KR20070044222A - 정전척형 히터, 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 반도체제조 장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (14)
- 척 플레이트;상기 척 플레이트 상에 형성된 전극;상기 전극과 중첩되지 않도록 상기 척 플레이트 상에 형성된 발열체; 및상기 전극 및 발열체를 커버하도록 상기 척 플레이트 상에 형성된 유전체를 구비하는 정전척형 히터.
- 제 1 항에 있어서, 상기 전극의 상면과 상기 발열체의 상면은 실질적으로 동일 평면 상에 위치하는 것을 특징으로 하는 정전척형 히터.
- 제 1 항에 있어서, 상기 발열체의 상면은 상기 전극의 하면으로부터 최대 500㎛ 낮게 배치되는 것을 특징으로 하는 정전척형 히터.
- 제 1 항에 있어서, 상기 발열체는 사행 구조(serpentine)를 갖는 것을 특징으로 하는 정전척형 히터.
- 제 1 항에 있어서, 상기 전극에는 상기 발열체의 형상과 대응되는 개방부가 형성되고,상기 전극은 상기 개방부를 통하여 상기 발열체가 노출되도록 상기 척 플레 이트 상에 배치되는 것을 특징으로 하는 정전척형 히터.
- 제 1 항에 있어서, 상기 척 플레이트의 상에는 상기 발열체의 형상과 대응되는 수용홈이 형성되고,상기 발열체는 상기 수용홈에 배치되는 것을 특징으로 하는 정전척형 히터.
- 제 1 항에 있어서, 상기 척 플레이트 및 상기 유전체는 세라믹으로 이루어진 것을 특징으로 하는 정전척형 히터.
- 척 플레이트를 준비하는 단계;척 플레이트 상에 발열체를 형성하는 단계;상기 척 플레이트 상에 상기 발열체와 중첩되지 않도록 전극을 형성하는 단계; 및상기 척 플레이트 상에 유전체를 형성하여 상기 전극 및 발열체를 커버하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 정전척형 히터의 제조 방법.
- 제 8 항에 있어서, 상기 척 플레이트 상에 상기 발열체의 형상과 대응되게 수용홈을 형성하는 단계;상기 수용홈에 상기 발열체를 배치하는 단계; 및상기 수용홈에 매설제를 형성하여 상기 발열체를 매립하는 단계를 더 포함하 는 것을 특징으로 하는 정전척형 히터의 제조 방법.
- 제 9 항에 있어서, 상기 척 플레이트 상면으로부터 상기 발열체가 노출되도록 상기 매설제를 포함한 상기 척 플레이트 상부를 연마하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 정전척형 히터의 제조 방법.
- 제 9 항에 있어서, 상기 매설제는,상기 수용홈에 세라믹 분말을 충진하고, 상기 충진된 세라믹 분말을 소결시켜 형성되는 것을 특징으로 하는 정전척형 히터의 제조 방법.
- 제 8 항에 있어서, 상기 전극을 형성하는 단계는,금속 박판 또는 메쉬에 상기 발열체의 형상과 대응되게 개방부를 형성하는 단계; 및상기 개방부를 통하여 상기 발열체가 노출되도록 상기 척 플레이트 상에 상기 금속 박판 또는 메쉬를 배치하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 정전척형 히터의 제조 방법.
- 제 8 항에 있어서, 상기 전극 및 발열체는 각각 스크린 프린팅 방식으로 형성되는 것을 특징으로 하는 정전척형 히터의 제조 방법.
- 반도체 제조 공정을 수행하기 위한 공간을 제공하는 프로세스 챔버;상기 프로세스 챔버 내부에 배치되며, ⅰ)척 플레이트, ⅱ)상기 척 플레이트 상에 형성된 전극, ⅲ)상기 전극과 중첩되지 않도록 상기 척 플레이트 상에 형성된 발열체 및 ⅳ)상기 전극 및 발열체를 커버하도록 상기 척 플레이트 상에 배치된 유전체를 포함하는 정전척형 히터;상기 프로세스 챔버 내부로 공정 가스를 공급하기 위한 가스 공급부; 그리고상기 프로세스 챔버 내부의 미 반응 가스 및 반응 부산물을 배출하기 위한 가스 배출부를 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 제조 장치.
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