KR20070051743A

KR20070051743A - Carrier device and exposure device

Info

Publication number: KR20070051743A
Application number: KR1020060112338A
Authority: KR
Inventors: 노부히토 사지
Original assignee: 닛뽄 세이꼬 가부시기가이샤
Priority date: 2005-11-15
Filing date: 2006-11-14
Publication date: 2007-05-18
Also published as: JP2007165821A; TW200728933A

Abstract

노광 장치의 전후로 복수의 마스크를 효율적으로 회수하고 분배하는 것이 가능한 캐리어 장치 및 노광 장치를 제공하는 것.Providing the carrier apparatus and exposure apparatus which can collect | recover and distribute a some mask efficiently before and after an exposure apparatus.

패턴(P)이 위에 각각 형성된 복수의 마스크(M) 사이에 스페이서(20)가 배열되고 이들 마스크가 적층되면서 지지되기 때문에, 적층할 때 마스크(M)상의 패턴(P)을 손상시키지 않도록 스페이서(20)에 의해 간극이 형성될 수 있고, 마스크가 조밀한 상태로 지지될 수 있는 동시에, 복수의 마스크(M)를 즉시 회수하여 즉시 분배할 수 있으므로, 운반에 필요한 시간을 상당히 감소시킬 수 있어, 마스크(M)를 사용하는 장치의 성능 이용률을 개선시키는 것이 가능하다.Since the spacers 20 are arranged between the plurality of masks M formed thereon and the masks are stacked and supported, the spacers P may not be damaged when the patterns P are stacked. 20) the gap can be formed, the mask can be supported in a dense state, and at the same time a plurality of masks (M) can be immediately recovered and immediately distributed, thereby significantly reducing the time required for transportation, It is possible to improve the performance utilization rate of the device using the mask M.

Description

Carrier device and exposure device {CARRIER DEVICE AND EXPOSURE DEVICE}

도 1은 제1 실시예에 따른 노광 장치의 평면도,1 is a plan view of an exposure apparatus according to a first embodiment,

도 2는 제1 실시예의 노광을 실행하는 상태에 따른 노광 장치를 도시하는 측면도,2 is a side view showing an exposure apparatus according to a state in which exposure of the first embodiment is performed;

도 3은 유지부와 마스크와 스페이서 사이의 치수 관계를 도시하는 다이아그램,3 is a diagram showing a dimensional relationship between a holding part and a mask and a spacer;

도 4는 운반 도중의 유지부, 마스크 및 스페이서의 관계를 도시하는 다이아그램,4 is a diagram showing a relationship between a holding part, a mask, and a spacer during transportation;

도 5는 저장된 상태의 마스크를 도시하는 다이아그램,5 is a diagram showing a mask in a stored state;

도 6은 마스크를 운반하는 상태에서의 노광 장치를 도시하는 측면도,6 is a side view showing an exposure apparatus in a state of carrying a mask;

도 7은 마스크 회수 공정을 도시하는 흐름도,7 is a flowchart showing a mask recovery process;

도 8은 마스크 분배 공정을 도시하는 흐름도,8 is a flowchart illustrating a mask dispensing process;

도 9는 제2 실시예에 따른 노광 장치의 평면도,9 is a plan view of the exposure apparatus according to the second embodiment,

도 10은 노광을 실행하는 상태에서의 제2 실시예에 따른 노광 장치를 도시하는 측면도,10 is a side view showing an exposure apparatus according to a second embodiment in a state of performing exposure;

도 11은 마스크 회수 공정 및 분배 공정을 도시하는 흐름도.11 is a flowchart illustrating a mask recovery process and a distribution process.

도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명Explanation of symbols for the main parts of the drawings

1 : 베이스 2 : 척1: Base 2: Chuck

10 : 유지 장치 11 : 아암10 holding device 11: arm

12 : 유지부 13 : Z축 이동 장치12: holding unit 13: Z-axis moving device

14 : θ축 이동 장치 15 : Y축 이동 장치14: θ axis moving device 15: Y axis moving device

20 : 스페이서 20a : 제1 결합부20: spacer 20a: first coupling portion

20b : 제2 결합부 20c : 플랜지부20b: second coupling portion 20c: flange portion

21 : 운반 트레이 20d : 돌기21: carrying tray 20d: protrusion

30 : 캐리어 장치 32 : 트레이 지지부30 carrier device 32 tray support

M : 마스크 W : 기판M: Mask W: Substrate

본 발명은 캐리어 장치 및 노광 장치(exposure device)에 관한 것으로서, 특히 액정 디스플레이 및 플라즈마 디스플레이와 같은 큰 사이즈의 평판 디스플레이 사용되는 기판 상에 노광 전사(exposing and transferring)하기에 적합한 노광 장치 및 상술한 마스크를 운반하기에 적합한 캐리어 장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a carrier device and an exposure device, in particular an exposure apparatus suitable for exposing and transferring onto substrates used for large size flat panel displays such as liquid crystal displays and plasma displays and the masks described above. A carrier device suitable for carrying a carrier.

대형 평면 스크린 TV에 사용되는 액정 디스플레이 및 플라즈마 디스플레이와 같은 대형 디스플레이는, 분할 순차 노광 방법(divided sequential exposure method)을 사용하여 기판상에 마스크 패턴의 근접 노광 전사(proximity exposure-transfer)를 실행함으로써 제작된다. 이러한 유형의 분할 순차 노광 장치의 종래의 예로서, 마스크에 표시된 복수의 마스크 패턴을 기판상에 노광 전사하여 단일의 기판상에 복수의 디스플레이를 생성하는 분할 순차 노광 장치가 일반적으로 공지되어 있는데, 여기서 예컨대 노광될 물질인 기판보다 작은 마스크가 사용되고 마스크는 마스크 스테이지에 의해 유지되는 한편, 기판은 작업 단에 의해 유지되고 서로 근접하도록 대향하여 배열되며, 이 상태에서 작업 스테이지는 마스크 스테이지와 일치하여 이동하고, 각 단계에서 패턴 노광 광이 마스크측으로부터 기판상에 조사되어 마스크에 표시된 복수의 마스크 패턴을 기판상에 노광 전사함으로써 단일 기판에 복수의 디스플레이 등을 만든다(특허 문헌 1 및 2 참조)Large displays, such as liquid crystal displays and plasma displays used in large flat screen TVs, are fabricated by performing proximity exposure-transfer of a mask pattern on a substrate using a divided sequential exposure method. do. As a conventional example of this type of split sequential exposure apparatus, a split sequential exposure apparatus is generally known, in which a plurality of mask patterns displayed on a mask are exposed and transferred onto a substrate to produce a plurality of displays on a single substrate, wherein For example, a mask smaller than the substrate, which is the material to be exposed, is used and the mask is held by the mask stage, while the substrate is held by the working stage and arranged opposite to each other, in which state the working stage moves in line with the mask stage and In each step, pattern exposure light is irradiated onto the substrate from the mask side to expose and transfer the plurality of mask patterns displayed on the mask onto the substrate, thereby producing a plurality of displays and the like on a single substrate (see Patent Documents 1 and 2).

[특허 문헌 1] 일본 특허 공보 제 2672535 호 명세서[Patent Document 1] Japanese Patent Publication No. 2672535

[특허 문헌 2] 일본 특허 출원 공개 평 01-155354 호[Patent Document 2] Japanese Patent Application Laid-open No. 01-155354

덧붙여 말하면, 근접 노광 전사를 실행하는 경우에, 제품과 동일한 사이즈의 패턴을 갖는 마스크가 일반적으로 사용된다. 최근의 평판 TV의 스크린 사이즈는 소비자의 선택에 응하여 커지는 경향이 있고, 기판상에 노광 전사될 패턴 영역이 커지고 있기 때문에, 노광 전사를 위한 큰 마스크의 사용이 필요하다. 그러나, 큰 마스크를 제작하는 데는 비용이 상당히 증가한다는 문제점이 있다. 또한, 마스크는 종종 석영 등의 부서지기 쉬운 재료로 형성되기 때문에, 이러한 재료는 부적절한 취급에 의해 손상되기 쉽고, 또한 이것은 비용 증가를 가속화하는 원인이 된다.Incidentally, in the case of performing the near exposure transfer, a mask having a pattern of the same size as the product is generally used. In recent years, the screen size of flat-panel TVs tends to be large in response to consumer choice, and since the pattern area to be exposed and transferred on the substrate is large, the use of a large mask for exposure transfer is necessary. However, there is a problem in that the cost of manufacturing a large mask increases considerably. In addition, since the mask is often formed of a brittle material such as quartz, such a material is likely to be damaged by improper handling, which also causes an increase in cost.

이에 응하여, 노광을 실행하기 위해 마스크가 분할되고 일렬로 배열되며 기 판이 일방향으로 이동하는 분할 노광 방법이 고려되어 왔다. 이러한 노광 방법은 기판에 형성될 패턴에 어느 정도의 반복 부분이 존재하는 것으로 가정하고, 이들 반복 부분을 정렬하고 함께 조합하여 큰 패턴을 형성하는 능력을 이용한다. 그러한 분할 노광 방법에 따르면, 고가의 마스크를 사용할 필요가 없이, 비교적 저렴한 마스크를 이용하여 큰 패턴을 기판상에 노광시키고 전사할 수 있다.In response, a divided exposure method has been considered in which a mask is divided, arranged in a row, and a substrate moves in one direction to perform exposure. This exposure method assumes that there are some repeating portions in the pattern to be formed on the substrate, and utilizes the ability to align these repeating portions and combine them together to form a large pattern. According to such a split exposure method, a large pattern can be exposed and transferred onto a substrate using a relatively inexpensive mask without the need for an expensive mask.

덧붙여 말하면, 이러한 분할 노광 방법에서는, 복수의 마스크를 사용할 필요가 있다. 한편, 세정과 같은 마스크 유지보수를 비교적 짧은 사이클에서 실행할 수 없다면, 적절한 노광을 실행할 수 없다. 따라서, 효율적으로 사용된 마스크를 노광 장치로부터 회수할 수 있는지와, 효율적으로 세정된 마스크를 노광 장치에 탑재할 수 있는지의 여부가, 노광 장치의 용량 이용률을 개선하는데 상당한 문제점이 된다.In addition, in such a split exposure method, it is necessary to use a plurality of masks. On the other hand, if mask maintenance such as cleaning cannot be performed in a relatively short cycle, proper exposure cannot be performed. Therefore, whether or not the mask used efficiently can be recovered from the exposure apparatus and whether or not the mask cleaned efficiently can be mounted on the exposure apparatus is a significant problem in improving the capacity utilization rate of the exposure apparatus.

따라서, 종래 기술의 문제점을 고려하여, 본 발명의 목적은, 복수의 마스크를 노광 장치에 효율적으로 분배하고 또 그로부터 회수하는 것이 가능한 캐리어 장치 및 노광 장치를 제공하는 것이다. Accordingly, in view of the problems of the prior art, it is an object of the present invention to provide a carrier apparatus and an exposure apparatus capable of efficiently distributing and recovering a plurality of masks from an exposure apparatus.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 제1 측면의 캐리어 장치는, 패턴이 각각 형성된 복수의 마스크 사이에 스페이서가 배열되고, 패턴이 적층 상태로 운반되는 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the carrier device of the first aspect of the present invention is characterized in that a spacer is arranged between a plurality of masks each having a pattern formed thereon, and the pattern is carried in a laminated state.

