KR20060056365A - Ｌｃｄ 애플리케이션용 확산기 디스크, 이의 제조방법 및용도 - Google Patents

Ｌｃｄ 애플리케이션용 확산기 디스크, 이의 제조방법 및용도 Download PDF

Info

Publication number
KR20060056365A
KR20060056365A KR1020067002393A KR20067002393A KR20060056365A KR 20060056365 A KR20060056365 A KR 20060056365A KR 1020067002393 A KR1020067002393 A KR 1020067002393A KR 20067002393 A KR20067002393 A KR 20067002393A KR 20060056365 A KR20060056365 A KR 20060056365A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
diffuser
weight
particles
disk
spherical
Prior art date
Application number
KR1020067002393A
Other languages
English (en)
Inventor
마르쿠스 파루젤
얀 슈미트
헤르베르트 그루튀스
Original Assignee
룀 게엠베하 운트 콤파니 카게
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 룀 게엠베하 운트 콤파니 카게 filed Critical 룀 게엠베하 운트 콤파니 카게
Publication of KR20060056365A publication Critical patent/KR20060056365A/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
    • G02B5/0205—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
    • G02B5/0236—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place within the volume of the element
    • G02B5/0242—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place within the volume of the element by means of dispersed particles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C08L33/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, which oxygen atoms are present only as part of the carboxyl radical
    • C08L33/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
    • C08L33/12—Homopolymers or copolymers of methyl methacrylate
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
    • G02B5/0205—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties
    • G02B5/021—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures
    • G02B5/0221—Diffusing elements; Afocal elements characterised by the diffusing properties the diffusion taking place at the element's surface, e.g. by means of surface roughening or microprismatic structures the surface having an irregular structure
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
    • G02B5/0273—Diffusing elements; Afocal elements characterized by the use
    • G02B5/0278—Diffusing elements; Afocal elements characterized by the use used in transmission
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
    • G02B5/0273—Diffusing elements; Afocal elements characterized by the use
    • G02B5/0294—Diffusing elements; Afocal elements characterized by the use adapted to provide an additional optical effect, e.g. anti-reflection or filter
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/1336—Illuminating devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B21/00—Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
    • G03B21/54—Accessories
    • G03B21/56—Projection screens
    • G03B21/60—Projection screens characterised by the nature of the surface
    • G03B21/62—Translucent screens
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/25—Web or sheet containing structurally defined element or component and including a second component containing structurally defined particles
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/25—Web or sheet containing structurally defined element or component and including a second component containing structurally defined particles
    • Y10T428/254—Polymeric or resinous material
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/25—Web or sheet containing structurally defined element or component and including a second component containing structurally defined particles
    • Y10T428/258—Alkali metal or alkaline earth metal or compound thereof
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31855—Of addition polymer from unsaturated monomers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

본 발명은
폴리메틸 메타크릴레이트 매트릭스,
광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층의 중량을 기준으로 하여, 중앙 크기(V50)가 0.1 내지 40㎛의 범위이고 굴절률이 폴리메틸 메타크릴레이트 매트릭스의 굴절률과 0.02 내지 0.2 범위의 값 만큼 차이가 나는 구형 분산 입자(A) 0.5 내지 59.5중량% 및
광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층의 중량을 기준으로 하여, 중앙 크기(V50)가 10 내지 150㎛의 범위이고 굴절률이 폴리메틸 메타크릴레이트 매트릭스의 굴절률과 0 내지 0.2 범위의 값 만큼 차이가 나는 구형 입자(B) 0.5 내지 59.5중량%를 포함하고,
구형 분산 입자(A)와 구형 입자(B)의 전체 농도가, 광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층의 중량을 기준으로 하여, 1 내지 60중량%이며, 구형 분산 입자(A) 및 구형 입자(B)가 상이한 중앙 입자 크기(V50)를 갖고, 확산기 디스크의 투과율이 20 내지 70%의 범위이고, 이의 확산 계수가 0.3 초과이고,
구형 입자(B) 크기의 세제곱에 대한 폴리메틸 메타크릴레이트 층의 평균 표면 조도(RZ)의 제곱의 비[RZ 2/DPB 3]가 0.0002 내지 0.1300㎛-1의 범위인, 하나 이상의 광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층을 포함하는 LCD 애플리케이션용 확산기 디스크에 관한 것이다.
광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층, LCD 애플리케이션용 확산기

