KR101387916B1 - 히터 겸용 정전척 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 금속 모재; 상기 금속 모재의 상부에 형성된 유전층; 및 상기 유전층 내부에 구비되며 정전기력 발생 및 발열을 동시에 수행할 수 있는 전극층을 포함하는 히터 겸용 정전척에 관한 것으로서, 유전층 내에 위치한 전극층에 정전기력 발생용 고전압 전원 및 전극 가열용 저전압 전원을 동시에 연결하여, 단일 전극층에 의해 플라즈마 공정 도중 실리콘 웨이퍼를 고정시키고, 동시에 웨이퍼를 가열할 수 있는 기능을 구비한 히터 겸용 정전척에 관한 것이다.
본 발명에 따른 히터 겸용 정전척은 별도의 부가 히터를 장착하지 않고 온도 조절이 가능하며, 동시에 실리콘 웨이퍼를 고정할 수 있는 정전기력을 발생한다. 따라서, 본 발명에 의한 정전척은 선폭 미세화에 따른 고밀도, 고온 건식에칭 공정 등에 유용하게 사용될 수 있으며, 특히, 온도 제어 기능이 없는 종래의 정전척 시스템을 크게 변경하지 않고도 척과 히터의 두 가지 기능이 동시에 발현되도록 적용이 가능하므로, 기존 제조 공정 및 장치를 그대로 사용할 수 있는 경제성이 매우 높아, 산업현장에서 즉시 사용가능한 장점이 있다.
본 발명에 따른 히터 겸용 정전척은 별도의 부가 히터를 장착하지 않고 온도 조절이 가능하며, 동시에 실리콘 웨이퍼를 고정할 수 있는 정전기력을 발생한다. 따라서, 본 발명에 의한 정전척은 선폭 미세화에 따른 고밀도, 고온 건식에칭 공정 등에 유용하게 사용될 수 있으며, 특히, 온도 제어 기능이 없는 종래의 정전척 시스템을 크게 변경하지 않고도 척과 히터의 두 가지 기능이 동시에 발현되도록 적용이 가능하므로, 기존 제조 공정 및 장치를 그대로 사용할 수 있는 경제성이 매우 높아, 산업현장에서 즉시 사용가능한 장점이 있다.
Description
본 발명은 히터 겸용 정전척에 대한 것으로서, 보다 상세하게는, 별도의 부가 히터를 장착하지 않고 온도 조절이 가능한 정전척(ESC, Electro Static Chuck)에 대한 것이다.
반도체 제조 공정 중 반도체 회로 제조과정은 크게 기판 공정과 배선 및 패키징으로 구분되며, 전공정이라 불리는 기판공정에서 가장 중요한 공정중 하나가 에칭으로서, 산화 공정이나 박막 증착 공정의 결과로 형성된 층을 선택적으로 제거하는 공정이다. 에칭(Etching) 과정은 상기 층 표면을 이온 충격에 의한 물리적 작용이나, 플라즈마 속에서 발생된 반응물질들의 화학작용 또는 물리-화학적 작용을 이용하는 것으로서, 에칭속도가 웨이퍼 상의 여러 지점에서 얼마나 동일한가(균일도)와 일정시간 동안 상기 층을 얼마만큼 제거할 수 있는지 (에칭속도)가 전체적인 수율향상을 위한 주요인자로 여겨지고 있다.
최근 반도체 공정에서는 회로의 고집적화를 위한 선폭 미세화에 따른 고밀도 플라즈마 환경이 도입되어 건식에칭(Dry etching) 및 플라즈마 세정(Plasma cleanning)과 같은 새로운 공정이 도입되고 있으며, 고온공정의 정밀한 제어의 필요성이 대두되고 있다.
따라서, 기존 반도체 회로 제조 과정 중 에칭공정에서 사용되는 정전척(ESC, Electro Static Chuck)에 히터(Heater)를 부가하여, 공정중인 실리콘 웨이퍼를 고정하고 동시에 웨이퍼의 온도를 기존보다 높여 제어하는 다기능 정전척이 요구되고 있는 실정이다.