또한, 본 발명의 제2 측면의 노광 장치는, 패턴이 형성된 마스크를 통하여 노광을 조사함으로써 이동 가능하게 유지된 기판상에 패턴의 노광을 실행하는 노광 장치에 있어서, 복수의 마스크가 적층된 상태로 탑재되고 기판의 이동 방향과 교차하도록 연장된 하나의 선 운반 경로를 따라 이동하는 캐리어 장치와, 소정의 위치로 이동할 때 캐리어 장치로부터 마스크 중 하나 이상을 분배하는 분배 장치가 제공되고, 분배 장치는 이송 경로의 양측에 마스크를 분배한다.Moreover, the exposure apparatus of the 2nd side surface of this invention is an exposure apparatus which performs exposure of a pattern on the board | substrate hold | maintained to be movable by irradiating exposure through the mask in which the pattern was formed, WHEREIN: The several mask is laminated | stacked. There is provided a carrier device which is mounted and moves along one line conveying path extending to intersect the movement direction of the substrate and a dispensing device for dispensing one or more of the masks from the carrier device when moving to a predetermined position, the dispensing device being transported Distribute the mask on both sides of the path.

또한, 본 발명의 제3 측면에 따른 노광 장치는, 패턴이 형성된 마스크를 통하여 노광을 조사함으로써 이동 가능하게 유지된 패턴의 노광을 실행하는 노광 장치에 있어서, 복수의 마스크를 제1 탑재 위치 및 제2 탑재 위치에 적층된 상태로 탑재하고 기판의 이동 방향과 교차하도록 연장된 하나의 선 운반 경로를 따라 이동하는 캐리어 장치와, 이동 경로의 일측면에 배열되어 캐리어 장치가 소정 위치로 이동한 후에 캐리어 장치의 제1 탑재 위치로부터 하나 이상의 마스크를 분배하는 제1 분배 장치와, 운반 경로의 다른 측면에 배열되어 캐리어 장치가 소정 위치로 이동한 후에 캐리어 장치의 제2 탑재 위치로부터 하나 이상의 마스크를 분배하는 제2 분배 장치가 제공된다.Moreover, the exposure apparatus which concerns on the 3rd aspect of this invention performs exposure of the pattern hold | maintained to be movable by irradiating exposure through the mask in which the pattern was formed, WHEREIN: A plurality of masks are provided with a 1st mounting position and a 1st. 2 a carrier device mounted in a stacked state at a mounting position and moving along one line carrying path extending to cross the moving direction of the substrate, and arranged on one side of the moving path to move the carrier device to a predetermined position. A first dispensing device for dispensing one or more masks from the first mounting position of the device and for dispensing one or more masks from the second mounting position of the carrier device after the carrier device has moved to a predetermined position arranged on the other side of the conveying path; A second dispensing device is provided.

[발명의 효과][Effects of the Invention]

예컨대, 복수의 마스크가 노광 장치내의 트레이상에 각각 탑재되고 단일의 캐리어 장치를 사용하여 마스크를 운반하는 경우에, 하나의 마스크를 운반하고 왕복하는데 필요한 시간이 t 초이면, 마스크 회수에는 n×t 초의 운반 시간이 필요하고, 마스크 설치에도 n×t 초의 운반 시간이 필요하다. 한편, 본 발명의 제1 측면의 캐리어 장치에 따르면, 패턴이 각각 형성된 마스크가 적층되고 운반되기 때문 에, 복수의 마스크를 즉시 회수하여 즉시 분배할 수 있으므로, 운반 시간을 상당히 감소시킬 수 있어, 마스크를 사용하는 장치의 용량 이용률을 개선시킬 수 있다. 그러나, 복수의 마스크가 단순하게 적층되고 운반되면, 마스크사이에 마찰이 발생할 가능성이 있어, 마스크에 손상을 주는 결과가 발생한다. 따라서, 본 발명에 따르면, 복수의 마스크 사이에 스페이서를 배열하고 이 스페이서들을 적층 상태로 운반함으로써, 스페이서에 의해 간극을 형성하여 마스크가 적층될 때 마스크상의 패턴이 손상되지 않도록 하고 또 밀집된 상태로 운반할 수 있도록 한다.For example, in the case where a plurality of masks are each mounted on a tray in the exposure apparatus and use a single carrier device to transport the mask, if the time required for carrying and reciprocating one mask is t seconds, the number of masks is n × t. A second transport time is required, and a mask installation requires a transport time of n × t seconds. On the other hand, according to the carrier device of the first aspect of the present invention, since the masks each of which the pattern is formed are stacked and transported, a plurality of masks can be immediately recovered and immediately distributed, so that the transport time can be significantly reduced, so that the mask It is possible to improve the capacity utilization of the device using the. However, if a plurality of masks are simply stacked and transported, friction may occur between the masks, resulting in damage to the masks. Therefore, according to the present invention, by arranging spacers between a plurality of masks and transporting the spacers in a stacked state, gaps are formed by the spacers so that the patterns on the masks are not damaged when the masks are stacked and transported in a dense state. Do it.

중력 방향으로 스페이서의 아래에 배열된 마스크와 함께 스페이서를 마스크의 이송 위치로 이송할 수 있으면, 스페이서의 제거 동작이 필요치 않기 때문에 바람직하고, 또한 스페이서는 마스크를 보호하는 기능을 갖게 될 수 있다. If the spacer can be transferred to the transfer position of the mask together with the mask arranged below the spacer in the direction of gravity, the removal operation of the spacer is not necessary, and the spacer can also have a function of protecting the mask.

마스크를 마스크 이송 위치로 상승하도록 흡입에 의해 유지하는 것이 바람직하다.It is desirable to hold the mask by suction to raise the mask to the mask transfer position.

마스크는 패턴 노광에 사용되고 또한 스페이서는 적어도 패턴을 통과하는 노광을 차단하지 않는 위치에 배열되기 때문에, 스페이서는 노광 도중에 설치된 상태로 지속될 수 있다.Since the mask is used for pattern exposure and the spacer is arranged at a position that does not at least block the exposure passing through the pattern, the spacer can continue to be installed during the exposure.

하나의 스페이서만이 마스크와 함께 이송되도록 이동하는 것이 바람직하다. 이것은, 중력 방향으로 스페이서 하부의 마스크와 결합하는 스페이서의 결합부의 치수를 중력 방향으로 스페이서 상부의 마스크와 결합하는 스페이서의 결합부의 치수보다 작게 함으로써(예컨대, 스페이서를 마스크의 치수와 동일하게 함으로써) 실현될 수 있지만, 이를 실현하기 위한 수단은 이것에 한정되지 않는다.It is desirable to move only one spacer to be transported with the mask. This is achieved by making the dimensions of the engaging portion of the spacer engaging with the mask below the spacer in the gravity direction smaller than the dimensions of the engaging portion of the spacer engaging the mask above the spacer in the gravity direction (e.g., by making the spacer the same as the dimensions of the mask). However, the means for realizing this is not limited to this.

스페이서는 마스크가 적층될 때 마스크 사이의 상대 위치 이동을 보상하기 위한 수단을 갖는다. 이것은, 예컨대 중력 방향으로 스페이서의 상부에 제공된 마스크와 결합하는 스페이서의 결합부상의 하향 중력 방향으로 점차 작아지는 한 쌍의 테이퍼면을 제공하는 것에 의해서 실현될 수 있지만, 이를 실현하기 위한 수단은 이것에 한정되지 않는다.The spacer has a means for compensating for relative position movement between the masks when the masks are stacked. This can be realized, for example, by providing a pair of tapered surfaces which gradually become smaller in the downward gravity direction on the engaging portion of the spacer that engages the mask provided on top of the spacer in the direction of gravity, but means for realizing this are It is not limited.

스페이서는 유지 장치가 반송된 마스크를 유지할 때 이 유지 장치와 접촉하는 돌기를 갖는 것이 바람직하다. 마스크가 유지 장치에 의해 유지되는 동안 돌기를 유지 장치와 접촉하게 함으로써, 마스크와 스페이서가 억제될 수 있다.It is preferable that a spacer has the protrusion which contacts a holding apparatus, when a holding apparatus hold | maintains the conveyed mask. By bringing the projection into contact with the holding device while the mask is held by the holding device, the mask and the spacer can be suppressed.

본 발명의 제2 측면의 노광 장치에 따르면, 분배 장치가 운반 경로의 양측에 마스크를 분배하기 때문에, 하나의 선 운반 경로를 거쳐 단일 캐리어 장치를 이용하여 마스크 분배를 효율적으로 실행할 수 있다.According to the exposure apparatus of the second aspect of the present invention, since the dispensing apparatus distributes the mask to both sides of the conveying path, it is possible to efficiently perform mask dispensing using a single carrier device via one line conveying path.

마스크를 유지시키고 이동방향을 따라 이동할 수 있는 복수의 아암이 운반 경로의 양측에 배열되면, 분배 장치는 복수의 아암을 사용하여 운반 경로의 양측에서 마스크 분배를 실행할 수 있다.If a plurality of arms are arranged on both sides of the conveying path that can hold the mask and move along the direction of movement, the dispensing apparatus can perform mask dispensing on both sides of the conveying path using the plurality of arms.

바람직하게는, 캐리어 장치가 운반 경로를 따라 일 방향으로 이동할 때 마스크의 반송은 운반 경로의 일측면상의 아암에 의해서 캐리어 장치의 전후로 실행되고, 그리고 캐리어 장치가 운반 경로를 따라 다른 방향으로 이동할 때 마스크의 반송은 운반 경로의 다른 측면상의 아암에 의해서 캐리어 장치의 전후로 실행될 수 있다. 왜냐하면, 이에 의해서 효율적인 마스크 회수 및 설치를 실행하는 것이 가능하기 때문이다. Preferably, the conveyance of the mask when the carrier device moves in one direction along the conveying path is performed back and forth of the carrier device by an arm on one side of the conveying path, and the mask when the carrier device moves in the other direction along the conveying path The conveyance of can be carried out before and after the carrier device by the arms on the other side of the conveying path. This is because an efficient mask collection and installation can be performed thereby.

캐리어 장치가 운반 경로를 따라 일 방향으로 이동할 때, 운반 경로의 일측면상의 아암으로부터 캐리어 장치로의 마스크의 반송이 실행되면, 캐리어 장치가 운반 경로를 따라 다른 방향으로 이동할 때 캐리어 장치로부터 운반 경로의 다른 측면상의 아암으로의 반송이 실행되어, 예컨대 일방향측에 위치된 마스크를 다른 방향측으로 바꾸는 동작을 효율적으로 실행할 수 있다.When the carrier device moves in one direction along the conveying path, when conveyance of the mask from the arm on one side of the conveying path to the carrier device is performed, the carrier device moves from the carrier device in the other direction along the conveying path. Carrying to the arm on the other side is performed, for example, the operation which changes the mask located in one direction side to another direction side can be performed efficiently.

바람직하게는, 캐리어 장치는 그 사이에 스페이서가 배열되는 적층된 상태로 복수의 마스크를 운반하며, 분배 장치는 마스크와 스페이서를 함께 분배한다. 왜냐하면, 이에 의해서 효율적인 운반이 실행될 수 있기 때문이다.Preferably, the carrier device carries a plurality of masks in a stacked state with spacers arranged therebetween, and the dispensing device distributes the mask and the spacer together. This is because an efficient conveyance can be performed thereby.

저장할 때 복수의 마스크 사이에 스페이서가 배열된 상태로 적층되는 것이 바람직하다. 왜냐하면, 이에 의해서 복수의 마스크가 밀집하여 적층되어 많은 저장 공간을 필요로 하지 않기 때문이다.When storing, it is preferable that the spacers are stacked with the spacers arranged between the plurality of masks. This is because a plurality of masks are densely stacked and thereby do not require much storage space.

