KR20080100776A - 마스크 블랭크의 제조 방법 및 포토마스크의 제조 방법 - Google Patents

Abstract

일방향으로 연장된 레지스트액 공급구를 갖는 도포 노즐로부터 레지스트액을 토출시키면서, 상기 일방향에 교차하는 방향으로 상기 도포 노즐 및 기판의 피도포면을 상대적으로 주사시키고, 상기 피도포면에 상기 레지스트액을 도포하는 레지스트액 도포 공정을 갖는 레지스트막 부착 마스크 블랭크의 제조 방법이며, 기판의 피도포면과 상기 도포 노즐의 선단부를 근접시켜, 상기 피도포면에 상기 레지스트액을 접액시킬 때에, 상기 도포 노즐의 선단부와 상기 피도포면과의 간격을 상대적으로 작은 상태에서 접액을 개시시키고, 다음에 상기 도포 노즐의 선단부와 상기 피도포면과의 간격을 상대적으로 큰 상태로 넓혀 접액을 완료시키는 공정을 갖는다.

기판, 도포 노즐, 레지스트액, 피도포면, 액조

Description

마스크 블랭크의 제조 방법 및 포토마스크의 제조 방법 {METHOD OF MANUFACTURING A MASK BLANK AND METHOD OF MANUFACTURING A PHOTOMASK}

본 발명은 마스크 블랭크의 제조 방법 및 포토마스크의 제조 방법에 관한 것이다.

FPD(플랫 패널 디스플레이) 디바이스를 제조하기 위한 마스크 블랭크(FPD용 마스크 블랭크)에 있어서는, 차광성 막, 반투광성 막 등의 박막 상에 레지스트막이 형성된다. 이 레지스트막은, 상기 박막의 에칭시에 에칭 마스크로서 사용된다. 그러나, FPD용 마스크 블랭크에 있어서는, 레지스트막을 형성해야 할 상기 박막 표면의 면적이 크기 때문에, 예를 들어 LSI용 마스크 블랭크 등에 비해, 레지스트막의 도포 얼룩이나, 면내 막 두께 균일성의 악화가 발생하기 쉽다.

또한, FPD용 포토마스크 등에 있어서는, 최근에 있어서, 형성되는 패턴이 고정밀도화되고 있기 때문에, 대형의 기판의 전체면에 걸쳐 균일한 두께의 레지스트막을 형성할 수 있는 기술이 요구되고 있다.

이와 같은 실정에 감안하여, FPD용 마스크 블랭크 및 포토마스크의 제조 분야에 있어서, 예를 들어,「CAP 코터」라 통칭되는 도포 장치의 사용이 검토되고 있 다. 이「CAP 코터」에 있어서는, 액체 상태의 레지스트액을 저장된 액조(液槽)에 모세관 형상 간극을 갖는 도포 노즐을 가라앉게 해 두고, 한편, 피도포면을 하방을 향한 자세로 흡착반에 의해 기판을 보유 지지해 두고, 다음에, 도포 노즐을 레지스트액 중으로부터 상승시켜 이 도포 노즐의 상단부를 기판의 피도포면에 근접시킨다. 그러면, 액조에 저장된 액체 상태의 레지스트액이 도포 노즐에 있어서의 모세관 현상에 의해 상승되고, 이 레지스트액이 도포 노즐의 상단부를 통해 기판의 피도포면에 접액(接液)된다. 이와 같이 레지스트액이 피도포면에 접액한 상태에 있어서, 액조 및 도포 노즐을 소정의「도포 높이」의 위치[도포 갭(G)의 위치]까지 하강시킨다. 이 상태에서, 도포 노즐 및 피도포면을 피도포면의 전체면에 걸쳐 상대적으로 주사(走査)시킴으로써, 피도포면의 전체면에 걸쳐 레지스트액의 도포막이 형성된다.

그런데, 전술한 바와 같은「CAP 코터」라 통칭되는 도포 장치를 이용해도, 기판에 형성되는 패턴을 보다 고정밀도화하고자 하는 경우에 있어서는, 레지스트막의 두께의 균일성이 불충분하게 되는 경우가 있었다.

이에 대해, 본원 출원인은,「CAP 코터」라 통칭되는 도포 장치를 이용하여 기판에 레지스트액을 도포하는 경우, 도포를 실시할 때의 기판과 도포 노즐의 상단부와의 간격[이하 도포 갭(G)이라 함]이 클수록 도포막의 막 두께 분포가 작아지는 것을 해명하여, 선출원을 행하고 있다[일본 특허 공개 제2005-51220호 공보(특허 문헌 1)].

그런데, 상기와 같은 도포 장치를 이용하여 레지스트액의 도포를 행하는 경우에 대해, 도포의 실시에 앞서 행해지는 접액시의 기판과 도포 노즐의 상단부와의 간격[이하 접액 갭(g)이라 함]에 관해, 개선의 여지가 있는 것을 알았다.

상세하게는, 접액 갭(g)을 작게 한 경우(예를 들어 20 ㎛), 확실하게 접액이 행해지나, 접액 완료 후, 도포 갭(G)으로 넓혀 도포를 실시한 경우, 도포막의 도포 개시 영역에 예리한(짙은) 세로 얼룩이 발생하는 것을 알았다(도1 참조). 마찬가지로, 접액 갭(g)이 큰 경우(예를 들어, 180 ㎛ 정도), 도포막의 도포 개시 영역에 세로 얼룩이 발생하는 경우가 있는 것을 알았다(과제 1).

한편, 도포막의 도포 개시 영역에 세로 얼룩이 발생하지 않는 접액 갭(g)으로 한 경우(예를 들어 200 ㎛), 접액이 일어나지 않는 현상이 발생하고, 공정으로서 불안정한 것을 알았다(과제 2).

상기와 같이, 종래는, 접액 갭(g)의 최적화에서는 쌍방의 과제 1 및 과제 2를 동시 해결할 수 없었다.

본 발명은 상술한 실정을 감안하여 제안되는 것이며, 본 발명의 목적은,「CAP 코터」등의 슬릿 코터 장치를 이용하여 레지스트액의 도포를 행하는 경우에 대해 확실하게 접액을 개시시킬 수 있고, 또한, 접액 갭에 기인하여 발생하는 도포 얼룩의 발생을 방지할 수 있고, 따라서, 상기 과제 1 및 과제 2의 쌍방을 동시 해결할 수 있는 마스크 블랭크의 제조 방법 등을 제공하는 것에 있다.

