KR20060119714A - 하이드록실암모늄염의 제조방법 - Google Patents

하이드록실암모늄염의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 몇몇 연속 반응 단계들에서 부유 지지체 상의 백금계 촉매의 존재 하에 무기산의 희석 수용액에서 수소에 의한 일산화질소의 촉매 환원반응에 의해 하이드록실암모늄염을 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 방법은 교반 반응기에서 수행되는데, 상기 교반 반응기는 그것의 하부에 배치된 가스 입구 및 출구 시스템을 구비하고 있다. 자신의 코너 또는 오목 측면들에 의한 이동 방향으로 회전 구동되는 지지체 또는 레스트 면들에 의해 허부 주위에 배치된 기울어지고 오목하게 굴곡진 교반 블레이드들을 구비한 디스크 교반기가 바로 위에 배치된다. 상기 반응기의 상부에는 2날 교반기가 구비되며, 얇은 판 형태의 상기 2날 교반기의 개개의 블레이드들은 오프셋 배열되고 회전 동안에 반응기 커버를 연속적으로 적신다. 본 발명에 따른 방법의 이점은 환원 반응이 놀랍게도 특이한 고속의 특별한 교반 장치에 의해 수행되어, 반응기 체적의 증가 없이 높은 작동 능력을 얻을 수 있다는 점이다.

Description

하이드록실암모늄염의 제조방법{Method for producing hydroxylammonium slats}
본 발명은 하이드록실암모늄염의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 다단 순차 반응 단계(multiple subsequent reaction stage)들에서 지지체 상의 부유 백금 촉매의 존재 하에 무기산의 희석 수용액에서 수소에 의한 일산화질소의 촉매 환원반응에 의해 하이드록실암모늄염을 제조하는 방법에 관한 것이다.
부유 귀금속 촉매(suspended noble metal catalyst)의 존재 하에 무기산의 희석 수용액에서 수소에 의한 일산화질소의 촉매 환원반응에 의해 하이드록실암모늄염을 연속적으로 제조하는 방법은 산업적 규모로 사용되는 공지된 방법이며 특허 명세서 DE 1 177 118에 기재되어 있다. 상기 문헌에 따르면, 부유 촉매(suspended catalyst)를 포함하는 무기산의 수용액은 일반적으로 다단 순차 반응 단계들(cascade)를 통하여 수행되는데, 일산화질소 및 수소의 혼합물이 각 반응 단계로 도입되고 촉매를 함유한 하이드록실암모늄염 용액이 마지막 반응 단계에서 제거된다.
이러한 방법이 대체로 가치가 있는 것으로 판명되었지만, 현존하는 플랜트들의 용적을 증가시킬 필요가 있으며 하이드록실암모늄염의 수율을 감소시키는 일산 화이질소(dinitrogen monoxide), 질소 및 암모늄염과 같은 바람직하지 않은 부산물의 형성을 최소화할 필요가 있다. 고농도의 일산화이질소는 또한 폭발성 혼합물을 생성한다. 반응 혼합물의 표면상에서 거품(foam)의 형성은 이러한 점에서 불리하다.
따라서, 상기 방법을 개선하고자 하는 많은 연구들이 행해졌다. 특허 명세서 DE 2 736 906 B1에는 흑연에 의해 지지된 백금 촉매의 증가된 양이 환원 반응을 가속하여 일산화질소의 공시 수율(space-time yield)이 상당히 높아진(생산량 증가를 의미) 하이드록실암모늄염의 제조방법이 기재되어 있다.
이러한 방법의 단점은 백금의 손실이 증가되는 것이다. 추가로, 촉매 양은 필요 유량 및 현탁액의 필터 특성들을 위태롭게 하기 때문에 무한대로 증가될 수 없다.
특허 명세서 DE 3 713 733에는 부산물의 형성이 황과 셀레늄(selenium)에 의해 부분적으로 피독된 지지 백금 촉매를 이용함으로써 주로 억제되며, 금속 백금이 유기 킬레이트제의 존재 하에 환원제를 이용하여 지지 물질 상에서 백금 수용액으로부터 침전되는 하이드록실암모늄염의 제조방법이 기재되어 있다.
