KR20080110677A - 고성능 나사산 성형 스크루 - Google Patents

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Abstract

나사산 성형 스크루(10)는 HRC 56의 최소 표면 경도를 갖는다. 스크루(10)는 HRC 23을 넘는 표면 경도를 갖는 공작물 내에 나사산을 성형할 수 있다. 스크루(10) 표면 경화법은 스크루(10)를 적어도 0.48 탄소 레벨까지 탄소 강화시키는 단계와, 이 후 스크루(10)를 담금질하는 단계를 포함한다. 이 후, 스크루(10)는 템퍼링 되어 표면 경도가 코어 경도를 3 로크웰 포인트 이상 넘지 않도록 하며, 표면 및 코어는 로크웰 C33 내지 C39 경도이다. 이어서, 끝점부(16)는 고주파 경화되고, 스크루는 다시 담금질 된다. 스크루(10)는 다시 템퍼링되어, 양호하게는 적어도 0.008 인치 깊이까지 리드 나사산(18) 및 첫 세개 내지 네개의 전산 나사(22, 24)는 로크웰 C56의 최소 경도이며, 체결구(10)의 코어는 로크웰 C33 내지 C39 경도이다. 마지막으로 마무리 공정이 적용된다.
나사산 성형 스크루, 표면 경화, 나사산 성형,

Description

고성능 나사산 성형 스크루 {HIGH PERFORMANCE THREAD FORMING SCREW}
본 발명은 전체적으로 나사산 성형 스크루(thread forming screw) 및 이를 제작하는 방법에 관한 것이며, 보다 구체적으로 나사산 성형 스크루와 같이 적어도 그 일 부분이 HRC 56(로크웰 경도 C 스케일)의 최소 표면 경도를 갖는 체결구에 관한 것이며, 이러한 나사산 성형 스크루의 제작방법에 관한 것이다.
일반적으로, 산업계는 나사산 성형 스크루가 로크웰 C23 이하의 경도를 갖는 공작물 내에 나사산을 냉간 성형(cold form)할 수 있기를 권장한다. 이와 같이, 현재의 나사산 성형 스크루는 이러한 공작물 내에서 나사산을 냉간 성형할 수 있을만큼 충분히 단단하다. 그러나, HRC 23을 넘는 경도를 갖는 공작물 내에 나사산을 성형할 수 있는 나사산 성형 스크루가 있는 것이 바람직한 몇몇 용도가 있다. 예컨대, 재료에 구멍을 뚫는 것과 같은 방법으로 고강도 저합금(High Strength Low Alloy; HSLA) 재료를 성형한 후에는, 구멍 영역 내부와 그 주변의 경도가 로크웰 C40 경도 이상일 수 있다.
종래의 나사산 성형 스크루는 로크웰 C23 경도를 넘는 공작물 내에 나사산을 냉간 성형할 만큼 충분히 단단하지 않다. 예컨대, 몇몇 상업적으로 이용 가능한 나사산 성형 스크루는 끝점부(point) 및 첫 세개 내지 네개의 전산 나사(full thread)가 로크웰 C45의 최소 경도이며, 체결구의 코어(core)는 로크웰 C33 내지 C39의 경도가 되도록 가공된다. 이러한 나사산 성형 스크루는 HRC 23을 넘는 재료내에서 연속적으로 나사산을 냉간 성형할 만큼 충분히 단단하지 않다. HRC 40 이상의 경도를 갖는 HSLA 재료(또는 다른 재료) 내부로 이러한 나사산 성형 스크루를 구동시킬 경우, 나사산 붕괴가 발생한다. 이러한 붕괴 또는 나사산의 변형은 결합 실패를 일으킨다. 강철(steel)과 같은 재료내에 나사산을 성형할 때에는, 붕괴 없이 나사산을 적절하게 성형하기 위하여 체결구가 나사산을 내게될 재료보다 큰 경도를 갖는 체결구가 있을 것이 요구된다.
종래의 나사산 성형 스크루는 HRC 23을 넘는 경도를 갖는 공작물 내에 나사산을 냉간 성형할 만큼 충분히 단단하지 않기 때문에 이러한 경우, 공작물 내에 나사식 조인트를 제공하거나(드릴 및 탭 작업이 요구됨), 용접 너트(weld nut), 루스 너트(loose nut), 용접 보스(weld boss), 나사식 삽입부(threaded insert)를 제공하거나, 유사한 형상을 제공하거나 유사한 정합 나사산 제공법을 사용하는 것과 같이 정합 나사산을 제공하는 것이 필요하다. 이러한 구조/방법은 추가적인 작업, 용구 및 시간을 필요로 하여, 더 많은 비용과 시간이 소요되는 작업으로 귀결된다.