본 발명의 제3 측면의 노광 장치에 따르면, 제1 탑재 위치 및 제2 탑재 위치에 적층된 복수의 마스크를 운반하고 또 기판의 이동 방향과 교차하도록 연장되는 하나의 선 운반 경로를 따라 이동하는 캐리어 장치와, 운반 경로의 일측면에 배열되어 소정 위치로 이동한 캐리어 장치의 제1 탑재 위치로부터 하나 이상의 마스크를 분배하는 제1 분배 장치와, 운반 경로의 다른 측면에 배열되어 소정 위치로 이동한 캐리어 장치의 제2 탑재 위치로부터 하나 이상의 마스크를 분배하는 제2 분배 장치가 제공되기 때문에, 2개의 마스크를 제1 분배 장치와 제2 분배 장치에 동시에 반송할 수 있고 또 효율적인 마스크 반송 또는 마스크 설치를 실행할 수 있다.According to the exposure apparatus of the third aspect of the present invention, a carrier for carrying a plurality of masks stacked at the first mounting position and the second mounting position and moving along one line conveying path extending to cross the moving direction of the substrate. A first dispensing device for dispensing one or more masks from a first mounting position of the device, the carrier device arranged on one side of the conveying path and moved to a predetermined position, and a carrier arranged on the other side of the conveying path and moved to a predetermined position Since a second dispensing apparatus is provided for dispensing one or more masks from the second mounting position of the apparatus, it is possible to simultaneously convey two masks to the first dispensing apparatus and the second dispensing apparatus and to perform efficient mask conveyance or mask installation. Can be.

제1 분배 장치는 수평방향으로 이동할 필요가 없으므로, 소정 위치로 이동한 캐리어 장치에 대해서 수직 방향으로만 이동하는 것에 의해서 운반 경로가 수평 방향으로 연장되어 제1 분배 장치가 제1 탑재 위치로부터 마스크를 수용하면, 수평 방향의 이동에 필요한 구성 및 시간이 불필요하고, 마스크 교환 시간이 짧은 저렴하고 소형의 노광 장치를 제공할 수 있다.Since the first dispensing device does not need to move in the horizontal direction, the transport path extends in the horizontal direction by moving only in the vertical direction with respect to the carrier device moved to the predetermined position, so that the first dispensing device removes the mask from the first mounting position. If accommodated, the structure and time required for the movement in a horizontal direction are unnecessary, and the inexpensive and compact exposure apparatus with short mask replacement time can be provided.

제1 분배 장치 외에, 제2 분배 장치는 수평 방향으로 이동할 필요가 없기 때문에, 제2 분배 장치가 소정 위치로 이동한 캐리어 장치에 대해서 수직 방향으로만 이동하는 것에 의해서 제2 탑재 위치로부터 마스크를 수납하면, 수평 방향의 이동에 필요한 구성 및 시간이 불필요하고, 마스크 교환 시간이 짧은 저렴하고 소형의 노광 장치를 제공할 수 있다.In addition to the first dispensing device, since the second dispensing device does not need to move in the horizontal direction, the mask is received from the second mounting position by moving only in the vertical direction with respect to the carrier device in which the second dispensing device moves to the predetermined position. This makes it possible to provide an inexpensive and compact exposure apparatus that requires no configuration and time necessary for the horizontal movement and has a short mask replacement time.

운반 경로의 일단측에서 마스크 스토커(mask stocker)와 캐리어 장치 사이에서 복수의 마스크의 반송을 실행하거나 또는 캐리어 장치와 분배 장치 사이에서의 개별 마스크 반송이 캐리어 장치의 타단부로부터 개시되면, 마스크 교환 시간을 더욱 감소시킬 수 있다. Mask exchange time when carrying out conveyance of a plurality of masks between a mask stocker and a carrier device at one end of the conveying path or individual mask conveyance between the carrier device and the dispensing device is started from the other end of the carrier device. Can be further reduced.

이하, 본 발명을 실행하기 위한 적절한 실시예에 대해서 도면을 참조하여 설명한다. 도 1은 본 실시예에 따른 노광 장치의 평면도이고, 도 2는 노광 도중의 본 실시예에 따른 노광 장치의 상태를 도시하는 측면도이다. 하기의 실시예들에서, X축 방향 및 Y축 방향은 수평면을 규정하고 Z축 방향은 수직 방향을 규정한다.DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. 1 is a plan view of an exposure apparatus according to the present embodiment, and FIG. 2 is a side view showing a state of the exposure apparatus according to the present embodiment during exposure. In the following embodiments, the X-axis direction and the Y-axis direction define the horizontal plane and the Z-axis direction define the vertical direction.

도 1에서, 베이스(1)상에, 대형의 얇은 기판(W)이 기판 척(2)에 의해 유지되어 레일(2a)을 따라 척(2)과 함께 좌에서 우로 이동할 수 있다. 베이스(1)상에는, 마스크(M)를 흡입에 의해 유지하는 7개의 유지 장치(10)가 운반 라인(운반 경로라고도 칭함)의 좌측(상류측)에 배열되고, 그리고 6개의 유지 장치가 운반 라인(L)의 우측(하류측)에 배열되어 있다(총 13개). 유지 장치(10)에 의해 유지되고 기판(W)보다 작은 마스크(M)는 운반 라인(L)의 양측에 엇갈리게 배열되어, 지그재그 배열을 형성한다. 도 1에서, 좌측의 7개의 유지 장치(10)와 와측의 3개의 유지 장치(10)가 노광 위치에 있고, 하측의 3개의 유지 장치(10)가 마스크 반송 위치에 있다. 유지 장치(10)가 운반 라인(L)의 양측에 배열된 상태로 분배 장치가 구성되어 있다.In FIG. 1, on the base 1, a large thin substrate W is held by the substrate chuck 2 and can move from left to right with the chuck 2 along the rail 2a. On the base 1, seven holding devices 10 for holding the mask M by suction are arranged on the left side (upstream side) of the conveying line (also called a conveying path), and six holding devices are conveyed. It is arranged on the right side (downstream side) of (L) (13 pieces in total). The masks M held by the holding device 10 and smaller than the substrate W are staggered on both sides of the conveying line L to form a zigzag arrangement. In FIG. 1, the seven holding devices 10 on the left side and the three holding devices 10 on the vortex side are in the exposure position, and the three holding devices 10 on the lower side are in the mask conveyance position. The dispensing device is configured in a state where the holding device 10 is arranged on both sides of the conveying line L. FIG.

유지 장치(10)의 각각은, 프레임(도면에 도시되지 않음)에 대해서 도 2의 좌측에서 베이스(1)상의 X축 방향[도 1에서 운반 라인(L)에 직교하는 방향, 기판(W)은 좌측에서 우측으로 X축 방향으로 이동함]인 우측으로 이동하는 것이 가능하도록 배열된 아암(11)과; 아암(11)의 단부에 배열되어 흡입에 의해서 마스크(M)를 그의 하면에 유지하는 유지부(12)와; 유지부(12)를 아암(11)에 대해서 Z축 방향(도 2에서 Z축 방향인 수직 방향)으로 구동하는 Z축 이동 장치(13)와; 유지부(12)를 베이스(1)의 상부면의 수직선을 중심으로 회전 구동하는 θ축 이동 장치(14)와; 유지부(12)를 아암(11)에 대해서 Y축 방향(도 2의 지면에 수직인 방향)으로 구동하는 Y축 이동 장치(15)를 구비한다.Each of the holding devices 10 has a frame (not shown in the figure) in the X-axis direction on the base 1 (the direction orthogonal to the conveying line L in FIG. 1) on the left side of FIG. 2, the substrate W Is an arm 11 arranged to be able to move from left to right in the X-axis direction]; A holding portion 12 arranged at an end of the arm 11 and holding the mask M on its lower surface by suction; A Z-axis moving device 13 which drives the holding part 12 with respect to the arm 11 in the Z-axis direction (the vertical direction which is the Z-axis direction in FIG. 2); A [theta] -axis moving device 14 which drives the holding part 12 to rotate about the vertical line of the upper surface of the base 1; The Y-axis moving device 15 which drives the holding part 12 with respect to the arm 11 in the Y-axis direction (direction perpendicular | vertical to the paper surface of FIG. 2) is provided.

기판(W)의 바닥면에 면하도록 배열되고 또 X축 방향으로 거리(D)를 두고 배열된 방출 흡입 유닛(3A, 3B)이 베이스(1)에 부착되어 있다. 도 2에 도시된 바와 같이, 하나의 방출 흡입 유닛(3A)은 복수의 방출 구멍(5)을 갖는데, 이 방출 구멍 은, 베이스(1)의 슬릿(1a)의 일측면에 고정된 유닛 본체(4)의 하부면으로부터 상부면을 통과하고, X축에 직교하는 Y축 방향을 따라 2개의 평행한 열로 배열되어, 유닛 본체(4)의 긴 측면을 따라 형성되어 있다. 또한, 2개의 평행한 열로 배열된 상술한 방출 구멍(5)의 중간 위치에 Y축 방향을 따라서 오목한 홈(6)이 제공되어 있고, 오목한 홈(6)으로부터 유닛 본체(4)의 바닥면을 통과하는 다수의 흡입 구멍이 제공되어 있다. 다른 방출 흡입 유닛(3B)도 상술한 방출 흡입 유닛(3A)과 동일한 방식으로 구성되어 있다. 또한, 도 2에 도시된 바와 같이, 공기 방출 시스템[공기 조절기(air regulator)](8) 및 방출 펌프(P1)가 파이프(H1)의 그룹을 거쳐 상술한 방출 흡입 유닛(3A, 3B)의 쌍의 각 방출 구멍(5)의 바닥 단부에 연결되어 있고, 또한 공기 힙입 시스템(공기 조절기)(9) 및 흡입 펌프(P2)가 파이프(P2)의 그룹을 거쳐서 방출 흡입 유닛(3A, 3B)의 쌍의 각 흡입 구멍(7)의 바닥 단부에 연결되어 있다.The discharge suction units 3A, 3B, which are arranged to face the bottom surface of the substrate W and are arranged at a distance D in the X-axis direction, are attached to the base 1. As shown in FIG. 2, one discharge suction unit 3A has a plurality of discharge holes 5, which are fixed to one side of the slit 1a of the base 1. It passes along the upper surface from the lower surface of 4), is arranged in two parallel rows along the Y-axis direction orthogonal to the X-axis, and is formed along the long side surface of the unit main body 4. As shown in FIG. In addition, a concave groove 6 is provided along the Y-axis direction at an intermediate position of the above-described discharge hole 5 arranged in two parallel rows, and the bottom surface of the unit body 4 is recessed from the concave groove 6. There are a number of suction holes there through. The other discharge suction unit 3B is configured in the same manner as the discharge suction unit 3A described above. In addition, as shown in FIG. 2, the air discharge system (air regulator) 8 and the discharge pump P1 pass through the group of pipes H1 of the above-described discharge suction unit 3A, 3B. It is connected to the bottom end of each discharge hole 5 of the pair, and also the air hip-in system (air regulator) 9 and the suction pump P2 pass through the group of pipes P2 to the discharge suction unit 3A, 3B. It is connected to the bottom end of each suction hole 7 of the pair of.

본 실시예의 노광 장치를 사용하여 분할 노광을 실행할 때, 기판(W)은 구동부(도면에 도시되지 않음)에 의해서 기판 척(2)과 함께 레일(2a)을 따라 좌에서 우로 이동한다. 이 때, 제어부(도면에 도시 않됨)가 방출 펌프(P1)를 구동하여 방출 흡입 유닛(3A, 3B)의 쌍의 각 방출 구멍(5)으로부터 기판(W)의 바닥면측으로 공기를 방출한다. 그 결과, 기판(W)은 방출 흡입 유닛(3A, 3B)의 쌍의 상부면 위에 부상하는 상태로 X축 방향으로 반송되므로, 기판(W)의 바닥면측을 긁는 것을 방지할 수 있어, 기판(W)의 바닥면을 보호할 수 있다.When performing the divided exposure using the exposure apparatus of this embodiment, the substrate W is moved from left to right along the rail 2a along with the substrate chuck 2 by a driving unit (not shown in the figure). At this time, the control unit (not shown in the figure) drives the discharge pump P1 to discharge air from each discharge hole 5 of the pair of discharge suction units 3A and 3B to the bottom surface side of the substrate W. FIG. As a result, since the board | substrate W is conveyed in the X-axis direction in the state which floats on the upper surface of the pair of discharge suction unit 3A, 3B, it can prevent scratching the bottom surface side of the board | substrate W, and the board | substrate ( W) can protect the bottom surface.