상기와 같은 정전기력 및 온도 제어기능을 정전척에 부가하기 위하여 카트리지 히터(Cartirdge heater), 케이블 히터(Cable heater) 또는 스트립 히터(Strip heater) 등을 정전척 하부 또는 내부에 부착하거나 삽입한 다음 이 히터로부터 발생한 열을 실리콘 웨이퍼로 전달하는 방법[특허문헌 0001 내지 0005], 정전기력 발생부와 정전척 베이스 부재 사이에 내부 및 외부 히터를 각각 배치하여 실리콘 웨이퍼의 온도구배를 균일하게 할 수 있는 방법[특허문헌 0006], 척의 베이스바디와 정전기력 발생부 사이에 히터층을 실리콘 엘라스토머를 이용하여 접착하여 사용 시, 고온에서 접착층의 손상으로 인한 온도균일도 불량문제를 해결하기 위해, 상기 히터층을 용사법에 의해 본딩층 없이 형성시키는 방법[특허문헌 0007], 정전척 부재 한 면에 정전척용 전극을 다른 면에는 가열용 전극을 갖는 정전척이 부착된 세라믹 히터[특허문헌 0008], 알루미나 소결체의 상면 및 하면에 바인더를 포함하는 도전성 페이스트를 도포하여 정전 전극 및 히터 전극을 각각 인쇄한 후 소결한 다음, 상하면의 외부를 알루미나 분체를 가압성형 및 소성하는 방법[특허문헌 0009] 등이 이미 공지되어 있다.
도 1은 상기의 공지된 기술을 이용한 온도제어 기능이 있는 정전척(1)의 단면 구조와 전원연결 방식을 나타낸 모식도로서, 크게 세라믹 유전체(2)와 이의 내부에 배치되어 있는 금속 전극(3) 및 세라믹 유전체 하부에 매식되어 있는 히터(4) 그리고 전극부에 정전기력 발생을 위해 전압을 공급하는 고전압 직류전원 장치(6)과 히터에 연결된 절연된 가열전원 장치(7)로 구성되어 있다. 이때 온도제어 기능이 있는 정전척(1)의 하부를 냉각시키기 위한 냉각수 유입구 및 유출구(5a, 5b)가 부가될 수 있다.
공지 기술에 의하면, 히터는 도 1에서와 같이 정전척 내부에 배치되거나 하부에 부착될 수도 있으며, 세라믹 유전층 내부에 형성될 수도 있다. 하지만, 어느 것이나 정전기력 발생용 전극과 히터를 별도로 구비하고 있고, 히터는 전극 하부에 위치한다는 공통적인 특징을 가지고 있다.
이와 같이, 종래 기술에 따른 정전척에서는 히터가 정전기력 발생부 하부에 위치해 있어 히터로부터 발생한 열이 상부의 세라믹 층을 통해 전달되어야 하므로, 열전달이 늦고 응답속도 또한 낮은 단점이 있다. 또한, 정전기력 발생부와 정전척 부재 사이에 접착제를 이용해 히터를 배치 할 경우, 접착제의 겔화 온도 이상에서의 공정을 진행시 접착층의 변형이 발생하여 온도 균일도에 문제가 발생하며, 또한 플라즈마와 반응하여 아크발생이 일어나 수명을 단축시키는 문제가 있다.
