KR100840973B1 - 평판 패널 세정 장치 - Google Patents

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KR100840973B1
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이정수
윤태열
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세메스 주식회사
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Abstract

개시된 평판 패널 세정 장치는 몸체, 몸체를 관통하여 배치되고 긴 원통의 형상을 갖는 회전축, 회전축의 일 단부와 연결되고, 평판 패널을 세정하기 위하여 하부면에 다수의 브러시가 형성된 원판 형상의 디스크 브러시, 회전축을 둘러싸면서 회전축의 타 단부가 위치하는 상기 몸체의 외측면에 배치되고 몸체으로부터 세정액이 누출되는 것을 방지하는 액막이, 회전축의 단부 및 액막이를 커버하기 위한 케이스 및 케이스 및 액막이의 사이에 배치되어 액막이를 몸체의 방향으로 밀착시키는 탄성 부재를 포함한다. 따라서, 탄성 부재가 액막이를 몸체 방향으로 밀착시킴으로써, 세정액이 평판 패널 세정 장치로부터 누출되는 것을 효율적으로 차단할 수 있다.

Description

평판 패널 세정 장치{APPARATUS OF CLEANING FLAT PANEL}
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 패널 세정 장치들을 나타낸 개략적인 구성도이다.
도 2는 도 1의 평판 패널 세정 장치를 구체적으로 설명하기 위한 구성도이다.
도 3은 도 1의 액막이, 탄성 부재들을 구체적으로 나타내는 절개 사시도이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
100 : 평판 패널 세정 장치 200 : 세정 챔버
210 : 몸체 300 : 회전축
310 : 구동부 400 : 디스크 브러시
410 : 브러시모 420 : 세정액 공급부
500 : 액막이 510 : 고정홈
520 : 오링 600 : 케이스
700 : 탄성 부재 710 : 고정부
본 발명은 평판 패널 세정 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 평판 패널세정 장치로부터 세정액이 누출되는 것을 효율적으로 차단하기 위한 평판 패널 세정 장치에 관한 것이다.
최근에는, 고품위(high definition) TV 등의 새로운 첨단 영상 기기가 개발됨에 따라, 브라운관(CRT)을 대신하여 평판 패널 표시장치에 관한 연구가 활발히 진행되고 있다. 일반적으로, 평판 패널 표시장치는 다양한 영상들을 시각적으로 표시하는 장치로서 액정표시장치(liquid crystal display device : LCD), PDP(plasma display panel) 장치, ELD(electro luminescence display) 등을 포함한다. 특히, 평판 패널 표시장치는 얇고 가벼우며, 낮은 구동전압 및 낮은 소비전력을 갖는 장점이 있어, 산업 전반에 걸쳐 광범위하게 사용되고 있다.
이러한 평판 패널 표시장치를 제조하기 위하여 다양한 공정, 예를 들어, 증착 공정, 식각 공정, 패터닝 공정 등이 진행된다. 이에 각각의 공정들이 종료된 경우, 각 공정에서 사용되는 약액 및 불순물 등을 제거하기 위한 세정 공정이 요구된다.
이에 평판 패널 표시장치는 평판 패널로부터 불순물 등을 제거하기 위하여 세정 챔버, 회전축 및 디스크 브러시를 포함한다. 즉, 밀폐된 공간을 마련하는 세정 챔버와 상기 세정 챔버의 몸체를 관통하여 형성되어 디스크 브러시를 회전시키는 회전축 및 상기 회전축의 단부에 연결되어 평판 패널을 브러시하는 디스크 브러시를 포함한다. 이에, 디스크 브러시가 공급된 세정액을 브러시하여 평판 패널에 잔류하는 불순물들을 제거한다.
한편, 회전축이 몸체를 관통하여 형성되는 공간에 회전축과 몸체에 형성된 관통홀 사이에 미세한 공간이 발생한다. 이 때 공급되는 세정액이 상기 미세한 공간을 통하여 외부로 누출되는 경우에는 평판 패널 세정 장치의 불량을 야기할 수 있다. 따라서, 평판 패널 세정 장치의 불량에 의하여 제품의 전체적인 수율 및 신뢰성이 저하되는 문제점이 발생한다.