Description

ＬＣＤ 애플리케이션용 확산기 디스크, 이의 제조방법 및 용도{Diffuser disk for LCD applications, method for the production and use thereof}
본 발명은 하나 이상의 광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층을 포함하는 LCD(liquid crystal display) 애플리케이션용 확산기 디스크, 이러한 확산기 디스크의 제조방법 및 용도에 관한 것이다.
액정 기술을 기초로 하는 모니터는 오랫동안 공지되어 왔다. 이러한 LCD는 종종 컴퓨터의 디스플레이 매체로서 사용된다. 또한, 비교적 최근에는 텔레비젼 디바이스에서 이러한 기술이 공급되기 시작한 것을 알 수 있다. LCD는 또한 자동차, 항공기 및 선박에서 항해 데이타를 나타내는 그래픽으로 사용할 수 있다. 따라서, 다양한 요구사항이 이들 모니터에 제기된다. 다수의 LCD의 공통적인 특징은 편광 필름을 같는 실제 LCD 셀 뒤에 부착된 조명 유닛(illumination unit)이다. 조명 유닛 및 LCD 셀 사이에, LCD 셀을 가로질러 디스플레이에 필요한 광을 균일하게 분배시키는 확산기 디스크를 종종 사용한다.
이러한 목적에 적합하고 입자의 혼합물을 포함하는 디스크는 자체 공지되어 있다. 예를 들면, 공보 JP 4-134440는 상이한 굴절률을 갖는 입자를 포함할 수 있는 후면-투사 스크린(rear-projection screen)이 기재되어 있다. 이는 우수한 색조 재생을 제공한다.
또한, JP 8-198976, JP 5-51480 및 JP 2000-296580은 광학 애플리케이션에 사용할 수 있는 이러한 형태의 디스크를 기재하고 있다.
분산 매질을 포함하는 상기한 디스크는 원래 확산기 디스크로서 사용될 수 있다. 그러나, 공지된 디스크는 균형잡힌 특성 프로파일을 갖지 않는다.
예를 들면, 분산 매질을 제공하는 공지된 디스크에 의해 성취된 광도 분산은 종종 이상적이지 않다.
또한, 다수의 디스크는 색 왜곡을 야기할 수 있는 상대적으로 높은 황변 지수를 갖는다. 또한, 다수의 확산기 디스크는 과도하게 높거나 과도하게 낮은 투과율 및 과도한 헤이즈(haze)를 갖는다.
또한, 다수의 공지된 충격-개질된 확산기 디스크는 온도-의존성 광학 특성, 예를 들면, 확산 계수 또는 반감-강도 각(halved-intensity angle) 또는 황변 지수를 갖는다. 온도 의존성은 몇몇의 적용에서 중요하지 않을 수 있다. 그러나, 이러한 상황에서, 자동차의 대시보드(dashboard)가 심각한 온도 변화를 겪는다는 사실을 고려하여야 한다. 따라서, 고온은 특히 중요한 불균질성을 발생시킨다. 확산기 디스크는 이러한 심한 변화에도 특성을 최대로 균일하게 제공하여야 한다.
또한, 다수의 확산기 디스크는 스크래치에 매우 민감성이다. 설치한 후, 이러한 특성은 비교적 중요하지 않을 수 있다. 그러나, 증진된 예방 방법이 스크래치를 제거하기 위한 가시적인 디스플레이 스크린의 어셈블린 동안 수행되어야 한다. 가시적은 스크래치는 LCD 셀에 확산되는 광에 불균일성을 야기한다.
따라서, 본원에 기술되고 논의된 당해 선행 기술 분야의 관점에서, 본 발명 의 목적은 특히 균형잡힌 특성 프로파일을 제공할 수 있는 LCD 애플리케이션용 확산기 디스크를 제공하는 것이다. 확산기 디스크는 특히 매우 높은 산란 작용과 함께 높은 발광 효율을 허용하여야 한다.
또한, 확산기 디스크는 특히 색 변화가 없는 중립의 산란 광을 제조할 수 있어야 한다. LCD 셀에 의해 생성되는 색은 온도 변화의 결과로서 단지 약간 변화하여야 한다.
본 발명의 또다른 목적은 특히 균질한 광도 분산을 갖는 LCD 애플리케이션용 확산기 디스크를 제공하는 것이다.
또한, 확산기 디스크는 최대 기계적 안정성을 가져야 한다. 플라스틱 디스크에서 스크래치는 눈에 보이지 않거나 단지 약간 가시적이어야 한다. 특히, 손상은 확산기 디스크로 제조되는 모니터의 광도 분산에 영향이 없거나 단지 약간 영향이 있어야 한다.
본 발명에서 기본이 되는 또다른 목적은 특히 간단히 제조할 수 있는 LCD 애플리케이션용 확산기 디스크를 제공하는 것이다. 따라서, 확산기 디스크는 특히 압출에 의해 제조할 수 있어야 한다.
본 발명의 또다른 목적은 특성 프로파일이 단지 약간의 온도-민감성을 갖는 확산기 디스크를 제공하는 것이다. 이의 결과로서, 예를 들면, 자동차에 사용되는 LCD를 제공하는 것이다.
본 발명의 또다른 목적은 요구사항을 용이하게 적합하게 할 수 있는 크기 및 형태의 확산기 디스크를 제공하는 것이다. 따라서, 매우 저가의 공정, 예를 들면, 확산기 디스크에서 작동되는 레이터 절단 시스템을 사용할 수 있다.
본 발명의 또다른 목적은 높은 내구성, 특히 높은 UV 방사 저항성 또는 내후성을 갖는 확산기 디스크를 제공하는 것이다.
청구항 1에 기재된 확산기 디스크는 이러한 목적을 성취하고, 또한 상세하게 언급하지는 않았지만, 다른 목적도 본원에 논의된 상황의 분명하고 필수적인 결론이다. 신규한 확산기 디스크의 유용한 개질은 청구항 1의 종속항에 의해 보호된다.
청구항 24는 확산기 디스크의 제조방법에 관한 우선적인 목적을 성취한다.
놀랍게도,
폴리메틸 메타크릴레이트 매트릭스,
광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층의 중량을 기준으로 하여, 중앙 크기(V50)가 0.1 내지 40㎛의 범위이고 굴절률이 폴리메틸 메타크릴레이트 매트릭스의 굴절률과 0.02 내지 0.2 범위의 값 만큼 차이가 나는 구형 분산 입자(A) 0.5 내지 59.5중량% 및
광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층의 중량을 기준으로 하여, 중앙 크기(V50)가 10 내지 150㎛의 범위이고 굴절률이 폴리메틸 메타크릴레이트 매트릭스의 굴절률과 0 내지 0.2 범위의 값 만큼 차이가 나는 구형 입자(B) 0.5 내지 59.5중량%를 포함하고,
구형 분산 입자(A)와 구형 입자(B)의 전체 농도가, 광-산란 폴리메틸 메타크 릴레이트 층의 중량을 기준으로 하여, 1 내지 60중량%이며, 구형 분산 입자(A) 및 구형 입자(B)가 상이한 중앙 입자 크기(V50)를 갖고, 여기서, 확산기 디스크의 투과율이 20 내지 70%의 범위이고, 이의 확산 계수가 0.2 초과인 매우 우수하게 균형잡힌 특성 프로파일을 갖는 하나 이상의 광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층을 포함하는 LCD 애플리케이션용 확산기 디스크가, 구형 입자(B) 크기의 세제곱에 대한 폴리메틸 메타크릴레이트 층의 평균 표면 조도(roughness)(RZ)의 제곱의 비[RZ 2/DPB 3]가 0.0002 내지 0.1300㎛-1의 범위인 경우 제공될 수 있다.
다음 구체적인 이점은 특히 신규한 방법에 의해 성취된다:
- 본 발명의 확산기 디스크는 광도 분산 및/또는 스크래치에 대한 민감성을 결과적으로 손상시키지 않고 개별적인 요구사항에 적합하게 할 수 있다.
- 본 발명의 확산기 디스크는 높은 투과율 및 우수한 확산 계수를 제공할 수 있다.
- 신규한 확산기 디스크에서 이미지 재생은 구체적인 색 정확도를 갖는 이미지를 전달하는 LCD를 제공할 수 있다.
- 본 발명에 따라 제공되는 확산기 디스크는 특히 균일한 광도 분산을 갖는다.
- 본 발명의 확산기 디스크는 또한 높은 기계적 안정성을 갖는다. 디스크에 존재할 수 있는 스크래치는 LCD 셀에 의해 제조되는 이미지에 영향을 주지 않거나 단지 약간 영향을 준다.
- 또한, 본 발명의 확산기 디스크는 특히 높은 수준의 온도 변화에 노출되는 LCD에서 사용될 수 있다. 이 온도 변화는 광도 분산, 확산기 디스크의 투과율 또는 확산 계수에 단지 약간의 영향을 준다.
- 또한, 본 발명의 확산기 디스크는 특히 간단한 방법으로 제조될 수 있다. 확산기 디스크는 특히 압출에 의해 제조될 수 있다.
- 신규한 확산기 디스크는 특히 UV 방사에 높은 내후성을 갖는다.
- 확산기 디스크의 크기 및 형태는 요구사항에 의해 조절될 수 있다.
본 발명에 따른 확산기 디스크의 광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층은, 광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층의 중량을 기준으로 하여, 구형 분산 입자(A) 및 구형 입자(B)를 1 내지 60중량%, 특히 3 내지 55중량%, 바람직하게는 6 내지 48중량% 포함한다.
분산 입자(A) 및 입자(B)는 구형이다. 본 발명의 목적을 위해, 용어 "구형"은 입자가 바람직하게는 구형인 것을 의미하지만, 제조방법으로 인해 약간 다른 형태를 갖는 입자가 존재할 수도 있거나, 입자의 형태가 이상적인 구형으로부터 변형될 수 있는 것이 당해 기술분야의 숙련가들에게 명백하다.
