KR20060134400A - 기판용 고 변형점 유리 조성물 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판용 유리조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 SiO2 55 ~ 70 중량%, Al2O3 0 ~ 1 중량%, ZrO2 0.1 ~ 5 중량%, Na2O 0.1 ~ 5 중량%, K2O 7 ~ 13 중량%, MgO 7 ~ 14 중량%, CaO 0 ~ 4 중량%, SrO 7 ~ 12 중량% 및 SO3 0.01 ~ 0.5 중량%를 포함하는 것을 특징으로 하는 유리 조성물로서, 이를 사용하여 제조된 유리는 변형점이 570 ℃ 이상으로 더욱 높아져서 고온의 소성에도 열변형이 적고 용융온도가 1460 ℃ 미만으로 연료비 증가 및 내화물 수명 단축 등의 손실이 없으며, 50 ~ 350 ℃ 온도범위에서 열팽창계수가 80 ~ 95 × 10-7/℃로서 기판용으로 적용하기에 적합하다.
기판, 유리, 변형점, 열팽창

Description

기판용 고 변형점 유리 조성물{High Strain-point Glass composition for substrate}
도 1 은 실시예 1 ~ 2 및 비교예 1 ~ 2 조성의 유리 용융물의 고온점도를 1200 ~ 1500 ℃의 온도 범위에서 측정하여 나타낸 그래프이다.
본 발명은 플랫 패널 디스플레이(Flat Panel Display, FPD) 기판용 유리, 특히 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel, PDP)과 같은 기판용 유리조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 SiO2 55 ~ 70 중량%, Al2O3 0 ~ 1 중량%, ZrO2 0.1 ~ 5 중량%, Na2O 0.1 ~ 5 중량%, K2O 7 ~ 13 중량%, MgO 7 ~ 14 중량%, CaO 0 ~ 4 중량%, SrO 7 ~ 12 중량% 및 SO3 0.01 ~ 0.5 중량%를 포함하는 것을 특징으로 하는 유리조성물로서, 이를 사용하여 제조된 유리는 기존에 플라즈마 디스플레이 패널용 기판유리로 적용되었던 소다라임 유리보다 변형점이 570 ℃ 이상으로 더욱 높 아져서 고온의 소성에도 열변형이 적고 용융온도가 1460 ℃ 미만으로 연료비 증가 및 내화물 수명단축 등의 손실이 없으며, 50 ~ 350 ℃ 온도범위에서 열팽창계수가 80 ~ 95 × 10-7/℃로서 기판용으로 적용하기에 적합하다.
예를 들어 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel, PDP)은 불활성 가스의 플라즈마 방전에 의해 가로, 세로로 배열된 매트릭스 전극 교점에서의 발광을 이용한 표시장치이다. PDP의 기본구성을 보면, 2.8 ~ 3.0 mm의 두께를 지니는 2장의 전, 후면 기판유리가 프릿트의 봉착에 의해 기밀되며, 영상이 나타나는 전면유리의 내부에는 음극의 역할을 하는 ITO(Indium tin oxide)가 코팅되어 있으며, 후면유리의 내부에는 양극의 Ni, Ag 페이스트와 적색, 녹색 및 청색의 색상을 발현하는 형광물질이 도포되어 있다.
PDP의 개발 초기에는 기판유리의 크기가 20 인치 이하의 소형이었고, 사용된 유리는 건축용 또는 자동차 유리를 제작하는데 일반적으로 사용되는 소다라임 계열 유리였다. 그러나 PDP의 개발이 진행됨에 따라, 그 크기가 점차 대형화 추세에 있어 열팽창에 따른 치수변형, 취급 및 가공 중의 스크래치 발생 등의 문제가 기판유리의 중요한 물성으로 대두되고 있다.
종래에 기판유리로 사용되었던 소다라임 유리의 경우 화학적 안정성, 평탄도 및 유리의 광학물성 등은 기판유리의 요구물성을 만족하나, 높은 열변형률과 높은 Na2O 함량은 기판유리의 적용에 적합하지 않았다. 보다 구체적으로 설명하면 소다라임 유리의 경우 유리의 변형점이 510 ℃ 부근이기 때문에 패널 제작시 열처리 공 정 중에서 열변형이나 생산 수율의 저하가 발생하기 쉽다. 또한 소다라임 유리는 플라즈마 디스플레이 패널의 전극 중에 하나인 Ag 전극과의 반응성이 있다는 문제가 있다. 상기 반응은 고온 열처리시 Ag+와 Na+ 간의 이온 침투 교환으로 인해 패널 부위에 Ag0 의 콜로이드를 발생시킬 수 있으며, 발생된 Ag0 콜로이드는 자외선 영역의 파장을 흡수하여 황변(yellowing) 현상을 유발할 수 있다. 따라서 황변 현상을 방지하기 위해서는 기판 하부에 추가로 SiO2 코팅을 하여 이러한 반응을 억제시켜야만 하는 단점이 있다. 이와 같은 Ag+ 와 알칼리 금속과의 반응성은 체적 저항률을 측정하여 예측할 수 있다. 즉 체적 저항률이 높아질수록 알칼리 금속의 확산속도가 낮은 것을 의미하므로 기판유리의 체적 저항률을 증가시킴에 의해 황변현상을 억제시킬 수 있으며, 기존 소다라임 유리의 경우 체적저항률은 109 Ω·cm 수준으로 측정된다.