이와 같이, HSLA 재료 또는 다른 재료와 같이 로크웰 C23을 넘는 경도를 갖는 공작물 내에 나사산을 성형할 수 있는 체결구에 대한 수요가 존재한다.
본 발명의 일 실시예의 목적은 적어도 그 일 부분이 충분히 높은 표면 경도를 갖는 나사산 성형 스크루를 제공하여, 이 나사산 성형 스크루가 HRC 23을 넘는 경도를 갖는 공작물 내에 나사산을 냉간 성형하는데 사용될 수 있도록 하는 것이다.
본 발명의 일 실시예의 또 다른 목적은 적어도 그 일 부분이 HRC 56의 최소 표면 경도를 갖는 나사산 성형 스크루를 제공하는 것이다.
본 발명의 일 실시예의 또 다른 목적은 스크루의 적어도 몇몇 나사산에 대하여 적어도 0.008 인치의 깊이까지 HRC 56의 최소 표면 경도를 갖는 나사산 성형 스크루를 제공하는 것이다.
간단히 말해서 그리고 앞선 목적의 적어도 하나에 따라, 본 발명의 일 실시예는 머리부 및 머리부로부터 연장되는 나사산 형성 섕크를 갖는 나사산 성형 스크루를 제공한다. 섕크의 나사산의 적어도 몇몇은 양호하게는 HRC 56의 최소 표면 경도로 표면 경화되어, 이 후 나사산 성형 스크루가 HRC 23을 넘는 표면 경도를 갖는 공작물 내에서 나사산을 냉간 성형하는 데 사용될 수 있도록 한다.
본 발명의 또 다른 태양은 이러한 나사산 성형 스크루의 제작방법을 제공한다. 이 방법은 열처리 공정을 수행하는 단계를 포함하여, 스크루는 적어도 0.48 탄소 레벨까지 탄소 강화되며 오일과 같은 곳에서 담금질된다. 이후, 스크루는 취성을 낮추고 더욱 연성의 코어를 허용하기 위하여 템퍼링된다. 양호하게는, 템퍼링(tempering)은 제어되어 표면 경도가 코어 경도를 3 로크웰 C 포인트 이상 넘지 않는다. 양호하게는, 템퍼링 이후, 체결구의 표면 및 코어는 로크웰 C33 내지 C39 경도이다. 이어서, 스크루의 리드 나사산 및 세개 내지 네개의 전산 나사와 같은 끝점부는 고주파 경화(induction hardened)되고, 스크루는 물 또는 합성 담금질(synthetic quench)과 같은 것으로 담금질된다. 이후 스크루는 더 낮은 취성에 이르도록 다시 템퍼링된다. 양호하게는, 본 템퍼링 단계는 제어되어, 예컨대 리드 나사산 및 첫 세개 내지 네개의 전산 나사는 양호하게는 적어도 0.008 인치의 깊이까지 로크웰 C56의 최소 경도를, 그리고 체결구의 코어는 로크웰 C33 내지 C39의 경도이다. 마지막으로, 양호하게는 체결구에 마무리 공정이 적용된다.
본 발명의 구조 및 작동의 편재 및 방식 및 이들의 목적 및 장점은, 첨부 도면과 함께 아래의 기재를 참조하여 가장 잘 이해될 수 있으며, 동일한 도면 부호는 동일한 구성요소를 나타낸다.
도1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표면 경화될 수 있는 스크루의 일 타입의 측면도이다.
도2는 도1에서 도시된 스크루의 부분 단면 개략도이다.
도3은 본 발명의 일 실시예에 따른 방법인 표면 경화된 나사 성형 스크루 제작법을 도시하는 흐름도이다.
본 발명의 다른 형태의 실시예에 대한 여지가 있을 수 있지만, 본원의 기재는 본 발명 원리의 실시예로 간주되며 본원에서 도시되고 기재된 것으로 본 발명을 한정하기 위함이 아니라는 이해를 바탕으로, 본원에서 자세히 기재될 도면과 이들의 실시예가 도시된다.