따라서, 용어 "구형"은 입자의 가장 작은 치수에 대한 가장 긴 치수의 비가 4 이하, 바람직하게는 2 이하인 것을 의미하고, 이들 치수의 각각은 입자의 중력 중심을 통과하여 잰다. 입자의 수를 기준으로 하여, 입자의 70% 이상은 바람직하게는 구형이고, 특히 바람직하게는 90% 이상이 구형이다.
분산 입자(A)의 중앙 크기(V50)는 0.1 내지 40㎛, 특히 0.5 내지 30㎛, 특히 바람직하게는 1 내지 15㎛의 범위이다.
광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트(PMMA) 층은, 광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층의 중량을 기준으로 하여, 구형 분산 입자(A)를 0.5 내지 59.5중량%, 바람직하게는 1 내지 20중량%, 특히 바람직하게는 1.5 내지 10중량% 포함한다.
이러한 형태의 입자는 자체 공지되어 있고, 시판되는 것을 입수할 수 있다. 이들 중에서 특히 플라스틱 입자, 및 또한 유기 물질을 포함하는 입자가 있다.
본 발명에 따라 사용될 수 있는 분산 입자는 특별한 제한은 없지만, 광 굴절은 분산 입자(A)와 매트릭스 플라스틱 사이의 상 경계에 일어난다.
분산 입자(A)의 굴절률을 측정하는 경우, 나트륨 D 라인(589nm)으로 20℃에서 측정한 굴절률(n0)은 매트릭스 플라스틱의 굴절률(n0)과는 0.02 내지 0.2단위만큼 차이가 난다.
구형 분산 입자(A)는 바람직하게는 가교결합된 폴리스티렌, 폴리실리콘 및/또는 가교결합된 폴리(메트)아크릴레이트를 포함한다.
분산제로서 사용되는 바람직한 플라스틱 입자의 하나의 그룹은 실리콘을 포함한다. 예의 방법에 의해, 이러한 형태의 입자는 화학식 R1Si(OR2)3의 유기트리알콕시실란 및/또는 화학식 Si(OR2)4의 테트라알콕시실란의 가수분해 및 중축합에 의해 수득되고, 당해 화학식에서, R1은 치환되거나 치환되지 않은 알킬 그룹, 알케닐 그룹 또는 페닐 그룹이고, 가수분해가능한 알콕시 그룹의 라디칼 R2는 알킬 그룹, 예를 들면, 메틸, 에틸 또는 부틸, 또는 알콕시-치환된 탄화수소 그룹, 예를 들면, 2-메톡시에틸 또는 2-에톡시에틸이다.
유기-트리알콕시실란의 예는 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 메틸-n-프로폭시실란, 메틸트리이소-프로폭시실란 및 메틸트리스(2-메톡시에톡시)실란이다.
상기한 실란 화합물 및 구형 실리콘 입자의 제조방법은 당해 기술분야의 숙련가들에게 공지되어 있고, 명세서 EP 1 116 741, JP 63-077940 및 JP 2000-186148에 기재되어 있다.
실리콘으로 이루어지고, 특히 바람직하게는 본 발명에 사용되는 분산제는 GE Bayer Silicone으로부터 상표명 TOSPEARL®120 및 TOSPEARL®3120으로 시판된다.
다른 종류의 바람직한 플라스틱 입자의 구조는:
b1) 치환체로서, 예를 들면, 스티렌, α-메틸스티렌, 환-치환된 스티렌, 페닐 (메트)아크릴레이트, 벤질 (메트)아크릴레이트, 2-페닐에틸 (메트)아크릴레이트, 3-페닐프로필 (메트)아크릴레이트 또는 비닐 벤조에이트와 같은 방향족 그룹을 갖는 단량체 25 내지 99.9중량부;
b2) 단량체 b1)과 공중합할 수 있고, 메틸 (메트)아크릴레이트, 에틸 (메트)아크릴레이트, n-프로필 (메트)아크릴레이트, 이소프로필 (메트)아크릴레이트, n-부틸 (메트)아크릴레이트, 이소부틸 (메트)아크릴레이트, 3급-부틸 (메트)아크릴레이트, 사이클로헥실 (메트)아크릴레이트, 3,3,5-트리메틸사이클로헥실 (메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실 (메트)아크릴레이트, 노르보르닐 (메트)아크릴레이트 또는 이소보르닐 (메트)아크릴레이트로 언급될 수 있는 지방족 에스테르 라디칼에 탄소원자를 1 내지 12개 갖는 아크릴성 및/또는 메타크릴성 에스테르 0 내지 60중량부;
b3) 유리-라디칼 경로에 의해 b1)과 공중합할 수 있고, 적합한 경우, b2)와 공중합할 수 있고, 디비닐벤젠, 글리콜 디(메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 디(메트)아크릴레이트, 알릴 (메트)아크릴레이트, 트리알릴 시아누레이트, 디알릴 프탈레이트, 디알릴 석시네이트, 펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트 또는 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트로서 예를 들 수 있는, 2개 이상의 에틸렌계 치환되지 않은 그룹을 갖는 가교결합 공단량체 0.1 내지 15중량부를 포함하고, 여기서, 공단량체 b1), b2) 및 b3)의 양은 전체 100중량부이다.
플라스틱 입자를 생성하는 혼합물은 특히 바람직하게는 스티렌 80중량% 이상 및 디비닐벤젠 0.5중량% 이상을 포함한다.
가교결합된 플라스틱 입자의 제조는 당해 기술분야의 숙련가에게 공지되어 있다. 분산 입자는, 예를 들면, EP-A 342 283 또는 EP-A 269 324에 기재된 유화 중합으로 제조할 수 있고, 매우 특히 바람직하게는, 예를 들면, 독일 특허원 P 43 27 464.1에 기재된 유기-상 중합를 통해 제조할 수 있다. 후술되는 중합 기술은 특히 협소한 입자 크기 분포를 제공하고, 다시 말해, 특히 입자 평균 입자 직경으로부터 입자 직경의 편차가 작다.
제한하려는 것은 아니지만 내열성이 200℃ 이상, 특히 250℃ 이상까지 팽창되는 플라스틱 입자가 특히 바람직하다. 용어 "내열성"은 입자가 실질적으로 열 분해되지 않는다는 것을 의미한다. 열 분해는 목적하지 않은 탈색을 야기하여 플 라스틱 물질을 사용할 수 없게 한다.
특히 바람직한 입자는 특히 Sekisui로부터 상표명 ®Techpolymer SBX-6, ®Techpolymer SBX-8 및 ®Techpolymer SBX-12로 시판된다.
분산 입자(A)를 생성할 수 있는 유기 물질 중에서 수산화알루미늄, 규산칼륨알루미늄(미카), 규산알루미늄(카올린), 황산바륨(BaSO4), 탄산칼슘, 규산마그네슘(탈크)이 있다. 이들 물질 중에서 BaSO4가 바람직하다.
상기한 분산 입자 중에서, 유기 물질을 포함하는 입자가 바람직하다.
상기한 분산 입자(A)는 개별적으로 또는 2개 이상의 형태의 혼합물 형태로 사용될 수 있다.
광-산란 PMMA 층은, 광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층의 중량을 기준으로 하여, 구형 입자(B)를 0.5 내지 59.5중량%, 바람직하게는 5 내지 40중량%, 특히 바람직하게는 8 내지 25중량% 포함한다.
본 발명에 따라 사용되는 입자(B)의 중앙 크기(V50)는 10 내지 150㎛, 바람직하게는 15 내지 70㎛, 특히 바람직하게는 30 내지 50㎛의 범위이다. 입자의 굴절률을 측정하는 경우, 나트륨 D 라인(589nm)으로 20℃에서 측정한 굴절률(n0)은 매트릭스 플라스틱의 굴절률(n0)과는 0.02 내지 0.2단위만큼 차이가 난다.
입자(B)는 또한 시판되는 것을 입수할 수 있다. 이들 입자를 생성하는 물질은 분산 입자(A)를 생성하는 물질과 동일할 수 있다. 플라스틱 입자를 사용하는 것이 바람직하다.
구형 입자(B)는 바람직하게는 가교결합된 폴리스티렌, 폴리실리콘 및/또는 가교결합된 폴리(메트)아크릴레이트를 포함한다.
상기한 입자(B)는 개별적으로 또는 2개 이상의 형태의 혼합물의 형태로 사용될 수 있다.
입자(B)에 관한 분산 입자(A)의 무게 중앙(ponderal median)의 비는 바람직하게는 1:100 내지 10:1, 특히 1:50 내지 7.5:1, 특히 바람직하게는 1:25 내지 5:1, 매우 특히 바람직하게는 1:10 내지 3:1이다.
분산 입자(A) 및 입자(B)의 중앙 크기(V50)의 차이는 바람직하게는 5㎛ 이상, 특히 10㎛ 이상이고, 입자(B)는 분산 입자(A)보다 크다.
레이저 흡광법은 입자 크기 및 입자 크기 분포를 측정하는데 사용할 수 있다. 본원에서는 Galay-CIS(제조원: L.O.T. GmbH)를 사용할 수 있고, 입자 크기 및 입자 크기 분포를 측정하기 위한 시험 방법은 사용자 안내서에 기재되어 있다.
X-선 세디그래프(sedigraph)는 무기 입자의 크기를 결정하는데 사용될 수 있다. MICROSCAN II 장치(제조원: Qantachrome)는 이러한 목적을 위해 사용할 수 있다. MICROSCAN II는 0.1 내지 300㎛의 측정 범위로 현탁액 중 분말의 입자 크기 분포를 측정하는 자동 시험 장치이다. MICROSCAN II의 측정 원리는 X-선 탐지에 의한 침강이다. 이를 위해, 입자는 편입된 호스 펌프 또는 초음속 처리의 도움으로 액체에서 균질하게 분산된다. 입자 크기는 입자 및 분산 액체의 밀도, 액체의 점도 및 입자가 가라앉는 속도의 함수로서 스톡스 법칙(Stokes law)에 의해 측정된다.