상술한 바와 같이 기존 소다라임 유리 조성의 문제점은 고온 열처리에서의 열변형 및 Ag+ 전극과 알칼리 금속과의 반응성에 있으며, 이러한 문제점을 극복하기 위해 종래 기판유리인 소다라임 유리보다 변형온도가 60 ~ 80 ℃ 높고, Na2O 함량을 낮춘 PDP 기판유리 전용 조성이 개발되었다. 그러나 이와 같은 유리조성은 Al2O3 함량을 증가시키면서 알칼리 금속 함량을 낮추는 방법으로 유리의 변형점을 상승시켰으나, 이러한 성분 변화로 인해 유리의 고온 점도 상승이 필연적으로 발생하게 되었다. 고온점도의 상승은 유리 원료의 용해 과정, 발생기포의 탈포 과정 및 유리의 균질화에 있어 매우 불리한 조건이라 할 수 있다. 따라서 고온점도의 상승에 따른 상기 문제점들을 해결하기 위한 각 업체들의 노력이 지속적으로 이루어지고 있으며, 신규설비의 투자가 발생하고 있는 실정이다.
상기와 같은 기판유리 조성에 관련된 종래기술로는 다음과 같은 것을 예로 들 수 있다.
일본특허공개 평3-40933호는 SiO2, Al2O3, 알칼리 금속산화물, 알칼리 토금속 산화물 및 ZrO2을 포함하여, 600 ℃부근의 열처리에서도 변형되지 않고, 열팽창률도 소다라임 유리와 유사한 수준의 유리 조성물을 개시하고 있다. 그러나 알칼리 금속산화물 및 알칼리 토금속산화물의 경우 각각의 구체적인 함량이 아닌 총 함량만 기재되어 있어 재현에 어려움이 있으며, 청징제로서 Sb2O3 및 As2O3를 첨가하여 균질화 및 탈포를 유도하고 있으나, 이들이 과도한 경우 직접 통전 용융시 전극의 부식이나 유리의 착색을 유발할 수 있다.
또한 상기 특허의 실시예에 따르면 유리 용융물의 점도가 102 poise를 나타내는 온도가 1500 ℃ 이상임을 확인할 수 있다. 유리 용융물의 점도 값이 10 ~ 102 poise 인 영역에서 유리 용융물 내에 존재하는 기포의 탈포작업인 청징작업이 진행되므로 상기 온도가 낮을수록 청징작업을 낮은 온도에서 수월히 진행할 수 있다. 다시 말해서 유리 용융물의 점도 값이 10 ~ 102 poise를 나타내는 온도가 낮을수록 청징작업을 용이하게 진행할 수 있으며, 일반 소다라임 유리의 경우 이러한 청징작업이 진행되는 온도영역은 1400 ~ 1500 ℃ 이고, 소다라임 유리용융물의 경우에는 점도가 102 poise인 온도는 약 1420 ℃ 이다.
그러나 상기 특허의 경우 점도가 102 poise를 나타내는 온도가 1500 ℃ 이상인 것은 기존 소다라임 유리에 비하여 청징작업 온도가 100 ℃이상 높은 상태에서 진행되어야 한다는 것을 뜻하며, 이로 인한 연료비 증가 및 내화물 수명단축 등의 많은 손실을 감수해야 하는 단점을 갖고 있다. 또한 용해로 내부에서 발생하는 기포의 탈포 공정을 기존 소다라임유리 생산 공정 수준으로 진행하게 되면 미세 기포로 인한 생산수율 저하가 불가피하며, 이에 대한 고가의 보완 설비가 추가되어야 하는 단점이 있다.
상기한 기술에 대한 개량특허로 미국특허 제5,599,754호는 기판 유리 조성물의 열팽창계수, 전이온도 및 고온점도에 대한 내용을 언급하고 있으며, 판유리 생산법인 플로우트 공법으로 생산하는 것에 대한 내용을 개시하고 있으나, 플라즈마 디스플레이 패널용 유리의 핵심 물성인 변형점에 대한 언급이 없어 그 실효성을 알 수 없다. 또한 상기 특허의 경우에도 점도 102 poise에 해당하는 온도가 1500 ℃ 이상으로, 이로 인한 연료비 증가 및 내화물 수명단축 등의 손실을 감수해야 하는 단점을 갖고 있다.
또한 일본특허공개 평 8-133778호는 SiO2, 알카리 금속산화물 및 알카리토 금속산화물들로 구성된 유리조성물을 개시하고 있으나, 이러한 유리조성물로 제조된 유리는 ZrO2를 포함하고 있지 않아 유리의 변형점 상승효과가 크지 않으며, 실투의 발생을 억제시킬 수 없고, 또한 유리의 내수성 및 내화학성의 증대를 꾀할 수 없다는 문제점이 있다. 또한 실시예에서 확인할 수 있듯이 점도가 102 poise에 해당하는 온도가 1500 ~ 1560 ℃ 사이에 분포한다는 것은 위 특허들에서 언급한 것과 마찬가지로 과도한 용융부하가 발생할 수 있으며, 이로 인한 비용손실을 감수해야 하는 단점이 있다.
