KR20090053957A - 금속 게터 시스템 - Google Patents
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- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 259
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 259
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims abstract description 110
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims abstract description 84
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims abstract description 58
- 238000002161 passivation Methods 0.000 claims abstract description 19
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 107
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 98
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 57
- 150000002941 palladium compounds Chemical class 0.000 claims description 56
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 55
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 47
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 39
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 38
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 35
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 31
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 31
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims description 26
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 22
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 22
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 21
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 20
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 claims description 19
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000011572 manganese Substances 0.000 claims description 14
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 14
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910000986 non-evaporable getter Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 13
- 239000008188 pellet Substances 0.000 claims description 12
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 9
- HBEQXAKJSGXAIQ-UHFFFAOYSA-N oxopalladium Chemical compound [Pd]=O HBEQXAKJSGXAIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910003445 palladium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 8
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 7
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 150000002910 rare earth metals Chemical group 0.000 claims description 7
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 7
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 6
- 229910001122 Mischmetal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 claims description 3
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 19
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 14
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 13
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 13
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- -1 for example Substances 0.000 description 12
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 7
- 238000001275 scanning Auger electron spectroscopy Methods 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 4
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- SWELZOZIOHGSPA-UHFFFAOYSA-N palladium silver Chemical compound [Pd].[Ag] SWELZOZIOHGSPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 150000001642 boronic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005202 decontamination Methods 0.000 description 1
- 230000003588 decontaminative effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000006193 liquid solution Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 150000002940 palladium Chemical class 0.000 description 1
- YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L palladium(ii) acetate Chemical class [Pd+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N palladium(ii) nitrate Chemical class [Pd+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O GPNDARIEYHPYAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 235000000346 sugar Nutrition 0.000 description 1
- 150000008163 sugars Chemical class 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
- H01G9/004—Details
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- H—ELECTRICITY
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- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G11/00—Hybrid capacitors, i.e. capacitors having different positive and negative electrodes; Electric double-layer [EDL] capacitors; Processes for the manufacture thereof or of parts thereof
- H01G11/14—Arrangements or processes for adjusting or protecting hybrid or EDL capacitors
- H01G11/20—Reformation or processes for removal of impurities, e.g. scavenging
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G11/00—Hybrid capacitors, i.e. capacitors having different positive and negative electrodes; Electric double-layer [EDL] capacitors; Processes for the manufacture thereof or of parts thereof
- H01G11/78—Cases; Housings; Encapsulations; Mountings
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G11/00—Hybrid capacitors, i.e. capacitors having different positive and negative electrodes; Electric double-layer [EDL] capacitors; Processes for the manufacture thereof or of parts thereof
- H01G11/54—Electrolytes
- H01G11/58—Liquid electrolytes
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
- H01G9/004—Details
- H01G9/022—Electrolytes; Absorbents
- H01G9/035—Liquid electrolytes, e.g. impregnating materials
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- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G9/00—Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Electric Double-Layer Capacitors Or The Like (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
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Abstract
Description
Claims (88)
- 전해질 환경 내의 2개 이상의 전극과;전해질 환경과 접촉하며, 팔라듐 화합물과 접촉하는 표면적을 갖는 금속 게터를 구비하는 고체 복합 게터를 포함하는 전해 콘덴서.
- 전해질 환경 내의 2개 이상의 전극과;전해질 환경과 접촉하며, 전해장치 내에서 전해액의 소정의 영역에 고체 복합 게터를 유지하기 위해 다공성 용기 내에 고체 복합 게터를 구비하는 고체 복합 게터 시스템을 포함하고,상기 고체 복합 게터는 (ⅰ) 지르코늄, 티타늄, 팔라듐, 또는 크롬을 포함하는 금속 게터와 (ⅱ) 팔라듐, 팔라듐 산화물이나 질화물, 또는 팔라듐 합금을 포함하는 팔라듐 화합물을 포함하고, 상기 금속 게터와 팔라듐 화합물의 조합은 전해질 용액 내에서 게터재의 패시베이션을 억제하는 전해 콘덴서.