중앙 입자 크기(V50)는 무게 중앙이고, 여기서, 입자의 50%에 대한 값이 이 값보다 작거나 동일하고, 이들 입자의 50중량%가 이 값보다 크거나 동일하다.
본 발명의 구체적인 하나의 양태에 따라서, 이들 입자는 입자의 상당한 응집 또는 집적없이 플라스틱 매트릭스 내애 균질하게 분산된다. 균질한 분산은 플라스틱 매트릭스 내의 입자의 농도가 본질적으로 일정함을 의미한다.
광-산란 층은 구형 입자와 함께 PMMA를 포함하는 플라스틱 매트릭스를 포함한다. 광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층은 바람직하게는, 광-산란 층의 중량을 기준으로 하여, 폴리메틸 메타크릴레이트를 30중량% 이상, 특히 40중량% 이상, 특히 바람직하게는 50중량% 이상 포함한다.
폴리메틸 메타크릴레이트는 일반적으로 메틸 메타크릴레이트를 포함하는 혼합물의 유리-라디칼 중합을 통해 수득된다. 이들 혼합물은 일반적으로, 단량체의 중량을 기준으로 하여, 메틸 메타크릴레이트를 40중량% 이상, 바람직하게는 60중량% 이상, 특히 바람직하게는 80중량% 이상 포함한다.
이와 함께, 폴리메틸 메타크릴레이트를 제조하기 위한 이들 혼합물은 메틸 메타크릴레이트와 공중합할 수 있는 다른 (메트)아크릴레이트를 포함할 수 있다. 용어 "(메트)아크릴레이트"는 메타크릴레이트 및 아크릴레이트 및 또는 이들 둘의 혼합물을 포함한다.
이들 단량체는 공지되어 있다. 이들은 치환된 알콜로부터 유도된 (메트)아크릴레이트, 예를 들면, 메틸 아크릴레이트, 에틸 (메트)아크릴레이트, 프로필 (메트)아크릴레이트, n-부틸 (메트)아크릴레이트, 3급-부틸 (메트)아크릴레이트, 펜틸 (메트)아크릴레이트 및 2-에틸헥실 (메트)아크릴레이트;
치환되지 않은 알콜로부터 유도된 (메트)아크릴레이트, 예를 들면, 올레일 (메트)아크릴레이트, 2-프로피닐 (메트)아크릴레이트, 알릴 (메트)아크릴레이트, 비닐 (메트)아크릴레이트;
아릴 (메트)아크릴레이트, 예를 들면, 벤질 (메트)아크릴레이트 또는 페닐 (메트)아크릴레이트, 여기서, 각각의 경우, 아릴 라디칼은 치환되지 않거나 4개 이하의 치환체를 가질 수 있다;
사이클로알킬 (메트)아크릴레이트, 예를 들면, 3-비닐사이클로헥실 (메트)아크릴레이트, 보르닐 (메트)아크릴레이트;
하이드록시알킬 (메트)아크릴레이트, 예를 들면, 3-하이드록시프로필 (메트)아크릴레이트, 3,4-디하이드록시부틸 (메트)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸 (메트)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필 (메트)아크릴레이트;
글리콜 디(메트)아크릴레이트, 예를 들면, 1,4-부탄디올 (메트)아크릴레이트,
에테르 알콜의 (메트)아크릴레이트, 예를 들면, 테트라하이드로푸르푸릴 (메트)아크릴레이트, 비닐옥시에톡시에틸 (메트)아크릴레이트;
(메트)아크릴산의 아미드 및 니트릴, 예를 들면, N-(3-디메틸아미노프로필)(메트)아크릴아미드, N-(디에틸포스포노)(메트)아크릴아미드,
1-메타크릴로일아미도-2-메틸-2-프로판올;
황-함유 메타크릴레이트, 예를 들면, 에틸설피닐에틸 (메트)아크릴레이트,
4-티오시아나토부틸 (메트)아크릴레이트,
에틸설포닐에틸 (메트)아크릴레이트, 티오시아나토메틸 (메트)아크릴레이트,
메틸설피닐메틸 (메트)아크릴레이트,
비스((메트)아크릴로일옥시에틸) 설파이드;
다관능성 (메트)아크릴레이트, 예를 들면, 트리메틸로일프로판 트리(메트)아크릴레이트를 포함한다.
상기한 (메트)아크릴레이트 이외에, 중합되는 조성물은 또한 메틸 메타크릴레이트와 공중합할 수 있는 다른 치환되지 않은 단량체 및 상기한 (메트)아크릴레이트를 포함할 수 있다 .
이들은 1-알켄, 예를 들면, 1-헥센, 1-헵텐; 측쇄 알켄, 예를 들면, 비닐사이클로헥산, 3,3-디-메틸-1-프로펜, 3-메틸-1-디이소부틸렌, 4-메틸-1-펜텐;
아크릴로니트릴; 비닐 에스테르, 예를 들면, 비닐 아세테이트;
스티렌, 측쇄 상에 알킬 치환체를 갖는 치환된 스티렌, 예를 들면, α-메틸스티렌 및 α-에틸스티렌, 환상 알킬 치환체를 갖는 치환된 스티렌, 예를 들면, 비닐톨루엔 및 p-메틸스티렌, 할로겐화 스티렌, 예를 들면, 모노클로로스티렌, 디클로로스티렌, 트리브로모스티렌 및 테트라브로모스티렌;
헤테로사이클릭 비닐 화합물, 예를 들면, 2-비닐피리딘, 3-비닐피리딘, 2-메틸-5-비닐피리딘, 3-에틸-4-비닐피리딘, 2,3-디메틸-5-비닐피리딘, 비닐피리미딘, 비닐피페리딘, 9-비닐카바졸, 3-비닐카바졸, 4-비닐카바졸, 1-비닐이미다졸, 2-메틸-1-비닐이미다졸, N-비닐피롤리돈, 2-비닐피롤리돈, N-비닐피롤리딘, 3-비닐피롤 리딘, N-비닐카프로락탐, N-비닐부티로락탐, 비닐옥솔란, 비닐푸란, 비닐티오펜, 비닐티올란, 비닐티아졸 및 수소화 비닐티아졸, 비닐옥사졸 및 수소화 비닐옥사졸;
비닐 및 이소프레닐 에테르;
말레산 유도체, 예를 들면, 말레산 무수물, 메틸말레산 무수물, 말레이미드, 메틸말레이미드; 및 디엔, 예를 들면, 디비닐벤젠을 포함한다.
일반적으로 이러한 공단량체에 사용되는 양은, 단량체의 중량을 기준으로 하여, 0 내지 60중량%, 바람직하게는 0 내지 40중량%, 특히 바람직하게는 0 내지 20중량%이고, 이들 화합물은 개별적으로 또는 혼합물의 형태로 사용될 수 있다.
중합은 일반적으로 공지된 유리-라디칼 개시제를 사용하여 개시된다. 바람직한 개시제 중에서 특히 당해 기술분야의 숙련가들에게 널리 공지된 아조 개시제, 예를 들면, AIBN 및 1,1-아조비스사이클로헥산카보니트릴, 및 또한 퍼옥시 화합물, 예를 들면, 메틸 에틸 케톤 퍼옥사이드, 아세틸아세톤 퍼옥사이드, 디라우릴 퍼옥사이드, 3급-부틸 퍼-2-에틸헥사노에이트, 케톤 퍼옥사이드, 메틸 이소부틸 케톤 퍼옥사이드, 사이클로헥사논 퍼옥사이드, 디벤조일 퍼옥사이드, 3급-부틸 퍼옥시벤조에이트, 3급-부틸퍼옥시 이소프로필 카보네이트, 2,5-비스(2-에틸헥사노일퍼옥시)-2,5-디메틸헥산, 3급-부틸 2-에틸퍼옥시헥사노에이트, 3급-부틸 3,5,5-트리메틸퍼옥시헥사노에이트, 디쿠밀 퍼옥사이드, 1,1-비스(3급-부틸퍼옥시)사이클로헥산, 1,1-비스(3급-부틸퍼옥시)-3,3,5-트리메틸사이클로헥산, 쿠밀 하이드로퍼옥사이드, 3급-부틸 하이드로퍼옥사이드, 비스(4-3급-부틸사이클로헥실) 퍼옥시디카보네이트, 2개 이상의 상기한 화합물과의 혼합물 및 또한 상기한 화합물과 언급되지 않았지만 유리 라디칼을 형성할 수 있는 화합물과의 혼합물이 있다.
이들 화합물이 종종 사용되는 양은, 단량체의 중량을 기준으로 하여, 0.01 내지 10중량%, 바람직하게는 0.5 내지 3중량%이다.
예를 들면, 분자량 또는 단량체 구성이 상이한 다양한 폴리(메트)아크릴레이트를 사용하여 제조될 수 있다.
또한, 광-산란 층의 매트릭스는 이의 특성을 개질시키기 위해 다른 중합체를 포함할 수 있다. 이들 중에서 특히 폴리아크릴로니트릴, 폴리스티렌, 폴리에테르, 폴리에스테르, 폴리카보네이트 및 폴리비닐 클로라이드이다. 이들 중합체는 개별적으로 또는 혼합물의 형태로 사용할 수 있고, 또한 상기한 중합체로부터 유도되는 공중합체를 사용할 수 있다.
매트릭스 중합체로서 본 발명에 따라 사용되는 단독중합체 및/또는 공중합체의 중량-평균 몰 질량(Mw)은 넓은 범위내에서 가변적일 수 있고, 몰 질량은 보통 성형 조성물의 의도된 용도 및 공정 방법에 부합된다. 그러나, 일반적으로 제한하려는 것은 아니지만 20,000 내지 1,000,000g/mol, 바람직하게는 50,000 내지 500,000g/mol, 특히 바람직하게는 80,000 내지 300,000g/mol의 범위이다.
본 발명의 하나의 구체적인 양태에서, 광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층의 매트릭스는, 광-산란 층의 매트릭스의 중량을 기준으로 하여, 폴리메틸 메타크릴레이트를 70중량% 이상, 바람직하게는 80중량% 이상, 특히 바람직하게는 90중량% 이상 포함한다.
본 발명의 구체적인 하나의 양태에서, 광-산란 층의 매트릭스의 폴리(메트) 아크릴레이트는 나트륨 D 라인(589nm)으로 20℃에서 측정하여 1.46 내지 1.54 범위의 굴절률을 갖는다.
광-산란 층을 제조하기 위한 성형 조성물은 임의의 형태의 통상적인 부가제를 포함할 수 있다. 이들에는 정전기 방지제, 항산화제, 이형제, 난연제, 윤활제, 염료, 유동 개선제, 충전제, 광 안정화제, UV 흡수제 및 유기인 화합물, 예를 들면, 포스파이트 또는 포스포네이트, 안료, 내후성 안정화제 및 가소제가 있다. 그러나, 첨가제의 양은 사용 목적에 의해 제한된다. 예를 들면, 폴리메틸 메타크릴레이트 층의 광-산란 특성은 부가제에 의해 과도하게 손상되어서도 안되고 이의 투여성이 손상되어서도 안된다. 특히, 광학 특성이 온도 의존성인 부가제의 부가량은 단지 매우 소량일 수 있다. 따라서, EP-A 0 113 924, EP-A 0 522 351, EP-A 0 465 049 및 EP-A 0 683 028에 기재된 충격 개질제의 확산기 디스크에 존재하는 양은 단지 매우 소량이어야 한다. 확산기 디스크의 충격 개질제의 함량은 바람직하게는 최대 20중량%, 바람직하게는 10중량%, 특히 바람직하게는 4중량%로 억제된다. 본 발명의 구체적인 하나의 양태에 따라서, 본 발명의 확산기 디스크는 특히 바람직하게는 충격 개질제를 포함하지 않는다.