본 발명의 일 태양은 적어도 그 일 부분이 HRC 56의 표면 경도를 갖는 나사 산 성형 스크루와 같은 체결구에 관한 것이다. 또 다른 태양은 적어도 그 일 부분이 HRC 56의 표면 경도를 갖도록 나사산 성형 스크루와 같은 체결구의 표면 경화법에 관한 것이다. 본 방법은 스크루에 광범위하게 관련되어 사용될 수 있지만, 미국 특허 제3,935,785호는 본 발명의 실시예에 따른 방법이 사용될 수 있는 스크루를 개시하며, 이 '785 특허는 본 명세서에서 전체로서 참고문헌으로 인용된다.
'785 특허 및 본 출원의 도1에 도시된바와 같이, 스크루(10)은 머리부(12)와, 머리부(12)로부터 연장하는 나사산 형성 섕크(14)를 포함한다. 스크루(10)의 끝점부(16)까지 다소 테이퍼(taper)되는 복수의 리드 나사산(lead thread; 18)이 머리부(12)와 대향하는 스크루(10)의 단부(16) 부근에 있다. 리드 나사산(18)과 머리부(12) 사이에는 복수의 전산 나사(full thread; 20)가 있으며, 도면 부호 "22"는 첫 번째 전산 나사를 나타내며, 도면 부호 "24"는 네 번째 전산 나사를 나타낸다. 본 특정 스크루의 형상과 기능에 대한 자세한 내용은 '785에서 찾을 수 있다. 그러나, 본 발명의 양호하고 특유한 예시는 도2에서 도시된 바와 같이 제공되고, 스크루의 첫 세개 또는 네개의 전산 나사 뿐만 아니라 리드 나사산(18)도 적어도 0.008 인치의 깊이(즉, 도2에 표시된 치수(26))까지 적어도 HRC 56의 로크웰 경도로 표면 경화된다. 양호하게는, 스크루(10)의 코어는 로크웰 C33 내지 C39의 경도이므로 스크루(10)는 비교적 연성의 코어를 구비한다. 도2에서 도시된 바와 같이, 도면 부호 "28"로 표시된 부분은 최소 HRC 56(HRC 56 min.)에서 최소 고주파 경화 영역(minimum induction hardened area)을 구비하며, 반면에 도면 부호 "30"으로 표시된 부분은 최소 HRC 56에서 최대 고주파 경화 영역(maximum induction hardened area)을 구비한다. 도면 부호 "32"로 표시된 부분은 코어의 HRC의 3 포인트 이내의 표면 경도를 갖는, 경화되고 담금질되고 템퍼링(temper)된 영역이다.
도3은 본 발명의 일 실시예에 따른 방법을 도시하며, 본 방법은 도1 및 도2에서 도시된 것과 같은 나사산 성형 스크루(10)를 제작하는데 사용될 수 있다. 예컨대, 본 방법은 4037강(4037 steel) 또는 유사한 합금으로 만들어진 와이어가 제공되고, 이 와이어가 냉간 압조 장치(cold heading machine)에서 인발(draw)되는 것을 제공한다. 재료는, 0.35 내지 0.40 퍼센트의 탄소, 0.70 내지 0.90 퍼센트의 망간, 최대 0.040 퍼센트의 황, 최대 0.035 퍼센트의 인, 0.20 내지 0.35 퍼센트의 실리콘 및 0.20 내지 0.30 퍼센트의 몰리브덴의 조성과 킬드(killed), 미세 결정립, 구상화 풀림(spherodized annealed)강으로 통상 특정되는, AISI C4037 등급 분석의 합금강일 수 있다. 물론 다른 재료가 본 발명의 범주 내에서 사용될 수 있다. 냉간 압조가 완료되면, 스크루상에 나사산이 형성된다. 이러한 단계는 통상적이며 잘 알려져 있다.
스크루가 제작되면, 본 발명의 일 실시예에 따른 열처리 공정이 수행된다. 열처리 공정에서, 스크루는 제어된 공정을 사용하여 양질의 용광로 내에서 탄소 강화(carbon enrich)되어, 스크루는 적어도 0.48 탄소 레벨을 갖는다. 탄소 강화는 체결구의 표면을 기초 재료보다 단단해지도록 경화시킨다. 구체적으로, 용광로가 화씨 1600 내지 1700도인 동안, 스크루는 용광로에 90분동안 남겨질 수 있다. 용광로 대기(furnace atmosphere)는 양호하게는 0.6 내지 0.7 퍼센트 탄소 농도(carbon potential)로(질화처리 없이) 조절된다. 양호하게는, 탄소 복원 영 역(carbon restored zone)의 깊이(즉, 도2의 치수(26))는 적어도 0.008 인치이다. 양호하게는 템퍼링(코어 요건에 따라 선택된 온도에서) 후 표면 경도는 코어 경도를 3 로크웰 C(30 비커스) 포인트 상당 이상 넘지 않는다. 1 내지 2 로크웰 C(10 내지 20 비커스) 상당의 표면 경도 증가가 용광로 인자를 선택하는데 있어서의 목표이다. 미세경도 시험기가 용광로 인자 설정을 돕기위하여 탄소 복원 영역의 경도 및 깊이를 측정하기 위해 사용될 수 있다.
