KR20060052799A

KR20060052799A - 시토크롬 ｐ４５０ 억제제로서 나프틸렌 유도체

Info

Publication number: KR20060052799A
Application number: KR1020067000669A
Authority: KR
Inventors: 바네사 스미스; 안소니 니그로; 마크 멀비힐; 카라 케사리오; 패트리시아 앤 벡; 아르린도 루카스 카스텔라노
Original assignee: 오에스아이 파마슈티컬스, 인코포레이티드
Priority date: 2003-07-10
Filing date: 2004-07-12
Publication date: 2006-05-19
Also published as: CN1819996B; RU2363696C2; WO2005007631A1; EP1654236A1; UA87822C2; JP4832295B2; SG144941A1; MXPA06000401A; AU2004257257B2; IL172812A0; CA2532078A1; CN1819996A; BRPI0412424A; RU2006103996A; NO20060114L; JP2007523866A; AU2004257257A1; IS8223A

Abstract

하기 화학식 I의 화합물; 및 그의 약학적으로 허용 가능한 염은 시토크롬 P450RAI 효소를 억제하며 레티노이드 및 천연 레티노산에 의한 치료에 반응하는 다양한 질병 및 증상의 치료 및/또는 예방에 유용하다:

화학식 I

상기 식에서,

n1, n2, n3, n4, G¹, Q¹, Z, R¹, R², R³, R^4a, R^4b, R^5a 및 R^5b는 본 원에 정의된 바와 같다.

시토크롬 P450RAI 효소, 레티노이드,천연 레티노산

Description

시토크롬 Ｐ４５０ 억제제로서 나프틸렌 유도체{NAPHTHYLENE DERIVATIVES AS CYTOCHROME P450 INHIBITORS}

본 발명은 신규의 헤테로아릴-나프탈레닐-알킬아민, 그의 염, 그의 제조 방법, 및 상기 화합물을 포함하는 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 신규 화합물은 인간을 비롯한 동물에서 레티노이드 및 천연 레티노산에 반응하는 각종 질병 및 증상들의 치료 및/또는 예방을 위한 시토크롬 P450RAI 효소(Cyp26)의 억제에 유용하다.

레티노산, 레티노이드 유사 화합물, 및 유효 성분으로서 레티노산 또는 레티노이드 유사 화합물을 포함하는 약학 조성물은 상피 세포의 조절 및 분화에 중요한 역할을 하는 것으로 당해 분야에 공지되어 있다. 세포 분화, 세포사멸 및 세포 증식의 억제를 촉진하는 능력을 포함한 상기와 같은 조절 및 분화 효과는 레티노산 및 레니토이드 화합물을 종양 요법 및 피부 관련 질병과 같은 증상의 치료에 유용한 작용제로 만든다. 레티노이드 및 레티노이드 화합물은 피부 관련 질병, 예를 들어 광선 각화증, 비소각화증, 염증성 및 비염증성 여드름, 건선, 비늘증, 각질화 및 피부의 과증식성 질환, 습진, 아토피성 피부염, 다리에 질병, 편평태선의 치료; 피부에 대한 글루코코르티코이드, 연령 및 광 손상의 예방, 치료 및 역전을 위한 작용제로서 공지되어 있다. 레티노이드 및 레티노이드 화합물은 또한 국소 항균제 및 피부 색소침착 방지제로서 공지되어 있다. 레티노이드는 분화제로서 작용하는 그의 능력과 함께 세포를 그의 정상 표현형으로 방향 전환시키고 따라서 악성 병변의 발생을 역전 또는 억제하거나 암 침범을 전적으로 예방할 수 있다. 따라서, 레티노이드 화합물은 암성 및 전암성 상태, 예를 들어 전암성 및 악성 과증식 질병, 예를 들어 유방, 피부, 전립선, 결장, 방광, 경부, 자궁, 위, 폐, 식도, 혈액 및 림프계, 후두, 구강, 화생, 형성이상, 신생, 점막의 백색판증 및 유두종의 예방 및 치료, 및 카포시 육종의 치료에 유용하다. 또한, 레티노이드 화합물은 눈의 질병, 예를 들어 증식성 유리체망막병증, 망막박리, 각막병증, 예를 들어 안구 건조의 치료뿐만 아니라 각종 심혈관 질병, 예를 들어 비 제한적으로 지질 대사와 관련된 질병, 예를 들어 이상고지혈증의 치료 및 예방, 혈관성형술 후 재협착증의 예방을 위한 작용제로서 및 순환조직 플라스미노겐 활성제 수준을 증가시키는 작용제로서 사용될 수 있다. 레티노이드 화합물의 다른 용도로는 인간 유두종 바이러스(HPV) 관련 질병 및 증상, 예를 들어 사마귀, 각종 염증성 질병, 예를 들어 폐 섬유증, 회장염, 결장염 및 크론병, 신경퇴행성 질병, 예를 들어 알쯔하이머 병, 파킨슨 병 및 발작, 부적당한 뇌하수체 기능, 예를 들어 성장 호르몬의 불충분한 생산, 세포사멸의 조절, 예를 들어 세포사멸의 유도, 모발 성장의 회복, 예를 들어 본 발명의 화합물과 다른 작용제, 예를 들어 미녹시딜(등록상표)과의 복합 요법, 면역계 관련 질병, 예를 들어 면역억제제 및 면역 자극제로서 본 발명 화합물의 용도, 기관 이식조직 거부의 조절 및 상처 치유의 촉진, 예를 들어 켈로시스의 조절 이 있다. 레티노이드 화합물은 또한 II 형 비 인슐린 의존성 당뇨병(NIDDM)의 치료에 유용한 것으로 밝혀졌다.

레티노이드 유사 화합물을 갖는 다수의 화합물들이 미국 및 그 밖의 적합한 규제 승인 하에서 레티노이드 치료에 반응이 있는 여러 질병들의 치료를 위한 약제로서 시판되고 있다. 레티노산(RA) 자체는 천연 레티노이드이며, 비타민 A의 생물학적으로 가장 활성인 대사산물로, 다수의 인간 및 포유동물 조직에서 생합성되어 존재하며, 유전자 발현, 세포 분화, 상피 세포의 증식, 및 인간을 비롯한 포유동물의 다른 중요한 생물 과정들의 조절에 중대한 역할을 하는 것으로 공지되어 있다.

레티노이드는 생체 내 및 생체 외에서 암 성장을 역전시킴이 입증되었으며 화학예방제로서 유효하다. 레티노이드는 잠재적인 전암성 점막 병변인 입안 백색판증의 치료에 성공적으로 사용될 수 있었으며 두경부 편평세포 암종(HNSCC)에 이은 2 차 원발성 종양의 발생을 억제하거나 지연시킬 수 있었다. 이러한 2 차 원발성 종양은 1 년에 2 내지 3%의 발병률로 발생하며, 초기 두경부암의 외과적 절제 후 사망의 주요 원인이다. 레티노이드 요법은 또한 신경아교종 종양, 원발성 및 전이성 흑색종 세포의 치료에 탐구되었으며, 래트의 침습성 전립선 선암종 세포에서 전이 억제 활성을 나타내었다. 레티노이드 백혈병 요법은 백혈병 세포의 말단 분화 및 최종적으로 세포사멸을 통해 작용하며 급성 전골수구 백혈병(APL) 환자의 90%에 달하여 완전한 진정을 나타내는 것으로 입증되었다.

레티노이드 치료가 APL에서 완전한 진정을 유도하는데 매우 성공적이지만, 레티노이드만으로 유지되는 경우 대부분의 환자는 수 개월 내에 병이 재발할 것이다. 암의 치료에서 레티노산의 임상적 용도는 내성의 재빠른 출현에 의해 크게 제한되어 왔으며, 상기 내성은 증가된 레티노산 대사에 의해 야기되는 것으로 여겨진다. 레티노산은, RA의 4-HO-atRA, 8-HO-atRA 및 4-옥소-atRA로의 산화에 의해 상기 RA를 불활성화하는 유도성 시토크롬 P450 효소인 Cyp26A1(Cyp26)에 의해 대사된다. 엄격하게 조절되는 음의 피드백 기전은 RA의 유용성을 제한하며 이에 의해 그의 생물 활성을 제한한다. Cyp26 및 따라서 RA 대사를 억제하는 화합물들이 동정되었으며 이들은 RA의 증식 억제 효과를 향상시키고 혈장 및 조직 중의 RA의 내생 수준을 증가시키는 것으로 나타났다.

레티노산 대사-차단제(RAMBA)로서도 공지된 Cyp26 억제제는 공지되어 있으며 예를 들어 리아로졸(Liazal^TM) 및 R1 116010을 포함한다. 상기와 같은 Cyp26 억제제는 생체 외, 생체 내 및 임상 환경 하에서 피부병 및 암성 상태에 대해 치료 이점을 나타내었다. 여러 임상전 종양 모델에서, 리아로졸은 감소된 내생적인 레티노산 대사, 및 따라서 종양 세포 내에서 RA 축적의 증가와 상관이 있는 종양 억제 성질을 나타내었다. 암 환자에서, 리아로졸은 경구 투여된 RA와 13-시스-RA의 반감기를 증가시키는 것으로 나타났다. 불행하게도, 문헌에 개시된 리아로졸 및 다수의 Cyp26 억제제의 제한들 중 하나는 그의 특이성의 결여이었다. 리아로졸뿐만 아니라 다른 Cyp26 억제제는 다른 시토크롬 P450-매개된 반응을 억제하며 다른 시토크롬 P450 효소에 대한 특이성의 결여로 인해 제한된다. 이러한 특이성의 결여 는 리아로졸 III 기 임상 시험에서 전립선 암환자에서 관찰된 제한된 위험성과 이익과의 비율(활성/독성 비율은 FDA에 의해 불충분한 것으로 간주되었다)을 설명할 수 있을 지도 모른다. 따라서, 다른 시토크롬 P450 효소에 대해 더욱 큰 선택성을 가지며, 부작용이 더 적고, 충분한 수용해도, 생체 이용률, 충분한 약동학 성질, 추출비율, 및 활성/독성 비율의 균형을 위한 제한된 독성을 포함한 유리한 약물 유사 성질을 갖고 다양한 피부병 및 암성 상태의 치료에 사용하기 위한 매우 효능 있고 선택적인 Cyp26 억제제(RAMBA)가 레티노이드 요법 내에서 명백히 필요하다.

본 발명은 레티노이드에 의한 치료에 반응하거나 천연 레티노산에 의해 억제되는 질병 및 증상의 치료 또는 예방에 치료 이점을 제공하는 매우 효능 있고 선택성인 신규의 헤테로아릴-나프탈레닐-알킬아민 Cyp26 억제제를 나타낸다. 상기 화합물의 인지된 작용 방식은 당해 분야에 입증된 Cyp26 효소(CP450RAI[시토크롬 P450 레티노산 유도성])를 억제하여 천연 레티노산을 이화함으로써 내생적인 레티노산 수준을 목적하는 치료 이점이 획득되는 수준으로 상승시키는 것이다. Cyp26에 의해 대사되는 모든 천연 및 합성 레티노이드의 내생 수준은 본 발명에 개시된 신규의 헤테로아릴-나프탈레닐-알킬아민 Cyp26 억제제에 의한 Cyp26의 억제로부터 증가할 것으로 예상될 수 있다. 천연 또는 합성 레티노이드의 조성물과 본 발명에 개시된 상기 화합물 또는 그의 약학적으로 허용 가능한 염의 동시 투여는 레티노이드의 수준을 증가시킬 수 있다. Cyp26에 의해 이화되는 천연 및 합성 레티노이드와 본 발명에 개시된 하나 이상의 화합물의 동시 투여는 상기 레티노이드의 보 다 높은 내생 수준을 산출하여 피부 관련 또는 암성 질병을 치료하는 방법이다. 본 발명의 화합물은 나노몰 농도에서 활성이며 레티노산 이화에 관련된 효소들을 선택적으로 효능 있게 억제하며 따라서 바람직한 atRA 수준이 유효하게 조절된다.

하기의 공보들은 Cyp26 억제제의 역할 및 레티노산의 이화작용을 늦추어 내생적인 레티노산 수준을 증가시키는 능력, 및 피부병 및 암의 치료에 대한 그의 잠재력을 개시하거나 이에 관한 것들이다:

Altucci, L. et.al. "백혈병 세포에서 레티노산 유도된 세포사멸이 종양 선택적인 사망 리간드 트레일의 파라크린 작용에 의해 매개된다" Nature Med. 2001, 7, 680-686;

Altucci, L.; Gronemeyer, H. "암과의 경쟁에 대한 레티노이드의 전망", Nature Reviews (Cancer), 2001, 1, 181-193;

Winum, J. Y.; et. al. "백혈병 HL-60 세포에서 세포사멸을 유도하는 신규의 타그레틴(등록상표) 동족체의 합성", Bioorganic & Medicinal Chemistry Letters, 2002, 12, 3529-3532.

Kuijpers, et. al. "중증 플라크 건선의 상피 증식 및 분화에 대한 경구 리아로졸의l 효과는 아시트레틴의 효과에 필적할만하다", British Journal of Dermatology, 1998. 139, 380-389;

Van Wauwe, et. al. "생체 내에서 레티노산 대사의 억제제인 리아로졸은 레티노이드 유사 효과를 발휘한다", The Journal of Pharmacology and Experimental Therapeutics, 1992, 261, 773-779.

Haque, M.; Andreola, F.; DeLuca, L. M. "레티노산에 대한 특이성을 갖는, 신규의 시토크롬 P450 계열인 Cyp26의 클로닝 및 특성화", Nutri Rev. 1999, 56, 84-85.

Wouters, W. et. al. "MCF-7 유방암 세포에서 세포 성장 및 레티노산 대사에 대한 신규의 종양 억제 화합물 리아로졸의 효과 및 레티노산 유도된 억제", Cancer Res, 1992, 52, 2841-2846;

Freyne, E. et. al. "종양학 및 피부병학에서 잠재적인 임상 용도를 갖는 레티노산 대사 차단제(RAMBA) 리아잘^TM의 합성", Bioorganic & Medicinal Chemistry Letters, 1998, 8, 267-272;

Miller, W. H. "암의 치료에서 대두되는 레티노이드 및 레티노산 대사 차단제의 역할", Cancer, 1998, 83, 1471-1482;

Van Heusden J. et. al. "R116010에 의한 모든-트랜스-레티노산 대사의 억제가 종양 억제 활성을 유도한다", Br . J. Cancer, 2002, 86(4), 605-611;

Debruyne, F. J. M. et. al. "리아로졸-진행된 전립선 암에 대한 새로운 치료 접근: 시프로테론에 대한 대규모의 랜덤화된 시험의 결과", Urology, 1998, 52, 72-81;

De Coster, R. et. al. "리아로졸(R75215)을 사용한 실험 연구: 레티노산 파괴를 억제하는 종양 억제제", J. Steroid Biochem . Molec . Biol . 1992, 43, 197-201;

Njar, V. C. O.; Brodie, A. M. H. "시토크롬 P450 효소의 억제제: 전립선암 요법에서 그의 역할", I Drugs, 1999, 1, 495-506;

Miller, V. A.; Rigas, J. R.; Muindi, J. F. R.; Tong, W. P.; Venkatraman, E.; Kris, M. G.; Warrell Jr. R. P. "리아로졸에 의한 모든 트랜스 레티노산 약동학의 조절", Cancer Chemother . Pharmacol . 1994, 34, 522-526;

Muindi, J.; Frankel, S. R.; Miller Jr. W. H.; Jakubowski, A.; Scheinberg, D. A.; Young, C. W.; Dmitrovski, E.; Warrell, Jr. R. P. "모든 트랜스 레티노산에 의한 연속적인 처리는 혈장 약물 농도의 점진적인 감소를 일으킨다: 급성 전골수구 백혈병 환자에서 재발 및 레티노이드 '내성'을 내포함", Blood . 1992, 79, 299-303;

Muindi, J F.; Scher, H. I.; Rigas, J. R.; Warrell Jr. R. P.; Young, C. W. "상승된 혈장 과산화 지질 함량은 진행된 암환자에서 모든 트랜스 레티노산의 신속한 혈장 제거와 상관이 있다", Cancer Res . 1994, 54, 2125-2128.

미국 특허 제 6,303,785B1 호에는 시토크롬 P450RAI의 억제제가 개시되어 있다. 국제 특허 공보 WO 99/29674에는 레티노산 대사의 억제제가 개시되어 있다. 국제 특허 공보 WO 01/30762A1에는 스테로이드 C17-20 리아제의 억제제로서 사용되는 이미다졸-4-일메탄올이 개시되어 있다.

미국 특허 제 6,291,677 호 및 6,124,330 호, 및 국제 특허 공보 WO 02/03912 A2에는 P450RAI의 억제제가 개시되어 있다. 국제 출원 PCT/US00/11833에는 PPAR 작용물질 또는 길항물질이 개시되어 있다. 국제 특허 공보 WO 02/06281에는 선택적인 β3 아드레날린 수용체 작용물질이 개시되어 있다. 국제 특허 공보 WO 01/068647에는 항바이러스제가 개시되어 있다. 국제 특허 공보 WO 01/062234에는 파르네실 단백질 트랜스퍼라제 억제제가 개시되어 있다. 국제 특허 공보 WO 01/055155에는 항균 활성을 갖는 화합물이 개시되어 있다. 국제 특허 공보 WO 01/044170에는 아다만틴 유도체가 개시되어 있다. 국제 특허 공보 WO 01/000615에는 벤즈이미다졸이 개시되어 있다. 국제 특허 공보 WO 00/069843에는 염증 치료용 화합물이 개시되어 있다. 국제 특허 공보 WO 00/043384에는 소염제로서 방향족 헤테로사이클릭 우레아가 개시되어 있다. 일본 특허 공보 JP 01/43635에는 벤즈이미다졸 조성물 및 유도체가 개시되어 있다. 국제 특허 공보 WO 99/40092에는 GABAa 작용물질, 길항물질 또는 역 작용물질이 개시되어 있다. 국제 특허 공보 WO 99/376609에는 거대세포바이러스에 대해 사용되는 바이러스살멸제가 개시되어 있다. 독일 특허 공보 DE 75/6388에는 치환된 2-아릴-4-아미노-퀴나졸린이 개시되어 있다. 국제 특허 공보 WO 98/54168에는 2-옥소이미다졸 유도체가 개시되어 있다. 국제 특허 공보 WO 98/23593에는 아포지방단백질 B 및/또는 미립체 트리글리세라이드 전달 단백질의 억제제가 개시되어 있다. 미국 특허 제 5,852,213 호에는 MMP 효소의 기질 메탈로프로테이나제 억제제가 개시되어 있다. 미국 특허 제 5,834,483 호 및 국제 특허 공보 WO 97/37665에는 엔도텔린 길항물질이 개시되어 있다. 국제 특허 공보 WO 97/24117에는 치환된 하이드록삼산 화합물이 개시되어 있다. 국제 특허 공보 WO 95/29689에는 N-카복시알킬 유도체가 개시되어 있다. 미국 특허 제 5,461,162 호에는 N-아실 보조 화합물이 개시되어 있 다. 유럽 특허 공보 제 611,776 호에는 바이러스 억제 활성을 갖는 슈도펩티드가 개시되어 있다. 유럽 특허 공보 제 569,220 호에는 유기 설폰아미드가 개시되어 있다. 유럽 특허 공보 제 545,376 호에는 구아니디노티아졸이 개시되어 있다. 독일 특허 DE 4,201,435에는 트리플루오로메틸 케톤이 개시되어 있다. 독일 특허 DE 4,138,820에는 제초제로서 사용되는 화합물이 개시되어 있다. 국제 특허 공보 WO 91/19717에는 포스포디에스테라제 억제제가 개시되어 있다. 유럽 특허 공보 EP 437,729에는 펩티드 레트로바이러스 프로테아제 억제제가 개시되어 있다. 유럽 특허 공보 EP 412,350에는 레닌 억제제로서 펩티드가 개시되어 있다. 국제 특허 공보 WO 89/10919에는 카보스티릴 유도체가 개시되어 있다. 국제 특허 공보 WO 00/064888에는 디아릴 카복실산 및 유도체가 개시되어 있다. WO 99/47497에는 나프틸 및 인돌릴 아실설폰아미드가 개시되어 있다. 독일 특허 DE 4304650에는 벤즈이미다졸, 잔틴 및 동족체가 개시되어 있다. 국제 특허 출원 PCT/CA99/00212에는 프로스타글란딘 매개된 질병의 치료 또는 예방에 사용되는 화합물이 개시되어 있다.