소정 위치로 이동하면, 기판(W)은 정지하고 노광 유닛(OPU)이 노광(EL)을 투 사하며 노광(EL)이 유지 장치(10)에 의해 유지된 마스크(M)를 통해 이동하여 기판(W)상에 마스크 패턴을 노광 및 전사한다. 기판(W)의 노광 전사 영역은 방출 흡입 유닛(3A, 3B)의 쌍 사이의 영역이며, 제어부(도면에는 도시 안됨)가 흡입 펌프(P2)를 구동하여 방출 흡입 유닛(3A, 3B)의 쌍의 각 흡입 구멍(7)으로부터 공기 흡입을 실행한다. 그 결과, 기판(W)이 방출 흡입 유닛(3A, 3B)의 쌍의 상부면상에 흡입되어 위치설정 및 고정되며, 진동이 최대의 가능한 정도로 제거된 상태에서고 정밀도로 노광 전사를 실행하는 것이 가능하게 된다. 하나의 마스크(M)에 의한 노광 전사가 완료되면, 방출 흡입 유닛(3A, 3B)의 쌍의 흡입 동작이 중단되고, 기판(W)은 일단계 만큼 이동한 다음 정지하고, 이어서 방출 흡입 유닛(3A, 3B)의 쌍의 흡입 동작이 재개되어, 다음 노광 전사를 실행하는 것이 가능하다. 이 때, 유지 장치(10)의 Z축 이동 장치(13), θ축 이동 장치(14) 및 X축 이동 장치(15)와, Z축 방향으로 이동 가능한 아암(11)을 사용하여 마스크(M)의 위치를 미세 조정하는 것에 의해서, 기판(W)의 이동 오차에 의한 패턴 이동을 보상할 수 있다. 유사한 형태로 분할 노광 전사를 반복 실행하는 것에 의해서, 전체의 기판(W)상에 패턴을 노광할 수 있다. 또한, 본 실시예에서는, 운반 라인(L)의 양측에 유지된 마스크(M)가 지그재그 배열로 배열되어 있기 때문에, 운반 라인(L)의 한쪽의 마스크(M)가 소정 간격으로 배열되는 경우에도, 그 사이에 간격이 없이 기판(W)에 패턴을 형성할 수 있다. 또한, 기판(W)이 이동하는 동안, 기판(W)을 정지시키지 않고 노광을 계속 실행할 수도 있다. When the substrate W is moved to a predetermined position, the substrate W stops, the exposure unit OPU projects the exposure EL, and the exposure EL moves through the mask M held by the holding device 10, thereby moving the substrate. The mask pattern is exposed and transferred on (W). The exposure transfer area of the substrate W is an area between the pair of the discharge suction units 3A and 3B, and a control unit (not shown) drives the suction pump P2 to pair the emission suction units 3A and 3B. Air intake is performed from each of the intake holes 7. As a result, the substrate W is sucked and positioned and fixed on the upper surface of the pair of the discharge suction units 3A and 3B, and it is possible to perform exposure transfer with high precision while the vibration is removed to the maximum possible extent. Done. When the exposure transfer by one mask M is completed, the suction operation of the pair of emission suction units 3A and 3B is stopped, the substrate W moves by one step and then stops, and then the emission suction unit ( The suction operation of the pair of 3A and 3B is resumed, and it is possible to perform the next exposure transfer. At this time, the mask M using the Z-axis moving device 13, the θ-axis moving device 14, and the X-axis moving device 15 of the holding device 10, and the arm 11 movable in the Z-axis direction. By fine-adjusting the position of), the pattern movement due to the movement error of the substrate W can be compensated. By repeatedly performing divisional exposure transfer in a similar manner, the pattern can be exposed on the entire substrate W. FIG. In addition, in this embodiment, since the masks M held on both sides of the conveying line L are arranged in a zigzag arrangement, even when one mask M of the conveying line L is arranged at a predetermined interval. The pattern can be formed on the substrate W without a gap therebetween. In addition, while the board | substrate W moves, exposure can also be continued, without stopping the board | substrate W. FIG.

덧붙여 말하면, 마스크는 예비 세정에 기초하여 소정 타이밍에 복구될 필요 가 있다. 또한, 노광 장치의 작동 효율을 증가시키기 위해서, 다른 마스크를 노광 장치에 탑재하여 마스크가 세정되는 동안 노광 동작을 실행할 필요가 있다. 따라서, 복수의 마스크의 유효한 복구 및 유효한 분배가 필요하다. 이러한 목적에 사용되는 캐리어 장치에 대해서 설명한다.In addition, the mask needs to be restored at a predetermined timing based on the preliminary cleaning. In addition, in order to increase the operating efficiency of the exposure apparatus, it is necessary to mount another mask in the exposure apparatus and perform the exposure operation while the mask is cleaned. Therefore, effective recovery and effective distribution of a plurality of masks are needed. The carrier apparatus used for this purpose is demonstrated.

도 3은 유지부와 마스크 및 스페이서 사이의 치수 관계를 도시하는 다이아그램이고, 도 4는 운반 도중의 유지부와, 마스크 및 스페이서의 상태를 도시하는 다이아그램이며, 도 5는 보관된 상태의 마스크를 도시하는 다이아그램이다. 도 6은 마스크를 운반하는 상태에서의 노광 장치를 도시하는 측면도이고, 도 7은 마스크 회수 공정을 도시하는 흐름도이며, 도 8은 마스크 분배 공정을 도시하는 흐름도이다. 또한, 도 3 내지 5에서, 유지부, 마스크 및 스페이서의 단면도는 이해를 쉽게 하도록 도시하였다.Fig. 3 is a diagram showing the dimensional relationship between the holder and the mask and the spacer, Fig. 4 is a diagram showing the states of the holder and the mask and the spacer during transportation, and Fig. 5 is a mask in the stored state. It is a diagram showing the following. FIG. 6 is a side view showing an exposure apparatus in a state of carrying a mask, FIG. 7 is a flowchart showing a mask recovery process, and FIG. 8 is a flowchart showing a mask dispensing process. 3 to 5, cross-sectional views of the holder, mask and spacer are shown for ease of understanding.

도 3에서, 직사각형 시트 마스크의 바닥면의 중앙에 패턴(P)이 형성되어 있다. 스페이서(20)는 직사각형 프레임 형상을 가지며, 그 아래에 형성된 직사각형의 제1 결합부(20a)를 갖는데, 이것은 마스크(M)의 상부면과 동일한 치수(폭 W1)을 갖는 절단부이다. 한편, 제1 결합부(20a)보다 큰 절단부인 제2 결합부(20b)(W2＞W1)가 스페이서(20)의 상부에 형성되어 있다. 스페이서(20)의 원주방향 내측을 따라 돌출하여 연속되는 직사각형 프레임 형상 플랜지부(20c)가, 제1 결합부(20a)와 제2 결합부(20b) 사이에 형성되어 있다.In FIG. 3, the pattern P is formed in the center of the bottom face of a rectangular sheet mask. The spacer 20 has a rectangular frame shape and has a rectangular first engaging portion 20a formed thereunder, which is a cut portion having the same dimensions (width W1) as the upper surface of the mask M. As shown in FIG. On the other hand, the second engaging portion 20b (W2> W1), which is a cut portion larger than the first engaging portion 20a, is formed on the spacer 20. A rectangular frame-shaped flange portion 20c that protrudes along the circumferential inner side of the spacer 20 and is continuous is formed between the first coupling portion 20a and the second coupling portion 20b.

유지 장치(10)의 유지부(12)에서, 직사각형 구멍(12a)의 치수는 패턴(P)의 치수보다 크다. 유지부(12)의 하측부(12b)의 외측 치수(폭 W3)은 플랜지부(20c)의 내측 치수(폭 W4)보다 작고, 하측부(12b)의 높이(H1)는 플랜지부(20c)와 제2 결합부(20b)의 총 높이(H2)보다 크다. 폭(W1 내지 W4)과 높이(H1 및 H2)간의 크기 관계는 이들 치수에 직교하는 방향으로 동일하게 유지된다. 제1 결합부(20a), 제2 결합부(20b) 및 플랜지부(20c)의 내측 치수만이 스페이서(20)에 대해 제어될 필요가 있기 때문에, 그것은 저렴하게 형성될 수 있다. 복수의 돌기(20d)가 플랜지부(20c)의 상면에 일정 간격으로 배열되어 있다. 열 변형 등의 영향을 회피할 수 있기 때문에, 스페이서(20)는, 수지나 알루미늄 등의 마스크(M)보다 열팽창 계수가 높고 강도가 낮은 재료로 형성된다.In the retaining portion 12 of the retaining device 10, the dimension of the rectangular hole 12a is larger than the dimension of the pattern P. FIG. The outer dimension (width W3) of the lower part 12b of the holding part 12 is smaller than the inner dimension (width W4) of the flange part 20c, and the height H1 of the lower part 12b is the flange part 20c. And the total height H2 of the second coupling portion 20b. The size relationship between the widths W1 to W4 and the heights H1 and H2 remains the same in the direction orthogonal to these dimensions. Since only the inner dimensions of the first engaging portion 20a, the second engaging portion 20b and the flange portion 20c need to be controlled for the spacer 20, it can be formed inexpensively. The plurality of protrusions 20d are arranged on the upper surface of the flange portion 20c at regular intervals. Since the influence of thermal deformation and the like can be avoided, the spacer 20 is formed of a material having a higher thermal expansion coefficient and lower strength than the mask M such as resin or aluminum.

도 4에 도시된 바와 같이, 운반 도중에, 마스크(M)는 스페이서(20)의 제2 결합부(20b)와 유사한 트레이 결합부(21a)를 갖는 운반 트레이(21)상에 적층되고 탑재된다. 이 때, 스페이서(20)가 인접 마스크(M) 사이에 배열되어, 마스크(M)의 바닥면상에 형성된 패턴(P)이 그 패턴(P) 아래의 마스크(M)의 상부면에 대한 마찰에 의해 손상되지 않도록 한다. 또한, 운반 트레이(21)의 상부면에 얕은 오목부(21b)가 형성되어 마스크(M)의 바닥면 사이의 틈새를 확보한다. 최저 높이에 탑재된 마스크(M)의 바닥면은 운반 트레이(21)에 의해 보호된다. 또한, 후술하는 캐리어 장치(30)의 트레이 지지부(32)와 결합하는 오목부(21c)(도 6 참조)가 운반 트레이(21)의 바닥면에 제공되면, 트레이 지지부(32)에 의한 지지에서의 안전성을 확보할 수 있다.As shown in FIG. 4, during transportation, the mask M is stacked and mounted on a transport tray 21 having a tray engaging portion 21a similar to the second engaging portion 20b of the spacer 20. At this time, the spacers 20 are arranged between the adjacent masks M, so that the pattern P formed on the bottom surface of the mask M is subjected to friction against the upper surface of the mask M under the pattern P. Do not damage it. In addition, a shallow concave portion 21b is formed on the upper surface of the conveyance tray 21 to secure a gap between the bottom surfaces of the mask M. As shown in FIG. The bottom surface of the mask M mounted at the lowest height is protected by the carrying tray 21. In addition, when the recess 21c (see FIG. 6) engaging with the tray support 32 of the carrier device 30 described later is provided on the bottom surface of the transport tray 21, the support by the tray support 32 Can ensure the safety.

