KR20070062104A - 액정표시소자 및 이의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 서로 대향된 제1기판 및 제2기판; 상기 제1기판 상에 서로 종횡으로 교차하여 화소 영역을 정의하는 게이트 배선 및 데이터 배선; 상기 게이트 배선과 데이터 배선의 교차 영역에 형성된 박막트랜지스터; 상기 박막트랜지스터와 연결된 화소전극; 상기 데이터 배선으로부터 연장 형성되는 제1링크선; 상기 제1링크선에 중첩되어 형성되고, 연결도전막에 의해 제1링크선과 연결되는 제2링크선; 및 상기 제1기판과 제2기판 사이에 형성된 액정층을 포함하여 이루어지는 액정표시소자 및 액정표시소자 제조방법에 관한 것으로서,
본 발명에 따르면, 제1링크선과 제2링크선을 중첩 형성한 후, 연결도전막에 의해 제1링크선과 제2링크선을 연결하기 때문에, 상기 연결도전막과 제1, 제2링크선 사이에 접촉 불량이 발생하는 경우에도 레이저의 조사에 의해 접촉 불량을 쉽게 리페어 할 수 있다.
제1링크선, 제2링크선, 연결도전막, 레이저

Description

액정표시소자 및 이의 제조방법{Liquid Crystal Display Device And Method For Manufacturing The Same}
도 1은 종래 기술에 따른 액정표시소자의 하부기판을 개략적으로 도시한 평면도이다.
도 2는 A-A' 라인의 절단면도이다.
도 3은 본 발명에 따른 액정표시소자의 하부기판을 개략적으로 도시한 평면도이다.
도 4는 B-B' 라인의 절단면도이다.
도 5는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시소자의 제조방법을 개략적으로 도시한 단면도이다.
<도면의 주요부의 부호에 대한 설명>
100 : 게이트 배선 120 : 게이트 전극
180 : 제2링크선 200 : 데이터 배선
220 : 소스 전극 240 : 드레인 전극
280 : 제1링크선 300 : 화소전극
350 : 연결도전막 400 : 박막트랜지스터
500 : 게이트 절연막 600 : 보호막
700 : 레이저 장비
본 발명은 액정표시소자에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 액정표시소자의 데이터 배선과 구동회로를 연결하는 링크부에 관한 것이다.
표시화면의 두께가 수 센티미터(cm)에 불과한 초박형의 평판표시소자(Flat Panel Display), 그 중에서도 액정표시소자는 동작 전압이 낮아 소비 전력이 적고 휴대용으로 쓰일 수 있는 등의 이점으로 노트북 컴퓨터, 모니터, 우주선, 항공기 등에 이르기까지 응용분야가 넓고 다양하다.
상기 액정표시소자는 하부기판, 상부기판 및 상기 양 기판 사이에 형성된 액정층을 포함하여 구성된다.
상기 상부기판 상에는 광이 누설되는 것을 차단하기 위한 차광층이 형성되어 있고, 상기 차광층 위에 컬러필터층이 형성되어 있으며, 상기 컬러필터층 상부에 공통전극이 형성되어 있다.
또한, 상기 하부기판 상에는 게이트 배선, 데이터 배선, 박막트랜지스터 및 화소전극 등이 형성되어 있다.
도 1은 종래 기술에 따른 액정표시소자의 하부기판을 개략적으로 도시한 평면도이다.
도 1에서 알 수 있듯이, 하부기판에는 서로 교차되어 화소영역을 정의하는 게이트 배선(10) 및 데이터 배선(20)이 형성되어 있고, 상기 게이트 배선(10) 및 데이터 배선(20)의 교차부마다 박막트랜지스터(40)가 형성되어 있다.
상기 박막트랜지스터(40)는 상기 게이트 배선(10)에 연결된 게이트 전극(12)과, 상기 게이트 전극 상부의 반도체층(도시하지 않음)과, 상기 데이터 배선(20)에 연결된 소스 전극(22)과, 상기 소스 전극으로부터 일정간격 이격되어 화소전극(30)에 연결된 드레인 전극(24)으로 구성된다.
상기 화소전극(30)은 투명한 전도성 물질로 이루어져 있으며, 보호막(도시되지 않음)을 관통하는 콘택홀(26)을 통해 상기 박막트랜지스터(40)의 드레인 전극(24)과 연결된다.