발명의 요약

본 발명은 하기 화학식 I의 화합물 및 그의 약학적으로 허용되는 염에 관한 것이다:

상기 화학식 I의 화합물은 시토크롬 P450RAI 효소를 억제하며 레티노이드 및 천연 레티노산 치료에 반응하는 각종 질병 및 증상의 치료 및/또는 예방에 유용하다.

본 발명은 하기 화학식 I의 화합물 또는 그의 약학적으로 허용 가능한 염에 관한 것이다:

화학식 I

상기 식에서,

X 는 피롤릴, 피라졸릴, 이미다졸릴, 트리아졸릴, 테트라졸릴, 티아졸 및 피리디닐 중에서 선택된 불포화된 헤테로사이클이고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁶ 치환체로 임의로 치환되며;

R¹ 은 C₀ _- ₆알킬, -OR⁷, -SR⁷, 또는 -NR⁷R⁸이고;

R² 및 R³ 은 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, C_1-10알콕시C_1-10알킬, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₁ _- ₁₀알킬, C₁ _- ₁₀알킬티오C_2-10알케닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐, 사이클로C_3-8알킬C_1-10알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알케닐, 사이클로C_3-8알케닐C_2-10알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알키닐, 헤테로사이클릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤테로사이클릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 헤테로사이클릴-C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알킬카보닐, C₂ _- ₁₀알케닐카보닐, C₂ _- ₁₀알키닐카보닐, C₁ _- ₁₀알콕시카보닐, C₁ _- ₁₀알콕시카보닐C_1-10알킬, 모노C₁ _- ₆알킬아미노카보닐, 디C₁ _- ₆알킬아미노카보닐, 모노(아릴)아미노카보닐, 디(아릴)아미노카보닐, 또는 C₁ _- ₁₀알킬(아릴)아미노카보닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷¹R⁸¹ 또는 -NR⁷¹R⁸¹ 치환체로 임의로 치환된다); 또는 아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 아릴-C₂ _- ₁₀알케닐 또는 아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷¹, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷¹R⁸¹, -SO₂NR⁷¹R⁸¹ 또는 -NR⁷¹R⁸¹ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 헤트아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤트아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤트아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷¹, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷¹R⁸¹, -SO₂NR⁷¹R⁸¹ 또는 -NR⁷¹R⁸¹ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는

R² 및 R³ 은 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 여기에서 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 C₁ _- ₆알킬, 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷¹, -SO₂NR⁷¹R⁸¹ 또는 -NR⁷¹R⁸¹ 치환체에 의해 임의로 치환되며;

G¹ 은 -OR⁷², -SR⁷², -NR⁷²R⁸²(R⁹)_n5 이거나, 또는 G¹ 및 R³ 이 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁷에 의해 임의로 치환되며, 상기 헤테로사이클릭 포화된 고리 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리의 N 헤테로 원자는 R⁷² 치환체에 의해 임의로 치환되거나; 또는 -NR⁷²R⁸²(R⁹)_n5의 경우에 R⁷² 및 R⁸² 는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷³R⁸³ 또는 -NR⁷³R⁸³ 치환체에 의해 임의로 치환되고;

Y 는 산소 원자, 황 원자, -(C=O)N(R⁷⁴)-, >CR^4cR^5c 또는 >NR⁷⁴ 이고;

Z 는 -아릴-, -아릴알킬-, -아릴옥시-, -옥시아릴-, -아릴알케닐-, -알케닐아릴-, -헤트아릴-, -헤트아릴알킬-, -알킬헤트아릴-, -헤트아릴알케닐-, -알케닐헤트아릴- 또는 -아릴-이고, 이들 중 어느 것이든 R⁶⁸에 의해 임의로 치환되고;

Q¹ 은 C₀ _- ₆알킬, -OR⁷⁵, -NR⁷⁵R⁸⁵(R⁹⁵)_n6, -CO₂R⁷⁵, -CONR⁷⁵R⁸⁵, -(C=S)OR⁷⁵, -(C=O)SR⁷⁵, -NO₂, -CN, 할로, -S(O)_n6R⁷⁵, -SO₂NR⁷⁵R⁸⁵, -NR⁷⁵(C=NR⁷⁷⁵)NR⁷⁷⁷⁵R⁸⁵, -NR⁷⁵(C=NR⁷⁷⁵)OR⁷⁷⁷⁵, -NR⁷⁵(C=NR⁷⁷⁵)SR⁷⁷⁷⁵, -O(C=O)OR⁷⁵, -O(C=O)NR⁷⁵R⁸⁵, -O(C=O)SR⁷⁵, -S(C=O)OR⁷⁵, -S(C=O)NR⁷⁵R⁸⁵, -S(C=O)SR⁷⁵, -NR⁷⁵(C=O)NR⁷⁷⁵R⁸⁵, 또는 -NR⁷⁵(C=S)NR⁷⁷⁵R⁸⁵이고; -NR⁷⁵R⁸⁵(R⁹⁵)_n6 의 경우에 R⁷⁵ 및 R⁸⁵ 는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷⁶R⁸⁶ 또는 -NR⁷⁶R⁸⁶ 치환체에 의해 임의로 치환되고;

R^4a, R^4b, R^4c, R^5a, R^5b 및 R^5c 는 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₁ _- ₁₀알킬, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C_1-10알킬, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬, 사이클로C_3-8알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C_3-8알킬C_2-10알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알키닐, 사이 클로C_3-8알케닐C_2-10알키닐, 헤테로사이클릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤테로사이클릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤테로사이클릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 아릴-C₂ _- ₁₀알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷R⁸⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 헤트아릴-C_0-10알킬, 헤트아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤트아릴-C₂ _- ₁₀알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷R⁸⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 모노(C₁ _-6알킬)아미노C_1-6알킬, 디(C_1-6알킬)아미노C₁ _- ₆알킬, 모노(아릴)아미노C₁ _- ₆알킬, 디(아릴)아미노C_1-6알킬, 또는 N(C₁ _- ₆알킬)-C₁ _- ₆알킬-아릴(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, C₁ _- ₁₀알킬, C_2-10알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷R⁸⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4a 와 R^5a _, 또는 R^4b 와 R^5b, 또는 R^4c 와 R^5c 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화 또는 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b 와 R^5b, 또는 R^4c 와 R^5c 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화 또는 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되고;

R^6a, R^6b, R⁶⁶, R⁶⁷, R⁶⁸, 및 R⁶⁹ 는 각각 독립적으로 할로, -OR⁷⁸, -SH, -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7, -CO₂R⁷⁸, -CONR⁷⁸R⁸⁸, -NO₂, -CN, -S(O)_n7R⁷⁸, -SO₂NR⁷⁸R⁸⁸, C₀ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₁ _- ₁₀알킬, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알케닐, C_1-10알콕시C_2-10알키닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₁ _- ₁₀알킬, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C_3-8알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C_3-8알케닐C_1-10알킬, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알케닐, 사이클로C_3-8알킬C_2-10알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알키닐, 헤테로사이클릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤테로사이클릴-C_2-10알케닐, 또는 헤테로사이클릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷⁸, -SO₂NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 또는 -NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 아릴-C₂ _- ₁₀알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷⁸, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _-10알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C_1-4알콕시카보닐, -CONR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸, -SO₂NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 또는 -NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 헤트아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤트아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤트아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷⁸, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸, -SO₂NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 또는 -NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 모노(C_1-6알킬)아미노C₁ _- ₆알킬, 디(C_1-6알킬)아미노C₁ _- ₆알킬, 모노(아릴)아미노C_1-6알킬, 디(아릴)아미노C₁ _- ₆알킬, N(C₁ _- ₆알킬)-C₁ _- ₆알킬-아릴(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷⁸, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _-10알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸, -SO₂NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 또는 -NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7의 경우에 R⁷⁸ 및 R⁸⁸ 은 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 또는 -NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 치환체에 의해 임의로 치환되고;

R⁷, R⁷¹, R⁷², R⁷³, R⁷⁴, R⁷⁵, R⁷⁷⁵, R⁷⁷⁷⁵, R⁷⁶, R⁷⁷, R⁷⁸, R⁷⁷⁸, R⁸, R⁸¹, R⁸², R⁸³, R⁸⁴, R⁸⁵, R⁸⁶, R⁸⁷, R⁸⁸, R⁸⁸⁸, R⁹, R⁹⁵, 및 R⁹⁸ 은 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬, C_2-10알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₁ _- ₁₀알킬, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알키닐, C_1-10알킬티오C_1-10알킬, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _-8알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C_3-8알킬C_2-10알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알키닐, 사이 클로C_3-8알케닐C_2-10알키닐, 헤테로사이클릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤테로사이클릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 헤테로사이클릴-C_2-10알키닐, C₁ _- ₁₀알킬카보닐, C₂ _- ₁₀알케닐카보닐, C₂ _- ₁₀알키닐카보닐, C₁ _-10알콕시카보닐, C₁ _- ₁₀알콕시카보닐C₁ _- ₁₀알킬, 모노C₁ _- ₆알킬아미노카보닐, 디C₁ _- ₆알킬아미노카보닐, 모노(아릴)아미노카보닐, 디(아릴)아미노카보닐, 또는 C₁ _-10알킬(아릴)아미노카보닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 또는 -N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 치환체에 의해 임의로 치환된다); 아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -O(C₀ _- ₄알킬), C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CON(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₁₀알킬), -SO₂N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 또는 -N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 헤트아릴-C_0-10알킬, 헤트아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤트아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -O(C₀ _- ₄알킬), C₁ _- ₁₀알킬, C_2-10알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CON(C_0-4알킬)(C_0-10알킬), -SO₂N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 또는 -N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 모노(C_1-6알킬)아미노C₁ _- ₆알킬, 디(C_1-6a 알킬)아미노C_1-6알킬, 모노(아릴)아미노C₁ _- ₆알킬, 디(아릴)아미노C₁ _- ₆알킬, 또는 -N(C₁ _- ₆알킬)-C₁ _-6알킬-아릴(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -O(C₀ _- ₄알킬), C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CON(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₁₀알킬), -SO₂N(C₀ _-4알킬)(C_0-4알킬) 또는 -N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 치환체에 의해 임의로 치환된다)이고;

n1, n2, n3, n4, n5, n6, 및 n7 은 각각 독립적으로 0, 1 또는 2이다.

본 발명의 태양에서, X 가 임의로 치환된 이미다졸릴 또는 임의로 치환된 트리아졸릴이고, 다른 변수들은 상술한 바와 같은 화학식 I의 화합물 또는 그의 약학적으로 허용 가능한 염을 제공한다.

상기 태양의 실시태양에서, X 가 치환된 이미다졸릴 또는 치환된 트리아졸릴이고; R¹ 이 수소이고; 다른 변수들은 상술한 바와 같은 화학식 I의 화합물 또는 그의 약학적으로 허용 가능한 염을 제공한다.

본 발명의 두 번째 태양에서, Y 가 산소이고; 다른 변수들은 상술한 바와 같은 화학식 I의 화합물 또는 그의 약학적으로 허용 가능한 염을 제공한다.

상기 두 번째 태양의 실시태양에서 본 발명의 화합물은 하기 화학식 I-A의 화합물 또는 그의 약학적으로 허용 가능한 염이다:

상기 식에서,

R² 및 R³ 은 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, C_1-10알콕시C_1-10알킬, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₁ _- ₁₀알킬, C₁ _- ₁₀ 알킬티오C_2-10알케닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐, 사이클로C_3-8알킬C_1-10알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알케닐, 사이클로C_3-8알케닐C_2-10알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알키닐, 헤테로사이클릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤테로사이클릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 헤테로사이클릴-C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알킬카보닐, C₂ _- ₁₀알케닐카보닐, C₂ _- ₁₀알키닐카보닐, C₁ _- ₁₀알콕시카보닐, C₁ _- ₁₀알콕시카보닐C_1-10알킬, 모노C₁ _- ₆알킬아미노카보닐, 디C₁ _- ₆알킬아미노카보닐, 모노(아릴)아미노카보닐, 디(아릴)아미노카보닐, 또는 C₁ _- ₁₀알킬(아릴)아미노카보닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷¹R⁸¹ 또는 -NR⁷¹R⁸¹ 치환체로 임의로 치환된다); 또는 아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 아릴-C₂ _- ₁₀알케닐 또는 아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷¹, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷¹R⁸¹, -SO₂NR⁷¹R⁸¹ 또는 -NR⁷¹R⁸¹ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 헤트아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤트아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤트아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아 노, 니트로, -OR⁷¹, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷¹R⁸¹, -SO₂NR⁷¹R⁸¹ 또는 -NR⁷¹R⁸¹ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는

G¹ 은 -OR⁷², -SR⁷², -NR⁷²R⁸²(R⁹)_n5 이거나, 또는 G¹ 및 R³ 이 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁷에 의해 임의로 치환되며, 상기 헤테로사이클릭 포화된 고리 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리의 N 헤테로 원자는 R⁷² 치환체에 의해 임의로 치환되거나; 또는 -NR⁷²R⁸²(R⁹)_n5의 경우에 R⁷² 및 R⁸² 는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독 립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷³R⁸³ 또는 -NR⁷³R⁸³ 치환체에 의해 임의로 치환되고;

Q¹ 은 C₀ _- ₆알킬, -OR⁷⁵, -NR⁷⁵R⁸⁵(R⁹⁵)_n6, -CO₂R⁷⁵, -CONR⁷⁵R⁸⁵, -(C=S)OR⁷⁵, -(C=O)SR⁷⁵, -NO₂, -CN, 할로, -S(O)_n6R⁷⁵, -SO₂NR⁷⁵R⁸⁵, -NR⁷⁵(C=NR⁷⁷⁵)NR⁷⁷⁷⁵R⁸⁵, -NR⁷⁵(C=NR⁷⁷⁵)OR⁷⁷⁷⁵, -NR⁷⁵(C=NR⁷⁷⁵)SR⁷⁷⁷⁵, -O(C=O)OR⁷⁵, -O(C=O)NR⁷⁵R⁸⁵, -O(C=O)SR⁷⁵, -S(C=O)OR⁷⁵, -S(C=O)NR⁷⁵R⁸⁵, -S(C=O)SR⁷⁵, -NR⁷⁵(C=O)NR⁷⁷⁵R⁸⁵, 또는 -NR⁷⁵(C=S)NR⁷⁷⁵R⁸⁵이고; -NR⁷⁵R⁸⁵(R⁹⁵)_n6 의 경우에 R⁷⁵ 및 R⁸⁵ 는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷⁶R⁸⁶ 또는 -NR⁷⁶R⁸⁶ 치환체에 의해 임의로 치환되고;

R^4b 및 R^5b 는 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, C_1-10알콕시 C₁ _- ₁₀알킬, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C_1-10알킬, C₁ _- ₁₀알킬티오C_2-10알케닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C_3-8알킬C_2-10알케닐, 사이클로C_3-8알케닐C_2-10알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알키닐, 헤테로사이클릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤테로사이클릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤테로사이클릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 아릴-C₂ _- ₁₀알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C_0-10알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷R⁸⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 헤트아릴-C_0-10알킬, 헤트아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤트아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷R⁸⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 모노(C₁ _-6알킬)아미노C_1-6알킬, 디(C_1-6알킬)아미노C₁ _- ₆알킬, 모노(아릴)아미노C₁ _- ₆알킬, 디(아릴)아미노C_1-6알킬, 또는 -N(C₁ _- ₆알킬)-C₁ _- ₆알킬-아릴(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷R⁸⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4b 와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화 또는 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R^4b 와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화 또는 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되고;

R⁶⁶, R⁶⁷, R⁶⁸, 및 R⁶⁹ 는 각각 독립적으로 할로, -OR⁷⁸, -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7, -CO₂R⁷⁸, -CONR⁷⁸R⁸⁸, -NO₂, -CN, -S(O)_n7R⁷⁸, -SO₂NR⁷⁸R⁸⁸, C₀ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, C_1- ₁₀알콕시C₁ _- ₁₀알킬, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알콕시C_2-10알키닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₁ _- ₁₀알킬, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬, 사이클로C₃ _- ₈ 알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C_3-8알킬C_2-10알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C_2-10알키닐, 헤테로사이클릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤테로사이클릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤테로사이클릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷⁸, -SO₂NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 또는 -NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 아릴-C_0-10알킬, 아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 아릴-C₂ _- ₁₀알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷⁸, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C_1-10알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸, -SO₂NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 또는 -NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 헤트아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤트아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤트아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷⁸, C_1-10알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸, -SO₂NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 또는 -NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 모노(C_1-6알킬)아 미노C₁ _- ₆알킬, 디(C_1-6알킬)아미노C₁ _- ₆알킬, 모노(아릴)아미노C_1-6알킬, 디(아릴)아미노C_1-6알킬, 또는 -N(C₁ _- ₆알킬)-C₁ _- ₆알킬-아릴(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷⁸, C₁ _- ₁₀알킬, C_2-10알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸, -SO₂NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 또는 -NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7의 경우에 R⁷⁸ 및 R⁸⁸ 은 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 또는 -NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 치환체에 의해 임의로 치환되고;

R⁷, R⁷¹, R⁷², R⁷³, R⁷⁵, R⁷⁷⁵, R⁷⁷⁷⁵, R⁷⁶, R⁷⁷, R⁷⁸, R⁷⁷⁸, R⁸, R⁸¹, R⁸², R⁸³, R⁸⁵, R⁸⁶, R⁸⁷, R⁸⁸, R⁸⁸⁸, R⁹, R⁹⁵, 및 R⁹⁸ 은 C₀ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, C_1-10알콕시C₁ _- ₁₀알킬, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C_1-10알킬, C₁ _- ₁₀알킬티오C_2-10알케닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C_3-8알킬C_2-10알케닐, 사이클로C_3-8알케닐C_2-10알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알키닐, 헤테로사이클릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤테로사이클릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 헤테로사이클릴-C_2-10알키닐, C₁ _- ₁₀알킬카보닐, C₂ _- ₁₀알케닐카보닐, C₂ _- ₁₀알키닐카보닐, C₁ _-10알콕시카보닐, C₁ _- ₁₀알콕시카보닐C₁ _- ₁₀알킬, 모노C₁ _- ₆알킬아미노카보닐, 디C₁ _- ₆알킬아미노카보닐, 모노(아릴)아미노카보닐, 디(아릴)아미노카보닐, 또는 C₁ _-10알킬(아릴)아미노카보닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 또는 -N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 치환체에 의해 임의로 치환된다); 아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -O(C₀ _- ₄알킬), C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CON(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₁₀알킬), -SO₂N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 또는 -N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 헤트아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤트아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤트아릴-C₂ _- ₁₀알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -O(C₀ _- ₄알킬), C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CON(C_0-4알킬)(C_0-10알킬), -SO₂N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 또는 -N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 모노(C_1-6알킬)아미노C₁ _- ₆알킬, 디(C_1-6알킬)아미노C₁ _- ₆알킬, 모노(아릴)아미노C₁ _- ₆알킬, 디(아릴)아미노C₁ _- ₆알킬, 또는 -N(C₁ _- ₆알킬)-C₁ _-6알킬-아릴(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -O(C_0-4알킬), C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C_2-10알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CON(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬), -SO₂N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 또는 -N(C_0-4알킬)(C₀ _- ₄알킬) 치환체에 의해 임의로 치환된다)이고;

n2, n3, n4, n5, n6, 및 n7 은 각각 독립적으로 0, 1 또는 2이다.

