KR20060126489A - 서브마이크론 메소트리온 조성물 - Google Patents

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KR20060126489A
KR20060126489A KR1020067011073A KR20067011073A KR20060126489A KR 20060126489 A KR20060126489 A KR 20060126489A KR 1020067011073 A KR1020067011073 A KR 1020067011073A KR 20067011073 A KR20067011073 A KR 20067011073A KR 20060126489 A KR20060126489 A KR 20060126489A
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mesotrione
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KR1020067011073A
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마이클 홉킨슨
줄리아 카푸치
사라 쿠시
캐롤린 무어
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신젠타 파티서페이션즈 아게
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Abstract

본 발명은 본원에 정의된 바와 같이 평균 입자 크기가 1㎛ 미만인 3-사이클로헥산디온(메소트리온) 및 농약적으로 허용되는 이의 염을 제초 활성량으로 포함하는 신규한 액상 수화제 및 서스포에멀젼 제형 뿐만 아니라, 유용한 식물의 작물에서 잡초 방제시 이들의 용도에 관한 것이다.
3-사이클로헥산디온(메소트리온), 신규한 액상 수화제, 서스포에멀젼 제형, 제초 활성량, 농약, 잡초 방제.

Description

서브마이크론 메소트리온 조성물{Submicron mesotrione compositions}
본 발명은 본원에 정의된 바와 같이 평균 입자 크기가 1㎛ 미만인 2-(2'-니트로-4'-메틸설포닐벤조일)-1,3-사이클로헥산디온(메소트리온) 및 농약적으로 허용되는 이의 염을 제초 활성량으로 포함하는 신규한 액상 수화제(suspension concentrate) 및 서스포에멀젼 제형(suspoemulsion formulation)에 관한 것이다.
본 발명은 액상 수화제 및 서스포에멀젼 제형으로부터 제조된, 유용한 식물의 작물, 특히 옥수수 및 곡류의 작물에서 풀과 잡초를 방제하기 위한 제초용 조성물, 및 유용한 식물의 작물에서 잡초 방제시 이러한 조성물의 용도에 관한 것이기도 하다.
발명의 배경
작물 보호제가 수성 시스템 형태로 종종 투여된다. 수계 제형(water-based formulaion)은 살충제 특수 물질을 물 속에서 용해, 유화 및/또는 현탁시켜 수득한다. 그러나, 특정 작물 보호제를 갖는 수성 시스템의 효율적인 사용은 이들의 불량한 용해도로 인해 제한될 수 있다. 고체 살충제 특수 물질을 함유하는 수성 시스템은 액상 수화제 및 서스포에멀젼 제형으로 제형화될 수 있다. 그러나, 이들 제형 형태는 고체 입자의 응괴, 비가역 농후화, 혈청 형성 또는 경질 충전 침전물 로서의 고체의 침강과 같은 각종 문제점을 겪을 수 있다. 서스포에멀젼 제형의 경우, 유화된 오일 층의 존재는 수중유 에멀젼의 내재적 불안정성으로 인해 제형화 실패 위험을 증대시킨다. 수확물 보호제의 비교적 복잡한 공급망으로 인해, 제형은 장시간 동안 저장될 수 있으며, 저장 및 선적 동안 실패 가능성을 증가시킬 수 있는 극도의 온도 변화, 고전단 및 반복적인 변화 패턴에 노출될 수 있다.
발명의 요지
본 발명의 목적은, 평균 입자 크기가 1㎛를 초과하는 메소트리온을 함유하는 유사하게 제형화된 메소트리온 조성물에 비해, 개선된 물리적 저장 안정성, 취급 및 희석 특성을 나타내는 메소트리온을 포함하는 수성 시스템을 제조하는 것이다.
본 발명은 본원에 정의된 바와 같이 평균 입자 크기가 1㎛ 미만, 바람직하게는 80nm 미만인 2-(2'-니트로-4'-메틸설포닐 벤조일)-1,3-사이클로헥산디온(메소트리온) 및 농업적으로 허용되는 이의 염을 제초 활성량으로 포함하는 신규한 액상 수화제 및 서스포에멀젼 제형에 관한 것이다.
본 발명은 이러한 액상 수화제 및 서스포에멀젼 제형으로부터 제조된, 유용한 식물의 작물, 특히 옥수수 및 곡류의 작물에서 풀과 잡초를 방제하기 위한 제초용 조성물, 및 유용한 식물의 작물에서 잡초 방제시 이러한 조성물의 용도에 관한 것이기도 하다.
본 발명의 한 양태는 평균 입자 크기가 1㎛ 미만, 바람직하게는 800nm 미만인인 메소트리온과 분산제를 포함하는 액상 수화제에 관한 것이기도 한다.
또 다른 양태에서, 본 발명은
(A) 연속 수성 상;
(B) (i) 하나 이상의 수불용성 액체 활성 성분을 포함하는 분산된 에멀젼 상,
(ii) 수불용성 액체 활성 성분을 유화시키기에 충분한 양의 유화제 및
(C) (i) 분산된 고체상(이때, 고체상은 수성 상 및/또는 에멀젼 상에 분산되어 있다)으로서 평균 입자 크기가 1㎛ 미만, 바람직하게는 800nm 미만인 메소트리온,
(ii) 제형 내에 존재하는 메소트리온 및 임의의 기타 고체 물질을 분산시키기에 충분한 양의 분산제를 포함하는, 서스포에멀젼 제형에 관한 것이다.
발명의 상세한 설명
본원에서 "메소트리온"이라는 용어는 기하 이성체를 초래할 수 있는 임의의 엔올 토토머 형태를 포함하는 2-(2'-니트로-4'-메틸설포닐 벤조일)-1,3-사이클로헥산디온을 의미한다. 또한, 특정한 경우, 각종 치환체들은 광학 이성질 현상 및/또는 입체 이성질 현상의 원인이 될 수 있다. 모든 이러한 토토머 형태, 라세미 혼합물 및 이성체들은 본 발명의 범주 내에 포함된다. 달리 언급하지 않는 한, "메소트리온"이라는 용어는 2-(2'-니트로-4'-메틸설포닐 벤조일)-1,3-사이클로헥산디온의 농업적으로 허용되는 염도 포함한다.
본 발명에 사용하기 위한 농업적으로 허용되는 염은, 농업용 또는 원예용 염 형성을 위해 당해 기술분야에 공지되어 있으며 허용되는 양이온 또는 음이온의 염들을 포함한다. 본 발명을 실시하기 위한 유용한 염들은 아민, 알칼리 금속 염기, 알칼리 토금속 염기, 4급 암모늄 염기 및 금속 킬레이트를 사용하는 2-(2'-니트로-4'-메틸설포닐 벤조일)-1,3-사이클로헥산디온으로부터 형성될 수 있다. Cu+2, Zn+2, Co+2, Ni+2, Ca+2, Al+3, Ti+3, Fe+2, Fe+3, Ba+2, Cs+2 및 [CH3(CH2)7]3N과 같은 2가 및 3가 전이 금속 이온들의 염들을 포함하는 2-(2'-니트로-4'-메틸설포닐 벤조일)-1,3-사이클로헥산디온의 금속 킬레이트도 포함된다.