스크루가 탄소 강화된 후, 스크루는 예컨대 화씨 140 내지 160도의 오일(oil)에 담금질된다. 담금질 후, 스크루는 취성을 낮추고 더욱 연성의 체결구 코어를 허용하기 위하여 예컨대 화씨 850 내지 950도에서 90분동안 템퍼링 된다. 양호하게는, 이 단계는 표면 경도가 코어 경도를 3 로크웰 C 포인트 이상 넘지 않도록 제어된다. 이 때, 양호하게는 체결구의 표면 및 코어 모두는 로크웰 C33 내지 C39 경도이다.
이어서, 리드 나사산(18) 및 첫 세개 내지 네개의 전산 나사와 같은 스크루의 끝점부는 고주파 경화되며, 나사산을 경화 온도(대략 화씨 1650 내지 1750도)로 유도 가열(induction heat)하는 방식으로 체결구의 리드 나사산은 순간적으로 전기장의 영향 안으로 공급된다. 그 후, 스크루는 물 분사 또는 다시 말해(viz-a-viz) 합성 담금질과 같은 곳에서 즉시 담금질된다.
이어서, 스크루는 취성을 낮추기 위하여 예컨대 최소 1시간 동안 화씨 300도에서 템퍼링 된다. 이전의 탄소 강화 단계와 함께 이 템퍼링 단계는 양호하게 효과적으로 결합하여 양호하게는 적어도 0.008 인치의 깊이까지 리드 나사산 및 첫 세개 내지 네개의 전산 나사가 로크웰 C56의 최소 경도를, 그리고 체결구의 코어는 로크웰 C33 내지 C39의 경도인 것을 제공한다. 상이한 템퍼링 온도 및 지속 시간이 사용될 수 있지만, 양호하게는 온도는 끝점부가 로크웰 C56의 최소 경도를 유지하도록 충분히 낮다. 최종적으로, 양호하게는 체결구에 마무리 공정이 적용된다.
본 발명의 일 태양은 적어도 그 일 부분이 56 HRC의 최소 표면 경도를 갖는 체결구를 제공한다. 예컨대, 체결구는 리드 나사산 및 첫 세개 또는 네개의 전산 나사가 56 HRC의 최소 표면 경도를 갖는 미국 특허 제3,935,785호에서 도시된 것과 같은 나사산 성형 스크루일 수 있다. 이와 같이, 스크루는 HSLA 재료 또는 40 HRC 이상의 경도를 갖는 다른 재료와 같이 23 HRC를 넘는 경도를 갖는 공작물 내에 나사산을 냉간 성형하는데 사용될 수 있다.
본 발명의 또 다른 태양은 미국 특허 제3,935,785호에 도시된 나사산 성형 스크루와 같은 체결구의 적어도 일 부분의 표면 경화법을 제공하여 스크루의 적어도 일 부분은 56 HRC의 최소 표면 경도를 갖는다. 예컨대, 리드 나사산 및 첫 세개 또는 네개의 전산 나사는 56 HRC의 최소 표면 경도를 가지며, 스크루는 HSLA 재료 또는 40 HRC 이상의 경도를 갖는 다른 재료와 같이 23 HRC를 넘는 경도를 갖는 공작물 내에 나사산을 냉간 성형하는데 사용될 수 있다.
본 발명의 또다른 태양은 방법에 의한 생산물, 구체적으로는 위에서 기재된 공정을 사용하여 만들어진 체결구를 제공한다.