본 발명자들은 상기 원인에 대해 예의 연구한 결과, 접액은, 도포 노즐에 있어서의 일방향으로 연장된 레지스트액 공급구(슬릿)가 임의의 부위(통상 1군데)에서 접액이 개시되고, 이 접액 부위로부터 일방향으로 연장된 레지스트액 공급구를 따라 접액이 진행해 가는(레지스트액 공급구를 따라 접액이 주행해 가도록 보이는 상태에서 접액이 진행해 가는)것에 의해, 접액이 완료된다(도2 참조). 이때, 접액 갭(g)을 지나치게 작게 하면, 접액의 주행 속도가 지나치게 커져, 기포 등을 말려들게 하면서 접액이 진행해 가고[즉, 기포의 말려듬(기포 포획)이 일어나고], 이 기포가 원인으로 도포막의 도포 개시 영역에 세로 얼룩이 발생하는 것을 해명했다.

그리고, 상기 견해를 기초로 하여 더 연구를 진행한 결과, 제1로, 접액 갭(g)을 작은 상태로 순간 유지하여 접액을 개시시키고, 즉시 기포 포획이 일어나지 않는 접액 속도가 되도록 접액 갭(g)을 넓혀 접액을 완료시킴으로써, 상기 과제 1 및 과제 2의 쌍방을 동시 해결할 수 있는 것을 발견했다.

또한, 제2로, 일방향으로 연장된 레지스트액 공급구(슬릿)를 따라 접액이 진행해 갈 때에 기포의 말려듬이 일어나지 않는 접액 속도가 되는 접액 갭으로 유지하면서, 접액 개시 보조 수단(도3 참조)에 의해 접액을 개시시킴으로써, 상기 과제 1 및 과제 2의 쌍방을 동시 해결할 수 있는 것을 발견했다.

즉, 본 발명은 이하의 구성을 갖는다.

(구성 1)

일방향으로 연장된 레지스트액 공급구를 갖는 도포 노즐로부터 레지스트액을 토출시키면서, 상기 일방향에 교차하는 방향으로 상기 도포 노즐 및 기판의 피도포면을 상대적으로 주사시키고, 상기 피도포면에 상기 레지스트액을 도포하는 레지스트액 도포 공정을 갖는 레지스트막 부착 마스크 블랭크의 제조 방법이며,

기판의 피도포면과 상기 도포 노즐의 선단부를 근접시켜, 상기 피도포면에 상기 레지스트액을 접액시킬 때에,

상기 도포 노즐의 선단부와 상기 피도포면과의 간격을 상대적으로 작은 상태에서 접액을 개시시키고, 다음에 상기 도포 노즐의 선단부와 상기 피도포면과의 간격을 상대적으로 큰 상태로 넓혀 접액을 완료시키는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크의 제조 방법.

(구성 2)

접액 완료 후, 상기 도포 노즐의 선단부와 상기 피도포면과의 간격을 상기 접액시의 상기 간격보다 넓은 간격으로 넓히고, 상기 피도포면에 상기 레지스트액을 도포하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 구성 1에 기재된 마스크 블랭크의 제조 방법.

(구성 3)

액조에 저장된 액체 상태의 레지스트액을 일방향으로 연장된 레지스트액 공급구를 갖는 도포 노즐의 상단부로부터 모세관 현상에 의해 토출시키고, 기판의 피도포면을 하방으로 향하게 하여 상기 도포 노즐의 상단부에 근접시키고, 상기 도포 노즐로부터 토출된 레지스트액을 상기 도포 노즐의 상단부를 통해 상기 피도포면에 접액시키고, 레지스트액이 기판의 피도포면에 접액된 상태에서, 액조 및 도포 노즐 을 소정의 도포 높이의 위치까지 하강시키고, 이 상태에서 상기 일방향에 교차하는 방향으로 상기 도포 노즐 및 상기 피도포면을 상대적으로 주사시키고, 상기 피도포면에 상기 레지스트액을 도포하는 레지스트액 도포 공정을 갖는 레지스트막 부착 마스크 블랭크의 제조 방법이며,

기판의 피도포면과 상기 도포 노즐의 상단부를 근접시켜, 상기 피도포면에 상기 레지스트액을 접액시킬 때에,

상기 도포 노즐의 상단부와 상기 피도포면과의 간격을 상대적으로 작은 상태에서 접액을 개시시키고, 다음에 상기 도포 노즐의 상단부와 상기 피도포면과의 간격을 상대적으로 큰 상태로 넓혀 접액을 완료시키는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크의 제조 방법.

(구성 4)

접액 완료 후, 상기 도포 노즐의 상단부와 상기 피도포면과의 간격을, 상기 접액시의 상기 간격보다 넓은 간격이며 접액한 레지스트액이 상기 피도포면으로부터 이액(籬液)하는 이액 간격보다도 작은 범위 내에 있어서, 이 이액 간격의 50 ％ 이상의 간격으로 하고, 상기 피도포면에 상기 레지스트액을 도포하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 구성 3에 기재된 마스크 블랭크의 제조 방법.

(구성 5)

일방향으로 연장된 레지스트액 공급구를 갖는 도포 노즐로부터 레지스트액을 토출시키면서, 상기 일방향에 교차하는 방향으로 상기 도포 노즐 및 기판의 피도포면을 상대적으로 주사시키고, 상기 피도포면에 상기 레지스트액을 도포하는 레지스 트액 도포 공정을 갖는 레지스트막 부착 마스크 블랭크의 제조 방법이며,

기판의 피도포면과 상기 도포 노즐의 선단부를 근접시켜, 상기 피도포면에 상기 레지스트액을 접액시킬 때에,

상기 도포 노즐의 선단부와 상기 피도포면과의 간격을, 일방향으로 연장된 레지스트액 공급구를 따라 접액이 진행해 갈 때에 기포의 말려듬이 일어나지 않는 접액 속도가 되는 간격으로 하고, 접액 개시 보조 수단에 의해 접액을 개시시켜, 접액을 완료시키는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크의 제조 방법.

(구성 6)

상기 기판은, 마스크 패턴을 형성하기 위한 박막이 형성된 박막 부착 기판인 것을 특징으로 하는 구성 1 내지 구성 5 중 어느 하나에 기재된 마스크 블랭크의 제조 방법.

(구성 7)

구성 1 내지 구성 6 중 어느 하나에 기재된 마스크 블랭크의 제조 방법에 의해 얻어진 마스크 블랭크를 이용하여 포토마스크를 제조하는 것을 특징으로 하는 포토마스크의 제조 방법.