고려되는 암모늄 염 형성을 위한 적합한 아민의 예에는 암모니아 뿐만 아니라, 1급, 2급 및 3급 C1 -18 알킬아민, C1 -4 하이드록시알킬아민 및 C2 -4 알콕시알킬아민, 예를 들면, 메틸아민, 에틸아민, n-프로필아민, 이소프로필아민, 네가지 부틸아민 이성체, n-아밀아민, 이소아밀아민, 헥실아민, 헵틸아민, 옥틸아민, 노닐아민, 데실아민, 펜타데실아민, 헥사데실아민, 헵타데실아민, 옥타데실아민, 메틸-에틸아민, 메틸-이소프로필아민, 메틸-헥실아민, 메틸-노닐아민, 메틸-펜타데실아민, 메틸-옥타데실아민, 에틸-부틸아민, 에틸-헵틸아민, 에틸-옥틸아민, 헥실-헵틸아민, 헥실-옥틸아민, 디메틸아민, 디에틸아민, 디-n-프로필아민, 이이소프로필아민, 디-n-부틸아민, 디-n-아밀아민, 디이소아밀아민, 디헥실아민, 디헵틸아민, 디옥틸아민, 에탄올아민, n-프로판올아민, 이소프로판올아민, N,N-디에탄올아민, N-에틸프로판올아민, N-부틸에탄올아민, 알릴아민, n-부테닐-2-아민, n-펜테닐-2-아민, 2,3-디메틸부테닐-2-아민, 디부테닐-2-아민, n-헥세닐-2-아민, 프로필렌디아민, 트 리메틸아민, 트리에틸아민, 트리-n-프로필아민, 트리이소프로필아민, 트리-n-부틸아민, 트리이소부틸아민, 트리-2급-부틸아민, 트리-n-아밀아민, 메톡시에틸아민 및 에톡시에틸아민; 헤테로사이클릭 아민, 예를 들면, 피리딘, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 모르폴린, 피페리딘, 피롤리딘, 인돌린, 퀴누클리딘 및 아제핀; 1급 아릴 아민, 예를 들면, 아닐린, 메톡시아닐린, 에톡시아닐린, o-톨루이딘, m-톨루이딘, p-톨루이딘, 페닐렌디아민, 벤지딘, 나프틸아민, o-클로로아닐린, m-클로로아닐린 및 p-클로로아닐린; 특히 트리에틸아민, 이소프로필아민 및 디이소프로필아민이 있다.
2-(2'-니트로-4'-메틸설포닐 벤조일)-1,3-사이클로헥산디온의 금속 킬레이트 및 이들의 제조방법이, 특히 PCT 공보 제W0 97/27748호에 기재되어 있다. 바람직한 금속 이온들은 2가 전이 금속 이온, 특히 Cu+2, Co+2, Ni+2 및 Zn+2이며, Cu+2가 특히 바람직하다. 2가 또는 3가 금속 이온의 공급원일 수 있는 임의의 적합한 염을 사용하여, 본 발명에 따르는 디온 화합물의 금속 킬레이트를 형성할 수 있다. 특히 적합한 염들에는 클로라이드, 설페이트, 니트레이트, 카보네이트, 포스페이트 및 아세테이트가 포함된다. 본 발명의 바람직한 양태에서, 메소트리온은 메소트리온의 금속 킬레이트, 바람직하게는 메소트리온의 구리 또는 아연 킬레이트 형태이다.
상이한 측정 기술의 제한으로 인해, 그리고 메소트리온 입자 크기를 보다 정확하게 확인하기 위해, 입자 크기를 측정하기 위한 2가지 상이한 기술들로 메소트리온을 확인한다. 본원에 사용한 바와 같이, "평균 입자 크기가 1㎛ 미만, 바람직하게는 800nm 미만인 메소트리온"이라는 문구는, Dv50과 Z-평균으로 측정한 평균 입자 크기가 1㎛ 미만, 바람직하게는 800nm 미만인 메소트리온 조성물을 나타낸다. 입자 크기 분포가 좁고 1㎛ 미만인 경우, Dv50과 Z-평균이 유사할 것이다. 1㎛를 초과하는 입자들의 분포가 상이한 경우, Dv50과 Z-평균은 유사하지 않을 것이다. 본원에서 정의한 메소트리온 입자들의 Z-평균 직경은 맬버른 나노사이저(Malvern Nanosizer)와 같은 당해 기술분야에 숙련가에 의해 쉽게 측정가능한 장치를 사용하는 광자 관련 분광기를 사용하여 측정된다.
본 발명은 평균 입자 크기가 1㎛ 미만, 바람직하게는 800nm 미만인 메소트리온 제초 활성량 및 분산제를 포함하는 수성 액상 수화제에 관한 것이기도 하다.
본 발명의 또 다른 양태는
(A) 연속 수성 상;
(B) (i) 하나 이상의 수불용성 액체 활성 성분을 포함하는 분산된 에멀젼 상,
(ii) 수불용성 액체 활성 성분을 유화시키기에 충분한 양의 유화제 및
(C) (i) 분산된 고체상(이때, 고체상은 수성 상 및/또는 에멀젼 상에 분산되어 있다)으로서 평균 입자 크기가 1㎛ 미만, 바람직하게는 800nm 미만인 메소트리온 제초 유효량,
(iii) 제형 내에 존재하는 메소트리온 및 임의의 기타 고체 특수 물질을 분산시키기에 충분한 양의 분산제를 포함하는 서스포에멀젼 제형에 관한 것이다.
본 발명의 서스포에멀젼 제형은 임의로 하나 이상의 추가 활성 성분들을 추가로 포함할 수 있다. 하나 이상의 추가의 활성 성분들은 살충제, 예를 들면, 제 초제, 살균제, 살충제 등일 수 있거나, 추가의 활성 성분은 독성완화제(safener) 또는 해독제로서 공지되어 있는 화합물의 부류로부터 선택된 화합물일 수 있다. 제형 내의 추가의 활성 성분의 농도는 적합하게는 1 내지 500g/ℓ, 바람직하게는 2 내지 300g/ℓ의 범위이다.
한 양태에서, 수불용성 액체 활성 성분은 아세트아미드 제초제, 및 독성완화제 또는 해독제로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 성분을 포함한다.
바람직한 수불용성 액체 활성 성분에는 아세트아미드 제초제 및 독성완화제가 포함된다. 대표적인 아세트아미드 제초제에는 디펜아미드, 나프로프아미드, 나프로아닐라이드, 아세토클로르, 알라클로르, 부타클로르, 디메타클로르, 디메텐아미드, 디메텐아미드-P, 펜트라자아미드, 메타자클로르, 메톨라클로르, 페톡스아미드, 프레틸라클로르, 프로파클로르, 프로피소클로르, S-메톨라클로르, 테닐클로르, 플루펜아세트 및 메펜아세트가 포함된다. 아세트아미드 제초제가 주위 온도에서 액체인 경우, 즉 융점이 약 0℃ 미만인 경우, 오일 상은 근본적으로 또는 필수적으로 아세트아미드 제초제 그 자체로 이루어질 수 있다. 환언하면, 어떠한 것이 임의로 포함될 수 있지만, 어떠한 유기 용매도 필요하지 않다. 주위 온도에서 액체이며 유기 용매의 필요없이 본 발명의 조성물에서 제형화될 수 있는 아세트아미드 제초제의 예에는, 아세토클로르, 부타클로르, 메톨라클로르, S-메톨라클로르가 포함된다. 유기 용매가 요구되거나 필요한 경우, 아세트아미드 제초제가 충분히 가용성일 수 있는, 농약 제형화 기술에 공지되어 있는 임의의 적합한 유기 용매가 사용될 수 있다. 아세트아미드 제초제가 잘 용해되어, 가급적 높은 농도의 아세트아 미드 제초제가 대체적으로 오일 상과 조성물 내에서 적합할 수 있는 유기 용매가 바람직하다.