이러한 방법의 단점은 촉매 생성이 부당하게 복잡해진다는 점이다.
특허 명세서 DE 3 130 305 A1에는 지지된 백금 촉매의 미립자 부분을 제한함으로써 또는 반응 혼합물 및/또는 새롭게 공급된 무기산을 반응 혼합물의 표면에 살포함으로써 또는 거품-억제 화합물을 첨가함으로써 반응 혼합물의 표면상에서 거품의 형성이 방지되거나 적어도 상당히 억제되는, 하이드록실암모늄염의 제조방법 이 기재되어 있다.
이러한 방법의 단점은 문턱값(threshold value)과 비교하여 높은 미립자 부분이 촉매의 사용 수명을 상대적으로 빠르게 하며 또는 반응 혼합물 표면에 살포하는 것이 상대적으로 많은 기술적 노력을 요구한다는 점이다. 추가로, 거품을 억제하는 외래 물질의 첨가는 하이드록실암모늄염의 후속 공정에서, 예를 들면 카프로락탐을 생산하는 경우 공정 안정성 및 생성물질을 이유로 배제되어야만 한다.
다양한 변형들이 개발된, 무기산의 공급 영역(supply regime)은 높은 반응 속도에 의한 용적 증가 및 하이드록실암모늄염의 전환 선택도, 즉 부산물 형성의 억제를 증가시키는 연구에 있어 중요한 역할을 해왔다.
특허 명세서 DE 3 107 702에는 한정된 pH 값이 마지막 반응 단계를 위해 설정되며, 측정된 pH 값이 제1 반응 단계에 대한 새로운 무기산 수용액의 공급을 조절하는, 하이드록실암모늄염의 제조방법이 기재되어 있다. 이러한 방식으로, 마지막 반응 단계에서 폭발성 배출 가스 혼합물의 형성 또는 부산물의 형성 증가가 방지된다.
특허 명세서 DE 4 132 800에 기재된 하이드록실암모늄 설페이트를 제조하는 또 다른 방법은 희석된 황산이 제1 반응 단계에 공급되고 진한 황산이 하나 이상의 후속 단계들로 공급되는 한편 자유 황산의 함량이 마지막 반응 단계에서 상당히 감소되는 방식으로 황산의 공급을 바람직하게 분배하고 있다.
하이드록실암모늄염의 유사한 제조방법이 특허 명세서 DE 10062325로부터 공지되어 있으며, 상기 방법에 따르면 무기산의 희석된 수용액의 공급이 적어도 두 개의 부분적 스트림(stream)들로 나누어지는 한편 상기 공급이 바람직하게는 제2 부분 공급 스트림이 첨가되는 마지막 반응 단계의 pH 값을 이용하여 제어된다.
전술한 산 공급과 관련된 3개의 특허 방법들은 그들의 이점에도 불구하고 만족스럽지 않은데 이는 그들이 플랜트 엔지니어링을 보다 복잡하게 만들며 측정된 pH 값이 조절 변수로 사용되는 경우에 공정 안정성에 손상을 주기 쉽기 때문이다.
본 발명의 목적은 가능한 한 높은 반응 속도가 복잡하지 않은 방식으로 달성되며, 전술한 문제점들 특히 안전에 관한 문제점을 방지하는 하이드록실암모늄염의 제조방법을 제공하는 것이다.