여기서, 상기 게이트 배선(10)은 박막트랜지스터(40)의 게이트 전극(12)에 게이트 신호를 공급하고, 상기 데이터 배선(20)은 박막트랜지스터(40)의 드레인 전극(24)을 통해 화소전극(30)에 화소신호를 공급한다.
또한, 상기 박막트랜지스터(40)는 게이트 배선(10)의 게이트 신호에 응답하여 데이터 배선(20)의 화소신호가 화소전극(30)에 충전되어 유지되게 한다.
상기 데이터 배선(20)은 화소 신호를 받기 위해 데이터 구동회로와 연결되어 있다.
이하에서, 종래 기술에 따른 상기 데이터 배선(20)과 데이터 구동회로의 링크부에 대해 도면을 참조하여 살펴본다.
도 1에서 알 수 있듯이, 데이터 배선(20)과 데이터 구동회로의 링크부는 데이터 배선(20)으로부터 연장 형성되는 제1링크선(28)과, 데이터 구동회로로부터 연 장 형성되는 제2링크선(18)을 포함하여 구성되고, 상기 제1링크선(28)은 제2링크선(18)과 연결도전막(35)에 의해 연결되어 있다.
이러한 구조는 제2링크선이 제1링크선보다 저항이 낮은 물질로 형성되므로, 화소신호의 지연을 방지하고 패턴의 폭을 줄일 수 있는 구조이다.
상기 제1링크선(28)과 제2링크선(18)의 링크부는 도 2에서 그 구조를 자세히 도시하였다.
도 2는 도 1의 A-A' 라인의 단면도이다.
도 2에서 알 수 있듯이, 기판(11) 상에 형성된 링크부의 제1링크선(28)과 제2링크선(18)은 위치하는 층이 다르기 때문에, 연결도전막(35)에 의해 서로 연결된다.
이 때, 상기 제1링크선(28)과 연결도전막(35) 사이에는 보호막(60)이 형성되어 있고, 상기 제2링크선(18)과 연결도전막(35) 사이에는 게이트 절연막(50) 및 보호막(60)이 형성되어 있다.
다만, 종래 기술에 따른 데이터 배선(20)과 데이터 구동회로의 링크부는 연결도전막(35)과 제1링크선(28)의 접촉지점(C1) 또는 연결도전막(35)과 제2링크선(18)의 접촉지점(C2)에서 접촉이 제대로 되지 않을 경우 배선 불량이 발생하게 된다. 즉, 데이터 구동회로로부터 공급되는 화소신호가 데이터 배선(20)으로 전달되지 않게 된다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로,
본 발명의 제1목적은 데이터 배선과 데이터 구동회로의 링크부의 제1링크선과 제2링크선을 중첩 형성한 후, 연결도전막에 의해 제1링크선과 제2링크선을 연결함으로써, 상기 연결도전막과 제1, 제2링크선 사이에 접촉 불량이 발생하는 경우에도 레이저의 조사에 의해 접촉 불량을 쉽게 리페어 할 수 있는 구조의 액정표시소자를 제공하는 것이고,
본 발명의 제2목적은 상기 구조의 액정표시소자에 발생한 배선 불량을 용이하게 리페어하는 방법을 이용한 액정표시소자 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명은 상기와 같은 제1목적을 달성하기 위해서, 서로 대향된 제1기판 및 제2기판; 상기 제1기판 상에 서로 종횡으로 교차하여 화소 영역을 정의하는 게이트 배선 및 데이터 배선; 상기 게이트 배선과 데이터 배선의 교차 영역에 형성된 박막트랜지스터; 상기 박막트랜지스터와 연결된 화소전극; 상기 데이터 배선으로부터 연장 형성되는 제1링크선; 상기 제1링크선에 중첩되어 형성되고, 연결도전막에 의해 제1링크선과 연결되는 제2링크선; 및 상기 제1기판과 제2기판 사이에 형성된 액정층을 포함하여 이루어지는 액정표시소자를 제공한다.
상기 연결도전막은 상기 제1링크선 및 제2링크선 상에 중첩 형성되어, 레이저 조사시 상기 연결도전막, 제1링크선 및 제2링크선이 서로 일체형으로 접속될 수 있다.