본원 발명에서 사용한 아세트아미드라는 용어는 2개 이상의 아세트아미드의 혼합물 및 아세트아미드의 광학 이성체의 혼합물이 포함된다. 예를 들면, (S)-2-클로로-N-(2-에틸-6-메틸페닐)-N-(2-메톡시-1-메틸에틸) 아세트아미드 대 (R)-2-클로로-N-(2-에틸-6-메틸페닐)-N-(2-메톡시-1-메틸에틸) 아세트아미드의 비가 50 내지 100% 내지 50 내지 0%, 바람직하게는 70 내지 100% 내지 30 내지 0%, 보다 바람직하게는 80 내지 100% 내지 20 내지 0%의 범위인 메톨라클로르의 (R) 및 (S) 이성체의 혼합물이 포함된다.
바람직한 아세트아미드에는 (S)-2-클로로-N-(2-에틸-6-메틸페닐)-N (2-메톡시-1-메틸에틸) 아세트아미드 대 (R)-2-클로로-N-(2-에틸-6-메틸페닐)-N-(2-메톡시-1-메틸에틸) 아세트아미드의 비가 50 내지 100% 내지 50 내지 0%, 바람직하게는 70 내지 100% 내지 30 내지 0%, 보다 바람직하게는 80 내지 100% 내지 20 내지 0%의 범위인 메톨라클로르 (S) 이성체와 (R) 이성체와의 혼합물이 포함된다.
본 발명에 사용하기에 적합한 독성완화제에는 베녹사코르; 클로퀸토세트; 클로퀸토세트-멕실; 디클로르미드; 펜클로라졸-에틸; 펜클로림; 플루라졸; 플룩소페님; 푸릴아졸; 이속사디펜-에틸; 메펜피르; 알칼리 금속, 알칼리 토금속, 메펜피르의 설포늄 또는 암모늄 양이온; 메펜피르-디에틸 및 옥사베트리닐이 포함된다. 바람직한 독성완화제에는 베녹사코르 및 디클로르미드가 포함된다. 액체 아세트아미드가 사용되는 경우, 독성완화제는 일반적으로 아세트아미드 상에 용해될 것이다. 그러나, 유기 용매가 임의로 사용될 수 있다. 유기 용매가 요구되거나 필요한 경우, 아세트아미드 제초제 및 독성완화제가 충분히 가용성일 수 있는, 농약 제형화 기술에 공지되어 있는 임의의 적합한 유기 용매가 사용될 수 있다. 바람직하게는, 아세트아미드 제초제 및 독성완화제가 잘 용해되어, 가급적 높은 농도의 활성 성분이 대체적으로 오일 상과 조성물 내에서 적합할 수 있는 유기 용매가 바람직하다.
본 발명의 액상 수화제 및 서스포에멀젼 제형은, 메소트리온 이외에, 하나 이상의 수불용성 고체 활성 성분을 함유할 수 있다. 본 발명에 사용하기에 적합한 수불용성 고체 활성 성분에는 글리포세이트산, 트리아진 제초제, 예를 들면, 아트라진, 시마진 또는 터부틸아진, 이소옥사졸 제초제, 예를 들면, 이속사플루톨 및 설포닐우레아 제초제, 예를 들면, 프리미설푸론, 프로설푸론 또는 니코설푸론이 포함된다.
액상 수화제 및 서스포에멀젼 제형은 수성 상에 가용성인 추가의 활성 성분을 추가로 포함할 수 있다. 수용성 활성 성분에는 살충제 또는 식물 성장 조절제, 예를 들면, 아세페이트, 아시플루오르펜, 아크롤레인, 아미트롤, 아슐람, 베나졸린, 벤타존, 비알라포스, 보락스, 브로마실, 브로목시닐, 부톡시카복심, 칼슘 폴리설파이드, 카르탑, 클로르암벤, 클로르메쿼트, 클로로아세트산, 클로르포늄, 클로펜세트, 클로피랄리드, 클록시포낙, 황산구리, 시안아미드, 2,4-D, 2,4-DB, 달라폰, 다미노지드, 디캄바, 디클로르프로프, 디클로포프, 디크로토포스, 디펜조쿼트, 디케굴락, 디쿼트, 엔도탈, 에테폰, 페낙, 페녹사프로프, 플람프로프, 플루아지포프, 플루오로글리코펜, 플루프로파네이트, 포메사펜, 포르메타네이트, 포스아민, 포세틸, 글루포시네이트, 글리포세이트, 구아자틴, 할록시포프, 하이드록시퀴놀린 설페이트, 이마자메트, 이마자메타벤즈, 이마자목스, 이마자픽, 이마자피르, 이마자퀸, 이마제타피르, 이미노옥타딘, 이옥시닐, 가수가마이신, MCPA, MCPB, 메코프로프, 메피쿼트, 염화제2수은, 메탐, 메트아미도포스, 메토밀, 메틸아르손산, 메빈포스, 모노크로토포스, 나밤, 나프탈람, 니코틴, 니텐피람, 노난산, 오메토에이트, 옥사밀, 옥시데메톤-메틸, 파라쿼트, 포스프아미돈, 피콜람, 폴리옥신 B, 프로파모카브, 설팜산, 2,3,6-TBA, 티오사이클람, 트리클로르폰, 트리클로로아세트산, 트리클로피르, 발리다마이신, 바미도틴, 및 농업적으로 허용되는 이의 염 및 에스테르가 포함된다. 바람직한 수용성 활성 성분에는 글리포세이트 또는 이의 염, 및 글루포시네이트 또는 이의 염이 포함된다.
본원 발명에 사용한 "제초제 유효량"이라는 용어는 식물 성장을 불리하게 방제 또는 조절하는 제초제 화합물의 양을 의미한다. 방제 효과 또는 조절 효과에는 자연적인 발생, 예를 들면, 시듦, 지연, 잎마름병, 백색증, 왜화(dwarfing) 등으로부터의 모든 일탈이 포함된다. 식물이라는 용어는 종자, 치수(稚樹), 유목(幼木), 뿌리, 괴경(塊莖), 줄기, 대, 잎 및 과일을 포함하는 식물의 모든 몸체 부분을 나타낸다.
수불용성 고체들을 수성 상으로 분산시키고 액상 특수 물질(활성 성분)들을 연속 수상 내에서 유화시키는 계면활성 시스템은, 통상적으로 2개 이상의 계면활성제의 혼합물인데, 이때 이중의 적어도 하나는 비이온성 계면활성제이고, 임의로 이중의 적어도 하나는 음이온성 계면활성제이다.
서스포에멀젼 제형에서, 계면활성제는 유화제로서 작용하여 오일성 액상 특수 물질을 유화시키고, 분산제는 수불용성 고체 특수 물질을 분산시킨다. 이러한 계면활성제는 한 제형에서 혼화성이어야 한다. 계면활성제는 유화제와 분산제 둘 다로서 작용할 수 있다.
적합한 계면활성 화합물은 우수한 유화성, 분산성 및 습윤성을 갖는 활성 성분, 비이온성, 양이온성 및/또는 음이온성 계면활성제 및 계면활성제의 혼합물의 성질에 좌우된다. 적합한 양이온성, 비이온성 및 양이온성 계면활성제의 예는, 전문이 본원의 참조문헌으로 인용되어 있는 미국 특허 제6,063,732호 컬럼 5, 라인 1 내지 컬럼 6, 라인 2에 기재되어 있다.
또한, 특히, 문헌[참조: "Mc Cutcheon's Detergents and Emulsifiers Annual" MC Publishing Corp., Ridgewood N. J. 1981, Stache, H., "Tensid-Taschenbuch", Carl Hanser Verlag, MunichNienna, 1981 and M. and J. Ash, "Encyclopedia of Surfactants", Vol I-III, Chemical Publishing Co., New York, 1980-81]에 기재되어 있는, 제형 기술에 통상적으로 사용되는 계면활성제는 본 발명에 따르는 제초제 조성물을 제조하기에도 적합하다.