본 발명에 따르면,「CAP 코터」등의 슬릿 코터 장치를 이용하여 레지스트액의 도포를 행하는 경우에 대해 확실하게 접액을 개시시킬 수 있고, 또한, 접액 갭에 기인하여 발생하는 도포 얼룩의 발생을 방지할 수 있고, 따라서, 상기 과제 1 및 과제 2의 쌍방을 동시 해결할 수 있는 마스크 블랭크의 제조 방법 등을 제공할 수 있다.

이하, 본 발명에 대해 상세하게 설명한다.

본 발명의 마스크 블랭크의 제조 방법은, 일방향으로 연장된 레지스트액 공급구를 갖는 도포 노즐로부터 레지스트액을 토출시키면서, 상기 일방향에 교차하는 방향으로 상기 도포 노즐 및 기판의 피도포면을 상대적으로 주사시키고, 상기 피도포면에 상기 레지스트액을 도포하는 레지스트액 도포 공정을 갖는 레지스트막 부착 마스크 블랭크의 제조 방법이며,

기판의 피도포면과 상기 도포 노즐의 선단부를 근접시켜, 상기 피도포면에 상기 레지스트액을 접액시킬 때에,

상기 도포 노즐의 선단부와 상기 피도포면과의 간격을 상대적으로 작은 상태에서 접액을 개시시키고, 다음에 상기 도포 노즐의 선단부와 상기 피도포면과의 간격을 상대적으로 큰 상태로 넓혀 접액을 완료시키는 공정을 갖는 것을 특징으로 한다(구성 1).

상기 구성 1에 관한 발명에 따르면, 기판의 피도포면과 상기 도포 노즐의 선단부를 근접시켜, 상기 피도포면에 상기 레지스트액을 접액시킬 때에, 상기 도포 노즐의 선단부와 상기 피도포면과의 간격을 상대적으로 작은 상태에서 접액을 개시시키고, 다음에 상기 도포 노즐의 선단부와 상기 피도포면과의 간격을 상대적으로 큰 상태로 넓혀 접액을 완료시키는 공정을 갖는 것에 의해, 확실하게 접액을 개시시킬 수 있고, 또한 접액 갭에 기인하여 발생하는 도포 얼룩의 발생을 방지할 수 있고, 따라서 상기 과제 1 및 과제 2의 쌍방을 동시 해결할 수 있는 마스크 블랭크의 제조 방법을 실현할 수 있다.

본 발명에 있어서, 상기 도포 노즐의 선단부와 상기 피도포면과의 간격을 상대적으로 작은 상태에서 접액을 개시시킬 때의 상기 간격[이하, 접액 개시시의 접액 갭(g)이라 함]은, 접액이 일어나지 않는 현상을 회피할 수 있는 간격이 바람직하다.

또한, 접액 개시시의 접액 갭(g)은, 접액이 순간(예를 들어, 1초 이내, 바람직하게는 0.5초 이내, 더 바람직하게는 0.3초 이내, 더 바람직하게는 0.1초 이내)에 개시되는 간격이 바람직하다. 이것에 대해, 접액 개시시의 접액 갭(g)이, 접액이 수초 이내 중에서 랜덤하게 개시(예를 들어 접액이 8초에서 개시되거나 10초에서 개시)되는 간격인 것은 바람직하지 않다.

본 발명에 있어서는, 접액 개시시의 접액 갭(g)은, 상대적으로 작은 상태에서 순간 유지(예를 들어, 1초간, 바람직하게는 0.5초간, 더 바람직하게는 0.3초간, 더 바람직하게는 0.1초간 유지)하여 접액을 개시시키는 것이 바람직하다. 순간 유지에 의해, 이 사이 일정 간격을 유지함으로써 접액을 안정적이고 또한 확실하게 개시시키기 위해서이다.

본 발명에 있어서, 상기 도포 노즐의 선단부와 상기 피도포면과의 간격을 상대적으로 큰 상태로 넓혀 접액을 완료시킬 때의, 상기 간격[이하, 접액 완료시까지의 접액 갭(g')이라 함]은, 접액 개시 후, 일방향으로 연장된 레지스트액 공급구를 따라 접액이 진행해 갈 때에 기포의 말려듬(기포 포획)이 일어나지 않는 접액의 주 행 속도가 되는 간격으로 하는 것이 바람직하다.

본 발명에 있어서는, 접액 개시 후, 즉시, 기포 포획이 일어나지 않는 접액의 주행 속도가 되는 간격까지 접액 갭을 넓히고[즉 접액 완료시까지의 접액 갭(g')이라 하고], 이 넓힌 일정한 간격(g')을 유지하여 접액을 완료시키는 것이 바람직하다. 이것은, 접액 개시시의 접액 갭(g)의 상태인 시간이 길면, 접액의 주행 속도가 크고 기포 포획이 일어나는 부위가 발생해 버리기 때문이다. 또한, 접액 개시 후, 서서히 상기 간격(g')을 넓혀 가면, 접액의 주행 속도가 변동되어, 얼룩의 발생이 원인으로 되는 경우가 있기 때문이다.

본 발명에 있어서는, 접액 개시 후, 가능한 한 짧은 시간 내(예를 들어, 0.1초 이내, 바람직하게는 0.05초 이내, 더 바람직하게는 0.03초 이내)에, 기포 포획이 일어나지 않는 접액의 주행 속도가 되는 간격까지 접액 갭을 넓혀, 접액 완료시까지의 접액 갭(g')으로 하는 것이 바람직하다.

또한, 본 발명에 있어서, 접액 완료라 함은, 도포 노즐에 있어서의 일방향으로 연장된 레지스트액 공급구(슬릿)의 일단부로부터 타단부까지의 전체에 걸쳐, 상기 피도포면과의 사이에서 접액이 이루어지는 것을 말한다(도2 참조).

또한, 본 발명에 있어서, 도포 노즐 및 기판의 피도포면을 상대적으로 주사시키는 형태로서는, 도포 노즐을 고정한 상태에서 기판을 주사(이동)시키는 형태나, 기판을 고정한 상태에서 도포 노즐을 주사(이동)시키는 형태가 포함된다.

본 발명에 있어서, 기포 포획이 일어나지 않는 접액의 주행 속도는, 90 ㎜/초 미만이 바람직하고, 60 ㎜/초 미만이 더욱 바람직하다.

본 발명에 있어서, 기포 포획이 일어나지 않는 접액의 주행 속도가 되는 도포 노즐의 선단부와 피도포면과의 간격은, 레지스트액의 점도에 의해 변하므로 일률적으로 말할 수 없으나, 대략 180 ㎛ 이상이 바람직하고, 250 ㎛ 이상이 더욱 바람직하다.