상기 두 번째 태양의 또 다른 실시태양에서, 본 발명의 화합물은 하기 화학식 I-B의 화합물 또는 그의 약학적으로 허용 가능한 염이다:

상기 식에서,

X 는 치환된 이미다졸릴이고;

R² 및 R³ 은 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알콕시C_1-10알킬, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₁ _- ₁₀알킬, C₁ _- ₁₀알킬티오C_2-10알케닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐, 사이클로C_3-8알킬C_1-10알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알케닐, 사이클로C_3-8알케닐C_2-10알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알키닐, 헤테로사이클릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤테로사이클릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 헤테로사이클릴-C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알킬카보닐, C₂ _- ₁₀알케닐카보닐, C₂ _- ₁₀알키닐카보닐, C₁ _- ₁₀알콕시카보닐, C₁ _- ₁₀알콕시카보닐C_1-10알킬, 모노C₁ _- ₆알킬아미노카보닐, 디C₁ _- ₆알킬아미노카보닐, 모노(아릴)아미노카보닐, 디(아릴)아미노카보닐, 또는 C₁ _- ₁₀알킬(아릴)아미노카보닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷¹R⁸¹ 또는 -NR⁷¹R⁸¹ 치환체로 임의로 치환된다); 또는 아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 아릴-C₂ _- ₁₀알케닐 또는 아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷¹, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷¹R⁸¹, -SO₂NR⁷¹R⁸¹ 또는 -NR⁷¹R⁸¹ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 헤트아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤트아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤트아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷¹, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷¹R⁸¹, -SO₂NR⁷¹R⁸¹ 또는 -NR⁷¹R⁸¹ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는

G¹ 은 -OR⁷², -SR⁷², -NR⁷²R⁸²(R⁹)_n5 이거나, 또는 G¹ 및 R³ 이 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 R⁶⁷에 의해 임의로 치환되며, 상기 헤테로사이클릭 포화된 고리 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리의 N 헤테로 원자는 R⁷² 치환체에 의해 임의로 치환되거나; 또는 -NR⁷²R⁸²(R⁹)_n5의 경우에 R⁷² 및 R⁸² 는 이들이 결합된 질소 원자와 함 께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷³R⁸³ 또는 -NR⁷³R⁸³ 치환체에 의해 임의로 치환되고;

R^4b 및 R^5b 는 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, C_1-10알콕시C_1-10알킬, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₁ _- ₁₀알킬, C₁ _- ₁₀알킬티오C_2-10알케닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알케닐, 사이클로C_3-8알케닐C_2-10알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알키닐, 헤테로사이클릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤테로사이클릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤테로사이클릴-C_2-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 아릴-C₀ _- ₁₀알 킬, 아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 아릴-C₂ _- ₁₀알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷R⁸⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 헤트아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤트아릴-C_2-10알케닐, 또는 헤트아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷R⁸⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 모노(C_1-6알킬)아미노C_1-6알킬, 디(C_1-6알킬)아미노C₁ _- ₆알킬, 모노(아릴)아미노C₁ _- ₆알킬, 디(아릴)아미노C₁ _-6알킬, 또는 -N(C₁ _- ₆알킬)-C₁ _- ₆알킬-아릴(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C_2-10알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷R⁸⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4b 와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화 또는 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R^4b 와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화 또는 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되고;

R⁶⁷, R⁶⁸, 및 R⁶⁹ 는 각각 독립적으로 할로, -OR⁷⁸, -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7, -CO₂R⁷⁸, -CONR⁷⁸R⁸⁸, -NO₂, -CN, -S(O)_n7R⁷⁸, -SO₂NR⁷⁸R⁸⁸, C₀ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, C_1- ₁₀알콕시C₁ _- ₁₀알킬, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알키닐, C_1-10알킬티오C_1-10알킬, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _-8알킬, c사이클로C₃ _- ₈알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C_3-8알킬C_2-10알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알키닐, 사이 클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알키닐, 헤테로사이클릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤테로사이클릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤테로사이클릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷⁸, -SO₂NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 또는 -NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 아릴-C_0-10알킬, 아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 아릴-C₂ _- ₁₀알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷⁸, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₀ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸, -SO₂NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 또는 -NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 헤트아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤트아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤트아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷⁸, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸, -SO₂NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 또는 -NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 모노(C_1-6알킬)아미노C₁ _- ₆알킬, 디(C_1-6알킬)아미노C₁ _- ₆알킬, 모노(아릴)아미노C_1-6알킬, 디(아릴)아미노C_1-6알킬, 또는 -N(C₁ _- ₆알킬)-C₁ _- ₆알킬-아릴(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷⁸, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸, -SO₂NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 또는 -NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7의 경우에 R⁷⁸ 및 R⁸⁸ 은 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이 클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 또는 -NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 치환체에 의해 임의로 치환되고;

R⁷, R⁷¹, R⁷², R⁷³, R⁷⁵, R⁷⁷⁵, R⁷⁷⁷⁵, R⁷⁶, R⁷⁷, R⁷⁸, R⁷⁷⁸, R⁸, R⁸¹, R⁸², R⁸³, R⁸⁵, R⁸⁶, R⁸⁷, R⁸⁸, R⁸⁸⁸, R⁹, R⁹⁵, 및 R⁹⁸ 은 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C_2-10알키닐, C_1-10알콕시C_1-10알킬, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C_1-10알킬, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬, 사이클로C_3-8알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C_3-8알킬C_2-10알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C_3-8알케닐C_2-10알키닐, 헤테로사이클릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤테로사이클릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 헤테로사이클릴-C_2-10알키닐, C₁ _- ₁₀알킬카보닐, C₂ _- ₁₀알케닐카보닐, C₂ _- ₁₀알키닐카보닐, C₁ _- ₁₀알콕시카보닐, C₁ _- ₁₀알콕시카보닐C₁ _- ₁₀알킬, 모노C₁ _- ₆알킬아미노카보닐, 디C₁ _- ₆알킬아미노카보닐, 모노(아릴)아미노카보닐, 디(아릴)아미노카보닐, 또는 C₁ _-10알킬(아릴)아미노카보닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 또는 -N(C_0-4알킬)(C_0-4알킬) 치환 체에 의해 임의로 치환된다); 아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -O(C₀ _- ₄알킬), C_1-10알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CON(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₁₀알킬), -SO₂N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 또는 -N(C_0-4알킬)(C_0-4알킬) 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 헤트아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤트아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤트아릴-C₂ _- ₁₀알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -O(C₀ _- ₄알킬), C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CON(C_0-4알킬)(C_0-4알킬), -SO₂N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 또는 -N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 모노(C_1-6알킬)아미노C₁ _- ₆알킬, 디(C_1-6a 알킬)아미노C_1-6알킬, 모노(아릴)아미노C₁ _- ₆알킬, 디(아릴)아미노C₁ _- ₆알킬, 또는 -N(C₁ _- ₆알킬)-C₁ _-6알킬-아릴(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -O(C_0-4알킬), C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C_2-10알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CON(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬), -SO₂N(C_0-4알킬)(C_0-4알킬) 또는 -N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 치환체에 의해 임의로 치환된다)이고;

n2, n3, n4, n5, n6, 및 n7 은 각각 독립적으로 0, 1 또는 2이다.

세 번째 태양에서, 본 발명의 중간체 화합물은 하기 화학식 II의 화합물 또는 그의 약학적으로 허용 가능한 염이다:

상기 식에서,

R² 및 R³ 은 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, C_1-10알콕시C_1-10알킬, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₁ _- ₁₀알킬, C₁ _- ₁₀알킬티오C_2-10알케닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐, 사이클로C_3-8알킬C_1-10알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알케닐, 사이클로C_3-8알케닐C_2-10알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알키닐, 헤테로사이클릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤테로사이클릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 헤테로사이클릴-C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알킬카보닐, C₂ _- ₁₀알케닐카보닐, C₂ _- ₁₀알키닐카보닐, C₁ _- ₁₀알콕시카보닐, C₁ _- ₁₀알콕시카보닐C_1-10알킬, 모노C₁ _- ₆알킬아미노카보닐, 디C₁ _- ₆알킬아미노카보닐, 모노(아릴)아미노카보닐, 디(아릴)아미노카보닐, 또는 C₁ _- ₁₀알킬(아릴)아미노카보닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷¹R⁸¹ 또는 -NR⁷¹R⁸¹ 치환체로 임의로 치환된다); 또는 아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 아릴-C₂ _- ₁₀알케닐 또는 아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷¹, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷¹R⁸¹, -SO₂NR⁷¹R⁸¹ 또는 -NR⁷¹R⁸¹ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 헤테로아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤테로아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤테로아릴-C₂ _- ₁₀알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷¹, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷¹R⁸¹, -SO₂NR⁷¹R⁸¹ 또는 -NR⁷¹R⁸¹ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는

R^4b 및 R^5b 는 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알콕시C_1-10알킬, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₁ _- ₁₀알킬, C₁ _- ₁₀알킬티오C_2-10알케닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알케닐, 사이클로C_3-8알케닐C_2-10알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알키닐, 헤테로사이클릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤테로사이클릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤테로사이클릴-C_2-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 아릴-C₀ _- ₁₀알 킬, 아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 아릴-C₂ _- ₁₀알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₀ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷R⁸⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 헤트아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤트아릴-C_2-10알케닐, 또는 헤트아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷R⁸⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 모노(C_1-6알킬)아미노C_1-6알킬, 디(C_1-6알킬)아미노C₁ _- ₆알킬, 모노(아릴)아미노C₁ _- ₆알킬, 디(아릴)아미노C₁ _-6알킬, 또는 -N(C₁ _- ₆알킬)-C₁ _- ₆알킬-아릴(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C_2-10알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷R⁸⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4b 와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화 또는 불포화된 고리를 형성하고, 이들 중 어느 것이든 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R^4b 와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화 또는 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이들 중 어느 것이든 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되고;

R⁷, R⁷¹, R⁷², R⁷³, R⁷⁵, R⁷⁷⁵, R⁷⁷⁷⁵, R⁷⁶, R⁷⁷, R⁷⁸, R⁷⁷⁸, R⁸, R⁸¹, R⁸², R⁸³, R⁸⁵, R⁸⁶, R⁸⁷, R⁸⁸, R⁸⁸⁸, R⁹, R⁹⁵, 및 R⁹⁸ 은 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C_2-10알키닐, C_1-10알콕시C_1-10알킬, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C_1-10알킬, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬, 사이클로C_3-8알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C_3-8알킬C_2-10알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C_3-8알케닐C_2-10알키닐, 헤테로사이클릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤테로사이클릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 헤테로사이클릴-C_2-10알키닐, C₁ _- ₁₀알킬카보닐, C₂ _- ₁₀알케닐카보닐, C₂ _- ₁₀알키닐카보닐, C₁ _- ₁₀알콕시카보닐, C₁ _- ₁₀알콕시카보닐C₁ _- ₁₀알킬, 모노C₁ _- ₆알킬아미노카보닐, 디C₁ _- ₆알킬아미노카보닐, 모노(아릴)아미노카보닐, 디(아릴)아미노카보닐, 또는 C₁ _-10알킬(아릴)아미노카보닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 또는 -N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 치환 체에 의해 임의로 치환된다); 아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -O(C₀ _- ₄알킬), C_1-10알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CON(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₁₀알킬), -SO₂N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 또는 -N(C_0-4알킬)(C_0-4알킬) 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 헤트아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤트아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤트아릴-C₂ _- ₁₀알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -O(C₀ _- ₄알킬), C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CON(C_0-4알킬)(C_0-4알킬), -SO₂N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 또는 -N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 모노(C_1-6알킬)아미노C₁ _- ₆알킬, 디(C_1-6a 알킬)아미노C_1-6알킬, 모노(아릴)아미노C₁ _- ₆알킬, 디(아릴)아미노C₁ _- ₆알킬, 또는 -N(C₁ _- ₆알킬)-C₁ _-6알킬-아릴(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -O(C_0-4알킬), C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C_2-10알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CON(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₁₀알킬), -SO₂N(C₀ _- ₄알킬)(C_0-4알킬) 또는 -N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 치환체에 의해 임의로 치환된다)이고;

n2, n3, n4, n5, n6, 및 n7 은 각각 독립적으로 0, 1 또는 2이다.

네 번째 태양에서, 본 발명의 중간체 화합물은 하기 화학식 III의 화합물 또는 그의 약학적으로 허용 가능한 염이다:

상기 식에서,

R^4b 및 R^5b 는 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알콕시C_1-10알킬, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₁ _- ₁₀알킬, C₁ _- ₁₀알킬티오C_2-10알케닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알케닐, 사이클로C_3-8알케닐C_2-10알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알키닐, 헤테로사이클릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤테로사이클릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤테로사이클릴-C_2-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 아릴-C₀ _- ₁₀알 킬, 아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 아릴-C₂ _- ₁₀알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷R⁸⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 헤트아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤트아릴-C_2-10알케닐, 또는 헤트아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷R⁸⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 모노(C_1-6알킬)아미노C_1-6알킬, 디(C_1-6알킬)아미노C₁ _- ₆알킬, 모노(아릴)아미노C₁ _- ₆알킬, 디(아릴)아미노C₁ _-6알킬, 또는 N(C₁ _- ₆알킬)-C₁ _- ₆알킬-아릴(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C_2-10알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷R⁸⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4b 와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화 또는 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R^4b 와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화 또는 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이들 중 어느 것이든 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되고;

R⁶⁷, R⁶⁸, 및 R⁶⁹ 는 할로, -OR⁷⁸, -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7, -CO₂R⁷⁸, -CONR⁷⁸R⁸⁸, -NO₂, -CN, -S(O)_n7R⁷⁸, -SO₂NR⁷⁸R⁸⁸, C₀ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₁ _- ₁₀알킬, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알키닐, C_1-10알킬티오C_1-10알킬, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _-10알케닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C_3-8알킬C_2-10알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알키닐, 사이 클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알키닐, 헤테로사이클릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤테로사이클릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤테로사이클릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷⁸, -SO₂NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 또는 -NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 아릴-C_2-10알케닐, 또는 아릴-C₂ _- ₁₀알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷⁸, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸, -SO₂NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 또는 -NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 헤트아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤트아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤트아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷⁸, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸, -SO₂NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 또는 -NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 모노(C_1-6알킬)아미노C₁ _- ₆알킬, 디(C_1-6알킬)아미노C_1-6알킬, 모노(아릴)아미노C₁ _- ₆알킬, 디(아릴)아미노C₁ _- ₆알킬, 또는 -N(C_1-6알킬)-C_1-6알킬-아릴(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷⁸, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸, -SO₂NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 또는 -NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7의 경우에 R⁷⁸ 및 R⁸⁸ 은 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 또는 -NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 치환체에 의해 임의로 치환되고;

R⁷, R⁷¹, R⁷², R⁷³, R⁷⁴, R⁷⁵, R⁷⁷⁵, R⁷⁷⁷⁵, R⁷⁶, R⁷⁷, R⁷⁸, R⁷⁷⁸, R⁸, R⁸¹, R⁸², R⁸³, R⁸⁵, R⁸⁶, R⁸⁷, R⁸⁸, R⁸⁸⁸, R⁹, R⁹⁵, 및 R⁹⁸ 은 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C_2-10알키닐, C_1-10알콕시C_1-10알킬, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C_1-10알킬, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C_3-8알킬C_2-10알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C_3-8알케닐C_2-10알키닐, 헤테로사이클릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤테로사이클릴-C_2-10알케닐, 헤테로사이클릴-C_2-10알키닐, C₁ _- ₁₀알킬카보닐, C₂ _- ₁₀알케닐카보닐, C₂ _- ₁₀알키닐카보닐, C₁ _- ₁₀알콕시카보닐, C₁ _- ₁₀알콕시카보닐C₁ _- ₁₀알킬, 모노C₁ _- ₆알킬아미노카보닐, 디C₁ _- ₆알킬아미노카보닐, 모노(아릴)아미노카보닐, 디(아릴)아미노카보닐, 또는 C₁ _-10알킬(아릴)아미노카보닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 또는 -N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 치환체에 의해 임의로 치환된다); 아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -O(C₀ _- ₄알킬), C_1-10알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CON(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₁₀알킬), -SO₂N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 또는 -N(C_0-4알킬)(C_0-4알킬) 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 헤트아릴-C_0-10알킬, 헤트아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤트아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -O(C₀ _- ₄알킬), C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C_2-10알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CON(C_0-4알킬)(C_0-4알킬), -SO₂N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 또는 -N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 모노(C_1-6알킬)아미노C₁ _- ₆알킬, 디(C_1-6알킬)아미노C_1-6알킬, 모노(아릴)아미노C₁ _- ₆알킬, 디(아릴)아미노C₁ _- ₆알킬, 또는 -N(C_1-6알킬)-C_1-6알킬-아릴(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -O(C_0-4알킬), C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C_2-10알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CON(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬), -SO₂N(C_0-4알킬)(C_0-4알킬) 또는 -N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 치환체에 의해 임의로 치환된다)이고;

n2, n3, n4, n5, n6, 및 n7 은 각각 독립적으로 0, 1 또는 2이다.