본 발명에 사용하기에 적합한 음이온성 계면활성제는 당해 기술분야에 공지된 것이라면 어떠한 것이라도 가능하다. 음이온성 계면활성제는 폴리아릴페놀 폴리알콕시에테르 설페이트 및/또는 포스페이트; C8 -18 알콜 폴리알콕시에테르 포스페이트, 카복실레이트 및/또는 시트레이트; 알킬 벤젠설폰산; 지방산을 포함하는 C8 -20 알킬 카복실레이트; C8 -20 알콜 설페이트; C8 -20 알콜 포스페이트 모노- 및 디에스테르; C8 -20 알콜 및 (C8 -20 알킬)페놀 폴리옥시에틸렌 에테르 카복실레이트, 설페이트 및 설포네이트; C8 -20 알콜 및 (C8 -20 알킬)페놀 폴리옥시에틸렌 포스페이트 모노- 및 디에스테르; C8 -20 알킬벤젠 설포네이트, 나프탈렌 설포네이트 및 이의 포름알데하이드 농축물; 리그노설포네이트; C8 -20 알킬 설포숙시네이트 및 설포숙신아메이트; C8 -20 아실 글루타메이트, 사르코시네이트, 이세티오네이트 및 타우레이트; 수용성 비누 및 이들의 혼합물일 수 있다.
폴리아릴페놀 폴리알콕시에테르 설페이트 및 포스페이트의 예에는 폴리아릴페놀 폴리에톡시에테르 설페이트 및 포스페이트, 폴리아릴페놀 폴리프로폭시에테르 설페이트 및 포스페이트, 폴리아릴페놀 폴리(에톡시/프로폭시)에테르 설페이트 및 포스페이트 및 이들의 염이 포함된다. "아릴"이라는 용어에는, 예를 들면, 페닐, 톨릴, 나프틸, 테트라하이드로나프틸, 인다닐, 인데닐, 스티릴, 피리딜, 퀴놀리닐 및 이들의 혼합물이 포함된다. 폴리아릴페놀 폴리에톡시에테르 설페이트 및 포스페이트의 예에는 디스티릴페놀 폴리에톡시에테르 설페이트 및 포스페이트, 및 트리스티릴페놀 폴리에톡시에테르 설페이트 및 포스페이트가 포함된다. 폴리아릴페놀 폴리알콕시에테르 설페이트 및 포스페이트는 알콕시화(예: 에톡시화)도가 약 1 내지 약 50, 바람직하게는 약 2 내지 약 40, 보다 바람직하게는 약 5 내지 약 30일 수 있다. 시판중인 폴리아릴페놀 폴리알콕시에테르 설페이트 및 포스페이트에는, 예를 들면, 소프로포르(SOPROPHOR)R 4 D 384[뉴 저지주 크랜버리 소재의 로디아 코포레이션(Rhodia Corporation)](트리스티릴페놀 (EO)16 황산암모늄 염), 소프로포르R 3 D 33(뉴 저지주 크랜버리 소재의 로디아 코포레이션)(트리스티릴페놀 (EO)16 포스페이트 유리산), 소프로포르R FLK(뉴 저지주 크랜버리 소재의 로디아 코포레이션)(트리스티릴페놀 (EO)16 인산칼륨 염) 및 소프로포르R RAM/384(뉴 저지주 크랜버리 소재의 로디아 코포레이션)(폴리에톡시화 올레일아민으로 중화된 트리스티릴페놀 폴리에톡시화 에테르 설페이트)가 포함된다. 기타 양태에서, 폴리아릴페놀 폴리알콕시에테르 설페이트 및 포스페이트는 모노-아릴페놀 폴리알콕시에테르 설페이트 및 포스페이트, 예를 들면, 스티릴페놀 폴리에톡시에테르 설페이트 및 포스페이트일 수 있다.
C8 -18 알콜 폴리에톡시에테르 포스페이트, 카복실레이트 및 시트레이트의 예에는 스텝팩(STEPFAC)R 8180[일리노이주 노쓰필드 소재의 스테판 코포레이션(Stepan Corporation)](트리데실알콜 (EO)3 포스페이트), 스텝팩R 8181(일리노이주 노쓰필드 소재의 스테판 코포레이션)(트리데실알콜 (EO)6 포스페이트), 스텝팩R 8182(일리노이주 노쓰필드 소재의 스테판 코포레이션)(트리데실알콜 (EO)12 포스페이트), 엠 콜(EMCOL)R CN-6[코네티컷주 그린위치 소재의 씨케이 위트코 코포레이션(CK Witco Corporation)](트리데실알콜 (EO)6 카복실레이트)이 포함된다. C8 -18 알콜 폴리에톡시에테르 포스페이트, 카복실레이트 및 시트레이트는 에톡시화도가 약 1 내지 약 25, 바람직하게는 약 1 내지 약 20일 수 있다.
알킬벤젠 설폰산 및 이의 염의 예에는 도데실벤젠 설폰산, 금속(예: 나트륨 또는 칼슘) 및 도데실벤젠 설폰산을 포함하는 알킬벤젠 설폰산의 암모니아 또는 아민 염이 포함된다. 아민 중화 변형물에는 1급 아민, 디아민, 트리아민 및 알칸올 아민이 포함된다.
추가의 바람직한 음이온성 계면활성제에는 (C8 -12 알킬)페놀 폴리옥시에틸렌 에테르 설페이트, 및 (C8 -12 알킬)페놀 폴리옥시에틸렌 포스페이트 모노- 및 디에스테르가 포함되는데, 각각의 경우, 1가 짝이온이 포함된다. 한 양태에서, (C8 -12 알킬)페놀 폴리옥시에틸렌 에테르 설페이트 또는 (C8 -12 알킬) 페놀 폴리옥시에틸렌 포스페이트에 대한 1가 짝이온은 양성자화된 폴리옥시에틸렌 C12 -20 알킬아민 계면활성제이다. 보다 구체적으로, 노닐페놀 폴리옥시에틸렌 에테르 설페이트의 폴리옥시에틸렌 탈로우아민 염, 노닐페놀 폴리옥시에틸렌 포스페이트, 이러한 노닐페놀 폴리옥시에틸렌 포스페이트와 폴리옥시에틸렌 탈로우아민의 블렌드가 있다.
적합한 수용성 비누는 고도 지방산(C10-C22)의 알칼리 금속 염, 알칼리 토금속 염, 암묘늄 염 또는 치환된 암묘늄 염, 예를 들면, 올레산 또는 스테아르산의 나트륨 또는 칼륨 염, 또는 특히 코코넛유 또는 우지로부터 수득할 수 있는 중성 지방산 혼합물의 나트륨 또는 칼륨 염이다. 또한, 적합한 비누는 또한 지방산 메틸 타우린 염이다.
음이온성 계면활성제는 염기성 화합물로 임의로 중화된다. 염기성 화합물은 음이온성 계면활성제를 중화시킬 수 있는 당해 기술분야에 공지된 것이라면 어느 것이라도 가능할 수 있다. 염기성 화합물에는, 예를 들면, 무기 염기, C8 -18 알킬 아민 폴리알콕실레이트, 알칸올 아민, 알칸올 아미드 및 이들의 혼합물이 포함된다.