본 발명에 있어서, 접액은, 도포 노즐에 있어서의 일방향으로 연장된 레지스트액 공급구(슬릿)의 일단부에서 접액이 개시되고, 상기 일단부로부터 타단부 방향으로, 일방향을 향해 접액이 이루어지는(일방향을 향해 접액을 주행시키는) 것이 바람직하다(도2 참조). 접액을 안정시키기 위해서이다.

또한, 도포 노즐에 있어서의 일방향으로 연장된 레지스트액 공급구(슬릿)의 복수 부위(예를 들어 양단부)에서 접액이 개시되는 경우에 있어서는, 서로 다른 일방향으로 주행하는 접액끼리가 충돌하고, 이 충돌 부위가 얼룩지거나 한다. 또한, 도포 노즐에 있어서의 일방향으로 연장된 레지스트액 공급구(슬릿)의 중앙 부분에서 접액이 개시되는 경우에 있어서는, 접액의 주행 방향이 좌우 분산되는 것이 원인으로, 얼룩의 원인이 되거나 한다.

본 발명에 있어서, 도포 노즐에 있어서의 일방향으로 연장된 레지스트액 공급구(슬릿)의 일단부에서 접액을 개시시키는 수단ㆍ방법으로서는, 이하의 것을 들 수 있다.

(1) 레지스트액 공급구(슬릿)의 일단 부분과, 이것과 대향하는 피도포면과의 사이에, 접액 개시를 보조하는 작용ㆍ기능을 갖는 접액 개시 보조 수단을 개재시키는 방법(도3 참조). 또한, 접액 개시 보조 수단은, 도3에 도시하는 바와 같이, 레 지스트액 공급구와 피도포면과의 사이에 있어서의 적어도 일부에 개재시키면 좋다. 접액 개시 보조 수단은 기판 및/또는 도포 노즐(레지스트액 공급구)의 일부에 접촉하여 설치할 수 있다. 접액 개시 보조 수단은, 상기 도포 노즐의 선단부와 상기 피도포면과의 사이에 존재하는 공간에 있어서, 삽입 분리 가능하거나 또는 착탈 가능하게 설치할 수 있고, 상기 공간에 대해 3차원 방향으로 위치 조정 가능하게 설치할 수 있다.

(2) 레지스트액 공급구(슬릿)의 일단 부분과, 이것과 대향하는 피도포면과의 사이의 간격을 다른 부위에 대해 좁게 하는 방법. 예를 들어, 레지스트액 공급구(슬릿)의 일단 부분 및/또는 이것과 대향하는 피도포면을 다른 부위에 대해 돌출시킨다.

본 발명에 있어서는, 접액 완료 후, 상기 도포 노즐의 선단부와 상기 피도포면과의 간격을 상기 접액시의 상기 간격[접액 갭(g, g')]보다 넓은 간격[도포 갭(G)]으로 넓히고, 상기 피도포면에 상기 레지스트액을 도포하는 공정을 포함하는 것이 바람직하다(구성 2).

도포막의 막 두께 분포를 작게 하여, 충분한 면내 막 두께 균일성을 얻기 위해서이다.

본 발명은, 일방향으로 연장된 레지스트액 공급구를 갖는 도포 노즐로부터 레지스트액을 토출시키면서, 상기 일방향에 교차하는 방향으로 상기 도포 노즐 및 기판의 피도포면을 상대적으로 주사시키고, 상기 피도포면에 상기 레지스트액을 도포하는 슬릿 코터라 통칭되는 도포 장치를 이용하는 경우에 적용할 수 있다. 슬릿 코터에 있어서의, 도포 노즐과 기판의 위치 관계는 특별히 제한되지 않고, 바닥면에 대해 수평으로 유지된 기판의 상방에 도포 노즐이 설치된 형태나, 도포 노즐과 기판의 쌍방이 바닥면에 대해 수직으로 유지된 형태 등이 포함된다.

본 발명은「CAP 코터」라 통칭되는 도포 장치를 이용하는 경우에 적절하게 적용할 수 있다(구성 3). 이것은, 모세관 현상에 의해 상승시킨 레지스트액의 접액은, 다른 형태의 장치에 비해 어렵기 때문이다.

본 발명에 있어서는, 접액 완료 후, 상기 도포 노즐의 상단부와 상기 피도포면과의 간격을, 상기 접액시의 상기 간격보다 넓은 간격이며 접액한 레지스트액이 상기 피도포면으로부터 이액하는 이액 간격보다도 작은 범위 내에 있어서, 이 이액 간격의 50 ％ 이상의 간격으로 하고, 상기 피도포면에 상기 레지스트액을 도포하는 공정을 갖는 것이 바람직하다(구성 4).

특허 문헌 1에 기재한 바와 같이, 막 두께 분포가 작고 막 두께의 균일성이 높은 도포막을 얻기 위해서는, 도포 갭(G)을 크게 하면 된다.

그러나, 도포 갭(G)을 크게 해 가면, 이 도포 갭(G)이 임의의 일정한 간격이 된 부분에서, 피도포면(10a)에 일단 접액한 레지스트액(21)이 피도포면(10a)으로부터 이격(이액)해 버린다(도4 참조). 이와 같이, 일단 접액한 레지스트액(21)이 피도포면(10a)으로부터 이액하는 간격을 이액 간격(G')이라 하는 것으로 하면, 도포 갭(G)은 이액 간격(G')보다도 작아야만 한다.

따라서, 도포 갭(G)을, 이액 간격(G')보다도 작은 범위 내에 있어서, 가능한 한 크게 하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 도포 갭(G)은, 이액 간격(G')의 적 어도 50 ％ 이상으로 하고, 또한, 이액 간격(G') 미만인 간격으로 제어되는 것이 바람직하다.

또한, 도포 갭(G)은 이액 간격(G')의 70 ％ 내지 95 ％로 하는 것이 더욱 바람직하다. 도포 갭(G)을 이액 간격(G')의 70 ％ 이상으로 함으로써, 막 두께 분포가 매우 양호하게 억제된다. 도포 갭(G)을 이액 간격(G')의 80 ％ 이상으로 하면, 막 두께 분포는, 보다 양호하게 억제되므로 바람직하다.

단, 도포 갭(G)을 이액 간격(G')의 95 ％보다 크게 하면, 기판의 크기 등의 여러 조건에 따라서는, 레지스트액을 도포하고 있는 중에, 단편적인 액 제거, 즉, 레지스트액의 피도포면으로부터의 이액이 발생할 가능성이 있다. 이와 같은 액 제거를 확실하게 방지하는 관점으로부터는, 도포 갭(G)을 이액 간격(G')의 90 ％ 이하로 하는 것이 바람직하다.