한편, 일본특허 공개 2004-035295호는 MgO 함량이 1~15% 수준인 조성물을 청구하고 있으나, MgO 함량 증가에 따른 액상온도 변화에 대한 측정 결과가 없으며, 실투화(失透化) 경향 증가에 따른 결함 발생에 대한 해결방안이 없어 그 실효성을 알 수 없다. 다시 말해 판유리의 제조공정상 피할 수 없는 실투 결함으로 인하여 고품질의 디스플레이 패널용 기판유리에 적합한 유리의 생산이 어려울 것으로 판단된다.
이에 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 연구 노력한 결과, 유리조성물을 제조함에 있어서 조성성분의 종류와 함량을 특이성 있게 재구성함으로써 PDP 제조과정에서 거치게 되는 600 ℃ 부근의 열처리에서 치수안정성 및 평탄도를 확보하고, 기존의 소다라임 판유리와 유사한 수준의 열팽창계수를 나타내기 때문에 기존 의 소다라임 판유리를 기판으로 사용하기 위하여 개발된 패널 페이스트 재료들을 그대로 적용할 수 있을 뿐만 아니라, 기존 PDP 기판 유리의 단점을 극복할 수 있는 조성을 개발하였다.
이러한 개발 과정 중에서 MgO 함량이 증가할수록 실투화(失透化) 경향이 증가하여 액상온도가 증가하는 것을 확인할 수 있었다. MgO의 경우 알칼리 토금속류 원소 중 가장 강한 결합력으로 인해 유리 조성 중 4 ~ 6% 수준 이상으로 첨가되면 실투 결함 발생 빈도가 크게 증가하는 것으로 알려져 있다. 이렇게 발생되는 결정 결함 중에서 가장 대표적인 결정으로는 디옵사이드(diopside; MgO·CaO·SiO2)가 있으며, 조성 실험을 통하여 MgO 함량 증가에 따라 발생률이 증가하는 것을 확인할 수 있었다. 이러한 실투 경향을 억제하기 위한 실험을 진행한 결과 기존의 고변형점 기판유리의 일반적인 조성으로는 실투화 경향을 억제시킬 수 없다는 것을 확인하였다. 이에 지속적인 개발을 통하여 Al2O3 함량과 CaO 함량을 감소시킨 신규 조성을 개발할 수 있었고, 이 조성계에서는 MgO 함량 증가에 따른 실투화 경향 증대 현상을 효과적으로 억제할 수 있음을 확인할 수 있었다.
따라서 본 발명의 목적은 유리의 열적변형의 기준점인 변형점(Strain point) 온도가 570 ℃ 이상이고, 소다라임 판유리와 유사한 수준인 80 ~ 95×10-7/℃의 열팽창계수 값을 가지며, 높은 용융온도와 고온점도를 갖는 기존 PDP 기판 유리의 단점을 극복하기 위해 MgO의 함량을 증가시켜 유리의 고온점도를 효과적으로 낮추고 용융온도 또한 1460 ℃ 미만으로 낮출 수 있으며, 기판유리의 내스크래치성 향상 및 Ag 전극과의 반응성을 억제할 수 있는 기판용 유리조성물을 제공하는 것이다.
본 발명은 SiO2 55 ~ 70 중량%, Al2O3 0 ~ 1 중량%, ZrO2 0.1 ~ 5 중량%, Na2O 0.1 ~ 5 중량%, K2O 7 ~ 13 중량%, MgO 7 ~ 14 중량%, CaO 0 ~ 4 중량%, SrO 7 ~ 12 중량% 및 SO3 0.01 ~ 0.5 중량%를 포함하는 기판용 유리조성물에 관한 것이다.
이와 같은 본 발명의 특징을 상세히 설명하면 다음과 같다.
본 발명의 기판용 유리 조성물은 조성성분의 종류 및 함량을 조절함에 의하여, 종래의 기판유리로 적용되었던 소다라임 유리보다 높은 570 ℃ 이상의 변형점으로 인하여 고온의 소성에도 열변형이 적기 때문에 기판유리로 적용되었을 경우 높은 치수안정성 및 평탄도를 확보할 수 있고, 용융온도가 1460 ℃ 미만으로 연료비 증가 및 내화물 수명단축 등의 손실이 없으며, 50 ~ 350 ℃ 온도범위에서 열팽창계수가 80 ~ 95×10-7/℃ 으로 종래의 소다라임 판유리와 유사한 수준을 나타내기 때문에 기존의 소다라임 판유리를 기판으로 사용시 적용된 패널 페이스트 재료들을 그대로 사용할 수 있어서 기판용으로 적용하기에 보다 적합하다.
또한 상기 언급한 물성들을 만족시키나 낮은 알칼리 금속 함량과 높은 Al2O3 함량으로 인하여 용융온도와 고온점도가 높아지는 단점을 내포하고 있었던 종래의 기판용 유리 조성에 비하여, 본 발명의 유리 조성물은 MgO의 함량을 7 중량% 이상 으로 증가시킴으로써 강력한 용융제인 Na2O 함량을 높이지 않고도 유리의 용융온도와 유리용융물의 고온 점도를 종래의 기판용 유리 조성보다 낮출 수 있어 용융로의 부하가 적고 청징성이 우수하다.
나아가서 고온 점도 감소 시에 발생할 수 있는 액상온도 상승을 적절한 조성비 구성을 통하여 극복하여, 기존 판유리 제조 방식인 플로트(float)공법을 통하여 용이하게 기판을 제조할 수 있고, MgO/CaO 비를 8 이상으로 조정하여 내스크래치성이 우수하고, K2O/Na2O비를 2.5 이상으로 조절하여 기판유리의 Ag 전극과의 반응성이 낮다.