플라스틱 매트릭스를 제조하기 위한 특히 바람직한 성형 조성물은 Rohm GmbH & Co. KG에서 시판된다.
광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층의 두께는 일반적으로 1 내지 100mm, 바람직하게는 1 내지 10mm, 특히 바람직하게는 2 내지 5mm의 범위이다.
본 발명의 구체적인 하나의 양태에 따라서, 구형 분산 입자(A)의 농도(cPA), 광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층의 두께(dS) 및 구형 분산 입자(A) 크기(DPA)는 구형 분산 입자(A) 크기의 세제곱에 대한 구형 분산 입자의 농도(cPA) 및 광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층의 두께의 곱의 비[cPA*dS/DPA 3]가 바람직하게는 0.0001 내지 0.5중량%*mm/㎛3, 특히 0.0025 내지 0.3중량%*mm/㎛3의 범위가 되도록 선택된다.
사용된 분산 매질이 중앙 크기(V50)가 6 내지 30㎛의 범위인 플라스틱 입자를 포함하는 경우, 본 발명의 구체적인 하나의 양태에 따라서, 구형 분산 입자(A) 크기의 세제곱에 대한 구형 분산 입자(A)의 농도(cPA)와 광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층의 두께의 곱의 비[cPA*dS/DPA 3]는 바람직하게는 0.0015 내지 0.09중량%*mm/㎛3, 특히 바람직하게는 0.0025 내지 0.06중량%*mm/㎛3, 매우 특히 바람직하게는 0.005 내지 0.04중량%*mm/㎛3의 범위이다.
사용되는 분산 매질이 중앙 크기(V50)가 0.1 내지 5㎛인 무기 입자를 포함하는 경우, 본 발명의 구체적인 하나의 양태에 따라서, 구형 분산 입자(A) 크기의 세제곱에 대한 구형 분산 입자의 농도(cPA)와 광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층의 두께의 곱의 비[cPA*dS/DPA 3]가 바람직하게는 0.015 내지 0.5중량%*mm/㎛3, 특히 0.025 내지 0.3중량%*mm/㎛3의 범위이다.
구형 입자(B)의 농도(cPB), 광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층의 두께(dS) 및 구형 입자(B)의 크기(DPB)는 구형 분산 입자(B) 크기의 세제곱에 대한 구형 분산 입자(B)의 농도(cPB)와 광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층의 두께의 곱의 비[cPB*dS/DPB 3]가 바람직하게는 0.000005 내지 0.04중량%*mm/㎛3, 특히 0.00005 내지 0.02중량%*mm/㎛3의 범위가 되도록 선택될 수 있다.
구형 입자(B)의 크기의 세제곱에 대한 폴리메틸 메타크릴레이트 층의 평균 표면 조도(RZ)의 제곱의 비[RZ 2/DPB 3]는 바람직하게는 0.0002㎛-1 내지 0.1300㎛-1, 바람직하게는 0.0009㎛-1 내지 0.0900㎛-1, 특히 0.0006㎛-1 내지 0.0800㎛-1, 바람직하게는 0.0008㎛-1 내지 0.0400㎛-1의 범위일 수 있다
본 발명의 디스크의 하나의 구체적인 양태에 따라서, 광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층의 두께(dS)에 대한 구형 분산 입자의 농도(cPA)의 비[cPA/dS]는 0.2 내지 20중량%/mm, 특히 0.5 내지 10중량%/mm의 범위내이다.
본 발명의 확산기 디스크의 하나의 구체적인 양태에 따라서, 광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층의 두께(dS)에 대한 구형 입자(B)의 농도(cPB)의 비[cPB/dS]는 2.5중량%/mm 이상, 특히 4중량%/mm 이상이다.
구형 분산 입자 크기(DPA)에 대한 광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층의 두께(dS)의 비[dS/DPA]는 제한하려는 것은 아니지만 바람직하게는 5 내지 1500, 특히 10 내지 1000, 특히 바람직하게는 100 내지 600의 범위이다.
광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층의 광택도 R85°은 바람직하게는 60 이하, 특히 40 이하, 특히 바람직하게는 30 미만이다.
본 발명의 확산기 디스크, 특히 광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층은 특히 높은 내스크래치성을 갖는다. 본 발명의 구체적인 하나의 양태에 따라서, 0.4N 이하, 특히 0.7N 이하, 특히 바람직하게는 1.0N 이하의 힘을 사용하여 디스크에 가하는 스크래치는 제한하려는 것은 아니지만 가시적으로 탐지되지 않는다.
이러한 내스크래치성은 DIN 53799 및 DIN EN 438에서 손상된 표면을 가시적으로 평가하여 측정할 수 있고, 손상은 다양한 힘을 표면에 가하는 다이아몬드에 의해 야기된다.
본 발명의 하나의 구체적인 양태에 따라서, 디스크의 평균 표면 조도(RZ)는 바람직하게는 5 내지 50㎛, 특히 5 내지 25㎛, 바람직하게는 6 내지 35㎛, 특히 바람직하게는 6 내지 30㎛의 범위이다.
평균 표면 조도(RZ)는 Talysurf 50 테스터(제조원: Taylor Hobson)를 사용하여 DIN 4768에서 측정할 수 있고, RZ는 조도 프로파일내에서 5개의 연속 개별 측정 트레버스(five successive individual measurement traverse)로부터의 개별적인 조 도 깊이의 평균으로부터 계산된 평균 조도 깊이이다.
디스크의 표면 조도(RZ)는 일반적으로 입자(B)의 선택의 결과이다. 또한, 이 값은 제조 공정의 특성에 의존하는 다양한 파라미터에 의해 영향받을 수 있다. 이들은 압출 공정 동안의 용융 온도이고, 용융 온도가 높을 수록 더 거친 표면을 제공한다. 그러나, 여기서 고려되어야 하는 인자는 용융물의 온도가 성형 조성물의 정확한 구성에 의존한다는 것이다. 용융물의 온도는 일반적으로 150 내지 300℃, 바람직하게는 200 내지 290℃의 범위이다. 이러한 온도는 다이에서 배출되는 용융물의 온도를 기본으로 한다.
표면 조도는 또한 디스크를 연마하는데 사용되는 롤러 사이의 갭에 의해 영향받을 수 있다. 예를 들면, 연마 스택(stack)이 L형 배열의 3개의 롤러를 포함하는 경우, 여기서, 성형 조성물은 다이로부터 롤러 1과 롤러 2 사이의 갭으로 롤러 2를 둘러 싼 60-180°외피로서 작용하고, 롤러 2와 롤러 3 사이의 갭은 표면을 연마한다. 롤러 2와 롤러 3 사이의 갭을 디스크의 두께로 조절하는 경우, 디스크 표면상 분산 입자를 매트릭스 내로 압축하여 표면을 보다 매끈하게 한다. 보다 거친 표면을 성취하기 위해, 이러한 갭은 일반적으로 생성된 디스크의 두께보다 다소 두껍게 조절되고, 상응하는 값은 제한하려는 것은 아니지만 종종 디스크의 두께보다 0.1 내지 2mm, 바람직하게는 0.1 내지 1.5mm 두껍다. 표면 조도는 또한 실시예에서 나타난 의존 관계로 나타난 입자 크기 및 디스크의 두께를 통해 영향을 받는다.
광-산란 층은 공지된 방법을 통해 제조할 수 있고, 열가소성 성형 공정으로 제공하는 것이 바람직하다. 입자를 가한 경우, 광-산란 층은 통상적인 열가소성 성형 공정을 통해 상기한 성형 조성물로부터 제조할 수 있다.
하나의 구체적인 양태에 따라서, 이축 압출기는 압출 공정 또는 산란 비드를 포함하는 성형 조성물의 펠릿의 제조에 사용된다. 이들 공정에서, 플라스틱 입자는 바람직하게는 압출기에서 용융물로 변환된다. 이러한 방법에 의해, 투과율이 특히 높은 디스크를 제공할 수 있는 용융물을 수득할 수 있다.
당해 확산기 디스크를 일축 압출기에서 호일 또는 디스크의 압출을 이축 압출기에서 신규한 측면 공급기 혼합 공정의 다운스트림에서 수행하고, 중간체를 펠릿화하는 2-단계 공정으로 제조할 수 있다. 이축 압출기를 통해 수득한 펠릿은 특히 산란 비드의 비율이 높게 제공되고, 산란 비드가 없는 성형 조성물과 함께 블렌딩하여 산란 비드의 함량이 가변적인 확산기 디스크의 제조를 간단하게 할 수 있다.
또한, 구형 플라스틱 입자의 용융물로의 혼합이 디스크 제품을 압축하는 압출 다이로 바로 후속되는 다운스트림 압력-증가 유닛(예를 들면, 용융 펌프)를 갖는 이축 압출기에서 기재된 바와 같이 수행되는 단일 단계 공정으로 수행할 수도 있다. 놀랍게도, 상기한 방법으로 특히 황변 지수가 낮은 확산기 디스크를 수득할 수 있다.