본 발명의 일 목적은 세정액이 누출되는 것을 효율적으로 차단하기 위한 평판 패널 세정 장치를 제공하는데 있다.
상기 일 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 패널 세정 장치는 몸체, 상기 몸체를 관통하여 배치되고 긴 원통의 형상을 갖는 회전축, 상기 회전축의 일 단부와 연결되고, 평판 패널을 세정하기 위하여 하부면에 다수의 브러시가 형성된 원판 형상의 디스크 브러시, 상기 회전축을 둘러싸면서 상기 회전축의 타 단부가 위치하는 상기 몸체의 외측면에 배치되고 상기 몸체으로부터 세정액이 누출되는 것을 방지하는 액막이, 상기 회전축의 단부 및 상기 액막이를 커버하기 위한 케이스 및 상기 케이스 및 상기 액막이의 사이에 배치되어 상기 액막이를 상기 몸체의 방향으로 밀착시키는 탄성 부재를 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 액막이는 상기 회전축의 외경보다 더 큰 내경을 가진 중공 원판의 형상을 갖는다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 탄성 부재는 탄성 스프링을 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 액막이는 상기 탄성 부재를 고정하기 위하여 상기 탄성 부재에 대응하는 고정홈을 갖는다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 세정액을 상기 평판 패널에 공급하기 위한 세정액 공급부를 더 포함한다. 또한, 상기 세정액 공급부는 외부로부터 상기 세정액을 공급받는 세정액 공급관, 상기 회전축에 형성되고, 상기 세정액 공급관과 연결되어 상기 세정액을 공급받는 세정액 주입관 및 상기 브러시면에 형성되고, 상기 세정액 주입관으로부터 공급받은 세정액을 평판 패널에 분사하는 세정액 분사구를 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 회전축의 일단에 배치되어 상기 회전축을 시계 방향 또는 시계 반대 방향으로 회전시키는 구동부를 더 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 액막이와 상기 몸체의 사이에 배치되어 상기 액막이를 상기 몸체와 밀착시키는 오링을 더 포함한다. 또한, 상기 액막이는 상기 오링과 일체형으로 형성될 수 있다.
이러한 평판 패널 세정 장치에 따르면, 평판 패널 세정 장치는 몸체의 외측면에 배치된 액막이와 상기 액막이를 몸체에 밀착시키기 위한 탄성 부재를 포함한다. 따라서, 상기 액막이는 상기 탄성 부재에 의해 몸체에 밀착되어 세정액이 평판 패널 세정 장치로부터 누출되는 것을 효과적으로 차단할 수 있다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설 명하기로 한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명되어지는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되어지는 것이다. 도면들에 있어서, 기판, 챔버 및 장치들의 두께와 크기 등은 그 명확성을 기하기 위하여 과장되어진 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 패널 세정 장치들을 나타낸 개략적인 구성도이고, 도 2는 도 1의 평판 패널 세정 장치를 구체적으로 설명하기 위한 구성도이며, 도 3은 도 1의 액막이, 탄성 부재들을 구체적으로 나타내는 절개 사시도이다.
도 1 내지 도 3을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 평판 패널 세정 장치(100)는 세정 챔버(200), 회전축(300), 디스크 브러시(400), 액막이(500), 케이스(600) 및 탄성 부재(700)를 포함한다.
세정 챔버(200)는 평판 패널(G)이 세정될 수 있는 공간을 마련한다. 세정 챔버(200)는 공정 종류에 따라 외부로부터 밀폐되는 구조를 가질 수 있다. 따라서, 세정 챔버(200)는 몸체(210)으로 둘러싸인 내부 공간을 갖는다.
