를 나타낸다.

이러한 2가의 유기기로서는, 쇄상(鎖狀) 또는 환상 지방족기, 방향족기 및 방향족-지방족기를 들 수 있고, 바람직하게는, 탄소수 1 이상 20 이하의 쇄상 지방족기, 탄소수 3 이상 20 이하의 환상 지방족기, 탄소수 5 이상 20 이하의 방향족기, 탄소수 6 이상 20 이하의 방향족-지방족기이다.

R₁은, 보다 구체적으로는, 이러한 2가의 유기기가 쇄상 또는 환상 지방족기, 방향족기 또는 방향족-지방족기로서, 바람직하게는,

메틸렌기, 에틸렌기, 1,2-디클로로에틸렌기, 트리메틸렌기, 테트라메틸렌기, 펜타메틸렌기, 시클로펜틸렌기, 헥사메틸렌기, 시클로헥실렌기, 헵타메틸렌기, 옥타메틸렌기, 노나메틸렌기, 데카메틸렌기, 운데카메틸렌기, 도데카메틸렌기, 트리데카메틸렌기, 테트라데카메틸렌기, 펜타데카메틸렌기 등의 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 또는 무치환의 쇄상 또는 환상 지방족기;

페닐렌기, 클로로페닐렌기, 나프틸렌기, 인데닐렌기, 안트라세닐렌기, 플루오레닐렌기 등의 치환 또는 무치환의 탄소수 5 이상 20 이하의 방향족기; 또는

-C₆H₄-CH₂-기, -CH₂-C₆H₄-CH₂-기, -CH₂-C₆H₃(Cl)-CH₂-기, -C₁₀H₆-CH₂-기, -CH₂-C₁₀H₆-CH₂-기, -CH₂CH₂-C₆H₄-CH₂CH₂-기 등의 치환 또는 무치환의 탄소수 6 이상 20 이하의 방향족-지방족기이다.

R₁은, 보다 바람직하게는 메틸렌기, 에틸렌기, 1,2-디클로로에틸렌기, 트리메틸렌기, 시클로펜틸렌기, 시클로헥실렌기 등의 탄소수 1 이상 6 이하의 치환 또는 무치환의 쇄상 또는 환상 지방족기;

페닐렌기, 클로로페닐렌기, 나프틸렌기, 인데닐렌기, 안트라세닐렌기, 플루오레닐렌기 등의 치환 또는 무치환의 탄소수 5 이상 15 이하의 방향족기; 또는

-C₆H₄-CH₂-기, -CH₂-C₆H₄-CH₂-기, -CH₂-C₆H₃(Cl)-CH₂-기, -C₁₀H₆-CH₂-기, -CH₂-C₁₀H₆-CH₂-기, -CH₂CH₂-C₆H₄-CH₂CH₂-기 등의 치환 또는 무치환의 탄소수 6 이상 15 이하의 방향족-지방족기이다.

이러한 2가의 유기기는, 기 중에 탄소 원자, 수소 원자 이외의 헤테로 원자를 함유하고 있어도 좋다. 이러한 헤테로 원자로서는, 산소 원자 또는 유황 원자를 들 수 있지만, 본 발명의 소망하는 효과를 고려하면, 유황 원자인 것이 바람직하다.

상기 일반식(1)에 있어서, m은 0 또는 1 이상의 정수를 나타낸다. 이러한 m은, 바람직하게는, 0 이상 4 이하의 정수이며, 보다 바람직하게는, 0 이상 2 이하의 정수이며, 더욱 바람직하게는, 정수 0 또는 1이다.

m=0일 때, 상기 일반식(1)은, 하기 일반식(2)로 된다.

[화학식 17]

(상기 일반식(2)에 있어서, X₁, Y, n 및 p는, 각각, 상기 일반식(1)에 있어서의 X₁, Y, n 및 p와 같다.)

또한, 상기 일반식(1) 중의, 티에타닐기를 포함하는 Sb원자에 결합하는 기에 있어서, 보다 한층 바람직하게는, m=0이며, 또한 X₁이 유황 원자이다. 이 때, 상기 일반식(1)은, 하기 일반식(3)으로 표시된다.

[화학식 18]

또한, 상기 일반식(3)에 있어서, 바람직하게는 n=p이다.

다음에, 상기 일반식(1)에 있어서의 n 및 p에 관하여 설명한다.

n은, Sb원자의 가수 즉 5 또는 3이다. 후술하는 중합성 조성물 중의 중합성 화합물로서 사용했을 때의 고굴절률화를 위해서 금속의 함유율을 높이는 관점에서는, n이 3인 것이 바람직하다.

또한, p는, Sb원자의 가수 이하의 양(正)의 정수이다. 따라서, Sb원자의 가수 n이 3일 때, p는 1 이상 3 이하의 양의 정수이며, Sb원자의 가수 n이 5일 때, p는 1 이상 5 이하의 양의 정수이다. 이러한 p는, 바람직하게는, n, n-1 또는 n-2이며, 보다 바람직하게는, n 또는 n-1이다.

상기 일반식(1)에 있어서, 구체적으로는 p=3이며, 더욱 구체적으로는, X₁이 유황 원자이며, n=p=3이다. 이 때, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물은, 하기 식(4)로 표시되는 화합물로 된다.

[화학식 19]

또한, 상기 일반식(1)에 있어서, 구체적으로는 p=5이며, 더욱 구체적으로는, X₁이 유황 원자이며, n=p=5이다. 이 때, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물은, 하기 식(5)로 표시되는 화합물로 된다.

[화학식 20]

상기 일반식(1)에 있어서, Y는, 1가의 무기 또는 유기기를 나타낸다. 이하, Y의 구체예를 설명한다.

우선, n-p=1의 경우, Y는 1가의 무기 또는 유기기를 나타낸다. 또한, n-p가 2 이상의 정수의 경우, 복수의 Y는, 각각 독립적으로 1가의 무기 또는 유기기를 나타낸다. 복수의 Y는, 같은 기이어도 좋고, 전부 또는 일부가 다른 기이어도 좋다. 또한, 복수의 Y가 서로 결합하고, Sb원자를 포함하는 환을 형성하고 있어도 좋다.

Y는 특별히 제한되는 것은 아니지만, 예를 들어, 수소 원자, 할로겐 원자, 수산기, 티올기, 치환 또는 무치환의 알킬기, 치환 또는 무치환의 아릴기, 치환 또는 무치환의 아랄킬기, 치환 또는 무치환의 알콕시기, 치환 또는 무치환의 알킬티오기, 치환 또는 무치환의 아릴옥시기, 치환 또는 무치환의 아릴티오기를 들 수 있다.

이들 중, 할로겐 원자, 치환 또는 무치환의 알킬기, 치환 또는 무치환의 아릴기, 치환 또는 무치환의 아랄킬기, 치환 또는 무치환의 알콕시(알킬옥시)기, 치환 또는 무치환의 알킬티오기, 치환 또는 무치환의 아릴옥시기, 치환 또는 무치환의 아릴티오기에 관하여 이하 설명한다.

할로겐 원자의 구체예로서, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 알킬기의 구체예로서, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, n-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기 등의 총탄소수 1 이상 10 이하의 직쇄 알킬기;

이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, 1-메틸펜틸기, 2-메틸펜틸기, 3-메틸펜틸기, 4-메틸펜틸기, 1-에틸부틸기, 2-에틸부틸기, 1-메틸헥실기, 2-메틸헥실기, 3-메틸헥실기, 4-메틸헥실기, 5-메틸헥실기, 1-에틸펜틸기, 2-에틸펜틸기, 3-에틸펜틸기, 1-n-프로필부틸기, 1-iso-프로필부틸기, 1-iso-프로필-2-메틸프로필기, 1-메틸헵틸기, 2-메틸헵틸기, 3-메틸헵틸기, 4-메틸헵틸기, 5-메틸헵틸기, 6-메틸헵틸기, 1-에틸헥실기, 2-에틸헥실기, 3-에틸헥실기, 4-에틸헥실기, 1-n-프로필펜틸기, 2-n-프로필펜틸기, 1-iso-프로필펜틸기, 2-iso-프로필펜틸기, 1-n-부틸부틸기, 1-iso-부틸부틸기, 1-sec-부틸부틸기, 1-tert-부틸부틸기, 2-tert-부틸부틸기, tert-부틸기, tert-펜틸기, 1,1-디메틸부틸기, 1,2-디메틸부틸기, 1,3-디메틸부틸기, 2,3-디메틸부틸기, 1-에틸-2-메틸프로필기, 1,1-디메틸펜틸기, 1,2-디메틸펜틸기, 1,3-디메틸펜틸기, 1,4-디메틸펜틸기, 2,2-디메틸펜틸기, 2,3-디메틸펜틸기, 2,4-디메틸펜틸기, 3,3-디메틸펜틸기, 3,4-디메틸펜틸기, 1-에틸-1-메틸부틸기, 1-에틸-2-메틸부틸기, 1-에틸-3-메틸부틸기, 2-에틸-1-메틸부틸기, 2-에틸-3-메틸부틸기, 1,1-디메틸헥실기, 1,2-디메틸헥실기, 1,3-디메틸헥실기, 1,4-디메틸헥실기, 1,5-디메틸헥실기, 2,2-디메틸헥실기, 2,3-디메틸헥실기, 2,4-디메틸헥실기, 2,5-디메틸헥실기, 3,3-디메틸헥실기, 3,4-디메틸헥실기, 3,5-디메틸헥실기, 4,4-디메틸헥실기, 4,5-디메틸헥실기, 1-에틸-2-메틸펜틸기, 1-에틸-3-메틸펜틸기, 1-에틸-4-메틸펜틸기, 2-에틸-1-메틸펜틸기, 2-에틸-2-메틸펜틸기, 2-에틸-3-메틸펜틸기, 2-에틸-4-메틸펜틸기, 3-에틸-1-메틸펜틸기, 3-에틸-2-메틸펜틸기, 3-에틸-3-메틸펜틸기, 3-에틸-4-메틸펜틸기, 1-n-프로필-1-메틸부틸기, 1-n-프로필-2-메틸부틸기, 1-n-프로필-3-메틸부틸기, 1-iso-프로필-1-메틸부틸기, 1-iso-프로필-2-메틸부틸기, 1-iso-프로필-3-메틸부틸기, 1,1-디에틸부틸기, 1,2-디에틸부틸기, 1,1,2-트리메틸프로필기, 1,2,2-트리메틸프로필기, 1,1,2-트리메틸부틸기, 1,1,3-트리메틸부틸기, 1,2,3-트리메틸부틸기, 1,2,2-트리메틸부틸기, 1,3,3-트리메틸부틸기, 2,3,3-트리메틸부틸기, 1,1,2-트리메틸펜틸기, 1,1,3-트리메틸펜틸기, 1,1,4-트리메틸펜틸기, 1,2,2-트리메틸펜틸기, 1,2,3-트리메틸펜틸기, 1,2,4-트리메틸펜틸기, 1,3,4-트리메틸펜틸기, 2,2,3-트리메틸펜틸기, 2,2,4-트리메틸펜틸기, 2,3,4-트리메틸펜틸기, 1,3,3-트리메틸펜틸기, 2,3,3-트리메틸펜틸기, 3,3,4-트리메틸펜틸기, 1,4,4-트리메틸펜틸기, 2,4,4-트리메틸펜틸기, 3,4,4-트리메틸펜틸기, 1-에틸-1,2-디메틸부틸기, 1-에틸-1,3-디메틸부틸기, 1-에틸-2,3-디메틸부틸기, 2-에틸-1,1-디메틸부틸기, 2-에틸-1,2-디메틸부틸기, 2-에틸-1,3-디메틸부틸기, 2-에틸-2,3-디메틸부틸기 등의 총탄소수 3 이상 10 이하의 분기 알킬기; 및

시클로펜틸기, 시클로헥실기, 메틸시클로펜틸기, 메톡시시클로펜틸기, 메톡시시클로헥실기, 메틸시클로헥실기, 1,2-디메틸시클로헥실기, 1,3-디메틸시클로헥실기, 1,4-디메틸시클로헥실기, 에틸시클로헥실기 등의 총탄소수 5 이상 10 이하의 포화 환상 알킬기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 아릴기의 구체예로서, 페닐기, 나프틸기, 안스라닐기, 시클로펜타디에닐기 등의 총탄소수 20 이하의 방향족 탄화수소;

2-메틸페닐기, 3-메틸페닐기, 4-메틸페닐기, 2-에틸페닐기, 프로필페닐기, 부틸페닐기, 헥실페닐기, 시클로헥실페닐기, 옥틸페닐기, 2-메틸-1-나프틸기, 3-메틸-1-나프틸기, 4-메틸-1-나프틸기, 5-메틸-1-나프틸기, 6-메틸-1-나프틸기, 7-메틸-1-나프틸기, 8-메틸-1-나프틸기, 1-메틸-2-나프틸기, 3-메틸-2-나프틸기, 4-메틸-2-나프틸기, 5-메틸-2-나프틸기, 6-메틸-2-나프틸기, 7-메틸-2-나프틸기, 8-메틸-2-나프틸기, 2-에틸-1-나프틸기, 2,3-디메틸페닐기, 2,4-디메틸페닐기, 2,5-디메틸페닐기, 2,6-디메틸페닐기, 3,4-디메틸페닐기, 3,5-디메틸페닐기, 3,6-디메틸페닐기, 2,3,4-트리메틸페닐기, 2,3,5-트리메틸페닐기, 2,3,6-트리메틸페닐기, 2,4,5-트리메틸페닐기, 2,4,6-트리메틸페닐기, 3,4,5-트리메틸페닐기 등의 총탄소수 20 이하의 알킬 치환 아릴기;

2-메톡시페닐기, 3-메톡시페닐기, 4-메톡시페닐기, 2-에톡시페닐기, 프로폭시페닐기, 부톡시페닐기, 헥실옥시페닐기, 시클로헥실옥시페닐기, 옥틸옥시페닐기, 2-메톡시-1-나프틸기, 3-메톡시-1-나프틸기, 4-메톡시-1-나프틸기, 5-메톡시-1-나프틸기, 6-메톡시-1-나프틸기, 7-메톡시-1-나프틸기, 8-메톡시-1-나프틸기, 1-메톡시-2-나프틸기, 3-메톡시-2-나프틸기, 4-메톡시-2-나프틸기, 5-메톡시-2-나프틸기, 6-메톡시-2-나프틸기, 7-메톡시-2-나프틸기, 8-메톡시-2-나프틸기, 2-에톡시-1-나프틸기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 20 이하의 모노 알콕시 아릴기;

2,3-디메톡시페닐기, 2,4-디메톡시페닐기, 2,5-디메톡시페닐기, 2,6-디메톡시페닐기, 3,4-디메톡시페닐기, 3,5-디메톡시페닐기, 3,6-디메톡시페닐기, 4,5-디메톡시-1-나프틸기, 4,7-디메톡시-1-나프틸기, 4,8-디메톡시-1-나프틸기, 5,8-디메톡시-1-나프틸기, 5,8-디메톡시-2-나프틸기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 20 이하의 디알콕시아릴기;

2,3,4-트리메톡시페닐기, 2,3,5-트리메톡시페닐기, 2,3,6-트리메톡시페닐기, 2,4,5-트리메톡시페닐기, 2,4,6-트리메톡시페닐기, 3,4,5-트리메톡시페닐기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시가 치환한 총탄소수 20 이하의 트리알콕시아릴기; 및

클로로페닐기, 디클로로페닐기, 트리클로로페닐기, 브로모페닐기, 디브로모페닐기, 요오드페닐기, 플루오로페닐기, 클로로나프틸기, 브로모나프틸기, 디플루오로페닐기, 트리플루오로페닐기, 테트라플루오로페닐기, 펜타플루오로페닐기 등의 할로겐 원자가 치환한 총탄소수 20 이하의 아릴기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 아랄킬기의 구체예로서, 벤질기, 페네틸기, 페닐프로필기, 나프틸에틸기 등의 총탄소수 12 이하의 아랄킬기를 들 수 있다. 또한, 그 밖에, 치환 또는 무치환의 아릴기의 구체예로 든 아릴기를 측쇄에 갖는 메틸기, 에틸기, 프로필기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 알킬옥시기의 구체예로서, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, iso-프로폭시기, n-부톡시기, iso-부톡시기, tert-부톡시기, n-펜틸옥시기, iso-펜틸옥시기, n-헥실옥시기, iso-헥실옥시기, 2-에틸헥실옥시기, 3,5,5-트리메틸헥실옥시기, n-헵틸옥시기, n-옥틸옥시기, n-노닐옥시기 등의 총탄소수 1 이상 10 이하의 직쇄 또는 분기의 알콕시기;

　시클로펜틸옥시기, 시클로헥실옥시기 등의 총탄소수 5 이상 10 이하의 시클로알콕시기;

메톡시메톡시기, 에톡시메톡시기, 에톡시에톡시기, n-프로폭시메톡시기, iso-프로폭시메톡시기, n-프로폭시에톡시기, iso-프로폭시에톡시기, n-부톡시에톡시기, iso-부톡시에톡시기, tert-부톡시에톡시기, n-펜틸옥시에톡시기, iso-펜틸옥시에톡시기, n-헥실옥시에톡시기, iso-헥실옥시에톡시기, n-헵틸옥시에톡시기 등의 총탄소수 2 이상 10 이하의 알콕시알콕시기; 및

벤질옥시기 등의 아랄킬 옥시기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 알킬티오기의 구체예로서, 메틸티오기, 에틸티오기, n-프로필티오기, iso-프로필티오기, n-부틸티오기, iso-부틸티오기, sec-부틸티오기, t-부틸티오기, n-펜틸티오기, iso-펜틸티오기, n-헥실티오기, iso-헥실티오기, 2-에틸헥실티오기, 3,5,5-트리메틸헥실티오기, n-헵틸티오기, n-옥틸티오기, n-노닐티오기 등의 총탄소수 1 이상 10 이하의 직쇄 또는 분기의 알킬티오기;

시클로펜틸티오기, 시클로헥실티오기 등의 총탄소수 5 이상 10 이하의 시클로알킬티오기;

메톡시에틸티오기, 에톡시에틸티오기, n-프로폭시에틸티오기, iso-프로폭시에틸티오기, n-부톡시에틸티오기, iso-부톡시에틸티오기, tert-부톡시에틸티오기, n-펜틸옥시에틸티오기, iso-펜틸옥시에틸티오기, n-헥실옥시에틸티오기, iso-헥실옥시에틸티오기, n-헵틸옥시에틸티오기 등의 총탄소수 2 이상 10 이하의 알콕시알킬티오기;

벤질티오기 등의 아랄킬티오기; 및

메틸티오에틸티오기, 에틸티오에틸티오기, n-프로필티오에틸티오기, iso-프로필티오에틸티오기, n-부틸티오에틸티오기, iso-부틸티오에틸티오기, tert-부틸티오에틸티오기, n-펜틸티오에틸티오기, iso-펜틸티오에틸티오기, n-헥실티오에틸티오기, iso-헥실티오에틸티오기, n-헵틸티오에틸티오기 등의 총탄소수 2 이상 10 이하의 알킬티오알킬티오기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 아릴옥시기의 구체예로서, 페닐옥시기, 나프틸옥시기, 안스라닐옥시기, 2-메틸페닐옥시기, 3-메틸페닐옥시기, 4-메틸페닐옥시기, 2-에틸페닐옥시기, 프로필페닐옥시기, 부틸페닐옥시기, 헥실페닐옥시기, 시클로헥실페닐옥시기, 옥틸페닐옥시기, 2-메틸-1-나프틸옥시기, 3-메틸-1-나프틸옥시기, 4-메틸-1-나프틸옥시기, 5-메틸-1-나프틸옥시기, 6-메틸-1-나프틸옥시기, 7-메틸-1-나프틸옥시기, 8-메틸-1-나프틸옥시기, 1-메틸-2-나프틸옥시기, 3-메틸-2-나프틸옥시기, 4-메틸-2-나프틸옥시기, 5-메틸-2-나프틸옥시기, 6-메틸-2-나프틸옥시기, 7-메틸-2-나프틸옥시기, 8-메틸-2-나프틸옥시기, 2-에틸-1-나프틸옥시기, 2,3-디메틸페닐옥시기, 2,4-디메틸페닐옥시기, 2,5-디메틸페닐옥시기, 2,6-디메틸페닐옥시기, 3,4-디메틸페닐옥시기, 3,5-디메틸페닐옥시기, 3,6-디메틸페닐옥시기, 2,3,4-트리메틸페닐옥시기, 2,3,5-트리메틸페닐옥시기, 2,3,6-트리메틸페닐옥시기, 2,4,5-트리메틸페닐옥시기, 2,4,6-트리메틸페닐옥시기, 3,4,5-트리메틸페닐옥시기 등의 총탄소수 20 이하의 무치환 또는 알킬 치환 아릴옥시기;

2-메톡시페닐옥시기, 3-메톡시페닐옥시기, 4-메톡시페닐옥시기, 2-에톡시페닐옥시기, 프로폭시페닐옥시기, 부톡시페닐옥시기, 헥실옥시페닐옥시기, 시클로헥실옥시페닐옥시기, 옥틸옥시페닐옥시기, 2-메톡시-1-나프틸옥시기, 3-메톡시-1-나프틸옥시기, 4-메톡시-1-나프틸옥시기, 5-메톡시-1-나프틸옥시기, 6-메톡시-1-나프틸옥시기, 7-메톡시-1-나프틸옥시기, 8-메톡시-1-나프틸옥시기, 1-메톡시-2-나프틸옥시기, 3-메톡시-2-나프틸옥시기, 4-메톡시-2-나프틸옥시기, 5-메톡시-2-나프틸옥시기, 6-메톡시-2-나프틸옥시기, 7-메톡시-2-나프틸옥시기, 8-메톡시-2-나프틸옥시기, 2-에톡시-1-나프틸옥시기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 20 이하의 모노 알콕시 아릴옥시기;

2,3-디메톡시페닐옥시기, 2,4-디메톡시페닐옥시기, 2,5-디메톡시페닐옥시기, 2,6-디메톡시페닐옥시기, 3,4-디메톡시페닐옥시기, 3,5-디메톡시페닐옥시기, 3,6-디메톡시페닐옥시기, 4,5-디메톡시-1-나프틸옥시기, 4,7-디메톡시-1-나프틸옥시기, 4,8-디메톡시-1-나프틸옥시기, 5,8-디메톡시-1-나프틸옥시기, 5,8-디메톡시-2-나프틸옥시기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 20 이하의 디알콕시아릴옥시기;

2,3,4-트리메톡시페닐옥시기, 2,3,5-트리메톡시페닐옥시기, 2,3,6-트리메톡시페닐옥시기, 2,4,5-트리메톡시페닐옥시기, 2,4,6-트리메톡시페닐옥시기, 3,4,5-트리메톡시페닐옥시기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 20 이하의 트리알콕시아릴옥시기; 및

클로로페닐옥시기, 디클로로페닐옥시기, 트리클로로페닐옥시기, 브로모페닐옥시기, 디브로모페닐옥시기, 요오드페닐옥시기, 플루오로페닐옥시기, 클로로나프틸옥시기, 브로모나프틸옥시기, 디플루오로페닐옥시기, 트리플루오로페닐옥시기, 테트라플루오로페닐옥시기, 펜타플루오로페닐옥시기 등의 할로겐 원자가 치환한 총탄소수 20 이하의 아릴옥시기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 아릴티오기의 구체예로서, 페닐티오기, 나프틸티오기, 안스라닐티오기, 2-메틸페닐티오기, 3-메틸페닐티오기, 4-메틸페닐티오기, 2-에틸페닐티오기, 프로필페닐티오기, 부틸페닐티오기, 헥실페닐티오기, 시클로헥실페닐티오기, 옥틸페닐티오기, 2-메틸-1-나프틸티오기, 3-메틸-1-나프틸티오기, 4-메틸-1-나프틸티오기, 5-메틸-1-나프틸티오기, 6-메틸-1-나프틸티오기, 7-메틸-1-나프틸티오기, 8-메틸-1-나프틸티오기, 1-메틸-2-나프틸티오기, 3-메틸-2-나프틸티오기, 4-메틸-2-나프틸티오기, 5-메틸-2-나프틸티오기, 6-메틸-2-나프틸티오기, 7-메틸-2-나프틸티오기, 8-메틸-2-나프틸티오기, 2-에틸-1-나프틸티오기, 2,3-디메틸페닐티오기, 2,4-디메틸페닐티오기, 2,5-디메틸페닐티오기, 2,6-디메틸페닐티오기, 3,4-디메틸페닐티오기, 3,5-디메틸페닐티오기, 3,6-디메틸페닐티오기, 2,3,4-트리메틸페닐티오기, 2,3,5-트리메틸페닐티오기, 2,3,6-트리메틸페닐티오기, 2,4,5-트리메틸페닐티오기, 2,4,6-트리메틸페닐티오기, 3,4,5-트리메틸페닐티오기 등의 총탄소수 20 이하의 무치환 또는 알킬 치환 아릴티오기;

2-메톡시페닐티오기, 3-메톡시페닐티오기, 4-메톡시페닐티오기, 2-에톡시페닐티오기, 프로폭시페닐티오기, 부톡시페닐티오기, 헥실옥시페닐티오기, 시클로헥실옥시페닐티오기, 옥틸옥시페닐티오기, 2-메톡시-1-나프틸티오기, 3-메톡시-1-나프틸티오기, 4-메톡시-1-나프틸티오기, 5-메톡시-1-나프틸티오기, 6-메톡시-1-나프틸티오기, 7-메톡시-1-나프틸티오기, 8-메톡시-1-나프틸티오기, 1-메톡시-2-나프틸티오기, 3-메톡시-2-나프틸티오기, 4-메톡시-2-나프틸티오기, 5-메톡시-2-나프틸티오기, 6-메톡시-2-나프틸티오기, 7-메톡시-2-나프틸티오기, 8-메톡시-2-나프틸티오기, 2-에톡시-1-나프틸티오기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 20 이하의 모노 알콕시 아릴티오기;

2,3-디메톡시페닐티오기, 2,4-디메톡시페닐티오기, 2,5-디메톡시페닐티오기, 2,6-디메톡시페닐티오기, 3,4-디메톡시페닐티오기, 3,5-디메톡시페닐티오기, 3,6-디메톡시페닐티오기, 4,5-디메톡시-1-나프틸티오기, 4,7-디메톡시-1-나프틸티오기, 4,8-디메톡시-1-나프틸티오기, 5,8-디메톡시-1-나프틸티오기, 5,8-디메톡시-2-나프틸티오기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 20 이하의 디알콕시아릴티오기;

2,3,4-트리메톡시페닐티오기, 2,3,5-트리메톡시페닐티오기, 2,3,6-트리메톡시페닐티오기, 2,4,5-트리메톡시페닐티오기, 2,4,6-트리메톡시페닐티오기, 3,4,5-트리메톡시페닐티오기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 20 이하의 트리알콕시 아릴티오기; 및

클로로페닐티오기, 디클로로페닐티오기, 트리클로로페닐티오기, 브로모페닐티오기, 디브로모페닐티오기, 요오드페닐티오기, 플루오로페닐티오기, 클로로나프틸티오기, 브로모나프틸티오기, 디플루오로페닐티오기, 트리플루오로페닐티오기, 테트라플루오로페닐티오기, 펜타플루오로페닐티오기 등의 할로겐 원자가 치환한 총탄소수 20 이하의 아릴티오기 등을 들 수 있다. Y는 이들로 한정되는 것은 아니다.