무기 염기의 예에는 수산화암모늄, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘, 수산화마그네슘, 수산화아연 및 이들의 혼합물이 포함된다. C8 -18 알킬 아민 폴리알콕실레이트는, 예를 들면, C8 -18 알킬 아민 폴리프로폭실레이트 및/또는 C8 -18 알킬 아민 폴리에톡실레이트일 수 있다. C8 -18 알킬 아민 폴리알콕실레이트의 예에는 탈로우 아민 폴리알콕실레이트, 코코아민 폴리알콕실레이트, 올레일아민 폴리알콕실레이트 및 스테아릴아민 폴리알콕실레이트가 포함된다. C8 -18 알킬 아민 폴리에톡실레이트는 1분자당 에틸렌 옥사이드 약 2 내지 약 5mol, 보다 바람직하게는 약 2 내지 약 20mol을 가질 수 있다. C8-18 알킬 아민 폴리에톡실레이트의 예에는 탈로우 아민 에톡실레이트(EO 2mol 또는 EO 8mol), 코코아민 에톡실레이트, 올레일아민 에톡실레이트 및 스테아릴아민 에톡실레이트가 포함된다. 알칸올 아민의 예에는 디 에탄올 아민 및 트리에탄올 아민이 포함된다. 알칸올 아미드의 예에는 올레산 디에탄올아미드 및 리놀레산 디에탄올아미드, 및 기타 C8 -18 지방산의 디에탄올아미드가 포함된다.
예를 들면, 본 발명의 조성물은 하나 이상의 폴리아릴페놀 폴리알콕시에테르 설페이트, 폴리아릴페놀 폴리알콕시에테르 포스페이트, C8 -18 알콜 알콜 폴리알콕시에테르 포스페이트, C8 -18 알킬 폴리알콕시에테르 카복실레이트, C8 -18 알콜 폴리알콕시에테르 시트레이트 및/또는 알킬 벤젠설폰산을 포함할 수 있다.
기타 양태에서, 본 발명의 조성물은 폴리아릴페놀 폴리알콕시에테르 설페이트, 폴리아릴페놀 폴리알콕시에테르 포스페이트, 지방산을 포함하는 C8 -20 알킬 카복실레이트, C8-20 알콜 설페이트, C8 -20 알콜 포스페이트 모노- 및 디에스테르, C8 -20 알콜 및 (C8 -20 알킬)페놀 폴리옥시에틸렌 에테르 카복실레이트, 설페이트 및 설포네이트, C8 -20 알콜 및 (C8 -20 알킬)페놀 폴리옥시에틸렌 포스페이트 모노- 및 디에스테르, C8-20 알킬벤젠 설포네이트, 나프탈렌 설포네이트 및 이의 포름알데하이드 농축물, 리그노설포네이트, C8 -20 알킬 설포숙시네이트 및 설포숙신아메이트 및/또는 C8 -20 아릴 글루타메이트, 사르코시네이트, 이세티오네이트 및 타우레이트로 이루어진 그룹으로부터 선택된 2개 이상의 음이온성 계면활성제의 혼합물을 포함한다.
비이온성 계면활성제의 예에는 에틸렌 옥사이드-프로필렌 옥사이드 블록 공 중합체; 에틸렌 옥사이드-부틸렌 옥사이드 블록 공중합체; 에틸렌 옥사이드-프로필렌 옥사이드 블록 공중합체의 C2 -6 알킬 부가물; 에틸렌 옥사이드-부틸렌 옥사이드 블록 공중합체의 C2 -6 알킬 부가물; 폴리프로필렌 글리콜; 폴리에틸렌 글리콜; 폴리아릴페놀 폴리에톡시 에테르; 폴리알킬페놀 폴리에톡시 에테르; 지방족 또는 지환족 알콜, 또는 포화 또는 불포화 지방산 및 알킬 페놀의 폴리글리콜 에테르 유도체[이때, 유도체는 (지방족) 탄화수소 잔기 내에 글리콜 에테르 그룹을 3 내지 30개 함유하고 탄소원자를 8 내지 20개 함유하고, 알킬페놀의 알킬 잔기 내에 탄소원자를 6 내지 18개 함유한다]; 폴리옥시에틸렌 소르비탄의 모노-, 디- 및 트리(C12 -20 알킬)에스테르; 알콕시화 식물성 오일; 알콕시화 아세틸렌 디올; 알킬 폴리글리코시드 및 이들의 혼합물이 포함된다.
에틸렌 옥사이드-프로필렌 옥사이드 블록 공중합체는 알킬 또는 알킬페놀 에테르 염기, 예를 들면, 부틸 에테르, 메틸 에테르, 프로필 에테르, 에틸 에테르 또는 이들의 혼합물을 포함할 수 있다. 시판중인 비이온성 계면활성제에는, 예를 들면, 톡시물(TOXIMUL)R 8320(일리노이주 노쓰필드 스테판 코포레이션)(EO/PO 블록 공중합체의 부틸 에테르 유도체), 위트콘올(WITCONOL)R NS-500LQ(코네티컷주 그린위치 소재의 씨케이 위트코 코포레이션)(EO/PO 블록 공중합체의 부틸 에테르 유도체) 및 위트콘올R NS-108LQ(코네티컷주 그린위치 소재의 씨케이 위트코 코포레이션)(EO/PO 블록 공중합체의 노닐페놀 에테르 유도체)가 포함된다.
기타 적합한 비이온성 계면활성제는 수용성이며, 알킬 잔기 내에 탄소수가 1 내지 10인 에틸렌 옥사이드 및 프로필렌 옥사이드, 에틸렌 디아미노 폴리프로필렌 글리콜 및 알킬 폴리프로필렌 글리콜의 중부가물을 함유하는 20 내지 250개의 에틸렌 글리콜 에테르 그룹으로서, 당해 물질은 일반적으로 프로필렌 글리콜 단위당 에틸렌 글리콜 단위를 1 내지 5개 함유한다. 비이온성 계면활성제의 예에는 노닐페놀 폴리에톡시 에탄올, 식물성 오일 폴리글리콜 에테르, 에틸렌 옥사이드 및 프로필렌 옥사이드의 중부가물, 트리부틸 페녹시 폴리에톡시 에탄올, 옥틸 페녹시 폴리에톡시 에탄올이 있다. 폴리옥시 에틸렌 소르비탄의 지방산 에스테르, 예를 들면, 폴리옥시 에틸렌 소르비탄 트리올레이트가 바람직하다.
당해 기술분야에 공지되어 있는 알킬 폴리글리코사이드가 본 발명에 사용될 수 있다. 본 발명의 알킬 폴리글리코사이드는 화학식 I의 화합물일 수 있다:
R1O(R2O)b(Z)a
위의 화학식 I에서,
R1은 탄소수 약 6 내지 약 30의 1가 유기 라디칼, 바람직하게는 C8 -22 알킬 또는 알케닐 그룹, 보다 바람직하게는 C8 -11 알킬 그룹이고,
R2는 탄소수 약 2 내지 약 4의 2가 알킬렌 라디칼, 바람직하게는 에틸렌 또는 프로필렌, 보다 바람직하게는 에틸렌이며,
b는 0 내지 약 100, 바람직하게는 0 내지 약 12, 보다 바람직하게는 0이고,
Z는 탄소수 약 5 또는 약 6의 사카라이드 잔기로서, 글루코스, 만노스, 프룩토스, 갈라스토스, 탈로스, 글루코스, 알트로스, 알로스, 아피오스, 갈로스, 이도스, 리보스, 아라비노스, 크실로스, 릴록스 또는 이들의 혼합물일 수 있으며, 바람직하게는 글루코스이며,
a는 1 내지 약 6, 바람직하게는 1 내지 약 3, 보다 바람직하게는 약 2이다.
화학식 I의 바람직한 화합물은 화학식 II의 화합물이다:
Figure 112006039684639-PCT00001
위의 화학식 II에서,
n은 중합도로서 1 내지 3, 바람직하게는 1 또는 2이고,
R5는 탄소수 4 내지 18의 측쇄 또는 직쇄 알킬 그룹 또는 탄소수 4 내지 18의 알킬 그룹의 혼합물이다.
