KR20080079919A - 디스크 브러시 및 평판 패널 세정 장치 - Google Patents

디스크 브러시 및 평판 패널 세정 장치 Download PDF

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Abstract

개시된 디스크 브러시는 긴 원통 형상의 회전축, 회전축의 일 단부와 연결된 원판 형상의 디스크, 및 디스크의 저면에 형성되고, 디스크의 중심부보다 디스크의 가장 자리에 다수가 형성되어 공급되는 세정액을 중심부 방향으로 흡입시키는 브러시모를 포함한다. 따라서, 유리 기판을 세정하기 위하여 브러시모가 공급되는 세정액을 중심부 방향으로 흡입시켜 세정함으로써, 세정 공정의 효율성을 향상시킬 수 있다.

Description

디스크 브러시 및 평판 패널 세정 장치{DISK BRUCH AND APPARATUS OF CLEANING FLAT PANEL}
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 패널 세정 장치를 나타낸 개략적인 구성도이다.
도 2는 도 1의 평판 패널 세정 장치를 구체적으로 설명하기 위한 구성도이다.
도 3은 도 1의 디스크 브러시를 나타내는 평면도이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
100 : 평판 패널 세정 장치 200 : 세정 챔버
210 : 측벽 300 : 디스크 브러시
310 : 회전축 312 : 구동부
320 : 디스크 330 : 브러시모
340 : 세정액 공급부 350 : 액막이
360 : 베어링
본 발명은 디스크 브러시 및 평판 패널 세정 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 평판 패널을 효율적으로 세정하기 위한 형상을 갖는 디스크 브러시 및 평판 패널 세정 장치에 관한 것이다.
최근에는, 고품위(high definition) TV 등의 새로운 첨단 영상 기기가 개발됨에 따라, 브라운관(CRT)을 대신하여 평판 패널 표시장치에 관한 연구가 활발히 진행되고 있다. 일반적으로, 평판 패널 표시장치는 다양한 영상들을 시각적으로 표시하는 장치로서 액정표시장치(liquid crystal display device : LCD), PDP(plasma display panel) 장치, ELD(electro luminescence display) 등을 포함한다. 특히, 평판 패널 표시장치는 얇고 가벼우며, 낮은 구동전압 및 낮은 소비전력을 갖는 장점이 있어, 산업 전반에 걸쳐 광범위하게 사용되고 있다.
이러한 평판 패널 표시장치를 제조하기 위하여 다양한 공정, 예를 들어, 증착 공정, 식각 공정, 패터닝 공정 등이 진행된다. 이에 각각의 공정들이 종료된 경우, 각 공정에서 사용되는 약액 및 불순물 등을 제거하기 위한 세정 공정이 요구된다. 평판 패널 표시장치는 평판 패널로부터 불순물 등을 제거하기 위하여 세정 챔버를 구비하고, 세정 챔버는 평판 패널 세정 장치로서, 예를 들어 디스크 브러시를 포함한다.
디스크 브러시는 회전력을 제공하는 회전축, 회전축의 일 단부와 연결된 원판 형상의 디스크 및 상기 디스크의 저면에 형성된 브러시모를 포함한다. 이때 브러시모는 디스크의 저면에 균일하게 형성된다. 즉, 브러시모는 디스크의 저면에 전체적으로 형성된다.
따라서, 평판 패널에 세정액을 분사하고 디스크 브러시가 회전하여 평판 패널의 상면 및 하면을 브러시하는 경우, 세정액은 원심력에 의하여 브러시의 중심으로부터 벗어날 가능성이 높다. 즉, 세정 공정이 진행됨에 따라, 세정액이 디스크 브러시로부터 벗어나 세정 능력이 저하되는 문제점이 발생한다. 또한, 세정 능력이 저하됨에 따라, 소비되는 세정액이 많이 필요하게 되며 세정 시간이 증가하여 전체적인 공정 효율이 저하되는 문제점이 발생한다.
본 발명의 일 목적은 평판 패널을 효율적으로 세정하기 위한 디스크 브러시를 제공하는데 있다.
본 발명의 다른 목적은 상기 디스크 브러시를 포함하는 평판 패널 세정 장치를 제공하는데 있다.
상기 일 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 디스크 브러시는 긴 원통 형상의 회전축, 상기 회전축의 일 단부와 연결된 원판 형상의 디스크, 및 상기 디스크의 저면에 형성되고, 상기 디스크의 중심부보다 상기 디스크의 가장 자리에 다수가 형성되어 공급되는 세정액을 상기 중심부 방향으로 흡입시키는 브러시모를 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 브러시모는 상기 디스크의 중심으로부터 나선의 형상으로 형성된다.
이에 따라, 디스크의 중심부보다 가장 자리에 더 많은 브러시모가 형성됨으 로써, 디스크 브러시는 세정액을 중심부로 흡입시켜 세정력을 향상시킬 수 있다.