이러한 Y에 있어서, 바람직한 예를 이하에 나타낸다.

바람직한 예로서, 예를 들어 수소 원자를 들 수 있다.

또한, Y의 바람직한 예 중, 할로겐 원자로서, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 알킬기로서, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, n-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기 등의 총탄소수 1 이상 6 이하의 직쇄 알킬기;

이소프로필기, 이소부틸기, sec-부틸기, 이소펜틸기, sec-펜틸기, 1-메틸펜틸기, 2-메틸펜틸기, 3-메틸펜틸기, 4-메틸펜틸기, 1-에틸부틸기, 2-에틸부틸기, tert-부틸기, tert-펜틸기, 1,1-디메틸부틸기, 1,2-디메틸부틸기, 1,3-디메틸부틸기, 2,3-디메틸부틸기 등의 총탄소수 3 이상 6 이하의 분기 알킬기; 및

시클로펜틸기, 시클로헥실기 등의 총탄소수 5 또는 6의 포화 환상 알킬기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 아릴기로서, 페닐기, 나프틸기, 시클로펜타디에닐기 등의 총탄소수 12 이하의 방향족 탄화수소;

2-메틸페닐기, 3-메틸페닐기, 4-메틸페닐기, 2-에틸페닐기, 프로필페닐기, 부틸페닐기, 2,3-디메틸페닐기, 2,4-디메틸페닐기, 2,5-디메틸페닐기, 2,6-디메틸페닐기, 3,4-디메틸페닐기, 3,5-디메틸페닐기, 3,6-디메틸페닐기, 2,3,4-트리메틸페닐기, 2,3,5-트리메틸페닐기, 2,3,6-트리메틸페닐기, 2,4,5-트리메틸페닐기, 2,4,6-트리메틸페닐기, 3,4,5-트리메틸페닐기 등의 총탄소수 12 이하의 알킬 치환 아릴기;

2-메톡시페닐기, 3-메톡시페닐기, 4-메톡시페닐기, 2-에톡시페닐기, 프로폭시페닐기, 부톡시페닐기 등의 탄소수 6 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 12 이하의 모노 알콕시 아릴기;

2,3-디메톡시페닐기, 2,4-디메톡시페닐기, 2,5-디메톡시페닐기, 2,6-디메톡시페닐기, 3,4-디메톡시페닐기, 3,5-디메톡시페닐기, 3,6-디메톡시페닐기 등의 탄소수 6 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 12 이하의 디알콕시아릴기; 및

클로로페닐기, 디클로로페닐기, 트리클로로페닐기, 브로모페닐기, 디브로모페닐기, 요오드페닐기, 플루오로페닐기, 클로로나프틸기, 브로모나프틸기, 디플루오로페닐기, 트리플루오로페닐기, 테트라플루오로페닐기, 펜타플루오로페닐기 등의 할로겐 원자가 치환한 총탄소수 12 이하의 아릴기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 아랄킬기로서, 벤질기, 페네틸기, 페닐프로필기 등의 총탄소수 12 이하의 아랄킬기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 알킬옥시기로서, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, iso-프로폭시기, n-부톡시기, iso-부톡시기, tert-부톡시기, n-펜틸옥시기, iso-펜틸옥시기, n-헥실옥시기, iso-헥실옥시기 등의 총탄소수 1 이상 6 이하의 직쇄 또는 분기의 알콕시기;

시클로펜틸옥시기, 시클로헥실옥시기 등의 총탄소수 5 또는 6의 시클로알콕시기; 및

메톡시메톡시기, 에톡시메톡시기, 에톡시에톡시기, n-프로폭시메톡시기, iso-프로폭시메톡시기, n-프로폭시에톡시기, iso-프로폭시에톡시기, n-부톡시에톡시기, iso-부톡시에톡시기, tert-부톡시에톡시기 등의 총탄소수 2 이상 6 이하의 알콕시알콕시기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 알킬티오기로서, 메틸티오기, 에틸티오기, n-프로필티오기, iso-프로필티오기, n-부틸티오기, iso-부틸티오기, sec-부틸티오기, t-부틸티오기, n-펜틸티오기, iso-펜틸티오기, n-헥실티오기, iso-헥실티오기 등의 총탄소수 1 이상 6 이하의 직쇄 또는 분기의 알킬티오기;

시클로펜틸티오기, 시클로헥실티오기 등의 총탄소수 5 또는 6의 시클로알킬티오기;

메톡시에틸티오기, 에톡시에틸티오기, n-프로폭시에틸티오기, iso-프로폭시에틸티오기, n-부톡시에틸티오기, iso-부톡시에틸티오기, tert-부톡시에틸티오기 등의 총탄소수 2 이상 6 이하의 알콕시 알킬티오기; 및

메틸티오에틸티오기, 에틸티오에틸티오기, n-프로필티오에틸티오기, iso-프로필티오에틸티오기, n-부틸티오에틸티오기, iso-부틸티오에틸티오기, tert-부틸티오에틸티오기 등의 총탄소수 2 이상 6 이하의 알킬티오알킬티오기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 아릴옥시기로서, 페닐옥시기, 나프틸옥시기, 2-메틸페닐옥시기, 3-메틸페닐옥시기, 4-메틸페닐옥시기, 2-에틸페닐옥시기, 프로필페닐옥시기, 부틸페닐옥시기, 헥실페닐옥시기, 시클로헥실페닐옥시기, 2,4-디메틸페닐옥시기, 2,5-디메틸페닐옥시기, 2,6-디메틸페닐옥시기, 3,4-디메틸페닐옥시기, 3,5-디메틸페닐옥시기, 3,6-디메틸페닐옥시기, 2,3,4-트리메틸페닐옥시기, 2,3,5-트리메틸페닐옥시기, 2,3,6-트리메틸페닐옥시기, 2,4,5-트리메틸페닐옥시기, 2,4,6-트리메틸페닐옥시기, 3,4,5-트리메틸페닐옥시기 등의 총탄소수 12 이하의 무치환 또는 알킬 치환 아릴옥시기;

2-메톡시페닐옥시기, 3-메톡시페닐옥시기, 4-메톡시페닐옥시기, 2-에톡시페닐옥시기, 프로폭시페닐옥시기, 부톡시페닐옥시기, 헥실옥시페닐옥시기, 시클로헥실옥시페닐옥시기 등의 탄소수 6 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 12 이하의 모노 알콕시 아릴옥시기;

2,3-디메톡시페닐옥시기, 2,4-디메톡시페닐옥시기, 2,5-디메톡시페닐옥시기, 2,6-디메톡시페닐옥시기, 3,4-디메톡시페닐옥시기, 3,5-디메톡시페닐옥시기, 3,6-디메톡시페닐옥시기 등의 탄소수 6 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 12 이하의 디알콕시아릴옥시기; 및

클로로페닐옥시기, 디클로로페닐옥시기, 트리클로로페닐옥시기, 브로모페닐옥시기, 디브로모페닐옥시기, 요오드페닐옥시기, 플루오로페닐옥시기, 클로로나프틸옥시기, 브로모나프틸옥시기, 디플루오로페닐옥시기, 트리플루오로페닐옥시기, 테트라플루오로페닐옥시기, 펜타플루오로페닐옥시기 등의 할로겐 원자가 치환한 총탄소수 12 이하의 아릴옥시기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 아릴티오기로서, 페닐티오기, 나프틸티오기, 2-메틸페닐티오기, 3-메틸페닐티오기, 4-메틸페닐티오기, 2-에틸페닐티오기, 프로필페닐티오기, 부틸페닐티오기, 헥실페닐티오기, 시클로헥실페닐티오기, 2,4-디메틸페닐티오기, 2,5-디메틸페닐티오기, 2,6-디메틸페닐티오기, 3,4-디메틸페닐티오기, 3,5-디메틸페닐티오기, 3,6-디메틸페닐티오기, 2,3,4-트리메틸페닐티오기, 2,3,5-트리메틸페닐티오기, 2,3,6-트리메틸페닐티오기, 2,4,5-트리메틸페닐티오기, 2,4,6-트리메틸페닐티오기, 3,4,5-트리메틸페닐티오기 등의 총탄소수 12 이하의 무치환 또는 알킬 치환 아릴티오기;

2-메톡시페닐티오기, 3-메톡시페닐티오기, 4-메톡시페닐티오기, 2-에톡시페닐티오기, 프로폭시페닐티오기, 부톡시페닐티오기, 헥실옥시페닐티오기, 시클로헥실옥시페닐티오기 등의 탄소수 6 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 12 이하의 모노 알콕시 아릴티오기;

2,3-디메톡시페닐티오기, 2,4-디메톡시페닐티오기, 2,5-디메톡시페닐티오기, 2,6-디메톡시페닐티오기, 3,4-디메톡시페닐티오기, 3,5-디메톡시페닐티오기, 3,6-디메톡시페닐티오기, 4,5-디메톡시-1-나프틸티오기, 4,7-디메톡시-1-나프틸티오기, 4,8-디메톡시-1-나프틸티오기, 5,8-디메톡시-1-나프틸티오기, 5,8-디메톡시-2-나프틸티오기 등의 탄소수 6 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 12 이하의 디알콕시아릴티오기;

클로로페닐티오기, 디클로로페닐티오기, 트리클로로페닐티오기, 브로모페닐티오기, 디브로모페닐티오기, 요오드페닐티오기, 플루오로페닐티오기, 클로로나프틸티오기, 브로모나프틸티오기, 디플루오로페닐티오기, 트리플루오로페닐티오기, 테트라플루오로페닐티오기, 펜타플루오로페닐티오기 등의 할로겐 원자가 치환한 총탄소수 12 이하의 아릴티오기를 들 수 있다.

Y의 보다 바람직한 예를 이하에 나타낸다.

Y의 보다 바람직한 예로서, 예를 들어 수소 원자를 들 수 있다.

또한, 할로겐 원자로서, 염소 원자 및 브롬 원자를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 알킬기로서, 메틸기, 에틸기, iso-프로필기 등의 총탄소수 1 이상 3 이하의 직쇄 또는 분기 알킬기를 들 수 있다.

2-메틸페닐기, 3-메틸페닐기, 4-메틸페닐기, 2-에틸페닐기, 프로필페닐기, 2,3-디메틸페닐기, 2,4-디메틸페닐기, 2,5-디메틸페닐기, 2,6-디메틸페닐기, 3,4-디메틸페닐기, 3,5-디메틸페닐기, 3,6-디메틸페닐기 등의 총탄소수 9 이하의 알킬 치환 아릴기;

2-메톡시페닐기, 3-메톡시페닐기, 4-메톡시페닐기, 2-에톡시페닐기, 프로폭시페닐기 등의 탄소수 3 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 9 이하의 모노 알콕시 아릴기; 및

클로로페닐기, 디클로로페닐기, 트리클로로페닐기, 브로모페닐기, 디브로모페닐기, 클로로나프틸기, 브로모나프틸기 등의 할로겐 원자가 치환한 총탄소수 12 이하의 아릴기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 아랄킬기로서, 벤질기, 페네틸기, 페닐프로필기 등의 총탄소수 9 이하의 아랄킬기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 알킬옥시기로서, 메톡시기, 에톡시기, iso-프로폭시기 등의 총탄소수 1 이상 3 이하의 직쇄 또는 분기의 알콕시기; 및

시클로펜틸옥시기, 시클로헥실옥시기 등의 총탄소수 5 또는 6의 시클로알콕시기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 알킬티오기로서, 메틸티오기, 에틸티오기, n-프로필티오기, iso-프로필티오기 등의 총탄소수 1 이상 3 이하의 직쇄 또는 분기의 알킬티오기;

시클로펜틸티오기, 시클로헥실티오기 등의 총탄소수 5 또는 6의 시클로알킬티오기; 및

치환 또는 무치환의 아릴옥시기로서, 페닐옥시기, 나프틸옥시기, 2-메틸페닐옥시기, 3-메틸페닐옥시기, 4-메틸페닐옥시기, 2-에틸페닐옥시기, 프로필페닐옥시기, 2,4-디메틸페닐옥시기, 2,5-디메틸페닐옥시기, 2,6-디메틸페닐옥시기, 3,4-디메틸페닐옥시기, 3,5-디메틸페닐옥시기, 3,6-디메틸페닐옥시기 등의 총탄소수 9 이하의 무치환 또는 알킬 치환 아릴옥시기;

2-메톡시페닐옥시기, 3-메톡시페닐옥시기, 4-메톡시페닐옥시기, 2-에톡시페닐옥시기, 프로폭시페닐옥시기 등의 탄소수 3 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 9 이하의 모노 알콕시 아릴옥시기; 및

클로로페닐옥시기, 디클로로페닐옥시기, 트리클로로페닐옥시기, 브로모페닐옥시기, 디브로모페닐옥시기, 클로로나프틸옥시기, 브로모나프틸옥시기 등의 할로겐 원자가 치환한 총탄소수 12 이하의 아릴옥시기를 들 수 있다.

치환 또는 무치환의 아릴티오기로서, 페닐티오기, 2-메틸페닐티오기, 3-메틸페닐티오기, 4-메틸페닐티오기, 2-에틸페닐티오기, 프로필페닐티오기, 2,4-디메틸페닐티오기, 2,5-디메틸페닐티오기, 2,6-디메틸페닐티오기, 3,4-디메틸페닐티오기, 3,5-디메틸페닐티오기, 3,6-디메틸페닐티오기 등의 총탄소수 9 이하의 무치환 또는 알킬 치환 아릴티오기;

2-메톡시페닐티오기, 3-메톡시페닐티오기, 4-메톡시페닐티오기, 2-에톡시페닐티오기, 프로폭시페닐티오기 등의 탄소수 3 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 9 이하의 모노 알콕시 아릴티오기; 및

클로로페닐티오기, 디클로로페닐티오기, 트리클로로페닐티오기, 브로모페닐티오기, 디브로모페닐티오기, 클로로나프틸티오기, 브로모나프틸티오기 등의 할로겐 원자가 치환한 총탄소수 12 이하의 아릴티오기를 들 수 있다.

Y가 환을 형성하지 않은 경우, Y로서, 더윽 구체적으로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기 등의 탄소수 1 이상 3 이하의 알킬기;

메틸티오기, 에틸티오기, n-프로필티오기, iso-프로필티오기 등의 Sb원자에 직접 결합하는 유황 원자를 포함하여 총탄소수 1 이상 3 이하의 직쇄 또는 분기의 알킬티오기; 및

2-(3-티에타닐티오)에틸티오 등의 티에타닐티오알킬티오기를 들 수 있다. 또한, Y가 티에타닐티오알킬티오기인 경우, Y는, 상기 일반식(1)에 있어서 Sb와 결합하는 [] 내의 기와는 다른 기이다. 이러한 Y를 가지는 화합물로서, 예를 들어 (3-티에타닐티오)비스[2-(3-티에타닐티오)에틸티오]안티몬(Ⅲ)을 들 수 있다. 또한, Y가 티에타닐티오알킬티오기인 경우, 상기 일반식(120) 및 (110)에 있어서도, M과 결합하는 [] 내의 기와는 다른 기이다.

Y가 알킬기일 때, 상기 일반식(1)에 있어서, Y는, 바람직하게는 메틸기이다.

또한, Y가 알킬기이며, n-p가 2 이상의 정수의 경우, Y는 서로 결합하고, Sb원자를 개재하여 환상 구조가 되어도 상관없다. 즉, 복수의 Y가 결합하여 Sb원자를 포함하는 환을 형성하고 있어도 좋다.

환을 형성하고 있는 경우, 환을 형성하는 알킬쇄로서는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 즉 탄소수 1 이상 3 이하의 알킬렌기를 들 수 있다. 환을 형성하는 알킬쇄는, 바람직하게는, 에틸렌기이다. 또한, Sb원자를 포함하는 환은, 구체적으로는, 4원환으로부터 6원환이며, 환을 구성하는 원자로서는, Sb 및 C(탄소) 외에, 후술한 바와 같이 예를 들어 S를 포함해도 좋다.

또한, Y가 Sb원자에 직접 결합하는 유황 원자를 포함하는 티오 알킬기일 때, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물의 예로서, 하기 일반식(6)으로 표시되는 화합물을 들 수 있다.

[화학식 21]

(상기 일반식(6) 중, X₁ 및 n은, 각각, 상기 일반식(1)에 있어서의 X₁ 및 n과 같다. p는 2 이상 (n-1) 이하의 정수이다.

n-p가 1의 경우, R₂는, 치환기를 가져도 좋은 탄소수 1 이상 3 이하의 직쇄상 혹은 분기쇄를 가지는 알킬기를 나타낸다.

n-p가 2 이상의 경우, 복수의 R₂는, 각각 독립적으로, 치환기를 가져도 좋은 탄소수 1 이상 3 이하의 직쇄상 혹은 분기쇄를 가지는 알킬기 또는 단결합을 나타낸다. 또한, 복수의 R₂가 서로 결합하여 Sb원자를 포함하는 환을 형성해도 좋고, 이 경우, 환을 형성하는 알킬쇄는 탄소수 1 이상 3 이하이며, 환을 구성하는 부분에는, 유황 원자를 포함하지 않는다.)

상기 일반식(6)에 있어서도, 수지의 굴절률을 향상시키는 관점에서는, X₁이 유황 원자인 것이 바람직하다. 이 때, 상기 일반식(6)은, 하기 일반식(7)로 된다.

[화학식 22]

(상기 일반식(7) 중, p, n 및 R₂는, 각각, 상기 일반식(6)에 있어서의 p, n 및 R₂와 같다.)

상기 일반식(6) 및 (7)에 있어서, n은 Sb원자의 가수이다. 또한, 상기 일반식(6) 및 (7)에 있어서, p는, (Sb원자의 가수-1) 이하의 양의 정수이다. 즉, p는 2 이상 (n-1) 이하의 정수이다.

상기 일반식(6) 및 (7)에 있어서, R₂는, 치환기를 가져도 좋은 탄소수 1 이상 3 이하의 직쇄상 혹은 분기쇄를 가지는 알킬기를 나타낸다.

n-p가 2 이상의 경우, R₂는, 각각 독립적으로 치환기를 가져도 좋은 탄소수 1 이상 3 이하의 직쇄상 혹은 분기쇄를 가지는 알킬기를 나타낸다. 복수의 R₂는, 같은 기이어도 좋고, 전부 또는 일부가 다른 기이어도 좋다. 또한, 복수의 R₂가 서로 결합하고, 원자단 -S-Sb-S-를 포함하는 환을 형성해도 좋다. 이 경우, 환을 형성하는 알킬쇄는 탄소수 1 이상 3 이하이며, 유황 원자는, Sb원자에 직접 결합하고 있는 것뿐이다. 즉, R₂ 중, 환을 구성하는 부분에는 유황 원자를 포함하지 않는다.

상기 일반식(6) 및 (7)로 표시되는 화합물 중에서도 바람직한 예의 하나로서, 이하의 태양을 들 수 있다. 즉, R₂가 환을 형성하지 않은 경우, R₂로서, 구체적으로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 즉 탄소수 1 이상 3 이하의 알킬기를 들 수 있다.

또한, 상기 일반식(6) 및 (7)로 표시되는 화합물의 다른 바람직한 예로서, n-p=2이며, 2개의 -S-R₂기가, S에 인접하는 Sb원자와 함께 원자단 -S-Sb-S-를 포함하는 환을 형성하고 있고, 환을 형성하는 알킬쇄가, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 즉 탄소수 1 이상 3 이하의 알킬렌기인 것을 들 수 있다. Sb원자를 포함하는 환은, 구체적으로는, 4원환에서 6원환이다. 또한 Sb원자를 포함하는 환이 4원환일 때, 두 개의 R₂ 중 하나는, 구체적으로는 단결합이다.

더욱 구체적으로는, 환을 형성하지 않은 경우, R₂는 메틸기이며, 또한 환을 형성하는 경우는 환을 형성하는 알킬쇄는 에틸렌기이다.

다음에, 상기 일반식(100) 중, r=2의 경우에 관해서, r=1의 경우와 다른 점을 중심으로 설명한다. 이하에 특별히 설명하지 않은 기나 기호에 관해서는, r=1의 경우에 일반식(1)을 참조하여 전술했던 경우와 같다.

r=2일 때, n-p-q=1 또는 2이며, Y는 양단이 각각 다른 Sb원자에 결합하는 2가의 기이다.

Y는 유기기인 것이 바람직하고, 그 구체예로서, R₁으로서 예시한 2가의 유기기를 들 수 있다. 또한, Y로서, 그 밖에, -S-R₃-S-기를 들 수 있다. 상기 기 중, R₃은, 메틸렌기 또는 탄소수 2 이상 5 이하의 알킬렌기이다. 또한 r=2 또한 n-p-q=2의 경우, 2개의 Y는, 같은 기이어도 좋고, 다른 기이어도 좋다. 또한, r=2 또한 n-p-q=2의 경우, 2개의 Sb원자와 함께 환을 형성하고 있어도 좋다.

r=2일 때, 상기 일반식(100)에 있어서, T는, 무기 또는 유기기를 나타낸다. r=2 또한 q=2의 경우, 복수의 T는, 각각 독립적으로 무기 또는 유기기를 나타낸다. 복수의 T는 같은 기이어도 좋고, 다른 기이어도 좋다.

T는, 유기기인 것이 바람직하고, 그 구체예로서는, r=1의 경우에 Y로서 예시한 1가의 기를 들 수 있다.

또한, r=2의 경우에도, m=0인 것이 바람직하다. 이 때, 상기 일반식(100)은, 하기 일반식(101)로 표시된다.

[화학식 23]

(상기 일반식(101)에 있어서, X₁, Y, T, n, p, q 및 r은, 각각, 상기 일반식(100)에 있어서의 X₁, Y, T, n, p, q 및 r과 같다.)

또한, r=2의 경우에도, m=0이며, X₁이 유황 원자인 것이 더욱 바람직하다. 이 때, 상기 일반식(100)은, 하기 일반식(102)로 표시된다.

[화학식 24]

(상기 일반식(102)에 있어서, Y, T, n, p, q 및 r은, 각각, 상기 일반식(100)에 있어서의 Y, T, n, p, q 및 r과 같다.)

상기 일반식(100)으로 표시한 화합물의 구체예로서는, 이하의 화합물을 들 수 있다.

　우선, 상기 일반식(100)에 있어서, r=1의 경우, 상기 식(4) 및 (5)로 표시한 화합물을 들 수 있는 것 외, 이하의 화합물이 예시된다.

[화학식 25]

또한, r=2의 경우, 이하의 화합물이 예시된다.

[화학식 26]

이상, M이 Sb원자인 경우를 예로 설명했지만, 상기 일반식(110) 및 (120)에 있어서도, 각 치환기 등은, M이 Sb원자인 경우에 준하여 선택된다.

또한, 상기 일반식(101) 및 (102)는, 상기 일반식(110)에 대응하여, 이하와 같이 일반화할 수 있다.

[화학식 27]

[화학식 28]

상기 일반식(111)로 표시되는 화합물로서, 예를 들어 이하의 것을 들 수 있다.

[화학식 29]

또한, 상기 일반식(110)~(112) 및 (120)에 있어서, 금속 원자 M의 가수 n은, 구체적으로는, 2 이상 5 이하이다.

n=2일 때, 금속 원자 M의 예로서, 예를 들어 Tⅰ(티탄)를 들 수 있다.

n=3일 때, M의 예로서 Tⅰ, Ta(탄탈), Sb(안티몬) 및 Bi(비스무트)를 들 수 있고, Sb 및 Bi가 바람직하다.

n=4일 때, M의 예로서 Tⅰ, Zr(지르코늄) 및 Ta를 들 수 있고, Tⅰ 및 Zr이 바람직하다.

또한, n=5일 때, M의 예로서, Ta 및 Sb를 들 수 있다.

n=2~5일 때, 본 발명에 있어서의 금속 티에탄 화합물의 구체예로서, 이하의 것을 들 수 있다.

[화학식 30]

또한, 본 발명에 있어서의 금속 티에탄 화합물의 다른 모양으로서, 금속 원자 M에 배위자가 배위하고 있는 것도 있다. 즉, 상기 일반식(110) 및 (120)으로 표시한 금속 티에탄 화합물은, 배위결합에 의해서 금속 원자와 결합하는 배위성 화합물을 더 포함해도 좋다.

배위성 화합물은, 분자 내에 1개 이상의 금속에 배위하는 배위성 관능기를 함유한다. 또한, 배위성 화합물은, 예를 들어 상기 일반식(110) 또는 (120)으로 표시되는 화합물에 배위하는 것이면 어떠한 구조를 가지는 화합물로도 사용할 수 있지만, 바람직하게는 질소, 산소, 인, 유황 원자 등의 헤테로 원자로 금속에 배위하는 화합물이다.

질소 원자로 배위하는 배위자의 구체적 화합물예로서는 암모니아, 메틸아민, 에틸아민, 프로필아민, 이소프로필아민, 디메틸아민, 디에틸아민, 디-프로필아민, 디-이소프로필아민, 트리메틸아민, 트리에틸아민, 에틸렌디아민, 프로필렌디아민, 디메틸에틸렌디아민, 테트라메틸에틸렌디아민, 히드라진, 메틸히드라진, 디메틸히드라진, 아닐린, 페닐히드라진, o-페닐렌디아민, 히드록실아민, 시스테아민, 아미노에탄올, 글리신 등의 암모니아 및 아민 화합물;

피리딘, 2,2'-비피리딘, 1,10-페난트롤린 등의 피리딘 화합물;

피리다진, 피리미딘, 푸린, 피라진, 1,8-나프틸리딘, 피라졸, 이미다졸 등의 질소 복소환 화합물;

디메틸포름아미드, 디메틸이미다졸리디논 등의 아미드 화합물;

아세토니트릴, 프로피오니트릴 등의 니트릴 화합물 등을 들 수 있다.