이와 같은 본 발명의 기판용 유리조성물을 구성하는 성분별로 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
먼저, SiO2는 유리의 기본 구조를 형성하는 망목구조 형성제(Network Former)의 역할을 하는 것으로, 사용량이 55 중량% 미만이면 유리의 구조가 불안정해지고 이에 따른 내화학성이나 내수성이 저하되며, 70 중량%를 초과하여 사용하면 유리의 고온점도 증가와 용융성 저하로 인해 발생할 수 있는 실투 등의 결함으로 생산수율이 감소된다. 더욱 바람직하기로는 59 ~ 67 중량%를 포함하는 것이 좋다.
Al2O3는 유리의 고온점도를 증가시키고, 소량 첨가하는 경우 유리의 내구성을 향상시킨다. 그러나, MgO 함량이 높은 조성계에서 Al2O3가 증가할수록 결정화 경향이 증가하는 것이 확인되었다. 따라서 본 발명의 유리 조성물은 임의로 0 ~ 1 중량% 수준의 범위로 Al2O3를 포함할 수 있으며, 바람직하게는 0.2 중량% 미만으로 포함한다.
ZrO2는 유리의 내수성 및 내화학성을 증가시키고, 유리의 변형점을 증가시키는 성분으로, 본 발명의 유리조성물에서는 0.1 ~ 5 중량%를 사용하는데, 이때 사용량이 0.1 중량% 미만이면 유리의 내수성 및 내화학성이 저하되며, 5 중량%를 초과하면 결정화가 쉽게 일어날 수 있으며 용융성 저하로 인한 용융부하가 심해질 수 있다. 더욱 바람직하기로는 2.5 ~ 4 중량% 범위를 갖는 것이 좋다.
상기 성분들에 있어서 더욱 바람직하게는 SiO2 + Al2O3 + ZrO2의 총량이 전체 조성물의 60 ~ 72 중량% 범위에 있어야 하며, 72 중량%를 초과하면 기판용 유리의 중요 물성인 열팽창계수가 감소함과 동시에 유리의 고온 점도 증가에 따른 청징성 저하 및 용융부하가 증가할 수 있으며, 60 중량% 미만에서는 알칼리 금속 산화물의 함량이 과다해짐에 따라 유리의 비중 증가, 내화학성 저하 및 열팽창계수가 증가될 수 있다. 본 발명에서 사용되는 SiO2 + Al2O3 + ZrO2의 총량은 62 ~ 70 중량%를 사용하는 것이 더욱 바람직하다.
Na2O는 K2O와 함께 유리 조성물을 원활하게 용융시키는 용융제로서 작용하는 성분이며, 또한 열팽창률에 미치는 영향이 커서 적절한 열팽창계수 값을 조절하는데 필수 성분이다. 본 발명의 유리 조성물은 Na2O를 0.1 ~ 5 중량%로 사용하는데, 사용량이 0.1 중량% 미만이면 유리의 용융성 저하로 인해 균질화에 문제가 발생하고, 5 중량%를 초과하면 열팽창계수 증가, 유리의 변형점 감소 및 유리의 내수성과 내화학성이 저하되는 문제점이 있다. 또한 PDP 패널 등의 제작시 사용되는 Ag 전극과의 반응으로 인한 황변(yellowing) 현상을 유발시키는 물질이므로 함량을 낮은 수준으로 유지하는 것이 바람직하다. 더욱 바람직하기로는 1 ~ 3.5 중량% 범위를 갖는 것이 좋다.
K2O는 고온 및 저온에서의 유리조성물의 점도를 조절하는 데 영향력이 큰 성분으로써, Na2O와 함께 사용되는 혼합 알칼리 효과에 의해서 알카리 이온의 유리 내 이동을 제어하며, 유리의 전기 저항률에 영향을 미친다. 이와 같은 K2O는 7 ~ 13 중량%로 사용하는데, 사용량이 7 중량% 미만이면 유리 용융성을 저하시키고, 13 중량%를 초과하면 유리의 열팽창률이 증가하고 변형점이 저하되는 문제점이 있다. 더욱 바람직하기로는 9.0 ~ 12.5 중량% 범위를 갖는 것이 좋다.
또한 알칼리 금속과 Ag 전극과의 반응성 억제를 위해서는 K2O/Na2O 함량비를 2.5 이상으로 조정하는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 2.5 내지 10.0 으로 조정하는 것이다. 알칼리 금속과 Ag 전극과의 반응성을 가늠할 수 있는 기준인 체적저항률의 경우 역시 K2O/Na2O 함량비를 2.5 이상으로 조정한 경우 높아지는 것으로 확인되었으며, 이 값이 높아질수록 전극과의 반응성이 낮아진다고 할 수 있다. 또한 그 값이 10 을 초과하게 되면 K2O 함량 증가에 따라 원료의 가격 상승이 유발 되는 단점이 있다. 더욱 바람직한 K2O/Na2O 함량비는 4 ~ 9로 조정하는 것이 좋다.