또한, 확산기 디스크는 사출 성형으로 제조할 수 있지만, 이러한 경우, 공정 파라미터 또는 사출 몰드를 선택하여 신규한 범위의 표면 조도를 제공하게 된다.
분산 입자와 매트릭스의 혼합은 바람직하게는 이축 압출기를 통해 일어나고, 사실상 디스크 압출은 또한 제한하려는 것은 아니지만 일축 압출기를 사용할 수 있 다.
본 발명의 확산기 디스크의 투과율은 30 내지 70%, 특히 40 내지 70%, 특히 바람직하게는 40 내지 65%의 범위이다.
확산기 디스크의 황변 지수는 제한하려는 것은 아니지만 바람직하게는 12 이하, 특히 10 이하이다.
본 발명의 확산기 디스크의 하나의 구체적인 양태는 15° 이상, 특히 25° 이상의 반감-강도 각을 갖는다.
본 발명의 확산기 디스크의 확산 계수는 0.3 이상, 특히 0.45 이상, 특히 바람직하게는 0.6 이상이다.
하나의 바람직한 양태에 따라서, 신규한 확산기 디스크의 표면은 반사된 광하에서 광택 없는 외관을 갖는다. DIN 67530에서 반사계를 사용하는 광택 측정은 특징을 나타내기 위해 사용할 수 있다. 85°의 각에서 디스크의 광택도는 바람직하게는 60 미만, 특히 바람직하게는 40 미만, 매우 특히 바람직하게는 30 미만이다.
본 발명의 확산기 디스크의 크기 및 형태는 제한되지 않는다. 그러나, 확산기 디스크의 형태는 일반적으로 LCD의 형태 때문에 직사각형 판의 형태이다.
하나의 구체적인 양태에 따라서, 확산기 디스크는 특히 DIN EN ISO 4892 파트 2, 실험 광원: 크세논 아크 원에 노출하는 방법에서 높은 내후성을 갖는다.
신규한 확산기 디스크는 일반적으로 내후성이 높다. 따라서, DIN 53387(Xenotest)에서 바람직한 확산기 디스크의 내후성은 5000시간 이상이다.
ISO 527-2에 대한 성형품의 탄성 모듈러스는 제한하려는 것은 아니지만 바람직하게는 1500MPa 이상, 특히 2000MPa 이상이다,
본 발명의 구체적인 하나의 양태에 따라서, 바람직한 확산기 디스크는 60℃ 이상, 특히 70℃ 이상의 장기간 이용 온도를 갖는다. 장시간 이용 온도는 특히 확산기 디스크로 제조되는 물질의 결과이다. 장시간 이용 온도는 수시간 후에도 확산기 디스크가 변형되지 않는 온도를 나타낸다.
동시에 이들 디스크는 바람직하게는 낮은 열 팽창 계수를 갖고, 이에 따라 20℃ 이상, 특히 40℃ 이상 가열시 종방향 팽창률은 0.55% 이하, 특히 0.3% 이하가 된다.
신규한 확산기 디스크는 다른 광학 애플리케이션, 예를 들면, 후면-투사 스크린에 사용할 수 있다.
실시예 및 비교 실시예는 본 발명을 보다 상세하게 기재하기 위해 하기되지만, 본 발명을 이들 실시예에 제한하려는 것은 아니다.
A) 시험 방법
평균 조도(RZ)는 DIN 4768로 Taylor Hobson Talysurf 50 시험 장치를 사용하여 측정한다.
투과율(τD65/2°)은 DIN 5036로 Perkin Elmer Lambda 19 시험 장치를 사용하여 측정한다.
황변 지수(τD65/10°)는 DIN 6167에서 Perkin Elmer Lambda 19 시험 장치를 사용하여 측정한다.
R85°광택도는 85°에서 DIN 67530에서 실험 반사계(제조원: Dr. Lange)로 측정한다.
확산 계수 및 반감-강도 각은 DIN 5036으로 GO-T-1500 LMT 각도계 시험 유닛을 사용하여 측정한다.
B) 플라스틱 입자의 제조
플라스틱 입자 B1)
구형 플라스틱 입자를 제조하기 위해, 황산알루미늄 및 소다 용액을 침전시켜 제조된 수산화알루미늄 수집(Pickering) 안정화제를 실제 중합을 시작하기 직전에 사용한다. 이를 위해, Al2(SO4)3 16g, 착화제(제품명: Trilon A) 0.032g 및 유화제(제품명: emulsifier K 30, 제조원: Bayer AG; C15 파라핀설포네이트의 나트륨 염) 0.16g을 먼저 0.8ℓ의 증류수에 용해시킨다. 이어서, 1N 탄산나트륨 용액을 교반하면서 약 40℃의 온도에서 물에 용해시킨 황산알루미늄에 가하고, 수득한 pH는 5 내지 5.5의 범위이다. 이 과정으로 물 중 안정화제의 콜로이드성 분산액을 수득한다.
안정화제를 침전시킨 후, 수성 상을 유리 비커로 옮긴다. 메틸 메타크릴레이트 110g, 벤질 메타크릴레이트 80g, 알릴 메타크릴레이트 10g, 디라우릴 퍼옥사 이드 4g 및 3급-부틸 2-에틸퍼헥사노에이트 0.4g을 비이커에 가한다. 이 혼합물을 분산기(제품명: UltraTurrax S50N-G45MF, 제조원: Janke and Kunkel, Staufen)에 의해 15분 동안 7000rpm에서 분산시킨다.
전단에 노출시킨 후, 반응 혼합물을 적합한 반응 온도인 80℃로 예열된 반응기에 채우고, 교반(600rpm)하에 약 80℃(중합 온도)에서 45분(중합 시간) 동안 중합시킨다. 후-반응 상을 약 85℃의 내부 온도에서 1시간 동안 계속한다. 45℃로 냉각한 후, 안정화제를 50% 농도의 황산을 가하여 수용성 황산알루미늄으로 전환시킨다. 비드를 시판되는 직물 필터를 통해 수득한 현탁액을 여과하고, 50℃에서 24시간 시간 동안 가열 캐비넷에서 건조하여 후처리한다.
크기 분포는 레이저 흡광에 의해 연구된다. 입자의 중앙 크기(V50)는 18.6㎛이다. 비드는 구형이고, 섬유는 관찰되지 않는다. 응집이 일어나지 않는다. 수득한 입자는 플라스틱 입자 B1로 하기에 언급된다.
플라스틱 입자 B2)
DE 3528165 C2에 따른 플라스틱 입자를 제조하고, 입자의 구성은 본질적으로 상기한 플라스틱 입자 B1)의 구성과 동일하다.
크기 분포는 레이저는 레이저 흡광에 의해 연구된다. 입자의 중앙 크기(V50)는 40.5㎛이다. 비드는 구형이고, 섬유는 관찰되지 않는다. 응집이 일어나지 않는다. 수득한 입자는 플라스틱 입자 B2로 하기에 언급된다.
C) 실시예 1 내지 6
다양한 확산기 디스크를 압출에 의해 제조한다. 이러한 목적을 위해, 플라스틱 입자 B1, 플라스틱 입자 B2, 중앙 크기(V50)가 약 8.4㎛인 스티렌계 플라스틱 입자(제품명: ®Techpolymer SBX-8, 제조원: Sekisui) 및 d50(Sed.) 중앙 크기 값이 약 5㎛인 BaSO4 입자(제품명: P63 barium sulphate VELVOLUX M, 제조원: Sachtleben) 및 PMMA 성형 조성물(제조원: Rohm GmbH & Co. KG)(메틸 메타크릴레이트 97중량% 및 메틸 아크릴레이트 3중량%의 공중합체)로 이루어지고, 산란 비드를 포함하는 다양한 혼합 물질을 먼저 압출하여 플라스틱 디스크를 수득한다. 당해 성형 조성물은 UV 안정화제(제품명: Tinuvin P, 제조원: Ciba)를 0.05중량% 포함한다. BREYERφ60mm 압출기를 사용한다. 다이에서 배출된 용융물의 온도는 일반적으로 270℃이다. 일반적으로 최대 표면 조도를 성취하도록 연마 스택을 설정한다.
표 1은 폴리메틸 메타크릴레이트 매트릭스의 입자의 비율 및 디스크의 두께를 나타낸다.
실시예 1 실시예 2 실시예 3
두께[mm] 0.5 0.5 2
PMMA 매트릭스 [중량부] 82 82 86
®BX8 [중량부] 6 6 4
BaSO4 [중량부] 0 0 0
플라스틱 입자 B1 [중량부] 0 12 0
플라스틱 입자 B2 [중량부] 12 0 10
실시예 4 실시예 5 실시예 6
두께[mm] 2 2 2
PMMA 매트릭스 [중량부] 78 87 79
®BX8 [중량부] 4 0 0
BaSO4 [중량부] 0 3 3
플라스틱 입자 B1 [중량부] 0 0 0
플라스틱 입자 B2 [중량부] 18 10 18
수득한 확산기 디스크를 상기한 시험 방법에 따라 시험하고, 수득한 시험 결과를 표 2에 기재한다.
실시예 1 실시예 2 실시예 3
투과율 [%] 73.14 71.34 52.3
황변 지수 G(τD65/10°) 4.86 5.3 6.46
확산 계수 σ 0.56 0.6 0.87
반감-강도 각 γ[°] 43 49 83.4
RZ [㎛] 25.4 7.6 20.2
광택도 R85° 4.6 8.6 5.7
CPA*dS/DPA 3 [중량%*mm/㎛3] 0.00505 0.00505 0.01347
CPB*dS/DPB 3 [중량%*mm/㎛3] 0.000090 0.00093 0.00030
RZ 2/DPB 3 0.00968 0.00416 0.00613
실시예 4 실시예 5 실시예 6
투과율 [%] 50.5 56.75 54.88
황변 지수 G(τD65/10°) 7.5 4.39 4.73
확산 계수 σ 0.89 0.76 0.8
반감-강도 각 γ[°] 84 77.0 78.4
RZ [㎛] 33.7 21.3 28.0
광택도 R85° 0.9 8.1 2.0
CPA*dS/DPA 3 [중량%*mm/㎛3] 0.01347 0.0480 0.0480
CPB*dS/DPB 3 [중량%*mm/㎛3] 0.000542 0.00030 0.000542
RZ 2/DPB 3 0.017102 0.00680 0.01184