인 원자로 배위하는 배위자의 구체적 화합물예로서는 트리페닐포스핀, 트리메틸포스핀, 트리에틸포스핀, 1,2-비스(디메틸포스피노)에탄, 비스(디메틸포스피노)메탄 등의 포스핀 화합물 등을 들 수 있다.

산소 원자로 배위하는 배위자의 구체적 화합물예로서는, 물, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 1,3-프로판디올 등의 물 및 알코올 화합물;

테트라히드로푸란, 1,4-디옥산, 디메톡시에탄, 에틸렌글리콜모노메틸에테르 등의 에테르 화합물;

아세톤, 메틸에틸케톤 등의 케톤 화합물; 아세트산에틸, 아세트산메틸, 포름산메틸, 포름산에틸 등의 에스테르 화합물;

디메틸설폭사이드, 설포란 등의 설폭사이드 화합물 및 설폰 화합물 등을 들 수 있다.

유황 원자로 배위하는 배위자의 구체적 화합물예로서는, 디메틸설파이드, 디에틸설파이드, 테트라히드로티오펜 등의 설파이드 화합물 등을 들 수 있지만, 예시 화합물에만 한정되는 것은 아니다.

이들 예시한 배위성 화합물 중, 바람직하게는 암모니아, 에틸렌디아민, 테트라메틸에틸렌디아민, 히드록실아민 등의 암모니아 및 아민 화합물;

피리딘, 2,2'-비피리딘 등의 피리딘 화합물;

테트라히드로푸란, 디메톡시에탄 등의 에테르 화합물 등을 들 수 있다.

보다 바람직하게는 암모니아 및 에틸렌디아민이다.

다음에, 상기 일반식(120)에 있어서 M이 Bi인 예를 설명한다. 이 때, 본 발명의 티에탄 화합물은, 분자 내에 티에탄기 및 Bi원자를 함유하는 화합물이며, 구체적으로는 하기 일반식(201)로 표시된다.

[화학식 31]

r이 2 이상의 정수의 경우, 복수의 Y는, 각각 독립적으로 무기 또는 유기(잔)기를 나타낸다. 또한, 복수의 Y가 서로 결합하고, Bi원자를 포함하는 환을 형성하고 있어도 좋다.)

상기 일반식(201)에 있어서, X₁은, 유황 원자 또는 산소 원자이다. 상기 일반식(201)로 표시한 티에탄 화합물을 포함하는 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 수지의 굴절률을 더욱 향상시키는 관점에서는, X₁이 유황 원자인 것이 바람직하다.

상기 일반식(201)에 있어서, p는, Bi의 가수 이하의 양의 정수이며, Bi의 가수는, 3 또는 5이다. 즉, p는 1 이상 5 이하의 정수이다.

또한, q는 0 이상 2 이하의 정수이며, 더욱 구체적으로는 0 또는 1이다. 또한 q=2의 경우, 2개의 Z는 동일해도 좋고, 상이해도 좋다.

r은 0 이상 4 이하의 정수이다.

p＋r＋2q는, Bi의 가수 즉 5 또는 3이다. 후술하는 중합성 조성물 중의 중합성 화합물로서 이용했을 때의 중합에 관여하는 관능기 수를 많이 하는 관점에서는, p＋r＋2q가 5인 것이 바람직하다.

또한, 상기 일반식(201)에 있어서, 구체적으로는 p=3이며, 더욱 구체적으로는, X₁이 유황 원자이며, p=3, q=0, r=0이다. 이 때, 상기 일반식(201)로 표시되는 화합물은, 하기 식에 표시되는 화합물로 된다.

[화학식 32]

상기 일반식(201)에 있어서, Y는, 각각 독립적으로 무기 또는 유기기를 나타낸다. 이하, Y의 구체예를 설명한다.

우선, r=1의 경우, Y는 무기 또는 유기기를 나타낸다. 또한, r이 2 이상의 정수의 경우, 복수의 Y는, 각각 독립적으로 무기 또는 유기기를 나타낸다. 복수의 Y는, 같은 기이어도 좋고, 전부 또는 일부가 다른 기이어도 좋다. 또한, 복수의 Y가 서로 결합하고, Bi원자를 포함하는 환을 형성하고 있어도 좋다.

치환 또는 무치환의 아랄킬기의 구체예로서, 벤질기, 페네틸기, 페닐프로필기, 나프틸에틸기, 또한, 치환 또는 무치환의 아릴기의 구체예로 든 아릴기를 측쇄에 갖는 메틸기, 에틸기, 프로필기를 들 수 있다.

시클로펜틸옥시기, 시클로헥실옥시기 등 총탄소수 5 이상 10 이하의 시클로알콕시기;

메톡시메톡시기, 에톡시메톡시기, 에톡시에톡시기, n-프로폭시메톡시기, iso-프로폭시메톡시기, n-프로폭시에톡시기, iso-프로폭시에톡시기, n-부톡시에톡시기, iso-부톡시에톡시기, tert-부톡시에톡시기, n-펜틸옥시에톡시기, iso-펜틸옥시에톡시기, n-헥실옥시에톡시기, iso-헥실옥시에톡시기, n-헵틸옥시에톡시기 등의 총탄소수 2 이상 10 이하 알콕시알콕시기; 및

벤질옥시기 등의 아랄킬 옥시기를 들 수 있다.

시클로펜틸티오기, 시클로헥실티오기 등 총탄소수 5 이상 10 이하의 시클로알킬티오기;

벤질티오기 등의 아랄킬티오기; 및

2,3,4-트리메톡시페닐티오기, 2,3,5-트리메톡시페닐티오기, 2,3,6-트리메톡시페닐티오기, 2,4,5-트리메톡시페닐티오기, 2,4,6-트리메톡시페닐티오기, 3,4,5-트리메톡시페닐티오기 등의 탄소수 10 이하의 치환 또는 무치환의 알킬옥시기가 치환한 총탄소수 20 이하의 트리알콕시아릴티오기; 및

이러한 Y에 있어서, 바람직한 예를 이하에 나타낸다.

바람직한 예로서, 예를 들어 수소 원자를 들 수 있다.

시클로펜틸기, 시클로헥실기 등의 총탄소수 5 이상 6 이하의 포화 환상 알킬기를 들 수 있다.

시클로펜틸옥시기, 시클로헥실옥시기 등 총탄소수 5 또는 6의 시클로알콕시기; 및

메톡시메톡시기, 에톡시메톡시기, 에톡시에톡시기, n-프로폭시메톡시기, iso-프로폭시메톡시기, n-프로폭시에톡시기, iso-프로폭시에톡시기, n-부톡시에톡시기, iso-부톡시에톡시기, tert-부톡시에톡시기 등의 총탄소수 2 이상 6 이하 알콕시알콕시기를 들 수 있다.

시클로펜틸티오기, 시클로헥실티오기 등 총탄소수 5 또는 6의 시클로알킬티오기;

메톡시에틸티오기, 에톡시에틸티오기, n-프로폭시에틸티오기, iso-프로폭시에틸티오기, n-부톡시에틸티오기, iso-부톡시에틸티오기, tert-부톡시에틸티오기 등의 총탄소수 2 이상 6 이하의 알콕시알킬티오기; 및

Y의 보다 바람직한 예를 이하에 나타낸다.

Y의 바람직한 예로서, 예를 들어 수소 원자를 들 수 있다.

시클로펜틸옥시기, 시클로헥실옥시기 등 총탄소수 5 또는 6의 시클로알콕시기를 들 수 있다.

시클로펜틸티오기, 시클로헥실티오기 등 총탄소수 5 또는 6의 시클로알킬티오기; 및

Y가 환을 형성하지 않은 경우, Y로서, 구체적으로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 즉 탄소수 1 이상 3 이하의 알킬기를 들 수 있다.

또한 환을 형성했을 경우, 환을 형성하는 알킬쇄로서는, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 즉 탄소수 1 이상 3 이하의 알킬렌기를 들 수 있다. Bi를 포함하는 환은, 구체적으로는, 4원환에서 6원환이다.

더욱 구체적으로는, 환을 형성하지 않은 경우, Y는 메틸기이며, 또한 환을 형성하는 경우는 환을 형성하는 알킬쇄는 에틸렌기이다.

다음에, Z에 관하여 설명한다. Z는 산소 원자 또는 유황 원자이다. 또한, q=2일 때, 두 개의 Z는, 각각 독립적으로, 산소 원자 또는 유황 원자이다.

예를 들어 q=1의 경우, 더욱 구체적으로는, Z가 산소 원자이다.

이 중, Bi가 3가 일 때, 상기 일반식(201)로 표시되는 화합물은, 이하에 표시되는 화합물로 된다.

[화학식 33]

또한, Bi가 5가일 때, 상기 일반식(201)로 표시되는 화합물은, 이하에 표시되는 화합물로 된다.

[화학식 34]

다음에, 본 발명에 있어서의 금속 티에탄 화합물의 제조방법에 관하여, 상기 일반식(100) 및 일반식(201)로 표시한 금속 티에탄 화합물의 제조방법을 예로 설명한다.

우선, 상기 일반식(100)에 있어서 r=1의 경우에 관하여 설명한다. 이 때, 상기 일반식(100)은, 상기 일반식(1)로 된다.

상기 일반식(1)로 표시한 금속 티에탄 화합물은, 대표적으로는, 하기 일반식(8)로 표시되는 Sb원자를 포함하는 할로겐화물과, 하기 일반식(9)로 표시되는 티에탄기를 가지는 히드록시 화합물 또는 티올 화합물과의 반응에 의해 제조된다.

[화학식 35]

(상기 일반식(8) 중, n, p 및 Y는, 각각, 상기 일반식(1)에 있어서의 n, p 및 Y에 같고, W는 할로겐 원자를 나타낸다.)

[화학식 36]

(상기 일반식(9) 중, X₁, X₂, R₁ 및 m은, 각각, 상기 일반식(1)에 있어서의 X₁, X₂, R₁ 및 m에 같다.)

또한, 상기 일반식(6)으로 표시되는 화합물에 관해서도, 상기 일반식(1)로 표시되는 화합물의 제조방법에서 준한 방법으로 제조할 수 있다.

예를 들어, 하기 일반식(10)으로 표시되는 할로겐화물과, 상기 일반식(9)

로 표시되는 티에탄기를 가지는 히드록시 화합물 또는 티올 화합물과의 반응에 의해 제조된다.

[화학식 37]

(상기 일반식(10) 중, p, n 및 R₂는, 각각, 상기 일반식(6)에 있어서의 p, n 및 R₂에 같고, W는 할로겐 원자를 나타낸다.)

또한, 상기 일반식(10)에 있어서의 n=p인 할로겐화물과, 상기 일반식(9)로 표시되는 티에탄기를 가지는 히드록시 화합물 또는 티올 화합물과, 하기 일반식(11)로 표시되는 티올 화합물을 일괄 혼합하고, 동시에 반응시켜도 제조된다.

R₂-SH　(11)

(상기 일반식(11) 중, R₂는, 상기 일반식(6)에 있어서의 R₂에 같다.)

또한, 상기 일반식(10)에 있어서의 n=p인 할로겐화물과 상기 일반식(9)로 표시되는 티에탄기를 가지는 히드록시 화합물 또는 티올 화합물을 미리 반응시켜 얻어진 화합물과, 상기 일반식(11)로 표시되는 티올 화합물을 반응하는 것에 의해서도 제조된다.

또한, 상기 일반식(1)로 표시한 금속 티에탄 화합물은, 금속 할로겐화물을 이용하는 방법 이외의 방법에 의해서도 제조할 수 있다. 예를 들어, 금속 산화물 또는 금속 아미드화물을 원료로 사용하여, 상기 일반식(9)로 표시되는 화합물을 반응시키는 것에 의해서도 상기 일반식(1)로 표시한 금속 티에탄 화합물을 제조할 수 있다.

상기 일반식(8), (10) 및 (11)로 표시한 화합물은, 공업용 원료 또는 연구용 시약으로서 입수 가능하다.

또한, 상기 일반식(9)로 표시되는 화합물은 공지 화합물로서, 예를 들어, 특허 문헌 2(일본 특허공개공보 제2003-327583호)에 기재된 방법에 준하여 제조된다.

상기 일반식(8)로 표시되는 Sb를 포함하는 할로겐화물과, 상기 일반식(9)로 표시되는 티에탄기를 가지는 히드록시 화합물 또는 티올 화합물과의 반응은 무용매로 실시해도 좋고, 혹은, 반응에 불활성인 용매의 존재하에서 실시해도 좋다.

이러한 용매로서는, 반응에 불활성인 용매이면 특별히 한정하는 것은 아니고, 석유 에테르, 헥산, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 메시틸렌 등의 탄화수소계 용매;

디에틸에테르, 테트라히드로푸란, 디에틸렌글리콜디메틸에테르 등의 에테르계 용매;

아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤계 용매;

아세트산에틸, 아세트산부틸, 아세트산아밀 등의 에스테르계 용매;

염화 메틸렌, 클로로포름, 클로르벤젠, 디클로르벤젠 등의 함염소계 용매;

N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸이미다졸리디논, 디메틸설폭사이드 등의 비프로톤성 극성 용매;

테트라히드로티오펜, 티오펜, 설포란, 트리메틸렌설파이드, 디에틸설파이드, 디-n-프로필설파이드, 디-t-부틸설파이드, 3-메르캅토티에탄, 비스(2-메르캅토에틸)설파이드 등의 함류계 용매; 및

물 등이 예시된다.

상기 일반식(8)로 표시한 화합물과 상기 일반식(9)로 표시한 화합물의 반응 온도는, 특별히 제한하는 것은 아니지만, 통상, -78℃ 이상 200℃ 이하의 범위이며, 바람직하게는, -78℃ 이상 100℃ 이하이다.

또한, 반응 시간은 반응 온도에 의해 영향을 받지만, 통상, 몇 분에서 100시간이다.

상기 일반식(8)로 표시한 화합물과 상기 일반식(9)로 표시한 화합물의 반응에 있어서의, 상기 일반식(8)로 표시되는 화합물과 상기 일반식(9)로 표시되는 화합물의 사용량은, 특별히 한정하는 것은 아니지만, 통상, 상기 일반식(8)로 표시되는 화합물 중에 함유되는 할로겐 원자 1몰에 대하여, 상기 일반식(9)로 표시되는 화합물의 사용량은, 0.01몰 이상 100몰 이하이다. 바람직하게는, 0.1몰 이상 50몰 이하이며, 보다 바람직하게는, 0.5몰 이상 20몰 이하이다.

상기 일반식(8)로 표시한 화합물과 상기 일반식(9)로 표시한 화합물의 반응을 실시할 때에, 반응을 효율 좋게 실시하기 위해서, 생성하는 할로겐화 수소의 포착제로서 염기성 화합물을 이용하는 것은 바람직하다.

이러한 염기성 화합물로서, 예를 들어, 수산화나트륨, 수산화 칼륨, 수산화 리튬, 탄산나트륨, 탄산칼륨, 탄산리튬, 중탄산나트륨, 중탄산칼륨, 중탄산리튬, 수산화 마그네슘, 수산화 칼슘 등의 무기 염기; 및

피리딘, 트리에틸아민, 디메틸아닐린, 디에틸아닐린, 1,8-디아자비시클로[5,4,0]-7-운데센 등의 유기 염기가 예시된다.

또한, 상기 일반식(100)에 있어서, r=2의 경우에도, r=1의 경우에 관하여 전술한 방법에 준하여 얻을 수 있다.

또한, 상기 일반식(120)에 있어서의 점선과 실선으로 표시된 M-T간의 결합이 이중결합, n-p-q=0, Z가 산소 원자, M이 Sb인 화합물은, 예를 들어 상기 일반식(9)로 표시한 화합물 및 물의 혼합액에, 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 알칼리성으로 조정한 후, 옥시 염화 안티몬을 첨가하여 반응시킴으로써 얻어진다. 예를 들어, (3-티에타닐티오)옥시안티몬(Ⅲ)을 합성하는 경우, 상기 일반식(9)로 표시한 화합물로서 3-메르캅토티에탄을 사용하면 좋다.

이상, 금속 원자 M이 Sb원자인 경우를 예로 들어 설명했지만, 본 발명에 있어서, 다른 금속 원자를 포함하는 금속 티에탄 화합물에 관하여도, 상술한 방법에 준하여 제조할 수 있다.

또한, 예를 들어, M이 Bi인 경우, 이하와 같이 해도 좋다. 이하, 상기 일반식(201)로 표시한 티에탄 화합물의 제조방법을 예로 설명한다.

상기 일반식(201)로 표시한 티에탄 화합물은, 대표적으로는, 하기 일반식(202)로 표시되는 Bi의 할로겐화물과, 하기 일반식(203)으로 표시되는 티에탄기를 가지는 히드록시 화합물 또는 티올 화합물과의 반응에 의해 제조된다.

[화학식 38]

(상기 일반식(202) 중, p, q, r, Y 및 Z는, 각각, 상기 일반식(201)에 있어서의 p, q, r, Y 및 Z에 같고, W는 할로겐 원자를 나타낸다.)

[화학식 39]

(상기 일반식(203) 중, X₁은, 상기 일반식(201)에 있어서의 X₁에 같다.)

상기 일반식(202)로 표시한 화합물은, 공업용 원료 또는 연구용 시약으로서 입수 가능하다.

또한, 상기 일반식(203)으로 표시되는 화합물은 공지 화합물로서, 예를 들어, 특허 문헌 2(일본 특허공개공보 2003-327583호)에 기재된 방법에 준하여 제조된다.

상기 일반식(202)로 표시되는 Bi의 할로겐화물과, 상기 일반식(203)으로 표시되는 티에탄기를 가지는 히드록시 화합물 또는 티올 화합물과의 반응은 무용매로 실시해도 좋고, 혹은, 반응에 불활성인 용매의 존재하에서 실시해도 좋다.

염화메틸렌, 클로로포름, 클로르벤젠, 디클로르벤젠 등의 함염소계 용매;

물 등이 예시된다.

상기 일반식(202)로 표시한 화합물과 상기 일반식(203)으로 표시한 화합물의 반응 온도는, 특별히 제한하는 것은 아니지만, 통상, -78℃ 이상 200℃ 이하의 범위이며, 바람직하게는, -78℃ 이상 100℃ 이하이다.

또한, 반응 시간은 반응 온도에 의해 영향을 받지만, 통상, 몇분에서 100시간이다.

상기 일반식(202)로 표시한 화합물과 상기 일반식(203)으로 표시한 화합물의 반응에 있어서의, 상기 일반식(202)로 표시되는 화합물과 상기 일반식(203)으로 표시되는 화합물의 사용량은, 특별히 한정하는 것은 아니지만, 통상, 상기 일반식(202)로 표시되는 화합물 중에 함유되는 할로겐 원자 1몰에 대하여, 상기 일반식(203)으로 표시되는 화합물의 사용량은, 0.01몰 이상 100몰 이하이다. 바람직하게는, 0.1몰 이상 50몰 이하이며, 보다 바람직하게는, 0.5몰 이상 20몰 이하이다.

상기 일반식(202)로 표시한 화합물과 상기 일반식(203)으로 표시한 화합물의 반응을 실시할 때에, 반응을 효율 좋게 실시하기 위해서, 생성하는 할로겐화 수소의 포착제로서 염기성 화합물을 사용하는 것은 바람직하다.

또한, 상기 일반식(201)에 있어서의 q=1, r=0, Z가 산소 원자인 화합물은, 예를 들어 상기 일반식(203)으로 표시한 화합물 및 물의 혼합액에, 수산화나트륨 수용액을 첨가하여 알칼리성으로 조정한 후, 옥시 염화 비스무트를 첨가하여 반응시킴으로써 얻어진다. 예를 들어, (3-티에타닐티오)옥시 비스무트(Ⅲ)를 합성하는 경우, 상기 일반식(203)으로 표시한 화합물로서 3-메르캅토티에탄을 사용하면 좋다.

다음에, 본 발명의 중합성 조성물에 관하여 설명한다.

본 발명의 중합성 조성물은, 본 발명에 있어서의 적어도 1종의 금속 티에탄 화합물을 포함한다. 이 중합성 조성물은, 구체적으로는, 상기 일반식(120)으로 표시한 금속 티에탄 화합물을 포함한다. 보다 구체적으로는, 본 발명의 중합성 조성물은, 상기 일반식(110) 또는 상기 일반식(201)로 표시한 금속 티에탄 화합물을 포함하고, 더욱 구체적으로는, 상기 일반식(100)으로 표시된 금속 티에탄 화합물을 포함한다. 이 중합성 조성물은, 예를 들어 광학 부품의 재료로서 사용된다.

이하, 본 발명의 중합성 조성물이, 상기 일반식(110) 또는 상기 일반식(201)로 표시한 금속 티에탄 화합물을 포함하는 경우를 예로, 설명한다.

본 발명의 중합성 조성물은, 상기 일반식(110)으로 표시한 금속 티에탄 화합물로서, 1종류의 화합물을 포함하고 있어도 좋고, 다른 복수의 화합물을 포함하고 있어도 좋다. 예를 들어, 금속 티에탄 화합물로서, 금속 원자 M이 다른 복수의 화합물을 포함하고 있어도 좋다.

또한, 본 발명의 중합성 조성물은, 상기 일반식(110)으로 표시한 금속 티에탄 화합물과 다른 금속 티에탄 화합물을 포함해도 좋다. 이 때, 중합성 조성물은, 본 발명에 있어서의 금속 티에탄 화합물로서 상기 일반식(110)에 있어서 M이 Sb의 화합물을 포함하고, 또한, 다른 금속 티에탄 화합물로서, 상기 일반식(110)에 있어서의 M이 Zn 또는 Sn인 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.

또한, 후술하는 바와 같이, 본 발명의 중합성 조성물은, 금속 원자 M이 다른 복수의 화합물과, 분자 구조 중에 금속 원자를 포함하지 않은 티에탄 화합물(비금속 티에탄 화합물)을 포함해도 좋다.

또한, 본 발명의 중합성 조성물은, 상기 일반식(100)으로 표시한 금속 티에탄 화합물로서, 1종류의 화합물을 포함하고 있어도 좋고, 상이한 복수의 화합물을 포함하고 있어도 좋다.

또한, 본 발명의 중합성 조성물은, 상기 일반식(201)로 표시한 티에탄 화합물로서, 1종류의 화합물을 포함하고 있어도 좋고, 상이한 복수의 화합물을 포함하고 있어도 좋다.

또한, 상기 일반식(110) 및 상기 일반식(201)로 표시한 금속 티에탄 화합물은, 모두 중합성 화합물이다. 이 때문에, 본 발명의 중합성 조성물 중의 중합성 화합물이, 상기 일반식(110)으로 표시한 금속 티에탄 화합물로 구성되어 있어도 좋다. 예를 들어, 본 발명의 중합성 조성물 중의 중합성 화합물이, 상기 일반식(100)으로 표시한 금속 티에탄 화합물로 구성되어 있어도 좋다. 또한, 본 발명의 중합성 조성물 중의 중합성 화합물이, 상기 일반식(201)로 표시한 티에탄 화합물로 구성되어 있어도 좋다.

또한, 본 발명의 중합성 조성물 중의 중합성 화합물이 상기 일반식(110)으로 표시한 금속 티에탄 화합물을 포함할 때, 상기 일반식(110)으로 표시한 금속 티에탄 화합물에 가하고, 다른 중합성 화합물을 포함하고 있어도 좋다. 예를 들어, 본 발명의 중합성 조성물 중의 중합성 화합물이, 상기 일반식(100)으로 표시한 금속 티에탄 화합물에 가하고, 다른 중합성 화합물을 포함하고 있어도 좋다.

본 발명의 중합성 조성물 중에 포함되는 중합성 화합물의 총중량에 차지하는, 상기 일반식(100)으로 표시되는 화합물의 함유량은, 특별히 한정하는 것은 아니지만, 통상, 10중량% 이상이며, 고굴절률화의 관점에서, 바람직하게는, 30중량% 이상이며, 보다 바람직하게는, 50중량% 이상이며, 더욱 바람직하게는, 70중량% 이상이다.

또한, 상기 일반식(110)(예를 들어, 상기 일반식(100))으로 표시되는 화합물 이외의 성분은, 중합성 조성물을 사용한 수지의 굴절률을 하락시키는 요인으로 되는 경우가 많기 때문에, 굴절률의 높은 수지를 얻는 관점에서, 중합성 화합물의 총중량에 차지하는 일반식(110)(예를 들어, 상기 일반식(100))으로 표시되는 화합물의 함유량을 50중량% 이상으로 하는 것이 바람직하다.

또한, 본 발명의 중합성 조성물 중의 중합성 화합물이 상기 일반식(201)로 표시한 티에탄 화합물을 포함할 때, 상기 일반식(201)로 표시한 티에탄 화합물에 가하고, 다른 중합성 화합물을 포함하고 있어도 좋다.

다른 중합성 화합물로서는, 공지의 각종 중합성 모노머 또는 중합성 올리고머를 들 수 있고, 예를 들어, (메타)아크릴산 에스테르 화합물, 비닐 화합물, 에폭시 화합물, 에피설파이드 화합물, 옥세탄 화합물, 티에탄 화합물 등을 들 수 있다.

본 발명의 중합성 조성물 중에 포함되는 중합성 화합물의 총중량에 차지하는, 상기 일반식(201)로 표시되는 화합물의 함유량은, 특별히 한정하는 것은 아니지만, 통상, 10중량% 이상이며, 고굴절률화의 관점에서, 바람직하게는, 30중량% 이상이며, 보다 바람직하게는, 50중량% 이상이며, 더욱 바람직하게는, 70중량% 이상이다.

또한, 일반식(201)로 표시되는 화합물 이외의 성분은, 중합성 조성물을 사용한 수지의 굴절률을 하락시키는 요인으로 되는 경우가 많기 때문에, 굴절률이 높은 수지를 얻는 관점에서, 중합성 화합물의 총중량에 차지하는 상기 일반식(201)로 표시되는 화합물의 함유량을 50중량% 이상으로 하는 것이 바람직하다.

또한, 본 발명의 중합성 조성물은, 다른 중합성 화합물 중, 티올 화합물, 에폭시 화합물, 에피티오 화합물, 본 발명에 있어서의 금속 티에탄 화합물 이외의 티에탄 화합물 중 적어도 하나를 포함해도 좋다. 본 발명에 있어서의 금속 티에탄 화합물 이외의 티에탄 화합물은, 구체적으로는, 분자 구조 중에 금속 원자를 포함하지 않은 비금속 티에탄 화합물, 상기 일반식(120)에 있어서 M이 Bi, Sb, Ti, Zr 및 Ta 이외의 금속인 화합물이다.