MgO는 고온영역에서 유리조성물의 점도를 감소시키고, 저온영역에서는 유리조성물의 점도를 증가시키는 작용을 하며, 유리조성물의 변형점을 증가시키는 효과가 있다. 본 발명의 유리조성물에서는 7 ~ 14 중량%를 사용한다. 7 중량% 이상 투입하면 고온점도를 감소시켜 낮은 온도에서도 청징작업을 진행할 수 있다. 그러나 14 중량%를 초과하면 유리의 고온점도 감소에 따른 액상온도 증가가 발생할 수 있으며 열팽창계수가 감소할 수 있다. 더욱 바람직한 MgO의 사용량은 8.0 ~ 11중량% 범위를 갖는 것이 좋다.
CaO는 MgO와 유사한 역할을 하고 있으며, 유리 용융액의 고온 점도를 감소시키는 효과가 있다. MgO의 함량이 7 중량% 이상인 본 발명의 조성계의 경우 임의로 0 ~ 4 중량%의 CaO를 사용하는 것이 바람직하며, 사용량이 4 중량%를 초과하면 결정화가 쉽게 발생하는 문제점이 있다. 더욱 바람직하기로는 0 ~ 2.9 중량% 범위를 갖는 것이 좋다. 가장 바람직하기로는 CaO를 매우 미량, 즉 1 중량% 미만으로 사용하는 것이 좋다.
또한, MgO/CaO 함량비를 8 이상으로 조정하는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 8 내지 35 로 조정하는 것이다. MgO/CaO 함량비가 상기 범위 내에 있는 경우 MgO와 CaO 의 혼합이온 효과 및 유리 네트워크 내에서 MgO의 결합력이 다른 알칼리토류 금속보다 높고 이온 반경이 작아 밀도를 감소시키는 효과에 기인하여 유리의 내스크래치성을 나타내는 기준인 취성지수 값을 낮출 수 있는 효과가 있다.
SrO는 MgO 및 CaO와 유사한 역할을 수행하며, BaO와 함께 대표적인 알칼리토류 원소이다. SrO의 함량이 증가할수록 변형점의 증가를 유도할 수 있으며, 황변 및 변형점 감소를 유발 시키는 알칼리 원소들을 대체할 수 있다. 이러한 SrO의 사용량은 7 ~ 12 중량%인데, 그 사용량이 7 중량% 미만에서는 유리 용융시 고온 점도의 감소 및 결정화 억제의 효과가 적고, 12 중량%를 초과할 경우에는 유리의 변형점이 저하되고, 비중이 증가하는 문제점이 있다. 더욱 바람직하기로는 9.5 ~ 11.5 중량% 범위를 갖는 것이 좋다.
한편 MgO + CaO + SrO 의 성분들의 바람직한 총량은 전체 조성물의 15 ~ 24 중량%가 적정하며, 15 중량% 미만에서는 유리의 용융성 저하 및 고온 점도 상승을 가져올 수 있으며, 24% 초과시에는 유리의 비중 증가로 인한 기판 하중 증가나 액상온도의 상승이 발생할 수 있다. 더욱 바람직한 MgO + CaO + SrO 의 총량은 17 ~ 22 중량% 범위를 갖는 것이 좋다.
SO3 는 청징제로 사용되어 원료 용융시 발생되는 기포를 제거하는데 필수적으로 사용된다. 사용량은 0.01 ~ 0.5 중량% 이며, 상기 범위를 유지하는 것이 기포를 제거하는데 적절하다.
또한 본 발명에서는 TiO2, Fe2O3, FeO, As2O3, Sb2O3, CoO, NiO, Cr2O3 또는 CeO2 등의 성분들을 추가적으로 총량 1중량% 미만으로 첨가할 수 있다.
상기와 같은 조성을 가진 본 발명의 유리 기판은 판유리의 성형 방법으로 널리 알려져 있는 플로트(float) 법, 슬롯 다운 드로우(slot down draw) 법, 오버플 로우 다운 드로우(overflow down draw) 법 등의 방법에 따라서 제조할 수 있다.
이와 같은 본 발명을 다음 실시예에 의거하여 구체적으로 설명하겠는 바, 본 발명이 다음 실시예에 의하여 한정되는 것은 아니다.
실시예 1 ~ 7 및 비교예 1 ~ 5
유리조성물의 각 조성 성분들을 혼합하여 백금도가니에서 1550 ℃로 가열시켜 4시간 동안 용융시키는데, 이때 용융이 진행되는 동안 유리조성물의 균질화를 위하여 백금 교반기를 이용하여 약 30 분간 교반하도록 하였다. 상기 용융된 유리조성물을 금속판 또는 흑연판에 부어 판형으로 성형한 후 서냉점 이상의 온도를 유지 시킨 후 서냉시켜서 유리를 제조하였다. 각 유리조성물의 성분별 함량과 물성값은 하기 표 1에 나타내었다. 비교예 5번은 소다라임 유리인 기존 판유리의 조성과 물성 값이다.
표 1에 기재된 실시예 1 ~ 7 및 비교예 1 ~ 5 에 따라 제조된 유리를 시편으로 하여 다음과 같은 방법으로 열팽창계수, 변형점, 액상온도, 용융온도, 취성지수 및 체적저항률을 측정하였다.
열팽창계수란 특정온도 범위에서 기존 길이 대비 시편의 상대 팽창정도를 나타낸 값으로서, 딜라토미터(Dilatometer)를 이용하여 DIN 51045의 절차에 따라 50~350 ℃ 온도범위에서 측정하였다.