세정 챔버(200)는 공정 챔버(도시되지 않음)로부터 평판 패널(G)을 전달받아 공정에서 사용된 약액, 불순물 등을 세정한다. 따라서, 세정 챔버(200)는 공정 챔버와 인접하게 배치된다. 또한, 세정 챔버(200)와 공정 챔버의 사이에는 평판 패널(G)을 이송하기 위한 이송 로봇(도시되지 않음)이 배치된다. 이와 달리, 세정 챔 버(200)와 공정 챔버는 내벽(도시되지 않음)을 사이에 두고 인접하게 배치되는 경우, 롤러(도시되지 않음)를 통하여 평판 패널(G)을 이송할 수 있다.
회전축(300)은 예를 들어, 몸체(210)을 관통하여 배치된다. 따라서, 회전축(300)은 몸체(210)에 형성된 관통홀(도시되지 않음)을 통하여 세정 챔버(200)의 내부로 배치될 수 있다. 이와 달리, 회전축(300)은 몸체(210)에 고정되도록 배치될 수 있다.
회전축(300)은 긴 원통 형상을 갖는다. 이와 달리, 회전축(300)은 다양한 형상을 가질 수 있다. 예를 들어, 회전축(300)은 세정 챔버(200)의 몸체(210)에 배치된 베어링(320)에 삽입 설치된다. 이에 회전축(300)은 베어링(320)에 의해 안정적으로 고정된다. 한편, 회전축(300)은 다른 고정 수단에 의하여 고정될 수 있다.
회전축(300)은 시계 방향 또는 시계 반대 방향으로 회전한다. 따라서, 회전축(300)이 회전함으로써 회전축(300)과 연결된 디스크 브러시(400)가 동시에 회전한다. 또한, 평판 패널 세정 장치(100)는 회전축(300)의 일단에 배치되어 회전축(300)을 회전시키는 구동부(310)를 더 포함한다. 구동부(310)는 예를 들어, 모터를 포함한다. 이와 달리, 구동부(310)는 별도의 공간에 마련된 임펠러 등과 같은 구동 수단을 포함할 수 있다.
한편, 구동부(310)는 회전축(300)을 상하 방향으로 구동시킨다. 예를 들어, 평판 패널(G)이 세정 챔버(200)로 이송되는 경우, 구동부(310)는 회전축(300)을 전체적으로 위 방향으로 이동시켜 평판 패널(G)이 용이하게 이송되도록 할 수 있다. 이와 달리, 디스크 브러시(400)를 전체적으로 유지 보수하여야 하는 경우, 회전 축(300)을 상부 방향으로 이동시킬 수 있다.
디스크 브러시(400)는 회전축(300)의 일 단부와 연결된다. 디스크 브러시(400)는 예를 들어, 원판의 형상을 갖는 디스크를 포함한다. 이와 달리, 디스크 브러시(400)는 평판 패널(G)의 표면을 효과적으로 세정하기 위한 다양한 형상의 디스크를 포함할 수 있다.
디스크 브러시(400)는 평판 패널(G)을 세정하기 위하여 저면에 형성된 브러시모(410)를 포함한다. 예를 들어, 브러시모(410)는 디스크의 저면에 전체적으로 균일하게 배치된다. 이와 달리, 브러시모(410)는 디스크의 중심부보다 디스크의 가장 자리에 다수가 형성될 수 있다. 이와 달리, 브러시모(410)는 분사되는 세정액(W)을 평판 패널(G)의 전면에 균일하게 분포시켜 효율적으로 세정할 수 있다면 다양한 형상을 가질 수 있다. 또한, 브러시모(410)는 평판 패널(G)의 표면 상태에 따라 굵기, 밀도, 재질 등이 다양하게 변경될 수 있을 것이다.
평판 패널 세정 장치(100)는 세정 공정에 사용되는 세정액(W)을 공급하는 세정액 공급부(420)를 더 포함한다. 한편, 세정액(W)은 공정에 사용되는 약액 및 불순물들을 효과적으로 제거할 수 있다면, 다양한 종류를 포함할 수 있다. 예를 들어, 세정액(W)은 탈이온수를 포함한다. 세정액 공급부(420)는 세정액 공급관(422), 세정액 주입관(424) 및 세정액 분사구(426)를 포함한다.