- 전해질 환경 내의 2개 이상의 전극과;전해질 환경과 접촉하며, 전해장치 내에서 전해액의 소정의 영역에 고체 복합 게터를 유지하기 위해 시트 형태의 고체 복합 게터를 구비하는 고체 복합 게터 시스템을 포함하고,상기 고체 복합 게터는 (ⅰ) 지르코늄, 티타늄, 팔라듐, 또는 크롬을 포함하 는 금속 게터와 (ⅱ) 팔라듐, 팔라듐 산화물이나 질화물, 또는 팔라듐 합금을 포함하는 팔라듐 화합물을 포함하고, 상기 금속 게터와 팔라듐 화합물의 조합은 전해질 용액 내에서 게터재의 패시베이션을 억제하는 전해 콘덴서.
- 제 1항, 제 2항, 또는 제 3항에 있어서, 상기 전해 콘덴서는 전기화학적 이중층 콘덴서인 전해 콘덴서.
- 제 2항에 있어서, 상기 용기는 강성(剛性)인 전해 콘덴서.
- 제 2항에 있어서, 상기 용기는 가요성(可撓性)인 전해 콘덴서.
- 제 3항에 있어서, 상기 시트는 금속 게터 및 팔라듐 함유 물질의 공압출 제품을 포함하는 전해 콘덴서.
- 제 3항에 있어서, 상기 시트는 약 1미크론 내지 약 100미크론 범위의 두께를 갖고, 약 1 내지 약 100나노미터 범위의 두께를 갖는 팔라듐 화합물의 박막으로 코팅된 금속 게터의 포일인 전해 콘덴서.
- 제 1항, 제 2항, 또는 제 3항에 있어서, 상기 고체 복합 게터는 직경이 약 10㎛ 내지 약 150㎛ 범위의 미리선택한 입자 크기를 갖고, 다공성 용기 내의 구멍 은 대체로 고체 복합 게터에서 가장 작은 입자의 직경만큼 큰 전해 콘덴서.
- 제 2항 또는 제 3항에 있어서, 상기 조합은 금속 게터의 표면 상에 팔라듐 화합물 코팅을 포함하고, 상기 금속 게터 표면의 10% 이상이 팔라듐 화합물로 코팅되는 전해 콘덴서.
- 제 1항, 제 2항, 또는 제 3항에 있어서, 상기 금속 게터는 Zr, Ti, Nb, Ta 및 V 금속; Ti, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Al, Cu, Sn, Si, Y, La, 임의의 희토류 원소, 또는 그의 혼합물 중 하나와 합금된 Zr; Zr, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Al, Cu, Sn, Si, Y, La, 임의의 희토류 원소, 또는 그의 혼합물 중 하나와 합금된 Ti; 및 상기 금속 및 합금의 임의의 혼합물로 구성되는 그룹으로부터 선택된 성분을 포함하는 전해 콘덴서.
- 제 1항, 제 2항, 또는 제 3항에 있어서, 상기 금속 게터는 지르코늄 70중량%, 바나듐 24.6중량%, 및 철 5.4중량%로 구성되는 비증발성 게터인 전해 콘덴서.
- 제 1항, 제 2항, 또는 제 3항에 있어서, 상기 금속게터는 지르코늄 80.8중량%, 코발트 14.2중량%, 및 TR 5중량%로 구성되는 비증발성 게터이고, 상기 TR은 희토류 금속, 이트륨, 란탄, 또는 그의 혼합물이며, 미슈메탈(mischmetals)을 포함하는 전해 콘덴서.
- 제 1항, 제 2항, 또는 제 3항에 있어서, 상기 금속 게터는 팔라듐 코팅을 갖는 티타늄 게터의 시트를 포함하는 전해 콘덴서.
- 다공성 용기 내에 금속 게터를 포함하고, 상기 다공성 용기는 전해장치 내의 게터 격실 내에 배치되도록 설계되는 격실형 금속 게터 시스템.
- 시트 형태의 금속 게터를 포함하고, 상기 시트는 전해장치 내의 게터 격실 내에 배치되도록 설계되는 격실형 금속 게터 시스템.
- 제 15항에 있어서, 상기 다공성 용기는 강성인 격실형 금속 게터 시스템.
- 제 15항에 있어서, 상기 다공성 용기는 가요성인 격실형 금속 게터 시스템.
- 제 17항 또는 제 18항에 있어서, 상기 용기는 밀폐된 다공성 실린더인 격실형 금속 게터 시스템.