본 발명의 마스크 블랭크의 제조 방법은, 일방향으로 연장된 레지스트액 공급구를 갖는 도포 노즐로부터 레지스트액을 토출시키면서, 상기 일방향에 교차하는 방향으로 상기 도포 노즐 및 기판의 피도포면을 상대적으로 주사시키고, 상기 피도포면에 상기 레지스트액을 도포하는 레지스트액 도포 공정을 갖는 레지스트막 부착 마스크 블랭크의 제조 방법이며,

기판의 피도포면과 상기 도포 노즐의 선단부를 근접시켜, 상기 피도포면에 상기 레지스트액을 접액시킬 때에,

상기 도포 노즐의 선단부와 상기 피도포면과의 간격을, 일방향으로 연장된 레지스트액 공급구를 따라 접액이 진행해 갈 때에 기포의 말려듬이 일어나지 않는 접액 속도가 되는 간격으로 하고, 접액 개시 보조 수단에 의해 접액을 개시시켜, 접액을 완료시키는 공정을 갖는 것을 특징으로 한다(구성 5).

상기 구성 5에 관한 발명에 따르면, 일방향으로 연장된 레지스트액 공급구(슬릿)를 따라 접액이 진행해 갈 때에 기포의 말려듬이 일어나지 않는 접액 속도가 되는 접액 갭으로 유지하면서, 접액 개시 보조 수단에 의해 접액을 개시시킴으로써 확실하게 접액을 개시시킬 수 있고, 또한, 접액 갭에 기인하여 발생하는 도포 얼룩의 발생을 방지할 수 있고, 따라서, 상기 과제 1 및 과제 2의 쌍방을 동시 해결할 수 있는 마스크 블랭크의 제조 방법을 실현할 수 있다.

본 발명에 있어서, 일방향으로 연장된 레지스트액 공급구를 따라 접액이 진행해 갈 때에 기포의 말려듬이 일어나지 않는 접액 속도가 되는, 도포 노즐의 선단부와 피도포면과의 간격은, 상술한 슬릿 코터라 통칭되는 도포 장치의 형태나 레지스트액의 점도에 따라 변하므로 일률적으로 말할 수 없으나, 대략 180 ㎛ 이상이 바람직하고, 250 ㎛ 이상이 더욱 바람직하다.

본 발명에 있어서, 접액 개시 보조 수단으로서는, 상술한, 레지스트액 공급구(슬릿)의 일단 부분과, 이것과 대향하는 피도포면과의 사이에, 접액 개시를 보조하는 작용ㆍ기능을 갖는 접액 개시 보조 수단을 개재시키는 방법(도3 참조)을 들 수 있다. 또한, 접액 개시 보조 수단은, 도3에 도시하는 바와 같이, 레지스트액 공급구와 피도포면과의 사이에 있어서의 적어도 일부에 개재시키면 된다. 접액 개시 보조 수단은 기판 및/또는 도포 노즐(레지스트액 공급구)의 일부에 접촉하여 설치할 수 있다. 접액 개시 보조 수단은, 상기 도포 노즐의 선단부와 상기 피도포면 과의 사이에 존재하는 공간에 있어서, 삽입 분리 가능하거나 또는 착탈 가능하게 설치할 수 있고, 상기 공간에 대해 3차원 방향으로 위치 조정 가능하게 설치할 수 있다.

본 발명에 있어서는, 상기 접액 개시 보조 수단 대신에, 레지스트액 공급구(슬릿)의 일단 부분과, 이것과 대향하는 피도포면과의 사이의 간격을 다른 부위에 대해 좁게 하는 방법을 채용할 수 있다. 예를 들어, 레지스트액 공급구(슬릿)의 일단 부분 및/또는 이것과 대향하는 피도포면을 다른 부위에 대해 돌출시키는 방법을 채용할 수 있다.

본 발명의 포토마스크의 제조 방법은, 상기 본 발명에 관한 마스크 블랭크의 제조 방법에 의해 얻어진 마스크 블랭크를 이용하여 포토마스크를 제조하는 것을 특징으로 한다(구성 7).

본 발명의 마스크 블랭크는, 기판 상에 성막된 마스크 패턴을 형성하기 위한 박막과, 이 박막의 상방에 성막된 레지스트막을 구비하는 마스크 블랭크가 포함된다.

본 발명에 있어서, 마스크 블랭크에는, 포토마스크 블랭크, 위상 시프트 마스크 블랭크, 반사형 마스크 블랭크, 임프린트용 전사 플레이트 기판도 포함된다. 또한, 마스크 블랭크에는, 레지스트막 부착 마스크 블랭크가 포함된다. 위상 시프트 마스크 블랭크에는, 하프톤 막과, 차광성 막을 갖는 경우를 포함한다. 또한, 이 경우, 마스크 패턴을 형성하기 위한 박막은, 하프톤 막이나 차광성 막을 가리킨다. 또한, 반사형 마스크 블랭크의 경우는, 다층 반사막 상, 또는 다층 반사막 상 에 설치된 버퍼층 상에, 전사 패턴으로 되는 탄탈계 재료나 크롬계 재료의 흡수체막이 형성되는 구성, 임프린트용 전사 플레이트의 경우에는, 전사 플레이트로 되는 기재 상에 크롬계 재료 등의 전사 패턴 형성용 박막이 형성되는 구성을 포함한다. 마스크에는, 포토마스크, 위상 시프트 마스크, 반사형 마스크, 임프린트용 전사 플레이트가 포함된다. 마스크에는 레티클이 포함된다.

본 발명에 있어서, 마스크 패턴을 형성하기 위한 박막으로서는, 노광광 등을 차단하는 차광막, 노광광 등의 투과량을 조정ㆍ제어하는 반투광성막, 노광광 등의 반사율을 조정ㆍ제어하는 반사율 제어막(반사 방지막을 포함함), 노광광 등에 대한 위상을 변화시키는 위상 시프트막, 차광 기능과 위상 시프트 기능을 갖는 하프톤 막 등이 포함된다.

본 발명의 마스크 블랭크에 있어서, 상기 마스크 패턴을 형성하기 위한 박막으로서는, 금속막을 들 수 있다. 금속막으로서는, 크롬, 탄탈, 몰리브덴, 티탄, 하프늄, 텅스텐이나, 이들 원소를 포함하는 합금, 또는 상기 원소나 상기 합금을 포함하는 재료로 이루어지는 막을 들 수 있다.

또한, 본 발명의 마스크 블랭크에 있어서, 상기 마스크 패턴을 형성하기 위한 박막으로서는, 규소를 포함하는 규소 함유막을 들 수 있다. 규소 함유막으로서는, 규소막이나, 규소와 크롬, 탄탈, 몰리브덴, 티탄, 하프늄, 텅스텐의 금속을 포함하는 금속 실리사이드막, 또한, 규소막이나 금속 실리사이드막에, 산소, 질소, 탄소 중 적어도 하나를 포함하는 막으로 할 수 있다.