상기 목적은 10 bar까지의 과도한 압력 및 80℃까지의 온도에서 탄소계 지지체 상의 부유 귀금속 촉매의 존재 하에 강한 무기산의 수용성 매체에서 여분의 몰 수소(molar hydrogen)와 산화질소(NO)의 반응에 의해 하이드록실암모늄염이 생성되고, 상기 하이드록실암모늄염이 반응 용기로부터 일정하게 제거되며, 상기 용기가 교반기 샤프트(agitator shaft) 및 허브(hub) 및 베어링 표면 또는 지지물을 통하여 상기 샤프트에 부착된 교반기 블레이드(blade)들을 구비한 교반 반응기(stirred reactor)인 하이드록실암모늄염의 제조방법에 의해 달성되는데, 여기서 본 발명에 따라
- 가스 입구 및 분배 시스템(gas inlet and distribution system)이 상기 교반 반응기(stirred reactor)의 하부(lower part)에 제공되며,
- 디스크 교반기(disk agitator)가 바로 위에 놓여 지며, 베어링 표면 또는 지지물을 갖춘 상기 허브가 오목하고 경사진 교반기 블레이드들을 포함하며, 상기 교반기 블레이드들은 운동 방향으로 그들의 각지거나 오목한 측면들을 회전시키며(즉 그들의 오목 측면들이 액체에 거슬러 움직인다), 그리고
- 2날 블레이드 교반기(two-blade blade agitator)가 상기 교반 반응기의 상부에서 상기 교반기 샤프트 상에 제공되고, 그것의 개개의 엽판(leaf)들은 그들이 회전할 때 지속적으로 반응기 캡(cap)을 적시도록 상기 블레이드 축에 대해 0 내지 30°의 각도로 라멜라(lamella) 처럼 오프셋(offset)된다.
하이드록실암모늄 설페이트를 얻기 위한 강한 무기산으로 황산이 상기 반응에 사용된다. 반응성 및 부식을 이유로 4 내지 5 노르말 황산 수용액을 사용하는 것이 바람직하며, 상기 농도는 반응 단계들에 걸쳐서 감소한다.
상기 반응은 30 내지 80℃, 특히 바람직하게는 40 내지 60℃ 범위 내 온도로 상기 반응 매체를 냉각하면서 수행된다.
각각의 반응 단계에서 사용된 수소와 일산화질소의 몰 비는 1.9 내지 2.0: 1.0이다.
상기 반응은 1.0 내지 10 bara 범위 내의 증가된 압력에서 수행되지만, 좋은 결과는 3.0 내지 5.0 bara 범위 내에서 이미 얻어진다.
백금은 일산화질소를 감소시키는 촉매로 사용되며, 바람직하게는 0.1 내지 0.5중량%의 양으로 흑연에 가해지고 30 내지 80㎛ 범위 내의 평균 직경을 갖는다. 이러한 지지 촉매는 7 내지 50g/l의 농도로 미세 현탁액으로 황산 수용액에 사용된다.
상기 부유 촉매를 함유하는 반응 혼합물이 캐스케이드 반응 단계들의 마지막 단계로부터 제거되며; 그것의 하이드록실암모늄 설페이트 함량은 280 내지 300g/l(24 내지 25.5중량%)이다.
환상 가스 입구 및 분배 시스템(annular gas inlet and distribution system)이 상기 목적을 위해 사용된다.
일산화질소 및 수소로 구성된 가스 혼합물이 본 발명에 따른 방법으로, 지지체 상의 부유 백금 촉매를 함유한 황산 수용액에 도입되며, 즉 그 결과 미세하게 분산된 가스 기포들이(평균 가스 기포 직경은 5 내지 6mm) 7 내지 30m/sec의 속도로 상기 환상 가스 입구 및 분배 시스템을 빠져나간다. 가스 빔(beam)은 그것이 이상적으로 상기 혼합물의 바로 위에 놓여 지는 교반기의 유동장(flow field)으로 진입할 때 상기 액체에서 큰 계면을 갖는 작은 기포들로 붕괴된다. 이것은 개선된 물질 이동(mass transfer)에 대한 기초를 제공한다.
특별한 교반 장치의 저단부에서 본 발명에 따라 변형된 디스크 교반기(도 2)는 6개의 오목 블레이드들(하프-파이프)이 상기 회전 디스크에 대해 비스듬히 부착되며, 상기 개개의 블레이드들은 상기 교반기에 대하여 0.2 내지 0.3(도 1에서 b1 : d2)의 상대적 폭을 갖는 것을 특징으로 한다. 상기 상대적 교반기 직경은 상기 반응기 직경에 대하여 0.3 내지 0.4 범위 내이다(도 1의 d2 : d1).