- 제 17항 또는 제 18항에 있어서, 상기 용기는 밀폐된 다공성 평행육면체인 격실형 금속 게터 시스템.
- 제 17항 또는 제 18항에 있어서, 상기 용기는 메시 밀폐체인 격실형 금속 게터 시스템.
- 제 15항에 있어서, 상기 금속 게터는 팔라듐 화합물과 접촉하는 금속 게터 입자를 포함하는 격실형 금속 게터 시스템.
- 제 15항에 있어서, 상기 금속 게터는 팔라듐 화합물과 접촉하는 금속 게터를 함유한 펠릿을 포함하는 격실형 금속 게터 시스템.
- 제 16항에 있어서, 상기 시트는 금속 게터 및 팔라듐 화합물의 공압출 제품을 포함하는 격실형 금속 게터 시스템.
- 제 16항에 있어서, 상기 시트는 금속 게터 및 팔라듐 화합물의 프레스 및 소결 시트를 포함하는 격실형 금속 게터 시스템.
- 제 16항에 있어서, 상기 시트는 금속 게터 및 팔라듐 화합물의 메시인 격실형 금속 게터 시스템.
- 제 16항에 있어서, 상기 시트는 약 1미크론 내지 약 100미크론 범위의 두께를 갖고, 약 1 내지 약 100나노미터 범위의 두께를 갖는 팔라듐 화합물의 박막으로 코팅된 금속 게터의 포일인 격실형 금속 게터 시스템.
- 제 15항 또는 제 16항에 있어서, 상기 금속 게터는 직경이 약 10㎛ 내지 약 150㎛ 범위의 미리선택한 입자 크기를 갖고, 다공성 용기 내의 구멍은 대체로 고체 복합 게터에서 가장 작은 입자의 직경만큼 큰 격실형 금속 게터 시스템.
- 제 15항 또는 제 16항에 있어서, 상기 금속은 팔라듐 화합물의 코팅을 포함하고, 상기 금속 게터 표면의 10% 이상이 팔라듐 화합물로 코팅되는 격실형 금속 게터 시스템.
- 제 15항 또는 제 16항에 있어서, 상기 금속 게터는 Zr, Ti, Nb, Ta 및 V 금속; Ti, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Al, Cu, Sn, Si, Y, La, 임의의 희토류 원소, 또는 그의 혼합물 중 하나와 합금된 Zr; Zr, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Al, Cu, Sn, Si, Y, La, 임의의 희토류 원소, 또는 그의 혼합물 중 하나와 합금된 Ti; 및 상기 금속 및 합금의 임의의 혼합물로 구성되는 그룹으로부터 선택된 성분을 포함하는 격실형 금속 게터 시스템.
- 제 15항 또는 제 16항에 있어서, 상기 금속 게터는 지르코늄 70중량%, 바나듐 24.6중량%, 및 철 5.4중량%로 구성되는 격실형 금속 게터 시스템.
- 제 15항 또는 제 16항에 있어서, 상기 금속게터는 지르코늄 80.8중량%, 코발트 14.2중량%, 및 TR 5중량%로 구성되는 비증발성 게터이고, 상기 TR은 희토류 금속, 이트륨, 란탄, 또는 그의 혼합물이며, 미슈메탈을 포함하는 격실형 금속 게터 시스템.
- 제 15항 또는 제 16항에 있어서, 상기 금속 게터는 팔라듐 코팅을 갖는 티타늄 게터의 시트를 포함하는 격실형 금속 게터 시스템.
- 내벽부, 중앙부, 바닥부, 및 게터 격실을 갖는 밀봉 용기와;전해질 환경 내의 2개 이상의 전극과;전해질 환경과 접촉하며, 게터 격실 내에서 고체 복합 게터를 유지하기 위해 다공성 용기 내에 고체 복합 게터를 구비하는 고체 복합 게터 시스템을 포함하고,상기 고체 복합 게터는 (ⅰ) 지르코늄, 티타늄, 팔라듐, 또는 크롬을 포함하는 금속 게터와 (ⅱ) 팔라듐, 팔라듐 산화물이나 질화물, 또는 팔라듐 합금을 포함하는 팔라듐 화합물의 조합을 포함하며, 상기 금속 게터와 팔라듐 화합물의 결합은 전해액 내에서 게터재의 패시베이션을 억제하는 전기화학적 이중층 콘덴서.
