KR20080097862A - 지지간격 조절장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 지지간격 조절장치에 관한 것으로서, 제 1 회전기어와, 상기 제 1 회전기어와 연동되며, 본 제 1 회전기어를 사이에 두고 대면하도록 배치된 한쌍의 제 1, 제 2 랙과, 상기 한쌍의 제 1, 제 2 랙과 각각 결합된 한쌍의 제 1, 제 2 고정부재와, 상기 제 1 회전기어를 구동하기 위한 구동수단을 포함한다.
본 발명에 의해, 단순한 구성에 의해 지지간격을 변화시킬 수 있으며, 지지간격을 보다 정밀하고도 정확하게 조절가능할 뿐만 아니라, 반도체 웨이퍼의 제조분야 뿐만 아니라 LCD 패널의 제조 등의 분야에 널리 이용가능한 지지간격 조절장치를 제공할 수 있다.
지지간격, 조절, 웨이퍼

Description

지지간격 조절장치{SUPPORTING INTERVAL ADJUSTION DEVICE}
도 1 은 본 발명에 따른 지지간격 조절장치의 전면을 도시하는 사시도이며,
도 2 는 본 발명에 따른 지지간격 조절장치의 후면을 도시하는 사시도이며,
도 3 은 제 1 회전기어와 이에 연동되는 제 1, 제 2 랙 및 제 1, 제 2 고정부재를 도시하는 사시도이며,
도 4 는 제 2 회전기어와 이에 여동되는 제 3, 제 4 랙 및 제 3, 제 4 고정부재를 도시하는 사시도이며,
도 5 는 안착부재를 도시하는 분해사시도이며,
도 6 은 본 발명에 따른 지지간격 조절장치에 상기 안착부재가 설치되어 웨이퍼를 지지한 상태를 도시하는 사시도이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
10: 제 1 회전기어 12: 제 1 랙
13: 제 1 고정부재 14: 제 2 랙
15: 제 2 고정부재 20: 구동수단
30: 제 2 회전기어 32: 제 3 랙
33: 제 3 고정부재 34: 제 4 랙
35: 제 4 고정부재 40: 제 5 고정부재
본 발명은 반도체 웨이퍼 등의 판재를 지지하는 지지간격을 조절할 수 있는 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 단순한 구성을 가지면서도 지지간격을 정확하고 정밀하게 조절가능한 지지간격 조절장치에 관한 것이다.
최근 컴퓨터와 같은 정보 매체의 급속한 보급에 따라 반도체 소자 역시 비약적으로 발전하고 있다.
이러한 반도체 소자의 고집적화가 급속히 진행되고 있는 오늘날의 실정에 비추어, 그 제조 장치가 담당하는 역할은 한층 더 중요시되고 있다.
상기 반도체 소자의 제조장치는, 이러한 시대의 흐름과 더불어 나날이 변화되는 공정 상의 요구를 보다 정확히 반영할 수 있도록 개선되어 왔다.
반도체 소자를 제조하기 위해서는 이러한 제조를 위해 실시되는 각 공정 상의 작업들이 청정한 상태에서 정밀하게 수행되어야 할 뿐만 아니라, 상기 소자들을 각 공정간에 정확히 이동시켜야 하는 이송장치 역시 제조 작업에 있어 중요한 요소이다.
이러한 이송장치는 반도체 소자의 제조 기술뿐만 아니라, LCD(Liquid Crystal Display) 제조기술 및 각종 정밀 기계 제조 분야 등에 있어서도 널리 요구되고 있다.
통상적으로, 웨이퍼는 캐리어의 일종인 카세트(Cassette) 또는 FOUP(Front Opening Unified Pod) 등의 저장용기 내부에 로트(Lot) 단위로 담겨서 보트로 이동되므로, 웨이퍼의 이송을 위한 이송장치가 필수적으로 요구된다.
이러한 웨이퍼의 이송을 위한 웨이퍼 이송장치는 통상 1 매 내지 5 매의 웨이퍼를 동시에 지지하여 이송시키게 된다.
그런데, 상기 웨이퍼 저장용기 내의 저장 공간은 필요에 따라 소정의 간격으로 구획되며, 웨이퍼는 상기 소정 간격으로 구획된 저장 공간 내에 적재 배치되므로, 상기 이송장치의 웨이퍼 지지 간격은 상기 저장공간 내의 간격에 부합되도록 조절되어야 한다.