또한, 정전척 내부에 히터를 삽입하는 경우나 정전척 부재 상에 용사법을 이용하여 직접 히터부를 형성시키는 경우, 종래의 정전척 제조과정과 비교하여 추가적인 가공 및 코팅 공정이 필요하게 되므로, 제조비용이 상승하고 제작기간이 길어지는 단점이 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제는, 종래의 온도제어 기능을 가지는 정전척과 달리 히터부를 정전기력 발생을 위한 전극과 별도로 구비하지 않아 전술한 종래기술의 문제점을 일거에 해결할 수 있는 고온 반도제 제조공정에 사용 가능한 온도 제어기능을 가지는 정전척을 제공하는 것이다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위해, 본 발명은 유전층 내에 위치한 전극층에 정전기력 발생용 전원과 온도 제어용 전원을 동시에 연결하여, 한 전극층이 플라즈마 공정 도중 실리콘 웨이퍼를 고정시키고, 동시에 웨이퍼를 가열하는 기능을 구비한 히터 겸용 정전척을 제안한다.
본 발명에 따른 히터 겸용 정전척은 별도의 부가 히터를 장착하지 않고 온도 조절이 가능하며, 동시에 실리콘 웨이퍼를 고정할 수 있는 정전기력을 발생한다. 따라서, 본 발명에 의한 정전척은 선폭 미세화에 따른 고밀도, 고온 건식에칭 공정 등에 유용하게 사용될 수 있으며, 특히, 온도 제어 기능이 없는 종래의 정전척 시스템을 크게 변경하지 않고도 척과 히터의 두 가지 기능이 동시에 발현되도록 적용이 가능하므로, 기존 제조 공정 및 장치를 그대로 사용할 수 있는 경제성이 매우 높아, 산업현장에서 즉시 사용가능한 장점이 있다.
도 1은 종래 기술에 따른 온도 조절 기능을 가지는 정전척의 구조를 설명하기 위한 모식도이다.
도 2는 본 발명에 따른 온도 제어용 발열부와 정전기력 발생용 전극층이 일체화된 히터 겸용 정전척의 구조 및 전원 연결 일례를 나타내는 모식도이다.
도 3은 정전기력 발생용 전극 및 히터부가 내외부로 각각 분할되어 설치된 경우에 대한 전원 연결 일례를 나타내는 모식도이다.
도 4는 실시예에서 제조된 히터 겸용 정전척에 대한 직류전압 인가시 4 인치 실리콘 웨이퍼에 발생하는 정전력 측정결과이다.
도 5는 정전력(2.94 kgf)을 발생시킨 상태에서 전극에 전류를 증가하며 측정한 실리콘 웨이퍼 뒷면의 온도이다.
도 6은 정전력(2.94 kgf)을 발생시킨 상태에서 전극에 교류전원(30V, 3.5 A)을 인가하였을 때 열화상 카메라로 측정한 실리콘 웨이퍼 뒷면의 온도 분포를 보여주는 사진이다.
도 7은 직류전압(1300V) 및 교류 전류(3.5A)를 인가한 상태에서 시간 경과에 따른 웨이퍼의 승온 과정을 측정한 결과이다.
도 2는 본 발명에 따른 온도 제어용 발열부와 정전기력 발생용 전극층이 일체화된 히터 겸용 정전척의 구조 및 전원 연결 일례를 나타내는 모식도이다.
도 3은 정전기력 발생용 전극 및 히터부가 내외부로 각각 분할되어 설치된 경우에 대한 전원 연결 일례를 나타내는 모식도이다.
도 4는 실시예에서 제조된 히터 겸용 정전척에 대한 직류전압 인가시 4 인치 실리콘 웨이퍼에 발생하는 정전력 측정결과이다.
도 5는 정전력(2.94 kgf)을 발생시킨 상태에서 전극에 전류를 증가하며 측정한 실리콘 웨이퍼 뒷면의 온도이다.
도 6은 정전력(2.94 kgf)을 발생시킨 상태에서 전극에 교류전원(30V, 3.5 A)을 인가하였을 때 열화상 카메라로 측정한 실리콘 웨이퍼 뒷면의 온도 분포를 보여주는 사진이다.
도 7은 직류전압(1300V) 및 교류 전류(3.5A)를 인가한 상태에서 시간 경과에 따른 웨이퍼의 승온 과정을 측정한 결과이다.