이하, 티올 화합물, 에폭시 화합물, 에피티오 화합물, 및 비금속 티에탄 화합물에 관하여, 각각 구체예를 들어 설명한다. 또한 이하의 설명에 있어서, 본 발명에 있어서의 중합성 조성물의 성분이 복수의 관능기를 가질 때의 관능기의 우선 순위는, 이하와 같도록 한다.

(ⅰ) 티올기

(ⅱ) 에폭시기

(ⅲ) 에피티오기

(ⅳ) 티에타닐기

예를 들어, 이하에 있어서, 티올기와 티에타닐기를 가지는 화합물에 관해서는, 티올 화합물의 항에서 설명한다.

중합성 조성물이, 상기 일반식(110)(예를 들어, 상기 일반식(100))으로 표시되는 화합물과 티올 화합물, 에폭시 화합물, 에피티오 화합물 또는 티에탄 화합물을 포함하는 구성으로 하면, 얻어지는 수지의 기계 물성 및 색상을 보다 한층 향상시킬 수 있는 경우가 있다.

처음에, 티올 화합물에 관하여 설명한다.

중합성 조성물에 사용되는 티올 화합물은, 분자 내에 1개 이상 티올기(SH기)를 함유하는 화합물이다.

중합성 조성물이 상기 일반식(110)으로 표시한 화합물을 포함할 때, 티올 화합물로서, 예를 들어 상기 일반식(110)(더욱 구체적으로는, 상기 일반식(100))으로 표시되는 화합물과 상용하는 것이면 어떠한 구조를 가지는 화합물이라도 사용할 수 있다.

또한, 중합성 조성물이 상기 일반식(201)로 표시한 화합물을 포함할 때, 티올 화합물로서, 예를 들어 상기 일반식(201)로 표시되는 화합물과 상용하는 것이면 어떠한 구조를 가지는 화합물로도 사용할 수 있다.

티올 화합물로서, 구체적으로는, 1가의 티올 화합물로서는, 메틸메르캅탄, 에틸메르캅탄, 프로필메르캅탄, 부틸메르캅탄, 옥틸메르캅탄, 도데실메르캅탄, tert-도데실메르캅탄, 헥사데실메르캅탄, 옥타데실메르캅탄, 시클로헥실메르캅탄, 벤질메르캅탄, 에틸페닐메르캅탄, 2-메르캅토메틸-1,3-디티오란, 2-메르캅토메틸-1,4-디티안, 1-메르캅토-2,3-에피티오프로판, 1-메르캅토메틸티오-2,3-에피티오프로판, 1-메르캅토에틸티오-2,3-에피티오프로판, 3-메르캅토티에탄, 2-메르캅토티에탄, 3-메르캅토메틸티오티에탄, 2-메르캅토메틸티오티에탄, 3-메르캅토에틸티오티에탄, 2-메르캅토에틸티오티에탄 등의 지방족메르캅탄 화합물, 티오페놀, 메르캅토톨루엔 등의 방향족 메르캅탄 화합물, 및 2-메르캅토에탄올, 3-메르캅토-1,2-프로판디올 등의 메르캅토기 이외에 히드록시기를 함유하는 화합물을 들 수 있다.

또한, 다가 티올(폴리티올) 화합물로서는, 1,1-메탄디티올, 1,2-에탄디티올, 1,1-프로판디티올, 1,2-프로판디티올, 1,3-프로판디티올, 2,2-프로판디티올, 1,6-헥산디티올, 1,2,3-프로판트리티올, 1,1-시클로헥산디티올, 1,2-시클로헥산디티올, 2,2-디메틸프로판-1,3-디티올, 3,4-디메톡시부탄-1,2-디티올, 2-메틸시클로헥산-2,3-디티올, 1,1-비스(메르캅토메틸)시클로헥산, 티오사과산 비스(2-메르캅토에틸에스테르), 2,3-디메르캅토-1-프로판올(2-메르캅토아세테이트), 2,3-디메르캅토-1-프로판올(3-메르캅토프로피오네이트), 디에틸렌글리콜 비스(2-메르캅토아세테이트), 디에틸렌글리콜 비스(3-메르캅토프로피오네이트), 1,2-디메르캅토프로필메틸에테르, 2,3-디메르캅토프로필메틸에테르, 2,2-비스(메르캅토메틸)-1,3-프로판디티올, 비스(2-메르캅토에틸)에테르, 에틸렌글리콜 비스(2-메르캅토아세테이트), 에틸렌글리콜 비스(3-메르캅토프로피오네이트), 트리메티롤프로판 비스(2-메르캅토아세테이트), 트리메티롤프로판 비스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨 테트라키스(2-메르캅토아세테이트), 펜타에리스리톨 테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 테트라키스(메르캅토메틸)메탄, 1,1,1,1-테트라키스(메르캅토메틸)메탄 등의 지방족 폴리티올 화합물;

1,2-디메르캅토벤젠, 1,3-디메르캅토벤젠, 1,4-디메르캅토벤젠, 1,2-비스(메르캅토메틸)벤젠, 1,3-비스(메르캅토메틸)벤젠, 1,4-비스(메르캅토메틸)벤젠, 1,2-비스(메르캅토에틸)벤젠, 1,3-비스(메르캅토에틸)벤젠, 1,4-비스(메르캅토에틸)벤젠, 1,2,3-트리메르캅토벤젠, 1,2,4-트리메르캅토벤젠, 1,3,5-트리메르캅토벤젠, 1,2,3-트리스(메르캅토메틸)벤젠, 1,2,4-트리스(메르캅토메틸)벤젠, 1,3,5-트리스(메르캅토메틸)벤젠, 1,2,3-트리스(메르캅토에틸)벤젠, 1,2,4-트리스(메르캅토에틸)벤젠, 1,3,5-트리스(메르캅토에틸)벤젠, 2,5-톨루엔디티올, 3,4-톨루엔디티올, 1,3-디(p-메톡시페닐)프로판-2,2-디티올, 1,3-디페닐프로판-2,2-디티올, 페닐메탄-1,1-디티올, 2,4-디(p-메르캅토페닐)펜탄 등의 방향족 폴리티올 화합물;

1,2-비스(메르캅토에틸티오)벤젠, 1,3-비스(메르캅토에틸티오)벤젠, 1,4-비스(메르캅토에틸티오)벤젠, 1,2,3-트리스(메르캅토메틸티오)벤젠, 1,2,4-트리스(메르캅토메틸티오)벤젠, 1,3,5-트리스(메르캅토메틸티오)벤젠, 1,2,3-트리스(메르캅토에틸티오)벤젠, 1,2,4-트리스(메르캅토에틸티오)벤젠, 1,3,5-트리스(메르캅토에틸티오)벤젠 등, 및 이들의 핵알킬화물 등의 메르캅토기 이외에 유황 원자를 함유하는 방향족 폴리티올 화합물;

비스(메르캅토메틸)설파이드, 비스(메르캅토메틸)디설파이드, 비스(메르캅토에틸)설파이드, 비스(메르캅토에틸)디설파이드, 비스(메르캅토프로필)설파이드, 비스(메르캅토메틸티오)메탄, 비스(2-메르캅토에틸티오)메탄, 비스(3-메르캅토프로필티오)메탄, 1,2-비스(메르캅토메틸티오)에탄, 1,2-비스(2-메르캅토에틸티오)에탄, 1,2-비스(3-메르캅토프로필)에탄, 1,3-비스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,3-비스(2-메르캅토에틸티오)프로판, 1,3-비스(3-메르캅토프로필티오)프로판, 1,2,3-트리스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,2,3-트리스(2-메르캅토에틸티오)프로판, 1,2,3-트리스(3-메르캅토프로필티오)프로판, 1,2-비스[(2-메르캅토에틸)티오]-3-메르캅토프로판, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 테트라키스(메르캅토메틸티오메틸)메탄, 테트라키스(2-메르캅토에틸티오메틸)메탄, 테트라키스(3-메르캅토프로필티오메틸)메탄, 비스(2,3-디메르캅토프로필)설파이드, 비스(1,3-디메르캅토프로필)설파이드, 2,5-디메르캅토-1,4-디티안, 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안, 2,5-디메르캅토메틸-2,5-디메틸-1,4-디티안, 비스(메르캅토메틸)디설파이드, 비스(메르캅토에틸)디설파이드, 비스(메르캅토프로필)디설파이드, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄 등의 메르캅토기 이외에 유황 원자를 함유하는 지방족 폴리티올 화합물, 및 이들의 티오글리콜산 및 메르캅토프로피온산의 에스테르;

히드록시메틸설파이드 비스(2-메르캅토아세테이트), 히드록시메틸설파이드 비스(3-메르캅토프로피오네이트), 히드록시에틸설파이드 비스(2-메르캅토아세테이트), 히드록시에틸설파이드 비스(3-메르캅토프로피오네이트), 히드록시프로필설파이드 비스(2-메르캅토아세테이트), 히드록시프로필설파이드 비스(3-메르캅토프로피오네이트), 히드록시메틸디설파이드 비스(2-메르캅토아세테이트), 히드록시메틸디설파이드 비스(3-메르캅토프로피오네이트), 히드록시에틸디설파이드 비스(2-메르캅토아세테이트), 히드록시에틸디설파이드 비스(3-메르캅토프로피오네이트), 히드록시프로필디설파이드 비스(2-메르캅토아세테이트), 히드록시프로필디설파이드 비스(3-메르캅토프로피오네이트), 2-메르캅토에틸에테르 비스(2-메르캅토아세테이트), 2-메르캅토에틸에테르 비스(3-메르캅토프로피오네이트), 1,4-디티안-2,5-디올 비스(2-메르캅토아세테이트), 1,4-디티안-2,5-디올 비스(3-메르캅토프로피오네이트), 티오디글리콜산 비스(2-메르캅토에틸에스테르), 티오디프로피온산 비스(2-메르캅토에틸에스테르), 4,4-티오디부틸산 비스(2-메르캅토에틸에스테르), 디티오디글리콜산 비스(2-메르캅토에틸에스테르), 디티오디프로피온산 비스(2-메르캅토에틸에스테르), 4,4-디티오디부틸산 비스(2-메르캅토에틸에스테르), 티오디글리콜산 비스(2,3-디메르캅토프로필에스테르), 티오디프로피온산 비스(2,3-디메르캅토프로필에스테르), 디티오글리콜산 비스(2,3-디메르캅토프로필에스테르), 디티오디프로피온산 비스(2,3-디메르캅토프로필에스테르) 등의 메르캅토기 이외에 유황 원자와 에스테르 결합을 함유하는 지방족 폴리티올 화합물;

3,4-티오펜디티올, 2,5-디메르캅토-1,3,4-티아디아졸 등의 메르캅토기 이외에 유황 원자를 함유하는 복소환 화합물;

글리세린디(메르캅토아세테이트), 1-히드록시-4-메르캅토시클로헥산, 2,4-디메르캅토페놀, 2-메르캅토하이드로퀴논, 4-메르캅토페놀, 3,4-디메르캅토-2-프로판올, 1,3-디메르캅토-2-프로판올, 2,3-디메르캅토-1-프로판올, 1,2-디메르캅토-1,3-부탄디올, 펜타에리스리톨트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨 모노(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨 비스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨트리스(티오글리콜레이트), 디펜타에리스리톨 펜타키스(3-메르캅토프로피오네이트), 히드록시메틸-트리스(메르캅토에틸티오메틸)메탄, 1-히드록시에틸티오-3-메르캅토에틸티오벤젠 등의 메르캅토기 이외에 히드록시기를 함유하는 화합물;

1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,1,2,2-테트라키스(메르캅토메틸티오)에탄, 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티아시클로헥산, 1,1,5,5-테트라키스(메르캅토메틸티오)-3-티아펜탄, 1,1,6,6-테트라키스(메르캅토메틸티오)-3,4-디티아헥산, 2,2-비스(메르캅토메틸티오)에탄티올, 2-(4,5-디메르캅토-2-티아펜틸)-1,3-디티아시클로펜탄, 2,2-비스(메르캅토메틸)-1,3-디티아시클로펜탄, 2,5-비스(4,4-비스(메르캅토메틸티오)-2-티아부틸)-1,4-디티안, 2,2-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-프로판디티올, 3-메르캅토메틸티오-1,7-디메르캅토-2,6-디티아헵탄, 3,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,9-디메르캅토-2,5,8-트리티아노난, 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,9-디메르캅토-2,5,8-트리티아노난, 3-메르캅토메틸티오-1,6-디메르캅토-2,5-디티아헥산, 2-(2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸)-1,3-디티에탄, 1,1,9,9-테트라키스(메르캅토메틸티오)-5-(3,3-비스(메르캅토메틸티오)-1-티아프로필)-3,7-디티아노난, 트리스(2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸)메탄, 트리스(4,4-비스(메르캅토메틸티오)-2-티아부틸)메탄, 테트라키스(2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸)메탄, 테트라키스(4,4-비스(메르캅토메틸티오)-2-티아부틸)메탄, 3,5,9,11-테트라키스(메르캅토메틸티오)-1,13-디메르캅토-2,6,8,12-테트라티아트리데칸, 3,5,9,11,15,17-헥사 키스(메르캅토메틸티오)-1,19-디메르캅토-2,6,8,12,14,18-헥사티아노나데칸, 9-(2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸)-3,5,13,15-테트라키스(메르캅토메틸티오)-1,17-디메르캅토-2,6,8,10,12,16-헥사티아헵타데칸, 3,4,8,9-테트라키스(메르캅토메틸티오)-1,11-디메르캅토 2,5,7,10-테트라티아운데칸, 3,4,8,9,13,14-헥사키스(메르캅토메틸티오)-1,16-디메르캅토 2,5,7,10,12,15-헥사티아헥사데칸, 8-{비스(메르캅토메틸티오)메틸}-3,4,12,13-테트라키스(메르캅토메틸티오)-1,15-디메르캅토-2,5,7,9,11,14-헥사티아펜타데칸, 4,6-비스{3,5-비스(메르캅토메틸티오)-7-메르캅토-2,6-디티아헵틸티오}-1,3-디티안, 4-{3,5-비스(메르캅토메틸티오)-7-메르캅토-2,6-디티아헵틸티오}-6-메르캅토메틸티오-1,3-디티안, 1,1-비스{4-(6-메르캅토메틸티오)-1,3-디티아닐티오}-3,3-비스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,3-비스{4-(6-메르캅토메틸티오)-1,3-디티아닐티오}-1,3-비스(메르캅토메틸티오)프로판, 1-{4-(6-메르캅토메틸티오)-1,3-디티아닐티오}-3-{2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸}-7,9-비스(메르캅토메틸티오)-2,4,6,10-테트라티아운데칸, 1-{4-(6-메르캅토메틸티오)-1,3-디티아닐티오}-3-{2-(1,3-디티에타닐)}메틸-7,9-비스(메르캅토메틸티오)-2,4,6,10-테트라티아운데칸, 1,5-비스{4-(6-메르캅토메틸티오)-1,3-디티아닐티오}-3-{2-(1,3-디티에타닐)}메틸-2,4-디티아펜탄, 4,6-비스[3-{2-(1,3-디티에타닐)}메틸-5-메르캅토-2,4-디티아펜틸티오]-1,3-디티안, 4,6-비스{4-(6-메르캅토메틸티오)-1,3-디티아닐티오}-1,3-디티안, 4-{4-(6-메르캅토메틸티오)-1,3-디티아닐티오}-6-{4-(6-메르캅토메틸티오)-1,3-디티아닐티오}-1,3-디티안, 3-{2-(1,3-디티에타닐)}메틸-7,9-비스(메르캅토메틸티오)-1,11-디메르캅토 2,4,6,10-테트라티아운데칸, 9-{2-(1,3-디티에타닐)}메틸-3,5,13,15-테트라키스(메르캅토메틸티오)-1,17-디메르캅토-2,6,8,10,12,16-헥사티아헵타데칸, 3-{2-(1,3-디티에타닐)}메틸-7,9,13,15-테트라키스(메르캅토메틸티오)-1,17-디메르캅토 2,4,6,10,12,16-헥사티아헵타데칸, 3,7-비스{2-(1,3-디티에타닐)}메틸-1,9-디메르캅토 2,4,6,8-테트라티아노난, 4-{3,4,8,9-테트라키스(메르캅토메틸티오)-11-메르캅토-2,5,7,10-테트라 티아운데실}-5-메르캅토메틸티오-1,3-디티오란, 4,5-비스{3,4-비스(메르캅토메틸티오)-6-메르캅토-2,5-디티아헥실티오}-1,3-디티오란, 4-{3,4-비스(메르캅토메틸티오)-6-메르캅토-2,5-디티아헥실티오}-5-메르캅토메틸티오-1,3-디티오란, 4-{3-비스(메르캅토메틸티오)메틸-5,6-비스(메르캅토메틸티오)-8-메르캅토-2,4,7-트리티아옥틸}-5-메르캅토메틸티오-1,3-디티오란, 2-[비스{3,4-비스(메르캅토메틸티오)-6-메르캅토-2,5-디티아헥실티오}메틸]-1,3-디티에탄, 2-{3,4-비스(메르캅토메틸티오)-6-메르캅토-2,5-디티아헥실티오}메르캅토메틸티오메틸-1,3-디티에탄, 2-{3,4,8,9-테트라키스(메르캅토메틸티오)-11-메르캅토-2,5,7,10-테트라티아운데실티오}메르캅토메틸티오메틸-1,3-디티에탄, 2-{3-비스(메르캅토메틸티오)메틸-5,6-비스(메르캅토메틸티오)-8-메르캅토-2,4,7-트리티아옥틸}메르캅토메틸티오메틸-1,3-디티에탄, 4,5-비스[1-{2-(1,3-디티에타닐)}-3-메르캅토-2-티아프로필티오]-1,3-디티오란, 4-[1-{2-(1,3-디티에타닐)}-3-메르캅토-2-티아프로필티오]-5-{1,2-비스(메르캅토메틸티오)-4-메르캅토-3-티아부틸티오}-1,3-디티오란, 2-[비스{4-(5-메르캅토메틸티오-1,3-디티오라닐)티오}]메틸-1,3-디티에탄, 4-{4-(5-메르캅토메틸티오-1,3-디티오라닐)티오}-5-[1-{2-(1,3-디티에타닐)}-3-메르캅토-2-티아프로필티오]-1,3-디티오란, 또한 이들의 올리고머 등의 디티오아세탈 혹은 디티오케탈 골격을 가지는 화합물;

트리스(메르캅토메틸티오)메탄, 트리스(메르캅토에틸티오)메탄, 1,1,5,5-테트라키스(메르캅토메틸티오)-2,4-디티아펜탄, 비스[4,4-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티아부틸](메르캅토메틸티오)메탄, 트리스[4,4-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티아부틸]메탄, 2,4,6-트리스(메르캅토메틸티오)-1,3,5-트리티아시클로헥산, 2,4-비스(메르캅토메틸티오)-1,3,5-트리티아시클로헥산, 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)-2-티아프로판, 비스(메르캅토메틸)메틸티오-1,3,5-트리티아시클로헥산, 트리스[(4-메르캅토메틸-2,5-디티아시클로헥실-1-일)메틸티오]메탄, 2,4-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티아시클로펜탄, 2-메르캅토에틸티오-4-메르캅토메틸-1,3-디티아시클로펜탄, 2-(2,3-디메르캅토프로필티오)-1,3-디티아시클로펜탄, 4-메르캅토메틸-2-(2,3-디메르캅토프로필티오)-1,3-디티아시클로펜탄, 4-메르캅토메틸-2-(1,3-디메르캅토-2-프로필티오)-1,3-디티아시클로펜탄, 트리스[2,2-비스(메르캅토메틸티오)-1-티아에틸]메탄, 트리스[3,3-비스(메르캅토메틸티오)-2-티아프로필]메탄, 트리스[4,4-비스(메르캅토메틸티오)-3-티아부틸]메탄, 2,4,6-트리스[3,3-비스(메르캅토메틸티오)-2-티아프로필]-1,3,5-트리티아시클로헥산, 테트라키스[3,3-비스(메르캅토메틸티오)-2-티아프로필]메탄 등, 또한 이들의 올리고머 등의 오르토 트리티오 포름산 에스테르 골격을 가지는 화합물; 및

3,3'-디(메르캅토메틸티오)-1,5-디메르캅토-2,4-디티아펜탄, 2,2'-디(메르캅토메틸티오)-1,3-디티아시클로펜탄, 2,7-디(메르캅토메틸)-1,4,5,9-테트라티아스피로[4,4]노난, 3,9-디메르캅토-1,5,7,11-테트라티아스피로[5,5]운데칸, 또한 이들의 올리고머 등의 오르토 테트라티오탄산에스테르 골격을 가지는 화합물 등을 들 수 있지만, 이들의 예시 화합물에만 한정되는 것은 아니다. 이들의 예시 화합물은, 단독으로도 2 종류 이상 혼합하여 사용해도 좋다.

이들 티올 화합물 중, 얻어지는 수지의 광학 물성, 특히 아베수를 고려하면, 방향족계보다도 지방족계의 티올 화합물을 선택하는 것이 바람직하다. 또한, 광학 물성, 특히 굴절률의 요구를 고려하면, 설파이드 결합 및/또는 디설파이드 결합 등의 티올기 이외에 유황 원자를 가지는 화합물을 선택하면, 보다 한층 바람직하다. 얻어지는 수지의 내열성을 고려하여 3차원 가교성을 높이는 관점에서는, 에피티오기나 티에타닐기 등의 중합성기를 가지는 티올 화합물이나, 티올기를 3개 이상 가지는 화합물을 1종 이상 선택하면 특히 바람직하다.

이상의 관점에서 바람직한 티올로서는, 3-메르캅토티에탄, 1-메르캅토-2,3-에피티오프로판, 1-메르캅토메틸티오-2,3-에피티오프로판, 1-메르캅토에틸티오-2,3-에피티오프로판, 3-메르캅토티에탄, 2-메르캅토티에탄, 3-메르캅토메틸티오티에탄, 2-메르캅토메틸티오티에탄, 3-메르캅토에틸티오티에탄, 2-메르캅토에틸티오티에탄, 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 1,1,1,1-테트라키스(메르캅토메틸)메탄, 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,1,2,2-테트라키스(메르캅토메틸티오)에탄, 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티안, 2-(2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸)-1,3-디티에탄이다.

더욱 바람직하게는, 3-메르캅토티에탄, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 1,1,1,1-테트라키스(메르캅토메틸)메탄, 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판, 1,1,2,2-테트라키스(메르캅토메틸티오)에탄, 4,6-비스(메르캅토메틸티오)-1,3-디티안, 2-(2,2-비스(메르캅토메틸티오)에틸)-1,3-디티에탄이다. 또한, 2가의 티올 화합물을 선택하는 경우는, 중합성기를 가지는 티올 화합물 및/또는 3가 이상의 티올 화합물과 혼합하여 사용하는 것이 바람직하다.

중합성 조성물이 상기 일반식(110)으로 표시한 화합물을 포함할 때, 티올 화합물은, 더욱 구체적으로는, 3-메르캅토티에탄, 1,2-에탄디티올, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸 및 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상이다.

이들 티올 화합물의 사용량으로서는, 상기 일반식(110)(예를 들어, 상기 일반식(100))으로 표시되는 화합물과 티올 화합물의 합계를 100중량부로 했을 때, 티올 화합물의 사용량이 너무 적으면, 색상의 개선 및 기계 강도의 향상의 효과가 적어 바람직하지 않은 경우가 있다. 또한, 상기 일반식(110)(예를 들어, 상기 일반식(100))으로 표시되는 화합물과 티올 화합물의 합계를 100중량부로 했을 때, 티올 화합물의 사용량이 너무 많으면, 내열성의 저하가 현저하여 바람직하지 않은 경우가 있다.

따라서, 티올 화합물의 사용량은, 상기 일반식(110)(예를 들어, 상기 일반식(100))으로 표시되는 화합물과 티올 화합물의 합계를 100중량부로 했을 때, 1중량부 이상 50중량부 이하 사용하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 티올 화합물의 사용량은 상기 일반식(110)(예를 들어, 상기 일반식(100))으로 표시되는 화합물과 티올 화합물의 합계를 100중량부로 했을 때, 1중량부 이상 25중량부 이하이다.

또한, 중합성 조성물이 상기 일반식(201)로 표시한 화합물을 포함할 때, 티올 화합물은, 더욱 구체적으로는, 3-메르캅토티에탄, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸 및 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상이다.

이들 티올 화합물의 사용량으로서는, 상기 일반식(201)로 표시되는 화합물과 티올 화합물의 합계를 100중량부로 했을 때, 티올 화합물의 사용량이 너무 적으면, 색상의 개선 및 기계 강도의 향상의 효과가 적어 바람직하지 않은 경우가 있다. 또한, 상기 일반식(201)로 표시되는 화합물과 티올 화합물의 합계를 100중량부로 했을 때, 티올 화합물의 사용량이 너무 많으면, 내열성의 저하가 현저하여 바람직하지 않은 경우가 있다.

따라서, 티올 화합물의 사용량은, 상기 일반식(201)로 표시되는 화합물과 티올 화합물의 합계를 100중량부로 했을 때, 1중량부 이상 50중량부 이하 사용하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 티올 화합물의 사용량은 상기 일반식(201)로 표시되는 화합물과 티올 화합물의 합계를 100중량부로 했을 때, 1중량부 이상 25중량부 이하이다.

중합성 조성물이, 상기 일반식(201)로 표시되는 화합물과 티올 화합물을 포함하는 구성으로 하면, 얻어지는 수지의 기계 물성 및 색상을 보다 한층 향상시킬 수 있다.

또한, 중합성 조성물 중에, 티올 화합물에 가하여 이소시아네이트 화합물을 더 배합해도 좋다. 이소시아네이트 화합물을 가함으로써 기계 물성 등이 더욱 개량되는 경우가 있다.

여기서 사용되는 이소시아네이트 화합물은, 특별히 한정되지 않지만, 복수의 이소시아나토기를 가지는 폴리이소시아네이트 화합물이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 디이소시아네이트 화합물이다. 구체적으로는 헥사메틸렌디이소시아네이트, 비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 크실렌디이소시아네이트, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 톨루엔디이소시아네이트, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2,2,1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2,2,1]-헵탄, 이소포론디이소시아네이트 등을 매우 적합한 예로서 들 수 있다.

또한, 미리 티올 화합물과 이소시아네이트 화합물을 반응시켜 얻어지는 반응물을 중합 생성물 중에 가해도 좋다.