벽 배플(wall baffle)들이 개선된 혼합을 얻기 위해 상기 교반 반응기(도 1)에 배치된다.
특별한 교반 장치의 상부에서 본 발명에 따른 2날 블레이드 교반기(도 3)는 블레이드 직경에 대하여 0.2 내지 0.5의 블레이드 높이(도 1에서 h4 : d3) 및 상기 반응기 직경에 대하여 0.3 내지 0.4의 상대적 교반기 직경(도 1의 d3 : d1)을 가지면서 상기 블레이드 축에 대하여 0 내지 30°의 각을 이루어 라멜라와 같이 설치된 다수의 오프셋 엽판(leaf)들로 구성된다.
상기 개개의 엽판들은 지지 또는 강화 리브(rib)들에 라멜라 배향으로 접합된다.
상기 특별한 교반 장치는 80 내지 240 rpm의 속도로 본 발명에 따라 작동된다. 원주 속도(peripheral speed)는 5 내지 15m/sec의 범위 내이다.
본 발명에 따라 사용된 교반 반응기를 도 1 내지 3에 개략적으로 나타내었다. 이러한 교반 장치는 중앙 원통형 교반기 샤프트로 이루어지며, 상기 교반기 샤프트는 그것의 저단부에 부착된 변형된 고효율 디스크 교반기를 구비한다. 교반 방향과 반대로 반구형으로 부풀려지고 기울어져 설치된 교반기 블레이드들은 상기 회전 디스크에 부착된다. 상기 교반기 샤프트의 상부 부분은 다른 입사각을 갖는 다수의 오프셋 엽판들로 구성된 블레이드 교반기에 연결된다.
최대 6개의 배플들 또는 벽 배플들이 상기 반응기의 충분한 보강도를 보장하기 위해 설치된다. 내부 및 외부 냉각 코일들은 필요한 온도 범위 내에서 상기 공정을 유지시킨다.
도 1은 교반 반응기를 개략적으로 나타낸 도면.
도 2는 디스크 교반기를 개략적으로 나타낸 도면.
도 3은 블레이드 교반기를 개략적으로 나타낸 도면.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
도 1 교반 반응기
1. 교반기 샤프트(agitator shaft) d1 교반 반응기 직경
2. 디스크 교반기(저부 교반기) d2 저부 교반기 직경
3. 블레이드 교반기(상부 교반기) d3 상부 교반기 직경
4. 입구 및 분배 시스템 h1 반응기 충진 높이
5. 벽 배플(wall baffel) h3 저부 교반기의 설치 높이
6. 산 입구용 장치(fitting for acid inlet) h4 상부 교반기의 블레이드 높이
7. 생성물 방출용 장치(fitting for product discharge) b1 저부 교반기의 블레이드 폭
8. 배출 가스 출구(exhaust gas outlet)
9. 나선 코일형 열교환기
10. 쉘형 열교환기(shell-type heat exchanger)
도 2 디스크 교반기
1 교반기 샤프트
1 교반기 블레이드
2 베어링 표면(bearing surface)
3 교반기 플랜지(agitator flange)
도 3 블레이드 교반기
1 교반기 샤프트
4 블레이드
5 블레이드 축
6 개개의 블레이드들
7 개개의 블레이드들 및 블레이드 축간의 각
8 지지 또는 강화 시트(sheet)
9 클램핑 허브(clamping hub)
10 나사 연결부(screwed connection)
도 1은 그것의 주요한 부품들을 구비한 교반 반응기를 나타낸 도면이다. 반응기 성분들을 혼합하는데 필요한 에너지는 상부로부터 안내되는 교반기 샤프트(1)를 통하여 모터/기아 유닛으로부터 전달된다. 국소 에너지(local energy)가 상기 디스크 교반기(2) 및 상기 블레이드 교반기(3) 모두에서 입력된다. 일반적인 설치 높이 h3 : d1은 0.19이다. 6개의 벽 배플들(5)은 와류(vortex) 형성을 방지하는데 사용되어, 필요한 보강도를 보장한다. 상기 반응기의 저부 부분의 측면에 부착된 장치들(6, 7)을 이용하여, 산이 공급되고 생성물이 방출된다. 가능한 한 작은 기포들을 얻기 위해서 외부 분배 시스템(4)을 이용하여 고 에너지 밀도 영역으로 가스 가 공급된다. 배출 가스는 코아레서(coalescer)를 구비한 장치를 통하여 도면에 단지 (8)로 개략적으로 나타낸 반응기 캡으로부터 방출된다.