본 발명의 화합물은 상기 화학식 I의 화합물 또는 그의 약학적으로 허용 가능한 염을 포함하며, 이때

1) X는 헤트아릴, 이미다졸릴, 또는 트리아졸릴이고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁶ 치환체에 의해 임의로 치환되거나; 또는

2) X는 이미다졸릴 또는 트리아졸릴이거나; 또는

3) X는 헤트아릴, 이미다졸릴, 또는 트리아졸릴이고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁶ 치환체에 의해 임의로 치환되고, Q¹은 -CO₂H 또는 -CO₂R⁷⁵이거나; 또는

4) Y는 산소이거나; 또는

5) Y는 산소이고 X는 헤트아릴, 이미다졸릴, 또는 트리아졸릴이고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁶ 치환체에 의해 임의로 치환되거나; 또는

6) Y는 산소이고 X는 이미다졸릴 또는 트리아졸릴이거나; 또는

7) Y는 산소이고 X는 이미다졸릴 또는 트리아졸릴이고, Q¹은 -CO₂H 또는 -CO₂R⁷⁵이거나; 또는

8) Y는 산소이고 R^4a 및 R^5a는 각각 수소이거나; 또는

9) X는 헤트아릴, 이미다졸릴, 또는 트리아졸릴이고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁶ 치환체에 의해 임의로 치환되고; R¹, R² 및 R³은 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬이고; G¹ 은 -NR⁷²R⁸² 이거나, 또는 G¹ 및 R³ 이 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 R⁶⁷에 의해 임의로 치환되며, 상기 헤테로사이클릭 포화된 고리 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리의 N 헤테로 원자는 R⁷² 치환체에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R⁷² 및 R⁸² 는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷³R⁸³ 또는 -NR⁷³R⁸³ 치환체에 의해 임의로 치환되고; Y는 산소이고; Q¹ 은 C₀ _- ₆알킬, -CO₂R⁷⁵, 또는 -CONR⁷⁵R⁸⁵ 이고; R^4a, R^4b, R^5a, 및 R^5b 는 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4a 와 R^5a _, 또는 R^4b 와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R^4a 와 R^5a _, 또는 R^4b 와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되고; R^6a 와 R^6b 는 각각 독립적으로 할로, -OR⁷⁸, -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7, -CO₂R⁷⁸, -CONR⁷⁸R⁸⁸, -NO₂, -CN, -S(O)_n7R⁷⁸, -SO₂NR⁷⁸R⁸⁸, 또는 C₀ _- ₁₀알킬이거나; 또는

10) X는 이미다졸릴 또는 트리아졸릴이고; R¹ 은 수소이고, R² 및 R³은 각각 독립적으로 C_0-10알킬이고; G¹ 은 -NR⁷²R⁸² 이거나, 또는 G¹ 및 R³ 이 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 R⁶⁷에 의해 임의로 치환되며, 상기 헤테로사이클릭 포화된 고리 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리의 N 헤테로 원자는 R⁷² 치환체에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R⁷² 및 R⁸² 는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷³R⁸³ 또는 -NR⁷³R⁸³ 치환체에 의해 임의로 치환되고; Y는 산소이고; Q¹ 은 -CO₂R⁷⁵, 또는 -CONR⁷⁵R⁸⁵ 이고; R^4a, R^4b, R^5a, 및 R^5b 는 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4a 와 R^5a _, 또는 R^4b 와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R^4a 와 R^5a _, 또는 R^4b 와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되고; R^6a 와 R^6b 는 각각 수소이거나; 또는

11) X는 헤트아릴, 이미다졸릴 또는 트리아졸릴이고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁶ 치환체에 의해 임의로 치환되며; R¹, R² 및 R³은 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬이고; G¹ 은 -NR⁷²R⁸² 이거나, 또는 G¹ 및 R³ 이 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화 된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 R⁶⁷에 의해 임의로 치환되며, 상기 헤테로사이클릭 포화된 고리 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리의 N 헤테로 원자는 R⁷² 치환체에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R⁷² 및 R⁸² 는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷³R⁸³ 또는 -NR⁷³R⁸³ 치환체에 의해 임의로 치환되고; Y는 산소이고; Q¹ 은 C₀ _- ₆알킬, -CO₂R⁷⁵, 또는 -CONR⁷⁵R⁸⁵ 이고; R^4a 및 R^5a는 각각 수소이고; R^4b 및 R^5b 은 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬(이들 중 어느 것이든 R⁶⁹에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4b 와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R^4b 와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는

12) X는 헤트아릴, 이미다졸릴 또는 트리아졸릴이고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁶ 치환체에 의해 임의로 치환되고; R¹, R² 및 R³은 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬이고; G¹ 은 -NR⁷²R⁸² 이거나, 또는 G¹ 및 R³ 이 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 R⁶⁷에 의해 임의로 치환되며, 상기 헤테로사이클릭 포화된 고리 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리의 N 헤테로 원자는 R⁷² 치환체에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R⁷² 및 R⁸² 는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷³R⁸³ 또는 -NR⁷³R⁸³ 치환체에 의해 임의로 치환되고; Y는 산소이고; Q¹ 은 C₀ _- ₆알킬, -CO₂R⁷⁵, 또는 -CONR⁷⁵R⁸⁵ 이고; R^4b 및 R^5b 는 각각 독립적으로 C₀ _- ₆알킬이거나, 또는 R^4b와 R^5b는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리를 형성하고; R^4a 및 R^5a는 각각 독립적으로 C₀ _-10알킬(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4a 와 R^5a _,(이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환된다); 또는 R^4a와 R^5a, 또는 R^4b 와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되고; R^6a 와 R^6b 는 각각 독립적으로 할로, -OR⁷⁸, -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7, -CO₂R⁷⁸, -CONR⁷⁸R⁸⁸, -NO₂, -CN, -S(O)_n7R⁷⁸, -SO₂NR⁷⁸R⁸⁸, 또는 C₀ _- ₁₀알킬이거나; 또는

13) X 는 헤트아릴, 이미다졸릴 또는 트리아졸릴이고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁶ 치환체에 의해 임의로 치환되고; R¹, R² 및 R³은 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬이고; G¹ 은 -NR⁷²R⁸² 이거나, 또는 G¹ 및 R³ 이 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 R⁶⁷에 의해 임의로 치환되며, 상기 헤테로사이클릭 포화된 고리 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리의 N 헤테로 원자는 R⁷² 치환체에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R⁷² 및 R⁸² 는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포 화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷³R⁸³ 또는 -NR⁷³R⁸³ 치환체에 의해 임의로 치환되고; Y는 산소이고; Q¹ 은 C₀ _- ₆알킬, -CO₂R⁷⁵, 또는 -CONR⁷⁵R⁸⁵ 이고; R^4a 및 R^5a 는 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4a 와 R^5a(이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환된다); 또는 R^4a와 R^5a 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되고; R^6a 와 R^6b 는 각각 독립적으로 할로, -OR⁷⁸, -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7, -CO₂R⁷⁸, -CONR⁷⁸R⁸⁸, -NO₂, -CN, -S(O)_n7R⁷⁸, -SO₂NR⁷⁸R⁸⁸, 또는 C₀ _- ₁₀알킬이고; R^4b와 R^5b는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 사이클로프로필, 사이클로부틸, 사이클로펜틸 또는 사이클로헥실 고리를 형성하거나; 또는

14) X 는 헤트아릴, 이미다졸릴 또는 트리아졸릴이고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁶ 치환체에 의해 임의로 치환되고; R¹, R² 및 R³은 각각 독 립적으로 C₀ _- ₁₀알킬이고; G¹ 은 -NR⁷²R⁸² 이거나, 또는 G¹ 및 R³ 이 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 R⁶⁷에 의해 임의로 치환되며, 상기 헤테로사이클릭 포화된 고리 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리의 N 헤테로 원자는 R⁷² 치환체에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R⁷² 및 R⁸² 는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷³R⁸³ 또는 -NR⁷³R⁸³ 치환체에 의해 임의로 치환되고; Y는 산소이고; Q¹ 은 C₀ _- ₆알킬, -CO₂R⁷⁵, 또는 -CONR⁷⁵R⁸⁵ 이고; R^4a 및 R^5b 는 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4a 와 R^5a(이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환된다); 또는 R^4a와 R^5a 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되고; R^6a 와 R^6b 는 각각 독립적으로 할로, -OR⁷⁸, -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7, -CO₂R⁷⁸, -CONR⁷⁸R⁸⁸, -NO₂, -CN, -S(O)_n7R⁷⁸, -SO₂NR⁷⁸R⁸⁸, 또는 C₀ _- ₁₀알킬이고; R^4b와 R^5b는 둘 다 에틸이거나 또는 둘 다 메틸이거나 또는 독립적으로 에틸 또는 메틸이거나; 또는

15) X 는 헤트아릴, 이미다졸릴 또는 트리아졸릴이고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁶ 치환체에 의해 임의로 치환되고; R¹, R² 및 R³은 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬이고; G¹ 은 -NR⁷²R⁸² 이거나, 또는 G¹ 및 R³ 이 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 R⁶⁷에 의해 임의로 치환되며, 상기 헤테로사이클릭 포화된 고리 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리의 N 헤테로 원자는 R⁷² 치환체에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R⁷² 및 R⁸² 는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷³R⁸³ 또는 -NR⁷³R⁸³ 치환체에 의해 임의로 치환되고; Y는 산소이고; R^4a, R^4b, R^5a 및 R^5b 는 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬(이들 중 어 느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되고; R^6a 와 R^6b 는 각각 독립적으로 할로, -OR⁷⁸, -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7, -CO₂R⁷⁸, -CONR⁷⁸R⁸⁸, -NO₂, -CN, -S(O)_n7R⁷⁸, -SO₂NR⁷⁸R⁸⁸, 또는 C₀ _- ₁₀알킬이고; Q¹은 -CO₂R⁷⁵이거나; 또는

16) X 는 헤트아릴, 이미다졸릴 또는 트리아졸릴이고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁶ 치환체에 의해 임의로 치환되고; R¹, R² 및 R³은 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬이고; G¹ 은 -NR⁷²R⁸² 이거나, 또는 G¹ 및 R³ 이 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 R⁶⁷에 의해 임의로 치환되며, 상기 헤테로사이클릭 포화된 고리 또 는 헤테로사이클릭 불포화된 고리의 N 헤테로 원자는 R⁷² 치환체에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R⁷² 및 R⁸² 은 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷³R⁸³ 또는 -NR⁷³R⁸³ 치환체에 의해 임의로 치환되고; Y는 산소이고; R^4a, R^4b, R^5a 및 R^5b 는 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되고; R^6a 와 R^6b 는 각각 독립적으로 할로, -OR⁷⁸, -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7, -CO₂R⁷⁸, -CONR⁷⁸R⁸⁸, -NO₂, -CN, -S(O)_n7R⁷⁸, -SO₂NR⁷⁸R⁸⁸, 또는 C₀ _- ₁₀알킬이고; Q¹은 -CO₂H이거나; 또는

17) X 는 헤트아릴, 이미다졸릴 또는 트리아졸릴이고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁶ 치환체에 의해 임의로 치환되고; R¹, R² 및 R³은 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬이고; Y는 산소이고; Q¹ 은 C₀ _- ₆알킬, -CO₂R⁷⁵, 또는 -CONR⁷⁵R⁸⁵ 이고; R^4a, R^4b, R^5a 및 R^5b 는 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되고; R^6a 와 R^6b 는 각각 독립적으로 할로, -OR⁷⁸, -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7, -CO₂R⁷⁸, -CONR⁷⁸R⁸⁸, -NO₂, -CN, -S(O)_n7R⁷⁸, -SO₂NR⁷⁸R⁸⁸, 또는 C₀ _- ₁₀알킬이고; G¹은 디(C_1-6알킬)아미노이거나; 또는

18) X 는 헤트아릴, 이미다졸릴 또는 트리아졸릴이고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁶ 치환체에 의해 임의로 치환되고; R¹, R² 및 R³은 각각 독 립적으로 C₀ _- ₁₀알킬이고; Y는 산소이고; Q¹ 은 C₀ _- ₆알킬, -CO₂R⁷⁵, 또는 -CONR⁷⁵R⁸⁵ 이고; R^4a, R^4b, R^5a 및 R^5b 는 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되고; R^6a 와 R^6b 는 각각 독립적으로 할로, -OR⁷⁸, -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7, -CO₂R⁷⁸, -CONR⁷⁸R⁸⁸, -NO₂, -CN, -S(O)_n7R⁷⁸, -SO₂NR⁷⁸R⁸⁸, 또는 C₀ _- ₁₀알킬이고; G¹은 디메틸아미노, 에틸메틸아미노, 디에틸아미노 또는 이소프로필메틸아미노이거나; 또는

19) X 는 헤트아릴, 이미다졸릴 또는 트리아졸릴이고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁶ 치환체에 의해 임의로 치환되고; R¹은 C₀ _- ₁₀알킬이고; G¹ 은 -NR⁷²R⁸² 이거나, 또는 G¹ 및 R³ 이 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원 의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁷에 의해 임의로 치환되며, 상기 헤테로사이클릭 포화된 고리 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리의 N 헤테로 원자는 R⁷² 치환체에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R⁷² 및 R⁸² 는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C_1-10알콕시, -SO₂NR⁷³R⁸³ 또는 -NR⁷³R⁸³ 치환체에 의해 임의로 치환되고; Y는 산소이고; Q¹ 은 C_0-6알킬, -CO₂R⁷⁵, 또는 -CONR⁷⁵R⁸⁵ 이고; R^4a, R^4b, R^5a 및 R^5b 는 각각 독립적으로 C_0- ₁₀알킬(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹ 에 의해 임의로 치환되고; R^6a 와 R^6b 는 각각 독립적으로 할로, -OR⁷⁸, -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7, -CO₂R⁷⁸, -CONR⁷⁸R⁸⁸, -NO₂, -CN, -S(O)_n7R⁷⁸, -SO₂NR⁷⁸R⁸⁸, 또는 C₀ _- ₁₀알킬이고; R² 및 R³은 각각 독립적으로 수소, 메틸 또는 에틸이거나; 또는

20) X 는 헤트아릴, 이미다졸릴 또는 트리아졸릴이고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁶ 치환체에 의해 임의로 치환되고; R¹ 및 R³은 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬이고; G¹ 은 -NR⁷²R⁸² 이거나, 또는 G¹ 및 R³ 이 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 R⁶⁷에 의해 임의로 치환되며, 상기 헤테로사이클릭 포화된 고리 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리의 N 헤테로 원자는 R⁷² 치환체에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R⁷² 및 R⁸² 는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷³R⁸³ 또는 -NR⁷³R⁸³ 치환체에 의해 임의로 치환되고; Y는 산소이고; Q¹ 은 C₀ _- ₆알킬, -CO₂R⁷⁵, 또는 -CONR⁷⁵R⁸⁵ 이고; R^4a, R^4b, R^5a 및 R^5b 는 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되고; R^6a 와 R^6b 는 각각 독립적으로 할로, -OR⁷⁸, -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7, -CO₂R⁷⁸, -CONR⁷⁸R⁸⁸, -NO₂, -CN, -S(O)_n7R⁷⁸, -SO₂NR⁷⁸R⁸⁸, 또는 C₀ _- ₁₀알킬이고; R² 는 수소이고; G¹ 및 R³ 은 이들이 결합된 탄소 원자와 함께

(여기에서 ●은 이들이 결합된 탄소이다)를 형성하거나; 또는 G¹ 및 R³ 은 이들이 결합된 탄소 원자와 함께

(여기에서 ●은 이들이 결합된 탄소이다)를 형성하고, 이들 중 어느 것이든 하나 내지 10 개의 독립적인 R⁶⁷ 치환체에 의해 임의로 치환되거나; 또는

21) X 는 이미다졸이거나; 또는

22) X 는 헤트아릴, 이미다졸릴 또는 트리아졸릴이고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁶ 치환체에 의해 임의로 치환되고; R¹은 C₀ _- ₁₀알킬이고; G¹ 은 -NR⁷²R⁸² 이거나, 또는 G¹ 및 R³ 이 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 R⁶⁷에 의해 임의로 치환되며, 상기 헤테로사이클릭 포화된 고리 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리의 N 헤테로 원자는 R⁷² 치환체에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R⁷² 및 R⁸² 는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷³R⁸³ 또는 -NR⁷³R⁸³ 치환체에 의해 임의로 치환되고; Y는 산소이고; Q¹ 은 C₀ _- ₆알킬, -CO₂R⁷⁵, 또는 -CONR⁷⁵R⁸⁵ 이고; R^4a, R^4b, R^5a 및 R^5b 는 각각 독립적으로 C_0-10알킬(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되고; R^6a 와 R^6b 는 각각 독립적으로 할로, -OR⁷⁸, -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7, -CO₂R⁷⁸, -CONR⁷⁸R⁸⁸, -NO₂, -CN, -S(O)_n7R⁷⁸, -SO₂NR⁷⁸R⁸⁸, 또는 C₀ _- ₁₀알킬이고; R² 는 수소이고 R³ 은 메틸이거나; 또는

23) X 는 헤트아릴, 이미다졸릴 또는 트리아졸릴이고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁶ 치환체에 의해 임의로 치환되고; R¹은 C₀ _- ₁₀알킬이고; G¹ 은 -NR⁷²R⁸² 이거나, 또는 G¹ 및 R³ 이 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 R⁶⁷에 의해 임의로 치환되며, 상기 헤테로사이클릭 포화된 고리 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리의 N 헤테로 원자는 R⁷² 치환체에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R⁷² 및 R⁸² 는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤 테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷³R⁸³ 또는 -NR⁷³R⁸³ 치환체에 의해 임의로 치환되고; Y는 산소이고; Q¹ 은 C₀ _- ₆알킬, -CO₂R⁷⁵, 또는 -CONR⁷⁵R⁸⁵ 이고; R^4a, R^4b, R^5a 및 R^5b 는 각각 독립적으로 C_0-10알킬(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되고; R^6a 와 R^6b 는 각각 독립적으로 할로, -OR⁷⁸, -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7, -CO₂R⁷⁸, -CONR⁷⁸R⁸⁸, -NO₂, -CN, -S(O)_n7R⁷⁸, -SO₂NR⁷⁸R⁸⁸, 또는 C₀ _- ₁₀알킬이고; R² 는 수소이고 R³ 은 에틸이거나; 또는