세정액 공급관(422)은 세정액 공급부(430)로부터 세정액(W)을 공급받는다. 예를 들어, 세정액 공급관(422)은 회전축(300)의 내부에 관통되어 형성된다. 이와 달리, 세정액 공급관(422)은 회전축(300)과 인접하게 형성되어 디스크와 연결될 수 있다. 세정액 주입관(424)은 회전축(300)의 끝단에 형성된다. 또한, 세정액 주입관(424)은 세정액 공급관(422)과 연결되어 세정액(W)을 전달받는다. 한편, 세정액 분사구(426)는 디스크에 형성된다. 예를 들어, 세정액 분사구(426)는 디스크 브러시(400)의 저면에 형성된다. 세정액 분사구(426)는 세정액 주입관(424)으로부터 공급받은 세정액(W)을 평판 패널(G)에 분사한다. 세정액 분사구(426)는 세정액(W)을 평판 패널(G)에 전체적으로 균일하게 분사한다. 따라서, 세정액(W)은 세정액 분사구(426)를 통하여 평판 패널(G)의 전면에 균일하게 분포된다.
액막이(500)는 회전축(300)의 타 단부가 위치하는 몸체(210)의 외측면에 밀착되도록 배치된다. 따라서, 액막이(500)는 평판 패널(G)을 세정하기 위해 사용된 세정액(W)이 세정 챔버(200)로부터 누출되는 것을 방지한다.
액막이(500)는 회전축(300)을 둘러싸도록 형성된다. 예를 들어, 액막이(500)는 회전축(300)의 외경보다 더 큰 내경을 가진 중공 원통의 형상을 가진다. 이와 달리, 액막이(500)는 회전축(300)을 둘러싸면서 세정액(W)의 누출을 효과적으로 방지할 수 있다면, 다양한 형상을 가질 수 있을 것이다. 따라서, 액막이(500)는 몸체(210)과 몸체(210)을 관통하여 형성된 회전축(300)의 사이에 생긴 미세 공간을 커버한다. 또한, 세정 챔버(200)의 다른 공간에 이격 공간이 존재하는 경우에는 액막이(500)는 상기 이격 공간에 배치되어 커버할 수 있다.
또한, 평판 패널 세정 장치(100)는 액막이(500)와 몸체(210)의 사이에 배치되는 오링(520)을 더 포함한다. 오링(520)은 액막이(500)를 몸체(210)에 밀착시킨다. 따라서, 오링(520)은 접착성이 있는 물질로 이루어지는 것이 바람직하다. 예를 들어, 오링(520)은 고무 재질로 이루어진다. 이와 달리, 오링(520)은 액막이(500)를 회전축(300)에 밀착시킬 수 있다면 다양한 재질로 이루어질 수 있다. 한편, 오링(520)은 예를 들어, 액막이(500)와 일체형으로 형성된다. 이와 달리, 오링(520)은 액막이(500)와 분리되도록 형성될 수 있다.
한편, 평판 패널 세정 장치(100)는 내부 액막이(530)를 더 포함한다. 내부 액막이(530)는 몸체(210)의 내측면에 밀착되도록 배치된다. 또한, 내부 액막이(530)는 예를 들어, 회전축(300)을 둘러싸도록 형성된다. 따라서, 액막이(500)와 마찬가지로 내부 액막이(530)도 회전축(300)의 외경보다 더 큰 내경을 가진 중공 원통의 형상을 가진다. 따라서, 내부 액막이(530)는 세정액(W)이 평판 패널 세정 장치(100)로부터 누출되는 것을 1차적으로 차단한다.
케이스(600)는 세정 챔버(200)의 일 측에 배치되어 회전축(300)의 일 단부 및 액막이(500)를 커버한다. 즉, 회전축(300)이 몸체(210)을 관통하여 형성되는 경우, 케이스(600)는 몸체(210)의 외측에 배치된 회전축(300)의 일 단부를 커버한다. 또한, 케이스(600)는 몸체(210)의 외측면에 배치된 액막이(500)를 커버한다. 따라서, 케이스(600)는 회전축(300)의 일 단부 및 액막이(500)를 외부의 충격으로부터 손상되는 것을 방지한다.