종래 기술에 따른 액정표시소자는 상기 제1링크선과 제2링크선이 중첩되어 형성되지 아니하였으나, 본 발명에서는 상기 양 링크선을 중첩시키고 연결도전막도 중첩시키는 구조로 상기 데이터 배선 및 데이터 구동회로의 링크부를 구성함으로써, 링크선과 연결도전막의 접촉 불량 발생시 리페어를 용이하게 할 수 있도록 하였다.
이 때, 상기 중첩되어 형성된 제1링크선과 연결도전막 사이에는 보호막이 형성될 수 있고, 이 경우 상기 연결도전막은 보호막을 관통하여 상기 제1링크선과 연결될 수 있다.
또한, 상기 제2링크선과 연결도전막 사이에는 게이트 절연막 및 보호막이 구비되고, 이 경우 상기 연결도전막은 상기 게이트 절연막 및 보호막을 관통하여 상기 제2링크선과 연결될 수 있다.
상기 제2링크선은 게이트 배선과 동일층에 형성될 수 있고, 상기 연결도전막은 상기 화소전극과 동일층에 형성될 수 있다.
또한, 상기 제2링크선은 외부 구동회로와 연결된 데이터 패드전극으로부터 연장 형성될 수 있다.
본 발명은 상기와 같은 제2목적을 달성하기 위해서, 게이트 배선을 형성하는 공정(제1공정); 데이터 배선 및 이를 연장한 제1링크선을 형성하는 공정(제2공정); 상기 제1링크선에 중첩된 제2링크선을 형성하는 공정(제3공정); 상기 게이트 배선과 데이터 배선의 교차 영역에 박막트랜지스터를 형성하는 공정(제4공정); 상기 박막트랜지스터와 연결되는 화소전극을 형성하는 공정(제5공정); 상기 제1링크선과 제2링크선을 연결하는 연결도전막을 형성하는 공정(6공정); 상기 제1링크선 및 제2링크선의 접촉 불량을 검사하는 공정(제7공정); 및 상기 접촉 불량 발생시 이를 리 페어하는 공정(제8공정)으로 이루어지며,
상기 접촉 불량을 리페어하는 공정(제8공정)은 레이저를 이용하여 리페어하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자 제조방법을 제공한다.
이 때, 상기 게이트 배선을 형성하는 공정(제1공정)과 상기 제2링크선을 형성하는 공정(제3공정)은 하나의 공정으로 이루어 질 수 있다.
또한, 상기 화소전극을 형성하는 공정(제5공정)과 상기 연결도전막을 형성하는 공정(제6공정)도 하나의 공정으로 이루어질 수 있다.
또한, 상기 레이저를 이용하여 접촉 불량을 리페어하는 공정(제8공정)은 제1, 제2링크선과 연결도전막의 접촉 불량시 제1링크선과 연결도전막이 접속하는 영역에 레이저를 조사하는 공정으로 이루어질 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.
도 3은 본 발명에 따른 액정표시소자의 하부기판을 개략적으로 도시한 평면도이다.
본 발명에 따른 액정표시소자의 하부기판은 화상을 표시하는 액티브 영역 및 외부 구동회로와 연결되는 패드부 영역으로 구성되는 바, 도 3에서 알 수 있듯이, 상기 액티브 영역에는 게이트 배선(100), 데이터 배선(200), 박막트랜지스터(400), 화소전극(300)이 형성되어 있고, 상기 패드부 영역에는 데이터 패드전극이 형성되어 있으며, 상기 액티브 영역의 데이터 배선(200)은 링크되어 패드부 영역의 데이터 패드전극에 연결된다. 이 때, 데이터 배선(200)이 데이터 구동회로와 연결되기 위해 링크되는 부분이 데이터 배선(200)과 데이터 구동회로 사이의 링크부이다.
상기 게이트 배선(100)과 데이터 배선(200)은 서로 종횡으로 교차하여 화소영역을 정의하고, 상기 박막트랜지스터(400)는 상기 게이트 배선(100)과 데이터 배선(200)의 교차영역에 형성된다.
상기 박막트랜지스터(400)는 상기 게이트 배선(100)과 연결된 게이트 전극(120), 상기 게이트 전극으로부터 절연되어 게이트 전극 상부에 형성되는 반도체층(도시하지 않음), 상기 데이터 배선(200)과 연결된 소스전극(220), 및 상기 소스전극으로부터 일정 간격 이격되고 콘택홀(260)을 통해 상기 화소전극(300)과 연결된 드레인 전극(240)을 포함하여 구성된다.