상기 다른 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 패널 세정 장치는 측벽으로 이루어진 세정 챔버 및 디스크 브러시를 포함한다. 디스크 브러시는 상기 측벽을 관통하여 배치되고 긴 원통 형상을 갖는 회전축, 상기 회전축의 일 단부와 연결된 원판 형상의 디스크, 및 상기 디스크의 저면에 형성되고, 상기 디스크의 중심부보다 상기 디스크의 가장자리에 다수가 형성되어 공급되는 세정액을 상기 중심부 방향으로 흡입시키기 위한 브러시모를 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 브러시모는 상기 디스크의 중심으로부터 나선의 형상으로 형성된다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 세정액을 상기 평판 패널에 공급하기 위한 세정액 공급부를 더 포함한다. 또한, 상기 세정액 공급부는 상기 회전축에 형성되고, 상기 세정액 공급부로부터 상기 세정액을 공급받는 세정액 공급관, 상기 세정액 공급관과 연결되어 상기 세정액을 전달받는 세정액 주입관 및 상기 디스크에 형성되고, 상기 세정액 주입관으로부터 공급받은 세정액을 평판 패널에 분사하는 세정액 분사구를 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 평판 패널 세정 장치는 상기 회전축의 일단에 배치되어 상기 회전축을 시계 방향 또는 시계 반대 방향으로 회전시키는 구동부를 더 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 평판 패널 세정 장치는 상기 측벽의 내측면에 형성되고 상기 세정액이 외부로 누수되는 것을 방지하는 액막이를 더 포함 한다.
이에 따라, 디스크의 중심부보다 가장 자리에 더 많은 브러시모가 형성됨으로써, 디스크 브러시는 공급되는 세정액을 중심부로 흡입시켜 세정력을 향상시킬 수 있다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명되어지는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되어지는 것이다. 도면들에 있어서, 기판, 챔버 및 장치들의 두께와 크기 등은 그 명확성을 기하기 위하여 과장되어진 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 패널 세정 장치를 나타낸 개략적인 구성도이고, 도 2는 도 1의 평판 패널 세정 장치를 구체적으로 설명하기 위한 구성도이며, 도 3은 도 1의 디스크 브러시를 나타내는 평면도이다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따르면 평판 패널 세정 장치(100)는 세정 챔버(200) 및 디스크 브러시(300)를 포함한다.
세정 챔버(200)는 평판 패널(G)이 세정될 수 있는 공간을 마련한다. 세정 챔버(200)는 공정 종류에 따라 외부로부터 밀폐되는 구조를 가질 수 있다. 따라서, 세정 챔버(200)는 측벽(210)으로 둘러싸인 내부 공간을 갖는다.
세정 챔버(200)는 공정 챔버(도시되지 않음)로부터 평판 패널(G)을 전달받아 공정에서 사용된 약액, 불순물 등을 세정한다. 따라서, 세정 챔버(200)는 공정 챔버와 인접하게 배치된다. 또한, 세정 챔버(200)와 공정 챔버의 사이에는 평판 패널(G)을 이송하기 위한 이송 로봇(도시되지 않음)이 배치된다. 이와 달리, 세정 챔버(200)와 공정 챔버는 내벽(도시되지 않음)을 사이에 두고 인접하게 배치되는 경우, 롤러(도시되지 않음)를 통하여 평판 패널(G)을 이송할 수 있다.
디스크 브러시(300)는 평판 패널(G)의 상부면 및 하부면을 효과적으로 세정하기 위하여 세정 챔버(200)의 상,하부 측벽에 복수개가 배치된다. 평판 패널(G)의 크기가 점점 증가함에 따라, 세정 챔버(200)의 내부에 배치된 디스크 브러시(300)의 개수도 증가할 것이다. 이와 달리, 디스크 브러시(300)의 크기가 증가할 수도 있을 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 디스크 브러시(300)는 회전축(310), 디스크(320) 및 브러시모(330)를 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 회전축(310)은 긴 원통 형상을 갖는다. 이와 달리, 회전축(310)은 다양한 형상을 가질 수 있다. 예를 들어, 회전축(310)은 세정 챔버(200)의 측벽(210)에 배치된 베어링(360)에 삽입 설치된다. 이에 회전축(310)은 베어링(360)에 의해 안정적으로 고정된다. 한편, 회전축(310)은 다른 고정 수단에 의하여 고정될 수 있다.
회전축(310)은 시계 방향 또는 시계 반대 방향으로 회전한다. 따라서, 회전축(310)이 회전함으로써 회전축(310)과 연결된 디스크(320)가 동시에 회전한다. 또 한, 평판 패널 세정 장치(100)는 회전축(210)의 일단에 배치되어 회전축(210)을 회전시키는 구동부(312)를 더 포함한다. 구동부(312)는 예를 들어, 모터를 포함한다. 이와 달리, 구동부(312)는 별도의 공간에 마련된 임펠러 등과 같은 구동 수단을 포함할 수 있다.
또한, 구동부(312)는 회전축(210)을 상하 방향으로 구동시킬 수 있다. 예를 들어, 평판 패널(G)이 세정 챔버(200)로 이송되는 경우, 구동부(312)는 회전축(210)을 전체적으로 위 방향으로 이동시켜 평판 패널(G)이 용이하게 이송되도록 할 수 있다. 이와 달리, 디스크 브러시(300)을 전체적으로 유지 보수하여야 하는 경우, 회전축(210)을 전체적으로 위 방향으로 이동시킬 수 있다.