탄성 부재(700)는 케이스(600)와 액막이(500)의 사이에 배치된다. 또한, 탄성 부재(700)는 액막이(500)를 몸체(210) 방향으로 밀착시킨다. 탄성 부재(700)는 예를 들어, 탄성 스프링을 포함한다. 이와 달리, 탄성 부재(700)는 탄성력, 장력 등에 의하여 액막이(500)를 몸체(210)의 외측면에 밀착시킬 수 있다면 다양한 탄성 수단들을 포함할 수 있다. 따라서, 탄성 부재(700)가 액막이(500)를 몸체(210)의 외측면에 밀착시킴으로써 세정액(W)이 누출되는 것을 효과적으로 차단할 수 있다.
또한, 세정 대상이 되는 평판 패널(G)이 세정 챔버(200)에 이송되거나 디스크 브러시(400)의 유지 보수를 위하여 회전축(300)을 상부로 이동시키는 경우, 탄성 부재(700)가 액막이(500)를 몸체(210)에 밀착시킨다. 즉, 회전축(300)의 이동 여부와 상관없이 탄성 부재(700)가 액막이(500)를 몸체(210)의 외측면에 밀착시켜 세정액(W)이 누출되는 것을 차단할 수 있다.
나아가, 회전축(300), 디스크 브러시(400), 액막이(500) 등에 대한 유지 보수가 종료되어 재세팅하는 경우, 탄성 부재(700)가 액막이(500)를 몸체(210)에 밀착시키므로 재세팅하기 용이하다.
한편, 평판 패널 세정 장치(100)는 탄성 부재(700)를 고정하기 위한 고정부(710)를 더 포함한다. 본 발명의 일 실시예에 따르면, 고정부(710)는 케이스(600)의 내측에 배치되어 탄성 부재(700)를 고정시킨다. 예를 들어, 고정부(710)는 "ㄴ"자 형상을 가질 수 있다. 이에 탄성 부재(700)가 "ㄴ"자 형상에서 절곡된 부분에 끼워져서 고정된다. 이와 달리, 고정부(710)는 탄성 부재(700)를 고정하기 위한 다양한 형상을 가질 수 있다.
마찬가지로, 액막이(500)는 탄성 부재(700)를 고정하기 위한 고정홈(510)을 포함한다. 고정홈(510)은 예를 들어, 탄성 부재(700)의 형상 및 크기에 대응하여 형성된다. 예를 들어, 탄성 부재(700)가 단면이 원의 형상을 가지는 탄성 스프링인 경우에는 고정홈(510)은 탄성 부재(700)가 삽입되기 위한 원 형상을 가지고 원의 직경에 대응하는 크기를 가진다. 이와 달리, 탄성 부재(700)가 다른 형상 및 크기를 가지는 경우에는 고정홈(510)은 탄성 부재(700)의 형상 및 크기에 대응하여 형성될 수 있다.
이와 같이, 평판 패널 세정 장치(100)는 몸체(210)과 케이스(600)의 사이에 배치되어 액막이(500)를 몸체(210)에 밀착시키는 탄성 부재(700)를 포함한다. 따라서, 액막이(500)가 탄성 부재(700)에 의해 몸체(210)에 밀착되므로, 세정액(W)이 누출되는 것을 효율적으로 차단할 수 있다.