24) X 는 헤트아릴, 이미다졸릴 또는 트리아졸릴이고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁶ 치환체에 의해 임의로 치환되고; R¹은 C₀ _- ₁₀알킬이고; G¹ 은 -NR⁷²R⁸² 이거나, 또는 G¹ 및 R³ 이 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁷에 의해 임의로 치환되며, 상기 헤테로사이클릭 포화된 고리 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리의 N 헤테로 원자는 R⁷² 치환체에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R⁷² 및 R⁸² 는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷³R⁸³ 또는 -NR⁷³R⁸³ 치환체에 의해 임의로 치환되고; Y는 산소이고; Q¹ 은 C_0-6알킬, -CO₂R⁷⁵, 또는 -CONR⁷⁵R⁸⁵ 이고; R^4a, R^4b, R^5a 및 R^5b 는 각각 독립적으로 C_0-10알킬(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거 나 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되고; R^6a 와 R^6b 는 각각 독립적으로 할로, -OR⁷⁸, -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7, -CO₂R⁷⁸, -CONR⁷⁸R⁸⁸, -NO₂, -CN, -S(O)_n7R⁷⁸, -SO₂NR⁷⁸R⁸⁸, 또는 C₀ _- ₁₀알킬이고; R² 는 수소이고 R³ 은 둘 다 메틸이거나; 또는

25) X 는 헤트아릴, 이미다졸릴 또는 트리아졸릴이고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁶ 치환체에 의해 임의로 치환되고; R¹ 및 R³은 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬이고; G¹ 은 -NR⁷²R⁸² 이거나, 또는 G¹ 및 R³ 이 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 R⁶⁷에 의해 임의로 치환되며, 상기 헤테로사이클릭 포화된 고리 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리의 N 헤테로 원자는 R⁷² 치환체에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R⁷² 및 R⁸² 는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷³R⁸³ 또는 -NR⁷³R⁸³ 치환체에 의해 임의로 치환되고; Y는 산소이고; Q¹ 은 C₀ _- ₆알킬, -CO₂R⁷⁵, 또는 -CONR⁷⁵R⁸⁵ 이고; R^4a, R^4b, R^5a 및 R^5b 는 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되고; R^6a 와 R^6b 는 각각 독립적으로 할로, -OR⁷⁸, -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7, -CO₂R⁷⁸, -CONR⁷⁸R⁸⁸, -NO₂, -CN, -S(O)_n7R⁷⁸, -SO₂NR⁷⁸R⁸⁸, 또는 C₀ _- ₁₀알킬이고; R² 는 수소이고; G¹ 및 R³ 은 이들이 결합된 탄소 원자와 함께

(여기에서 ●은 이들이 결합된 탄소이다)를 형성하고, 이들 중 어느 것이든 하나 내지 10 개의 독립적인 R⁶⁷ 치환체에 의해 임의로 치환되고; n2, n3 및 n4는 각각 1이고 Z는 아릴이거나; 또는

26) X 는 헤트아릴, 이미다졸릴 또는 트리아졸릴이고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁶ 치환체에 의해 임의로 치환되고; R¹ 및 R³은 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬이고; G¹ 은 -NR⁷²R⁸² 이거나, 또는 G¹ 및 R³ 이 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁷에 의해 임의로 치환되며, 상기 헤테로사이클릭 포화된 고리 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리의 N 헤테로 원자는 R⁷² 치환체에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R⁷² 및 R⁸² 는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷³R⁸³ 또는 -NR⁷³R⁸³ 치환체에 의해 임의로 치환되고; Y는 산소이고; Q¹ 은 C₀ _- ₆알킬, -CO₂R⁷⁵, 또는 -CONR⁷⁵R⁸⁵ 이고; R^4a, R^4b, R^5a 및 R^5b 는 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되고; R^6a 와 R^6b 는 각각 독립적으로 할로, -OR⁷⁸, -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7, -CO₂R⁷⁸, -CONR⁷⁸R⁸⁸, -NO₂, -CN, -S(O)_n7R⁷⁸, -SO₂NR⁷⁸R⁸⁸, 또는 C₀ _- ₁₀알킬이고; R² 는 수소이고; G¹ 및 R³ 은 이들이 결합된 탄소 원자와 함께

(여기에서 ●은 이들이 결합된 탄소이다)를 형성하고, 이들 중 어느 것이든 하나 내지 10 개의 독립적인 R⁶⁷ 치환체에 의해 임의로 치환되고; n2는 1이고; n3 및 n4는 각각 0이고; Z는 아릴이 거나; 또는

27) Z는 아릴 또는 아릴옥시 또는 옥시아릴이거나; 또는

28) X 는 헤트아릴, 이미다졸릴 또는 트리아졸릴이고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁶ 치환체에 의해 임의로 치환되고; R¹ 및 R³은 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬이고; G¹ 은 -NR⁷²R⁸² 이거나, 또는 G¹ 및 R³ 이 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 R⁶⁷에 의해 임의로 치환되며, 상기 헤테로사이클릭 포화된 고리 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리의 N 헤테로 원자는 R⁷² 치환체에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R⁷² 및 R⁸² 는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷³R⁸³ 또는 -NR⁷³R⁸³ 치환체에 의해 임의로 치환되고; Y는 산소이고; Q¹ 은 -CO₂R⁷⁵ 이고; R^4a, R^4b, R^5a 및 R^5b 는 각각 독립적으로 C_0-10알킬(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되고; R^6a 와 R^6b 는 각각 독립적으로 할로, -OR⁷⁸, -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7, -CO₂R⁷⁸, -CONR⁷⁸R⁸⁸, -NO₂, -CN, -S(O)_n7R⁷⁸, -SO₂NR⁷⁸R⁸⁸, 또는 C₀ _- ₁₀알킬이고; R² 는 수소이고; G¹ 및 R³ 은 이들이 결합된 탄소 원자와 함께

(여기에서 ●은 이들이 결합된 탄소이다)를 형성하고, 이들 중 어느 것이든 하나 내지 10 개의 독립적인 R⁶⁷ 치환체에 의해 임의로 치환되고; n2, n3 및 n4는 각각 1이고; Z는 아릴이고; n3은 0이거나; 또는

29) X 는 헤트아릴, 이미다졸릴 또는 트리아졸릴이고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁶ 치환체에 의해 임의로 치환되고; R¹ 및 R³은 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬이고; G¹ 은 -NR⁷²R⁸² 이거나, 또는 G¹ 및 R³ 이 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 R⁶⁷에 의해 임의로 치환되며, 상기 헤테로사이클릭 포화된 고리 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리의 N 헤테로 원자는 R⁷² 치환체에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R⁷² 및 R⁸² 는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷³R⁸³ 또는 -NR⁷³R⁸³ 치환체에 의해 임의로 치환되고; Y는 산소이고; Q¹ 은 -CO₂H 이고; R^4a, R^4b, R^5a 및 R^5b 는 각각 독립적으로 C_0-10알킬(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거 나 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되고; R^6a 와 R^6b 는 각각 독립적으로 할로, -OR⁷⁸, -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7, -CO₂R⁷⁸, -CONR⁷⁸R⁸⁸, -NO₂, -CN, -S(O)_n7R⁷⁸, -SO₂NR⁷⁸R⁸⁸, 또는 C₀ _- ₁₀알킬이고; R² 는 수소이고; G¹ 및 R³ 은 이들이 결합된 탄소 원자와 함께

30) X 는 이미다졸릴 또는 트리아졸릴이고; R¹ 은 수소이고; G¹ 은 -NR⁷²R⁸² 이거나, 또는 G¹ 및 R³ 이 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 R⁶⁷에 의해 임의로 치환되며, 상기 헤테로사이클릭 포화된 고리 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리의 N 헤테로 원자는 R⁷² 치환체에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R⁷² 및 R⁸² 는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷³R⁸³ 또는 -NR⁷³R⁸³ 치환체에 의해 임의로 치환되고; Y는 산소이고; Q¹ 은 -CO₂R⁷⁵, 또는 -CONR⁷⁵R⁸⁵ 이고; R^4a, R^4b, R^5a 및 R^5b 는 각각 독립적으로 C_0-10알킬(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임 의로 치환되고; R^6a 와 R^6b 는 각각 수소이고; R² 는 수소이고; R³ 은 메틸이거나; 또는

31) X 는 이미다졸릴 또는 트리아졸릴이고; R¹ 은 수소이고; G¹ 은 -NR⁷²R⁸² 이거나, 또는 G¹ 및 R³ 이 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 R⁶⁷에 의해 임의로 치환되며, 상기 헤테로사이클릭 포화된 고리 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리의 N 헤테로 원자는 R⁷² 치환체에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R⁷² 및 R⁸² 는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷³R⁸³ 또는 -NR⁷³R⁸³ 치환체에 의해 임의로 치환되고; Y는 산소이고; Q¹ 은 -CO₂R⁷⁵, 또는 -CONR⁷⁵R⁸⁵ 이고; R^4a, R^4b, R^5a 및 R^5b 는 각각 독립적으로 C_0-10알킬(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되고; R^6a 와 R^6b 는 각각 수소이고; R² 는 수소이고; R³ 은 에틸이거나; 또는

32) X 는 이미다졸릴 또는 트리아졸릴이고; R¹ 은 수소이고; G¹ 은 -NR⁷²R⁸² 이거나, 또는 G¹ 및 R³ 이 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 R⁶⁷에 의해 임의로 치환되며, 상기 헤테로사이클릭 포화된 고리 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리의 N 헤테로 원자는 R⁷² 치환체에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R⁷² 및 R⁸² 는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷³R⁸³ 또는 -NR⁷³R⁸³ 치환체에 의해 임의로 치환되고; Y는 산소이고; Q¹ 은 -CO₂R⁷⁵, 또는 -CONR⁷⁵R⁸⁵ 이고; R^4a, R^4b, R^5a 및 R^5b 는 각각 독립적으로 C_0-10알킬(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되고; R^6a 와 R^6b 는 각각 수소이고; R² 및 R³ 은 메틸이거나; 또는

33) X 는 헤트아릴, 이미다졸릴 또는 트리아졸릴이고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁶ 치환체에 의해 임의로 치환되고; R¹ 및 R³은 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬이고; G¹ 은 -NR⁷²R⁸² 이거나, 또는 G¹ 및 R³ 이 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상 의 독립적인 R⁶⁷에 의해 임의로 치환되며, 상기 헤테로사이클릭 포화된 고리 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리의 N 헤테로 원자는 R⁷² 치환체에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R⁷² 및 R⁸² 는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷³R⁸³ 또는 -NR⁷³R⁸³ 치환체에 의해 임의로 치환되고; Y는 산소이고; Q¹ 은 C₀ _- ₆알킬, -CO₂R⁷⁵, 또는 -CONR⁷⁵R⁸⁵ 이고; R^4a, R^4b, R^5a 및 R^5b 는 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되고; R^6a 와 R^6b 는 각각 독립적으로 할로, -OR⁷⁸, -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7, -CO₂R⁷⁸, -CONR⁷⁸R⁸⁸, -NO₂, -CN, -S(O)_n7R⁷⁸, -SO₂NR⁷⁸R⁸⁸, 또는 C₀ _- ₁₀알킬이고; R² 는 수소이고; G¹ 및 R³ 은 이들이 결합된 탄소 원자와 함께

(여기에서 ●은 이들이 결합된 탄소이다)를 형성하고, 이들 중 어느 것이든 하나 내지 10 개의 독립적인 R⁶⁷ 치환체에 의해 임의로 치환되고; n1 및 n2는 각각 1이고; Z는 아릴이거나; 또는

34) X 는 헤트아릴, 이미다졸릴 또는 트리아졸릴이고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁶ 치환체에 의해 임의로 치환되고; R¹ 및 R³은 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬이고; G¹ 은 -NR⁷²R⁸² 이거나, 또는 G¹ 및 R³ 이 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 R⁶⁷에 의해 임의로 치환되며, 상기 헤테로사이클릭 포화된 고리 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리의 N 헤테로 원자는 R⁷² 치환체에 의해 임의로 치환되 거나; 또는 R⁷² 및 R⁸² 는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷³R⁸³ 또는 -NR⁷³R⁸³ 치환체에 의해 임의로 치환되고; Y는 산소이고; Q¹ 은 C₀ _- ₆알킬, -CO₂R⁷⁵, 또는 -CONR⁷⁵R⁸⁵ 이고; R^4a, R^4b, R^5a 및 R^5b 은 각각 독립적으로 C₀ _-10알킬(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되고; R^6a 와 R^6b 는 각각 독립적으로 할로, -OR⁷⁸, -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7, -CO₂R⁷⁸, -CONR⁷⁸R⁸⁸, -NO₂, -CN, -S(O)_n7R⁷⁸, -SO₂NR⁷⁸R⁸⁸, 또는 C₀ _- ₁₀알킬이고; R² 는 수소이고; G¹ 및 R³ 은 이들이 결합된 탄소 원자와 함께

(여기에서 ●은 이들이 결합된 탄소이다)를 형성하고, 이들 중 어느 것이든 하나 내지 10 개의 독립적인 R⁶⁷ 치환체에 의해 임의로 치환되고; n1 및 n2는 각각 1이고; n3 및 n4는 각각 0이고; Z는 아릴이거나; 또는

35) X 는 헤트아릴, 이미다졸릴 또는 트리아졸릴이고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁶ 치환체에 의해 임의로 치환되고; R¹ 및 R³은 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬이고; G¹ 은 -NR⁷²R⁸² 이거나, 또는 G¹ 및 R³ 이 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁷에 의해 임의로 치환되며, 상기 헤테로사이클릭 포화된 고리 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리의 N 헤테로 원자는 R⁷² 치환체에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R⁷² 및 R⁸² 는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록 시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷³R⁸³ 또는 -NR⁷³R⁸³ 치환체에 의해 임의로 치환되고; Y는 산소이고; R^4a, R^4b, R^5a 및 R^5b 은 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되고; R^6a 와 R^6b 는 각각 독립적으로 할로, -OR⁷⁸, -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7, -CO₂R⁷⁸, -CONR⁷⁸R⁸⁸, -NO₂, -CN, -S(O)_n7R⁷⁸, -SO₂NR⁷⁸R⁸⁸, 또는 C₀ _- ₁₀알킬이고; R² 는 수소이고; G¹ 및 R³ 은 이들이 결합된 탄소 원자와 함께

(여기에서 ●은 이들이 결합된 탄소이다)를 형성하고, 이들 중 어느 것이든 하나 내지 10 개의 독립적인 R⁶⁷ 치환체에 의해 임의로 치환되고; n1 및 n2는 각각 1이고; Z는 아릴이고; Q¹은 -CO₂R⁷⁵이거나; 또는

36) X 는 헤트아릴, 이미다졸릴 또는 트리아졸릴이고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁶ 치환체에 의해 임의로 치환되고; R¹ 및 R³은 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬이고; G¹ 은 -NR⁷²R⁸² 이거나, 또는 G¹ 및 R³ 이 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁷에 의해 임의로 치환되며, 상기 헤테로사이클릭 포화된 고리 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리의 N 헤테로 원자는 R⁷² 치환체에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R⁷² 및 R⁸² 는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷³R⁸³ 또는 -NR⁷³R⁸³ 치환체에 의해 임의로 치환되고; Y는 산소이고; R^4a, R^4b, R^5a 및 R^5b 는 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되고; R^6a 와 R^6b 는 각각 독립적으로 할로, -OR⁷⁸, -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7, -CO₂R⁷⁸, -CONR⁷⁸R⁸⁸, -NO₂, -CN, -S(O)_n7R⁷⁸, -SO₂NR⁷⁸R⁸⁸, 또는 C₀ _- ₁₀알킬이고; R² 는 수소이고; G¹ 및 R³ 은 이들이 결합된 탄소 원자와 함께

(여기에서 ●은 이들이 결합된 탄소이다)를 형성하고, 이들 중 어느 것이든 하나 내지 10 개의 독립적인 R⁶⁷ 치환체에 의해 임의로 치환되고; n1 및 n2 는 각각 1이고; Z는 아릴이고; Q¹은 -CO₂H이고;

각각의 경우에, 다른 변수들은 화학식 I에 대해서 정의한 바와 같다.

본 발명의 화합물에는 하기의 화합물들이 포함된다:

3-[6-(2-디메틸아미노-1-이미다졸-1-일-프로필)-나프탈렌-2-일옥시]-2,2-디메틸-프로피온산;

2-[6-(2-디메틸아미노-1-이미다졸-1-일-프로필)-나프탈렌-2-일옥시메틸]-2-에틸-부티르산;

1-[6-(2-디메틸아미노-1-이미다졸-1-일-프로필)-나프탈렌-2-일옥시메틸]-사이클로프로판카복실산;

1-[6-(2-디메틸아미노-1-이미다졸-1-일-프로필)-나프탈렌-2-일옥시메틸]-사이클로부탄카복실산;

1-[6-(2-디메틸아미노-1-이미다졸-1-일-프로필)-나프탈렌-2-일옥시메틸]-사이클로펜탄카복실산;

1-[6-(2-디메틸아미노-1-이미다졸-1-일-프로필)-나프탈렌-2-일옥시메틸]-사이클로헥산카복실산;

1-{6-[1-이미다졸-1-일-2-(이소프로필메틸아미노)-프로필]-나프탈렌-2-일옥시메틸}-사이클로펜탄카복실산;

3-[6-(2-디에틸아미노-1-이미다졸-1-일-프로필)-나프탈렌-2-일옥시]-2,2-디메틸-프로피온산;

3-{6-[1-이미다졸-1-일-2-(이소프로필메틸아미노)-프로필]-나프탈렌-2-일옥시}-2,2-디메틸-프로피온산;

3-{6-[2-(에틸-메틸-아미노)-1-이미다졸-1-일-프로필]-나프탈렌-2-일옥시}-2,2-디메틸-프로피온산;

3-[6-(2-디메틸아미노-1-이미다졸-1-일-프로필)-나프탈렌-2-일옥시]-2,2-디메틸-프로피온아미드;

3-[6-(2-디메틸아미노-1-이미다졸-1-일-프로필)-나프탈렌-2-일옥시]-2,2-N-트리메틸-프로피온아미드;

3-[6-(2-디메틸아미노-1-이미다졸-1-일-프로필)-나프탈렌-2-일옥시]-2,2-N,N-테트라메틸-프로피온아미드;

3-[6-(2-디메틸아미노-1-이미다졸-1-일-부틸)-나프탈렌-2-일옥시]-2,2-디메틸-프로피온산;

4-[6-(2-디메틸아미노-1-이미다졸-1-일-프로필)-나프탈렌-2-일옥시메틸]-벤조산;

3-[6-(2-디메틸아미노-1-이미다졸-1-일-프로필)-나프탈렌-2-일옥시메틸]-벤조산;

4-[6-(2-디메틸아미노-1-이미다졸-1-일-프로필)-나프탈렌-2-일옥시메틸]-벤즈아미드;

4-[6-(2-디메틸아미노-1-이미다졸-1-일-프로필)-나프탈렌-2-일옥시메틸]-N-메틸-벤즈아미드;

4-[6-(2-디메틸아미노-1-이미다졸-1-일-프로필)-나프탈렌-2-일옥시메틸]-N,N-디메틸-벤즈아미드; 및

1-[(6-벤질옥시-나프탈렌-2-일)-(1-메틸-피롤리딘-2-일)-메틸]-1H-이미다졸.