디스크(320)는 회전축(310)의 일 단부와 연결된다. 예를 들어, 디스크(320)는 원판 형상을 갖는다. 이와 달리, 디스크(320)는 평판 패널(G)의 전면을 효과적으로 세정할 수 있다면, 다양한 형상을 가질 수 있다.
브러시모(330)는 디스크(320)의 저면에 복수개가 형성된다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 브러시모(330)는 디스크(320)의 중심부보다 디스크(320)의 가장 자리에 다수가 형성된다. 예를 들어, 브러시모(330)는 디스크(320)의 중심부로부터 나선의 형상으로 형성된다. 따라서, 분사되는 세정액(W)을 디스크(320)의 중심부 방향으로 흡입시킬 수 있다. 이와 달리, 브러시모(330)는 분사되는 세정액(W)을 중심부 방향으로 흡입시킬수 있다면, 다양한 형상을 가질 수 있을 것이다. 또한, 평판 패널(G)의 표면 상태에 따라 브러시모(330)의 굵기, 밀도, 재질 등이 다양하게 변경될 수 있을 것이다.
평판 패널 세정 장치(100)는 세정 공정에 사용되는 세정액(W)을 공급하는 세정액 공급부(340)를 더 포함한다. 한편, 세정액(W)은 공정에 사용되는 약액 및 불순물들을 효과적으로 제거할 수 있다면 다양한 종류를 포함할 수 있다. 예를 들어, 세정액(W)은 탈이온수를 포함한다. 세정액 공급부(340)는 세정액 공급관(342), 세정액 주입관(344) 및 세정액 분사구(346)를 포함한다.
세정액 공급관(342)은 세정액 공급부(340)로부터 세정액(W)을 공급받는다. 예를 들어, 세정액 공급관(342)은 회전축(310)의 내부에 관통되어 형성된다. 이와 달리, 세정액 공급관(342)은 회전축(310)과 인접하게 형성되어 디스크(320)와 연결될 수 있다. 세정액 주입관(344)은 회전축(310)의 끝단에 형성된다. 또한, 세정액 주입관(344)은 세정액 공급관(342)과 연결되어 세정액(W)을 전달받는다. 한편, 세정액 분사구(346)는 디스크(320)에 형성된다. 예를 들어, 세정액 분사구(346)는 디스크(320)의 저면에 형성된다. 세정액 분사구(346)는 세정액 주입관(344)으로부터 공급받은 세정액(W)을 평판 패널(G)에 분사한다. 세정액 분사구(346)는 세정액(W)을 평판 패널(G)에 전체적으로 균일하게 분사한다. 따라서, 세정액(W)은 세정액 분사구(346)를 통하여 평판 패널(G)의 전면에 균일하게 분포된다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 세정액(W)이 평판 패널(G)의 전면에 균일하게 분사된 경우, 디스크 브러시(300)는 평판 패널(G)을 세정하기 위하여 회전한다. 이때, 브러시모(330)가 디스크(320) 저면의 중심부보다 가장 자리에 더 많은 개수가 형성되므로 세정액(W)은 디스크(320)의 중심부로 흡입된다. 즉, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 디스크 브러시(300)가 회전에 의해 세정액(W)을 외부 방향으로 벗어나눈 것을 방지한다. 따라서, 세정액(W)이 디스크 브러시(300)의 중심부에서 효율적으로 브러시될 수 있을 것이다. 따라서, 디스크 브러시(300)가 커버할 수 있는 영역을 벗어나는 세정액(W)이 감소하므로, 세정 공정에 사용되는 세정액(W)이 전체적으로 감소된다. 나아가 세정 공정의 효율이 전체적으로 향상된다.
평판 패널 세정 장치(100)는 세정 챔버(200)의 측벽(210)의 내측면에 형성된 액막이(350)를 더 포함한다. 액막이(350)는 세정 공정에 사용되는 세정액(W)이 외부로 누수되는 것을 방지한다. 디스크 브러시(300)의 회전에 의하여 평판 패널(G)의 상면 및 하면에 분사된 세정액(W)이 세정 챔버(200)의 외부로 누수될 수 있으므로, 측벽(210)의 내측면에 형성된 액막이(350)가 이를 방지한다. 예를 들어, 액막이(350)는 측벽(210)과 측벽(210)을 관통하여 형성된 회전축(310)의 사이에 생긴 미세 공간을 커버한다. 또한, 세정 챔버(200)의 다른 이격 공간이 존재하는 경우, 액막이(350)는 상기 이격 공간을 커버하도록 배치될 수 있을 것이다.
이와 같이, 평판 패널 세정 장치(100)는 디스크(320)의 중심부보다 가장 자리에 다수가 형성된 브러시모(330)를 가짐으로써, 세정액(W)을 중심부로 흡입시켜 세정 공정의 효율을 향상시킬 수 있다.
이와 같은 디스크 브러시 및 평판 패널 세정 장치에 따르면, 평판 패널 세정 장치는 디스크의 중심부보다 가장 자리에 다수가 형성된 브러시모를 포함한다. 따라서, 브러시모가 분사된 세정액을 디스크의 중심부 방향으로 흡입시켜 세정하므로 세정 공정의 효율이 전체적으로 향상된다. 또한, 소비되는 세정액의 양이 감소하므 로, 전체적인 제조 비용이 감소된다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예들을 참조하여 설명하였지만 해당 기술 분야의 숙련된 당업자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims (8)