이하 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세하게 설명하지만, 본 발명이 실시예에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 본 발명을 설명함에 있어서, 공지된 기능 혹은 구성에 대해 구체적인 설명은 본 발명의 요지를 명료하게 하기 위하여 생략될 수 있다.
본 발명에 따른 히터 겸용 정전척은 금속 모재; 상기 금속 모재의 상부에 형성된 유전층; 및 상기 유전층 내부에 구비되며 정전기력 발생 및 발열을 동시에 수행할 수 있는 전극층을 포함한다.
상기 금속 모재의 소재로는 정전척용 금속 모재 또는 베이스 기재를 이루는 공지의 소재를 제한 없이 사용할 수 있으나, Al6061 등과 같은 상용 알루미늄 합금을 비롯한 알루미늄 합금으로 이루어지는 것이 바람직하다.
또한, 상기 유전층은 세라믹계 소재, 예를 들면, Al2O3, ZrO3, AlN, Y2O3 등으로 이루어지는 것이 바람직하며, 그 두께는 두께 감소에 따른 절연파괴 가능성 증가 측면 및 두께 증가에 의한 내열충격성 저하 측면을 모두 고려하여 적절히 결정될 수 있다.
참고로, 상기 유전층은 금속 모재 상에 물리적 증착법(PVD, Physical Vapor Deposition), 화학적 증착법(CVD. Chemical Vapor Deposition) 등의 통상의 코팅법을 통해 형성될 수 있음은 물론이나, 형성되는 유전층의 생산성 및 안정성의 측면에서 용사법(thermal spraying)을 이용해 본 단계를 수행하는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는, 플라즈마를 열원으로 하여 유전재료 분말을 용융, 가속 및 코팅시키는 플라즈마 용사법(plasma spraying)을 사용할 수 있는데, 그 구체적인 예로서 대기 플라즈마 용사법(APS, Air Plasma Spraying), 진공 플라즈마 용사법(VPS, Vaccum Plasma Spraying), 감압 플라즈마 용사법(LPPS, Low Pressure Plasma Spraying) 등을 들 수 있다.
다음으로, 상기 유전층 내부에 매립 또는 매설되어 구비되는 전극층은 W, Mo, Cr, Ta, Nb 등 용융점이 높은 내열 금속이나 그 합금으로 이루어지며, 이 층에 전기가 흐를 때 금속저항에 의해 주울열이 발생하는 특성을 가진다.
본 발명에 따른 히터 겸용 정전척에 있어서, 상기 전극층은 실리콘 웨이퍼 등의 기판 고정을 위한 정전기력 발생 및 상기 기판의 가열을 위한 발열을 동시에 수행할 수 있으며, 이를 위해 정전기력 발생용 고전압 전원 및 주울열 발생을 위한 가열용 전원을 동시에 공급받을 수 있도록, 상기 전극층은 정전기력 발생용 고전압 전원 및 전극 가열용 저전압 전원을 포함하는 복합전원에 전기적으로 연결된다.
구체적으로, 본 발명에 따른 히터 겸용 정전척의 일례에 대한 단면구조 및 전원 연결방식에 대한 모식도인 도 2에 도시된 바와 같이, 히터 겸용 정전척(11)은 금속 모재 상에 형성된 세라믹 유전층(12) 내부에 형성된 전극층(13)은, 유전층 상에 기판 고정을 위한 정전기력이 형성될 수 있도록 전극층(13)에 전압을 인가하는 정전기력 발생용 고전압 전원(15) 및 기판의 가열이 가능하도록 전극층(13) 자체의 저항에 의한 발열을 유도하는 전극 가열용 저전압 전원(16)을 포함하는 복합전원에 전기적으로 연결된다.
이때, 도 2에 나타난 바와 같이, 전극층(13)은 정전기력 발생용 고전압 전원(15)의 단자 및 전극 가열용 저전압 전원(16)의 단자 각각에 개별적으로 연결되는 것이 아니라 상기 양 전원이 상호 전기적으로 연결된 상태에서 전극층에 함께 연결된다.