본 발명에 있어서, FPD용 마스크 블랭크 및 마스크로서는, LCD(액정 디스플 레이), 플라즈마 디스플레이, 유기 EL(일렉트로루미네센스) 디스플레이 등의 FPD 디바이스를 제조하기 위한 마스크 블랭크 및 마스크를 들 수 있다.

LCD용 마스크에는, LCD의 제조에 필요한 모든 마스크가 포함되고, 예를 들어, TFT(박막 트랜지스터), 특히 TFT 채널부나 콘택트홀부, 저온 폴리실리콘 TFT, 컬러 필터, 반사판(블랙 매트릭스) 등을 형성하기 위한 마스크가 포함된다. 다른 표시 디바이스 제조용 마스크에는, 유기 EL(일렉트로루미네센스) 디스플레이, 플라즈마 디스플레이 등의 제조에 필요한 모든 마스크가 포함된다.

(발명의 실시 형태)

이하, 본 발명의 실시 형태를 도면을 참조하면서 설명한다.

도4는「CAP 코터」라 통칭되는 도포 장치를 이용하여 기판에 레지스트액을 도포를 행하고 있는 상태를 도시하는 단면도이다.

「CAP 코터」장치에서는, 도1에 도시하는 바와 같이, 우선, 기판(10)에 있어서의 레지스트액의 도포 개시 부위와, 도포 수단의 도포 노즐(22)의 상단부와의 위치 맞춤을 행한다. 기판(10)에 있어서의 레지스트액의 도포 개시 부위는, 이 기판(10)의 일측 모서리부이다.

상기한 상태에 있어서, 제어부는, 도5에 도시한 바와 같이, 소정의 액면 위치까지 레지스트액(21)이 저장되어 있는 액조(20)와, 이 레지스트액(21) 중에 완전히 가라앉는 상태의 도포 노즐(22)을 모두 상승시켜, 기판(10)의 피도포면(10a)에 하방측으로부터 접근시킨다.

또한, 이「CAP 코터」장치는 액조 및 도포 노즐의 높이 위치를 조정하는 제 어부를 갖고 있다.

또한, 도포 노즐(22)은 지지 레버(28)에 지지되어, 액조(20) 내에 수납되어 있다. 이 도포 노즐(22) 및 액조(20)는, 기판(10)의 횡방향[도4 중에 있어서 지면(地面)에 직교하는 방향]의 한 변의 길이에 상당하는 길이를 갖고 구성되고, 이 길이 방향을 따라, 슬릿 형상의 모세관 형상 간극(23)을 갖고 있다. 이 도포 노즐(22)은, 이 모세관 형상 간극(23)을 사이에 끼우고, 상단측의 폭이 좁게 이루어져 부리와 같이 뾰족한 단면 형상을 갖고 구성되어 있다. 모세관 형상 간극(23)의 상단부는, 도포 노즐(22)의 상단부에 있어서, 이 도포 노즐(22)의 대략 전체 길이에 걸치는 슬릿 형상으로 개구되어 있다. 또한, 이 모세관 형상 간극(23)은, 도포 노즐(22)의 하방측을 향해서도 개구되어 있다(도4, 도5 참조).

다음에, 제어부는, 액조(20)의 상승을 정지시켜, 도4에 도시하는 바와 같이, 도포 노즐(22)의 상단부측을 이 액조(20) 내의 레지스트액(21)의 액면으로부터 상방측으로 돌출시킨다. 이때, 도포 노즐(22)은, 레지스트액(21) 중에 완전히 가라앉아 있었던 상태로부터, 이 레지스트액(21)의 액면의 상방측으로 돌출되므로, 모세관 형상 간극(23) 내에 레지스트액(21)이 가득 채워진 상태로 되어 있다.

또한, 제어부는 도포 노즐(22)을 상승시키고, 이 도포 노즐(22)의 상단부의 레지스트액(21)을 기판(10)의 피도포면(10a)에 접액시킨다(도4 참조).

본 발명에서는, 이 접액시, 상기 도포 노즐의 선단부와 상기 피도포면과의 간격을 상대적으로 작은 상태에서 접액을 개시시키고, 다음에 상기 도포 노즐의 선단부와 상기 피도포면과의 간격을 상대적으로 큰 상태로 넓혀 접액을 완료시킨다 (도2 참조).

구체적으로는, 예를 들어, 접액 갭(g)을 작은 상태에서 순간 유지하여 접액을 개시시키고, 즉시 기포 포획이 일어나지 않는 접액 속도가 되도록 접액 갭(g)을 넓혀 접액을 완료시킨다.

다음에, 제어부는, 도포 노즐(22)의 상단부에 있어서 레지스트액(21)이 기판(10)의 피도포면(10a)에 접액된 상태에서, 액조(20) 및 도포 노즐(22)을 소정의「도포 높이」의 위치까지 하강시켜, 도포를 실시할 때의 도포 노즐의 선단부와 피도포면과의 간격[도포 갭(G)]에 설정한다(도4 참조).

여기서, 도포 갭(G)은, 일단 접액한 레지스트액(21)이 피도포면(10a)으로부터 이액하는 이액 간격(G')보다도 작은 범위에서, 가능한 한 크게 이루어진다. 즉, 도포 갭(G)은 이액 간격(G')의 적어도 50 ％ 이상으로 이루어지고, 바람직하게는, 이액 간격(G')의 70 ％ 내지 95 ％로 이루어진다.

상기한 상태에 있어서, 제어부는, 기판(10)을 도포 노즐(22)의 상단부에 있어서 모세관 형상 간극(23)이 형성하는 슬릿에 직교하는 방향(도4 중 화살표 V로 나타내는 방향)으로 이동시키고, 도1에 도시하는 바와 같이, 도포 노즐(22)의 상단부를 피도포면(10a)의 전체면에 걸쳐 주사시켜, 이 피도포면(10a)의 전체면에 걸쳐 레지스트액(21)의 도포막(21a)을 형성한다.

또한, 기판(10)과 도포 노즐(22)의 상대 주사 속도는, 미리 설정되어 있는 노즐 간격, 레지스트액(21)의 점도, 액면 높이 및 도포 갭(G)을 전제로 하여, 도포막(21a)이 원하는 막 두께로 되도록 제어부에 의해 제어된다.

이하, 실시예를 기초로 하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.