  1. 긴 원통 형상의 회전축;
    상기 회전축의 일 단부와 연결된 원판 형상의 디스크; 및
    상기 디스크의 저면에 형성되고, 상기 디스크의 중심부보다 상기 디스크의 가장 자리에 다수가 형성되어 공급되는 세정액을 상기 중심부 방향으로 흡입시키는 브러시모를 포함하는 디스크 브러시.
  2. 제1 항에 있어서, 상기 브러시모는 상기 디스크의 중심으로부터 나선의 형상으로 형성된 것을 특징으로 하는 디스크 브러시.
  3. 측벽으로 이루어진 세정 챔버;
    상기 측벽을 관통하여 배치되고 긴 원통 형상을 갖는 회전축, 상기 디스크의 저면에 형성되고, 상기 회전축의 일 단부와 연결된 원판 형상의 디스크 및 상기 디스크의 중심부보다 상기 디스크의 가장자리에 다수가 형성되어 공급되는 세정액을 상기 중심부 방향으로 흡입시키기 위한 브러시모를 갖는 디스크 브러시를 포함하는 평판 패널 세정 장치.
  4. 제3 항에 있어서, 상기 브러시모는 상기 디스크의 중심으로부터 나선의 형상으로 형성된 것을 특징으로 하는 평판 패널 세정 장치.
  5. 제3 항에 있어서, 상기 세정액을 상기 평판 패널에 공급하기 위한 세정액 공급부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평판 패널 세정 장치.
  6. 제5 항에 있어서, 상기 세정액 공급부는
    상기 회전축에 형성되고, 상기 세정액 공급부로부터 상기 세정액을 공급받는 세정액 공급관;
    상기 세정액 공급관과 연결되어 상기 세정액을 전달받는 세정액 주입관; 및
    상기 디스크에 형성되고, 상기 세정액 주입관으로부터 공급받은 세정액을 평판 패널에 분사하는 세정액 분사구를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판 패널 세정 장치.
  7. 제3 항에 있어서, 상기 회전축의 일단에 배치되어 상기 회전축을 시계 방향 또는 시계 반대 방향으로 회전시키는 구동부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평판 패널 세정 장치.
  8. 제3 항에 있어서, 상기 측벽의 내측면에 형성되고 상기 세정액이 외부로 누수되는 것을 방지하는 액막이를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평판 패널 세정 장치.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101009047B1 (ko) * 2009-02-09 2011-01-18 세메스 주식회사 기판 세정 장치
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KR101135080B1 (ko) * 2010-01-12 2012-04-13 세메스 주식회사 기판 세정 장치
CN114472273A (zh) * 2020-11-13 2022-05-13 杰宜斯科技有限公司 显示部用清洗装置及其控制方法

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