다음에, 에폭시 화합물 및 에피티오 화합물에 관하여 설명한다.

본 발명의 중합성 조성물은, 에폭시 화합물 및/또는 에피티오 화합물을 포함해도 좋다. 이 때, 상기 일반식(110)으로 표시되는 화합물에 있어서 m=0이며, X₁이 유황 원자이어도 좋다. 또한, 상기 일반식(100)으로 표시되는 화합물에 있어서 m=0이며, X₁이 유황 원자이어도 좋다.

에폭시 화합물 및 에피티오 화합물은, 각각, 분자 내에 1개 이상의 에폭시기 및 에피티오기를 함유한다. 또한, 에폭시 화합물 및 에피티오 화합물은, 예를 들어 상기 일반식(110)(구체적으로는, 상기 일반식(100))으로 표시되는 화합물과 상용하는 것이면 어떠한 구조를 가지는 화합물로도 사용할 수 있지만, 바람직하게는 에폭시기 및/또는 에피티오기를 합계 2개 이상 함유하는 화합물이다.

구체적으로는, 에폭시 화합물로서, 비스페놀 A, 비스페놀 F 등의 다가 페놀 화합물과, 에피할로히드린 화합물과의 축합반응에 의해 얻어지는 페놀계 에폭시 화합물(예를 들어, 비스페놀 A글리시딜에테르, 비스페놀 F글리시딜에테르);

수첨(水添)비스페놀 A, 수첨 비스페놀 F, 시클로헥산디메탄올 등의 다가 알코올 화합물과, 에피할로히드린 화합물과의 축합에 의해 얻어지는 알코올계 에폭시 화합물(예를 들어, 수첨 비스페놀 A글리시딜에테르, 수첨 비스페놀 F글리시딜에테르), 및 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 1,4-시클로헥산디메탄올디글리시딜에테르, 트리메티롤프로판트리글리시딜에테르 등의 그 외의 알코올계 에폭시 화합물;

3,4-에폭시시클로헥실메틸-3',4'-에폭시시클로헥산카르복실레이트나 1,2-헥사히드로프탈산디글리시딜에스테르 등의 글리시딜에스테르계 에폭시 화합물; 및

1급 및 2급 아민 화합물과 에피할로히드린 화합물과의 축합에 의해 얻어지는 아민계 에폭시 화합물(예를 들어, 이소시아눌산트리글리시딜에테르) 등을 들 수 있다. 또한, 그 외, 4-비닐-1-시클로헥산디에폭사이드 등의 비닐시클로헥센디에폭사이드 등의 지방족 다가 에폭시 화합물 등을 들 수 있다.

설파이드기 함유 에폭시 화합물과 에테르기 함유 에폭시 화합물의 구체적 화합물예로서는, 비스(2,3-에폭시프로필)설파이드, 비스(2,3-에폭시프로필)디설파이드, 비스(2,3-에폭시프로필티오)메탄, 1,2-비스(2,3-에폭시프로필티오)에탄, 1,2-비스(2,3-에폭시프로필티오)프로판, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오)프로판, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2-메틸프로판, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필티오)부탄, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2-메틸부탄, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오)부탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필티오)펜탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2-메틸펜탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필티오)-3-티아펜탄, 1,6-비스(2,3-에폭시프로필티오)헥산, 1,6-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2-메틸헥산, 3,8-비스(2,3-에폭시프로필티오)-3,6-디티아옥탄, 1,2,3-트리스(2,3-에폭시프로필티오)프로판, 2,2-비스(2,3-에폭시프로필티오)-1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)프로판, 2,2-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-1-(2,3-에폭시프로필티오)부탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2-(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3-티아펜탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2,4-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3-티아펜탄, 1-(2,3-에폭시프로필티오)-2,2-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-4-티아헥산, 1,5,6-트리스(2,3-에폭시프로필티오)-4-(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3-티아헥산, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필티오)-4-(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필티오)-4,5-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필티오)-4,4-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2,5-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2,4,5-트리스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,1,1-트리스[[2-(2,3-에폭시프로필티오)에틸]티오메틸]-2-(2,3-에폭시프로필티오)에탄, 1,1,2,2-테트라키스[[2-(2,3-에폭시프로필티오)에틸]티오메틸]에탄, 1,11-비스(2,3-에폭시프로필티오)-4,8-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에폭시프로필티오)-4,7-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에폭시프로필티오)-5,7-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸 등의 쇄상 지방족의 2,3-에폭시프로필티오 화합물;

1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필티오)시클로헥산, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)시클로헥산, 2,5-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스[[2-(2,3-에폭시프로필티오)에틸]티오메틸]-1,4-디티안, 2,5-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-2,5-디메틸-1,4-디티안, 3-(2,3-에폭시프로필티오)티에탄 등의 환상 지방족의 2,3-에폭시프로필티오 화합물;

1,2-비스(2,3-에폭시프로필티오)벤젠, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오)벤젠, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필티오)벤젠, 1,2-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)벤젠, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)벤젠, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)벤젠, 비스[4-(2,3-에폭시프로필티오)페닐]메탄, 2,2-비스[4-(2,3-에폭시프로필티오)페닐]프로판, 비스[4-(2,3-에폭시프로필티오)페닐]설파이드, 비스[4-(2,3-에폭시프로필티오)페닐]설폰, 4,4'-비스(2,3-에폭시프로필티오)비페닐 등의 방향족 2,3-에폭시프로필티오 화합물;

에틸렌옥사이드, 프로필렌옥사이드, 글리시돌, 에피클로르히드린 등의 단관능 에폭시 화합물;

비스(2,3-에폭시프로필)에테르, 비스(2,3-에폭시프로필옥시)메탄, 1,2-비스(2,3-에폭시프로필옥시)에탄, 1,2-비스(2,3-에폭시프로필옥시)프로판, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필옥시)프로판, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-2-메틸프로판, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필옥시)부탄, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-2-메틸부탄, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필옥시)부탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시)펜탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-2-메틸펜탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-3-티아펜탄, 1,6-비스(2,3-에폭시프로필옥시)헥산, 1,6-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-2-메틸헥산, 3,8-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-3,6-디티아옥탄, 1,2,3-트리스(2,3-에폭시프로필옥시)프로판, 2,2-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-1,3-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)프로판, 2,2-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-1-(2,3-에폭시프로필옥시)부탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-2-(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3-티아펜탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-2,4-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3-티아펜탄, 1-(2,3-에폭시프로필옥시)-2,2-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-4-티아헥산, 1,5,6-트리스(2,3-에폭시프로필옥시)-4-(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3-티아헥산, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-4-(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-4,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-4,4-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-2,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-2,4,5-트리스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,1,1-트리스[[2-(2,3-에폭시프로필옥시)에틸]티오메틸]-2-(2,3-에폭시프로필옥시)에탄, 1,1,2,2-테트라키스[[2-(2,3-에폭시프로필옥시)에틸]티오메틸]에탄, 1,11-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-4,8-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-4,7-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에폭시프로필옥시)-5,7-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-3,6,9-트리티아운데칸 등의 쇄상 지방족의 2,3-에폭시프로필옥시 화합물;

1,3-비스(2,3-에폭시프로필옥시)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필옥시)시클로헥산, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)시클로헥산, 2,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스[[2-(2,3-에폭시프로필옥시)에틸]티오메틸]-1,4-디티안, 2,5-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)-2,5-디메틸-1,4-디티안 등의 환상 지방족의 2,3-에폭시프로필옥시 화합물; 및,

1,2-비스(2,3-에폭시프로필옥시)벤젠, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필옥시)벤젠, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필옥시)벤젠, 1,2-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)벤젠, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)벤젠, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필옥시메틸)벤젠, 비스[4-(2,3-에폭시프로필옥시)페닐]메탄, 2,2-비스[4-(2,3-에폭시프로필옥시)페닐]프로판, 비스[4-(2,3-에폭시프로필옥시)페닐]설파이드, 비스[4-(2,3-에폭시프로필옥시)페닐]설폰, 4,4'-비스(2,3-에폭시프로필옥시)비페닐 등의 방향족 2,3-에폭시프로필옥시 화합물 등을 들 수 있지만, 예시 화합물에만 한정되는 것은 아니다.

이들 예시한 에폭시 화합물 중, 바람직하게는, 비스(2,3-에폭시프로필)디설파이드, 4-비닐-1-시클로헥산디에폭사이드, 비스페놀 A글리시딜에테르, 비스페놀 F글리시딜에테르 등의 페놀계 에폭시 화합물;

수첨 비스페놀 A글리시딜에테르, 수첨 비스페놀 F글리시딜에테르, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 1,4-시클로헥산디메탄올디글리시딜에테르, 트리메티롤프로판트리글리시딜에테르 등의 알코올계 에폭시 화합물;

3,4-에폭시시클로헥실메틸-3',4'-에폭시시클로헥산카르복실레이트나 1,2-헥사히드로프탈산디글리시딜에스테르 등의 글리시딜에스테르계 에폭시 화합물;

이소시아눌산트리글리시딜에테르 등의 아민계 에폭시 화합물 등을 들 수 있다. 또한, 그 외, 비닐시클로헥센디에폭사이드 등의 지방족 다가 에폭시 화합물 등을 들 수 있다.

에폭시 화합물은, 보다 바람직하게는, 비스(2,3-에폭시프로필)디설파이드, 1,4-시클로헥산디메탄올디글리시딜에테르, 비스페놀 A글리시딜에테르, 비스페놀 F글리시딜에테르, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 트리메티롤프로판트리글리시딜에테르, 이소시아눌산트리글리시딜에테르이다. 더욱 바람직하게는, 1,4-시클로헥산디메탄올디글리시딜에테르 및 비스페놀 F글리시딜에테르이다.

에피티오 화합물로서, 구체적으로는, 비스(1,2-에피티오에틸)설파이드, 비스(1,2-에피티오에틸)디설파이드, 비스(에피티오에틸티오)메탄, 비스(에피티오에틸티오)벤젠, 비스[4-(에피티오에틸티오)페닐]설파이드, 비스[4-(에피티오에틸티오)페닐]메탄 등의 에피티오에틸티오 화합물;

비스(2,3-에피티오프로필)설파이드, 비스(2,3-에피티오프로필)디설파이드, 비스(2,3-에피티오프로필티오)메탄, 1,2-비스(2,3-에피티오프로필티오)에탄, 1,2-비스(2,3-에피티오프로필티오)프로판, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오)프로판, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2-메틸프로판, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오)부탄, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2-메틸부탄, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오)부탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필티오)펜탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2-메틸펜탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필티오)-3-티아펜탄, 1,6-비스(2,3-에피티오프로필티오)헥산, 1,6-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2-메틸헥산, 3,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-3,6-디티아옥탄, 1,2,3-트리스(2,3-에피티오프로필티오)프로판, 2,2-비스(2,3-에피티오프로필티오)-1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)프로판, 2,2-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-1-(2,3-에피티오프로필티오)부탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2-(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3-티아펜탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2,4-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3-티아펜탄, 1-(2,3-에피티오프로필티오)-2,2-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-4-티아헥산, 1,5,6-트리스(2,3-에피티오프로필티오)-4-(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3-티아헥산, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-4-(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-4,5-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-4,4-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2,5-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필티오)-2,4,5-트리스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,1,1-트리스[[2-(2,3-에피티오프로필티오)에틸]티오메틸]-2-(2,3-에피티오프로필티오)에탄, 1,1,2,2-테트라키스[[2-(2,3-에피티오프로필티오)에틸]티오메틸]에탄, 1,11-비스(2,3-에피티오프로필티오)-4,8-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에피티오프로필티오)-4,7-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에피티오프로필티오)-5,7-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸 등의 쇄상 지방족의 2,3-에피티오프로필티오 화합물;

1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오)시클로헥산, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)시클로헥산, 2,5-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스[[2-(2,3-에피티오프로필티오)에틸]티오메틸]-1,4-디티안, 2,5-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)-2,5-디메틸-1,4-디티안 등의 환상 지방족의 2,3-에피티오프로필티오 화합물;

1,2-비스(2,3-에피티오프로필티오)벤젠, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오)벤젠, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오)벤젠, 1,2-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)벤젠, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)벤젠, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필티오메틸)벤젠, 비스[4-(2,3-에피티오프로필티오)페닐]메탄, 2,2-비스[4-(2,3-에피티오프로필티오)페닐]프로판, 비스[4-(2,3-에피티오프로필티오)페닐]설파이드, 비스[4-(2,3-에피티오프로필티오)페닐]설폰, 4,4'-비스(2,3-에피티오프로필티오)비페닐 등의 방향족 2,3-에피티오프로필티오 화합물;

에틸렌설파이드, 프로필렌설파이드, 메르캅토프로필렌설파이드, 메르캅토부텐설파이드, 에피티오클로르히드린 등의 에피티오기를 1개 가지는 화합물;

비스(2,3-에피티오프로필)에테르, 비스(2,3-에피티오프로필옥시)메탄, 1,2-비스(2,3-에피티오프로필옥시)에탄, 1,2-비스(2,3-에피티오프로필옥시)프로판, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필옥시)프로판, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-2-메틸프로판, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필옥시)부탄, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-2-메틸부탄, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필옥시)부탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시)펜탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-2-메틸펜탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-3-티아펜탄, 1,6-비스(2,3-에피티오프로필옥시)헥산, 1,6-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-2-메틸헥산, 3,8-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-3,6-디티아옥탄, 1,2,3-트리스(2,3-에피티오프로필옥시)프로판, 2,2-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-1,3-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)프로판, 2,2-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-1-(2,3-에피티오프로필옥시)부탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-2-(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3-티아펜탄, 1,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-2,4-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3-티아펜탄, 1-(2,3-에피티오프로필옥시)-2,2-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-4-티아헥산, 1,5,6-트리스(2,3-에피티오프로필옥시)-4-(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3-티아헥산, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-4-(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-4,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-4,4-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-2,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-2,4,5-트리스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,1,1-트리스[[2-(2,3-에피티오프로필옥시)에틸]티오메틸]-2-(2,3-에피티오프로필옥시)에탄, 1,1,2,2-테트라키스[[2-(2,3-에피티오프로필옥시)에틸]티오메틸]에탄, 1,11-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-4,8-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-4,7-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에피티오프로필옥시)-5,7-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-3,6,9-트리티아운데칸 등의 쇄상 지방족의 2,3-에피티오프로필옥시 화합물;

1,3-비스(2,3-에피티오프로필옥시)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필옥시)시클로헥산, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)시클로헥산, 2,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스[[2-(2,3-에피티오프로필옥시)에틸]티오메틸]-1,4-디티안, 2,5-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)-2,5-디메틸-1,4-디티안 등의 환상 지방족의 2,3-에피티오프로필옥시 화합물; 및,

1,2-비스(2,3-에피티오프로필옥시)벤젠, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필옥시)벤젠, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필옥시)벤젠, 1,2-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)벤젠, 1,3-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)벤젠, 1,4-비스(2,3-에피티오프로필옥시메틸)벤젠, 비스[4-(2,3-에피티오프로필옥시)페닐]메탄, 2,2-비스[4-(2,3-에피티오프로필옥시)페닐]프로판, 비스[4-(2,3-에피티오프로필옥시)페닐]설파이드, 비스[4-(2,3-에피티오프로필옥시)페닐]설폰, 4,4'-비스(2,3-에피티오프로필옥시)비페닐 등의 방향족 2,3-에피티오프로필옥시 화합물 등을 들 수 있지만, 예시 화합물에만 한정되는 것은 아니다.

이들 예시 화합물 중 바람직한 화합물로서는, 비스(1,2-에피티오에틸)설파이드, 비스(1,2-에피티오에틸)디설파이드, 비스(2,3-에피티오프로필)설파이드, 비스(2,3-에피티오프로필티오)메탄 및 비스(2,3-에피티오프로필)디설파이드이며, 보다 바람직한 화합물로서는 비스(1,2-에피티오에틸)설파이드, 비스(1,2-에피티오에틸)디설파이드, 비스(2,3-에피티오프로필)설파이드 및 비스(2,3-에피티오프로필)디설파이드이다. 또한, 보다 한층 바람직한 화합물은, 비스(2,3-에피티오프로필)설파이드 및 비스(2,3-에피티오프로필)디설파이드이다.

에폭시 화합물 및/또는 에피티오 화합물의 사용량으로서는, 사용하는 화합물의 구조나 사용량에 따라 다르지만, 얻어지는 수지의 굴절률을 고려하면, 본 발명의 중합성 전체에 대하여, 25중량% 이하 함유하면 바람직하다. 23중량% 이하이면 보다 바람직하고, 20중량% 이하이면 더욱 바람직하다. 얻어지는 수지의 색상 및 기계 강도를 고려하면, 2.5중량% 이상이면 바람직하다.

에폭시 화합물 및/또는 에피티오 화합물은, 어느 한쪽, 혹은 양쪽을 병용하여 사용할 수 있고, 그 양비(量比)는 특별히 한정되는 것은 아니다. 또한, 에폭시 화합물끼리로서 상이한 에폭시 화합물, 또는, 에피티오 화합물끼리로서 상이한 에피티오 화합물을 복수 병용하는 것도 가능하다. 다만, 고굴절률의 수지를 얻기 위해서는, 에피티오 화합물의 사용이 바람직하다.

중합성 조성물이 에폭시 화합물 및/또는 에피티오 화합물을 더 포함할 때, 본 발명의 중합성 조성물 중에 포함되는 중합성 화합물의 총중량에 차지하는, 상기 일반식(110)(예를 들어, 상기 일반식(100))으로 표시되는 화합물의 함유량은, 특별히 한정하는 것이 아니고, 통상, 10중량% 이상이다. 또한, 상기 일반식(110)(예를 들어, 상기 일반식(100))으로 표시되는 화합물의 함유량이 증가함에 따라 고굴절률화 재료가 얻어지는 경향이 있기 때문에 바람직하게는, 30중량% 이상이며, 보다 바람직하게는, 50중량% 이상이며, 더욱 바람직하게는, 70중량% 이상이다.

다만, 상기 일반식(110)(예를 들어, 상기 일반식(100))으로 표시되는 화합물의 함유량이 너무 많으면 상대적으로 티올 화합물 및 에폭시 화합물 및/또는 에피티오 화합물의 함유량이 저하하기 때문에, 수지의 색상을 개선하고, 기계 강도의 저하를 억제하는 관점에서는, 중합성 조성물 중의 상기 일반식(110)(예를 들어, 상기 일반식(100))으로 표시되는 화합물의 함유량을 95중량% 이하로 하는 것이 바람직하다.

또한, 티올 화합물과 에폭시 화합물 및/또는 에피티오 화합물을 병용할 때, 티올 화합물의 사용량으로서는, 사용하는 화합물의 구조 및, 에폭시 화합물 및/또는 에피티오 화합물의 구조나 사용량에 따라 다르지만, 상기 일반식(110)(예를 들어, 상기 일반식(100))으로 표시되는 화합물은 높은 굴절률을 가지는 수지를 부여하기 때문에, 일반적으로 티올 화합물의 첨가는 얻어지는 수지의 굴절률의 저하를 의미한다. 따라서, 얻어지는 수지의 굴절률을 고려하면, 본 발명의 중합성 조성물 전체에 대하여, 35중량% 이하 함유하는 것이 바람직하다. 30중량% 이하이면 보다 바람직하고, 25중량% 이하이면 더욱 바람직하다. 얻어지는 수지의 색상, 기계 강도를 감안하면, 2.5중량% 이상이면 바람직하다.

또한, 티올 화합물과 에폭시 화합물 및/또는 에피티오 화합물을 병용할 때, 티올 화합물과 에폭시 화합물 및/또는 에피티오 화합물의 사용량비로서는, 티올 화합물 중의 티올기와, 에폭시 화합물 및/또는 에피티오 화합물 중의 에폭시기 및/또는 에피티오기와의 관능기비(SH기/(에폭시기＋에피티오기))는, 수지 색상의 관점에서는, 0.7 이상이 바람직하다. 더욱 바람직하게는 0.9 이상 5 이하이며, 보다 바람직하게는 0.9 이상 3 이하이다. 이 관능기비가 너무 작으면, 얻어지는 수지의 기계 강도가 저하하여 바람직하지 않은 경우가 있고, 너무 크면 얻어지는 수지의 내열성이 저하하기 때문에 바람직하지 않은 경우가 있다.

다음에, 비금속 티에탄 화합물에 관하여 설명한다.

비금속 티에탄 화합물은, 분자 내에 1개 이상의 티에타닐기를 함유한다. 또한, 비금속 티에탄 화합물은, 예를 들어 상기 일반식(100) 또는 상기 일반식(110)으로 표시되는 화합물과 상용하는 것이면 어떠한 구조를 가지는 화합물로도 사용할 수 있지만, 바람직하게는 티에타닐기를 합계 2 이상 함유하는 화합물이다.

구체적으로는, 티에탄 화합물로서, 비스티에타닐설파이드, 비스(티에타닐티오)메탄, 3-(((티에타닐티오)메틸티오)메틸티오)티에탄 등의 설파이드계 티에탄 화합물:

비스티에타닐디설파이드, 비스티에타닐트리설파이드, 비스티에타닐테트라설파이드, 비스티에타닐펜타설파이드 등의 폴리설파이드계 티에탄 화합물 등을 들 수 있다.

또한, 비금속 티에탄으로서, 하기 식(130)으로 표시하는 화합물(1,3-비스(티에타닐티오)-2-프로판올)을 사용해도 좋다.

[화학식 40]

또한, 이 때, 중합성 조성물이, 상기 일반식(120) 및 (110)으로 표시한 화합물로서 하기 식(4)로 표시하는 금속 티에탄 화합물을 포함하고, 다른 금속 티에탄 화합물로서, 하기 식(12)로 표시하는 화합물을 포함해도 좋다. 상기 식(130)으로 표시한 화합물과, 상기 일반식(120)으로 표시된 화합물(예를 들어, 하기 식(4)로 표시하는 화합물)을 조합하여 사용하는 것에 의해, 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 수지의 고굴절률, 기계 강도 및 내열성의 밸런스가 더욱 뛰어난 구성으로 하는 것이 가능하다.

[화학식 41]

[화학식 42]

비금속 티에탄 화합물의 사용량으로서는, 사용하는 화합물의 구조나 사용량에 따라 다르지만, 얻어지는 수지의 굴절률을 고려하면, 본 발명의 중합성 조성물 전체에 대하여, 예를 들어 25중량% 이하 함유하는 구성으로 하는 것이 가능하고, 23중량% 이하이면 바람직하고, 20중량% 이하이면 보다 바람직하다. 한편, 얻어지는 수지의 색상 및 기계 강도를 고려하면, 비금속 티에탄 화합물의 사용량을, 예를 들어 2.5중량% 이상으로 한다.

또한, 본 발명에 있어서의 중합성 조성물은, 상기 일반식(100)으로 표시되는 금속 티에탄 화합물과, 다른 금속 티에탄 화합물을 포함해도 좋다. 다른 금속 티에탄 화합물의 구체예로서는,

메틸티오트리스(티에타닐티오)주석, 에틸티오트리스(티에타닐티오)주석, 프로필티오트리스(티에타닐티오)주석, 이소프로필티오트리스(티에타닐티오)주석 등의 알킬(티에타닐티오)주석;

비스(메틸티오)비스(티에타닐티오)주석, 비스(에틸티오)비스(티에타닐티오)주석, 비스(프로필티오)비스(티에타닐티오)주석, 비스(이소프로필티오)비스(티에타닐티오)주석 등의 비스(알킬티오)비스(티에타닐티오)주석;

에틸티오(메틸티오)비스(티에타닐티오)주석, 메틸티오(프로필티오)비스(티에타닐티오)주석, 이소프로필티오(메틸티오)비스(티에타닐티오)주석, 에틸티오(프로필티오)비스(티에타닐티오)주석, 에틸티오(이소프로필티오)비스(티에타닐티오)주석, 이소프로필티오(프로필티오)비스(티에타닐티오)주석 등의 알킬티오(알킬티오)비스(티에타닐티오)주석;

비스(티에타닐티오)디티아스탄네탄(dithiastannetane), 비스(티에타닐티오)디티아스탄노란, 비스(티에타닐티오)디티아스탄노난, 비스(티에타닐티오)트리티아스탄노칸 등의 비스(티에타닐티오) 환상 디티오주석 화합물:

메틸트리스(티에타닐티오)주석, 디메틸비스(티에타닐티오)주석, 부틸트리스(티에타닐티오)주석 등의 알킬 주석 화합물:

테트라키스(티에타닐티오)주석, 테트라키스(티에타닐티오)게르마늄, 트리스(티에타닐티오)비스무트 등의 금속 티에탄 화합물 등을 들 수 있다.

이들 예시 화합물 중, 비스티에타닐디설파이드, 비스티에타닐테트라설파이드, 비스(티에타닐티오)메탄, 3-(((티에타닐티오)메틸티오)메틸티오)티에탄, 테트라키스(티에타닐티오)주석, 트리스(티에타닐티오)비스무트, 비스(티에타닐티오)디티아스탄노란으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 선택하는 것이 바람직하다.

또한, 이들 예시 화합물 중 바람직한 화합물로서는, 비스티에타닐설파이드, 비스(티에타닐티오)메탄, 비스티에타닐디설파이드, 비스티에타닐테트라설파이드, 비스(티에타닐티오)디티아스탄노란 및 테트라키스(티에타닐티오)주석이며, 보다 바람직한 화합물로서는 비스티에타닐디설파이드, 비스(티에타닐티오)디티아스탄노란 및 테트라키스(티에타닐티오)주석이다.

또한, 중합성 조성물이 상기 일반식(110)으로 표시한 화합물을 포함할 때, 다른 중합성 화합물의 조합의 구체예로서, 티올 화합물이, 3-메르캅토티에탄, 1,2-에탄디티올, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸 및 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상이며, 에폭시 화합물이, 비스(2,3-에폭시프로필)디설파이드, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 이소시아눌산트리글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 1,4-시클로헥산디메탄올디글리시딜에테르, 트리메티롤프로판트리글리시딜에테르, 비스페놀 F디글리시딜에테르, 비스페놀 A디글리시딜에테르, 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3',4'-에폭시시클로헥산카르복실레이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상이며, 에피티오 화합물이, 비스(2,3-에피티오프로필)설파이드, 비스(2,3-에피티오프로필)디설파이드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상이며, 비금속 티에탄 화합물이, 비스티에타닐디설파이드, 비스티에타닐테트라설파이드, 비스(티에타닐티오)메탄, 3-(((티에타닐티오)메틸티오)메틸티오)티에탄으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 조합을 들 수 있다. 또한, 이 때, 중합성 조성물이, 테트라키스(티에타닐티오)주석, 트리스(티에타닐티오)비스무트, 비스(티에타닐티오)디티아스탄노란을 포함하고 있어도 좋다.