(제1 실시예)

상술한 발명의 실시 형태에서 기재한 방법에 의해, 마스크 블랭크의 박막 상에 레지스트를 도포하여, 레지스트막 부착 마스크 블랭크를 형성했다.

그때, 도포의 조건은, 도6에 나타내는 조건으로 했다. 상세하게는, 도6에 나타내는 바와 같이, 도포 노즐의 선단부와 피도포면과의 간격을, 접액 개시시의 접액 갭 : 50 ㎛ 또는 120 ㎛에서 0.1초 유지하여 접액을 개시시키고, 즉시 기포 포획이 일어나지 않는 접액 속도가 되도록 접액 갭을 180 ㎛로 넓혀 접액을 완료시켰다. 이때의 접액의 주행 속도는 어떠한 경우도 약 90 ㎜/초였다. 그 후, 상기 간격을, 이액 간격의 50 ％ 이상 90 ％ 이하인 도포 갭 간격으로 넓히고, 그 후, 도포를 실시했다.

또한, 마스크 블랭크로서는, 대형 유리 기판[합성 석영(QZ) 10 ㎜ 두께, 사이즈 850 ㎜ × 1200 ㎜] 상에, 마스크 패턴을 형성하기 위한 박막을 갖는 기판을 사용했다.

상기에서 얻어진 레지스트막 부착 마스크 블랭크에 대해, 도포된 레지스트막을 검사한 결과, 도1에 도시하는 바와 같은 세로 얼룩은 보이지 않았다.

또한, 상기에서 얻어진 레지스트막 부착 마스크 블랭크를 이용하여 포토마스크를 제작하고, 또한 이 포토마스크를 이용하여 FPD를 제작했으나, 포토마스크 및 FPD의 쌍방에 대해 레지스트막의 세로 얼룩에 기인한다고 사료되는 이상(異常)은 보이지 않았다.

(제2 실시예)

상술한 발명의 실시 형태에서 기재한 방법에 의해, 마스크 블랭크의 박막 상에 레지스트를 도포하여, 레지스트막 부착 마스크 블랭크를 형성했다.

그때, 도포의 조건은, 도7에 나타내는 조건으로 했다. 상세하게는, 도7에 나타내는 바와 같이, 도포 노즐의 선단부와 피도포면과의 간격을, 접액 개시시의 접액 갭 : 50 ㎛ 또는 120 ㎛에서 0.1초 유지하여 접액을 개시시키고, 즉시 기포 포획이 일어나지 않는 접액 속도가 되도록 접액 갭을 270 ㎛로 넓혀 접액을 완료시켰다. 이때의 접액의 주행 속도는 어떠한 경우도 약 50 ㎜/초였다. 그 후, 상기 간격을, 이액 간격의 50 ％ 이상 90 ％ 이하인 도포 갭 간격으로 넓히고, 그 후, 도포를 실시했다.

또한, 마스크 블랭크로서는, 대형 유리 기판[합성 석영(QZ) 10 ㎜ 두께, 사이즈 850 ㎜ × 1200 ㎜] 상에, 마스크 패턴을 형성하기 위한 박막을 갖는 기판을 사용했다.

상기에서 얻어진 레지스트막 부착 마스크 블랭크에 대해, 도포된 레지스트막을 검사한 결과, 도1에 도시하는 바와 같은 세로 얼룩은 보이지 않았다.

또한, 상기에서 얻어진 레지스트막 부착 마스크 블랭크를 이용하여 포토마스크를 제작하고, 또한 이 포토마스크를 이용하여 FPD를 제작했으나, 포토마스크 및 FPD의 쌍방에 대해 레지스트막의 세로 얼룩에 기인한다고 사료되는 이상은 보이지 않았다.

(제1 비교예)

상술한 발명의 실시 형태에서 기재한 방법의 일부를 실시함으로써, 마스크 블랭크의 박막 상에 레지스트를 도포하여, 레지스트막 부착 마스크 블랭크를 형성했다.

그때, 도포의 조건은, 도8에 나타내는 조건으로 했다. 상세하게는, 도8에 나타내는 바와 같이, 도포 노즐의 선단부와 피도포면과의 간격을 20 ㎛로 하여 접액을 완료시켰다. 이때의 접액의 주행 속도는 500 ㎜/초를 상회하는 속도였다. 그 후, 상기 간격을, 이액 간격의 50 ％ 이상 90 ％ 이하인 도포 갭 간격으로 넓히고, 그 후, 도포를 실시했다.

또한, 마스크 블랭크로서는, 대형 유리 기판[합성 석영(QZ) 10 ㎜ 두께, 사이즈 850 ㎜ × 1200 ㎜) 상에, 마스크 패턴을 형성하기 위한 박막을 갖는 기판을 사용했다.

상기에서 얻어진 레지스트막 부착 마스크 블랭크에 대해, 도포된 레지스트막을 검사한 결과, 도1에 도시하는 바와 같은 세로 얼룩이 인정되고, 그 세로 얼룩은 예리하고, 짙은 것이었다.

(제2 비교예)

상술한 발명의 실시 형태에서 기재한 방법의 일부를 실시함으로써, 마스크 블랭크의 박막 상에 레지스트를 도포하여, 레지스트막 부착 마스크 블랭크를 형성했다.

그때, 도포의 조건은, 도9에 나타내는 조건으로 했다. 상세하게는, 도9에 나타내는 바와 같이, 도포 노즐의 선단부와 피도포면과의 간격을 200 ㎛로 하여 접 액을 완료시켰다. 이때의 접액의 주행 속도는 약 80 ㎜/초였다. 그 후, 상기 간격을, 이액 간격의 50 ％ 이상 90 ％ 이하인 도포 갭 간격으로 넓히고, 그 후, 도포를 실시했다.

또한, 마스크 블랭크로서는, 대형 유리 기판[합성 석영(QZ) 10 ㎜ 두께, 사이즈 850 ㎜ × 1200 ㎜] 상에, 마스크 패턴을 형성하기 위한 박막을 갖는 기판을 사용했다.

상기에서 얻어진 레지스트막 부착 마스크 블랭크에 대해, 도포된 레지스트막을 검사한 결과, 도1에 도시하는 바와 같은 세로 얼룩은 보이지 않았다. 그러나, 상기 레지스트의 도포 공정에 있어서, 접액이 일어나지 않는 현상이 빈번히 발생했다.

또한, 본 발명은 전술한 실시예에만 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위 내에서 다양한 변경 실시가 가능한 것은 말할 것도 없다.

도1은 접액 갭에 기인하는 세로 얼룩을 설명하기 위한 평면도.

도2는 본 발명에 있어서의 접액 공정의 일 형태를 설명하기 위한 모식적 정면도.