변형점이란 유리의 변형이 시작되는 온도로서, 상기 온도에서 열처리할 경우 생성되는 응력을 해소시키는데 16 시간이 소요되는 온도를 의미하며, 여기서는 유리의 점도가 1014.5 poise에 해당되는 변형점을 ASTM C598-88 에 명시된 방법으로 측정하였다.
액상온도란 유리내의 결정이 생성될 수 있는 최대 온도로써 정의되며, 전기로내의 온도 구배를 설정할 수 있는 퍼니스(Gradient furnace)를 이용하여 ASTM C829-81에 따라 측정하였다.
용융온도란 그 온도에서의 유리용융물 점도가 102 poise 인 온도로 DIN 52312에 따라 측정하였다. 이 온도가 낮을수록 청징작업이 수월하다. 즉, 유리 용융물의 점도가 102 poise 에 해당하는 온도가 높을수록 원료 배합의 용융시 필연적으로 발생하는 유리 용융물 내의 기포의 부상이 어려워지며, 미세 기포의 청징은 더욱 어려워진다. 1200 ℃~1500 ℃ 영역에서의 고온 점도 측정 역시 동일한 방법으로 측정하였다.
취성지수란 유리의 내스크래치성을 대표할 수 있는 물성 값으로 알려져 있다. 이러한 취성지수를 유리 물성으로 적용하는 것은 파괴인성(Kc)을 정확하게 측정하기 어렵기 때문이다. 이러한 파괴인성 측정의 어려움을 극복하기 위한 연구가 진행되었으며 취성지수가 파괴인성과 반비례의 상관관계가 있음이 밝혀졌다. 비커스 압자를 이용하여 비커스 경도를 측정할 때 발생하는 압자의 흔적과 그 사각형 모양의 압흔 꼭지점에서 형성되는 균열의 길이 사이의 관계로부터 취성을 정량적으로 측정할 수 있다. 취성의 값이 감소할수록 외부에서 작용하는 하중에 의한 스크 래치의 발생률이 낮아진다는 것이 보고된 바 있다. 측정은 비커스 경도계를 이용하여 논문[Journal of Non-crystalline Solids 253(1999) 126-132]에 따라 진행하였다.
체적저항률은 유리의 저항을 대표하는 전기적 물성으로 ASTM C657에 따라 측정하였으며, 본 발명에서는 150 ℃ 에서의 측정값을 기준으로 하였다. 체적 저항률은 유리의 전기 저항도를 나타냄과 동시에 PDP 기판 유리 상부면에 인쇄되는 Ag 전극과 알칼리 금속과의 반응성을 예측할 수 있는 기준 값이다. 이 값이 높을수록 Ag 전극과 알칼리 금속과의 반응성은 낮아지며, Ag0 콜로이드에 의한 황변을 억제시킬 수 있다.
조성성분 (중량%) 실시예 비교예
1 2 3 4 5 6 7 1 2 3 4 5
SiO2 60.0 67.3 62.7 63.0 67.0 64.8 65.9 59.5 55.5 60.5 61.4 71.0
Al2O3 0.5 0.3 0 0.1 0.3 0.2 0.8 7.0 7.5 2.3 1.3 1.1
Zr2O 3.5 3.9 3.7 3.7 3.5 3.8 3.3 2.0 4.0 1.7 2.4 0
Na2O 3.9 2.2 3.5 1.9 2.2 2.4 2.1 4.8 4.5 5.0 4.5 13.9
K2O 11.5 7.5 9.5 7.6 7.2 7.0 8.8 6.2 7.0 9.0 8.6 0.3
MgO 12.3 10.6 12.7 13.4 8.7 12.7 10.1 2.3 3.0 11.4 12.3 3.8
CaO 0.5 0.5 0.4 0.4 0.7 0.6 0.8 5.2 2.5 5.1 4.1 9.7
SrO 7.5 7.5 7.2 9.6 10.2 8.2 7.9 5.8 7.5 4.8 5.2 0
BaO 0 0 0 0 0 0 0 7.1 8.3 0 0 0
SO3 0.3 0.2 0.3 0.3 0.2 0.3 0.3 0.1 0.2 0.2 0.2 0.2
K2O/Na2O 2.9 3.4 2.7 4.0 3.3 2.9 4.2 1.3 1.6 1.8 1.9 0.02
MgO/CaO 24.6 21.2 31.8 33.5 12.4 21.2 12.6 0.4 1.2 2.2 3.0 0.4
열팽창계수 (×10-7/℃) 87 82 86 80 81 81 83 83 81 85 82 81
변형점 (℃) 579 580 575 590 585 588 582 575 579 576 573 510
액상온도 (℃) 1048 1041 1030 1037 1042 1045 1070 1050 1039 1213 1202 1045
용융온도 (℃) 1445 1436 1447 1450 1448 1439 1442 1540 1545 1452 1449 1425
취성지수(m-1/2) 6730 6790 6530 6540 6500 6810 6900 7460 7530 7250 7150 7100
Log 체적저항률 (Ω·cm ) 12.5 13.0 12.6 13.6 13.3 13.1 12.8 11.5 11.7 12.3 11.9 8.9
상기 표 1에서 나타낸 것처럼 실시예 1 ~ 7의 조성으로 제조된 유리 시편은 모두 열팽창계수가 80 ~ 95×10-7/℃ 범위에 있으며, 변형점 역시 570 ℃ 이상임을 알 수 있다. 상기 결과는 플라즈마 디스플레이 패널용 유리로 적용할 경우 그 생산에 적합한 물성이라 할 수 있으며, 이를 플라즈마 디스플레이 패널용 기판유리로 적용시 우수한 특성을 보이게 된다.