중합성 조성물에 있어서, 상기 일반식(110)으로 표시되는 화합물에 대한 티올 화합물, 에폭시 화합물, 에피티오 화합물 및 비금속 티에탄 화합물의 함유량은, 굴절률의 관점에서는, 에폭시화물의 함유량은 적고, 티올 화합물, 에피티오 화합물 및 티에탄 화합물의 함유량은 많은 것이 바람직한 경우가 있다. 또한 수지 색상의 관점에서는, 티올 화합물의 함유량이 많은 것이 바람직한 경우가 있다.

중합성 조성물에 있어서, 상기 일반식(110)으로 표시되는 화합물, 티올 화합물, 에폭시 화합물, 에피티오 화합물 및 비금속 티에탄 화합물의 합계 100중량부에 대한, 티올 화합물, 에폭시 화합물, 에피티오 화합물 및 비금속 티에탄 화합물의 합계는, 예를 들어 1중량부 이상 50중량부 이하이다.

또한, 본 발명에 있어서의 중합성 조성물에 포함되는 다른 중합성 화합물로서는, 공지의 각종 중합성 모노머 또는 중합성 올리고머를 들 수 있고, 예를 들어, (메타)아크릴산 에스테르 화합물, 비닐 화합물, 옥세탄 화합물 등을 들 수 있다.

또한, 본 발명의 중합성 조성물은, 필요에 따라, 중합 속도를 조정하기 위해 공지 공용의 중합 촉매를 더 포함하고 있어도 좋다.

또한, 본 발명의 중합성 조성물은, 필요에 따라, 블루잉제를 포함해도 좋다. 블루잉제는, 가시광선 영역 중 주황색으로부터 황색의 파장역에 흡수대를 가지고, 수지의 색상을 조정하는 기능을 가진다. 블루잉제는, 보다 구체적으로는, 청색으로부터 보라색을 나타내는 물질을 포함한다.

본 발명의 중합성 조성물에 사용되는 블루잉제는, 특별히 한정되는 것은 아니고, 구체적으로는, 염료, 형광증백제, 형광 안료, 무기 안료 등을 들 수 있지만, 블루잉제로서 사용할 수 있는 것 중으로부터 렌즈에 요구되는 물성이나 수지 색상 등에 맞추어 적당히 선택된다. 이들의 블루잉제는, 각각 단독으로 사용해도, 2종류 이상 조합하여 사용해도 좋다.

이들 블루잉제 중, 중합성 조성물에의 용해성의 관점 및 얻어지는 수지의 투명성의 관점에서는, 염료가 바람직하다. 염료 중에서도, 블루계 염료 및 바이올렛계의 염료로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 염료를 포함하는 염료인 것이 바람직하지만, 경우에 따라서는 다른 색 염료를 혼합하여 사용해도 좋다. 예를 들어, 블루계나 바이올렛계 외에, 그레이계나 브라운계나 레드계, 오렌지계의 염료도 사용할 수 있다. 이러한 블루잉제의 조합의 구체예로서, 블루계 염료와 레드계 염료와의 조합, 및 바이올렛계 염료와 레드계 염료의 조합 등을 들 수 있다.

흡수 파장의 관점에서는, 바람직하게는, 극대 흡수 파장이 520nm 이상 600nm 이하의 염료이며, 더욱 바람직하게는 극대 흡수 파장이 540nm 이상 580nm 이하의 염료를 들 수 있다.

또한, 화합물의 구조의 관점에서는, 안트라퀴논계 염료가 바람직하다.

염료로서, 구체적으로는, 「PS Blue RR」, 「PS Violet RC」, 「PET Blue 2000」, 「PS Brilliant Red HEY」, 「MLP RED V-1」(각각, 다이스타재팬사의 상품명) 등을 들 수 있다.

블루잉제의 사용량은, 모노머의 종류, 각종 첨가제의 사용의 유무, 사용하는 첨가제의 종류나 양, 중합 방법, 중합 조건에 따라 다르지만, 일반적으로는 모노머의 전체 사용량, 즉 중합 조성물 중에 포함되는 중합성 화합물의 총중량에 대하여 0.001ppm 이상 500ppm 이하의 비율로, 바람직하게는 0.005ppm 이상 100ppm 이하의 비율로, 더욱 바람직하게는 0.01ppm 이상 10ppm 이하의 비율로 사용된다. 블루잉제의 첨가량이 너무 많으면, 렌즈 전체가 너무 파래져서 바람직하지 않은 경우가 있고, 또한 너무 적으면, 색상 개선 효과가 충분히 발휘되지 않아 바람직하지 않은 경우가 있다.

블루잉제의 첨가 방법에 관해서는, 특별히 한정되는 것은 아니고, 미리 모노머계에 첨가하여 두는 것이 바람직하지만, 그 방법으로서, 모노머에 용해시켜 두는 방법, 혹은, 고농도의 블루잉제를 함유한 마스터 용액을 조제해 두고, 그 마스터 용액을 사용하는 모노머나 다른 첨가제로 희석하여 첨가하는 방법 등, 여러가지 방법을 채용할 수 있다.

또한, 중합성 조성물을 경화하여 이루어지는 수지의 굴절률, 아베수 등의 광학 물성의 새로운 조정이나, 색상, 내광성이나 내후성, 내열성, 내충격성, 경도, 비중, 선팽창 계수, 중합 수축율, 흡수성, 흡습성, 내약품성, 점탄성 등의 제물성을 조정, 투과율이나 투명성의 조정, 중합성 조성물의 점도, 그 외 보존이나 수송 방법의 취급성을 조정하기 위해서 등, 수지의 개량이나 취급성을 개량하는 목적으로, 본 발명의 중합성 조성물에 정제나 세정, 보온, 보냉, 여과, 감압 처리 등의 유기 화합물을 합성할 때에 일반적으로 이용되는 수법, 조작을 실시하거나, 또한, 공지의 화합물 등을 안정제나 수지 개질제로서 가하거나 하는 것은 양호한 수지를 얻는 목적으로 바람직한 경우가 있다. 장기의 보존 안정성이나, 중합 안정성, 열안정성 등의 안정성 향상을 위해서 가해지는 것으로서는, 중합 지연제나 중합 금지제, 탈산소제, 산화 방지제 등의 화합물을 들 수 있다.

중합성 조성물을 정제하는 것은, 경화하여 얻어지는 수지의 투명성을 개량하거나, 색상을 개량하기 위해서나 순도를 높이기 위해서 이용되는 수법이다. 본 발명의 중합성 조성물을 정제할 때에는, 공지의 방법, 예를 들어, 재결정, 컬럼크로마토법(실리카겔법이나 활성탄법, 이온교환 수지법 등), 추출 등의 어떠한 수법을 어떠한 타이밍에 실시해도 좋고, 일반적으로 정제하여 얻어지는 조성물을 경화시켜 얻어지는 수지의 투명성이나 색상이 개량되어 있으면 좋다.

중합성 조성물을 세정하는 방법은, 경화하여 얻어지는 수지의 투명성을 개량하거나, 색상을 개량하는데 이용되는 수법이지만, 중합성 조성물을 합성하여 꺼낼 때 또는 합성 후 꺼낸 후 등의 타이밍에 극성 및/또는 비극성 용매로 세정하고, 수지의 투명성을 저해하는 물질, 예를 들어, 중합성 조성물을 합성할 때에 사용되는 또는, 부생하는 무기염, 예를 들어, 암모늄염 등을 제거하는 또는 감량하는 방법을 들 수 있다. 사용하는 용매는, 세정되는 중합성 조성물 그 자체나 중합성 조성물을 함유하는 용액의 극성 등에 의해 일률적으로 한정은 할 수 없지만, 제거하고 싶은 성분을 용해할 수 있고, 또한, 세정되는 중합성 조성물 그 자체나 중합성 조성물을 함유하는 용액과 상용하기 어려운 것이 바람직하고, 1종류뿐만 아니라, 2종류 이상을 혼합하여 사용해도 좋다. 여기서 제거하는 성분은 목적이나 용도에 따라 다르지만, 가능한 한 적게 해두는 것이 바람직하고, 통상 5000ppm 이하, 보다 바람직하게는 1000ppm 이하로 하면 좋은 결과가 얻어지는 경우가 있다.

중합성 조성물을 보온·보냉·여과하는 방법은, 경화하여 얻어지는 수지의 투명성을 개량하거나 색상을 개량하는데 이용되는 수법이지만, 중합성 조성물을 합성하여 꺼낼 때 또는 합성 후의 꺼낸 후 등의 타이밍에서 실시하는 것이 일반적이다. 보온 방법으로서는, 예를 들어, 중합성 조성물이 보관중에 결정화하고, 핸들링이 악화되었을 경우에, 중합성 조성물 및 중합성 조성물을 경화시켜 이루어지는 수지의 성능이 저하하지 않는 범위에서 가열 용해하는 방법을 들 수 있다. 가열하는 온도 범위나 가열 용해하는 방법은, 취급되는 중합성 조성물을 구성하는 화합물의 구조에 의해 일률적으로 한정할 수 없지만, 통상, 응고점＋50℃ 이내의 온도로 실시되고, 바람직하게는 ＋20℃ 이내이며, 교반 가능한 장치로 기계적으로 교반하거나, 조성물에 불활성인 가스로 버블링하는 것으로 내액을 움직여 용해하는 방법 등을 들 수 있다. 보냉이란 중합성 조성물의 보존 안정성을 높이는 목적으로 통상 행해지지만, 예를 들어 중합성 조성물의 융점이 높은 경우에는, 결정화 후의 취급성을 향상시키기 위해, 보관 온도를 고려하면 좋다. 보냉 온도는 취급되는 중합성 조성물을 구성하는 화합물의 구조, 보존 안정성에 의해 일률적으로 한정할 수 없지만, 통상은, 본 발명의 중합성 조성물의 안정성을 유지할 수 있는 온도 이하에서 보존할 필요가 있다.

또한, 본 발명의 중합성 조성물이, 광학 용도로 사용하는 중합성 조성물의 경우, 그 매우 높은 투명성이 요구되기 때문에, 통상 중합성 조성물을 공경이 작은 필터로 여과하면 좋다. 여기서 사용하는 필터의 공경은 통상 0.05μm 이상 10μm 이하에서 실시되지만, 조작성이나 성능을 고려하면, 바람직하게는, 0.05μm 이상 5μm 이하이며, 보다 바람직하게는 0.1μm 이상 5μm 이하이다. 본 발명의 중합성 조성물도 예외없이 여과하면 좋은 결과가 얻어지는 경우가 많다. 여과하는 온도에 관해서는, 응고점 부근의 저온에서 실시하면 더욱 바람직한 결과가 얻어지는 경우가 있지만, 여과 중에 응고가 진행하는 경우는, 여과 작업에 지장을 초래하지 않는 온도로 실시하면 좋은 경우가 있다.

감압 처리는, 일반적으로 중합성 조성물을 경화시켜 이루어지는 수지의 성능을 저하시키는 용매나 용존가스, 취기(臭氣)를 없애는데 실시되는 수법이다. 용존용매는 일반적으로 얻어지는 수지의 굴절률 저하나 내열성 저하를 초래하는 일이 있기 때문에, 가능한 한 없애면 좋다. 용존용매의 허용치는, 취급되는 중합성 조성물을 구성하는 화합물의 구조, 용존하는 용매의 구조에 의해 일률적으로 한정할 수 없지만, 통상 1% 이하로 하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는, 5000ppm 이하이다. 용존가스는 중합의 저해를 억제하는 관점 및 얻어지는 수지에 기포가 혼입하는 것을 억제하는 관점에서, 제거하는 것이 바람직하다. 특히, 수증기 등의 수분을 의미하는 가스에 관해서는, 특히 건조 가스로 버블링하는 등 제거하는 편이 바람직하다. 용존량에 관해서는, 중합성 조성물을 구성하는 화합물의 구조, 용존하는 가스의 물성 및 구조, 종류에 따라 설정할 수 있다.

본 발명에 있어서의 중합성 조성물의 제조방법으로서, 대표적으로는, 상기 일반식(110)(예를 들어, 상기 일반식(100))으로 표시한 화합물과, 필요에 따라 상기 외의 다른 각종 중합성 화합물, 중합 촉매, 첨가제 등을 일괄로 넣은 혼합물을 가열 용해 조합(調合)하면 좋다. 다만 병용하는 중합성 화합물, 중합 촉매, 첨가제 등의 종류에 따라서는 일괄로 넣어 가열 용해시키는 과정에서 혼합물이 고점도하여, 계속되는 감압 여과, 탈기, 성형용 몰드에의 주형 조작이 불가능하게 되는 경우가 있다. 예를 들어, 중합성 화합물로서, 에폭시 화합물과 티올 화합물을 병용하는 경우 등은, 상술의 일괄 투입 가열 용해 조합 방법에서는, 가열 용해시에 고점도화하는 경우가 있다.

이러한 경우는, 예를 들어 하기 (ⅰ)(ⅱ)에 나타내는 단계적인 조합 방법에 의해 조제시의 고점도화를 회피하여 중합성 조성물의 조제가 가능하다.

(ⅰ) 에폭시 화합물과 티올 화합물을 최초로 넣어 혼합한다. 뒤이어, 상기 일반식(110)(예를 들어, 상기 일반식(100))으로 표시한 화합물을 첨가하여 가열 용해한다.

(ⅱ) 티올 화합물 및 상기 일반식(110)(예를 들어, 상기 일반식(100))으로 표시한 화합물을 최초로 넣어 가열 용해시킨 후, 모노머가 석출하지 않을 온도 부근까지 냉각 하여 에폭시 화합물을 첨가한다.

단계적인 조합 방법은, 이들로 한정되는 것은 아니지만, 상술(ⅰ)(ⅱ)의 조합 방법을 기본으로 하여 병용하는 중합성 화합물의 물성에 따라 모노머 투입비, 가열 용해 온도, 시간 조건 등을 최적화하는 것에 의해, 조합시의 고점도화를 회피하여 안정적으로 중합성 조성물의 조제가 가능하다.

또한, 상기 일반식(201)로 표시한 화합물을 포함하는 중합성 조성물의 제조방법으로서, 대표적으로는, 상기 일반식(201)로 표시한 화합물과, 필요에 따라 상기의 다른 각종 중합성 화합물을 병용하고, 더욱 필요에 따라 상기 중합 촉매를 첨가한 후, 혼합, 용해시키는 방법 등을 들 수 있다.

얻어진 중합성 조성물은, 예를 들어 매우 높은 굴절률을 가지는 투명 수지용의 원료 모노머 조성물로서 유용하다.

또한, 얻어진 중합성 조성물은, 통상, 공지의 티에탄기 함유 화합물을 중합 할 때의 방법에 준하여 중합하고, 경화시킬 수 있다.

경화 수지를 얻기 위한 중합 촉매 등의 종류나 양, 단량체의 종류나 비율은, 중합성 조성물을 구성하는 화합물의 구조에 따라 설정된다.

본 발명의 중합성 조성물을 경화하여 성형할 때에는, 목적에 따라, 공지의 성형법과 동일하게, 안정제, 수지 개질제, 쇄연장제, 가교제, 힌더드아민계 광안정제(HALS)계를 대표로 하는 광안정제, 벤조트리아졸계를 대표로 하는 자외선 흡수제, 힌더드페놀계를 대표로 하는 산화 방지제, 착색 방지제, 충전제, 실리콘계를 대표로 하는 외부 이형제 또는 산성 인산 에스테르, 4급 암모늄염 혹은 4급 포스포늄염 등의 계면활성제를 대표로 하는 내부 이형제, 밀착성 향상제 등의 여러 가지의 물질을 첨가해도 좋다. 여기서, 내부 이형제는, 전술한 각종 촉매 중 이형효과를 나타내는 것도 포함한다.

상기의 첨가 가능한 각종 첨가제의 첨가량은, 각각의 첨가제의 종류, 구조, 효과에 따라 달라 일률적으로 한정할 수 없지만, 통상, 중합성 조성물의 총중량에 대하여 0.001중량% 이상 10중량% 이하의 범위에서 사용되고, 바람직하게는 0.01중량% 이상 5중량% 이하의 범위에서 사용된다. 이들 범위내로 함으로써, 더욱 양호하게 경화한 수지의 제조가 가능하고, 얻어지는 수지의 투명성, 광학 물성이 더욱 양호한 것으로 되는 경우가 있다.

예를 들어, 힌더드아민계 광안정제(HALS)나 페놀계, 포스파이트계, 티오에테르계의 산화 방지제를 첨가하면 수지 색상이 개선되는 경우가 있다. 특히, 힌더드아민계 광안정제(HALS)를 첨가하면 수지 색상이 큰폭으로 개선되는 경우가 있다. 이러한 힌더드아민계 광안정제(HALS)로서는, 예를 들어, 주식회사 ADEKA사 제의 아데카스타브 LA-77, LA-57, LA-52, LA-67, LA-62, LA-68, LA-63P, LA-87, LA-82 등을 들 수 있지만 이들로 한정되는 것은 아니다.

상기 중합성 조성물을 중합하는 것에 의해, 수지가 얻어진다. 중합 방법으로서는, 플라스틱 렌즈를 제조할 때에 이용되는 공지의 각종 방법을 들 수 있지만, 대표적으로는, 주형 중합을 들 수 있다.

본 발명의 중합성 조성물을 주형 중합할 때에는, 필요에 따라, 중합성 조성물에 대해서 감압하에서의 탈법 처리나 필터 여과를 실시한 후, 성형용 몰드에 주입하고, 필요에 따라 가열하여 중합을 실시한다. 이 경우, 저온에서 고온으로 서서히 가열하여 중합하는 것이 바람직하다.

상술한 성형용 몰드는, 예를 들어, 폴리에틸렌, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 폴리염화비닐 등으로 이루어지는 개스킷을 개재한 경면 연마한 2매의 주형에 의해 구성된다. 주형은, 대표적으로는, 유리와 유리의 조합이며, 그 밖에 유리와 플라스틱판, 유리와 금속판 등의 조합의 주형을 들 수 있지만, 이들로 한정되는 것은 아니다. 또한, 성형용 몰드는 2매의 주형을 폴리에스테르 점착 테이프 등의 테이프 등으로 고정한 것이어도 좋다. 필요에 따라, 주형에 대해서 이형처리 등 공지의 처리 방법을 실시해도 좋다.

주형 중합을 실시하는 경우, 중합 온도는 중합 개시제의 종류 등 중합 조건에 따라 영향을 받으므로, 한정되는 것은 아니지만, 통상, -50℃ 이상 200℃ 이하이며, 바람직하게는, -20℃ 이상 170℃ 이하이며, 보다 바람직하게는, 0℃ 이상 150℃ 이하이다.

중합 시간은, 중합 온도에 의해 영향을 받지만, 통상, 0.01시간 이상 200시간 이하이며, 바람직하게는, 0.05시간 이상 100시간 이하이다. 또한 필요에 따라, 정온(定溫)이나 승온, 강온 등을 실시하여 몇개의 온도를 조합하여 중합을 실시하는 것도 가능하다.

또한, 본 발명의 중합성 조성물은, 전자선, 자외선이나 가시광선 등의 활성 에너지선을 조사하는 것에 의해서도 중합을 실시할 수 있다. 이 때에는, 필요에 따라, 활성 에너지선에 의해서 중합 개시하는 래디칼 중합 촉매나 양이온 중합 촉매가 이용된다.

얻어진 수지는, 경화 후, 필요에 따라, 어닐처리를 실시해도 좋다. 또한 필요에 따라, 반사 방지, 고경도 부여, 내마모성 향상, 방담성 부여 혹은 패션성 부여의 목적으로, 표면 연마, 대전 방지 처리, 하드 코트 처리, 무반사 코트 처리, 염색 처리, 조광처리(예를 들어, 포토크로믹 렌즈화 처리 등) 등 공지의 각종 물리적 또는 화학적 처리가 실시되도 좋다.

본 발명의 중합성 조성물을 중합함으로써 얻어지는 수지는, 높은 투명성, 양호한 내열성과 기계적 강도를 가지며, 또한, 예를 들어 고굴절률을 가지고 있고, 예를 들어, 플라스틱 렌즈 등의 광학 부품에 사용되는 수지로서 유용하다.

광학 부품으로서는, 예를 들어, 시력 교정용 안경 렌즈, 촬상 기기용 렌즈, 액정 프로젝터용 프레넬 렌즈, 렌티큐라 렌즈, 콘택트 렌즈 등의 각종 플라스틱 렌즈;

발광 다이오드(LED)용 봉지재;

광도파로;

광학 렌즈나 광도파로의 접합에 사용하는 광학용 접착제;

광학 렌즈 등에 사용하는 반사 방지막;

기판, 도광판, 필름, 시트 등의 액정표시장치 부재에 사용하는 투명성 코팅 또는 투명성 기판 등을 들 수 있다.

이하, 제조예 및 실시예에 의해 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 예로 한정되는 것은 아니다.

(참고 제조예 1)

특허 문헌 2(일본 특허공개공보 제2003-327583호)에 기재된 방법에 따라, 3-티에탄올을 합성했다. 또한 얻어진 3-티에탄올을 사용하여, 3-메르캅토티에탄을 합성했다.

즉, 교반 장치와 온도계를 갖춘 반응기 중에, 티오 요소 190g(2.50몰), 35중량% 염산수 253g 및 물 250g을 장입하고 교반하여 반응액으로 했다. 반응액을 교반하면서, 반응액에 3-티에탄올 156g(1.73몰)을 1시간에 걸쳐 적하했다. 적하 종료후, 30℃에서 24시간, 교반하여 반응을 실시한 후, 24중량% 암모니아수 177g을 1시간에 걸쳐 적하했다. 30℃에서 15시간 반응을 더 실시한 후, 정치하여 유기층(하층)을 꺼내고, 조생성물 134g을 얻었다. 얻어진 조생성물을 감압하에 증류하여, 비점 40℃／106Pa의 유분을 모아, 무색 투명 액체의 목적물인 3-메르캅토티에탄을 얻었다.

(참고 제조예 2)

본 제조예에서는, 디클로로(에틸렌디아민) 아연(하기 식(21)로 표시하는 화합물)을 합성했다.

[화학식 43]

염화 아연 6.8g(0.05몰)을 메탄올 200g에 용해하고, 교반하면서 에틸렌디아민 3.0g(0.05몰)을 에탄올 27.0g에 용해한 용액을 30분간에 걸쳐 적하장입했다. 10℃에서 하룻밤 정치하여 정석(晶析)하고, 석출한 결정을 여과하고 취하여 메탄올로 세정하고, 감압 건조하여, 상기 식(21)로 표시하는 화합물 8.5g(수율 87%)을 얻었다.

이하에, 얻어진 화합물의 동정 데이타를 나타낸다.

(참고 제조예 3)

본 제조예에서는, 3-메르캅토티에탄나트륨염(하기 식(22)로 표시하는 화합물)을 합성했다.

[화학식 44]

3-메르캅토티에탄 10.8g(0.10몰)을 물 10.3g과 혼합하고, 교반하면서 10℃까지 냉각했다. 뒤이어 30중량% 수산화나트륨 수용액 13.3g(0.10몰)을 30분에 걸쳐 적하장입했다. 아세톤 350g에 배출하고, 교반, 정석을 행했다. 결정을 여과하여 취하고 100g의 아세톤으로 세정하고, 중량 감소가 없어질 때까지 감압 건조하여 목적의 상기 식(22)로 표시하는 화합물 10.3g(수율 81%)을 얻었다.

이하에, 얻어진 화합물의 동정 데이타를 나타낸다.

(참고 제조예 4)

본 제조예에서는, 1,3-비스(3-티에타닐티오)-2-프로판올(하기 식(130)으로 표시하는 화합물)을 합성했다.

[화학식 45]

참고 제조예 1에서 제조한 3-메르캅토티에탄 50g(0.47몰)을 물 64g과 혼합하고, 31중량% 수산화나트륨 수용액 26g(0.20몰)을 적하장입했다. 35℃까지 승온하고, 이 온도를 유지하면서 에피클로로히드린 19g(0.21몰)을 2시간에 걸쳐 적하하고, 1시간 교반하면서 숙성했다. 톨루엔 100g을 가하여 추출한 후, 유기층을 물 50g으로 2회 세정했다. 황산마그네슘을 가하여 건조하고, 여과하여 염을 제거한 후에 감압농축하여 톨루엔을 증류제거했다. 잔류액을 여과하여 고형물을 제거하고, 목적의 상기 식으로 표시한 화합물 25g을 얻었다.

이하에, 얻어진 화합물의 동정 데이타를 나타낸다.

(예 A1)

본 예에서는, 트리스(티에타닐티오)안티몬(트리스(3-티에타닐티오)안티몬, 하기 식(4)로 표시하는 화합물)을 합성했다.

참고 제조예 1에서 제조한 3-메르캅토티에탄 71.3g(0.66몰)을 순수 106.9g 중에 장입하고, 15℃까지 냉각했다. 뒤이어, 30중량% 수산화나트륨 수용액 87.7g(0.66몰)을 1시간에 걸쳐 적하장입했다. 뒤이어, 20중량% 3염화 안티몬의 에탄올 용액 250.0g(3염화 안티몬 0.22몰에 상당)을 같은 온도에서 2시간에 걸쳐 적하장입했다. 적하 종료후, 같은 온도에서 2시간 더 교반했다.

이 반응 혼합물을 여과하여 고형물을 여과하여 취하고, 200g의 물로 세정을 반복하여 부생한 염을 제거했다. 4회 세정을 반복한 후, 고형물을 메탄올 200g으로 더 세정하여 고형물을 여과하여 취했다. 여과하여 취한 고형물을 감압 건조했다.

건조 후의 반응 혼합물을 클로로포름 500g에 용해하고, 불용물을 여과하여 제거했다. 여과 후의 유기층을 농축하여 헥산을 장입하고, 석출물을 여과하여 취한 후에 감압 건조하여 하기 식(4)로 표시하는 화합물 87.6g(수율 91%)을 얻었다.

[화학식 46]

이하에, 얻어진 화합물의 동정 데이타를 나타낸다.

(예 A2)

본 예에서는, 트리스(티에타닐티오)안티몬(상기 식(4)로 표시되는 화합물)을 합성했다.