- 내벽부, 중앙부, 바닥부, 및 게터 격실을 갖는 밀봉 용기와;전해질 환경 내의 2개 이상의 전극과;전해질 환경과 접촉하며, 게터 격실 내에서 고체 복합 게터를 유지하기 위해 시트 형태의 고체 복합 게터를 구비하는 고체 복합 게터 시스템을 포함하고,상기 고체 복합 게터는 (ⅰ) 지르코늄, 티타늄, 팔라듐, 또는 크롬을 포함하는 금속 게터와 (ⅱ) 팔라듐, 팔라듐 산화물이나 질화물, 또는 팔라듐 합금을 포함하는 팔라듐 화합물의 조합을 포함하며, 상기 금속 게터와 팔라듐 화합물의 조합은 전해액 내에서 게터재의 패시베이션을 억제하는 전기화학적 이중층 콘덴서.
- 제 34항에 있어서, 상기 용기는 강성인 전기화학적 이중층 콘덴서.
- 제 34항에 있어서, 상기 용기는 가요성인 전기화학적 이중층 콘덴서.
- 제 34항 또는 제 35항에 있어서, 상기 게터 격실은 밀봉 용기의 중앙부에 있는 전기화학적 이중층 콘덴서.
- 제 34항 또는 제 35항에 있어서, 상기 게터 격실은 밀봉 용기의 바닥부에 있는 전기화학적 이중층 콘덴서.
- 제 34항 또는 제 35항에 있어서, 상기 게터 격실은 밀봉 용기의 내벽부에 있는 전기화학적 이중층 콘덴서.
- 제 35항에 있어서, 상기 시트는 금속 게터와 팔라듐 함유 물질의 공압출 제 품인 전기화학적 이중층 콘덴서.
- 제 35항에 있어서, 상기 시트는 약 1미크론 내지 약 100미크론 범위의 두께를 갖고, 약 1 내지 약 100나노미터 범위의 두께를 갖는 팔라듐 화합물의 박막으로 코팅된 금속 게터의 포일인 전기화학적 이중층 콘덴서.
- 제 34항 또는 제 35항에 있어서, 상기 고체 복합 게터는 직경이 약 10㎛ 내지 약 150㎛ 범위의 미리선택한 입자 크기를 갖고, 다공성 용기 내의 구멍은 대체로 고체 복합 게터에서 가장 작은 입자의 직경만큼 큰 전기화학적 이중층 콘덴서.
- 제 34항 또는 제 35항에 있어서, 상기 조합은 금속 게터의 표면 상에 팔라듐 화합물 코팅을 포함하고, 상기 금속 게터 표면의 10% 이상이 팔라듐 화합물로 코팅되는 전기화학적 이중층 콘덴서.
- 제 34항 또는 제 35항에 있어서, 상기 금속 게터는 Zr, Ti, Nb, Ta 및 V 금속; Ti, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Al, Cu, Sn, Si, Y, La, 임의의 희토류 원소, 또는 그의 혼합물 중 하나와 합금된 Zr; Zr, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Al, Cu, Sn, Si, Y, La, 임의의 희토류 원소, 또는 그의 혼합물 중 하나와 합금된 Ti; 및 상기 금속 및 합금의 임의의 혼합물로 구성되는 그룹으로부터 선택된 성분을 포함하는 전기화학적 이중층 콘덴서.
- 제 34항 또는 제 35항에 있어서, 상기 금속 게터는 지르코늄 70중량%, 바나듐 24.6중량%, 및 철 5.4중량%로 구성되는 비증발성 게터인 전기화학적 이중층 콘덴서.
- 제 34항 또는 제 35항에 있어서, 상기 금속게터는 지르코늄 80.8중량%, 코발트 14.2중량%, 및 TR 5중량%로 구성되는 비증발성 게터이고, 상기 TR은 희토류 금속, 이트륨, 란탄, 또는 그의 혼합물이며, 미슈메탈을 포함하는 전기화학적 이중층 콘덴서.