또한, 유리 용융물의 점도가 102 poise 가 되는 용융온도의 경우 기존 PDP 기판 유리 조성인 비교예 1 및 2 와 비교하면 약 90 ~ 109 ℃ 정도 낮은 것을 확인할 수 있다. 이는 본 발명에 따른 유리의 용융온도는 1460 ℃ 미만으로 일반 소다라임 유리와 유사한 수준으로 관리할 수 있으므로 기존 기판유리 조성에서 문제시 되었던 높은 고온점도로 인한 청징작업의 곤란성이나 용융 부하 등의 단점을 극복할 수 있다.
이러한 고온영역(1200 ~ 1500 ℃)에서의 점도분포를 도 1에 나타내었다. 도면에서 알 수 있듯이 실시예 1 및 2 의 경우 기존 PDP 유리조성인 비교예 1 및 2 대비 동일한 온도에서 보다 낮은 점도를 나타내는 것을 확인할 수 있다.
비교예 3 및 4의 경우 MgO 함량 증가를 통하여 변형점 및 열팽창계수의 경우 기판유리의 요구물성을 만족하면서 유리의 용융온도를 일반 소다라임 유리 수준으로 낮출 수 있었으나, Al2O3 와 CaO의 함량 증가로 인하여 액상온도가 1200 ℃ 이상으로 증가하는 것을 확인할 수 있었다. 이러한 경우 판유리 제조공정상 실투 결함의 발생확률이 급격히 증가하여 고 투과율 및 결함을 최소화시켜야 하는 것이 필수적인 PDP 기판 유리의 생산수율 저하가 발생할 수 있다.
비교예 5는 일반 소다라임 판유리의 조성으로 열팽창계수는 요구물성을 만족하지만 변형점이 510 ℃ 근처이기 때문에, 플라즈마 디스플레이 패널 생산공정시 거치게 되는 570 ~ 600 ℃ 온도대의 소성공정에서 치수 안정성의 현저한 저하를 야기할 수 있으며, 유리의 변형으로 인하여 기판 상부의 적층물질이 박리될 수 있는 문제점을 지닌다.
MgO/CaO 중량비의 경우 실시예는 모두 8 이상을 나타내어 취성지수가 6500 ~ 6900 m-1/2 으로 감소하는 것을 확인할 수 있었으며, 이는 외부 하중 및 기타 발생원에 의한 스크래치의 발생률이 감소하는 것을 의미한다. 반면에 비교예의 경우 취성지수가 7100 ~ 7530 m-1/2 수준으로 본 발명의 실시예와 비교시 스크래치에 취약한 것으로 확인되었으며, 이는 기판유리의 생산, 가공 및 취급시 스크래치에 의한 원판 불량률이 상승할 수 있는 단점이 있다.
또한 실시예의 경우 K2O/Na2O 중량비를 2.5 이상으로 조절한 결과, 체적 저항률이 1012.5~1013.6 Ω·cm 수준에 도달하였으며, 기존 PDP 기판 유리 조성인 비교예 1 ~ 2 및 일반 소다라임 유리 조성인 비교예 5의 경우 108.9~1011.7 Ω·cm 수준인 것으로 측정되었다. 따라서 상기 실시예 조성들의 경우 K2O/Na2O의 중량비를 2.5 이상으로 조절하여 기존 PDP 기판 유리 대비 체적저항률을 상승시킬 수 있었으며, 이를 통하여 Ag 전극과 알칼리 금속과의 반응성을 효과적으로 저감시킬 수 있었다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 기판용 유리조성물은 50 ~ 350 ℃ 온도범위에서 열팽창계수가 80 ~ 95 × 10-7/℃로 나타나서 기존의 소다라임 유리와 유사한 수준이기 때문에 기존의 재료들과 호환성이 유지되고, 변형점이 570 ℃ 이상으 로 나타나기 때문에 고온의 소성공정에서도 치수 안정성이 보장되는 등의 내열성이 우수하여 판유리 생산공법인 플로우트(float) 법 등으로 생산이 가능한 유리 조성물로서 플라즈마 디스플레이 패널용 등과 같은 기판유리에 적용하기에 충분한 물성을 갖는다.
또한 MgO의 함량을 중량비 7% 이상으로 증가시킴으로써, 유리용융물의 고온 점도 및 용융온도를 기존 소다라임 유리 수준으로 낮출 수 있어 용융로의 부하가 적고 청징성이 우수하며, MgO/CaO 중량비를 8 이상으로 조정하여 내스크래치성의 기준인 취성지수가 낮으며, K2O/Na2O 중량비를 2.5 이상으로 조절하여 Ag 전극과 알칼리 금속과의 반응성이 낮다.

Claims (6)

  1. SiO2 55 ~ 70 중량%, Al2O3 0 ~ 1 중량%, ZrO2 0.1 ~ 5 중량%, Na2O 0.1 ~ 5 중량%, K2O 7 ~ 13 중량%, MgO 7 ~ 14 중량%, CaO 0 ~ 4 중량%, SrO 7 ~ 12 중량% 및 SO3 0.01 ~ 0.5 중량%를 포함하는 것을 특징으로 하는 유리조성물.