그러나, 종래 이러한 웨이퍼 이송장치 내에 포함되는 지지간격 조절장치는 그 기구적인 복잡성으로 인해 제작 및 유지 보수가 어렵고, 또한 부피가 커서 소형화가 어려울 뿐만 아니라 제작 비용의 증가가 수반되는 문제점이 있었다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 단순한 구성에 의해 지지간격을 변화시킬 수 있는 지지간격 조절장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은, 지지간격을 보다 정밀하고도 정확하게 조절가능한 지지간격 조절장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은, 컴팩트한 구성을 가지면서도 반도체 웨이퍼의 제조분야 뿐만 아니라 LCD 패널의 제조 등의 분야에 널리 이용가능한 지지간격 조절장치를 제공하는 것이다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위해 본 발명에 따른 지지간격 조절장치는, 제 1 회전기어와, 본 제 1 회전기어와 연동되며 본 제 1 회전기어를 사이에 두고 대면하도록 배치된 한쌍의 제 1, 제 2 랙과, 본 한쌍의 제 1, 제 2 랙과 각각 결합된 한쌍의 제 1, 제 2 고정부재와, 상기 제 1 회전기어를 구동하기 위한 구동수단을 포함한다.
여기서, 상기 지지간격 조절장치는 상기 제 1 회전기어 후방에 배치되는 제 2 회전기어와, 본 제 2 회전기어와 연동되며 상기 제 2 회전기어를 사이에 두고 대면하도록 배치된 한쌍의 제 3, 제 4 랙 및 본 제 3, 제 4 랙과 각각 결합되는 한쌍의 제 3, 제 4 고정부재를 추가적으로 포함하며, 상기 제 1, 제 2 고정부재와 상기 제 3, 제 4 고정부재는 서로 크로스 배치될 수 있다.
바람직하게는, 상기 제 1 회전기어와 상기 제 2 회전기어는 동일한 모듈과 피치의 기어치를 포함한다.
또는, 상기 제 1 회전기어와 상기 제 2 회전기어는 서로 다른 모듈과 피치의 기어치를 포함할 수도 있다.
이 경우, 바람직하게는 상기 제 2 회전기어는 상기 제 1 회전기어 기어치의 모듈과 피치에 대해 1.5 배 이상 2 배 이하의 모듈과 피치를 가지는 기어치를 포함한다.
한편, 상기 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 고정부재의 중심에는 상기 제 1, 제 2 회전기어와 연동되지 않은 제 5 고정부재가 추가적으로 배치될 수 있다.
바람직하게는, 상기 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 고정부재의 위치를 감지하기 위한 위치감지센서를 추가적으로 포함할 수 있다.
또한, 상기 제 1, 제 2, 제 3, 제 4, 제 5 고정부재에는 반도체 웨이퍼를 안착시키기 위한 제 1, 제 2, 제 3, 제 4, 제 5 안착부재들이 각각 설치될 수 있다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명에 따른 지지간격 조절장치를 상세히 설명하고자 한다.
도 1 은 본 발명에 따른 지지간격 조절장치의 전면을 도시하는 사시도이며, 도 2 는 본 발명에 따른 지지간격 조절장치의 후면을 도시하는 사시도이며, 도 3 은 제 1 회전기어와 이에 연동되는 제 1, 제 2 랙 및 제 1, 제 2 고정부재를 도시하는 사시도이며, 도 4 는 제 2 회전기어와 이에 여동되는 제 3, 제 4 랙 및 제 3, 제 4 고정부재를 도시하는 사시도이다.
도 1 내지 4 를 참조하면, 본 발명에 따른 지지간격 조절장치는 제 1 회전기어(10)와, 상기 제 1 회전기어(10)와 연동되며 본 제 1 회전기어(10)를 사이에 두고 대면하도록 배치된 한쌍의 제 1 랙(12), 제 2 랙(14)과, 본 한쌍의 제 1 랙(12), 제 2 랙(14)과 각각 결합된 한쌍의 제 1 고정부재(13), 제 2 고정부재(15)와, 상기 제 1 회전기어(10)를 구동하기 위한 구동수단(20)을 포함한다.