참고 제조예 1에서 제조한 3-메르캅토티에탄 71.3g(0.66몰)을 순수 106.9g 중에 장입하고, 15℃까지 냉각했다. 뒤이어, 30중량% 수산화나트륨 수용액 109.5g(0.82몰)을 1시간에 걸쳐 적하장입했다. 뒤이어, 60.2중량% 3염화 안티몬의 수용액 83.0g(3염화 안티몬 0.22몰에 상당)을 같은 온도에서 2시간에 걸쳐 적하장입했다. 적하 종료후, 같은 온도에서 2시간 더 교반했다.

건조 후의 반응 혼합물을 디클로로메탄 700g에 용해하고, 불용물을 여과하여 제거했다. 여과 후의 유기층을 농축하여 헥산을 장입하고, 석출물을 여과하여 취한 후에 감압 건조하여 상기 식(4)로 표시하는 화합물 60.7g(수율 63%)을 얻었다. 얻어진 화합물의 분석치는 예 A1에서 얻어진 화합물의 분석치와 같았다.

(예 A3)

삼산화 안티몬 10g(0.03몰), 참고 제조예 1에서 제조한 3-메르캅토티에탄 24g(0.22몰), 아세트산 1g(0.02몰)의 혼합물을 40℃에서 3시간, 50℃에서 5시간 더 교반했다. 또한, 참고 제조예 1에서 제조한 3-메르캅토티에탄을 5g 추가하여, 50℃에서 5시간 교반했다.

반응 혼합물을 클로로포름 200ml 중에 가하여 희석한 후, 수세(水洗)했다. 유기층 중의 불용물을 여과로 제거 후 여액을 감압 농축했다. 농축물에 클로로포름 10ml와 헥산 100ml를 장입하여 정석하고, 석출물을 여과하여 취하여, 상기 식(4)로 표시한 화합물 29.3g(수율 97%)을 얻었다.

이하에, 얻어진 화합물의 동정 데이타를 나타낸다.

(예 A4)

본 예에서는, 펜타키스(티에타닐티오)안티몬(하기 식(5)로 표시하는 화합물)을 합성했다.

[화학식 47]

참고 제조예 1에서 제조한 3-메르캅토티에탄 27.2g(0.25몰)을 순수 40.8g 중에 장입하고, 15℃까지 냉각했다. 뒤이어, 30중량% 수산화나트륨 수용액 33.3g(0.25몰)을 1시간에 걸쳐 적하장입했다. 그 후, 13.0중량% 5염화 안티몬의 에탄올 용액 115.0g(5염화 안티몬 0.05몰에 상당)을 같은 온도에서 1.5시간에 걸쳐 적하장입했다. 적하 종료후, 같은 온도에서 2시간 더 교반했다.

이 반응 혼합물을 여과하여 고형물을 여과하여 취하고, 100g의 물로 세정을 반복하여 부생한 염을 제거했다. 4회 세정을 반복한 후, 고형물을 메탄올 100g으로 더 세정하여 고형물을 여과하여 취했다. 여과하여 취한 고형물은 감압 건조했다.

건조 후의 반응 혼합물을 클로로포름 270g에 용해하고, 불용물을 여과하여 제거했다. 여과 후의 유기층을 농축하여 헥산을 장입하고, 석출물을 여과하여 취한 후에 감압 건조하여 상기 식(5)로 표시한 화합물 26.3g(수율 81%)을 얻었다.

이하에, 얻어진 화합물의 동정 데이타를 나타낸다.

(예 A5)

본 예에서는, 비스(티에타닐티오)(에틸렌디아민) 아연(하기 식(23)으로 표시되는 화합물)을 합성했다.

[화학식 48]

참고 제조예 1에서 제조한 3-메르캅토티에탄 8.7g(0.08몰)을 순수 13.0g 중에 장입하고, 15℃까지 냉각했다. 뒤이어, 30중량% 수산화나트륨 수용액 10.7g(0.08몰)을 1시간에 걸쳐 적하장입했다. 뒤이어, 참고 제조예 2에서 제조한 디클로로(에틸렌디아민) 아연 7.9g(0.04몰)을 4회로 나누어 분할장입했다. 5시간의 교반 후에, 이 반응 혼합물을 여과하여 고형물을 여과하여 취하고, 50g의 물로 세정을 반복하여 부생한 염을 제거했다. 4회 세정을 반복한 후, 고형물을 메탄올 50g으로 더 세정하여 고형물을 여과하여 취했다. 여과하여 취한 고형물을 감압 건조하고, 목적의 비스티에타닐티오(에틸렌디아민) 아연 10.6g(수율 79%)을 얻었다.

이하에, 얻어진 화합물의 동정 데이타를 나타낸다.

(예 A6)

본 예에서는, 트리스(티에타닐티오)비스무트(하기 식(24)로 표시하는 화합물)를 합성했다.

[화학식 49]

3-메르캅토티에탄 8.0g(0.075몰)을 순수 12.0g 중에 장입하고, 뒤이어, 30중량% 수산화나트륨 수용액 9.8g(0.075몰)을 실온 하, 45분에 걸쳐 적하장입했다. 뒤이어, 13.6중량% 3염화 비스무트의 에탄올 용액 57.9g(3염화 비스무트 0.025몰에 상당)을 같은 온도에서 1.5시간에 걸쳐 적하장입했다. 적하 종료후, 같은 온도에서 2시간 더 교반했다.

이 반응 혼합물을 여과하여 고형물을 취하여 디클로로메탄 500g에 용해하고, 불용물을 여과하여 제거했다. 여과 후의 유기층을 100g의 순수로 2회 세정한 후, 테프론(등록상표) 제 필터로 여과를 하여 불용물을 제거했다. 이렇게 하여 얻어진 추출물로부터 용매를 증류제거하여 헥산을 장입하고, 상기 식(24)로 표시하는 화합물 10.6g(수율 81%)을 얻었다.

이하에, 얻어진 화합물의 동정 데이타를 나타낸다.

(예 A7)

본 예에서는, 2-(3-티에타닐티오-1,3-디티아스티보란(하기 식(25)로 표시되는 화합물)을 합성했다.

[화학식 50]

트리스(메르캅토티에타닐)안티몬 2.2g(0.005몰)과 1,2-에탄디티올 0.5g(0.005몰)을 혼합하고, 실온에서 교반했다. 클로로포름 20g을 장입한 후에 생성한 불용물을 여과하여 제거하고, 여액(瀘液)을 농축한 후에 메탄올로 세정을 반복하여 부생한 3-메르캅토티에탄을 제거했다. 미반응의 트리스(메르캅토티에타닐)안티몬과의 혼합물로서 목적의 2-티에타닐티오-1,3-디티아스티보란을 포함하는 무색 오일을 3.0g 얻었다.

이하에, 얻어진 화합물의 동정 데이타를 나타낸다.

(예 A8)

본 예에서는, 2,2,2-트리스(티에타닐티오)-1,3-디티아스티보란(하기 식(26)으로 표시되는 화합물)을 합성했다.

펜타(메르캅토티에타닐)안티몬 6.5g(0.01몰)과 1,2-에탄디티올 0.9g(0.01몰)을 혼합하고, 실온에서 교반했다. 뒤이어 메탄올로 세정을 반복하여 부생한 3-메르캅토티에탄을 제거했다. 남은 황색 오일을 감압 건조하여 목적의 2,2,2-트리스(티에타닐티오)-1,3-디티아스티보란을 4.5g 얻었다.

[화학식 51]

이하에, 얻어진 화합물의 동정 데이타를 나타낸다.

(예 A9)

본 예에서는, 테트라키스(티에타닐티오)지르코늄(하기 식(27)로 표시하는 화합물)을 합성했다.

테트라키스디메틸아미드지르코늄 2.7g(0.01몰)을 탈수 테트라히드로푸란 50g에 용해하고, 질소하에서 교반하면서 10℃까지 냉각했다. 3-메르캅토티에탄 6.0g(0.06몰)을 30분에 걸쳐 적하장입하고, 실온으로 되돌려 5시간 교반을 계속했다. 석출한 불용물을 여과하여 제거하고, 용매를 증류제거하여, 3-메르캅토티에탄과의 혼합물로서 목적의 테트라키스(티에타닐티오)지르코늄을 포함하는 황색 오일을 8.3g 얻었다.

[화학식 52]

이하에, 얻어진 화합물의 동정 데이타를 나타낸다.

(예 A10)

본 예에서는, 테트라키스(티에타닐옥시)티탄(하기 식(28)로 표시하는 화합물)을 합성했다.

참고 제조예 1에서 제조한 3-티에탄올 4.05g(0.045몰)을 테트라히드로푸란 5ml에 용해 후, 테트라키스(디메틸아미노)티탄 2.00g(0.009몰)의 테트라히드로푸란 용액(10ml)을 적하하고, 실온에서 12시간 반응했다. 반응 혼합물을 헥산에 장입하여 석출한 고체를 여과하여 모아, 건조하여 하기 식(28)로 표시하는 화합물 2.3g(수율 64%)을 얻었다.

[화학식 53]

이하에, 얻어진 화합물의 동정 데이타를 나타낸다.

(예 A11)

본 예에서는, 테트라키스(티에타닐옥시)지르코늄(하기 식(29)로 표시되는 화합물)을 합성했다.

테트라키스디메틸아미드지르코늄 2.7g(0.01몰)을 탈수 테트라히드로푸란 25g에 용해하고, 질소하에서 교반하면서 10℃까지 냉각했다. 3-히드록시티에탄 5.6g(0.08몰)을 30분에 걸쳐 적하장입하고, 실온으로 되돌려 3시간 교반을 계속했다. 석출한 불용물을 여과하여 제거하고, 용매를 증류제거하여, 3-히드록시티에탄과의 혼합물로서 목적의 테트라키스(티에타닐옥시)지르코늄을 포함하는 연한 황색 오일을 6.7g 얻었다.

[화학식 54]

이하에, 얻어진 화합물의 동정 데이타를 나타낸다.

(예 A12)

본 예에서는, 펜타키스(티에타닐티오)탄탈(하기 식(32)로 표시하는 화합물)을 합성했다.

3-메르캅토티에탄 2.4g(0.02몰)과 참고 제조예 3에서 작성한 3-메르캅토티에탄나트륨염 6.4g(0.05몰)을 탈수 테트라히드로푸란 50g 중에서 혼합하고, 질소하에서 교반하면서 10℃까지 냉각했다. 염화 탄탈 3.6g(0.01몰)을 탈수 테트라히드로푸란 50g에 용해한 용액을 30분간에 걸쳐 적하장입하고, 실온으로 되돌려 5시간 교반을 계속했다. 석출한 불용물을 여과하여 제거하고, 용매를 증류제거하여, 3-메르캅토티에탄과의 혼합물로서 목적의 펜타키스(티에타닐티오)탄탈을 포함하는 무색 오일을 5.1g 얻었다.

[화학식 55]

이하에, 얻어진 화합물의 동정 데이타를 나타낸다.

(예 A13)

본 예에서는 테트라키스(3-티에타닐티오)주석(하기 식(12)로 표시하는 화합물)을 합성했다.

참고 제조예 1에서 제조한 3-메르캅토티에탄 11.2g(0.11몰)을 순수 50g 중에 장입하고, 뒤이어, 10% 수산화나트륨 수용액 41.2g(0.10몰)을 실온 하, 40분에 걸쳐 적하장입했다. 뒤이어, 반응액을 30℃까지 승온하고, 10% 4염화 주석의 수용액 65.2g(4염화 주석 0.025몰에 상당)을 같은 온도에서 4시간에 걸쳐 적하장입했다. 적하 종료후, 같은 온도에서 2시간 더 교반했다. 이 반응 혼합물에 클로로포름 100ml를 가하여, 유기층과 수층으로 분액했다. 유기층을 100ml의 순수로 2회 세정한 후, 무수 황산나트륨을 사용하여 건조했다. 이 추출물로부터 용매를 증류제거하여, 하기 식(12)로 표시되는 화합물 13.4g(수율 99%)을 얻었다.

[화학식 56]

(예 A14)

본 예에서는, 하기 (A14-1)~(A14-4)의 순서로 (3-티에타닐티오)비스[2-(3-티에타닐티오)에틸티오]안티몬(III)(하기 식(33)으로 표시하는 화합물)을 합성했다.

[화학식 57]

(A14-1)　2-(3-티에타닐티오)에탄올의 합성

[화학식 58]

3-메르캅토티에탄(84.7g)의 메탄올(400ml) 용액에, 냉각 하(5℃) 28% 나트륨메톡사이드메탄올 용액(152g)을 장입했다. 다음에 2-브로모에탄올(98.6g)을 적하장입하고, 5시간 더 반응했다. 반응 혼합물을 감압 농축하여 용매(메탄올)를 제거한 후, 아세트산에틸과 물로 분배했다. 유기층을 수세 후에 황산마그네슘을 가하여 건조했다. 여과 후 감압 농축하여, 유상의 목적물(100g)을 얻었다.

이하에, 얻어진 화합물의 동정 데이타를 나타낸다.

(A14-2) 티오 아세트산 2-(3-티에타닐티오)에틸에스테르의 합성

[화학식 59]

2-(3-티에타닐티오)에탄올(21g)의 디클로로메탄(130ml) 용액에 트리에틸아민(Et₃N)(18g)을 가했다. 이것을 냉각 하(-15℃), 메탄설포닐클로라이드(MsCl)(18g)의 디클로로메탄(30ml) 용액을 적하장입하고, 0℃에서 1시간 반응했다. 반응 혼합물에 냉수를 장입하여 분배 후, 유기층(디클로로메탄 용액)을 티오아세트산칼륨(AcSK)(21g)의 메탄올(200ml) 용액에 냉각 하(5℃) 적하장입하고, 10시간 반응을 실시했다. 반응 혼합물에 아세트산에틸 및 물을 장입하고 추출을 실시하여, 유기층을 수세, 황산마그네슘으로 건조했다. 여과 후 감압 농축하고, 유상의 목적물(27g)을 얻었다.

이하에, 얻어진 화합물의 동정 데이타를 나타낸다.

(A14-3)　2-(3-티에타닐티오)에탄티올의 합성

[화학식 60]

수산화나트륨(1.6g)을 메탄올(35ml)에 용해하고, 5℃까지 냉각했다. 이것에 티오아세트산 2-(3-티에타닐티오)에틸에스테르(7g)의 테트라히드로푸란(10ml) 용액을 적하장입하고, 또한 1시간 반응을 실시했다. 반응 혼합물을 일단 감압 농축 후에, 디클로로메탄과 물을 가하고, 1규정 염산을 더 가하여 중화를 실시했다. 분배 후에 유기층을 수세, 황산마그네슘으로 건조했다. 여과 후 감압 농축하여, 유상의 목적물(5.6g)을 얻었다.

이하에, 얻어진 화합물의 동정 데이타를 나타낸다.

(A14-4)　(3-티에타닐티오)비스[2-(3-티에타닐티오)에틸티오]안티몬(Ⅲ)의 합성

[화학식 61]

2-(3-티에타닐티오)에탄티올(2g)의 디클로로메탄(10ml) 용액에, 빙냉 하 트리스(3-티에타닐티오)안티몬(Ⅲ)(예 A1과 같은 방법으로 제조한 화합물; 2g)을 첨가하여 1시간 반응을 실시했다. 얻어진 용액을 일단 감압 농축하여 디클로로메탄을 증류제거한 후, 헥산(10ml)을 가하여 교반, 디캔트(decant) 분리 조작을 4회 반복하여 실시하고, 또한 감압 건조하여 용매를 증류제거하여, 황색 유상의 목적물(2.7g)을 얻었다.

이하에, 얻어진 화합물의 동정 데이타를 나타낸다.

(예 A15)

본 예에서는, 트리스[2-(3-티에타닐티오)에틸티오]안티몬(Ⅲ)(하기 식(34)로 표시하는 화합물)을 합성했다.

[화학식 62]

[화학식 63]

티오 아세트산 2-(3-티에타닐티오)에틸에스테르(26.6g; 예 A14와 동일한 방법으로 제조)를 테트라히드로푸란(140ml) 및 메탄올(70ml)에 용해했다. 빙냉 하 28% 나트륨메톡사이드(NaOMe) 메탄올(MeOH) 용액(24.6g)을 적하장입하고, 12시간 반응을 실시했다. 감압 하 농축에 의해 일단 용매(테트라히드로푸란 및 메탄올)를 증류제거한 후, 물(190g)을 가했다. 이에 빙냉 하 염화 안티몬(SbCl₃; 9.9g)의 에탄올(30g) 용액을 적하장입하고, 또한 4시간 반응을 실시했다. 디캔트로 상청(배수)을 제거한 후, 클로로포름(500ml)에 용해하고, 또한 수세를 실시했다. 클로로포름 추출액을 여과하여 불용물을 제거한 후, 감압 농축을 실시하여 황색 유상의 목적물(20.3g)을 얻었다.

이하에, 얻어진 화합물의 동정 데이타를 나타낸다.

(예 A16)

본 예에서는, 2-(3-티에타닐티오)-1,3-디티아스티보란(하기 식(25)로 표시되는 화합물)을 합성했다.

[화학식 64]

[화학식 65]

트리스(3-티에타닐티오)안티몬(Ⅲ)(30g; 예 A1과 같은 방법으로 제조)의 클로로포름(420g) 용액에, 빙냉 하 1,2-에탄디티올(6.5g)를 적하장입하고, 또한 1시간 반응을 실시했다. 감압 하 농축에 의해 용매(클로로포름)를 증류제거한 후, 메탄올(200ml)을 가하여 교반, 디캔트했다. 다시 메탄올(100ml)을 가하고 빙냉 하 교반을 실시하고, 석출한 고체를 여과하여 취하고, 감압 건조하여 목적물(22g)을 얻었다.

이하에, 얻어진 화합물의 동정 데이타를 나타낸다.

(예 A17)

본 예에서는, 트리스(3-티에타닐옥시)안티몬(Ⅲ)(하기 식(35)로 표시하는 화합물)을 합성했다.

[화학식 66]

3염화 안티몬 11.6g(0.05몰)을 테트라히드로푸란 50g에 용해한 용액에 트리에틸아민 15.4g(0.15몰)을 가하여 교반, 분산시켰다. 이 용액에 3-티에탄올 16.8g(0.17몰)을 1시간에 걸쳐 적하장입한 후에 교반하면서 3시간 숙성을 행했다. 석출한 트리에틸아민 염산염을 여과로 제거하고, 용매의 테트라히드로푸란을 감압증류제거하여 목적의 상기 식(35)로 표시하는 화합물 64중량%와 3-티에탄올 36중량%의 혼합물인 오일을 21.8g 얻었다.

이하에, 얻어진 화합물의 동정 데이타를 나타낸다.

(중합성 조성물의 조제와 그 중합에 의한 수지 경화물의 제조)

이하의 예에서는, 이상의 예에서 제조한 티에탄 화합물을 사용하여 중합성 조성물을 조제하고, 이것을 중합하는 것에 의해 경화시켜서 수지를 얻었다.

얻어진 수지 또는 광학 부품(렌즈)의 물성 평가를 하기의 방법에 따라 실시했다.

외관: 육안으로 투명성을 확인했다.

굴절률: 풀프리히 굴절계를 이용하여 20℃에서 측정했다.

또한, 후술하는 예 B1~예 B29에 있어서 제조한 수지의 광학 물성(굴절률, 아베수), 내열성, 색상, 기계 물성은 이하의 시험 방법에 의해 평가했다.

굴절률(ne), 아베수(νe):풀프리히 굴절계를 이용하여 20℃에서 측정했다.

내열성: TMA 페네트레이션법(50g 하중, 핀끝 0.5mmφ, 승온속도 10℃／min)으로 측정한 측정 차트의 변곡점의 변형 개시 온도를 「낙입 개시 온도」로 하고, 변형 전후의 접선의 교점을 Tg(℃)로 했다.

색상: 미놀타사 제의 색채 색차계(CR-200)를 이용하여 수지의 황색도(YI)를 측정했다. YI값은, 두께 5mm의 평판을 작성하여 측정했다.

3점 굽힘시험: SHIMADZU사 제 오토 그래프 AGS-J에 의해 측정했다. 두께 3mm, 폭 25mm, 길이 약 70mm의 수지 평판을 지점간 거리 34mm의 지지대 상에 설치하여 상부로부터 1.2mm/min의 속도로 하중을 걸고, 수지가 파단했을 때의 응력 및 변위를 최대점 응력 및 최대점 변위로 하여 시험치로 했다.

정압 하중 시험: SHIMADZU사 제 오토 그래프 AGS-J에 의해 측정했다. 중심 두께 1.0mm, 직경 약 80mm의 렌즈 형상의 수지에, 100N까지는 100mm/min의 속도로 하중을 걸고, 100N 이후는 2.0mm/min의 속도로 하중을 걸었다. 수지가 파단했을 때의 하중(N)을 시험치로 했다.

(예 B1)

실온(25℃) 하, 유리 비이커에 예 A5에서 제조한 화합물 0.20g을 칭취(秤取)하고, 뒤이어 3-메르캅토티에탄 0.52g, 예 A13에서 제조한 화합물 1.25g을 칭취했 다. 중합 촉매를 가하지 않고 60℃로 가열하여 용해시키고, 중합성 조성물을 얻었다. 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에 그 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣고 70℃에서 2시간, 80℃에서 20시간, 90℃에서 2시간, 100℃에서 4일간 중합을 실시했다.

투명한 수지 성형편이 얻어지고, 굴절률을 측정한 바, 굴절률 ne=1.767이었다.

(예 B2)

실온(25℃) 하, 유리 비이커에 예 A1에서 제조한 화합물 5g을 칭취하고, 이것을 중합 촉매를 가하지 않고 75℃로 가열하여 용해시켰다. 그리고 3.9kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기하여 중합성 조성물을 얻었다.

뒤이어, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에 얻어진 중합성 화합물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣고 100℃에서 60시간 중합을 실시했다.

얻어진 수지의 성형편은 투명성이 양호하고, 일그러짐이 없는 외관이 양호한 것이었다.

또한, 얻어진 수지의 굴절률을 측정한 바, 굴절률 ne=1.853이었다.

(예 B3)

실온(25℃) 하, 유리 비이커에 예 A1에서 제조한 화합물 7.2g을 칭취하고, 뒤이어 티올 화합물로서 참고 제조예 1에서 제조한 3-메르캅토티에탄 0.8g을 칭취하여 가했다. 이것을 중합 촉매를 가하지 않고 70℃로 가열하여 용해시켰다. 그리고 3.9kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기한 후, 테프 론(등록상표) 제 필터로 여과하여, 중합성 조성물을 얻었다.

뒤이어, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에 얻어진 중합성 화합물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣고 100℃에서 23시간 중합을 실시했다.

또한, 얻어진 수지의 굴절률을 측정한 바, 굴절률 ne=1.834였다.

(예 B4)

실온(25℃) 하, 유리 비이커에 예 A1에서 제조한 화합물 6.90g을 칭취하고, 뒤이어 티올 화합물로서 1,2-에탄디티올 0.77g을 칭취하여 가했다. 이것을, 중합 촉매를 가하지 않고 70℃로 가열하여 용해시켰다. 이것을 테프론(등록상표) 제 필터로 여과한 후, 3.9kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기하여, 중합성 조성물을 얻었다.

뒤이어, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에 얻어진 중합성 화합물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣고 24시간 중합을 실시했다. 중합 중, 오븐안을 90℃에서 120℃까지 다단계로 승온했다.

또한, 얻어진 수지의 굴절률을 측정한 바, 굴절률 ne=1.838이었다.

(예 B5)

예 A6에서 제조한 트리스(티에타닐티오)비스무트 75중량부, 티올 화합물로서 3-메르캅토티에탄 25중량부를, 85℃에서 가열 혼합 용해시킨 후, 3.9kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기했다. 뒤이어, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에, 탈기 후의 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣고 70℃에서 46시간 중합을 실시했다.

또한, 얻어진 수지의 굴절률을 측정한 바, 굴절률 ne=1.855였다.

(예 B6)

예 A7에서 제조한 2-티에타닐티오-1,3-디티아스티보란 37중량부, 트리스(3-티에타닐티오)안티몬 60중량부, 3-메르캅토티에탄 3중량부의 혼합물을 60℃에서 가열 혼합 용해시킨 후, 3.9kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기했다. 뒤이어, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에, 탈기 후의 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣고 100℃에서 48시간 중합을 실시했다.

또한, 얻어진 수지의 굴절률을 측정한 바, 굴절률 ne=1.870이었다.

(예 B7)

예 A8에서 제조한 상기 식(26)으로 표시되는 화합물을 75℃에서 가열 혼합 용해시킨 후, 3.9kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기했 다. 뒤이어, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에, 탈기 후의 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣고 100℃에서 48시간 중합을 실시했다.

또한, 얻어진 수지의 굴절률을 측정한 바, 굴절률 ne=1.865였다.

(예 B8)

실온(25℃) 하, 유리 비이커에 예 A10에서 제조한 화합물 0.33g을 칭취하고, 뒤이어 3-메르캅토티에탄 0.52g, 예 A13에서 제조한 화합물 1.25g을 칭취했다. 중합 촉매를 가하지 않고 60℃로 가열하여 용해시키고, 중합성 조성물을 얻었다. 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에 그 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣고 70℃에서 6시간, 80℃에서 8시간, 100℃에서 5시간, 110℃에서 5시간 중합을 실시했다.

투명한 수지 성형편이 얻어지고, 굴절률을 측정한 바, 굴절률 ne=1.758이었다.

(예 B9)

예 A11에서 제조한 테트라키스(티에타닐옥시)지르코늄 31중량부, 3-티에탄올 69중량부의 혼합물을 60℃에서 가열 용해시킨 후, 3.9kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기했다. 뒤이어, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에, 탈기 후의 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣고 130℃에서 48시간 중합을 실시했다.

또한, 얻어진 수지의 굴절률을 측정한 바, 굴절률 ne=1.658이었다.

(예 B10)

실온(25℃) 하, 유리 비이커에 예 A4에서 제조한 화합물 1.2g을 칭취하고, 뒤이어 티올 화합물로서 참고 제조예 1에서 제조한 3-메르캅토티에탄 0.8g을 칭취하여 가했다. 이것을, 중합 촉매를 가하지 않고 70℃로 가열하여 용해시켰다. 그리고, 이것을 테프론(등록상표) 제 필터로 여과한 후, 3.9kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기하여, 중합성 조성물을 얻었다.

뒤이어, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에 얻어진 중합성 화합물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣고 1주간 중합을 실시했다. 중합중, 오븐안을 80℃에서 130℃까지 다단계로 승온했다.

또한, 얻어진 수지의 굴절률을 측정한 바, 굴절률 ne=1.769였다.