상기 데이터 배선(200)과 데이터 구동회로가 연결되는 링크부는 상기 데이터 배선(200)으로부터 연장 형성된 제1링크선(280)과, 상기 데이터 구동회로와 연결된 데이터 패드전극(도시하지 않음)으로부터 연장 형성되고 상기 제1링크선에 중첩 형성된 제2링크선(180)과, 서로 다른 층에 형성된 제1, 제2링크선(280, 180)을 서로 연결시켜주는 연결도전막(350)을 포함하여 구성된다. 이 때, 상기 연결도전막도 서로 중첩되어 있는 제1, 제2링크선에 중첩 형성된다.
상기 데이터 배선(200)과 데이터 구동회로가 연결되는 링크부의 구조는 도 4를 참조하여 구체적으로 검토한다.
도 4는 도 3의 B-B'의 단면도이다.
도 4에서 알 수 있듯이, 상기 데이터 배선(200)과 데이터 구동회로가 연결되는 링크부에 제1링크선(280)과 제2링크선(180)이 중첩 형성되어 있고, 그 사이에 게이트 절연막(500)이 형성되어 있다. 이 때, 상기 제1링크선(280)은 데이터 배선(도 3의 200)과 동일층에 구비되고, 상기 제2링크선은 게이트 배선(도 3의 100)과 동일층에 구비되고, 상기 제2링크선은 게이트 배선(도 3의 100)과 동일층에 구비되며 데이터 패드전극과 일체형으로 형성된다.
또한, 상기 제1링크선(280) 상부에는 보호막(600)이 형성되어 있고, 그 보호막(600) 상부에 연결도전막(350)이 중첩되어 있으며, 제1링크선(280)과 연결도전막(350)은 그 사이의 보호막(600)을 관통하여 서로 연결된다.
그리고 상기 제2링크선(180) 상부에는 게이트 절연막(500) 및 보호막(600)이 형성되어 있고, 상기 보호막(600) 상부에 연결도전막(350)이 중첩되어 있으며, 제2링크선(180)과 연결도전막(350)은 그 사이의 게이트 절연막(500) 및 보호막(600)을 관통하여 서로 연결된다.
즉, 데이터 구동회로로부터 전송된 화소신호는 데이터 패드전극으로부터 연장 형성된 제2링크선(180)을 지나 연결도전막(350)을 통해 제1링크선(280) 및 데이터 배선(200)으로 전송된다.
이와 같이, 연결도전막(350), 제1링크선(280) 및 제2링크선(180)이 중첩되어 형성된 경우, 연결도전막(350)과 제1링크선(280)의 접촉지점(C3) 또는 연결도전막(350)과 제2링크선(180)의 접촉지점(C4)에 배선 불량이 발생하더라도, 연결도전막(350)과 제1링크선(280)의 접촉지점(C3)에 레이저를 조사하여, 상기 지점에서 연결도전막(350), 제1링크선(280) 및 제2링크선(180)을 일체형으로 접촉시킬 수 있어, 쉽게 배선 불량 즉, 링크선(280, 180)과 연결도전막(350)의 접촉 불량을 해소할 수 있다.
상기 제1링크선(280)은 데이터 배선(200)으로부터 연장 형성되므로 데이터 배선(200)과 동일한 물질로 구성될 수 있는데, 바람직하게는 몰리브덴(Mo)이 이용된다.
상기 제2링크선(180)은 게이트 배선(100)과 동일층에 형성되어 있고, 그 구성물질 또한 게이트 배선(100)과 동일한 물질로 구성될 수 있는데, 바람직하게는 알루미늄 합금(AlNd)과 몰리브덴(Mo)의 이중막 구조로 형성된다.
상기 게이트 절연막(500)은 박막트랜지스터(400)의 게이트 전극(120) 상부에 형성되는 게이트 절연막과 동일층이며, 그 구성물질 또한 동일하다.
상기 보호막(600)은 소스 전극(220)과 드레인 전극(240)을 형성한 후, 그 상부에 형성하는 보호막과 동일층이며, 그 구성물질 또한 동일하다.