여기서, 상기 지지간격 조절장치는 제 2 회전기어(30)와, 본 제 2 회전기어(30)와 연동되며 상기 제 2 회전기어(30)를 사이에 두고 대면하도록 배치된 한쌍의 제 3 랙(32), 제 4 랙(34) 및 본 제 3 랙(32), 제 4 랙(34)과 각각 결합되는 한 쌍의 제 3 고정부재(33), 제 4 고정부재(35)를 추가적으로 포함하며, 상기 제 1 고정부재(13), 제 2 고정부재(15), 제 3 고정부재(33), 제 4 고정부재(35)는 서로 크로스 배치된다.
상기 제 1 회전기어(10)는 본 발명에 따른 지지간격 조절장치내의 중심부에 배치되며, 본 제 1 회전기어(10)를 중심으로 하여 제 1 랙(12)과 제 2 랙(14)이 서로 대향 배치된다.
상기 제 1 회전기어(10)는 예를 들어 서보 모터(Servo Motor)와 본 서보 모터로부터의 동력을 전달하기 위한 타이밍 벨트 등으로 구성된 상기 구동수단(20)으로부터의 동력에 의해 회전된다.
상기 구동수단(20)에 의해 회전된 상기 제 1 회전기어(10)의 회전에 의해, 이에 연동된 상기 제 1 랙(12) 및 제 2 랙(14)은 서로 반대 방향으로 이동된다.
즉, 상기 제 1 회전기어(10)가 시계방향으로 회전될 경우, 상기 제 1 랙(12)은 상방으로 이동되고, 상기 제 2 랙(14)은 하방으로 이동되며, 상기 제 1 회전기어(10)가 반시계방향으로 회전될 경우에는 상기 제 1 랙(12)이 하방으로 이동되고, 상기 제 2 랙(14)은 상방으로 이동된다.
그리하여, 상기 제 1 회전기어(10)의 시계방향 또는 반시계방향으로의 회전에 의해 상기 제 1 랙(12)에 결합된 제 1 고정부재(13)와 제 2 랙(14)에 결합된 제 2 고정부재(15) 사이의 간격을 조절할 수 있다.
한편, 상기 제 1 회전기어(10)의 후방에는 제 2 회전기어(30)가 배치되며, 상기 제 2 회전기어(30)를 중심으로 하여 제 3 랙(32)과 제 4 랙(34)이 서로 대향 배치된다.
상기 제 2 회전기어(30) 역시 상기 구동수단(20)으로부터의 동력에 의해 회전되는데, 비록 본 상세한 설명에서 상기 제 2 회전기어(30)는 상기 제 1 회전기어(10)와 동일한 구동수단(20)에 의해 구동되는 것으로 설명되지만, 별개의 구동수단(미도시)에 의해 구동될 수도 있음은 물론이다.
상기 구동수단(20)에 의해 회전된 상기 제 2 회전기어(30)의 회전에 의해, 이에 연동된 상기 제 3 랙(32) 및 제 4 랙(34)은 서로 반대 방향으로 이동된다.
즉, 상기 제 2 회전기어(30)가 시계방향으로 회전될 경우, 상기 제 3 랙(32)은 상방으로 이동되고, 상기 제 4 랙(34)은 하방으로 이동되며, 상기 제 2 회전기어(30)가 반시계방향으로 회전될 경우에는 상기 제 3 랙(32)이 하방으로 이동되고, 상기 제 4 랙(14)은 상방으로 이동된다.
그리하여, 상기 제 2 회전기어(30)의 시계방향 또는 반시계방향으로의 회전에 의해 상기 제 3 랙(32)에 결합된 제 3 고정부재(33)와 제 4 랙(34)에 결합된 제 4 고정부재(35) 사이의 간격을 조절할 수 있다.
상기와 같이 상기 제 1 회전기어(10) 후방에 제 2 회전기어(30)가 배치되고, 상기 제 1 회전기어(10)에 연동되는 제 1 고정부재(12)와 제 2 고정부재(14) 및 제 2 회전기어(30)에 연동되는 제 3 고정부재(33)와 제 4 고정부재(35)가 서로 일정한 높이 차이를 가지면서 크로스 배치됨으로써, 보다 좁은 공간 내에 네 개의 고정부재를 배치하면서도 상기 네 개 고정부재 간의 간격을 조정할 수 있는 지지간격 조절장치의 구현이 가능해진다.