달리 나타내지 않는 한, 화합물 명칭 잔기들의 연결은 가장 오른쪽에 인용된 잔기에 있다. 즉, 치환체 명칭은 말단 잔기에서 출발하여, 임의의 가교 잔기들에서 계속되고 연결 잔기에서 끝난다. 예를 들어, 헤트아릴티오C₁ _- ₄알킬은 티오 황을 통해 C₁ _-4 알킬(이는 상기 치환체를 갖는 화학 종들에 연결된다)에 연결된 헤테로아릴 그룹을 갖는다.

본 발명에 사용된 바와 같이, 예를 들어 "C₀ _- ₄알킬"은 탄소수 0 내지 4, 즉 0, 1, 2, 3 또는 4 개의 탄소를 갖는 직선 또는 분지된 형태의 알킬을 의미하는데 사용된다. 탄소를 갖지 않는 알킬은 상기 알킬이 말단 그룹인 경우 수소이다. 탄소를 갖지 않는 알킬은 상기 알킬이 가교(연결) 그룹인 경우 직접 결합이다.

본 발명의 모든 실시태양에서, "알킬"이란 용어는 모든 분지 쇄 및 직쇄 알킬 그룹을 포함한다. 전형적인 알킬 그룹은 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 2급-부틸, 이소부틸, 3급-부틸, n-펜틸, 이소펜틸, n-헥실, n-헵틸, 이소옥틸, 노닐, 데실, 운데실, 도데실, 테트라데실, 헥사데실, 옥타데실, 에이코실 등이다.

"할로"란 용어는 플루오로, 클로로, 브로모 또는 요오도를 지칭한다.

"할로알킬"이란 용어는 하나 이상의 할로 그룹으로 치환된 알킬 그룹, 예를 들어 클로로메틸, 2-브로모에틸, 3-요오도프로필, 트리플루오로메틸, 퍼플루오로프로필, 8-클로로노닐 등을 지칭한다.

"사이클로알킬"이란 용어는 알킬, 하이드록시 및 할로에 의해 임의로 치환된 환상 지방족 고리 구조, 예를 들어 사이클로프로필, 메틸사이클로프로필, 사이클로부틸, 사이클로펜틸, 2-하이드록시사이클로펜틸, 사이클로헥실, 4-클로로사이클로헥실, 사이클로헵틸, 사이클로옥틸 등을 지칭한다.

"알킬카보닐옥시알킬"이란 용어는 에스테르 잔기, 예를 들어 아세톡시메틸, n-부티릴옥시에틸 등을 지칭한다.

"알키닐카보닐"이란 용어는 알키닐케토 작용기, 예를 들어 프로피노일 등을 지칭한다.

"하이드록시알킬"이란 용어는 하나 이상의 하이드록시 그룹에 의해 치환된 알킬 그룹, 예를 들어 하이드록시메틸, 2,3-디하이드록시부틸 등을 지칭한다.

"알킬설포닐알킬"이란 용어는 알킬설포닐 잔기에 의해 치환된 알킬 그룹, 예를 들어 메실메틸, 이소프로필설포닐에틸 등을 지칭한다.

"알킬설포닐"이란 용어는 알킬 그룹에 의해 치환된 설포닐 잔기, 예를 들어 메실, n-프로필설포닐 등을 지칭한다.

"아세틸아미노알킬"이란 용어는 아미드 잔기에 의해 치환된 알킬 그룹, 예를 들어 아세틸아미노메틸 등을 지칭한다.

"아세틸아미노알케닐"이란 용어는 아미드 잔기에 의해 치환된 알케닐 그룹, 예를 들어 2-(아세틸아미노)비닐 등을 지칭한다.

"알케닐"이란 용어는 하나 또는 2 개의 에틸렌 결합을 갖는 에틸렌형으로 불포화된, 직쇄 또는 분지쇄 탄화수소 그룹, 예를 들어 비닐, 알릴, 1-부테닐, 2-부테닐, 이소프로페닐, 2-펜테닐 등을 지칭한다.

"할로알케닐"이란 용어는 하나 이상의 할로 그룹에 의해 임의로 치환된 알케닐 그룹을 지칭한다.

"사이클로알케닐"이란 용어는 알킬, 하이드록시 및 할로에 의해 임의로 치환되고, 하나 또는 2 개의 에틸렌 결합을 갖는 환상 지방족 구조, 예를 들어 메틸사이클로프로페닐, 트리플루오로메틸사이클로프로페닐, 사이클로펜테닐, 사이클로헥세닐, 1,4-사이클로헥사디에닐 등을 지칭한다.

"알키닐"이란 용어는 하나 또는 2 개의 아세틸렌 결합을 갖는 직쇄 또는 분지된 불포화된 탄화수소 그룹, 예를 들어 에티닐, 프로파길 등을 지칭한다.

"할로알키닐"이란 용어는 하나 이상의 할로 그룹에 의해 치환된 알키닐 그룹을 지칭한다.

"알킬카보닐"이란 용어는 알킬케토 작용기, 예를 들어 아세틸, n-부티릴 등을 지칭한다.

"알케닐카보닐"이란 용어는 알케닐케토 작용기, 예를 들어 프로페노일 등을 지칭한다.

"아릴"이란 용어는 임의로 치환될 수 있는 페닐 또는 나프틸을 지칭한다. 전형적인 아릴 치환체로는 비 제한적으로 페닐, 4-클로로페닐, 4-플루오로페닐, 4-브로모페닐, 3-니트로페닐, 2-메톡시페닐, 2-메틸페닐, 3-메틸페닐, 4-메틸페닐, 4-에틸페닐, 2-메틸-3-메톡시페닐, 2,4-디브로모페닐, 3,5-디플루오로페닐, 3,5-디메틸페닐, 2,4,6-트리클로로페닐, 4-메톡시페닐, 나프틸, 2-클로로나프틸, 2,4-디메톡시페닐, 4-(트리플루오로메틸)페닐 및 2-요오도-4-메틸페닐이 있다.

"헤테로아릴" 또는 "헤트아릴"이란 용어는 산소, 질소 및 황 중에서 독립적으로 선택된 1, 2, 3 또는 4 개의 헤테로원자, 바람직하게는 1 또는 2 개의 헤테로원자를 함유하는 치환되거나 비 치환된 3 내지 10 원의 불포화된 고리, 또는 산소, 질소 및 황 중에서 선택된 하나 이상의 헤테로원자를 포함하는 10 개 이하의 원자를 함유하는 비사이클릭 불포화된 고리 시스템을 지칭한다. 헤트아릴의 예로는 비 제한적으로 2-, 3- 또는 4-피리디닐, 피라지닐, 2-, 4- 또는 5-피리미디닐, 피리다지닐, 트리아졸릴, 테트라졸릴, 이미다졸릴, 2- 또는 3-티에닐, 2- 또는 3-푸릴, 피롤릴, 옥사졸릴, 이속사졸릴, 티아졸릴, 이소티아졸릴, 옥사디아졸릴, 티아디아졸릴, 퀴놀릴, 이소퀴놀릴, 벤즈이미다졸릴, 벤조트리아졸릴, 벤조푸라닐 및 벤조티에닐이 있다. 상기 헤테로사이클릭 고리를 2 개 이하의 치환체로 임의로 치환시킬 수 있다.

"아릴-알킬" 또는 "아릴알킬"이란 용어는 알킬 쇄가 앞서 정의한 바와 같이 상기 아릴-알킬 잔기의 가교 부분을 형성하는 아릴 부분을 갖는 분지되거나 직쇄일 수 있는 그룹을 개시하는데 사용된다. 아릴-알킬 그룹의 예로는 비 제한적으로 임의로 치환된 벤질, 펜에틸, 펜프로필 및 펜부틸, 예를 들어 4-클로로벤질, 2,4-디브로모벤질, 2-메틸벤질, 2-(3-플루오로페닐)에틸, 2-(4-메틸페닐)에틸, 2-(4-트리플루오로메틸)페닐)에틸, 2-(2-메톡시페닐)에틸, 2-(3-니트로페닐)에틸, 2-(2,4- 디클로로페닐)에틸, 2-(3,5-디메톡페닐)에틸, 3-페닐프로필, 3-(3-클로로페닐)프로필, 3-(2-메틸페닐)프로필, 3-(4-메톡시페닐)프로필, 3-(4-트리플루오로메틸)페닐)프로필, 3-(2,4-디클로로페닐)프로필, 4-페닐부틸, 4-(4-클로로페닐)부틸, 4-(2-메틸페닐)부틸, 4-(2,4-디클로로페닐)부틸, 4-(2-메톡시페닐)부틸 및 10-페닐데실이 있다.

"아릴-사이클로알킬" 또는 "아릴사이클로알킬"이란 용어는 아릴 그룹이 사이클로알킬 그룹에 결합된 그룹, 예를 들어 페닐사이클로펜틸 등을 개시하는데 사용된다.

"아릴-알케닐" 또는 "아릴알케닐"이란 용어는 알케닐 쇄가 앞서 정의한 바와 같이 아르알케닐 잔기의 가교 부분을 형성하는 아릴 부분을 갖는 분지되거나 직쇄일 수 있는 그룹, 예를 들어 스티릴(2-페닐비닐), 펜프로페닐 등을 개시하는데 사용된다.

"아릴-알키닐" 또는 "아릴알키닐"이란 용어는 알키닐 쇄가 앞서 정의한 바와 같이 아릴-알키닐 잔기의 가교 부분을 형성하는 아릴 부분을 갖는 분지되거나 직쇄일 수 있는 그룹, 예를 들어 3-페닐-1-프로피닐 등을 개시하는데 사용된다.

"아릴-옥시" 또는 "아릴옥시"란 용어는 가교 산소 원자에 결합된 말단 아릴 그룹을 개시하는데 사용된다. 전형적인 아릴-옥시 그룹으로는 페녹시, 3,4-디클로로페녹시 등이 있다.

"아릴-옥시알킬" 또는 "아릴옥시알킬"이란 용어는 알킬 그룹이 아릴-옥시 그룹에 의해 치환되는 그룹, 예를 들어 펜타플루오로페녹시메틸 등을 개시하는데 사 용된다.

"헤트아릴-옥시" 또는 "헤테오아릴-옥시" 또는 "헤트아릴옥시" 또는 "헤테로아릴옥시"란 용어는 가교 산소 원자에 결합된 말단 헤트아릴 그룹을 개시하는데 사용된다. 전형적인 헤트아릴-옥시 그룹으로는 4,6-디메톡시피리미딘-2-일옥시 등이 있다.

"헤트아릴알킬" 또는 "헤테로아릴알킬" 또는 "헤트아릴-알킬" 또는 "헤테로아릴-알킬"이란 용어는 알킬 쇄가 앞서 정의한 바와 같이 헤테로아르알킬 잔기의 가교 부분을 형성하는 헤테로아릴 부분을 갖는 분지되거나 직쇄일 수 있는 그룹, 예를 들어 3-푸릴메틸, 테닐, 푸르푸릴 등을 개시하는데 사용된다.

"헤트아릴알케닐" 또는 "헤테로아릴알케닐" 또는 "헤트아릴-알케닐" 또는 "헤테로아릴-알케닐"이란 용어는 알케닐 쇄가 앞서 정의한 바와 같이 헤테로아르알케닐 잔기의 가교 부분을 형성하는 헤테로아릴 부분을 갖는 분지되거나 직쇄일 수 있는 그룹, 예를 들어 3-(4-피리딜)-1-프로페닐을 개시하는데 사용된다.

"헤트아릴알키닐" 또는 "헤테로아릴알키닐" 또는 "헤트아릴-알키닐" 또는 "헤테로아릴-알키닐"이란 용어는 알키닐 쇄가 앞서 정의한 바와 같이 헤테로아르알키닐 잔기의 가교 부분을 형성하는 헤테로아릴 부분을 갖는 분지되거나 직쇄일 수 있는 그룹, 예를 들어 4-(2-티에닐)-1-부티닐을 개시하는데 사용된다.

"헤테로사이클릴"이란 용어는 산소, 질소 및 황 중에서 독립적으로 선택된 1, 2, 3 또는 4 개의 헤테로원자, 바람직하게는 1 또는 2 개의 헤테로원자를 함유하는 치환되거나 비 치환된 3 내지 10 원의 포화된 고리, 또는 산소, 질소 및 황 중에서 선택된 하나 이상의 헤테로원자를 포함하는 10 개 이하의 원자를 함유하는 비사이클릭 고리 시스템(이때 상기 헤테로원자를 함유하는 고리는 포화된다)을 지칭한다. 헤테로사이클릴의 예로는 비 제한적으로 테트라하이드로푸라닐, 테트라하이드로푸릴, 피롤리디닐, 피페리디닐, 4-피라닐, 테트라하이드로피라닐, 티올라닐, 모르폴리닐, 피페라지닐, 디옥솔라닐, 디옥사닐, 인돌리닐 및 5-메틸-6-크로마닐이 있다.

"헤테로사이클릴알킬" 또는 "헤테로사이클릴-알킬"이란 용어는 알킬 쇄가 앞서 정의한 바와 같이 헤테로사이클릴알킬 잔기의 가교 부분을 형성하는 헤테로사이클릴 부분을 갖는 분지되거나 직쇄일 수 있는 그룹, 예를 들어 3-피페리디닐메틸 등을 개시하는데 사용된다.

"헤테로사이클릴알케닐" 또는 "헤테로사이클릴-알케닐"이란 용어는 알케닐 쇄가 앞서 정의한 바와 같이 헤테로사이클릴알케닐 잔기의 가교 부분을 형성하는 헤테로사이클릴 부분을 갖는 분지되거나 직쇄일 수 있는 그룹, 예를 들어 2-모르폴리닐-1-프로페닐을 개시하는데 사용된다.

"헤테로사이클릴알키닐" 또는 "헤테로사이클릴-알키닐"이란 용어는 알키닐 쇄가 앞서 정의한 바와 같이 헤테로사이클릴알키닐 잔기의 가교 부분을 형성하는 헤테로사이클릴 부분을 갖는 분지되거나 직쇄일 수 있는 그룹, 예를 들어 2-피롤리디닐-1-부티닐을 개시하는데 사용된다.

"카복실알킬"이란 용어는 카복실(-COOH) 그룹에 결합된 앞서 정의한 바와 같은 분지쇄 및 직쇄 알킬 그룹 모두를 포함한다.

"카복실알케닐"이란 용어는 카복실(-COOH) 그룹에 결합된 앞서 정의한 바와 같은 분지쇄 및 직쇄 알케닐 그룹 모두를 포함한다.

"카복실알키닐"이란 용어는 카복실(-COOH) 그룹에 결합된 앞서 정의한 바와 같은 분지쇄 및 직쇄 알키닐 그룹 모두를 포함한다.

"카복실사이클로알킬"이란 용어는 앞서 정의한 바와 같은 환상 지방족 고리 구조에 결합된 카복실(-COOH) 그룹을 지칭한다.

"카복실사이클로알케닐"이란 용어는 앞서 정의한 바와 같은 하나 또는 2 개의 에틸렌 결합을 갖는 환상 지방족 고리 구조에 결합된 카복실(-COOH) 그룹을 지칭한다.

"사이클로알킬알킬" 또는 "사이클로알킬-알킬"이란 용어는 알킬 그룹에 결합된 앞서 정의한 바와 같은 사이클로알킬 그룹, 예를 들어 사이클로프로필메틸, 사이클로헥실에틸 등을 지칭한다.

"사이클로알킬알케닐" 또는 "사이클로알킬-알케닐"이란 용어는 알케닐 그룹에 결합된 앞서 정의한 바와 같은 사이클로알킬 그룹, 예를 들어 사이클로헥실비닐, 사이클로헵틸알릴 등을 지칭한다.

"사이클로알킬알키닐" 또는 "사이클로알킬-알키닐"이란 용어는 알키닐 그룹에 결합된 앞서 정의한 바와 같은 사이클로알킬 그룹, 예를 들어 사이클로프로필프로파길, 4-사이클로펜틸-2-부티닐 등을 지칭한다.

"사이클로알케닐알킬" 또는 "사이클로알케닐-알킬"이란 용어는 알킬 그룹에 결합된 앞서 정의한 바와 같은 사이클로알케닐 그룹, 예를 들어 2-(사이클로펜텐- 1-일)에틸 등을 지칭한다.

"사이클로알케닐알케닐" 또는 "사이클로알케닐-알케닐"이란 용어는 알케닐 그룹에 결합된 앞서 정의한 바와 같은 사이클로알케닐 그룹, 예를 들어 1-(사이클로헥센-3-일)알릴 등을 지칭한다.

"사이클로알케닐알키닐" 또는 "사이클로알케닐-알키닐"이란 용어는 알키닐 그룹에 결합된 앞서 정의한 바와 같은 사이클로알케닐 그룹, 예를 들어 1-(사이클로헥센-3-일)프로파길 등을 지칭한다.

"카복시사이클로알킬알킬"이란 용어는 앞서 정의한 바와 같은 사이클로알킬알킬 그룹의 사이클로알킬 고리 부분에 결합된 카복실(-COOH) 그룹을 지칭한다.

"카복시사이클로알킬알케닐"이란 용어는 앞서 정의한 바와 같은 사이클로알킬알케닐 그룹의 사이클로알킬 고리 부분에 결합된 카복실(-COOH) 그룹을 지칭한다.

"카복시사이클로알킬알키닐"이란 용어는 앞서 정의한 바와 같은 사이클로알킬알키닐 그룹의 사이클로알킬 고리 부분에 결합된 카복실(-COOH) 그룹을 지칭한다.

"카복시사이클로알케닐알킬"이란 용어는 앞서 정의한 바와 같은 사이클로알케닐알킬 그룹의 사이클로알케닐 고리 부분에 결합된 카복실(-COOH) 그룹을 지칭한다.

"카복시사이클로알케닐알케닐"이란 용어는 앞서 정의한 바와 같은 사이클로알케닐알케닐 그룹의 사이클로알케닐 고리 부분에 결합된 카복실(-COOH) 그룹을 지 칭한다.

"카복시사이클로알케닐알키닐"이란 용어는 앞서 정의한 바와 같은 사이클로알케닐알키닐 그룹의 사이클로알케닐 고리 부분에 결합된 카복실(-COOH) 그룹을 지칭한다.

"알콕시"란 용어는 가교 산소 원자에 결합된 분지쇄 및 직쇄 말단 알킬 그룹을 모두 포함한다. 전형적인 알콕시 그룹으로는 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, 이소프로폭시, 3 급-부톡시 등이 있다.

"할로알콕시"란 용어는 하나 이상의 할로 그룹에 의해 치환된 알콕시 그룹, 예를 들어 클로로메톡시, 트리플루오로메톡시, 디플루오로메톡시, 퍼플루오로이소부톡시 등을 지칭한다.

"알콕시알콕시알킬"이란 용어는 알콕시 잔기에 의해 치환되고, 차례로 제 2 알콕시 잔기에 의해 치환된 알킬 그룹, 예를 들어 메톡시메톡시메틸, 이소프로폭시메톡시에틸 등을 지칭한다.