알킬 폴리글리코사이드의 예에는 APGR 325[오하이오주 신시내티 소재의 코그니스 코포레이션(Cognis Corporation)](알킬 그룹이 9 내지 11개의 탄소원자를 함유하고 평균 중합도가 1.6인 알킬 폴리글리코사이드), 플란타렌(PLANTAREN)R 2000(오하이오주 신시내티 소재의 코그니스 코포레이션)(알킬 그룹이 8 내지 16개 의 탄소원자를 함유하고 평균 중합도가 1.4인 알킬 폴리글리코사이드), 플란타렌(PLANTAREN)R 1300(오하이오주 신시내티 소재의 코그니스 코포레이션)(알킬 그룹이 12 내지 16개의 탄소원자를 함유하고 평균 중합도가 1.6인 알킬 폴리글리코사이드), 아그리물(AGRIMUL)R PG 2067(오하이오주 신시내티 소재의 코그니스 코포레이션)(알킬 그룹이 8 내지 10개의 탄소원자를 함유하고 평균 중합도가 1.7인 알킬 폴리글리코사이드), 아그리물R PG 2069(오하이오주 신시내티 소재의 코그니스 코포레이션)(알킬 그룹이 9 내지 11개의 탄소원자를 함유하고 평균 중합도가 1.6인 알킬 폴리글리코사이드), 아그리물R PG 2076(오하이오주 신시내티 소재의 코그니스 코포레이션)(알킬 그룹이 8 내지 10개의 탄소원자를 함유하고 평균 중합도가 1.5인 알킬 폴리글리코사이드), 아트플러스(ATPLUS)R 438[델라웨어주 윌밍톤 소재의 유니퀘마, 인코포레이티드(Uniquema, Inc.)(알킬 그룹이 9 내지 11개의 탄소원자를 함유하는 알킬폴리사카라이드) 및 아트플러스R 452(델라웨어주 윌밍톤 소재의 유니퀘마, 인코포레이티드)(알킬 그룹이 8 내지 10개의 탄소원자를 함유하는 알킬폴리사카라이드)가 포함된다.
양이온성 계면활성제는 바람직하게는 N-치환체로서 하나 이상의 C8 -22 알킬 라디칼과 추가의 치환체로서 치환되지 않거나 할로겐화된 저급 알킬, 벤질 또는 하이드록시-저급 알킬 라디칼을 포함하는 4급 암모늄 염이다. 당해 염들은 바람직하 게는 할로겐화물, 메틸 설페이트 또는 에틸 설페이트 형태, 예를 들면, 스테아릴 트리메틸암모늄 클로라이드 또는 벤질 비스(2-클로로에틸)에틸암모늄 브로마이드이다.
계면활성제(들)의 양은 당해 조성물에 대해 선택된 특정 활성 성분과, 이들이 목적으로 하는 절대량 및 상대량에 좌우된다. 본원에 제공된 부류 또는 특정 예들로부터 선택된 시스템 성분들을 안정화시키기에 적합한 양은 통상의 실험에 의해 결정될 수 있으며, 당해 시험은 실질적으로 상 분리가 없으며, 20 내지 25℃에서 24시간 동안 저장한 후에, 또는 바람직한 양태를 위해 위에서 나타낸 바와 같이 더 넓은 온도 범위에 걸쳐 더 장시간의 저장 동안 조성물에 침강 또는 응집이 관찰되었다. 통상적으로, 조성물 내의 모든 계면활성제의 총 농도는, 존재하는 경우, 짝이온의 중량을 제외하고, 전체적으로 약 1 내지 약 30중량%이다.
조성물 내에 존재하는 계면활성제의 상대량을 산출할 때에, 만약 공지되어 있다면, 계면활성제와 함께 공급된 물 또는 기타 희석액의 중량은 제외되어야 한다. 예를 들면, 씨케이 위트코 코포레이션의 위트코네이트(WITCONATE)R 79S는 도데실벤젠 설폰산 트리에탄올아민 염 52%를 함유한다. 위트코네이트R 79S 1%를 함유하는 조성물에서, 도데실벤젠 설폰산 트리에탄올아민 염의 농도는 0.52%로 산출되어야 한다.
이들 조성물들은 또한 기타 보조제, 예를 들면, 습윤제, 화학 안정제, 점도 조절제, 증점제, 결합제, 비료 및 소포제를 포함할 수도 있다.
본 발명에 사용될 수 있는 적합한 중합체성 안정제는 분자량이 10,000 내지 1,000,000D이고, 이의 예로는 폴리프로필렌, 폴리이소부틸렌, 폴리이소프렌, 모노올레핀과 디올레핀과의 공중합체, 폴리아크릴레이트, 폴리스티렌, 폴리비닐 아세테이트, 폴리우레탄 또는 폴리아미드가 포함되지만, 이로써 제한되지 않는다.
사용될 수 있는 적합한 안정화 금속 염의 예로는 칼슘, 베릴륨, 바륨, 티탄, 마그네슘, 망간, 아연, 철, 코발트, 니켈 및 구리 염이 있으며, 마그네슘, 망간, 아연, 철, 코발트, 니켈 및 구리 염이 가장 적합하며, 구리염, 예를 들면, 수산화구리가 특히 바람직하다.
대표적인 소포제는 실리카, 폴리디알킬실록산, 특히 폴리디메틸실록산, 플루오로지방족 에스테르 또는 퍼플루오로알킬포스폰산/퍼플루오로알킬포스폰산 또는 이들의 염 및 이들의 혼합물이다. 폴리디메틸실록산이 바람직하다.
본 발명은 또한 본 발명의 액상 수화제 또는 서스포에멀젼 제형을 적합한 담체(예: 물) 속에서 살충제의 최종 농도가 활성 성분(a. i.)의 약 0.01 내지 약 10%이도록 희석시키는 단계(i)에 의해 수득된 살충제 조성물에 관한 것이다.
본 발명은 또한 유용한 식물의 작물에서 원하지 않는 식물 성장을 방제하기 위한 방법에 관한 것으로서, 당해 방법은 본 발명의 액상 수화제 또는 서스포에멀젼 제형을 적합한 담체(예: 물) 속에서 메소트리온의 최종 농도가 활성 성분(a. i.)의 약 0.01 내지 약 10%이도록 희석시키는 단계(i) 및 목적하는 범위(예: 작물, 이들의 종자 또는 묘목) 또는 재배 면적을 당해 조성물로 처리하는 단계(ii)에 의해 살충제 조성물을 형성함을 포함한다.
본 발명에 따르는 조성물은 농업에 통상적으로 사용되는 모든 적용 방법들[예: 발아 전 처리, 발아 후 처리 및 종자 드레싱(seed dressing)]에 대해 적합하다. 본 발명에 따르는 조성물은 바람직하게는 잡초의 발아 전 또는 발아 후 조절을 위해 사용된다.
본 발명에 따르는 조성물은 유용한 식물의 작물, 바람직하게는 옥수수에서 잡초를 방제하기에 특히 적합하다. "작물"은 육종 또는 유전 공학의 통상적인 방법들의 결과로서, 해충 및 제조체 또는 제초제 부류를 포함하는 살충제에 내성이 있는 작물들을 포함하는 것으로 이해되기도 한다. 본 발명의 조성물에 사용된 성분들은 당해 기술분야의 숙련가들에게 공지된 각종 방법들에 의해 살포될 수 있다. 당해 조성물이 살포되는 양은 방제될 특정 유형의 잡초, 요구되는 방제도, 및 살포 시기 및 살포 방법에 좌우될 것이다. 일반적으로, 당해 조성물은 메소트리온이 1ha당 활성 성분 20 내지 300g, 바람직하게는 40 내지 250g으로 살포되는 양으로 살포될 수 있다.
재배 면적은 경작 식물이 이미 성장하고 있거나 이들 경작 식물의 종자를 뿌린 토지의 면적이며, 또한 이들 경작 식물을 성장시키려는 토지의 면적이다.