- 제 34항 또는 제 35항에 있어서, 상기 금속 게터는 팔라듐 코팅을 갖는 티타늄 게터의 시트를 포함하는 전기화학적 이중층 콘덴서.
- 격실형 금속 게터 시스템을 갖는 전자장치의 제조방법에 있어서,격실형 금속 게터 시스템을 함유하는 전자장치를 조립하는 단계로, 상기 금속 게터 시스템은 다공성 용기 내에 금속 게터를 포함하고, 상기 조립 단계는 상기 다공성 용기를 전자장치 내의 게터 격실 내에 배치하는 단계를 포함하는 단계와;상기 격실형 금속 게터 시스템을 함유하는 전자장치를 베이킹하는 단계를 포함하는 방법.
- 격실형 금속 게터 시스템을 갖는 전자장치의 제조방법에 있어서,격실형 금속 게터 시스템을 함유하는 전자장치를 조립하는 단계로, 상기 금속 게터 시스템은 시트 형태의 금속 게터를 포함하고, 상기 조립 단계는 상기 다공성 용기를 전자장치 내의 게터 격실 내에 배치하는 단계를 포함하는 단계와;상기 격실형 금속 게터 시스템을 함유하는 전자장치를 베이킹하는 단계를 포함하는 방법.
- 제 49항에 있어서, 상기 조립단계는 상기 다공성 용기를 전자장치의 중앙부의 게터 격실 내에 배치하는 단계를 포함하는 방법.
- 제 49항에 있어서, 상기 조립단계는 상기 다공성 용기를 전자장치의 바닥부의 게터 격실 내에 배치하는 단계를 포함하는 방법.
- 제 50항에 있어서, 상기 조립단계는 상기 시트를 전자장치의 내벽부와 인접한 게터 격실 내에 배치하는 단계를 포함하는 방법.
- 제 49항에 있어서, 상기 다공성 용기는 강성인 방법.
- 제 49항에 있어서, 상기 다공성 용기는 가요성인 방법.
- 제 54항 또는 제 55항에 있어서, 상기 용기는 밀폐된 다공성 실린더인 방법.
- 제 54항 또는 제 55항에 있어서, 상기 용기는 밀폐된 다공성 평행육면체인 방법.
- 제 54항 또는 제 55항에 있어서, 상기 용기는 메시 밀폐체인 방법.
- 제 49항에 있어서, 상기 격실형 금속 게터 시스템은 다공성 용기 내에 입자를 포함하는 방법.
- 제 49항에 있어서, 상기 격실형 금속 게터 시스템은 다공성 용기 내에 펠릿을 포함하는 방법.
- 제 50항에 있어서, 상기 격실형 금속 게터 시스템은 금속 게터를 구비하는 공압출 제품인 시트를 포함하는 방법.
- 제 50항에 있어서, 상기 격실형 금속 게터 시스템은 금속 게터를 구비하는 프레스 및 소결 시트를 포함하는 방법.
- 제 50항에 있어서, 상기 격실형 금속 게터 시스템은 금속 게터를 구비하는 메시인 시트를 포함하는 방법.
- 제 50항에 있어서, 상기 격실형 금속 게터 시스템은 약 1미크론 내지 약 100미크론 범위의 두께를 갖는 금속 게터의 포일을 포함하는 방법.
- 제 49항에 있어서, 상기 격실형 금속 게터 시스템은 직경이 약 10㎛ 내지 약 150㎛ 범위의 미리선택한 입자 크기를 갖고, 다공성 용기는 대체로 고체 복합 게터에서 가장 작은 입자의 직경만큼 큰 미리선택한 구멍을 갖는 방법.
- 제 49항 또는 제 50항에 있어서, 상기 전자장치는 전해 콘덴서이고, 상기 금속 게터의 표면은 팔라듐 화합물과 접촉되는 방법.
- 제 49항 또는 제 50항에 있어서, 상기 전자장치는 전기화학적 이중층 콘덴서이고, 상기 금속 게터의 표면은 팔라듐 화합물과 접촉하는 방법.
- 전자장치에서 오염물질을 제거하는 방법에 있어서,격실형 금속 게터 시스템을 전자장치 내에 배치하는 단계로, 상기 금속 게터 시스템은 다공성 용기 내에 금속 게터를 포함하는 단계와;상기 금속 게터가 전자장치 내의 오염물질을 흡수하는 여건을 조성하는 단계를 포함하는 방법.