"알킬티오"란 용어는 가교 황 원자에 결합된 분지쇄 및 직쇄 알킬 그룹 모두, 예를 들어 메틸티오를 포함한다.

"할로알킬티오"란 용어는 하나 이상의 할로 그룹에 의해 치환된 알킬티오 그룹, 예를 들어 트리플루오로메틸티오를 지칭한다.

"알콕시알킬"이란 용어는 알콕시 그룹에 의해 치환된 알킬 그룹, 예를 들어 이소프로폭시메틸을 지칭한다.

"알콕시알케닐"이란 용어는 알콕시 그룹에 의해 치환된 알케닐 그룹, 예를 들어 3-메톡시알릴을 지칭한다.

"알콕시알키닐"이란 용어는 알콕시 그룹에 의해 치환된 알키닐 그룹, 예를 들어 3-메톡시프로파길을 지칭한다.

"알콕시카보닐알킬"이란 용어는 알콕시카보닐에 의해 치환된 직쇄 또는 분지된 알킬, 예를 들어 에톡시카보닐메틸, 2-(메톡시카보닐)프로필 등을 지칭한다.

"알콕시카보닐알케닐"이란 용어는 알콕시카보닐에 의해 치환된 앞서 정의한 바와 같은 직쇄 또는 분지된 알케닐, 예를 들어 4-(에톡시카보닐)-2-부테닐 등을 지칭한다.

"알콕시카보닐알키닐"이란 용어는 알콕시카보닐에 의해 치환된 앞서 정의한 바와 같은 직쇄 또는 분지된 알키닐, 예를 들어 4-(에톡시카보닐)-2-부티닐 등을 지칭한다.

"할로알콕시알킬"이란 용어는 할로알콕시에 의해 치환된 앞서 정의한 바와 같은 직쇄 또는 분지된 알킬, 예를 들어 2-클로로에톡시메틸, 트리플루오로메톡시메틸 등을 지칭한다.

"할로알콕시알케닐"이란 용어는 할로알콕시에 의해 치환된 앞서 정의한 바와 같은 직쇄 또는 분지된 알케닐, 예를 들어 4-(클로로메톡시)-2-부테닐 등을 지칭한다.

"할로알콕시알키닐"이란 용어는 할로알콕시에 의해 치환된 앞서 정의한 바와 같은 직쇄 또는 분지된 알키닐, 예를 들어 4-(2-플루오로에톡시)-2-부티닐 등을 지칭한다.

"알킬티오알킬"이란 용어는 알킬티오 그룹에 의해 치환된 앞서 정의한 바와 같은 직쇄 또는 분지된 알킬, 예를 들어 메틸티오메틸, 3-(이소부틸티오)헵틸 등을 지칭한다.

"알킬티오알케닐"이란 용어는 알킬티오 그룹에 의해 치환된 앞서 정의한 바와 같은 직쇄 또는 분지된 알케닐, 예를 들어 4-(메틸티오)-2-부테닐 등을 지칭한다.

"알킬티오알키닐"이란 용어는 알킬티오 그룹에 의해 치환된 앞서 정의한 바와 같은 직쇄 또는 분지된 알키닐, 예를 들어 4-(에틸티오)-2-부티닐 등을 지칭한다.

"할로알킬티오알킬"이란 용어는 할로알킬티오 그룹에 의해 치환된 앞서 정의한 바와 같은 직쇄 또는 분지된 알킬, 예를 들어 2-클로로에틸티오메틸, 트리플루오로메틸티오메틸 등을 지칭한다.

"할로알킬티오알케닐"이란 용어는 할로알킬티오 그룹에 의해 치환된 앞서 정의한 바와 같은 직쇄 또는 분지된 알케닐, 예를 들어 4-(클로로메틸티오)-2-부테닐 등을 지칭한다.

"할로알킬티오알키닐"이란 용어는 할로알킬티오 그룹에 의해 치환된 앞서 정의한 바와 같은 직쇄 또는 분지된 알키닐, 예를 들어 (2-플루오로에틸티오)-2-부티닐 등을 지칭한다.

"디알콕시포스포릴알킬"이란 용어는 옥소 치환체를 함유하는 5 가의 인 원자에 결합되고, 차례로 알킬에 결합된 앞서 정의한 바와 같은 2 개의 직쇄 또는 분지 된 알콕시 그룹, 예를 들어 디에톡시포스포릴메틸을 지칭한다.

"올리고머"란 용어는 수 평균 분자량이 전형적으로는 약 5000 g/몰 미만이고, 중합도(쇄당 평균 단량체 단위 수)가 1 초과 내지 전형적으로는 약 50 이하인 저 분자량 중합체를 지칭한다.

본 발명에 개시된 화합물은 하나 이상의 비대칭 중심을 함유하며 따라서 부분 입체 이성체 및 광학 이성체를 생성시킬 수 있다. 본 발명은 모든 상기와 같은 가능한 부분 입체 이성체뿐만 아니라 그의 라세미 혼합물, 그의 실질적으로 순수한 분리된 거울상 이성체, 모든 가능한 기하 이성체, 및 그의 약학적으로 허용 가능한 염을 포함한다. 상기 화학식 I을 특정 위치에서의 한정적인 입체화학 없이 나타낸다. 본 발명은 화학식 I의 모든 입체 이성체 및 그의 약학적으로 허용 가능한 염을 포함한다. 더욱이, 입체 이성체들의 혼합물뿐만 아니라 단리된 특정 입체 이성체들도 또한 포함한다. 상기와 같은 화합물의 제조에 사용되는 합성 방법의 과정 동안, 또는 당해 분야의 숙련가들에게 공지된 라셈화 또는 에피머화 방법을 사용하는 중에, 상기와 같은 방법들의 생성물들은 입체 이성체들의 혼합물일 수 있다.

상기 화합물들의 거울상 이성체 내에서 X 및 G¹ 치환체를 포함한 syn 및 anti 이성체는 모두 활성을 나타낸다. 상기 syn 이성체가 anti 이성체보다 더 활성이며, 따라서 상기가 바람직한 이성체인 것으로 밝혀졌다. 더욱 또한, 상기 X 및 G¹ 결합 위치에 2 개의 키랄 중심이 존재하는 것이 바람직하다.

본 발명은 또한 화학식 I의 화합물을 약학적으로 허용 가능한 담체와 함께 포함하는 약학 조성물을 포함한다.

바람직하게는, 상기 조성물은 약학적으로 허용 가능한 담체 및 무독성의 치료 유효량의 상술한 바와 같은 화학식 I의 화합물(또는 그의 약학적으로 허용 가능한 염)을 포함한다.

더욱이, 상기 바람직한 실시태양 내에서, 본 발명은 시토크롬 P450RAI 효소를 억제하여 상피 세포를 조절 및 분화시킴으로써 질병을 치료하는, 약학적으로 허용 가능한 담체 및 무독성의 치료 유효량의 상술한 바와 같은 화학식 I의 화합물(또는 그의 약학적으로 허용 가능한 염)을 포함하는 약학 조성물을 포함한다.

"약학적으로 허용 가능한 염"이란 용어는 약학적으로 허용 가능한 무독성 염기 또는 산으로부터 제조된 염을 지칭한다. 본 발명의 화합물이 산성인 경우, 그의 상응하는 염을 편의상 약학적으로 허용 가능한 무독성 염기, 예를 들어 무기 염기 및 유기 염기로부터 제조할 수 있다. 상기와 같은 무기 염기로부터 유도되는 염으로는 알루미늄, 암모늄, 칼슘, 구리(제 1 및 제 2), 제 1 철, 제 2 철, 리튬, 마그네슘, 망간(제 1 및 제 2), 칼륨, 나트륨, 아연 등의 염이 있다. 암모늄, 칼슘, 마그네슘, 칼륨 및 나트륨 염이 특히 바람직하다. 약학적으로 허용 가능한 유기 무독성 염기로부터 유도되는 염으로는 1 급, 2 급 및 3 급 아민뿐만 아니라 환상 아민 및 치환된 아민, 예를 들어 천연 및 합성의 치환된 아민의 염이 있다. 염을 형성할 수 있는 다른 약학적으로 허용 가능한 유기 무독성 염기로는 이온 교환 수지, 예를 들어 아르기닌, 베타인, 카페인, 콜린, N',N'-디벤질에틸렌디아민, 디에틸아민, 2-디에틸아미노에탄올, 2-디메틸아미노에탄올, 에탄올아민, 에틸렌디아민, N-에틸모르폴린, N-에틸피페리딘, 글루카민, 글루코스아민, 히스티딘, 히드라바민, 이소프로필아민, 리신, 메틸글루카민, 모르폴린, 피페라진, 피페리딘, 폴리아민 수지, 프로카인, 퓨린, 테오브롬, 트리에틸아민, 트리메틸아민, 트리프로필아민, 트로메타민 등이 있다.

본 발명의 화합물이 염기성인 경우, 그의 상응하는 염을 편의상 약학적으로 허용 가능한 무독성 산, 예를 들어 무기 및 유기산으로부터 제조할 수 있다. 상기와 같은 산으로는 예를 들어 아세트산, 벤젠설폰산, 벤조산, 캄포설폰산, 시트르산, 에탄설폰산, 포름산, 푸마르산, 글루콘산, 글루탐산, 브롬화수소산, 염산, 이세티온산, 락트산, 말레산, 말산, 만델산, 메탄설폰산, 점액산, 질산, 파모산, 판토텐산, 인산, 숙신산, 황산, 타르타르산, p-톨루엔설폰산 등이 있다. 시트르산, 브롬화수소산, 포름산, 염산, 말레산, 인산, 황산 및 타르타르산이 바람직하다. 포름산 및 염산이 특히 바람직하다.

본 발명의 약학 조성물은 유효 성분으로서 화학식 I의 화합물(또는 그의 약학적으로 허용 가능한 염), 약학적으로 허용 가능한 담체 및 임의로 다른 치료 성분 또는 보강제를 포함한다. 상기 조성물은 경구, 직장, 국소 및 비 경구(피하, 근육 내 및 정맥 내 포함) 투여에 적합한 조성물을 포함하지만, 임의의 주어진 경우에 가장 적합한 경로는 특정한 숙주, 및 상기 유효 성분이 투여되는 증상의 성질 및 중증도에 따라 변할 것이다. 상기 약학 조성물을 편의상 단위 투여형으로 제공할 수 있으며 제약 분야에 널리 공지된 임의의 방법에 의해 제조할 수 있다.

실제로, 본 발명의 화학식 I의 화합물 또는 그의 약학적으로 허용 가능한 염을 유효 성분으로 하여 통상적인 약제 배합 기법에 따라 약학 담체와 긴밀히 혼합하여 배합할 수 있다. 상기 담체는 목적하는 투여, 예를 들어 경구 또는 비 경구(정맥 내 포함) 투여를 위한 제제의 형태에 따라 광범위하게 다양한 형태를 취할 수 있다. 따라서, 본 발명의 약학 조성물을 경구 투여에 적합한 별도의 단위, 예를 들어 캡슐, 향낭 또는 정제(이들은 각각 소정량의 유효 성분을 함유한다)로서 제공할 수 있다. 더욱이, 상기 조성물을 분말, 과립, 용액, 수성 액체 중의 현탁액, 비 수성 액체, 수중 유적형 유화액, 또는 유중 수적형 유화액으로서 제공할 수 있다. 상기 설명된 통상적인 투여형 이외에, 화학식 I의 화합물 또는 그의 약학적으로 허용 가능한 염을 또한 조절된 방출 수단 및/또는 전달 장치에 의해 투여할 수 있다. 상기 조성물을 임의의 제약 방법에 의해 제조할 수 있다. 일반적으로는, 상기와 같은 방법은 상기 유효 성분을 하나 이상의 필요 성분들을 구성하는 담체와 회합시키는 단계를 포함한다. 일반적으로는, 상기 조성물을, 상기 유효 성분을 액체 담체 또는 미분된 고체 담체 또는 이들 모두와 균일하고 긴밀하게 혼합하여 제조한다. 이어서 상기 생성물을 편의상 목적하는 외양으로 성형할 수 있다.

따라서, 본 발명의 약학 조성물은 약학적으로 허용 가능한 담체 및 화학식 I의 화합물 또는 약학적으로 허용 가능한 염을 포함할 수 있다. 화학식 I의 화합물 또는 그의 약학적으로 허용 가능한 염을 또한 약학 조성물 중에 하나 이상의 다른 치료학적으로 유효한 화합물들과 함께 포함시킬 수 있다.

상기 사용되는 약학 담체는 예를 들어 고체, 액체 또는 기체일 수 있다. 고체 담체의 예로는 락토오즈, 백토, 슈크로즈, 활석, 젤라틴, 아가, 펙틴, 아라비아 고무, 스테아르산 마그네슘 및 스테아르산이 있다. 액체 담체의 예로는 당 시럽, 땅콩 오일, 올리브 오일 및 물이 있다. 기체 담체의 예로는 이산화 탄소 및 질소가 있다.

경구 투여형의 조성물의 제조에서, 임의의 편리한 약학 매질을 사용할 수 있다. 예를 들어, 물, 글리콜, 오일, 알콜, 풍미제, 보존제, 착색제 등을 사용하여 경구 액체 제제, 예를 들어 현탁액, 엘릭서 및 용액을 제조할 수 있는 반면; 담체, 예를 들어 전분, 당, 미정질 셀룰로즈, 희석제, 과립화제, 윤활제, 결합제, 붕해제 등을 사용하여 경구 고체 제제, 예를 들어 분말, 캡슐 및 정제를 제조할 수 있다. 정제 및 캡슐이 그의 투여 용이성으로 인해 바람직한 경구 투여 단위이며, 따라서 고체 약학 담체가 사용된다. 임의로, 정제를 표준 수성 또는 비 수성 기법에 의해 코팅할 수 있다.

본 발명의 조성물을 함유하는 정제를 임의로 하나 이상의 보조 성분 또는 보강제와 함께 압착 또는 성형에 의해 제조할 수 있다. 압착된 정제를 적합한 기계에서, 임의로 결합제, 윤활제, 불활성 희석제, 표면 활성제 또는 분산제와 혼합된 상기 유효 성분을 자유 흐름 형태, 예를 들어 분말 또는 과립으로 압착시켜 제조할 수 있다. 성형된 정제는 적합한 기계에서 불활성 액체 희석제로 적신 분말화된 화합물의 혼합물을 성형하여 제조할 수 있다. 각각의 정제는 바람직하게는 약 0.05 ㎎ 내지 약 5 g의 유효 성분을 함유하고 각각의 향낭 또는 캡슐은 바람직하게 는 약 0.05 ㎎ 내지 약 5 g의 유효 성분을 함유한다.

예를 들어, 인간에게 경구 투여하기 위한 제형은 적합하게 배합된 유효 성분 약 0.5 ㎎ 내지 약 5 g 및 편리한 양의 담체 물질(전체 조성물의 약 5 내지 약 95 퍼센트까지 변할 수 있다)을 함유할 수 있다. 단위 투여형은 일반적으로는 약 1 ㎎ 내지 약 2 g, 전형적으로는 25 ㎎, 50 ㎎, 100 ㎎, 200 ㎎, 300 ㎎, 400 ㎎, 500 ㎎, 600 ㎎, 800 ㎎ 또는 1000 ㎎의 유효 성분을 함유할 것이다.

비 경구 투여에 적합한 본 발명의 약학 조성물을 수 중 유효 성분의 용액 또는 현탁액으로서 제조할 수 있다. 적합한 계면활성제에는 예를 들어 하이드록시프로필셀룰로즈가 포함될 수 있다. 분산제를 또한 글리세롤, 액체 폴리에틸렌글리콜, 및 오일 중의 이들의 혼합물 중에서 제조할 수 있다. 더욱이, 보존제를 포함시켜 미생물의 유해한 생육을 막을 수 있다.

주사용으로 적합한 본 발명의 약학 조성물은 멸균 수용액 또는 분산액을 포함한다. 더욱 또한, 상기 조성물은 상기와 같은 멸균 주사용 용액 또는 분산액의 즉석 제제용 멸균 분말의 형태일 수 있다. 모든 경우에, 최종적인 주입 가능한 형태는 멸균되어야 하며 용이한 주사성을 위해 실제로 유체이어야 한다. 상기 약학 조성물은 제조 및 보관 조건 하에서 안정해야 하며; 따라서 바람직하게는 세균 및 진균 등의 미생물의 오염 작용에 대해 보호되어야 한다. 상기 담체는 예를 들어 물, 에탄올, 폴리올(예를 들어 글리세롤, 프로필렌 글리콜 및 액체 폴리에틸렌 글리콜), 식물성 오일, 및 이들의 적합한 혼합물을 함유하는 용매 또는 분산 매질일 수 있다.

본 발명의 약학 조성물은 국소용으로 적합한 형태, 예를 들어 에어로졸, 크림, 연고, 로션, 분진 분말 등일 수 있다. 더욱이, 상기 조성물은 경피 장치에 사용하기에 적합한 형태일 수 있다. 이러한 제형을, 본 발명의 화학식 I의 화합물 또는 그의 약학적으로 허용 가능한 염을 사용하여 통상적인 가공 방법을 통해 제조할 수 있다. 예로서, 크림이나 연고를, 친수성 물질 및 물을 약 5 중량% 내지 약 10 중량%의 상기 화합물과 함께 혼합하여 목적하는 점조도를 갖는 크림 또는 연고를 제조함으로써 제조한다.

본 발명의 약학 조성물은 직장 투여에 적합한 형태일 수 있으며, 이때 담체는 고체이다. 상기 혼합물은 단위 용량 좌약을 형성하는 것이 바람직하다. 적합한 담체로는 코코아 버터 및 당해 분야에 통상적으로 사용되는 다른 물질이 있다. 상기 좌약을 편의상 먼저 상기 조성물을 연화되거나 용융된 담체(들)와 혼합한 다음 냉각시키거나 금형에서 성형시켜 제조할 수 있다.

상기 언급한 담체 성분 이외에, 상술한 약학 제형은 경우에 따라 하나 이상의 추가적인 담체 성분들, 예를 들어 희석제, 완충제, 풍미제, 결합제, 표면 활성제, 증점제, 윤활제, 보존제(산화방지제 포함) 등을 포함할 수 있다. 더욱 또한, 다른 보강제들을 포함시켜 상기 제형을 목적하는 수용자의 혈액과 등장성으로 만들 수 있다. 화학식 I의 화합물 또는 그의 약학적으로 허용 가능한 염을 함유하는 조성물을 또한 분말 또는 액체 농축물의 형태로 제조할 수 있다.