마스크(M)를 흡입에 의해 유지하기 위한 흡입부(도면에 도시 안됨)가 유지 장치(10)의 유지부(12)의 하측부(12b)에 설치되어 있다. 유지 장치(12)가 Z축 이 동 장치(13)(도 2 참조)에 의해 하강하면, 상술한 치수를 갖는 스페이서(20) 내측을 통과한 하측부(12b)는 마스크(M)의 상부면과 접촉하기 때문에, 흡입부가 흡입을 실행함에 따라 마스크(M)의 상부면은 바닥부(12)에 의해 흡입 유지된다. 이 상태에서 X축 이동 기구(13)에 의해 유지부(12)를 상승시키는 것에 의해서, 흡입에 의해 유지된 마스크(M)를 상승시킬 수 있다. 유지부(12)는 마스크(M)의 상부면을 직접 흡입 유지하기 때문에, 스페이서(20)의 정밀도를 증가시킬 필요가 없어 제조 비용을 낮게 유지할 수 있다.A suction part (not shown in the figure) for holding the mask M by suction is provided in the lower part 12b of the holding part 12 of the holding device 10. When the holding device 12 is lowered by the Z-axis moving device 13 (see FIG. 2), the lower part 12b passing through the inside of the spacer 20 having the above-described dimensions is the upper surface of the mask M. FIG. In contact with, the upper surface of the mask M is sucked and held by the bottom portion 12 as the suction part performs suction. The mask M held by suction can be raised by raising the holding part 12 by the X-axis movement mechanism 13 in this state. Since the holding part 12 directly sucks and holds the upper surface of the mask M, it is not necessary to increase the precision of the spacer 20 and can keep manufacturing cost low.

이 때, 도 4에 도시된 바와 같이, 플랜지부(20c)가 마스크(M)의 상부면을 잡고 있으므로, 중력 방향으로 흡입 유지된 마스크(M)의 상부에 있는 스페이서(20)는 떨어지지 않고, 마스크(M)를 따라 상승한다. 또한, 스페이서(20)의 돌기(20d)를 유지부(12)의 하측부(12b)의 하부면과 접촉시켜 소정의 탄력을 부여하는 것에 의해서, 마스크(M)와 스페이서(20)의 진동 등을 억제할 수 있다. 또한, 흡입 유지된 마스크(M) 하부의 스페이서(20)의 제2 결합부(20b)의 중력 방향의 치수가 마스크(M)의 치수보다 크기 때문에, 그 사이의 부착력은 작고, 또 스페이서(20)는 흡입 유지된 마스크(M)와 함께 상승하지 않는다. 따라서, 스페이서(20)가 부주의하게 낙하하는 등의 가능성은 없다. 또한, 마스크(M) 및 그 위의 스페이서(20)는 유지 장치(10)에 의해서 노광 위치로 이동하고 이 상태에서 노광 작업이 실행된다.At this time, as shown in FIG. 4, since the flange portion 20c holds the upper surface of the mask M, the spacer 20 on the upper portion of the mask M sucked and held in the gravity direction does not fall, It rises along the mask M. As shown in FIG. In addition, the projection 20d of the spacer 20 is brought into contact with the lower surface of the lower portion 12b of the holding portion 12 to impart a predetermined elasticity, thereby causing vibration of the mask M and the spacer 20, and the like. Can be suppressed. In addition, since the size of the gravity direction of the second engagement portion 20b of the spacer 20 under the mask M suctioned is larger than that of the mask M, the adhesion force between them is small, and the spacer 20 Does not rise with the mask M held inhaled. Therefore, there is no possibility that the spacer 20 falls inadvertently. In addition, the mask M and the spacer 20 thereon are moved to the exposure position by the holding device 10, and the exposure operation is executed in this state.

이 때, 도 3에 이중 해칭으로 도시된 바와 같이, 유지부(12)의 하측부(12b)는 패턴(P)을 회피하도록 마스크(M)의 상부면에 배열되어 있기 때문에, 직사각형 구멍(12a)을 통해 이동한 노광(EL)(도 2)은 마스크(M)의 주변에 배열된 스페이 서(20)에 의해 차단되지 않고, 기판(W)상으로 패턴을 적절하게 노광 전사할 수 있다. 또한, 스페이서(20)가 탑재될 때 마스크(M)의 주변 또는 그 부근의 영역이 긁히는 경우에도, 노광은 영향을 받지 않는다.At this time, as shown by double hatching in FIG. 3, since the lower portion 12b of the holding portion 12 is arranged on the upper surface of the mask M to avoid the pattern P, the rectangular hole 12a The exposure EL (FIG. 2) moved through) is not blocked by the spacer 20 arranged around the mask M, and the pattern can be appropriately exposed and transferred onto the substrate W. FIG. Further, even when the area around or near the mask M is scratched when the spacer 20 is mounted, the exposure is not affected.

다음에, 운반의 측면에 대해서 설명한다. 도 6에 도시된 바와 같이, 케이스(1)의 하부에 제공된 캐리어 장치(30)는 운반 라인(L)을 따라 이동 가능하도록 배열되어 있다. 캐리어 장치(30)는 마스크가 오버레이되어 배열된 운반 트레이(21)를 트레이 지지부(32)에 의해 지지하는데, 트레이 지지부(32)는 운반 라인(L)을 따라 베이스(1)에 형성되어 베이스를 통과하는 홈 형상 운반 경로(1a)를 통해 베이스(1)의 상방향으로 연장된다.Next, the side of conveyance is demonstrated. As shown in FIG. 6, the carrier device 30 provided at the bottom of the case 1 is arranged to be movable along the conveying line L. FIG. The carrier device 30 supports the conveying tray 21 arranged by overlaying masks by the tray support 32, which is formed in the base 1 along the conveying line L to form a base. It extends upwardly of the base 1 through the groove-shaped conveying path 1a passing therethrough.

먼저, 마스크(M)의 회수에 대해서 설명한다. 여기서, 하류측(도 1의 우측)의 유지 장치(10)는 아암(11)을 구동하여 유지부(12)에 의해 유지된 마스크(M)를 운반 라인(L)상의 반송 위치에 미리 배열한다. 도 7에 도시된 흐름도에서, 단계(S101)에서 n=1으로 가정한 후에, 단계(S102)에서, 캐리어 장치(30)가 운반 라인(L)을 따라 수직 방향(도 1의 상방향)으로 이동하고, 운반 트레이(21)를 지지하는 트레이 지지부(32)가 하류측의 제1 반송 위치로 이동한다.First, the number of masks M is described. Here, the holding | maintenance apparatus 10 of the downstream side (right side of FIG. 1) drives the arm 11, and arrange | positions the mask M hold | maintained by the holding | maintenance part 12 in advance at the conveyance position on the conveyance line L. As shown in FIG. . In the flowchart shown in FIG. 7, after assuming n = 1 in step S101, in step S102, the carrier device 30 moves in a vertical direction (upward in FIG. 1) along the conveying line L. In FIG. It moves and the tray support part 32 which supports the conveyance tray 21 moves to the 1st conveyance position of a downstream side.

단계(S103)에서, 하류측의 제1 유지장치(10)가 구동되고, 마스크(M)를 스페이서(20)와 함께 운반 트레이(21)상으로 반송하도록 유지부(12)의 흡입 유지가 중단된다. 단계(S104)에서, 하류측의 반송이 최종 반송(이 경우 n=6)이 아니면, 단계(S105)에서 n=n+1이 되고, 이어서 작업은 단계(S102)로 복귀하며, 트레이 지지부(32)가 다음 반송 위치로 이동하여 스페이서(20)를 사이에 개재한 상태로 반송된 마스크(M)상에 새로운 마스크(M)를 붙인다. 이러한 작업을 반복하여, 단계(S104)에서 하류측의 반송이 최종 반송이면(여기서, n=6), 단계(S106)에서 m=1이 된다. 이 때, 하류측의 유지 장치(10)는 아암(11)을 노광 위치로 복귀시키고, 그 후에 하류측(도 1의 좌측)의 유지 장치(10)가 아암(11)을 구동하여 유지부(12)에 의해 유지된 마스크(M)를 운반 라인(L)상의 반송 위치에 배열한다.In step S103, the first holding device 10 on the downstream side is driven and the suction holding of the holding part 12 is stopped so as to convey the mask M together with the spacer 20 onto the carrying tray 21. do. In step S104, if the downstream conveyance is not the final conveyance (in this case n = 6), then n = n + 1 in step S105, and then the operation returns to step S102, and the tray support portion ( 32 moves to the next conveyance position, and attaches a new mask M on the conveyed mask M with the spacer 20 interposed therebetween. This operation is repeated, and if the downstream conveyance is the final conveyance in step S104 (where n = 6), then m = 1 in step S106. At this time, the downstream holding device 10 returns the arm 11 to the exposure position, and after that, the holding device 10 on the downstream side (left side in FIG. 1) drives the arm 11 to hold the holding portion ( The mask M held by 12 is arranged at the conveyance position on the conveying line L. FIG.

단계(S107)에서, 캐리어 장치(30)는 운반 라인(L)을 따라 수직 방향으로 이동하여 상류측의 (m=1)번째 반송 위치로 이동한다. 또한, 단계(S108)에서, 상류측의 제1 유지 장치(10)를 구동하여 유지부(12)의 흡입 유지를 중단하고 마스크(M)를 운반 트레이(21)상으로 반송하는 것에 의해서, 스페이서(20)를 사이에 개재한 채로 하류측에 반송된 마스크(M) 위치에 새로운 마스크(M)를 배치한다. 또한, 단계(S109)에서, m=2가 된다. 이 지점으로부터, 캐리어 장치(30)가 역방향(도 1의 하방향)으로 이동하고(단계 S110), 운반 트레이(21)를 지지하는 트레이 지지부(32)가 하류측의 (m) 번째 반송 위치로 이동한다. 그 결과, 단계(S111)에서, 상류측의 (m) 번째 유지 장치(10)를 구동하여 유지부(12)의 흡입 유지를 중단하고 마스크(M)를 운반 트레이(21)상으로 반송하는 것에 의해서, 스페이서(20)가 사이에 개재된 상태로 마스크(M)상에 새로운 마스크(M)가 배치된다. 단계(S112)에서 상류측의 반송이 최종 반송이 아니면(이 경우, m=7), 단계(S113)에서 m=m+1이 되고, 이어서 작업은 단계(S110)로 복귀하여 트레이 지집(32)를 다음 반송 위치로 이동시킨다. 상기 작업을 반복하여, 단계(S109)에서 상류측의 반송이 최종 반송이 아니면(이 경우, m=7), 최초의 위치로 복귀하는 것에 의해서, 캐리어 장치(30)가 마스크(M)의 회수를 완료한다.In step S107, the carrier device 30 moves in the vertical direction along the conveying line L and moves to the (m = 1) th conveying position on the upstream side. In step S108, the spacer is driven by driving the upstream first holding device 10 to stop suction holding of the holding unit 12 and to convey the mask M onto the carrying tray 21. The new mask M is arrange | positioned in the mask M position conveyed to the downstream side with (20) interposed. In addition, in step S109, m = 2. From this point, the carrier device 30 moves in the reverse direction (downward in FIG. 1) (step S110), and the tray support part 32 supporting the transport tray 21 is moved to the (m) th transport position on the downstream side. Move. As a result, in step S111, the (m) th holding device 10 on the upstream side is driven to stop the suction holding of the holding unit 12 and convey the mask M onto the carrying tray 21. As a result, a new mask M is disposed on the mask M with the spacer 20 interposed therebetween. If the conveyance on the upstream side in step S112 is not the final conveyance (in this case m = 7), then m = m + 1 in step S113, and then the operation returns to step S110 to collect the tray 32 ) Is moved to the next conveyance position. If the conveyance on the upstream side is not the final conveyance (in this case m = 7) by repeating the above operation, the carrier device 30 recovers the mask M by returning to the original position. To complete.

캐리어 장치(30)에 의해 회수되고 적층된 마스크(M)는, 도 1에 도시된 바와 같은 캐리어 장치(30)에 근접하게 위치된 로봇(RBT)의 연장 가능하고 후퇴 가능하며 회전 가능한 아암(AM)에 의해서 운반 트레이(21)와 함께 이동하고, 그리고 스페이서(20)가 사이에 개재되어 적층된 상태로 도 5에 도시된 마스크 스토커(mask stocker)(MS1)에 수납되어 보관된다. 또한, 세정할 때 스페이서(20)를 마스크(M)로부터 분리시키는 것에 의해서 세정 효율을 향상시킬 수 있다. 그러나, 스페이서(20)는 분리될 수 없도록 접착제를 사용하여 고착될 수도 있다.The mask M recovered and stacked by the carrier device 30 is an extendable, retractable and rotatable arm AM of the robot RBT positioned proximate to the carrier device 30 as shown in FIG. 1. It moves together with the conveyance tray 21 by (circle), and is accommodated in the mask stocker MS1 shown in FIG. 5 with the spacer 20 interposed therebetween, and stored. In addition, the cleaning efficiency can be improved by separating the spacer 20 from the mask M when cleaning. However, the spacer 20 may be fixed using an adhesive so that it cannot be separated.