방제될 잡초는 외떡잎식물 또는 바람직하게는 쌍떡잎식물 잡초, 예를 들면, 외떡잎식물 잡초 아베나(Avena), 아그로스티스(Agrostis), 팔라리스(Phalaris), 롤리움(Lolium), 브로무스(Bromus), 알로페쿠루스(Alopecurus), 세타리아(Setaria), 디기타리아(Digitaria), 브라키아리아(Brachiaria), 에키노클로아(Echinochloa), 파니큠(Panicum), 소르굼 할(Sorghum hal.)/빅(bic.), 로트보엘리아(Rottboellia), 사이페루스(Cyperus), 스키르푸스(Scirpus), 모노코리아(Monochoria) 및 사기타리아(Sagittaria) 및 디코틸레도노스 잡초 시나피스(Sinapis), 케노포듐(Chenopodium), 스텔라리아(Stellaria), 갈륨(Galium), 비올라(Viola), 베로니카(Veronica), 마트리카리아(Matricaria), 파파베르(Papaver), 솔라늄(Solanum), 아부틸론(Abutilon), 시다(Sida), 크탄튬(Xanthium), 아마란투스(Amaranthus), 이포모에아(Ipomoea), 폴리고늄(Polygonum) 및 크리산테뮴(Chrysanthemum)일 수 있다.
기타 활성 성분, 예를 들면, 보조-제초제, 살균제, 살충제, 살비제 및 살선충제가 본 발명의 액상 수화제 또는 서스포에멀젼 제형 내에 존재할 수 있거나, 액상 수화제 또는 서스포에멀젼 제형과 함께 탱크-혼합 파트너(tank-mix partner)로서 첨가될 수 있다.
다음 실시예들은 본 발명의 추가의 몇몇 측면을 설명하려는 것이지, 이의 범주를 제한하려는 것은 아니다. 본 명세서와 청구항에 달리 언급하지 않는 한, %는 중량을 기준으로 한다.
실시예 1
메소트리온 밀베이스(millbase)의 재분산
안정성 프로토콜: 섹션 3.2에 기재되어 있는 밀베이스를 2oz. 자(jar)에서 6주 동안 저장한다. 재분산 침전물에 대한 능력은 적당한 속도에서 진탕하여 샘플이 균질화되는 데에 얼마나 오랜 시간이 걸리는 지에 따라 평가된다. 침전물을 재 분산시키는 시간일 짧을 수록 바람직하다. 자를 수평으로 진탕시키고, 한번의 완전한 진탕은 완전한 왕복 움직임을 나타낸다. 적당한 진탕은 1초당 약 2회의 완전한 진탕이다. 침전물은 완전히 재분산되어야 하고, 자의 바닥에는 어떠한 침전물도 없으며, 샘플의 벌크에도 어떠한 덩어리 또는 응괴가 없다.
샘플은(1-1)은 앞서 섹션 3.2에서 기재되어 있는 바와 같이, 서브마이크론 밀베이스를 나타낸다. 샘플(1-2)은 유사한 조성을 갖지만, 더 큰 입자들을 갖는 밀베이스를 함유한다.
샘플 입자 크기 맬버른 나노사이저* (Z-평균)(㎛) 입자 크기 맬버른 나노사이저* (평균, Dv50)(㎛) 38℃에서 6주 후에 균질화시키는 데 소요되는 시간
1-1 0.613 0.6 25초
1-2* 0.925 1.23 54초
* 청구한 본 발명의 범주 밖의 밀베이스
상기 표 1에 기재되어 있는 데이타로부터, 서브마이크론 밀베이스로 균질화시키는데 시간이 상당히 덜 소모된 것에 의해 증명된 바와 같이, 본 발명(실시예 1-1)의 범주 내의 평균 입자 크기를 갖는 메소트리온 밀베이스는 본 발명의 범주 밖의 메소트리온 밀베이스를 재분산시키는 것보다 훨씬 더 쉽다는 것이 명백하다.
실시예 2
서브마이크론 밀베이스를 사용한 개선된 최종 생성물 희석 성능
희석 프로토콜: 앞서 섹션 3.3에 기재되어 있는 바와 같이 최종 생성물 제형을 50ppm 및 1000ppm의 경도를 갖는 물 속에서 통상의 사용 속도를 사용하여 희석시킨다. 샘플을 총 부피가 100㎖(제형 + 물)인 100㎖ 눈금의 실린더에서 희석시킨다. 이후, 샘플을 충분히 혼합하기 위해 10회 완전 역전(complete inversion)을 통해 역전시킨다. 실린더를 실온에서 24시간 동안 정치시킨다. 24시간 후에, 침전물을 완전히 재분산시키기 위한 역전 수를 주목한다. 침전물을 완전히 재분산시키기 위해 필요한 더 낮은 역전 수는, 최종 생성물을 재분산시키기 위한 능력이 개선됨을 나타낸다.
샘플(2-1)은, 상기 실시예(1-1)에 기재되어 있는 평균 입자 크기를 갖는, 섹션 3.2에 기재되어 있는 서브마이크론 밀베이스를 나타낸다. 샘플(2-2)은 유사한 조성을 갖지만, 상기 실시예(1-2)에 기재되어 있는 더 큰 평균 입자 크기를 갖는 밀베이스를 함유한다.
샘플 최종 생성물/밀베이스 50ppm 1,000ppm
2-1 서브마이크론 밀베이스를 갖는 최종 생성물 12회 역전 12회 역전
2-2* 비-서브마이크론 밀베이스를 갖는 최종 생성물 40회 역전 40회 역전
* 청구한 본 발명의 범주 밖의 최종 생성물
상기 표 2에 기재되어 있는 데이타로부터, 최종 생성물을 균질화시키는데 역전이 상당히 덜 요구되는 것에 의해 증명된 바와 같이, 본 발명의 범주(실시예 2-1) 내의 평균 입자 크기를 갖는 메소트리온 밀베이스로부터 제조된 최종 생성물 제형은 본 발명의 범주 밖의 메소트리온 밀베이스를 함유하는 제형보다 상당히 쉽게 재분산되었다.
실시예 3
샘플 제조방법
3.1 S-메톨라클로르 EW의 제조방법
S-메톨라클로르 EW를 다음 조성에 따라 제조하였다:
중량%
S-메톨라클로르 66.67
제초 해독제 3.33
폴리스티렌 3.68
블록 공중합체 1.00
실리콘 소포제 0.18
물 25.12
폴리스티렌과 해독제를 s-메톨라클로르에 용해시켰다.
블록 공중합체를 수성 상에 용해시키고, 소포제를 첨가하였다. 입자 크기가 1 내지 40㎛인 유화된 유기 상이 형성되도록 하는 방식으로 두 가지를 배합하였다.
3.2 메소트리온 밀베이스의 제조방법
메소트리온 밀베이스를 다음 조성에 따라 제조하였다:
중량%
메소트리온 30.00
비이온성 계면활성제 3.50
아세트산(56%) 11.01
수산화구리(100% ) 5.00
실리콘 소포제 0.10
크산탄 고무 0.10
물 50.29
물, 아세트산, 비이온성 계면활성제 및 메소트리온을 함께 혼합하였다. 이후, 수산화구리를 첨가하였다. 소포제와 크산탄 고무를 첨가하고, 균일해질 때까지 혼합하였다. 경우에 따라, 밀베이스를 목적하는 입자 크기로 밀링하였다.