- 전자장치에서 오염물질을 제거하는 방법에 있어서,격실형 금속 게터 시스템을 전자장치 내에 배치하는 단계로, 상기 금속 게터 시스템은 시트 형태의 금속 게터를 포함하는 단계와;상기 금속 게터가 전자장치 내의 오염물질을 흡수하는 여건을 조성하는 단계를 포함하는 방법.
- 제 68항에 있어서, 상기 배치 단계는 상기 다공성 용기를 전자장치의 중앙부의 게터 격실 내에 배치하는 단계를 포함하는 방법.
- 제 68항에 있어서, 상기 배치 단계는 상기 다공성 용기를 전자장치의 바닥부의 게터 격실 내에 배치하는 단계를 포함하는 방법.
- 제 69항에 있어서, 상기 배치단계는 상기 다공성 용기를 전자장치의 내벽부와 인접한 게터 격실 내에 배치하는 단계를 포함하는 방법.
- 제 68항에 있어서, 상기 다공성 용기는 강성인 방법.
- 제 68항에 있어서, 상기 다공성 용기는 가요성인 방법.
- 제 73항 또는 제 74항에 있어서, 상기 용기는 밀폐된 다공성 실린더인 방법.
- 제 73항 또는 제 74항에 있어서, 상기 용기는 밀폐된 다공성 평행육면체인 방법.
- 제 73항 또는 제 74항에 있어서, 상기 용기는 메시 밀폐체인 방법.
- 제 68항에 있어서, 상기 격실형 금속 게터 시스템은 다공성 용기 내에 입자를 포함하는 방법.
- 제 68항에 있어서, 상기 격실형 금속 게터 시스템은 다공성 용기 내에 펠릿을 포함하는 방법.
- 제 69항에 있어서, 상기 격실형 금속 게터 시스템은 금속 게터를 구비하는 공압출 제품인 시트를 포함하는 방법.
- 제 69항에 있어서, 상기 격실형 금속 게터 시스템은 금속 게터를 구비하는 프레스 및 소결 시트를 포함하는 방법.
- 제 69항에 있어서, 상기 격실형 금속 게터 시스템은 금속 게터를 구비하는 메시인 시트를 포함하는 방법.
- 제 69항에 있어서, 상기 격실형 금속 게터 시스템은 약 1미크론 내지 약 100미크론 범위의 두께를 갖는 금속 게터의 포일을 포함하는 방법.
- 제 68항에 있어서, 상기 격실형 금속 게터 시스템은 직경이 약 10㎛ 내지 약 150㎛ 범위의 미리선택한 입자 크기를 갖고, 다공성 용기는 대체로 고체 복합 게터에서 가장 작은 입자의 직경만큼 큰 미리선택한 구멍을 갖는 방법.
- 제 68항 또는 제 69항에 있어서, 상기 전자장치는 전해 콘덴서이고, 상기 금속 게터의 표면은 팔라듐 화합물과 접촉되는 방법.
- 제 68항 또는 제 69항에 있어서, 상기 전자장치는 전기화학적 이중층 콘덴서이고, 상기 금속 게터의 표면은 팔라듐 화합물과 접촉하는 방법.
- 제 68항 또는 제 69항에 있어서, 상기 조성단계는 전자장치를 동작시키는 단계를 포함하는 방법.