본 발명의 실시예가 도시되고 기재되었지만, 당업자가 본 기재 내용의 사상 및 범주를 벗어나지 않고 본 발명의 다양한 변경을 고안할 수 있음을 예상할 수 있 다. 예컨대, 표면 경도는 리드 나사산 및 첫 세개 또는 네개의 리드 나사산에 대하여 수행된다고 기재되었지만, 본 발명의 범주 내에 완전히 있는 동시에, 이보다 더 많이 또는 더 적은 나사산에 대하여 표면 경도가 구현될 수 있다. 또한, 앞서 말한 기재는 구체적으로 HSLA 재료로 논의하고 있지만, 본 발명은 HSLA 재료외의 다른 재료에 나사산을 성형하는데 사용될 수 있다.

Claims (19)

  1. HRC 23을 넘는 표면 경도를 갖는 공작물 내에 나사산을 냉간 성형하도록 구성된 나사산 성형 스크루이며,
    머리부와,
    상기 머리부로부터 연장되는 나사산 형성 섕크를 포함하고,
    상기 섕크의 적어도 일부 나사산은 HRC 56 이상의 표면 경도를 구비하여, HRC 23을 넘는 표면 경도를 갖는 상기 공작물 내에 나사산을 냉간 성형 하는데 상기 나사산 성형 스크루가 사용될 수 있도록 하는 것을 특징으로 하는 나사산 성형 스크루.
  2. 제1항에 있어서, 상기 나사산 형성 섕크가 상기 머리부에 대향하는 상기 스크루의 단부 부근에서 리드 나사산을 포함하는 것을 특징으로 하는 나사산 성형 스크루.
  3. 제2항에 있어서, 상기 리드 나사산은 상기 스크루의 상기 단부까지 테이퍼되는 것을 특징으로 하는 나사산 성형 스크루.
  4. 제2항에 있어서, 상기 리드 나사산과 상기 스크루의 머리부 사이에 배치되는, 상기 나사산 형성 섕크 상의 복수의 전산 나사(full thread)를 더 포함하는 것 을 특징으로 하는 나사산 성형 스크루.
  5. 제4항에 있어서, 상기 스크루의 상기 리드 나사산 및 세개 이상의 전산 나사는 0.008 인치 이상의 깊이까지 HRC 56 이상의 표면 경도를 갖는 것을 특징으로 하는 나사산 성형 스크루.
  6. 제5항에 있어서, 상기 스크루의 코어가 로크웰 C33 내지 C39 범위의 경도를 갖는 것을 특징으로 하는 나사산 성형 스크루.
  7. 제6항에 있어서, 상기 스크루의 상기 단부 부근에 있는 상기 스크루의 제1 부분은 최소 HRC 56(HRC 56 min.)에서 최소 고주파 경화 영역을 구비하고, 상기 스크루의 제2 부분은 최소 HRC 56에서 최대 고주파 경화 영역을 구비하는 것을 특징으로 하는 나사산 성형 스크루.
  8. 제7항에 있어서, 상기 스크루의 제3 부분은 상기 코어의 3 포인트 HRC 이내의 표면 경도를 갖는 것을 특징으로 하는 나사산 성형 스크루.
  9. HRC 23을 넘는 표면 경도를 갖는 공작물 내에 나사산을 냉간 성형하도록 구성된 나사산 성형 스크루의 제작방법이며,
    강철로 만들어진 와이어를 제공하는 단계와,
    상기 와이어를 냉간 압조 장치(cold heading machine)에서 인발하는 단계와,
    스크루를 제작하기 위하여 상기 와이어상에 나사산을 성형하는 단계와,
    상기 스크루를 탄소 강화하는 단계로써 상기 스크루상에 열처리 공정을 수행하는 단계와,
    상기 스크루의 리드 나사산 및 세개 이상의 전산 나사를 고주파 경화하는 단계를 포함하여,
    상기 나사산 성형 스크루가 머리부와 상기 머리부로부터 연장되는 나사산 형성 섕크를 구비하고, 상기 섕크의 적어도 일부 나사산이 HRC 56 이상의 표면 경도를 갖는 것을 특징으로 하는 나사산 성형 스크루의 제작방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 스크루를 탄소 강화하는 단계 이후 및 상기 스크루의 리드 나사산 및 세개 이상의 전산 나사를 고주파 경화하는 단계 이전에 상기 스크루를 담금질 및 템퍼링(tempering)하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 나사산 성형 스크루의 제작방법.
  11. 제9항에 있어서, 상기 스크루의 리드 나사산 및 세개 이상의 전산 나사를 고주파 경화하는 단계 이후에 상기 스크루를 담금질 및 템퍼링하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 나사산 성형 스크루의 제작방법.