상기 연결도전막(350)은 드레인 전극과 연결되는 화소전극(300)과 동일층이며, 그 구성물질 또한 동일할 수 있는데, 그 구성물질로는 인-주석-산화물(Indium-Tin-Oxide)과 같은 투명도전물질이 사용된다.
또한, 상기와 같은 구조의 액정표시소자를 제조하기 위해서는,
우선, 도 5a에 도시된 바와 같이, 기판(111) 상에 알루미늄 합금(AlNd), 몰리브덴(Mo)을 차례로 증착하고 패터닝하여 게이트 배선(도 3의 100), 게이트 전극(120) 및 데이터 패드전극으로부터 연장 형성된 제2링크선(180)을 형성한다.
그 후, 상기 게이트 배선(도 3의 100), 게이트 전극(120) 및 제2링크선(180)을 포함한 전면에 실리콘 질화물 또는 실리콘 산화물과 같은 무기절연물질을 증착 하여 게이트 절연막(500)을 형성한다.
이어서, 상기 게이트 절연막(500)을 포함한 전면에 비정질 실리콘을 증착하고 패터닝하여 상기 게이트 전극(120) 상부의 게이트 절연막(500) 상에 반도체층(190)을 형성한다.
계속해서, 도 5b에 도시된 바와 같이, 상기 반도체층(190)을 포함한 전면에 몰리브덴을 증착하고 패터닝하여 데이터 배선(200), 소스전극(220), 드레인 전극(240) 및 데이터 배선(200)으로부터 연장 형성된 제1링크선(280)을 형성한다.
그 후, 상기 데이터 배선(200) 및 제1링크선(280)을 포함한 전면에 실리콘질화물 또는 실리콘 산화물 등의 무기절연물질을 증착하여 보호막(600)을 형성한다.
다음, 상기 드레인 전극 상부의 보호막(600)을 제거하여 콘택홀(260)을 형성하고, 상기 제1링크선(280) 상부의 보호막을 제거하여 접촉지점(C3)을 형성하며, 상기 제2링크선(180) 상부의 게이트 절연막(500) 및 보호막(600)을 제거하여 접촉지점(C4)을 형성한다.
이어서, 도 5c에 도시된 바와 같이, 상기 보호막(600) 상에 인-주석-산화물(Indium-Tin-Oxide)과 같은 투명도전물질을 증착하고 패터닝하여 상기 콘택홀(260)을 통해 드레인 전극(240)에 연결되는 화소전극(300)과, 상기 접촉지점(C3, C4)을 통해 제1, 제2링크선(280, 180)에 연결되는 연결도전막(350)을 형성하여 액정표시소자의 하부기판을 완성한다.
그 후, 상기 액정표시소자의 하부기판을 완성한 후, 연결도전막(350)이 제1링크선(280) 및 제2링크선(180)과 잘 접촉되었는지, 혹시 접촉이 되지 않아 배선 불량이 생기지 않았는지 검사한다.
만일, 도 5d에 도시된 바와 같이, 상기 연결도전막(350)과 제2링크선(180)의 접촉지점(C4)에 접촉 불량이 발생하였다면, 연결도전막(350)이 제1링크선(280)과 접촉하는 부분에 레이저 장비(700)로 레이저를 조사하여, 도 5e에 도시된 바와 같이, 연결도전막(350), 제1링크선(280) 및 제2링크선(180)을 한꺼번에 접촉시킴으로써 배선 불량을 쉽게 리페어 할 수 있다. 물론, 연결도전막(350)과 제1링크선(280)의 접촉지점(C3)에 접촉 불량이 발생한 경우에도, 상기와 같은 방법으로 배선 불량을 리페어 할 수 있다.
참고로, 상기 제2링크선(180)을, 상기 제1링크선(280)과 연결도전막(350)이 서로 접속되어 있는 부분에 까지 중첩 형성함으로써, 상기 연결도전막(350)과 제1링크선(280)이 접촉하는 부분에 레이저를 조사시, 상기 제1링크선(280), 제2링크선(180) 및 연결도전막(350)이 일체형으로 접속되도록 한다.
그리고 상기 연결도전막(350)과 제1링크선(280)이 접촉하는 부분(C3)에 레이저를 조사하는 이유는, 레이저 조사에 의해 게이트 절연막(500)만 관통하면 상기 제1링크선(280), 제2링크선(180) 및 연결도전막(350)이 용이하게 접속되기 때문이다. 물론, 이에 한정하는 것은 아니다.