3.3 최종 생성물의 제조방법
최종 생성물을 다음 조성에 따라 제조하였다:
중량%
S-메톨라클로르 EW 55.20
메소트리온 밀베이스 12.25
프로필렌 글리콜 5.00
비이온성 계면활성제 6.00
블록 공중합체 계면활성제 5.00
크산탄 고무 0.16
방부제 0.15
물 나머지를 채움
s-메톨라클로르 EW, 프로필렌 글리콜, 비이온성 계면활성제, 블록 공중합체 및 약간의 물을 함께 블렌딩하였다. 메소트리온 밀베이스를 첨가하고 블렌딩하였다. 이후, 크산탄 고무와 방부제를 첨가하고, 균일해질 때까지 블렌딩하였다. 제형을 분석하고, 경우에 따라, 물로 제거하였다.
본 발명의 몇몇 일례의 양태만이 위에 상세히 기재되어 있지만, 당해 기술분야의 숙련가들은, 본 발명의 신규한 교시와 이점으로부터 상당히 벗어나지 않고 일례의 양태에서 다수의 변형이 가능하다는 것을 쉽게 인식할 것이다. 따라서, 모든 이러한 변형은 다음 청구항에 정의된 본 발명의 범주 내에 포함되는 것으로 생각된다.

Claims (32)

  1. 평균 입자 크기가 1㎛ 미만인 메소트리온 및 농약적으로 허용되는 이의 염 제초 유효량과 분산제를 포함하는, 액상 수화제(suspension concentrate).
  2. 제1항에 있어서, 메소트리온 또는 농약적으로 허용되는 이의 염의 평균 입자 크기가 800nm 미만인, 액상 수화제.
  3. 제1항에 있어서, 메소트리온이 이의 금속 킬레이트를 포함하는, 액상 수화제.
  4. 제3항에 있어서, 메소트리온의 금속 킬레이트가 메소트리온의 구리 킬레이트 및 아연 킬레이트로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 성분을 포함하는, 액상 수화제.
  5. 제1항에 있어서, 하나 이상의 추가의 수불용성 고체 활성 성분을 추가로 포함하는, 액상 수화제.
  6. 제1항에 있어서, 하나 이상의 추가의 수불용성 고체 활성 성분이 트리아진 제초제, 이소옥사졸 제초제 및 설포닐우레아 제초제로 이루어진 그룹으로부터 선택 된 하나 이상의 성분을 포함하는, 액상 수화제.
  7. 제6항에 있어서, 하나 이상의 추가의 수불용성 고체 활성 성분이 트리아진 제초제를 포함하는, 액상 수화제.
  8. 제1항에 있어서, 수성 상에 용해되어 있는 수용성 활성 성분을 추가로 포함하는, 액상 수화제.
  9. 제8항에 있어서, 수용성 활성 성분이 글리포세이트, 글루포시네이트 및 농업적으로 허용되는 이들의 염으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 성분을 포함하는, 액상 수화제.
  10. 제1항에 따르는 액상 수화제를 물 속에서 희석시켜 수득한, 살충 조성물.
  11. 제10항에 있어서, 보조-제초제, 살균제, 살충제, 살비제 및 살선충제로 이루어진 그룹으로부 선택된 하나 이상의 성분을 추가로 포함하는, 살충 조성물.
  12. 유용한 식물, 이들의 종자 또는 치수(稚樹), 또는 이들의 재배 면적에 제10항에 따르는 살충 조성물로 처리함을 포함하여, 유용한 식물의 작물에서 원하지 않는 식물 성장을 방제하는 방법.
  13. 제12항에 있어서, 살충 조성물을 발아 전 또는 발아 후에 살포하는, 유용한 식물의 작물에서 원하지 않는 식물 성장을 방제하는 방법.
  14. 제12항에 있어서, 유용한 식물의 작물이 옥수수인, 유용한 식물의 작물에서 원하지 않는 식물 성장을 방제하는 방법.
  15. (A) 연속 수성 상;
    (B) (i) 하나 이상의 수불용성 액체 활성 성분을 포함하는 분산된 에멀젼 상,
    (ii) 수불용성 액체 활성 성분을 유화시키기에 충분한 양의 유화제 및
    (C) (i) 분산된 고체상(이때, 고체상은 수성 상 및/또는 에멀젼 상에 분산되어 있다)으로서 입자 크기가 1㎛ 미만인 메소트리온 제초 유효량,
    (iv) 제형 내에 존재하는 메소트리온 및 임의의 기타 고체 물질을 분산시키기에 충분한 양의 분산제를 포함하는, 서스포에멀젼 제형(suspoemulsion formulation).
  16. 제15항에 있어서, 메소트리온 또는 농약적으로 허용되는 이의 염의 평균 입자 크기가 800nm 미만인, 서스포에멀젼 제형.
  17. 제15항에 있어서, 메소트리온이 이의 금속 킬레이트를 포함하는, 서스포에멀젼 제형.
  18. 제17항에 있어서, 메소트리온의 금속 킬레이트가 메소트리온의 구리 킬레이트 및 아연 킬레이트로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 성분을 포함하는, 서스포에멀젼 제형.
  19. 제15항에 있어서, 수불용성 액체 활성 성분이 아세트아미드 제조체 및 독성완화제로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 성분을 포함하는, 서스포에멀젼 제형.
  20. 제19항에 있어서, 수불용성 액체 활성 성분이 아세트아미드 제초제를 포함하는, 서스포에멀젼 제형.
  21. 제20항에 있어서, 아세트아미드가, (S)-2-클로로-N-(2-에틸-6-메틸페닐)-N (2-메톡시-1-메틸에틸) 아세트아미드 대 (R)-2-클로로-N-(2-에틸-6-메틸페닐)-N-(2-메톡시-1-메틸에틸) 아세트아미드의 비가 50 내지 100% 내지 50 내지 0%의 범위인, 메톨라클로르 (S) 이성체와 (R) 이성체와의 혼합물을 포함하는, 서스포에멀젼 제형.
  22. 제15항에 있어서, 하나 이상의 독성완화제를 추가로 포함하는, 서스포에멀젼 제형.
  23. 제22항에 있어서, 독성완화제가 베녹사코르 및 디클로르미드로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 성분을 포함하는, 서스포에멀젼 제형.
  24. 제15항에 있어서, 하나 이상의 추가의 수불용성 고체 활성 성분을 추가로 포함하는, 서스포에멀젼 제형.
  25. 제24항에 있어서, 하나 이상의 추가의 수불용성 고체 활성 성분이 트리아진 제초제, 이소옥사졸 제초제 및 설포닐우레아 제초제로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 성분을 포함하는, 서스포에멀젼 제형.
  26. 제15항에 있어서, 수성 상에 용해되어 있는 수용성 활성 성분을 추가로 포함하는, 서스포에멀젼 제형.
  27. 제26항에 있어서, 수용성 활성 성분이 글리포세이트, 글루포시네이트 및 농업적으로 허용되는 이들의 염으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 성분을 포함하는, 서스포에멀젼 제형.
  28. 제15항에 따르는 서스포에멀젼 제형을 물 속에서 희석시켜 수득한, 살충 조성물.
  29. 제28항에 있어서, 보조-제초제, 살균제, 살충제, 살비제 및 살선충제로 이루어진 그룹으로부 선택된 하나 이상의 성분을 추가로 포함하는, 살충 조성물.
  30. 유용한 식물, 이들의 종자 또는 치수, 또는 이들의 재배 면적에 제28항에 따르는 살충 조성물로 처리함을 포함하여, 유용한 식물의 작물에서 원하지 않는 식물 성장을 방제하는 방법.
  31. 제30항에 있어서, 살충 조성물을 발아 전 또는 발아 후에 살포하는, 유용한 식물의 작물에서 원하지 않는 식물 성장을 방제하는 방법.
  32. 제30항에 있어서, 유용한 식물의 작물이 옥수수인, 유용한 식물의 작물에서 원하지 않는 식물 성장을 방제하는 방법.
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