(예 B11)

유리 비이커에 예 A14에서 제조한 화합물((3-티에타닐티오)비스[2-(3-티에타닐티오)에틸티오]안티몬(Ⅲ)) 0.50g을 칭취하고, 뒤이어 3-메르캅토티에탄 0.50g, 예 A13에서 제조한 화합물(테트라키스(3-티에타닐티오)주석) 2.00g을 칭취했다. 60℃로 가열하여 용해 후, 3.9kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충 분히 탈기하여 중합성 조성물을 얻었다. 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에 그 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣고 80℃에서 12시간, 100℃에서 12시간, 120℃에서 8시간 중합을 실시했다.

투명한 수지 성형편이 얻어지고, 굴절률을 측정한 바, 굴절률 ne=1.777이었다.

(예 B12)

유리 비이커에 예 A15에서 제조한 화합물(트리스[2-(3-티에타닐티오)에틸티오]안티몬(Ⅲ)) 1.09g을 칭취하고, 뒤이어 3-메르캅토티에탄 0.51g, 예 A13에서 제조한 화합물(테트라키스(3-티에타닐티오)주석) 2.01g을 칭취했다. 60℃로 가열하여 용해 후, 3.9kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기하여 중합성 조성물을 얻었다. 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에 그 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣고 80℃에서 12시간, 100℃에서 12시간, 120℃에서 24시간, 130℃에서 9시간 중합을 실시했다.

투명한 수지 성형편이 얻어지고, 굴절률을 측정한 바, 굴절률 ne=1.772였다.

(예 B13)

유리 비이커에 예 A16에서 제조한 화합물(2-(3-티에타닐티오)-1,3-디티아스티보란) 12.0g을 칭취하고, 뒤이어 3염화 안티몬 0.17g을 칭취했다. 70℃로 가열하여 용해 후, 3.9kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기하여 중합성 조성물을 얻었다. 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에 그 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣고 100℃에서 12시간, 120℃에서 10시 간, 130℃에서 10시간 중합을 실시했다.

투명한 수지 성형편이 얻어지고, 굴절률을 측정한 바, 굴절률 ne=1.916이었다.

(예 B14)

유리 비이커에 예 A17에서 제조한 혼합물 2.40g과 예 A13에서 제조한 화합물(테트라키스(3-티에타닐티오)주석) 1.60g을 칭취했다. 이들을 70℃로 가열하여 균일하게 될 때까지 교반, 용해하여, 중합성 조성물을 얻었다. 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에 그 중합성 조성물을 주입했다. 가열 오븐 중에 넣고 60℃에서 110℃까지 단계적으로 온도를 올리면서 20시간 중합을 실시했다.

투명한 수지 성형편이 얻어지고, 굴절률을 측정한 바, 굴절률 ne=1.720이었다.

(예 B15)

3-메르캅토티에탄(5.4g) 및 물(5.4g)의 혼합액에, 10℃에서 30% 수산화나트륨 수용액(6.7g)을 적하장입했다. 다음에, 옥시 염화 안티몬(8.7g)을 장입하여 12시간 반응을 행했다. 석출한 연한 황색 고체를 여과하여 취하고, 수세 또한 메탄올(50g)로 세정 후, 감압 건조하여 연한 황색 고체(9.7g)를 얻었다.

유리 비이커에 3-메르캅토티에탄 1.08g을 칭량하고, 상기 연한 황색 고체 0.40g을 칭취했다. 이들을 70℃로 가열하여 용해 후, 예 A13에서 제조한 화합물(테트라키스(3-티에타닐티오)주석) 2.52g을 장입했다. 균일하게 될 때까지 교반, 용해하여, 중합성 조성물을 얻었다. 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에 그 중 합성 조성물을 주입했다. 가열 오븐 중에 넣고 60℃에서 12시간, 70℃에서 100℃까지 단계적으로 온도를 올리면서 5시간 중합을 실시했다.

투명한 수지 성형편이 얻어지고, 굴절률을 측정한 바, 굴절률 ne=1.788이었다.

(예 B16)

3-메르캅토티에탄(5.4g) 및 물(5.4g)의 혼합액에, 30% 수산화나트륨 수용액(6.7g)을 적하장입하고, 뒤이어 옥시 염화 비스무트(13.0g)를 장입하여 6시간 반응을 행했다. 석출한 연한 녹색 고체를 여과하여 취하여, 수세, 다음에 메탄올(50g)로 세정 후, 감압 건조하여 연한 녹색 고체(15.5g)를 얻었다.

유리 비이커에 3-메르캅토티에탄 1.14g을 칭량하고, 상기 연한 녹색 고체 0.20g을 칭취했다. 60℃로 가열하여 용해 후, 예 A13에서 제조한 화합물(테트라키스(3-티에타닐티오)주석) 2.66g을 장입했다. 균일하게 될 때까지 교반, 용해하여, 중합성 조성물을 얻었다. 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에 그 중합성 조성물을 주입했다. 가열 오븐 중에 넣고 55℃에서 18시간, 65℃에서 100℃까지 단계적으로 온도를 올리면서 3시간 중합을 실시했다.

투명한 수지 성형편이 얻어지고, 굴절률을 측정한 바, 굴절률 ne=1.778이었다.

(예 B17)

예 A1에서 제조한 화합물(트리스(3-티에타닐티오)안티몬) 28중량부, 예 A13에서 제조한 화합물(테트라키스(3-티에타닐티오)주석) 60중량부, 3-메르캅토티에탄 12중량부를 75℃에서 가열 혼합 용해시킨 후, 3.9kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기시켜, 중합성 조성물을 얻었다. 뒤이어, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에 그 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣고 60~150℃까지 서서히 승온하여 16시간 중합을 실시했다.

얻어진 수지의 성형편은 투명성이 양호하고, 일그러짐이 없는 외관이 양호한 것이었다. 수지 물성 평가 결과를 표 1에 나타낸다.

(예 B18)

예 A1에서 제조한 화합물 40중량부, 예 A13에서 제조한 화합물 50중량부, 비스(2-메르캅토에틸)설파이드 4.3중량부, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2,2,1]-헵탄 5.7중량부를 75℃에서 가열 혼합 용해시킨 후, 3.9kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기시켜, 중합성 조성물을 얻었다. 뒤이어, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에 그 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣고 70~120℃까지 서서히 승온하여 22시간 중합을 실시했다.

(예 B19)

3-메르캅토티에탄 1.8중량부, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로[2,2,1]-헵탄 3.6중량부, 디-n-부틸주석디클로라이드 0.005중량부를 60℃에서 6시간 반응시킨 후, 비스(2-메르캅토에틸)설파이드 4.6중량부, 디-n-부틸주석디클로라이드 0.004중량부를 첨가하여 60℃에서 6시간 더 반응시켰다. 얻어진 티오우레탄 프리폴 리머의 NCO 전화율은 98.6%였다. 이것에 예 A1에서 제조한 화합물 40중량부, 예 A13에서 제조한 화합물 50중량부를 첨가하여 75℃에서 가열 혼합 용해시킨 후, 3.9kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기시켜, 중합성 조성물을 얻었다. 뒤이어, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에 그 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣고 70~120℃까지 서서히 승온하여 22시간 중합을 실시했다.

(예 B20)

예 A1에서 제조한 화합물 45.7중량부, 예 A13에서 제조한 화합물 38.2중량부, 3-메르캅토티에탄 5.1중량부를 75℃에서 가열 혼합 용해시킨 후, 3.9kPa 이하의 감압하에서 탈기시킨 후, 40℃까지 냉각했다. 뒤이어, 일본 특허공개공보 평10-130250호에 기재된 1,8-비스(2,3-에폭시프로필티오)-4-(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄을 주성분으로 하는 화합물 11중량부를 첨가하고, 50℃, 3.9kPa 이하의 감압하에서 탈기시켜, 중합성 조성물을 얻었다. 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에 그 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣고 50~130℃까지 서서히 승온하여 78시간 중합을 실시했다.

(예 B21)

예 A1에서 제조한 화합물 39.7중량부, 예 A13에서 제조한 화합물 46.5중량부, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄 4.8중량부를 75℃에서 가열 혼합 용해시킨 후, 3.9kPa 이하의 감압하에서 탈기시킨 후, 40℃까지 냉각했다. 뒤이어, 일본 특허공개공보 평10-130250호에 기재된 1,8-비스(2,3-에폭시프로필티오)-4-(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄을 주성분으로 하는 화합물 9중량부를 첨가하고, 50℃, 3.9kPa 이하의 감압하에서 탈기시켜, 중합성 조성물을 얻었다. 유리몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에 그 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣고 50~130℃까지 서서히 승온하여 78시간 중합을 실시했다.

(예 B22)

예 A1에서 제조한 화합물 62.2중량부, 예 A13에서 제조한 화합물 17.7중량부, 3-메르캅토티에탄 9.1중량부, 비스(2,3-에폭시프로필)디설파이드 11중량부를 70℃에서 가열 혼합 용해시킨 후, 3.9kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기시켜, 중합성 조성물을 얻었다. 뒤이어, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에 그 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣고 60~110℃까지 서서히 승온하여 67시간 중합을 실시했다.

(예 B23)

예 A1에서 제조한 화합물 58.4중량부, 예 A13에서 제조한 화합물 23.6중량부, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄 7중량부, 비스(2,3-에폭시프로필)디설파이드 11중량부를 70℃에서 가열 혼합 용해시킨 후, 3.9kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기시켜, 중합성 조성물을 얻었다. 뒤이어, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에 그 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣고 20~110℃까지 서서히 승온하여 70시간 중합을 실시했다.

(예 B24)

예 A1에서 제조한 화합물 42.8중량부, 예 A13에서 제조한 화합물 26.9중량부, 3-메르캅토티에탄 8.3중량부, 비스(2,3-에피티오프로필)디설파이드 22중량부를 65℃에서 가열 혼합 용해시킨 후, 3.9kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기시켜, 중합성 조성물을 얻었다. 뒤이어, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에 그 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣고 50~130℃까지 서서히 승온하여 80시간 중합을 실시했다.

(예 B25)

예 A1에서 제조한 화합물 29.2중량부, 예 A13에서 제조한 화합물 51.4중량부, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄 7.4중량부, 비스(2,3-에피티오 프로필)디설파이드 12중량부를 75℃에서 가열 혼합 용해시킨 후, 3.9kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기시켜, 중합성 조성물을 얻었다. 뒤이어, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에 그 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣고 50~130℃까지 서서히 승온하여 104시간 중합을 실시했다.

A1: 트리스(3-티에타닐티오)안티몬

A13: 테트라키스(3-티에타닐티오)주석

C1: 3-메르캅토티에탄

C2: 비스(2-메르캅토에틸)설파이드

C3: 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄

D1: 1,8-비스(2,3-에폭시프로필티오)-4-(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄

D2: 비스(2,3-에폭시프로필)디설파이드

E1: 비스(2,3-에피티오프로필)디설파이드

F1: 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2,2,2]-헵탄

(예 B26)

예 A1에서 제조한 화합물 42.8중량부, 예 A13에서 제조한 화합물 26.9중량부, 3-메르캅토티에탄 8.3중량부, 비스(2,3-에피티오프로필)디설파이드 22중량부 및 아데카사 제 힌더드아민(제품명: 아데카스타브LA-63P) 0.5중량부를 75℃에서 가열 혼합 용해시킨 후, 3.9kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기시켜, 중합성 조성물을 얻었다. 뒤이어, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에 그 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣고 50~130℃까지 서서히 승온하여 42시간 중합을 실시했다.

얻어진 수지의 성형편은 투명성이 양호하고, 일그러짐이 없는 외관이 양호한 것이었다. 수지 물성 평가 결과를 표 2에 나타낸다.

(예 B27)

예 A1에서 제조한 화합물 42.8중량부, 예 A13에서 제조한 화합물 26.9중량부, 3-메르캅토티에탄 8.3중량부, 비스(2,3-에피티오프로필)디설파이드 22중량부를 75℃에서 가열 혼합 용해시킨 후, 3.9kPa 이하의 감압하에 발포가 확인되지 않을 때까지 충분히 탈기시켜, 중합성 조성물을 얻었다. 뒤이어, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에 그 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣고 50~130℃까지 서서히 승온하여 42시간 중합을 실시했다.

A1: 트리스(3-티에타닐티오)안티몬

A13: 테트라키스(3-티에타닐티오)주석

C1: 3-메르캅토티에탄

E1: 비스(2,3-에피티오프로필)디설파이드

G1: 아데카스타브LA-63P

(예 B28)

예 A13에서 제조한 화합물 60중량부, 예 A1에서 제조한 화합물 28중량부, 1,3-비스(3-티에타닐티오)-2-프로판올(참고 제조예 4에서 제조한 화합물) 12중량부를 75℃에서 가열 혼합 용해시킨 후, 3.9kPa 이하의 감압하에서 탈기시킨 후, 75℃, 3.9kPa 이하의 감압하에서 탈기시켜, 중합성 조성물을 얻었다. 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에 그 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣고 70~130℃까지 서서히 승온하여 86시간 중합을 실시했다.

얻어진 수지의 성형편은 투명성이 양호하고, 일그러짐이 없는 외관이 양호한 것이었다. 수지 물성 평가 결과를 이하에 나타낸다.

굴절률 ne: 1.797

아베수νe: 24.4

Tg: 149.9℃

낙입 개시 온도:138.7℃

3점 굽힘 최대점 응력:101.7N/mm²

3점 굽힘 최대점 변위:1.37mm

또한, 예 B26에서 얻어진 수지는, 예 B27에서 얻어진 수지에 비해 YI값이 8.5작았다(ΔYI(예 B27의 YI에 대한 예 B26의 YI)=-8.5).

(예 B29)

예 A13에서 제조한 화합물 45중량부, 예 A1에서 제조한 화합물 40중량부, 1,3-비스(3-티에타닐티오)-2-프로판올 15중량부를 75℃에서 가열 혼합 용해시킨 후, 3.9kPa 이하의 감압하에서 탈기시킨 후, 75℃, 3.9kPa 이하의 감압하에서 탈기 시켰다. 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드 중에 그 중합성 조성물을 주입한 후, 가열 오븐 중에 넣고 70~130℃까지 서서히 승온하여 86시간 중합을 실시했다.

굴절률 ne: 1.798

아베수νe: 24.2

Tg: 133.9℃

낙입 개시 온도: 119.6℃

3점 굽힘 최대점응력: 122.8N/mm²

3점 굽힘 최대점변위: 1.86mm

Claims

하기 일반식(120)으로 표시되는 금속 티에탄 화합물.

[화학식 1]

(상기 일반식(120) 중, M은, Bi, Sb, Ti, Zr 및 Ta로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종의 금속 원자이다. X₁ 및 X₂는 각각 독립적으로 유황 원자 또는 산소 원자이다. R₁은 2가의 유기기이다.

점선과 실선으로 표시된 M-T간의 결합은, 단결합 또는 이중결합을 나타낸다. 점선과 실선으로 표시된 M-T간의 결합이 단결합의 경우, T는 1가의 무기 또는 유기기이며, q는 0 또는 1 이상 n-2 이하의 정수이며, r은 1 또는 2이다. 점선과 실선으로 표시된 M-T간의 결합이 이중결합의 경우, T는 산소 원자 또는 유황 원자이며, q=1, r=1이다.

m은 0 또는 1 이상의 정수이다.

n은 M의 가수이며, p는 1 이상 n 이하의 정수이다.

r=1일 때, q=0이며, Y는 1가의 무기 또는 유기기이다. r=1 또한 n-p-q가 2 이상의 경우, 복수의 Y는, 각각 독립적으로 1가의 무기 또는 유기기이다. r=1 또한 n-p-q가 2 이상의 경우, 복수의 Y가 서로 결합하고, M을 포함하는 환을 형성하고 있어도 좋다.

r=2일 때, n-p-q=1 또는 2이며, Y는 2가의 기이다. r=2 또한 n-p-q=2의 경우, 2개의 Y가, 2개의 M과 함께 환을 형성하고 있어도 좋다. r=2 또한 q=2의 경우, 복수의 T는, 각각 독립적으로 무기 또는 유기기이다.)
하기 일반식(110)으로 표시되는 금속 티에탄 화합물.

[화학식 2]

(상기 일반식(110) 중, M은 Bi, Sb, Ti, Zr 및 Ta로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종의 금속 원자이다. X₁ 및 X₂는 각각 독립적으로 유황 원자 또는 산소 원자이다. R₁은 2가의 유기기이다.

m은 0 또는 1 이상의 정수이다.

n은 M의 가수이며, p는 1 이상 n 이하의 정수이다.

q는 0 또는 1 이상 n-2 이하의 정수이다.

Y는 1가 또는 2가의 기이며, T는 무기 또는 유기기이다.

r은 1 또는 2이다.

r=1일 때, q=0이며, Y는 1가의 무기 또는 유기기이다. r=1 또한 n-p-q가 2 이상의 경우, 복수의 Y는, 각각 독립적으로 1가의 무기 또는 유기기이다. r=1 또한 n-p-q가 2 이상의 경우, 복수의 Y가 서로 결합하고, 금속 원자 M을 포함하는 환을 형성하고 있어도 좋다.

r=2일 때, n-p-q=1 또는 2이며, Y는 2가의 기이다. r=2 또한 n-p-q=2의 경우, 2개의 Y가, 2개의 금속 원자 M과 함께 환을 형성하고 있어도 좋다. r=2 또한 q=2의 경우, 복수의 T는, 각각 독립적으로 무기 또는 유기기이다.)
하기 일반식(100)으로 표시되는 금속 티에탄 화합물.

[화학식 3]

(상기 일반식(100) 중, X₁ 및 X₂는 각각 독립적으로 유황 원자 또는 산소 원자이다. R₁은 2가의 유기기이다.

m은 0 또는 1 이상의 정수이다.

n은 3 또는 5이다. n=3일 때, p는 1 이상 3 이하의 정수이다. n=5일 때, p는 1 이상 5 이하의 정수이다.

q는 0 또는 1 이상 n-2 이하의 정수이다.

Y는 1가 또는 2가의 기이며, T는 무기 또는 유기기이다.

r은 1 또는 2이다.

r=1일 때, q=0이며, Y는 1가의 무기 또는 유기기이다. r=1 또한 n-p-q가 2 이상의 경우, 복수의 Y는, 각각 독립적으로 1가의 무기 또는 유기기이다. r=1 또한 n-p-q가 2 이상의 경우, 복수의 Y가 서로 결합하고, Sb원자를 포함하는 환을 형성하고 있어도 좋다.

r=2일 때, n-p-q=1 또는 2이며, Y는 2가의 기이다. r=2 또한 n-p-q=2의 경우, 2개의 Y가, 2개의 Sb원자와 함께 환을 형성하고 있어도 좋다. r=2 또한 q=2의 경우, 복수의 T는, 각각 독립적으로 무기 또는 유기기이다.)
하기 일반식(1)로 표시되는 금속 티에탄 화합물.

[화학식 4]

(상기 일반식(1) 중, X₁ 및 X₂는 각각 독립적으로 유황 원자 또는 산소 원자이다. R₁은 2가의 유기기이다.

m은 0 또는 1 이상의 정수이다. n은 3 또는 5이다. n=3일 때, p는 1 이상 3 이하의 정수이며, n=5일 때, p는 1 이상 5 이하의 정수이다.

Y는 1가의 무기 또는 유기기이다. n-p가 2 이상의 경우, 복수의 Y는, 각각 독립적으로 1가의 무기 또는 유기기이다. n-p가 2 이상의 경우, 복수의 Y가 서로 결합하고, Sb원자를 포함하는 환을 형성하고 있어도 좋다.)
제 2항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 기재된 금속 티에탄 화합물에 있어서, m=0인, 금속 티에탄 화합물.
제 2항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 기재된 금속 티에탄 화합물에 있어서, X₁이 유황 원자인, 금속 티에탄 화합물.
제 4항에 기재된 금속 티에탄 화합물에 있어서, 하기 일반식(3)으로 표시되는, 금속 티에탄 화합물.

[화학식 5]

(상기 일반식(3)에 있어서, Y, n 및 p는, 각각, 상기 일반식(1)에 있어서의 Y, n 및 p와 같다.)
제 2항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 기재된 금속 티에탄 화합물에 있어서, n=p=3인, 금속 티에탄 화합물.
제 8항에 기재된 금속 티에탄 화합물에 있어서, 하기 식(4)로 표시되는, 금속 티에탄 화합물.

[화학식 6]
제 2항 내지 제 7항 중 어느 한 항에 기재된 금속 티에탄 화합물에 있어서, n=p=5인, 금속 티에탄 화합물.
제 10항에 기재된 금속 티에탄 화합물에 있어서, 하기 식(5)로 표시되는, 금속 티에탄 화합물.

[화학식 7]
제 2항 내지 제 11항 중 어느 한 항에 기재된 적어도 1종의 금속 티에탄 화합물을 포함하는, 중합성 조성물.
제 12항에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 더욱, 티올 화합물, 에폭시 화합물, 에피티오 화합물, 분자 구조 중에 금속 원자를 포함하지 않은 비금속 티에탄 화합물 중 적어도 하나를 포함하는, 중합성 조성물.
제 13항에 기재된 중합성 조성물에 있어서,

상기 티올 화합물이, 3-메르캅토티에탄, 1,2-에탄디티올, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸 및 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상이며,

상기 에폭시 화합물이, 비스(2,3-에폭시프로필)디설파이드, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 이소시아눌산트리글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 1,4-시클로헥산디메탄올디글리시딜에테르, 트리메티롤프로판트리글리시딜에테르, 비스페놀 F디글리시딜에테르, 비스페놀 A디글리시딜에테르, 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3',4'-에폭시시클로헥산카르복실레이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상이며,

상기 에피티오 화합물이, 비스(2,3-에피티오프로필)설파이드, 비스(2,3-에피티오프로필)디설파이드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상이며,

상기 비금속 티에탄 화합물이, 비스티에타닐디설파이드, 비스티에타닐테트라설파이드, 비스(티에타닐티오)메탄, 3-(((티에타닐티오)메틸티오)메틸티오)티에탄으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인, 중합성 조성물.
제 12항에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 하기 식(130)으로 표시하는 비금속 티에탄 화합물을 더 포함하는, 중합성 조성물.

[화학식 8]
제 12항에 기재된 중합성 조성물에 있어서,

상기 금속 티에탄 화합물이, 하기 식(4)로 표시하는 금속 티에탄 화합물로서,

[화학식 9]

하기 식(12)로 표시하는 화합물을 더 포함하는, 중합성 조성물.

[화학식 10]
제 16항에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 더욱, 티올 화합물, 에폭시 화합물, 에피티오 화합물, 분자 구조 중에 금속 원자를 포함하지 않은 비금속 티에탄 화합물 중 적어도 하나를 포함하는, 중합성 조성물.
제 16항에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 하기 식(130)으로 표시되는 비금 속 티에탄 화합물을 더 포함하는, 중합성 조성물.

[화학식 11]
제 12항 내지 제 18항 중 어느 한 항에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 일반식(110)으로 표시한 금속 티에탄 화합물을 포함하고, 중합성 화합물의 총중량에 대한 상기 일반식(110)으로 표시되는 화합물의 함유량이, 50중량% 이상인, 중합성 조성물.
제 12항 내지 제 19항 중 어느 한 항에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 블루잉제를 더 포함하는, 중합성조성물.
제 12항 내지 제 20항 중 어느 한 항에 기재된 중합성 조성물을 주형 중합하는 공정을 포함하는, 수지의 제조방법.
제 12항 내지 제 20항 중 어느 한 항에 기재된 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 수지.
제 22항에 기재된 수지로 이루어지는 광학 부품.
제 12항 내지 제 20항 중 어느 한 항에 기재된 중합성 조성물의 광학 부품으로서의 사용.
제 12항 내지 제 20항 중 어느 한 항에 기재된 중합성 조성물을 중합시킨 수지의 광학 부품으로서의 사용.
하기 일반식(201)로 표시되는 티에탄 화합물.

[화학식 12]

(상기 일반식(201) 중, X₁은 유황 원자 또는 산소 원자를 나타낸다. Z는 유황 원자 또는 산소 원자를 나타낸다. p는 1 이상 5 이하의 정수를 나타낸다. q는 0 이상 2 이하의 정수이다. r은 0 이상 4 이하의 정수를 나타낸다. p＋r＋2q=5 또는 3이다.

r이 2 이상의 정수의 경우, 복수의 Y는, 각각 독립적으로 무기 또는 유기잔기를 나타낸다. 또한, 복수의 Y가 서로 결합하고, Bi원자를 포함하는 환을 형성하고 있어도 좋다.)
제 26항에 기재된 티에탄 화합물에 있어서, 상기 일반식(201)에 있어서, q=0인, 티에탄 화합물.
제 26항 또는 제 27항에 기재된 티에탄 화합물에 있어서, 상기 일반식(201)에 있어서, p=3, q=0, r=0인, 티에탄 화합물.
제 26항에 기재된 티에탄 화합물에 있어서, 상기 일반식(201)에 있어서, q=1인 티에탄 화합물.
제 29항에 기재된 티에탄 화합물에 있어서, 상기 일반식(201)에 있어서, Z가 산소 원자인, 티에탄 화합물.
제 26항 내지 제 30항 중 어느 한 항에 기재된 티에탄 화합물에 있어서, 상기 일반식(201)에 있어서, X₁이 유황 원자인, 티에탄 화합물.
제 26항 내지 제 31항 중 어느 한 항에 기재된 티에탄 화합물을 포함하는, 중합성 조성물.
제 32항에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 티올 화합물을 더 포함하는, 중합성 조성물.
제 33항에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 상기 티올 화합물이, 3-메르캅토티에탄, 4-메르캅토메틸-1,8-디메르캅토-3,6-디티아옥탄, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸 및 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인, 중합성 조성물.
제 32항 내지 제 34항 중 어느 한 항에 기재된 중합성 조성물에 있어서, 중합성 화합물의 총중량에 대한 상기 일반식(201)로 표시되는 화합물의 함유량이, 50중량% 이상인, 중합성 조성물.
제 32항 내지 제 35항 중 어느 한 항에 기재된 중합성 조성물을 주형 중합하는 공정을 포함하는, 수지의 제조방법.
제 32항 내지 제 35항 중 어느 한 항에 기재된 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 수지.
제 37항에 기재된 수지로 이루어지는 광학 부품.
제 32항 내지 제 35항 중 어느 한 항에 기재된 중합성 조성물의 광학 부품으로서의 사용.
제 32항 내지 제 35항 중 어느 한 항에 기재된 중합성 조성물을 중합시킨 수지의 광학 부품으로서의 사용.