3개의 개별적으로 반응기의 내부에 공급된 나선 코일형 열교환기들(9) 및 상기 반응기의 외측의 하프-파이프들 상에 접합된 쉘형 열교환기(10)가 발열 과정의 냉각을 보장한다.
도 2는 6-블레이드 디스크 교반기의 디자인을 나타낸 도면(상단: 정면도, 하단: 평면도)이다. 오목 측면들을 가진 상기 교반기 블레이드들 또는 하프 파이프들(11)은 회전 방향과 반대로 구부려져 있으며 베어링 표면에 장착되고 바깥쪽으로 기울어진 가장자리(edge)들을 가진다. 상기 교반기 플랜지(12)는 상기 교반기의 설치 높이의 개별적인 조정을 위해 상기 샤프트(1)에 대해 나사로 고정된다.
도 3은 반응기 캡을 액체로 적시고 거품(foam) 형성을 방지하기 위해 사용된 블레이드 교반기를 나타낸 도면(상단: 정면도, 하단: 평면도)이다. 상기 블레이드 교반기는 상기 액체 레벨에 대하여 45°내지 90°, 바람직하게는 90°의 입사각으로 배열된 두 개의 블레이드들(14)로 구성된다. 각 블레이드는 상기 블레이드 축(15)을 향하여 0°내지 30°, 바람직하게는 14°내지 24°의 각도(17)로 기울어진 개개의 오프셋 라멜라형 엽판(leaf)들(16)로 구성된다. 지지 또는 강화 시트들(18)은 상기 디자인을 안정화시키기 위해 사용된다. 그들이 나사고정형 클램핑 허브(screwed-on clamping hub)들로 설계되어 있기 때문에, 상기 샤프트(1) 상에서 그들의 설치 높이는 개별적으로 조정될 수 있다.
특징적인 교반기 치수는 다음과 같다:
저부 교반기(디스크 교반기)
상대 블레이드 폭 b1/d2 0.23
상대 교반기 직경 d2/d1 0.33
상대 설치 높이 h3/d2 0.58
상부 교반기(블레이드 교반기)
상대 블레이드 높이 h4/d3 0.34
상대 교반기 직경 d3/d1 0.36
본 발명에 따른 방법의 이점은 특별한 교반 장치의 효과로 인해, 환원 반응이 놀랍게도 엄청나게 고속으로 진행하여, 반응 챔버를 확장할 필요 없이 생산량의 증가를 촉진할 수 있다는 것이다. 이러한 결과는 변형된 디스크 교반기의 특별한 디자인에 기인한 것으로, 상기 디스크 교반기는 지지체 상에서 부유된 백금 촉매를 함유한 황산 수용액에서, 다른 교반기 유형들과 비교하여, 가스 입구 및 분배 시스템으로부터 상기 교반기 바로 아래로 도입된 질소 및 산소로 구성된 가스 혼합물을 매우 미세하게 분산시켜, 완전한 가스 분배 및 높은 가스 기포 순환을 달성할 수 있다. 크게 개선된 물질 이동은 예상치 못한 높은 정도로 촉매의 표면에서 발생하는 공정들에 영향을 미친다.