도3은 본 발명에 있어서의 접액 공정의 다른 형태를 설명하기 위한 모식적 정면도.

도4는 본 발명의 일 형태에 관한 도포 장치에 있어서의 도포 수단이 도포를 행하고 있는 상태를 도시하는 단면도.

도5는 상기 도포 장치에 있어서의 도포 수단의 주요부의 구성을 도시하는 단면도.

도6은 본 발명의 제1 실시예에 있어서의 접액 개시로부터 도포 개시에 이르기까지를 상세히 설명하기 위한 도면.

도7은 본 발명의 제2 실시예에 있어서의 접액 개시로부터 도포 개시에 이르기까지를 상세히 설명하기 위한 도면.

도8은 본 발명의 제1 비교예에 있어서의 접액 개시로부터 도포 개시에 이르기까지를 상세히 설명하기 위한 도면.

도9는 본 발명의 제2 비교예에 있어서의 접액 개시로부터 도포 개시에 이르기까지를 상세히 설명하기 위한 도면.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>

10 : 기판

10a : 피도포면

20 : 액조

21 : 레지스트액

21a : 도포막

22 : 도포 노즐

23 : 모세관 형상 간극

g : 접액 갭

g' : 접액 완료시까지의 접액 갭

G : 도포 갭

G' : 이액 간격

Claims (11)

1. 일방향으로 연장된 레지스트액 공급구를 갖는 도포 노즐로부터 레지스트액을 토출시키면서, 상기 일방향에 교차하는 방향으로 상기 도포 노즐 및 기판의 피도포면을 상대적으로 주사시키고,

   상기 피도포면에 상기 레지스트액을 도포하는 레지스트액 도포 공정을 갖는 레지스트막 부착 마스크 블랭크의 제조 방법이며,

   기판의 피도포면과 상기 도포 노즐의 선단부를 근접시켜, 상기 피도포면에 상기 레지스트액을 접액(接液)시킬 때에,

   상기 도포 노즐의 선단부와 상기 피도포면과의 간격을 상대적으로 작은 상태에서 접액을 개시시키고, 다음에 상기 도포 노즐의 선단부와 상기 피도포면과의 간격을 상대적으로 큰 상태로 넓혀 접액을 완료시키는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크의 제조 방법.
2. 제1항에 있어서, 접액 완료 후, 상기 도포 노즐의 선단부와 상기 피도포면과의 간격을 상기 접액시의 상기 간격보다 넓은 간격으로 넓히고, 상기 피도포면에 상기 레지스트액을 도포하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크의 제조 방법.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 기판은, 마스크 패턴을 형성하기 위한 박 막이 형성된 박막 부착 기판인 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크의 제조 방법.
4. 제1항 또는 제2항에 기재된 마스크 블랭크의 제조 방법에 의해 얻어진 마스크 블랭크를 이용하여 포토마스크를 제조하는 것을 특징으로 하는 포토마스크의 제조 방법.
5. 액조에 저장된 액체 상태의 레지스트액을 일방향으로 연장된 레지스트액 공급구를 갖는 도포 노즐의 상단부로부터 모세관 현상에 의해 토출시키고, 기판의 피도포면을 하방으로 향하게 하여 상기 도포 노즐의 상단부에 근접시키고, 상기 도포 노즐에 의해 토출된 레지스트액을 상기 도포 노즐의 상단부를 통해 상기 피도포면에 접액시키고, 레지스트액이 기판의 피도포면에 접액된 상태에서, 액조 및 도포 노즐을 소정의 도포 높이의 위치까지 하강시키고, 이 상태에서 상기 일방향에 교차하는 방향으로 상기 도포 노즐 및 상기 피도포면을 상대적으로 주사시키고, 상기 피도포면에 상기 레지스트액을 도포하는 레지스트액 도포 공정을 갖는 레지스트막 부착 마스크 블랭크의 제조 방법이며,

   기판의 피도포면과 상기 도포 노즐의 상단부를 근접시켜, 상기 피도포면에 상기 레지스트액을 접액시킬 때에,

   상기 도포 노즐의 상단부와 상기 피도포면과의 간격을 상대적으로 작은 상태에서 접액을 개시시키고, 다음에 상기 도포 노즐의 상단부와 상기 피도포면과의 간격을 상대적으로 큰 상태로 넓혀 접액을 완료시키는 공정을 갖는 것을 특징으로 하 는 마스크 블랭크의 제조 방법.
6. 제5항에 있어서, 접액 완료 후, 상기 도포 노즐의 상단부와 상기 피도포면과의 간격을, 상기 접액시의 상기 간격보다 넓은 간격이며 접액한 레지스트액이 상기 피도포면으로부터 이액(離液)하는 이액 간격보다도 작은 범위 내에 있어서, 이 이액 간격의 50 ％ 이상의 간격으로 하고, 상기 피도포면에 상기 레지스트액을 도포하는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크의 제조 방법.
7. 제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 기판은, 마스크 패턴을 형성하기 위한 박막이 형성된 박막 부착 기판인 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크의 제조 방법.
8. 제5항 또는 제6항에 기재된 마스크 블랭크의 제조 방법에 의해 얻어진 마스크 블랭크를 이용하여 포토마스크를 제조하는 것을 특징으로 하는 포토마스크의 제조 방법.
9. 일방향으로 연장된 레지스트액 공급구를 갖는 도포 노즐로부터 레지스트액을 토출시키면서, 상기 일방향에 교차하는 방향으로 상기 도포 노즐 및 기판의 피도포면을 상대적으로 주사시키고, 상기 피도포면에 상기 레지스트액을 도포하는 레지스트액 도포 공정을 갖는 레지스트막 부착 마스크 블랭크의 제조 방법이며,

   기판의 피도포면과 상기 도포 노즐의 선단부를 근접시켜, 상기 피도포면에 상기 레지스트액을 접액시킬 때에,

   상기 도포 노즐의 선단부와 상기 피도포면과의 간격을, 일방향으로 연장된 레지스트액 공급구를 따라 접액이 진행해 갈 때에 기포의 말려듬이 일어나지 않는 접액 속도가 되는 간격으로 하고, 접액 개시 보조 수단에 의해 접액을 개시시켜, 접액을 완료시키는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크의 제조 방법.
10. 제9항에 있어서, 상기 기판은, 마스크 패턴을 형성하기 위한 박막이 형성된 박막 부착 기판인 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크의 제조 방법.
11. 제9항에 기재된 마스크 블랭크의 제조 방법에 의해 얻어진 마스크 블랭크를 이용하여 포토마스크를 제조하는 것을 특징으로 하는 포토마스크의 제조 방법.

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