Claims (26)

  1. 폴리메틸 메타크릴레이트 매트릭스,
    광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층의 중량을 기준으로 하여, 중앙 크기(V50)가 0.1 내지 40㎛의 범위이고 굴절률이 폴리메틸 메타크릴레이트 매트릭스의 굴절률과 0.02 내지 0.2 범위의 값 만큼 차이가 나는 구형 분산 입자(A) 0.5 내지 59.5중량% 및
    광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층의 중량을 기준으로 하여, 중앙 크기(V50)가 10 내지 150㎛의 범위이고 굴절률이 폴리메틸 메타크릴레이트 매트릭스의 굴절률과 0 내지 0.2 범위의 값 만큼 차이가 나는 구형 입자(B) 0.5 내지 59.5중량%를 포함하고,
    구형 분산 입자(A)와 구형 입자(B)의 전체 농도가, 광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층의 중량을 기준으로 하여, 1 내지 60중량%이며, 구형 분산 입자(A) 및 구형 입자(B)가 상이한 중앙 입자 크기(V50)를 갖고, 확산기 디스크의 투과율이 20 내지 70%의 범위이고, 이의 확산 계수가 0.3 초과이고,
    구형 입자(B) 크기의 세제곱에 대한 폴리메틸 메타크릴레이트 층의 평균 표면 조도(RZ)의 제곱의 비[RZ 2/DPB 3]가 0.0002 내지 0.1300㎛-1의 범위인 것을 특징으로 하는, 하나 이상의 광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층을 포함하는 LCD 애플리 케이션용 확산기 디스크.
  2. 제1항에 있어서, 구형 입자(B)의 크기의 세제곱에 대한 폴리메틸 메타크릴레이트 층의 평균 표면 조도(RZ)의 제곱의 비[RZ 2/DPB 3]가 0.0009 내지 0.0900㎛-1의 범위인 것을 특징으로 하는 확산기 디스크.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층의 두께(dS)에 대한 구형 입자(B)의 농도(cPB)의 비[cPB/dS]가 2.5중량%/mm 이상인 것을 특징으로 하는 확산기 디스크.
  4. 제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 있어서, 광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층의 광택도 R85°가 40 이하인 것을 특징으로 하는 확산기 디스크.
  5. 제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서, 비 cPA *dS/DPA 3이 0.0025 내지 0.3중량%*mm/㎛2의 범위인 것을 특징으로 하는 확산기 디스크.
  6. 제1항 내지 제5항 중의 어느 한 항에 있어서, 비 cPB *dS/DPB 3이 0.00005 내지 0.02중량%*mm/㎛2의 범위인 것을 특징으로 하는 확산기 디스크.
  7. 제1항 내지 제6항 중의 어느 한 항에 있어서, 광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층의 두께가 1 내지 10mm의 범위인 것을 특징으로 하는 확산기 디스크.
  8. 제1항 내지 제7항 중의 어느 한 항에 있어서, 구형 입자(B)가 가교결합된 폴리스티렌, 폴리실리콘 및/또는 가교결합된 폴리(메트)아크릴레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 확산기 디스크.
  9. 제1항 내지 제8항 중의 어느 한 항에 있어서, 분산 입자(A)가 BaSO4를 포함하는 것을 특징으로 하는 확산기 디스크.
  10. 제1항 내지 제9항 중의 어느 한 항에 있어서, 광-산란 폴리메틸 메타크릴레이트 층의 매트릭스의 굴절률이 나트륨 D 라인(589nm)으로 20℃에서 측정하여 1.46 내지 1.54의 범위인 것을 특징으로 하는 확산기 디스크.
  11. 제1항 내지 제10항 중의 어느 한 항에 있어서, 디스크의 평균 표면 조도(RZ)가 6 내지 30㎛의 범위인 것을 특징으로 하는 확산기 디스크.
  12. 제1항 내지 제11항 중의 어느 한 항에 있어서, 구형 입자(B)의 중앙 크기(V50)가 분산 입자(A)의 중앙 크기보다 적어도 5㎛ 만큼 큰 것을 특징으로 하는 확산기 디스크.
  13. 제1항 내지 제12항 중의 어느 한 항에 있어서, 구형 분산 입자(A)의 중앙 크기(V50)가 2 내지 15㎛의 범위인 것을 특징으로 하는 확산기 디스크.
  14. 제1항 내지 제13항 중의 어느 한 항에 있어서, 구형 입자(B)의 중앙 크기(V50)가 15 내지 70㎛의 범위인 것을 특징으로 하는 확산기 디스크.
  15. 제1항 내지 제14항 중의 어느 한 항에 있어서, 0.7N 이하의 힘을 사용하여 디스크 상에 생기는 스크래치가 가시적으로 탐지되지 않는 것을 특징으로 하는 확산기 디스크.
  16. 제1항 내지 제15항 중의 어느 한 항에 있어서, 디스크의 장시간 이용 온도가 60℃ 이상인 것을 특징으로 하는 확산기 디스크.
  17. 제1항 내지 제16항 중의 어느 한 항에 있어서, 디스크의 탄성 모듈러스가 2000MPa 이상인 것을 특징으로 하는 확산기 디스크.
  18. 제1항 내지 제17항 중의 어느 한 항에 있어서, 20℃ 이상의 가열로 인한 디스크의 종방향 팽창률이 5% 이하인 것을 특징으로 하는 확산기 디스크.
  19. 제1항 내지 제18항 중의 어느 한 항에 있어서, DIN 53 387에 대한 디스크의 내후성이 5000시간 이상인 것을 특징으로 하는 확산기 디스크.
  20. 제1항 내지 제19항 중의 어느 한 항에 있어서, 디스크의 투과율이 40 내지 65%의 범위인 것을 특징으로 하는 확산기 디스크.
  21. 제1항 내지 제20항 중의 어느 한 항에 있어서, 디스크의 황변 지수가 12 이하인 것을 특징으로 하는 확산기 디스크.
  22. 제1항 내지 제21항 중의 어느 한 항에 있어서, 디스크의 반감-강도 각(halved-intensity angle)이 15° 이상인 것을 특징으로 하는 확산기 디스크.
  23. 제1항 내지 제22항 중의 어느 한 항에 있어서, 디스크의 확산 계수가 0.45 이상인 것을 특징으로 하는 확산기 디스크.
  24. 폴리메틸 메타크릴레이트, 구형 분산 입자(A) 및 구형 입자(B)를 포함하는 성형 조성물이 압출되는 것을 특징으로 하는, 제1항 내지 제23항 중의 어느 한 항에 따른 확산기 디스크의 제조방법.
  25. 제1항 내지 제23항 중의 어느 한 항에 따른 확산기 디스크의 광학 애플리케이션에서의 용도.
  26. 제25항에 있어서, 후면-투사 스크린(rear-projection screen)으로서의 용도.
KR1020067002393A 2003-08-04 2004-05-12 Ｌｃｄ 애플리케이션용 확산기 디스크, 이의 제조방법 및용도 KR20060056365A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10336130.8 2003-08-04
DE2003136130 DE10336130A1 (de) 2003-08-04 2003-08-04 Streuscheibe für LCD-Anwendungen, Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20060056365A true KR20060056365A (ko) 2006-05-24