다음에, 마스크(M)의 분배에 대해서 설명한다. 스페이서(20)가 사이에 개재된 세정된 마스크(M)가 마스크 스토커(MS2)에 적층하여 보관하는 것으로 가정한다. 로봇(RTB)은 아암(AM)을 사용하여 마스크 스토커(MS2)로부터 운반 트레이(21)와 함께 적층된 마스크(M)를 꺼내고, 마스크(M)를 캐리어 장치(30)의 트레이 지지부(32)상에 탑재한다.Next, the distribution of the mask M will be described. It is assumed that the cleaned mask M with the spacer 20 interposed therebetween is stacked and stored on the mask stocker MS2. The robot RTB uses the arm AM to take out the mask M stacked together with the conveyance tray 21 from the mask stocker MS2, and sets the mask M to the tray support 32 of the carrier device 30. Mount on.

회수가 완료된 직후에, 상류측의 유지 장치(10)의 유지부(12)가 운반 라인(L)상에 여전히 배열되어 있다. 따라서, 마스크(M)의 분배는 상류측으로부터 실행된다. 도 8의 흐름도에서, 단계(S201)에서 n=1으로 추정한 후에, 단계(S202)에서, 캐리어 장치(30)가 운반 라인(L)을 따라 수직 방향(도 1의 상방향)으로 이동하고, 카스크(M)가 상부에 적층된 운반 트레이(21)를 지지하는 트레이 지지부(32)가 상류측의 제1 반송 위치로 이동한다.Immediately after the recovery is completed, the holding part 12 of the upstream holding device 10 is still arranged on the conveying line L. FIG. Therefore, the distribution of the mask M is performed from the upstream side. In the flowchart of FIG. 8, after estimating n = 1 in step S201, in step S202, the carrier device 30 moves along the conveying line L in the vertical direction (upward in FIG. 1) and The tray support part 32 which supports the conveyance tray 21 by which the cask M was laminated | stacked on the upper side moves to the 1st conveyance position.

단계(S203)에서, 상류측의 제1 유지 장치(10)를 구동하여 운반 트레이(21)로 부터의 마스크(M)가 유지부(12)에 의해 유지되어 스페이서(20)와 함께 상승하도록 한다. 단계(S204)에서 상류측의 반송이 최종 반송이 아니면(이 경우, n=7), 단계(S205)에서 n=n+1이 되고, 이어서 적업이 단계(S202)로 복귀하며, 트레이 지지부(32)는 다음 반송 위치로 이동하여 새로운 마스크(M)를 흡입 유지한다. 이 작업을 반복한 후에, 단계(S204)에서 상류측의 반송이 최종 반송이 아니면(여기서, n=7이면), 단계(S206)에서 m=1이 된다. 이 때, 상류측의 유지 장치(10)는 아암(11)을 노광위치로 복귀시키고, 그 후에 하류측의 유지 장치(10)가 아암(11)을 구동하여 유지부(12)를 운반 러인(L)상의 반송 위치에 배열한다.In step S203, the upstream first holding device 10 is driven so that the mask M from the carrying tray 21 is held by the holding part 12 to rise together with the spacer 20. . If the conveyance on the upstream side is not the final conveyance in step S204 (in this case n = 7), n = n + 1 in step S205, and then the stacking operation returns to step S202, and the tray support portion ( 32 moves to the next conveyance position to hold and hold a new mask M. FIG. After repeating this operation, if the upstream conveyance is not the final conveyance in the step S204 (where n = 7), m = 1 in the step S206. At this time, the upstream holding device 10 returns the arm 11 to the exposure position, and after that, the downstream holding device 10 drives the arm 11 to move the holding unit 12 into the carrier lure ( It arranges in the conveyance position on L).

단계(S207)에서, 캐리어 장치(30)가 운반 라인(L)을 따라 역방향(도 1의 하방향)으로 이동하여 하류측의 (m=1)번째 반송 위치로 이동한다. 또한, 단계(S208)에서, 하류측의 제1 유지 장치(10)가 구동되어, 운반 트레이(21)로부터의 마스크(M)가 유지부(12)에 의해 흡입 유지되어 스페이서(20)와 함께 상승하도록 한다. 단계(S209)에서, m=2가 된다. 또한, 캐리어 장치(30)가 역방향으로 이동하고(단계 S210), 운반 트레이(21)를 지지하는 트레이 지지부(32)가 하류측의 (m)번째 유지 장치(10)로 이동한다. 따라서, 단계(S211)에서, 하류측의 (m)번째 유지 장치(10)가 구동되어 운반 트레이(21)로부터의 마스크(M)를 유지부(12)에 의해 흡입 유지하고 또 스페이서(20)와 함께 상승시킨다. 단계(S212)에서 하류측의 반송이 최종 반송이 아니면(이 경우, m=6), 단계(S213)에서 m=m+1이 되고 이어서 작업은 단계(S210)로 복귀하여 트레이 지지부(32)를 다음 반송 위치로 이동시킨다. 상기 작업을 반복하여, 단계(S212)에서 하류측의 반송이 최종 반송인 경우(이 경우, m=6), 최초의 위치로 복귀하는 것에 의해서, 캐리어 장치(30)가 마스크(M)의 분배를 완료한다.In step S207, the carrier device 30 moves in the reverse direction (downward in FIG. 1) along the conveying line L and moves to the (m = 1) th conveyance position on the downstream side. Further, in step S208, the first holding device 10 on the downstream side is driven so that the mask M from the carrying tray 21 is sucked and held by the holding unit 12 and together with the spacer 20. Let it rise. In step S209, m = 2. Further, the carrier device 30 moves in the reverse direction (step S210), and the tray support part 32 supporting the transport tray 21 moves to the (m) th holding device 10 on the downstream side. Accordingly, in step S211, the (m) th holding device 10 on the downstream side is driven to suck and hold the mask M from the conveying tray 21 by the holding part 12 and to maintain the spacer 20. To rise with. If the downstream conveyance in step S212 is not the final conveyance (in this case m = 6), then m = m + 1 in step S213, and the operation then returns to step S210 and the tray support 32 Moves to the next conveyance position. When the conveyance on the downstream side is the final conveyance in this step (S212) (in this case m = 6), the carrier apparatus 30 distributes the mask M by returning to the original position. To complete.

본 실시예에 따르면, 스페이서(20)가 각각 패턴(P)이 그 위에 형성된 복수의 마스크(M) 사이에 배열되고, 이들은 적층으로 운반되기 때문에, 적층할 때 마스크(M)상의 패턴(P)에 손상을 미치지 않도록 스페이서(20)에 의해 간극을 형성할 수 있고, 또 마스크를 밀집된 상태로 운반할 수 있다. 또한, 복수의 마스크(M)를 한번에 회수하고 한번에 분배할 수 있고, 그에 따라 운반 시간을 상당히 절감할 수 있으므로, 마스크(M)를 이용하는 장치의 용량 이용률을 향상시킬 수 있다. 또한, 보관, 운반 및 노광하는 동안 마스크(M)의 주변부가 스페이서(20)에 의해 보호되기 때문에, 마스크(M)가 주변부의 다른 부품과 우발적으로 접촉하는 경우에도, 마스크(M)의 손상을 피할 수 있다.According to the present embodiment, since the spacers 20 are each arranged between a plurality of masks M on which patterns P are formed, and they are conveyed in a stack, the patterns P on the mask M when stacked. The gap can be formed by the spacer 20 so as not to damage the mask, and the mask can be carried in a dense state. In addition, since the plurality of masks M can be recovered at one time and distributed at a time, the transportation time can be considerably reduced, so that the capacity utilization rate of the apparatus using the mask M can be improved. In addition, since the periphery of the mask M is protected by the spacer 20 during storage, transportation and exposure, even if the mask M accidentally contacts other parts of the periphery, damage to the mask M is prevented. Can be avoided.

도 9는 제2 실시예에 따른 노광 장치의 상면도이고, 도 10은 노광을 실행하는 상태에서 제2 실시예에 따른 노광 장치를 도시하는 X-X 선을 따른 측면도이다. 또한, 본 실시예에서, 도 1 및 2에 도시된 실시예와 다른 지점들을 설명하며, 동일 부품의 설명은 동일한 참조 부호를 붙이는 것에 의해 생략한다.FIG. 9 is a top view of the exposure apparatus according to the second embodiment, and FIG. 10 is a side view along the X-X line showing the exposure apparatus according to the second embodiment in the state of performing exposure. In addition, in this embodiment, points different from the embodiment shown in Figs. 1 and 2 are described, and the description of the same parts is omitted by attaching the same reference numerals.

도 9에서, 베이스(1)상에 마스크(M)를 흡입에 의해서 유지하는 7개의 유지 장치(제1 분배 장치)(10A)가 운반 라인(L)의 좌측(상류측)에 배열되고, 마스크(M)를 흡입에 의해서 유지하는 6개의 유지 장치(제2 분배 장치)(10B)가 운반 라인(L)의 좌측(하류측)에 배열되어, 전체적으로 지그재그 배열을 형성한다.In FIG. 9, seven holding devices (first dispensing devices) 10A for holding the mask M on the base 1 by suction are arranged on the left side (upstream side) of the conveying line L, and the mask Six holding devices (second dispensing devices) 10B holding (M) by suction are arranged on the left side (downstream side) of the conveying line L to form a zigzag arrangement as a whole.

서로 유사한 구성을 갖는 각 유지 장치(10A, 10B)는, 프레임(도시 안됨)에 부착된 지지부(16)와, 마스크(M)를 흡입에 의해 유지하는 유지부(12)와, 유지부(12)를 지지부(16)에 대해서 Z축 방향(도 10에서 수직 방향)으로 구동하는 Z축 이동 장치(13)와, 유지부(12)를 베이스(1)의 상부면의 수직선을 중심으로 회전 구동하는 θ축 이동 장치(14)와, 유지부(12)를 지지부(16)에 대해서 Y축 방향(도 10의 지면에 수직인 방향)으로 구동하는 Y축 이동 장치(15)를 구비한다. 유지부(12)는 직사각형 구멍(12a)을 갖는다. 각 유지 장치(10A, 10B)는 X축 방향으로 이동하는 아암(11)을 구비하고 있기 때문에, 도 2에 도시된 유지 장치(10)의 구성보다 비교적 더 소형이다. 그러나, 정렬 조정을 위해서 유지부(12)를 지지부(16)에 대해서 X축 방향으로 약간 이동시키는 아암이 제공될 수도 있다.Each holding device 10A, 10B having a similar structure to each other includes a holding unit 16 attached to a frame (not shown), a holding unit 12 holding the mask M by suction, and a holding unit 12. ) Z-axis moving device 13 for driving the support unit 16 in the Z-axis direction (vertical direction in FIG. 10), and the holding unit 12 to rotate about the vertical line of the upper surface of the base 1. (Theta) axis | shaft movement apparatus 14 and the Y-axis movement apparatus 15 which drive the holding part 12 with respect to the support part 16 in the Y-axis direction (direction perpendicular | vertical to the paper surface of FIG. 10) are provided. The holding part 12 has a rectangular hole 12a. Since each holding device 10A, 10B has an arm 11 moving in the X-axis direction, it is relatively smaller than the configuration of the holding device 10 shown in FIG. However, an arm may be provided that slightly moves the retainer 12 in the X-axis direction with respect to the support 16 for alignment adjustment.