여기서, 상기 제 1 회전기어(10)와 제 2 회전기어(30)는 서로 동일한 모듈과 피치를 가지는 기어치를 포함하도록 구성될 수 있다.
만약, 상기 제 1 회전기어(10)와 제 2 회전기어(30)가 동일한 모듈과 피치의 기어치를 포함할 경우, 상기 두 회전기어의 소정 각도 회전에 의해 이동되는 상기 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 랙(12, 14, 32, 34) 및 이에 결합된 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 고정부재(13, 15, 33, 35)들은 동일하게 된다.
또는, 상기 제 1 회전기어(10)와 제 2 회전기어(30)는 서로 다른 모듈과 피치를 가지는 기어치를 포함하도록 구성될 수 있다.
이 경우에는, 상기 제 2 회전기어(30)는 상기 제 1 회전기어(10)의 모듈과 피치에 대해 1.5 배 이상 3 배 이하의 모듈과 피치를 가지도록 구성되는 것이 바람직한데 그 이유는 다음과 같다.
즉, 상기 제 3 고정부재(33)는 상기 제 2 고정부재(15) 보다 낮은 위치에 배치되며, 상기 제 4 고정부재(35)는 상기 제 1 고정부재(13)보다 높은 위치에 크로스 배치된다.
상기 제 1 고정부재(13)와 제 2 고정부재(15)는 상기 제 1 회전기어(10)의 중심으로부터 동일한 거리만큼 가까워지거나 멀어지는데, 상기 제 1 회전기어(10)의 중심 높이로부터 상기 제 1 고정부재(13)까지의 거리와 동일하거나 유사한 거리를 상기 제 1 고정부재(13)와 상기 제 4 고정부재(35) 사이에 유지하도록 하기 위해서는, 상기 제 2 회전기어(30)의 모듈과 피치가 상기 제 1 회전기어(10)의 모듈과 피치보다 커야하기 때문이다.
이 경우, 상기와 같이 제 1 회전기어(10)의 중심 높이를 기준으로 상기 제 1 고정부재(13)와 제 2 고정부재(15)까지의 거리와 상기 제 1 고정부재(13) 또는 제 2 고정부재(15)로부터 제 4 고정부재(35) 또는 제 3 고정부재(33)까지의 거리를 동일 또는 유사하게 유지하기 위해서는 상기 제 2 회전기어(30)의 모듈과 피치가 상기 제 1 회전기어(10)의 모듈과 피치에 대해 1.5 내지 3 배의 범위로 구성되는 것이 바람직하다.
한편, 상기 제 1 고정부재(13)와 제 2 고정부재(15) 사이의 중심 위치, 즉 대략 상기 제 1 회전기어(10)의 중심 높이에는 상기 제 1, 제 2 회전기어(10, 30)와 연동되지 않은 제 5 고정부재(40)가 추가적으로 배치된다.
상기 제 5 고정부재(40)는 상기 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 고정부재(13, 15, 33, 35)들의 중심에 고정 배치되어, 상기 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 고정부재(13, 15, 33, 35)들과 함께 총 5 개의 고정부재를 형성하게 된다.
또한, 본 발명에 따른 지지간격 조절장치는 상기 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 고정부재(13, 15, 33, 35)들의 위치를 감지하기 위한 위치감지센서(50)를 추가적으로 포함한다.
상기 위치감지센서(50)는 상기 고정부재들(13, 15, 33, 35)이 소정의 위치에 배치되었는지 여부를 감지하기 위한 것으로서, 예를 들면 발광소자와 수광소자를 포함하는 포토센서로 구성될 수 있으나, 이러한 센서의 종류는 제한적이지 않다.
도 5 는 상기 고정부재들(13, 15, 33, 35, 40)에 각각 설치되는 안착부재(70)를 도시하는 분해사시도이며, 도 6 은 본 발명에 따른 지지간격 조절장치에 상기 안착부재가 설치되어 웨이퍼를 지지한 상태를 도시하는 사시도이다.