또한 상기 디스크 교반기에 의해 발생하는 우세한 반응 조건들은 교반 반응기의 배출 가스의 일산화질소 함량의 상당한 감소를 초래하며 전체 플랜트의 개선 된 NO 수율에 기여한다.
상기 변형된 디스크 교반기의 특별한 블레이드 디자인의 다른 이점은 파워 수(power number)에 대한 가스발생(gassing)의 효과가 매우 작다는 점이며, 이로 인해 상기 교반기가 방사상 수력에 대해 높은 기계적 안정성을 달성할 수 있게 된다. 높은 기계적 안정성은 사용된 축면 실(axial face seal) 상의 감소된 방사상 스트레인(radial strain)으로 인하여 높은 작동 신뢰성 및 장기간 운전 시간을 조장한다.
고전적 디스크 교반기와 직접적으로 비교하여, 이러한 디자인은 보다 큰 교반기 직경의 사용을 허용하며, 동일한 설치 출력으로 가스 분산을 향상시킨다.
상기한 바람직한 결과는 상기 교반기 샤프트의 상부 부분에서 특별한 블레이드 교반기로 인해서도 달성되는데, 이는 상기 블레이드 교반기가 상기 반응기 내 액체 레벨이 변하는 경우에도 상기 반응기 캡의 젖음(wetting)을 쉽게 보장하기 때문이며, 이는 작동 안전성(NH3을 생성하는 NO와 H2와의 반응을 촉진하는 건조 촉매 네스트(dry catalyst nest)의 형성을 방지) 및 생성물 질(강철의 H2 부식) 때문에도 필수적이다. 상기 교반기의 특별한 디자인은 또한 외래 물질의 표면 살포 또는 첨가 없이 거품의 형성을 효과적으로 억제한다.
다수의 반응기들의 캐스케이드 내 반응 평형으로 인해 턴오버(turnover)의 구동력이 떨어지기 때문에, 특히 제1 반응기들에는 확산으로 인한 반응 저항을 감소시키기 위해서 본 발명에 따라 디자인된 디스크 교반기들이 구비되어야만 한다.
본 발명에 따른 방법으로 얻어진 하이드록실암모늄 설페이트는 카프로락탐을 제조하기 위한 기본 물질인, 사이클로헥산온옥심(cyclohexanonoxime)의 생산에 적합하다.
다음의 실시예는 본 발명에 따른 방법을 예시하는 것이다.
4.4 노르말 황산 17㎥/h가 5개의 반응기들로 이루어진 캐스케이드에 효과적으로 첨가된다(유체 체적 38㎥). 상기 교반기 샤프트 속도는 160min-1이다. 상기 반응기로 단계들에서 분배된 대략 32 vol.-% NO의 NO-H2 혼합물은 촉매에서 NH2OH, N2O, 및 NH3로 전환된다. NH2OH 및 NH3은 황산에 결합된다. 상기 공정은 잔여 황산 농도가 0.2 내지 0.4N이 될 때까지 43℃ 및 3.3 bara의 배출 가스 압력에서 에서 일어난다. 하이드록실암모늄 설페이트 및 암모늄 설페이트의 최종 농도는 280 내지 300g/l 및 7 내지 20g/l 범위 내이다. 배출 가스 내 NO 함량이 5 내지 6 vol.-%가 되고 배출 가스 내 N2O 함량이 4 내지 5 vol/-%가 되도록 가스 공급이 제어된다.
5개의 반응기들 중 2개에 전술한 변형된 가스방출 교반기들이 구비되는 경우, 이러한 반응기들의 배출 가스 내 NO 분율이 4.6에서 3.1 vol.-%로 떨어진다. 개선된 NO 턴오버(trunover)는 유효 산 공급을 18㎥/h로 증가시키는데 사용될 수 있으며, 이는 적어도 29kg HAS/㎥ 반응 체적의 수율에 상응하는 것이다. 암모늄 설페이트의 함량은 변화없이 낮게 유지된다.