도 10에서, 케이싱(1b)이 홈 형상 운반 경로(1a) 아래의 베이스(1)의 바닥면에 부착되어 있고, 홈 형상 운반 경로(1a)는 베이스(1)에 형성되고 운반 라인(L)(도 9)을 따라서 베이스(1)를 통과한다. 한 쌍의 직선형 가이드(LG)가 케이싱(1b)의 양측부의 부근에 배열되고, 슬라이더(S)가 이 직선형 가이드(LG)의 각각을 따라서 자유롭게 이동할 수도 있도록 배열된다.In FIG. 10, a casing 1b is attached to the bottom surface of the base 1 under the groove-shaped conveying path 1a, and the groove-shaped conveying path 1a is formed in the base 1 and the conveying line L It passes through the base 1 along FIG. 9. A pair of linear guides LG are arranged in the vicinity of both side portions of the casing 1b, and the slider S is arranged so as to be able to move freely along each of these linear guides LG.

캐리어 장치(30')는 케이싱(1b)의 내측에 배열된 판 형상 구동부(31)와, 베이스(1)의 상부면에 배열된 트레이 지지부(32)와, 운반 경로(1a)를 거쳐서 구동부(31)와 트레이 지지부(32)를 연결하는 연결부(33)를 포함한다. 슬라이더(S)는 구동부(31)의 바닥면에 부착되고, 직선형 모터(LM)가 구동부(31)의 바닥면과 케이싱(1b) 사이에 배열되어 있다. 마스크(M)가 탑재되는 운반 트레이(21')가 트레이 지지부(32)의 상부면에 탑재되어 있다. 운반 트레이(21')의 상부면에는, 제1 탑재 위치(21A)가 도 9의 운반 경로(1a)의 좌측에 제공되고, 제2 탑재 위치(21B)가 운반 경로(1a)의 우측에 제공된다. 캐리어 장치(30') 및 캐리어 트레이(21')는 통합될 수도 있다.The carrier device 30 'includes a plate-shaped drive part 31 arranged inside the casing 1b, a tray support part 32 arranged on an upper surface of the base 1, and a drive part via a carrying path 1a. 31 and a connecting portion 33 for connecting the tray support 32. The slider S is attached to the bottom surface of the drive part 31, and the linear motor LM is arrange | positioned between the bottom surface of the drive part 31, and the casing 1b. The transport tray 21 'on which the mask M is mounted is mounted on the upper surface of the tray support part 32. On the upper surface of the conveyance tray 21 ', the first mounting position 21A is provided on the left side of the conveying path 1a of FIG. 9, and the second mounting position 21B is provided on the right side of the conveying path 1a. do. The carrier device 30 'and the carrier tray 21' may be integrated.

본 실시예의 노광 장치를 사용하는 분할 노광 동작은 상기 실시예의 것과 유사하기 때문에, 그 설명은 생략한다.Since the divided exposure operation using the exposure apparatus of this embodiment is similar to that of the above embodiment, the description thereof is omitted.

다음에, 본 실시예에서의 운반(회수 및 설치) 측면에 대해서 설명한다. 유지부(12)가 마스크(M)를 유지하고 있는 동안 운반 라인(L)의 양측에 위치된 유지 장치(10A, 10B)가 운반 라인(L)상의 반송 위치에 배열되고, 도 9의 상부로부터 수를 세는 것(1번, 2번…)으로 추정한다. 또한, 캐리어 장치(30')는 운반 라인(L)의 일 단부인 제1 위치(실선의 위치)에서의 노광 중에 대기 상태에 있고, 이 제1 위치에서 로봇(RBT)에 의해서 마스크 스토커(MS1, MS2)의 전후로 마스크(M)의 반송이 실행되며, 마스크가 회수되거나 설치될 때 캐리어 장치(30')는 운반 라인(L)의 대향 단부인 제2 위치(점선의 위치)로 이동한다.Next, the side of transportation (recovery and installation) in the present embodiment will be described. The holding devices 10A, 10B located on both sides of the conveying line L are arranged at the conveying position on the conveying line L while the retaining portion 12 holds the mask M, and from the top of FIG. We estimate it by counting (number 1, number 2). Further, the carrier device 30 'is in a standby state during exposure at a first position (solid line position), which is one end of the conveying line L, and at this first position, the mask stocker MS1 by the robot RBT. The conveyance of the mask M is performed before and after MS2, and when the mask is recovered or installed, the carrier device 30 'moves to the second position (position of the dashed line) which is the opposite end of the conveying line L. As shown in FIG.

도 11의 흐름도에서, 단계(S301)에서 캐리어 장치(30')가 마스크(M)가 상부에 탑재되지 않은 상태에서 직선형 모터(LM)에 의해 고속으로 구동되어 제2 위치(제1 반송 위치)로 이동하여 정지한다. 여기서, 1번 제1 유지 장치(10A)에 의해 유지된 마스크(M)는 캐리어 장치(30')에 의해 지지된 운반 트레이(21')의 제1 탑재 위치(21A) 위에 위치되고, 1번 제2 유지 장치(10B)에 의해 유지된 마스크(M)는 제2 탑재 위치(21B) 위에 위치된다.In the flowchart of FIG. 11, in step S301, the carrier device 30 ′ is driven at a high speed by the linear motor LM in a state in which the mask M is not mounted on the upper portion so that the second position (first conveying position) is obtained. Move to and stop. Here, the mask M held by the 1st 1st holding apparatus 10A is located on the 1st mounting position 21A of the carrying tray 21 'supported by the carrier apparatus 30', and 1st The mask M held by the second holding device 10B is located above the second mounting position 21B.

또한, 단계(S302)에서, n=1이 된 후에, 단계(S303)에서, 1번 제1 유지 장 치(10A)로 유지부(12)를 하강시키는 것만으로, 그에 의해 유지된 마스크(M)가 제1 탑재 위치(21A)로 반송되는 동시에, 1번 제2 유지 장치(10B)로 유지부(12)를 하강시키는 것만으로, 그에 의해 유지된 마스크(M)를 제2 탑재 위치(21B)로 반송한다. 또한, 단계(S304)에서, 캐리어 장치(30')는 운반 라인(L)을 따라 일 단계만큼 역방형(도 9의 하방향)으로 이동하여 운반 트레이(21')를 제2 반송 위치로 이동시킨다. 여기서, 2번 제1 유지 장치(10A)에 의해 유지된 마스크(M)는 캐리어 장치(30')에 의해 지지된 운반 트레이(21')의 제1 탑재 위치(21A) 위에 위치되고, 2번 제2 유지 장치(10B)에 의해 유지된 마스크(M)는 제2 탑재 위치(21B) 위에 위치된다.In addition, in step S302, after n = 1, in step S303, the mask M held by the first holding device 10A is lowered only by lowering the holding unit 12. ) Is conveyed to the first mounting position 21A, and only the lowering of the holding unit 12 with the first second holding device 10B causes the mask M held by the second mounting position 21B to be lowered. Return to). Further, in step S304, the carrier device 30 ′ moves in a reverse direction (downward in FIG. 9) by one step along the transport line L to move the transport tray 21 ′ to the second transport position. Let's do it. Here, the mask M held by the first holding device 10A No. 2 is located on the first mounting position 21A of the transport tray 21 'supported by the carrier device 30', and is numbered two. The mask M held by the second holding device 10B is located above the second mounting position 21B.

단계(S305)에서, 유사한 반송이 최종 반송이 아니면(이 경우, n=6), 단계(S306)에서 n=n+1이 되고, 작업은 단계(S303)로 복귀하며, 유지부(12)를 (n+1)번째 제1 유지 장치(10A)로 저하시키는 것만으로, 그에 의해 유지된 마스크(M)가 제1 탑재 위치(21B)로 반송되고, 그리고 유지부(12)를 (n+1)번째 제2 유지 장치(10B)로 저하시키는 것만으로, 그에 의해 유지된 마스크(M)가 제2 탑재 위치(21B)로 반송된다. 그 결과, 스페이서(20)를 사이에 개재한 상태로 새로운 마스크(M)가 반송된 마스크(M) 위에 배치된다. 또한, 운반 트레이(21')는 단계(S304)에서 다음 반송 위치로 일 단계만큼 이동한다.In step S305, if the similar conveyance is not the final conveyance (in this case n = 6), then n = n + 1 in step S306, the operation returns to step S303, and the holding portion 12 Only by lowering to the (n + 1) th first holding device 10A, the mask M held thereby is conveyed to the first mounting position 21B, and the holding unit 12 is moved to (n + The mask M held by it is conveyed only to the 1st 2nd holding apparatus 10B, and is conveyed to the 2nd mounting position 21B. As a result, a new mask M is disposed on the conveyed mask M with the spacer 20 interposed therebetween. In addition, the conveyance tray 21 'moves by one step to the next conveyance position in step S304.

상기 동작을 반복하여, 단계(S305)에서 유사한 반송이 최종 반송이 아니면(이 경우, n=6), 유지부(12)를 7번 제1 유지 장치(10A)로 저하시키는 것만으로, 그에 의해 유지된 마스크(M)가 단계(307)에서 제1 탑재 위치(21A)로 반송된다. 운반 트레이(21')는 단계(S308)에서 제1 위치로 이동하며, 단계(S309)에서, 운반 트레 이(21')의 제1 탑재 위치(21A) 및 제2 탑재 위치(21B)에 탑재된 사용된 마스크(M)가 로봇(RBT)을 사용하여 마스크 스토커(MS1)에 수용되는 한편, 마스크 스토커(MS2)에 저장된 미사용 마스크(M)는 운반 트레이(21')의 제1 탑재 위치(21A) 및 제2 탑재 우치(21B)에 탑재된다.By repeating the above operation, if the similar conveyance is not the final conveyance in step S305 (in this case, n = 6), only the lowering of the holding portion 12 to the seventh first holding device 10A is thereby performed. The held mask M is conveyed to the first mounting position 21A in step 307. The transport tray 21 'moves to the first position in step S308, and in step S309, it is mounted at the first mounting position 21A and the second mounting position 21B of the transport tray 21'. The used mask M is accommodated in the mask stocker MS1 using the robot RBT, while the unused mask M stored in the mask stocker MS2 receives the first mounting position ( 21A) and the second mounting tooth 21B.

단계(S310)에서, 캐리어 장치(30')는 운반 라인(L)을 따라 수직 방향(도 9의 상방향)으로 한단계만큼 이동하여 운반 트레이(21')를 제1 반송 위치로 이동시킨다. 여기서, 7번 제1 유지 장치(10)의 유지부(12)만이 캐리어 장치(30')에 의해 지지된 운반 트레이(21')의 제1 탑재 위치(21A)에 탑재되 마스크(M) 위에 위치된다. 따라서, 단계(S311)에서, 7번 제1 유지 장치(10A)만이 유지부(12)를 하강시키고 제1 탑재 위치(21A)에 탑재된 마스크(M)를 유지한 후에 유지부(12)를 상승시킨다.In step S310, the carrier device 30 'moves along the conveying line L by one step in the vertical direction (upward in FIG. 9) to move the conveying tray 21' to the first conveying position. Here, only the holding part 12 of the 7th 1st holding apparatus 10 is mounted in the 1st mounting position 21A of the conveyance tray 21 'supported by the carrier apparatus 30', and is placed on the mask M. As shown in FIG. Is located. Therefore, in step S311, only the seventh first holding device 10A lowers the holding unit 12 and holds the holding unit 12 after holding the mask M mounted at the first mounting position 21A. Raise.