  12. 제9항에 있어서, 상기 스크루를 탄소 강화하는 단계는, 용광로가 화씨 1600 내지 1700도이며, 상기 용광로 대기를 0.6 내지 0.7 퍼센트 탄소 농도(carbon potential)로 조절하면서 상기 스크루를 90분 동안 상기 용광로 내에 남겨두는 단계를 포함하며,
    상기 스크루의 탄소 복원 영역의 깊이는 0.008 인치 이상인 것을 특징으로 하는 나사산 성형 스크루의 제작방법.
  13. 제9항에 있어서, 상기 스크루를 탄소 강화하는 단계 이후 및 상기 스크루의 리드 나사산 및 세개 이상의 전산 나사를 고주파 경화하는 단계 이전에 상기 스크루를 담금질 및 템퍼링하는 단계를 더 포함하고,
    상기 스크루를 담금질하는 단계는 화씨 140 내지 160도의 오일에 상기 스크루를 담금질하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나사산 성형 스크루의 제작방법.
  14. 제9항에 있어서, 상기 스크루를 탄소 강화하는 단계 이후 및 상기 스크루의 리드 나사산 및 세개 이상의 전산 나사를 고주파 경화하는 단계 이전에 상기 스크루를 담금질 및 템퍼링하는 단계를 더 포함하고,
    상기 스크루를 템퍼링하는 단계는 화씨 850 내지 950도의 온도에서 상기 스크루를 90분동안 템퍼링 하는 단계를 포함하고,
    상기 스크루의 표면 경도는 3 로크웰 C 포인트 이상으로 상기 코어 경도를 넘지 않으며,
    상기 스크루의 표면 및 코어 모두가 로크웰 C33 내지 C39 경도인 나사산 성형 스크루의 제작방법.
  15. 제9항에 있어서, 상기 스크루의 리드 나사산 및 네개 이상의 전산 나사를 고주파 경화하는 단계는 상기 나사산을 화씨 1650 내지 1750도의 경화 온도로 유도 가열(induction heat)하는 방식으로 상기 스크루를 순간적으로 전기장의 영향 안으로 공급하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나사산 성형 스크루의 제작방법.
  16. 제9항에 있어서, 상기 스크루의 리드 나사산 및 세개 이상의 전산 나사를 고주파 경화하는 단계 이후 상기 스크루를 담금질 및 템퍼링하는 단계를 더 포함하며,
    상기 템퍼링 단계는 최소 1시간동안 화씨 300도에서 상기 스크루를 템퍼링 하는 단계를 포함하여, 상기 스크루의 취성을 낮추며,
    상기 템퍼링 단계 및 상기 탄소 강화 단계는 0.008 인치 이상의 깊이까지 상기 리드 나사산 및 상기 첫 세개 이상의 전산 나사가 최소 로크웰 C56 경도이고, 상기 체결구의 코어가 로크웰 C33 내지 C39 경도인 것을 제공하는 것을 특징으로 하는 나사산 성형 스크루의 제작방법.
  17. 제9항에 있어서, 상기 스크루의 리드 나사산 및 세개 이상의 전산 나사를 고주파 경화하는 단계 이후에 상기 스크루를 담금질 및 템퍼링하는 단계를 더 포함하 며,
    상기 템퍼링 단계 및 상기 탄소 강화 단계는 0.008 인치 이상의 깊이까지 상기 리드 나사산 및 상기 첫 세개 이상의 전산 나사가 로크웰 C56 최소 경도이고, 상기 체결구의 코어가 로크웰 C33 내지 C39 경도인 것을 제공하는 것을 특징으로 하는 나사산 성형 스크루의 제작방법.
  18. 제9항에 있어서, 상기 와이어가, 0.35 내지 0.40 퍼센트의 탄소, 0.70 내지 0.90 퍼센트의 망간, 최대 0.040 퍼센트의 황, 최대 0.035 퍼센트의 인, 0.20 내지 0.35 퍼센트의 실리콘 및 0.20 내지 0.30 퍼센트의 몰리브덴의 조성을 갖는 AISI C4037 등급 분석의 합금강을 포함하는 것을 제공하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 나사산 성형 스크루의 제작방법.
  19. 제9항에 있어서, 상기 스크루를 탄소 강화하는 단계는, 상기 스크루가 0.48 탄소 레벨 이상을 얻도록 상기 스크루를 탄소 강화하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나사산 성형 스크루의 제작방법.
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