Family

ID=34089113

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020067002393A KR20060056365A (ko) 2003-08-04 2004-05-12 Ｌｃｄ 애플리케이션용 확산기 디스크, 이의 제조방법 및용도

Country Status (16)

Country Link
US (1) US7629041B2 (ko)
EP (1) EP1660935A1 (ko)
JP (1) JP2007501425A (ko)
KR (1) KR20060056365A (ko)
CN (1) CN100541283C (ko)
AU (1) AU2004269463B2 (ko)
BR (1) BRPI0413302A (ko)
CA (1) CA2534538A1 (ko)
DE (1) DE10336130A1 (ko)
HK (1) HK1094044A1 (ko)
MX (1) MXPA06001067A (ko)
NZ (1) NZ545549A (ko)
RU (1) RU2359298C2 (ko)
TW (1) TW200523645A (ko)
WO (1) WO2005022245A1 (ko)
ZA (1) ZA200601021B (ko)

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10336129A1 (de) 2003-08-04 2005-02-24 Röhm GmbH & Co. KG Kratzunempfindlicher Rückprojektionsschirm und Verfahren zu dessen Herstellung
DE102005021335A1 (de) * 2005-05-04 2006-11-09 Röhm Gmbh Verfahren zur Herstellung von Perlpolymerisaten mit einer mittleren Teilchengröße im Bereich von 1 µm bis 40 µm sowie Perlpolymerisat aufweisende Formmassen und Formkörper
DE102005050072A1 (de) * 2005-10-19 2007-04-26 Bayer Materialscience Ag Lichtstreuende Folien sowie deren Verwendung in Flachbildschirmen
CA2629843C (en) † 2005-11-15 2013-05-07 Arkema France White light diffusing thermoplastic composition
JP2008139736A (ja) * 2006-12-05 2008-06-19 Sumitomo Chemical Co Ltd 光拡散板
DE102007059632A1 (de) * 2007-12-10 2009-06-18 Evonik Röhm Gmbh Formkörper mit matter und strukturierter Oberflächenbeschaffenheit
RU2468286C2 (ru) * 2008-04-28 2012-11-27 Шарп Кабусики Кайся Осветительное устройство, устройство отображения и телевизионный приемник
US20110199286A1 (en) * 2010-02-13 2011-08-18 Robin Dziama Spherical Electronic LCD Display
EP2407346B1 (en) 2010-07-15 2016-06-01 SMR Patents S.à.r.l. Lighting element for homogenous appearance
TWI512066B (zh) * 2012-01-16 2015-12-11 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd 光散射層用樹脂組成物、光散射層、及有機電致發光裝置
JP5263460B1 (ja) * 2012-06-12 2013-08-14 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 光散乱層用樹脂組成物、光散乱層、および有機エレクトロルミネッセンス装置
CN104704400B (zh) 2012-10-01 2018-01-09 阿科玛法国公司 光学光漫射器及用于其测量的方法
FR2999977B1 (fr) * 2012-12-21 2018-03-16 Saint Gobain Vitrage comprenant un systeme a diffusion lumineuse variable utilise comme ecran
CN105073804B (zh) * 2013-03-25 2018-01-19 赢创罗姆有限公司 具有抗冲击性并具有改进的光学性质的pmma
JP6435870B2 (ja) * 2015-01-19 2018-12-12 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 光散乱層用樹脂組成物、光散乱層、および有機エレクトロルミネッセンス装置
WO2016137919A1 (en) 2015-02-24 2016-09-01 Arkema France High efficiency diffusion lighting coverings
US11719411B2 (en) 2015-02-24 2023-08-08 Trinseo Europe Gmbh High efficiency diffusion lighting coverings
HUE050397T2 (hu) 2018-02-05 2020-12-28 Roehm America Llc Javított szórási hatékonyságú és javított mechanikai tulajdonságú fénytszóró polimer készítmény
CN114644821A (zh) * 2020-12-21 2022-06-21 金发科技股份有限公司 一种聚碳酸酯材料及其制备方法与应用
CN118786173A (zh) 2022-04-15 2024-10-15 Sabic环球技术有限责任公司 光漫射热塑性组合物

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6377940A (ja) 1986-09-19 1988-04-08 Toshiba Silicone Co Ltd 真球状ポリメチルシルセスキオキサン粉末およびその製造方法
CA1337104C (en) 1986-11-18 1995-09-26 William James Work Light-scattering thermoplastic polymers
US5237004A (en) * 1986-11-18 1993-08-17 Rohm And Haas Company Thermoplastic and thermoset polymer compositions
US5004785A (en) * 1987-11-30 1991-04-02 Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Light-diffusing methacrylic resin and process for production thereof
DE3878556T2 (de) 1988-05-18 1993-08-05 Rohm & Haas Thermoplastische und waermehaertbare zusammensetzungen.
JP2981268B2 (ja) * 1990-09-27 1999-11-22 株式会社クラレ レンチキュラーレンズシート
JPH0551480A (ja) 1991-08-26 1993-03-02 Matsushita Electric Works Ltd 高透過高拡散プラスチツク
US5307205A (en) * 1992-03-20 1994-04-26 Rohm And Haas Company Bilayer rear projection screens
DE4327464A1 (de) 1993-08-16 1995-02-23 Roehm Gmbh Verfahren zur Herstellung monodisperser Poly(meth)acrylat-Teilchen
JP3575098B2 (ja) 1995-01-30 2004-10-06 住友化学工業株式会社 成形品の製造方法
US6346311B1 (en) * 1997-09-10 2002-02-12 Nashua Corporation Projection screen material and methods of manufacture
EP1152286A4 (en) * 1998-12-18 2002-05-15 Mitsubishi Rayon Co REVIEW SCREEN
IT1307920B1 (it) * 1999-01-22 2001-11-29 Atochem Elf Sa Compositi diffondenti la luce.
JP4190649B2 (ja) 1999-04-16 2008-12-03 旭化成ケミカルズ株式会社 耐衝撃性光拡散樹脂板
JP4134440B2 (ja) * 1999-04-30 2008-08-20 カシオ計算機株式会社 電子計算装置及びプログラムを記憶した記憶媒体
WO2001022129A1 (en) * 1999-09-20 2001-03-29 3M Innovative Properties Company Optical films having at least one particle-containing layer
JP2001192452A (ja) 2000-01-13 2001-07-17 Ge Toshiba Silicones Co Ltd 球状シリコーン微粒子およびその製造方法
JP4652527B2 (ja) * 2000-05-16 2011-03-16 株式会社きもと 光拡散性シート
US6665118B2 (en) * 2000-08-30 2003-12-16 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Rear-projection screen and rear-projection image display
DE60118960T2 (de) * 2000-12-15 2007-01-04 E.I. Dupont De Nemours And Co., Wilmington Donorelement zur einstellung des brennpunktes eines bilderzeugungslasers
DE10065492A1 (de) * 2000-12-28 2003-06-26 Roehm Gmbh Diffus ausgestattete Formmassen und hieraus erhältliche Formkörper
DE10156068A1 (de) * 2001-11-16 2003-05-28 Roehm Gmbh Lichtleitkörper sowie Verfahren zu dessen Herstellung
DE10222250A1 (de) * 2002-05-16 2003-11-27 Roehm Gmbh Verbesserte Lichtleitkörper sowie Verfahren zu dessen Herstellung
DE10251778A1 (de) * 2002-11-05 2004-05-19 Röhm GmbH & Co. KG Rückprojektionsschirm sowie Verfahren zu dessen Herstellung

Also Published As

Publication number Publication date
TW200523645A (en) 2005-07-16
US20060240200A1 (en) 2006-10-26
ZA200601021B (en) 2007-11-28
EP1660935A1 (de) 2006-05-31
MXPA06001067A (es) 2006-04-11
RU2006106618A (ru) 2006-08-27
DE10336130A1 (de) 2005-02-24
CN1829936A (zh) 2006-09-06
US7629041B2 (en) 2009-12-08
RU2359298C2 (ru) 2009-06-20
AU2004269463A1 (en) 2005-03-10
JP2007501425A (ja) 2007-01-25
WO2005022245A1 (de) 2005-03-10
CN100541283C (zh) 2009-09-16
NZ545549A (en) 2010-01-29
BRPI0413302A (pt) 2006-10-10
CA2534538A1 (en) 2005-03-10
HK1094044A1 (en) 2007-03-16
AU2004269463B2 (en) 2010-05-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20060056365A (ko) Ｌｃｄ 애플리케이션용 확산기 디스크, 이의 제조방법 및용도
JP4621656B2 (ja) 優れた光学的特性を有する光を散乱する成形部品の製造方法
KR100985002B1 (ko) 후면 투사식 스크린 및 이의 제조방법
RU2343521C9 (ru) Нечувствительный к царапанью светопропускающий экран и способ его изготовления
KR100858646B1 (ko) 도광체 및 이의 제조방법
US20050084993A1 (en) Light-guiding bodies and method for the production thereof
JP4809223B2 (ja) 安定した背面投射型スクリーン及びその製法
JP2007500271A (ja) 電飾広告のための成形体およびその製造方法
JP2000169721A (ja) 光拡散性に優れた熱可塑性樹脂組成物及びその成形体
TWI273337B (en) Rear-projection screen for 3D projection and process for its production
JP2004230869A (ja) 光拡散性艶消アクリル樹脂板の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application