또한, 단계(S312)에서 m=6이며느 단계(S313)에서, 캐리어 장치(30')가 이송 라인(L)을 따라 수직 방향으로 일단계만큼 이동하여 운반 트레이(21')를 제6 반송 위치로 이동시킨다. 이 때, 6번 제1 유지 장치(10A)의 유지부(12)가 캐리어 장치(30)에 의해 지지된 운반 트레이(21')의 제1 탑재 위치(21A)에 탑재된 마스크(M) 위에 위치되는 한편, 6번 제2 유지 장치(10B)의 유지부(12)는 캐리어 장치(30')에 의해 지지된 운반 트레이(21')의 제2 탑재 위치(21B)에 탑재된 마스크(M) 위에 위치된다.In addition, in step S312, m = 6, and in step S313, the carrier device 30 'moves along the transfer line L by one step in the vertical direction to carry the sixth conveyance tray 21'. Move to position At this time, the holding part 12 of the 6th 1st holding apparatus 10A is on the mask M mounted in the 1st mounting position 21A of the conveyance tray 21 'supported by the carrier apparatus 30. As shown in FIG. While being positioned, the holding part 12 of the sixth holding device 10B is a mask M mounted on the second mounting position 21B of the carrying tray 21 'supported by the carrier device 30'. )

단계(S314)에서, 6번 제1 유지 장치(10A)만이 그의 유지부(12)를 하강시키고 제1 탑재 위치(21A)에 탑재된 마스크(M)를 유지한 후에 그것을 상승시키는 한편, 6 번 제2 유지 장치(10B)만이 그의 유지부(12)를 하강시키고 제2 탑재 위치(21B)에 탑재된 마스크(M)를 유지한 후에 그것을 상승시킨다.In step S314, only the sixth first holding device 10A lowers its holding part 12 and raises it after holding the mask M mounted at the first mounting position 21A, while raising it six times. Only the second holding device 10B lowers the holding part 12 and raises it after holding the mask M mounted at the second mounting position 21B.

단계(S315)에서, 동시 반송이 최종 반송이 아니면(이 경우, m=1), 단계(S31)에서 m=m-1이 되고, (m-1)번째 제1 유지 장치(10A)만이 그의 유지부(12)를 하강시키고 제1 탑재 위치(21A)에 탑재된 마스크(M)를 유지한 후에 그것을 상승시키는 동시에, (m-1)번째 제2 유지 장치(2A)만이 그의 유지부(12)를 하강시키고 제2 탑재 위치(2B)에 탑재된 마스크(M)를 유지한 후에 그것을 상승시킨다. In step S315, if the simultaneous conveyance is not the final conveyance (in this case m = 1), then m = m-1 in step S31, and only the (m-1) th first holding device 10A The holding part 12 is lowered and the mask M mounted on the first mounting position 21A is held and then raised, and only the (m-1) second holding device 2A is held by the holding part 12. ) Is lowered and the mask M mounted on the second mounting position 2B is held and then raised.

상기 동작을 반복한 후에, 단계(S315)에서 동시 반송이 최종 반송이면(이 경우, m=1), 단계(S317)에서 캐리어 장치(30')가 고속으로 구동되어 마스크(M)가 그 위에 탑재된 상태에서 제1 위치로 이동하여 정지한다.After repeating the above operation, if the simultaneous conveyance is the final conveyance in step S315 (in this case m = 1), the carrier device 30 'is driven at high speed in step S317 so that the mask M is placed thereon. It moves to a 1st position and is stopped in a mounted state.

본 실시예에 따르면, 캐리어 장치(30')에 부착된 운반 트레이(21')는 마스크(M)에 대한 2개의 탑재 위치(21A, 21B)를 갖고 있기 때문에, 제1 유지 장치(10A) 및 제2 유지 장치(10B)에 대해서 마스크(M)의 회수 또는 설치를 동시에 실행할 수 있고, 마스크(M)를 회수 또는 부착하는데 필요한 시간을 절약할 수 있다. 또한, 캐리어 장치(30')가 마스크(M)의 회수 또는 설치에서 2번 왕복하지만, 마스크(M)가 탑재되지 않은 빈 상태에서 제1 및 최종 이동이 실행되기 때문에, 이들은 고속으로 실행할 수 있고, 또 마스크(M)의 회수 및 설치에 필요한 시간을 더욱 절약할 수 있다. 또한, 유지부(12)를 수직 방향으로 이동시키는 것만으로, 운반 트레이(21')와 유지 장치(10A, 10B) 사이의 마스크(M)의 반송을 실행할 수 있기 때문에, 마스크(M)를 교체하는데 필요한 시간을 절약할 수 있다.According to this embodiment, since the conveyance tray 21 'attached to the carrier device 30' has two mounting positions 21A and 21B for the mask M, the first holding device 10A and The recovery or installation of the mask M can be performed simultaneously with respect to the second holding device 10B, and the time required for recovering or attaching the mask M can be saved. Further, although the carrier device 30 'reciprocates twice in the recovery or installation of the mask M, since the first and final movements are performed in the empty state in which the mask M is not mounted, they can be executed at high speed. Further, the time required for the recovery and installation of the mask M can be further saved. Moreover, since only the moving part 12 is moved to a vertical direction, conveyance of the mask M between the conveyance tray 21 'and the holding apparatuses 10A and 10B can be performed, and the mask M is replaced. You can save the time needed to do this.

본 발명을 여러 실시예를 참조하여 설명하였지만, 본 발명은 상기 실시예에 한정되는 것으로 해석되어서는 안되고 적절한 수정 또는 개량이 물론 가능하다. 예컨대, 마스크(M)를 하류측의 유지 장치(10)로부터 상류측의 유지 장치(10)쪽으로 전송하는 경우에, 캐리어 장치(30)를 수직 방향으로 이동하면서 마스크(M)를 하류측의 유지 장치(10)로부터 순차적으로 적층 및 회수하고, 그 후에 캐리어 장치(30)를 반대 방향으로 이동시키면서 적층된 마스크를 상류측의 유지 장치(30)에 순차적으로 분배하는 것이 가능하다. 또한, 스페이서(20) 위의 제2 결합부(20)가 한 쌍의 테이퍼진 면을 포함하고, 테이퍼진 면 사이에 하방향으로 좁아지는 간극(마스크 사이의 상대 위치 이동을 보상하는 수단)이 존재하면, 제2 결합부(20b)상에 마스크(M)를 탑재하는 것만으로 마스크(M)의 위치를 결정할 수 있고, 그리고 마스크(M)는 유지 장치(10)에 의해 흡입 유지될 때 유지부(12)에 의해 고 정밀도로 유지되므로, 마스크에 형성된 정렬 마크는, 예컨대 감시 카메라에 대한 관찰 허용 범위에 포함될 수 있어서, 신속한 노광 작업을 실행하는 것이 가능하다.Although the present invention has been described with reference to various embodiments, the present invention should not be construed as limited to the above embodiments but of course appropriate modifications or improvements are possible. For example, in the case where the mask M is transferred from the downstream holding device 10 to the upstream holding device 10, the mask M is held downstream while the carrier device 30 is moved in the vertical direction. It is possible to sequentially stack and withdraw from the device 10, and then sequentially distribute the stacked masks to the upstream holding device 30 while moving the carrier device 30 in the opposite direction. In addition, the second engaging portion 20 on the spacer 20 includes a pair of tapered surfaces, and a gap (means for compensating relative positional movement between masks) between the tapered surfaces is narrowed downwardly. If present, the position of the mask M can be determined simply by mounting the mask M on the second engaging portion 20b, and the mask M is held when held by the holding device 10. Since it is maintained with high precision by the part 12, the alignment mark formed in the mask can be included in the observation tolerance range with respect to a surveillance camera, for example, and it is possible to perform a quick exposure operation.

본 발명에 의하면, 패턴이 각각 형성된 마스크가 적층되고 운반되기 때문에, 복수의 마스크를 즉시 회수하여 즉시 분배할 수 있으므로, 운반 시간을 상당히 감소시킬 수 있어, 마스크를 사용하는 장치의 용량 이용률을 개선시킬 수 있다. 또한, 분배 장치가 운반 경로의 양측에 마스크를 분배하기 때문에, 하나의 선 운반 경로를 거쳐 단일 캐리어 장치를 이용하여 마스크 분배를 효율적으로 실행하는 것이 가능하다.According to the present invention, since masks each having a pattern formed thereon are stacked and transported, a plurality of masks can be immediately recovered and immediately distributed, thereby significantly reducing the transportation time, thereby improving the capacity utilization rate of the device using the mask. Can be. In addition, since the dispensing device distributes the mask on both sides of the conveying path, it is possible to efficiently perform mask dispensing using a single carrier device via one line conveying path.

Claims

A plurality of masks each having a pattern formed thereon are transported in a stacked state with spacers arranged therebetween.

Carrier device.

The method of claim 1,

In the mask conveyance position, the spacers are conveyed together and the mask is arranged below the spacers in the direction of gravity

Carrier device.

The method of claim 2,

In the mask conveyance position, the mask is held and lifted by suction

Carrier device.

The method according to any one of claims 1 to 3,

The mask is used for pattern exposure, and the spacer is arranged at a position such that at least it does not block exposure through the pattern.

Carrier device.

The method according to any one of claims 1 to 4,

Only one spacer moves with the mask to be conveyed

Carrier device.

The method according to any one of claims 1 to 5,

The spacer has means for compensating for relative positional movement between the masks when the masks are stacked.

Carrier device.

The method according to any one of claims 1 to 6,

The spacer has a protrusion that contacts the holding device when the conveyed mask is held by the holding device.

Carrier device.

In the exposure apparatus which performs exposure of a pattern on the board | substrate hold | maintained movable by irradiating exposure through the mask in which the pattern was formed,

A carrier device on which a plurality of superimposed substrates are mounted and moving along one line transport path extending to intersect the direction of movement of the substrate,

A dispensing device that dispenses one or more of the masks from the carrier device when moved to a predetermined position,

The dispensing device distributes the mask to both sides of the conveying path.

Exposure apparatus.

The method of claim 8,

The dispensing device has a plurality of arms arranged on both sides of the conveying path to hold the mask and move in the direction of movement of the substrate.

Exposure apparatus.

The method of claim 9,

When the carrier device moves in one direction along the conveyance path, conveyance of the mask is carried out between the carrier devices by one arm of the conveyance path, and when the carrier device moves in the other direction along the conveyance path, The conveyance of a mask is performed between carrier apparatuses by the other arm.

Exposure apparatus.

The method according to any one of claims 9 and 10,

When the carrier device moves in one direction along the conveying path, conveyance of the mask from one arm of the conveying path toward the carrier device is executed, and when the carrier device moves in the other direction along the conveying path, the carrier device The return of the mask to the other arm of the conveying path is performed.

Exposure apparatus.

The method according to any one of claims 8 to 11,

The carrier device supports a plurality of stacked masks, and spacers are arranged between the plurality of stacked masks so that the dispensing device distributes the mask and the spacers together.

Exposure apparatus.

The method according to any one of claims 8 to 12,

The plurality of masks are stored with spacers arranged therebetween.

Exposure apparatus.

In the exposure apparatus which performs exposure of the pattern on the board | substrate hold | maintained movable by irradiating exposure through the mask in which the pattern was formed,

A carrier device which mounts a plurality of masks in a stacked state at a first mounting position and a second mounting position and moves along a line conveying path extending to cross the moving direction of the substrate;

A first dispensing device arranged on one side of the conveying path with respect to the moving direction of the substrate, and distributing one or more masks from the first mounting position of the carrier device after the carrier device moves to a predetermined position;

A second dispensing device arranged on the other side of the conveying path with respect to the moving direction of the substrate, and distributing one or more masks from the second mounting position of the carrier device after the carrier device moves to a predetermined position;

Exposure apparatus.

The method of claim 14,

The conveying path extends in the horizontal direction, and the first dispensing device accommodates the mask from the first mounting position by moving only in the vertical direction with respect to the carrier device moved to the predetermined position.

Exposure apparatus.

The method of claim 15,

The second distribution device accommodates the mask from the second mounting position by moving only in the vertical direction with respect to the carrier device moved to the predetermined position.

Exposure apparatus.

The method according to any one of claims 8 to 16,

The conveyance of the plurality of masks between the mask stocker and the carrier device is performed on one end side of the conveying path, and the individual mask conveyance between the carrier device and the dispensing device is started from the other end side of the carrier device.

Exposure apparatus.