  2. 제 1 항에 있어서, SiO2 + Al2O3 + ZrO2의 총량이 전체 조성물의 60 ~ 72 중량%인 것을 특징으로 하는 유리 조성물.
  3. 제 1 항에 있어서, MgO + CaO + SrO의 총량이 전체 조성물의 15 ~ 24 중량%인 것을 특징으로 하는 유리 조성물.
  4. 제 1 항에 있어서, MgO/CaO 중량비가 8 ~ 35 인 것을 특징으로 하는 유리 조성물.
  5. 제 1 항에 있어서, K2O/Na2O 중량비가 2.5 ~ 10.0 인 것을 특징으로 하는 유리 조성물.
  6. 50 ~ 350 ℃ 온도범위에서 열팽창계수가 80 ~ 95 × 10-7/℃ 범위이고, 변형점이 570 ℃ 이상이며, 용융온도가 1460 ℃ 미만인 것을 특징으로 하는 제1항의 유리조성물을 포함하는 기판용 유리.
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AT06768966T ATE538076T1 (de) 2005-06-22 2006-06-21 Glaszusammensetzung mit hohem entspannungspunkt für ein substrat
EP06768966A EP1893540B1 (en) 2005-06-22 2006-06-21 High strain-point glass composition for substrate
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JP2008511062A JP4898792B2 (ja) 2005-06-22 2006-06-21 基板用高変形点ガラス組成物
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9434642B2 (en) 2007-05-21 2016-09-06 Corning Incorporated Mechanically flexible and durable substrates

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009155148A (ja) * 2007-12-26 2009-07-16 Central Glass Co Ltd ガラス組成物
US8975199B2 (en) 2011-08-12 2015-03-10 Corsam Technologies Llc Fusion formable alkali-free intermediate thermal expansion coefficient glass
US9371247B2 (en) * 2009-05-29 2016-06-21 Corsam Technologies Llc Fusion formable sodium free glass
WO2012057232A1 (ja) * 2010-10-27 2012-05-03 旭硝子株式会社 ガラス板およびその製造方法
TWI564262B (zh) 2012-02-29 2017-01-01 康寧公司 高ｃｔｅ之硼矽酸鉀核心玻璃與包含其之玻璃物件
JP6206400B2 (ja) 2012-04-27 2017-10-04 旭硝子株式会社 ガラス板
US11352287B2 (en) 2012-11-28 2022-06-07 Vitro Flat Glass Llc High strain point glass
CN104070913B (zh) * 2013-03-29 2017-06-13 深圳富泰宏精密工业有限公司 壳体及其制作方法
TWI628616B (zh) 2014-12-19 2018-07-01 財團法人工業技術研究院 物件位置提示裝置及其操作方法
GB201505091D0 (en) 2015-03-26 2015-05-06 Pilkington Group Ltd Glass

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9012533D0 (en) 1990-06-05 1990-07-25 Johnson Matthey Plc Glass composition
ATE156786T1 (de) 1994-05-28 1997-08-15 Saint Gobain Isover Glasfaserzusammensetzungen
JP3831957B2 (ja) 1994-09-14 2006-10-11 旭硝子株式会社 ガラス組成物及びプラズマディスプレー用基板
US5908794A (en) * 1996-03-15 1999-06-01 Asahi Glass Company Ltd. Glass composition for a substrate
JPH10152339A (ja) * 1996-09-27 1998-06-09 Nippon Sheet Glass Co Ltd 耐熱性ガラス組成物
FR2758550B1 (fr) * 1997-01-17 1999-02-12 Saint Gobain Vitrage Compositions de verre silico-sodo-calcique et leurs applications
JP4045662B2 (ja) 1998-08-24 2008-02-13 日本板硝子株式会社 耐熱性ガラス組成物およびそれを用いたプラズマディスプレイパネル
JP4273566B2 (ja) * 1999-04-13 2009-06-03 旭硝子株式会社 ディスプレイ基板用フロートガラス
JP4686858B2 (ja) 2000-12-26 2011-05-25 日本電気硝子株式会社 フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板
JP2003335547A (ja) 2002-05-20 2003-11-25 Nippon Electric Glass Co Ltd フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板
JP2004182577A (ja) * 2002-12-06 2004-07-02 Nippon Sheet Glass Co Ltd フラットパネルディスプレイ基板用ガラス及びフラットパネルディスプレイ基板
JP4320772B2 (ja) 2003-02-13 2009-08-26 日本電気硝子株式会社 フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板
JP4288657B2 (ja) * 2003-03-17 2009-07-01 日本電気硝子株式会社 フラットパネルディスプレイ装置用ガラス基板
KR20050045480A (ko) * 2003-11-11 2005-05-17 대한민국 (군산대학교 총장) 플라즈마 디스플레이 패널용 기판유리 조성물

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9434642B2 (en) 2007-05-21 2016-09-06 Corning Incorporated Mechanically flexible and durable substrates
US10276811B2 (en) 2007-05-21 2019-04-30 Corning Incorporated Mechanically flexible and durable substrates and method of making
US10636988B2 (en) 2007-05-21 2020-04-28 Corning Incorporated Mechanically flexible and durable substrates and method of making

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Publication number Publication date
EP1893540A1 (en) 2008-03-05
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