또한, 상기 가열용 저전압 전원(16)은 도 2에 도시된 바와 같이 교류전원으로 한정되는 것은 아니며, 필요에 따라 직류전원을 사용해도 무방하다.
한편, 본 발명에 의하면 종래기술과는 다르게 별도의 히터부가 설치되지 않고, 정전기력 발생을 위한 전극층에 별도의 저전압 고전류를 인가하여 발열을 하여야 하므로, 정전기력 발생을 위해 정전기력 발생용 고전압 전원(15)에 의해 전극층에 인가되는 고전압, 예를 들어, 3∼5kV의 직류 고전압이 동일한 전극층에 연결된 440V 이하의 전압 및 1~15A의 전류를 발생시키는 전극 가열용 저전압 전원(16)에 흘러들어가 전극 가열용 저전압 전원(16)에 파손을 일으킬 우려가 있으며, 이는 서로 분리되어 있는 두 전원시스템의 접지가 각기 다른 전위에 있기 때문에 발생하는 것으로서 두 전원시스템 사이에 흐르는 공통 접지전류를 차단해야 할 필요가 있다.
이에, 상기와 같이 접지루프에 의해 발생된 고전압이나 전류로부터 상대 전원시스템을 보호하기 위하여, 본 발명에서는 도 2에 도시한 바와 같이 접지루프를 분리하고자 정전기력 발생용 고전압 전원(15) 및 전극 가열용 저전압 전원(16) 사이에 절연 변압기(17)를 설치하여, 한 측의 전압, 전류가 다른 측으로 직접적으로 전도되는 것을 방지하는 것이 바람직하다.
나아가, 상기 복합전원에 포함되는 전극 가열용 저전압 전원은 정전기력 발생용 고전압 전원보다 높은 내전압 특성을 가지는 것이 바람직하며, 또한, 전극 가열용 저전압 전원은 정전기력 발생용 고전압 전원과 전기적으로 플로팅되어 있는 것이 바람직하다.
그리고, 상기에서 상세히 설명한 본 발명에 따른 히터 겸용 정전척은, 대면적 실리콘 웨이퍼의 온도 균일성을 위하여, 상기 척의 내부와 외부에 별도의 히터를 설치하여 각 부위의 온도를 달리 제어하는 것에 의한 능동적인 실리콘 웨이퍼의 온도를 제어하는 다중온도 가변형 정전척(Tunable ESC)에도 본 발명을 적용할 수 있다.
즉, 도 3의 상부에 도시한 바와 같이 전극층을 각각 외부 전극 (18a 및 18b)과 내부 전극(19a 및 19b)으로 구분하여 형성한 다음, 도 3의 하부에 도시한 바와 같이 각 전극에 정전기력 발생용 고전압 전원(15)과 전극 가열용 저전압 전원(16)을 절연 변압기(17)를 이용하여 교차 연결하면, 구분된 외부 전극 (18a 및 18b) 및 내부 전극(19a 및 19b)에 동시에 정전기력 발생 및 온도제어가 가능하다. 이때, 구분된 두 구간별 온도 및 정전기력을 달리하고자 할 경우, 내, 외부에 형성된 전극층의 두께 또는 넓이를 제어하여 각기 다른 정전력 및 온도를 유지하는 것이 가능하다.
아래에서 본 발명은 실시 예를 기초로 하여 상세하게 설명한다. 제시된 실시 예는 예시적인 것으로 본 발명의 범위를 제한하기 위한 것은 아니다.