Claims (11)

10 bar까지의 과도한 압력 및 80℃까지의 온도에서 탄소계 지지체 상의 부유 귀금속 촉매의 존재 하에 강한 무기산의 수용성 매체에서 여분의 몰 수소와 산화질소(NO)의 반응에 의해 하이드록실암모늄염이 제조되고, 상기 하이드록실암모늄염은 반응 용기로부터 일정하게 제거되며, 상기 용기는 교반기 샤프트 및 허브 및 베어링 표면 또는 지지물을 통하여 상기 샤프트에 부착된 교반기 블레이드(blade)들을 구비한 교반 반응기(stirred reactor)인 하이드록실암모늄염의 제조방법에 있어서,
- 가스 입구 및 분배 시스템이 상기 교반 반응기의 하부에 제공되며,
- 디스크 교반기가 바로 위에 놓여 지고, 베어링 표면 또는 지지물을 갖춘 상기 허브가 오목하고 경사진 교반기 블레이드들을 포함하며, 상기 교반기 블레이드들은 운동 방향으로 그들의 각지거나 오목한 측면들을 회전시키며, 그리고
- 2날 블레이드 교반기가 상기 교반 반응기의 상부에서 상기 교반기 샤프트 상에 제공되고, 그것의 개개의 엽판(leaf)들은 그들이 회전할 때 지속적으로 반응기 캡을 적시도록 상기 블레이드 축에 대해 0 내지 30°의 각도로 라멜라(lamella) 처럼 오프셋(offset)되는 것을 특징으로 하는 하이드록실암모늄염의 제조방법.
제1항에 있어서, 4 내지 5 노르말 농도의 황산이 강한 무기산으로 사용되며, 생성물은 하이드록실암모늄 설페이트인 것을 특징으로 하는 하이드록실암모늄염의 제조방법.
제1항 또는 제2항에 있어서, 수소 및 NO는 1.9 내지 2.0 : 1.0의 몰비로 사용되는 것을 특징으로 하는 하이드록실암모늄염의 제조방법.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 현탁 촉매(그것의 지지체를 포함함)는 7 내지 50g/l의 액상 현탁액 및 30 내지 80㎛의 평균 직경으로 사용되는 것을 특징으로 하는 하이드록실암모늄염의 제조방법.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 귀금속 촉매로 백금이 사용되며, 그것의 탄소 지지체에 대하여 0.1 내지 0.5중량%의 농도로 사용되는 것을 특징으로 하는 하이드록실암모늄염의 제조방법.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 가스가 5mm 내지 6mm의 평균 가스 기포 직경 및 7 내지 30m/sec의 가스 속도를 가지고 환상 가스 입구 및 분배 시스템을 빠져나가는 것을 특징으로 하는 하이드록실암모늄염의 제조방법.
제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 6개의 오목 교반기 블레이드들이 상기 디스크 교반기의 회전 허브에 부착되는 것을 특징으로 하는 하이드록실암모늄염의 제조방법.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 벽 배플들이 상기 교반 반응기에 배치되는 것을 특징으로 하는 하이드록실암모늄염의 제조방법.
제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 교반 반응기의 상부에서 2날 블레이드 교반기는 상기 반응기의 액체 레벨에 대하여 45°내지 90°의 입사각으로 배치되며, 상기 2날 블레이드 교반기는 오프셋된 개개의 라멜라형 엽판들로 구성되고, 상기 반응기 직경에 대하여 0.3 내지 0.4의 교반기 직경을 갖는 것을 특징으로 하는 하이드록실암모늄염의 제조방법.
제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 블레이드 교반기의 개개의 엽판들의 블레이드 높이는 상기 블레이드 교반기 직경에 대하여 0.2 내지 0.5인 것을 특징으로 하는 하이드록실암모늄염의 제조방법.
제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 반응기의 저부에서 상기 디스크 교반기는 5 내지 15m/sec의 원주 속도로 작동되는 것을 특징으로 하는 하이드록실암모늄염의 제조방법.
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