이와 같은 평판 패널 세정 장치에 따르면, 평판 패널 세정 장치는 몸체의 외측면에 배치된 액막이와 상기 액막이를 몸체에 밀착시키기 위한 탄성 부재를 포함한다. 따라서, 상기 액막이는 상기 탄성 부재에 의해 몸체에 밀착되어 세정액이 평판 패널 세정 장치로부터 누출되는 것을 효과적으로 차단할 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예들을 참조하여 설명하였지만 해당 기술 분야의 숙련된 당업자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims (9)

  1. 몸체;
    상기 몸체를 관통하여 배치되고 긴 원통의 형상을 갖는 회전축;
    상기 회전축의 일 단부와 연결되고, 평판 패널을 세정하기 위하여 하부면에 다수의 브러시가 형성된 원판 형상의 디스크 브러시;
    상기 회전축을 둘러싸면서 상기 회전축의 타 단부가 위치하는 상기 몸체의 외측면에 배치되고 상기 몸체으로부터 세정액이 누출되는 것을 방지하는 액막이;
    상기 회전축의 단부 및 상기 액막이를 커버하기 위한 케이스; 및
    상기 케이스 및 상기 액막이의 사이에 배치되어 상기 액막이를 상기 몸체의 방향으로 밀착시키는 탄성 부재를 포함하는 평판 패널 세정 장치.
  2. 제1 항에 있어서, 상기 액막이는 상기 회전축의 외경보다 더 큰 내경을 가진 중공 원판의 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 평판 패널 세정 장치.
  3. 제1 항에 있어서, 상기 탄성 부재는 탄성 스프링인 것을 특징으로 하는 평판 패널 세정 장치.
  4. 제1 항에 있어서, 상기 액막이는 상기 탄성 부재를 고정하기 위하여 상기 탄성 부재에 대응하는 고정홈을 갖는 것을 특징으로 하는 평판 패널 세정 장치.
  5. 제1 항에 있어서, 상기 세정액을 상기 평판 패널에 공급하기 위한 세정액 공급부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평판 패널 세정 장치.
  6. 제5 항에 있어서, 상기 세정액 공급부는
    외부로부터 상기 세정액을 공급받는 세정액 공급관;
    상기 회전축에 형성되고, 상기 세정액 공급관과 연결되어 상기 세정액을 공급받는 세정액 주입관; 및
    상기 브러시면에 형성되고, 상기 세정액 주입관으로부터 공급받은 세정액을 평판 패널에 분사하는 세정액 분사구를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판 패널 세정 장치.
  7. 제1 항에 있어서, 상기 회전축의 일단에 배치되어 상기 회전축을 시계 방향 또는 시계 반대 방향으로 회전시키는 구동부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평판 패널 세정 장치.
  8. 제1 항에 있어서, 상기 액막이와 상기 몸체의 사이에 배치되어 상기 액막이를 상기 몸체와 밀착시키는 오링을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평판 패널 세정 장치.
  9. 제8 항에 있어서, 상기 액막이는 상기 오링과 일체형으로 형성된 것을 특징으로 하는 평판 패널 세정 장치.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101574111B1 (ko) * 2015-08-28 2015-12-03 (주)패스트 세정브러시를 구비하는 패널세정장치
CN106077161A (zh) * 2016-07-21 2016-11-09 太仓贝斯特机械设备有限公司 一种带有自清洁功能的铝型材拉直机及其工作方法
CN111986591A (zh) * 2020-08-27 2020-11-24 安徽恒亮标识标牌有限公司 一种用于广告设计的标识标牌

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10189513A (ja) * 1996-12-27 1998-07-21 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板洗浄装置
KR20050000477A (ko) * 2003-06-27 2005-01-05 태화일렉트론(주) 평판디스플레이 글라스 세정용 디스크 브러쉬의 구동구조

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10189513A (ja) * 1996-12-27 1998-07-21 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板洗浄装置
KR20050000477A (ko) * 2003-06-27 2005-01-05 태화일렉트론(주) 평판디스플레이 글라스 세정용 디스크 브러쉬의 구동구조

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101574111B1 (ko) * 2015-08-28 2015-12-03 (주)패스트 세정브러시를 구비하는 패널세정장치
CN106077161A (zh) * 2016-07-21 2016-11-09 太仓贝斯特机械设备有限公司 一种带有自清洁功能的铝型材拉直机及其工作方法
CN111986591A (zh) * 2020-08-27 2020-11-24 安徽恒亮标识标牌有限公司 一种用于广告设计的标识标牌

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