<실시예> 단일 전극층으로 기판 가열 및 고정을 동시에 수행할 수 있는 히터 겸용 정전척의 제조
100mm×100mm×30mm의 규격을 가지는 Al 6061합금으로 이루어진 모재의 표면을 알루미나 그릿 (Grit)을 이용하여 블래스팅하여 조면화 한 후, Al2O3 분말을 사용해 대기 플라즈마 용사법(APS)으로 상기 블래스팅 처리된 모재 표면 상에 두께 100㎛의 1차 유전층을 형성하였다. 다음 상기 유전층 상부에 미리 계산된 형상 및 제원을 갖는 금속 마스크를 위치시키고 W 분말을 대기 플라즈마 용사법으로 약 40㎛ 코팅하여 금속 전극층을 형성하였다. 이후 Al2O3 분말을 사용해 대기 플라즈마 용사법(APS)으로 상기 유전층 및 전극층 표면에 200㎛의 2차 유전층을 형성한 다음, 기계적 연마에 의해 전극층 코팅에 의해 생긴 요철부위를 평탄화 하였다.
<실험예> 실시예에서 제조된 히터 겸용 정전척에 대한 정전력 및 온도 측정
상기 실시예에서 제작한 히터 겸용 정전척에 도 2에서 도시한 바와 같이 절연 트랜스포머를 이용해 정전기력 발생용 고전압 직류전원과 가열용 저전압 전원을 각각 연결한 다음, 4 인치 실리콘웨이퍼를 척의 상부 중심에 위치시키고 실리콘 웨이퍼의 뒷면에 정전기 발생용 고전압 전원의 접지극을 연결하였다.
먼저 인가된 직류전압에 의해 발생한 정전력을 Digital force gage (PDE-50R, Japan)을 이용하여 측정하였다. 정전력이 발생한 직후 실리콘 웨이퍼의 측면을 수평으로 밀어 웨이퍼가 움직이기 시작할 때까지의 최대 힘을 정전력으로 판단하였다.
정전력은 회로에 전압을 인가함에 의해 직선적으로 증가하는 경향을 보이고 있으며, 본 실험에서 인가한 최대 전압인 1300V에서 발생한 정전력은 2.94 kgf이었다. 정전력은 인가한 전압을 제거하자마자 대부분 1초 이내에 소멸되어 양호한 정전특성을 보이고 있었다.
다음은 1300V의 직류전압을 인가한 상태에서 (즉, 정전력이 2.94 kgf인 상태) 교류전압을 증가시켜 웨이퍼 뒷면에 발생한 열을 열화상 카메라를 이용하여 측정하였다. 도 5는 고전압 직류전압을 1300V 인가하여 정전력을 2.94 kgf 발생시킨 상태에서, 전극에 부가적으로 저전압, 가변 전류을 인가하였을 때 실리콘 웨이퍼 뒷면의 온도를 관찰한 결과이다. 측정은 전류를 인가한 후 30초 이후에 하였으며, 인가된 전류가 증가함에 따라 웨이퍼의 온도는 즉시 증가하는 경향을 보였다.
도 6은 정전력을 2.94 kgf 발생시킨 상태에서 전극에 30V, 3.5 A의 저전압 전원을 인가한 후 15분 유지하였을 때 열화상 카메라로 측정한 실리콘 웨이퍼 뒷면의 온도 영상이다. 세라믹 유전층 하부의 전극이 발열을 하여 패턴 형성된 전극부위가 히터로서의 역할을 충분히 하고 있음을 보여주고 있으며, 정전력에 의해 밀착된 실리콘 웨이퍼가 가열되어 웨이퍼 뒷면 중심부의 온도는 약 120도에 도달한 것을 확인하였다. 시간에 따른 온도증가 양상을 관찰하였는데, 이는 도 7에 도시하였다. 금속 전극층에 저전압 고전류가 흐르면 금속저항에 의해 주울열이 발생하게 되고, 이 열은 시간이 경과함에 따라 직선적으로 증가하는 경향을 보였다.
이로부터 종래기술과는 다르게, 별도의 부가적인 히터나 히팅부를 구비하지 않고, 정전척 자체에 필수적으로 존재하는 전극부에, 정전기력 발생용 고전압 전원과 발열용 저전압 전원을 전기적 문제를 일으키지 않도록 하여 동시에 연결함으로서, 정전기력과 가열을 동시에 달성하는 것이 가능하였고, 인가된 고전압 및 저전류의 크기 및 양을 변화시킴으로서 정전기력의 크기와 실리콘 웨이퍼의 온도가 조절 가능하였다.