- 제 68항 또는 제 69항에 있어서, 상기 조성단계는 고체 복합 게터 시스템에 에너지를 공급하여 상기 고체 복합 게터를 활성화하는 단계를 포함하는 방법.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US84487906P | 2006-09-15 | 2006-09-15 | |
US60/844,879 | 2006-09-15 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20090053957A true KR20090053957A (ko) | 2009-05-28 |
KR101038240B1 KR101038240B1 (ko) | 2011-05-31 |
Family
ID=39184420
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020097007667A KR101038240B1 (ko) | 2006-09-15 | 2007-09-17 | 금속 게터 시스템 |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8363384B2 (ko) |
EP (1) | EP2080205B1 (ko) |
JP (2) | JP5628519B2 (ko) |
KR (1) | KR101038240B1 (ko) |
CN (1) | CN101523532B (ko) |
AU (1) | AU2007294684A1 (ko) |
BR (1) | BRPI0716836A2 (ko) |
CA (1) | CA2663111A1 (ko) |
IL (1) | IL197564A0 (ko) |
RU (1) | RU2009113558A (ko) |
WO (1) | WO2008033560A2 (ko) |
ZA (1) | ZA200901741B (ko) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ITMI20090917A1 (it) * | 2009-05-25 | 2010-11-26 | Getters Spa | Getter composito multistrato |
IT1402887B1 (it) | 2010-11-23 | 2013-09-27 | Getters Spa | Getter composito multistrato migliorato |
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CN103157429A (zh) * | 2013-03-22 | 2013-06-19 | 南京玖壹环境科技有限公司 | 高真空多层绝热用吸附剂活化的装置与方法 |
CN104745865B (zh) * | 2013-12-31 | 2017-02-15 | 北京有色金属研究总院 | 一种非蒸散型低温激活钛基吸气剂合金及其制备方法 |
WO2017027524A2 (en) * | 2015-08-09 | 2017-02-16 | Microsemi Corporation | High voltage relay systems and methods |
CN110767464B (zh) * | 2018-07-25 | 2022-07-08 | 东莞东阳光科研发有限公司 | 含有MOFs材料的超级电容器及其制备方法 |
CN110918045B (zh) * | 2019-12-10 | 2022-08-05 | 西华大学 | 一种常温吸气复合材料及其制品 |
CN111621671B (zh) * | 2020-06-18 | 2022-03-15 | 南京哲玺太电子科技有限公司 | 锆系非蒸散型吸气剂及其制备方法与应用 |
CN112820551A (zh) * | 2020-12-31 | 2021-05-18 | 烯晶碳能电子科技无锡有限公司 | 基于mh合金的氢气吸附电极及其应用 |
Family Cites Families (35)
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-
2007
- 2007-09-17 WO PCT/US2007/020172 patent/WO2008033560A2/en active Application Filing
- 2007-09-17 BR BRPI0716836-5A patent/BRPI0716836A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2007-09-17 ZA ZA200901741A patent/ZA200901741B/xx unknown
- 2007-09-17 CN CN2007800381590A patent/CN101523532B/zh active Active
- 2007-09-17 CA CA002663111A patent/CA2663111A1/en not_active Abandoned
- 2007-09-17 AU AU2007294684A patent/AU2007294684A1/en not_active Abandoned
- 2007-09-17 KR KR1020097007667A patent/KR101038240B1/ko active IP Right Grant
- 2007-09-17 JP JP2009528332A patent/JP5628519B2/ja active Active
- 2007-09-17 RU RU2009113558/07A patent/RU2009113558A/ru not_active Application Discontinuation
- 2007-09-17 EP EP07838389.0A patent/EP2080205B1/en active Active
-
2009
- 2009-03-12 IL IL197564A patent/IL197564A0/en unknown
- 2009-03-13 US US12/381,609 patent/US8363384B2/en active Active
-
2013
- 2013-11-20 JP JP2013239790A patent/JP2014060434A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2008033560A8 (en) | 2009-07-02 |
CA2663111A1 (en) | 2008-03-20 |
JP2010503992A (ja) | 2010-02-04 |
CN101523532A (zh) | 2009-09-02 |
EP2080205B1 (en) | 2017-07-05 |
US8363384B2 (en) | 2013-01-29 |
JP5628519B2 (ja) | 2014-11-19 |
EP2080205A4 (en) | 2015-04-22 |
ZA200901741B (en) | 2010-06-30 |
BRPI0716836A2 (pt) | 2013-11-05 |
AU2007294684A1 (en) | 2008-03-20 |
RU2009113558A (ru) | 2010-10-20 |
WO2008033560A3 (en) | 2008-07-24 |
US20090237861A1 (en) | 2009-09-24 |
IL197564A0 (en) | 2009-12-24 |
WO2008033560A2 (en) | 2008-03-20 |
AU2007294684A2 (en) | 2009-06-04 |
JP2014060434A (ja) | 2014-04-03 |
EP2080205A2 (en) | 2009-07-22 |
CN101523532B (zh) | 2012-06-27 |
KR101038240B1 (ko) | 2011-05-31 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
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