도 5 및 6 을 참조하면, 상기 안착부재(70)는 상기 고정부재들(13, 15, 33, 35)에 각각 결합되는 지지부재(72)와 웨이퍼 거치를 위한 거치부재(76), 그리고 본 거치부재(76)를 상기 지지부재(72)에 결합하기 위한 결합부재(74)를 포함한다.
상기 지지부재(72)의 일측은 상기 고정부재에 결합되며, 본 지지부재(72)의 타측에는 상기 거치부재(76) 및 결합부재(74)가 결합된다.
여기서, 상기 거치부재(76)는 상기 지지부재(72)에 결합된 상태에서 수직 방향으로 일렬로 정렬되어야 하는데, 상기 네 개의 고정부재들(13, 15, 33, 35)이 서로 크로스배치된 상태이므로, 상기 네 개의 고정부재들(13, 15, 33, 35)에 결합되는 상기 지지부재(72)의 일측(73)은 상기 지지부재(72)의 중심을 기준으로 좌 또는 우 방향으로 치우쳐져 있다.
비록, 도 5 에서 상기 안착부재(70)는 단순히 웨이퍼를 거치시킬 수 있는 종류로 도시되었으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 진공에 의해 웨이퍼를 흡착할 수 있도록 구성하는 것 역시 가능하다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 단순한 구성에 의해 지지간격을 변화시킬 수 있는 지지간격 조절장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은, 지지간격을 보다 정밀하고도 정확하게 조절가능한 지지간격 조절장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은, 컴팩트한 구성을 가지면서도 반도체 웨이퍼의 제조분야 뿐만 아니라 LCD 패널의 제조 등의 분야에 널리 이용가능한 지지간격 조절장치를 제공하는 것이다.

Claims (8)

  1. 제 1 회전기어와;
    상기 제 1 회전기어와 연동되며, 본 제 1 회전기어를 사이에 두고 대면하도록 배치된 한쌍의 제 1, 제 2 랙과;
    상기 한쌍의 제 1, 제 2 랙과 각각 결합된 한쌍의 제 1, 제 2 고정부재와;
    상기 제 1 회전기어를 구동하기 위한 구동수단을 포함하는 지지간격 조절장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 지지간격 조절장치는 상기 제 1 회전기어 후방에 배치되는 제 2 회전기어와, 본 제 2 회전기어와 연동되며 상기 제 2 회전기어를 사이에 두고 대면하도록 배치된 한 쌍의 제 3, 제 4 랙 및 본 제 3, 제 4 랙과 각각 결합되는 한 쌍의 제 3, 제 4 고정부재를 추가적으로 포함하며, 상기 제 1, 제 2 고정부재와 상기 제 3, 제 4 고정부재는 서로 크로스 배치되는 것을 특징으로 하는 지지간격 조절장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 제 1 회전기어와 상기 제 2 회전기어는 동일한 모듈과 피치의 기어치를 포함하는 것을 특징으로 하는 지지간격 조절장치.
  4. 제 2 항에 있어서,
    상기 제 1 회전기어와 상기 제 2 회전기어는 서로 다른 모듈과 피치의 기어치를 포함하는 것을 특징으로 하는 지지간격 조절장치.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 제 2 회전기어는 상기 제 1 회전기어 기어치의 모듈과 피치에 대해 1.5 배 이상 3 배 이하의 모듈과 피치를 가지는 기어치를 포함하는 것을 특징으로 하는 지지간격 조절장치.
  6. 제 3 항 또는 4 항에 있어서,
    상기 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 고정부재의 중심에는 상기 제 1, 제 2 회전기어와 연동되지 않은 제 5 고정부재가 추가적으로 배치되는 것을 특징으로 하는 지지간격 조절장치.
  7. 제 5 항에 있어서,
    상기 제 1, 제 2, 제 3, 제 4 고정부재의 위치를 감지하기 위한 위치감지센서를 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 지지간격 조절장치.
  8. 제 6 항에 있어서,
    상기 제 1, 제 2, 제 3, 제 4, 제 5 고정부재에는 반도체 웨이퍼를 안착시키 기 위한 제 1, 제 2, 제 3, 제 4, 제 5 안착부재들이 각각 설치되는 것을 특징으로 하는 지지간격 조절장치.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110402651A (zh) * 2019-08-09 2019-11-05 盐城瑞升齿轮有限公司 一种行距可调式水稻高速插秧机行距调节机构

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