1: 종래 기술에 따른 온도제어 기능을 겸비한 정전척
2: 세라믹 유전체
3: 금속 전극
4: 히터
5a: 냉각수 유입구 5b: 냉각수 유출구
6: 정전기력 발생용 고전압 직류전원
7: 절연된 가열전원
11: 히터 겸용 정전척
12: 세라믹 유전층
13: 전극층
14a: 냉각수 유입구 14b: 냉각수 유출구
15: 정전기력 발생용 고전압 전원
16: 전극 가열용 저전압 전원
16a: 저전압 전원 1차측 16b: 저전압 전원 2차측
17: 절연 변압기
18a, 18b: 외부 전극
19a, 19b: 내부 전극
2: 세라믹 유전체
3: 금속 전극
4: 히터
5a: 냉각수 유입구 5b: 냉각수 유출구
6: 정전기력 발생용 고전압 직류전원
7: 절연된 가열전원
11: 히터 겸용 정전척
12: 세라믹 유전층
13: 전극층
14a: 냉각수 유입구 14b: 냉각수 유출구
15: 정전기력 발생용 고전압 전원
16: 전극 가열용 저전압 전원
16a: 저전압 전원 1차측 16b: 저전압 전원 2차측
17: 절연 변압기
18a, 18b: 외부 전극
19a, 19b: 내부 전극
Claims (10)
- 금속 모재; 상기 금속 모재의 상부에 형성된 유전층; 및 상기 유전층 내부에 구비되며 정전기력 발생 및 발열을 동시에 수행할 수 있는 전극층을 포함하고,
상기 전극층은 정전기력 발생용 고전압 전원 및 전극 가열용 저전압 전원을 포함하는 복합전원에 전기적으로 연결되며,
상기 정전기력 발생용 고전압 전원 및 상기 전극 가열용 저전압 전원 사이에 절연 변압기가 구비된 것을 특징으로 하는 히터 겸용 정전척. - 삭제
- 제1항에 있어서, 상기 정전기력 발생용 고전압 전원에 의한 3 ~ 5kV의 직류 고전압에 의해 정전기력이 발생되는 것을 특징으로 하는 히터 겸용 정전척.
- 제1항에 있어서, 상기 전극 가열용 저전압 전원에 의한 1 ~ 15A의 직류 또는 교류 전류에 의해 전극층이 발열되는 것을 특징으로 하는 히터 겸용 정전척.
- 삭제
- 제1항에 있어서, 상기 전극 가열용 저전압 전원은 상기 정전기력 발생용 고전압 전원보다 높은 내전압 특성을 가지는 것을 특징으로 하는 히터 겸용 정전척.
- 제1항에 있어서, 상기 전극 가열용 저전압 전원은 상기 정전기력 발생용 고전압 전원과 전기적으로 플로팅되어 있는 것을 특징으로 하는 히터 겸용 정전척.
- 제1항에 있어서, 상기 금속 모재는 알루미늄 합금으로 이루어진 것을 특징으로 하는 히터 겸용 정전척.
- 제1항에 있어서, 상기 유전층은 Al2O3, ZrO3, AlN 또는 Y2O3로 이루어진 것을 특징으로 하는 히터 겸용 정전척.
- 제1항에 있어서, 상기 유전층은 대기 플라즈마 용사법(APS, Air Plasma Spraying), 진공 플라즈마 용사법(VPS, Vacuum Plasma Spraying), 또는 감압 플라즈마 용사법(LPPS, Low Pressure Plasma Spraying)으로부터 선택되는 용사법에 의해 형성된 것을 특징으로 하는 히터 겸용 정전척.
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| KR20170073055A (ko) * | 2015-12-18 | 2017-06-28 | 엘지디스플레이 주식회사 | 정전척 |
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