위와 같이 레이저 조사에 의해 연결도전막(350), 제1링크선(280) 및 제2링크선(180)을 한꺼번에 접촉시키는 경우 데이터 구동회로로부터 전송된 데이터는 연결도전막(350)을 거치지 않고 제2링크선(180)에서 바로 제1링크선(280)으로 전송될 것이다.
상기 구성에 의한 본 발명에 따르면,
데이터 배선으로부터 연장 형성된 제1링크선과 데이터 패드전극으로부터 연장 형성된 제2링크선을 중첩 형성한 후, 상기 제1링크선 및 제2링크선과 중첩 형성된 연결도전막에 의해 제1링크선과 제2링크선을 연결하므로, 상기 링크선과 연결도전막 사이에 접촉 불량이 발생하는 경우에도, 상기 연결도전막과 제1링크선의 접촉지점에 레이저를 조사함으로써, 상기 연결도전막, 제1링크선 및 제2링크선을 한꺼번에 접속시킬 수 있어, 접촉 불량을 쉽게 리페어 할 수 있다.

Claims (15)

  1. 서로 대향된 제1기판 및 제2기판;
    상기 제1기판 상에 서로 종횡으로 교차하여 화소 영역을 정의하는 게이트 배선 및 데이터 배선;
    상기 게이트 배선과 데이터 배선의 교차 영역에 형성된 박막트랜지스터;
    상기 박막트랜지스터와 연결된 화소전극;
    상기 데이터 배선으로부터 연장 형성되는 제1링크선;
    상기 제1링크선에 중첩되어 형성되고, 연결도전막에 의해 제1링크선과 연결되는 제2링크선; 및
    상기 제1기판과 제2기판 사이에 형성된 액정층을 포함하여 이루어지는 액정표시소자.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 연결도전막은
    상기 제1링크선 및 제2링크선 상에 중첩되어 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시소자.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 중첩되어 형성된 제1링크선, 제2링크선 및 연결도전막은 레이저 조사시 서로 일체형으로 접속되는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 제1링크선과 연결도전막 사이에 보호막이 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시소자.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 연결도전막은
    상기 보호막을 관통하여 상기 제1링크선과 연결되는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 제2링크선과 연결도전막 사이에 게이트 절연막 및 보호막이 구비된 것을 특징으로 하는 액정표시소자.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 연결도전막은
    상기 게이트 절연막 및 보호막을 관통하여 상기 제2링크선과 연결되는 것을 특징으로 하는 액정표시소자.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 제2링크선은
    상기 게이트 배선과 동일층에 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시소자.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 연결도전막은
    상기 화소전극과 동일층에 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시소자.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 제2링크선은
    외부 구동회로와 연결된 데이터 패드전극으로부터 연장 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시소자.
  11. 게이트 배선을 형성하는 공정;
    데이터 배선 및 이를 연장한 제1링크선을 형성하는 공정;
    상기 제1링크선에 중첩된 제2링크선을 형성하는 공정;
    상기 게이트 배선과 데이터 배선의 교차 영역에 박막트랜지스터를 형성하는 공정;
    상기 박막트랜지스터와 연결되는 화소전극을 형성하는 공정;
    상기 제1링크선과 제2링크선을 연결하는 연결도전막을 형성하는 공정;
    상기 제1링크선 및 제2링크선의 접촉 불량을 검사하는 공정; 및
    상기 접촉 불량 발생시 이를 리페어하는 공정을 포함하여 이루어지고,
    상기 접촉 불량을 리페어하는 공정은 레이저를 이용하여 리페어하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자 제조방법.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 게이트 배선을 형성하는 공정과 상기 제2링크선을 형성하는 공정이
    하나의 공정으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정표시소자 제조방법.
  13. 제11항에 있어서,
    상기 화소전극을 형성하는 공정과 상기 연결도전막을 형성하는 공정이
    하나의 공정으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정표시소자 제조방법.
  14. 제11항에 있어서,
    상기 제2링크선은, 상기 제1링크선과 연결도전막이 서로 접속되어 있는 부분에까지 중첩 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자 제조방법.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 레이저를 이용하여 접촉 불량을 리페어하는 공정은
    제1링크선과 연결도전막이 접속되는 영역에 레이저를 조사하는 것을 특징으 로 하는 액정표시소자 제조방법.
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