일반적으로는, 하루에 체중 ㎏ 당 약 0.01 내지 약 150 ㎎, 또는 한편으로 하루에 환자당 약 0.5 ㎎ 내지 약 7 g 정도의 투여 수준이 상기 나타낸 증상들의 치료에 유용하다. 예를 들어, 피부병 및 암은 하루에 체중 ㎏ 당 약 0.01 내지 약 50 ㎎, 또는 한편으로 하루에 환자당 약 0.5 ㎎ 내지 약 3.5 g의 화합물의 투여에 의해 유효하게 치료될 수 있다.

그러나, 임의의 특정 환자에 대한 특정한 용량 수준은 다양한 인자들, 예를 들어 연령, 체중, 일반적인 건강, 성별, 식이요법, 투여 시간, 투여 기간, 분비 속도, 약물 조합, 및 치료 중인 특정 질병의 중증도에 따라 변할 것임은 물론이다.

생물학적 분석

본 발명의 예인 Cyp26 억제제로서의 화학식 I 화합물의 효능을 입증하였으며 다수의 약물학적 생체 외 분석에 의해 확인하였다. 하기의 분석들 및 이들의 각각의 방법들을 본 발명에 따른 화합물을 사용하여 수행하였다. 화학식 I의 화합물이 갖는 활성을 생체 내에서 입증할 수 있다.

생체 외 생화학 분석

화학식 I의 화합물은 CYP26 활성을 억제할 수 있다. 생체 외 생화학 분석을 CYP26을 발현하도록 유도된 T7D 세포로부터의 미세소체 제제를 사용하여 수행하였다. 효소 활성을 C18 HPLC 컬럼 상에서의 분리에 의해 방사성표지된 기질의 그의 대사산물, 4-OH RA(4-하이드록시 모든 트랜스 레티노산) 및 4-옥소 RA(4-옥시 레티노산)로의 전환으로서 측정하였다. 가변적인 나프탈렌 동족체 농도의 존재 하에서 CYP26 활성의 억제를 사용하여 IC₅₀을 측정하였다.

방법

T47D 세포로부터의 미세소체 제조

T47D 세포를 10% FBS 및 1% P/S를 함유하는 RPMI 1640에서 증식시키고, 도말하고 16 내지 25 시간 후에 5 uM atRA로 처리하고 추가로 48 시간 동안 배양시킨 후에 세포를 수확하였다. 세포를 1xPBS로 2 회 세척하고 플레이트로부터 긁어내었다. 세포를 펠릿화하고 균질화 완충액(0.1M 트리스-Cl, pH 7.4, 0.1M DTT, 0.2 mM EDTA, 1.15% w/v KCl, 0.1 mM PMSF 및 20% v/v 글리세롤)에 재 현탁시켰다. 미세소체를 균질화된 세포의 분별 원심분리에 의해 제조하였다. 균질물을 17,000 g에서 회전시키고 상등액을 다시 100,000 g에서 회전시켰다. 펠릿을 25 mM 인산 칼륨, pH 7.4, 20% v/v 글리세롤에 재 현탁시키고 -80 ℃에서 보관하였다.

HPLC 생화학적 CYP26 분석

효소 분석을 100 mM 트리스 pH 7.4, 150 mM KCl, 10 mM MgCl₂, 2 mM NADPH, 40 nM 3H-atRA, 및 DMSO 중에 용해된 가변 농도의 신규 화합물(상기 반응에서 농도는 최종 1%이다) 및 20 ㎍의 T47D 미세소체로 구성된 반응 혼합물 중에서 총 100 ㎕의 부피로 수행하였다. 상기 반응물을 37 ℃에서 30 분간 암실 배양하였다. 아세토니트릴 125 ㎕를 가하여 반응을 멈추고, 혼합하고 10,000 g에서 10 분 동안 회전시켰다. 상등액을 회수하고 atRA와 대사산물들을, 직렬의 방사 분석 검출기가 있는 C18 워터스 스페리소브(Waters Spherisorb) 컬럼 상에서 1 ㎖/분의 유속으로 분리시키고 350 nM에서 검출하였다. 사용된 구배는 60 mM 아세트산 암모늄, pH 5.2/30% CH₃OH, 용매 A 및 용매 B(CH₃OH)의 혼합물이었다. CH₃OH의 30 내지 50% 구배를 8 분 동안 실행시킨 다음 4 분 동안 50 내지 99%의 CH₃OH 구배 및 2 분 동안 99% CH₃OH를 실행시켰다.

생체 외 세포 증식의 억제

신규의 나프탈렌 동족체는 생체 외에서 유방암과 전립선 세포의 증식을 억제한다. 실험을 T47D 유방암 세포 주 및 AT6.1 래트 전립선 선암종 세포 주에서 수행하였다.

방법

T47D 세포를 10% FBS 및 1% P/S를 함유하는 RPMI 1640에서 증식시켰다. 세포를 96-웰 배양 플레이트(2000 세포/웰)에서 동일한 배지 100 ㎕ 중에 도말하였다. 16 내지 24 시간 동안 부착시킨 후에, 비히클(DMSO) 또는 atRA 단독(1 nM 내지 1 μM의 농도) 또는 가변 농도의 신규 화합물과 함께 상기 농도의 atRA를 3 중 웰에 가하였다(J. Biol. Chem. 1997, 272(29), 17921-17928). 배지/처리를 최초 처리 후 3 일째에 반복하고 세포 증식의 감소 크기를 CellTiter-Glo^TM(Promega)를 사용하여 48 시간 후에 측정하였다.

상술한 방법을 또한, 세포를 웰 당 1500 세포로 도말하고 처리를 1 회 수행하여 처리 후 72 시간째에 세포 증식 감소를 측정함을 제외하고 AT6.1 세포에 대해 사용하였다. AT6.1 세포를 10% FBS, 1% P/S 및 250 nM 덱사메타손을 함유하는 RPMI 1640에서 증식시켰다.

CYP3A4 분석

CYP3A4 활성의 억제를 측정하기 위한 효소 분석을 형광 기질(BD, Gentest)을 사용하여 96 웰 플레이트에서 100 ul 부피로 측정하였다. 화합물을 200 mM 인산 칼륨 완충액, pH 7.4, 200 mM NADPH 및 50 uM 7-벤질옥시-4-(트리플루오로메틸)-쿠마린을 함유하는 반응물 중의 다양한 농도로 시험하였다. 상기 반응물을 45 분 동안 37 ℃에서 배양한 다음 37 ul의 0.5 M 트리스 염기를 가하여 상기 반응을 종료시켰다. 플레이트를 각각 405/535 ㎚의 여기/방출에서 판독하였다.

모든 실시예는 Cyp26의 억제를 나타내었다. 하기의 실시예들은 생화학적 분석에서 Cyp26을 약 5 μM 내지 10 nM 범위로 억제시킴으로써 효능 및 활성을 나타내었다. 가장 바람직한 실시예는 Cyp26에 대해 선택적이다. Cyp3A4 활성의 IC₅₀ 값 대 Cyp26 활성의 IC₅₀ 값의 비는 바람직하게는 10:1 이상, 또는 100:1 이상이다.

실험

본 발명 화합물들의 합성 방법을 나타내는 하기 반응식 1 내지 29 및 본 발명의 다양한 전형적인 화합물들을 나타내는 하기 표 1 내지 5에서, 하기의 약어들이 사용된다: Me, 메틸, Et, 에틸, ⁱPr 또는 ⁱ Pr, 이소프로필, n-Bu, n-부틸, t-Bu, 3 급-부틸, Ac, 아세틸, Ph, 페닐, 4Cl-Ph 또는 (4Cl)Ph, 4-클로로페닐, 4Me-Ph 또는 (4Me)Ph, 4-메틸페닐, (p-CH₃O)Ph, p-메톡시페닐, (p-NO₂)Ph, p-니트로페닐, 4-Br-Ph 또는 (4Br)Ph, 4-브로모페닐, 2-CF₃-Ph 또는 (2CF₃)Ph, 2-트리플루오로메틸페닐, DMAP, 4-(디메틸아미노)피리딘, DCC, 1,3-디사이클로헥실카보디이미드, EDC, 1-(3-디메틸아미노프로필)-3-에틸카보디이미드 하이드로클로라이드, HOBt, 1-하이드록시벤조트리아졸, HOAt, 1-하이드록시-7-아자벤조트리아졸, CDI, 1,1'-카보닐디이미다졸, CDT, 1,1'-카보닐디(1,2,4-트리아졸), DEAD, 디에틸 아조디카복실레이트, DIAD, 디이소프로필 아조디카복실레이트, DBAD, 디-3급-부틸 아조디카복실레이트, FBS, th 태아 혈청, P/S, 페니실린/스트렙토마이신, DTT, 디티오트레이톨, EDTA, 에틸렌디아민테트라아세트산, PMSF, 페닐메탄설포닐 플루오라이드, 트리스, 트리메타민, NADPH, 환원된 베타 니코틴아미드 아데닌 디뉴클레오티드 포스페이트, 및 Bn, 벤질.

하기의 반응식 과정들은 Cyp26 억제 실시예의 형성에서 중간체로서 유용한 몇몇 화합물들을 나타낸다. 상기와 같은 중간체들은 본 발명에 포함된다.

본 발명의 화학식 I의 화합물 및 상기 본 발명 화합물의 합성에 사용되는 중간체들을 하기의 방법에 따라 제조하였다. 방법 A를 화학식 I-A의 화합물[R¹이 H이고; R^4a, R^5a, R^6a 및 R^6b가 H이며; Y가 O인 화학식 I의 화합물]을 하기 반응식 1에 나타낸 바와 같이 제조하는 경우 사용하였다:

방법 A:

상기에서, X, R², R³, G¹, (Z)_n2, (CR^4bR^5b)_n3 및 (Q¹)_n4은 앞서 화학식 I에 대해 정의한 바와 같다.

전형적인 제조에서, 화학식 II의 화합물을 적합한 용매 중에서 CDI 또는 CDT와 반응시켰다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 용매로는 비 제한적으로 에테르, 예를 들어 테트라하이드로푸란(THF), 글라임 등; 디메틸포름아미드(DMF); 디메틸 설폭사이드(DMSO); 아세토니트릴 및 염소화된 용매, 예를 들어 염화 메틸렌(CH₂Cl₂) 또는 클로로포름(CHCl₃)이 있다. 바람직한 용매는 사용되는 기질에 따라 다르며 상기 기질의 성질에 따라 선택되었다. 상기 과정을 약 -78 내지 약 100 ℃의 온도에서 수행하였다. 상기 본 발명의 화합물을 제조하는 방법을 바람직하게는 약 대기압에서 수행하나, 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 압력도 사용하였다. 실질적으로, 동 몰 량의 반응물들을 사용하는 것이 바람직하지만 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 양도 사용하였다.

반응식 1의 화학식 II의 화합물을 하기 반응식 2에 나타낸 바와 같이 제조하였다.

상기에서, R², R³, G¹, (Z)_n2, (CR^4bR^5b)_n3 및 (Q¹)_n4은 앞서 화학식 I에 대해 정의한 바와 같다.

화학식 II 화합물의 전형적인 제조에서, 화학식 III의 화합물을 적합한 용매 중에서 적합한 환원제로 처리하였으며, 이때 상기 적합한 환원제는 붕소 유도된 환 원제, 예를 들어 비 제한적으로 붕수소화 나트륨, 붕수소화 리튬, 보란 등; 알루미늄 유도된 환원제, 예를 들어 리튬 알루미늄 하이드라이드, 알란, 리튬 트리-3급-부톡시-알루미늄 하이드라이드 등; 금속 촉매 상의 수소화, 예를 들어 탄소상 팔라듐을 포함하였다. 바람직한 환원제는 붕수소화 나트륨이었다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 용매로는 비 제한적으로 에테르, 예를 들어 테트라하이드로푸란(THF), 글라임 등; 알콜 용매, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 이소프로판올 등이 있으나; 상기 반응을 통상적으로는 메탄올 중에서 수행하였다. 상기 방법을 약 -78 내지 약 100 ℃의 온도에서 수행하였다. 바람직하게는, 상기 반응을 0 내지 약 20 ℃에서 수행하였다. 상기 본 발명의 화합물을 제조하는 방법을 바람직하게는 약 대기압에서 수행하나, 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 압력도 사용할 수 있다. 실질적으로, 동 몰 량의 반응물들을 사용하는 것이 바람직하지만 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 양도 사용할 수 있다.

반응식 2의 화학식 III의 화합물을 하기 반응식 3에 나타낸 바와 같이 제조하였다.

상기에서, R², R³, G¹, (Z)_n2, (CR^4bR^5b)_n3 및 (Q¹)_n4은 앞서 화학식 I에 대해 정의한 바와 같고, A¹은 OH, OTs, OMs 또는 할로이다.

화학식 III의 화합물(화학식 V의 화합물에서 A¹이 할로인 경우)의 전형적인 제조에서, 화학식 IV의 화합물을 적합한 염기의 존재 하에 적합한 용매 중에서 화학식 V(이때 A¹은 할로이다)의 화합물과 반응시켰다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 용매로는 비 제한적으로 에테르, 예를 들어 테트라하이드로푸란(THF), 글라임 등; 디메틸포름아미드(DMF); 디메틸 설폭사이드(DMSO); 아세토니트릴(CH₃CN); 염소 화된 용매, 예를 들어 염화 메틸렌(CH₂Cl₂) 또는 클로로포름(CHCl₃)이 있다. 경우에 따라, 상기 용매들의 혼합물을 사용할 수도 있다. 바람직한 용매는 DMF 또는 CH₃CN이었다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 염기로는 비 제한적으로 금속 하이드라이드, 예를 들어 수소화 나트륨 또는 칼륨; 금속 알콕사이드, 예를 들어 나트륨 또는 칼륨 알콕사이드; 알칼리 금속 하이드록사이드, 예를 들어 수산화 나트륨 또는 칼륨; 3 급 아민, 예를 들어 트리에틸아민 또는 디이소프로필에틸아민; 알칼리 금속 카보네이트, 예를 들어 탄산 나트륨 또는 칼륨; 또는 피리딘이 있다. 경우에 따라, 이들 염기의 혼합물을 사용하였다. 바람직한 염기는 수소화 나트륨 또는 칼륨 3급 부톡사이드이었다. 상기 방법을 약 -78 내지 약 100 ℃의 온도에서 수행하였다. 바람직하게는, 상기 반응을 0 내지 약 50 ℃에서 수행하였다. 상기 본 발명의 화합물을 제조하는 방법을 바람직하게는 약 대기압에서 수행하나, 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 압력도 사용할 수 있다. 실질적으로, 동 몰 량의 반응물들을 사용하는 것이 바람직하지만 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 양도 사용할 수 있다. 일반적으로는, 화학식 IV 화합물의 출발 물질 당량 당 1 당량의 염기를 사용하였다.

화학식 III의 화합물(화학식 V의 화합물에서 A¹이 OH인 경우)의 전형적인 제조에서, 화학식 IV의 화합물을 적합한 반응물의 존재 하에 적합한 용매 중에서 화학식 V(이때 A¹은 OH이다)의 화합물과 반응시켰다. 상기 방법에 사용하기에 적합 한 용매로는 비 제한적으로 에테르, 예를 들어 테트라하이드로푸란(THF), 글라임 등; 디메틸포름아미드(DMF); 디메틸 설폭사이드(DMSO); 아세토니트릴(CH₃CN); 염소화된 용매, 예를 들어 염화 메틸렌(CH₂Cl₂) 또는 클로로포름(CHCl₃)이 있다. 경우에 따라, 상기 용매들의 혼합물을 사용할 수도 있지만, 바람직한 용매는 THF이었다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 반응물로는 비 제한적으로 트리페닐포스핀 및 아조디카복실레이트(DIAD, DEAD, DBAD)가 있다. 바람직한 반응물은 트리페닐포스핀 및 DIAD이었다. 상기 방법을 -78 내지 약 100 ℃의 온도에서 수행하였다. 바람직하게는, 상기 반응을 0 내지 약 50 ℃에서 수행하였다. 상기 본 발명의 화합물을 제조하는 방법을 바람직하게는 약 대기압에서 수행하나, 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 압력도 사용할 수 있다. 실질적으로, 동 몰 량의 반응물들을 사용하는 것이 바람직하지만 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 양도 사용할 수 있다. 일반적으로는, 화학식 IV 화합물의 출발 물질 당량 당 1 당량의 트리페닐포스핀, DIAD 및 화학식 V의 화합물을 사용하였다. 화학식 V의 화합물을 일반적으로는 상업적으로 입수하거나 또는 공지된 과정에 따라 제조하였다(Tetrahedron Letters, 1999, 40, 5467-5470).

반응식 3의 화학식 IV의 화합물을 하기 반응식 4에 나타낸 바와 같이 제조하였다.

상기에서, R², R³ 및 G¹은 앞서 화학식 I에 대해 정의한 바와 같고, A²는 C₁ _- ₆알킬 또는 아릴-C₁ _- ₆알킬이다.

화학식 IV 화합물의 전형적인 제조에서, 화학식 VI의 화합물을 적합한 조건 하에서 반응시켜 A²를 H로 전환시켰다. 상기 방법에서 A²의 H로의 전환에 사용하기에 적합한 시약으로는 비 제한적으로 피리딘-HCl, BBr₃, AlCl₃ 및 HBr/아세트산이 있다. 바람직한 조건은 화학식 VI 화합물의 48% 수성 HBr/아세트산에 의한 처리이다. 상기 방법을 약 50 내지 약 150 ℃의 온도에서 수행하였다. 바람직하게는, 상기 반응을 100 내지 약 120 ℃에서 수행하였다. 상기 본 발명의 화합물을 제조하는 방법을 바람직하게는 약 대기압에서 수행하나, 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 압력도 사용할 수 있다. 실질적으로, 동 몰 량의 반응물들을 사용하는 것이 바람직하지만 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 양도 사용할 수 있다. 일반적으로는, 화학식 VIII 화합물의 출발 물질 당량 당 과잉의 48% 수성 HBr/아세트산을 사용하였다.

반응식 4의 화학식 VI의 화합물을 하기 반응식 5에 나타낸 바와 같이 제조하였다.

상기에서, R², R³ 및 G¹은 앞서 화학식 I에 대해 정의한 바와 같고, A²는 C₁ _- ₆알킬 또는 아릴-C₁ _- ₆알킬이고, A³은 적합한 이탈 그룹, 예를 들어 할로이다.

화학식 VI 화합물의 전형적인 제조에서, 화학식 VII의 화합물을 적합한 염기의 존재 하에 적합한 용매 중에서 H-G¹과 반응시켰다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 용매로는 비 제한적으로 에테르, 예를 들어 테트라하이드로푸란(THF), 글라임, 디에틸 에테르, 디옥산 등; 방향족 용매, 예를 들어 벤젠 및 톨루엔; 아세토니트릴; 염소화된 용매, 예를 들어 염화 메틸렌(CH₂Cl₂), 사염화 탄소(CCl₄) 또는 클로로포름(CHCl₃)이 있다. 경우에 따라, 이들 용매의 혼합물을 사용하였지만, 바람직한 용매는 메탄올/클로로포름의 혼합물이었다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 촉매에는 비 제한적으로 테트라부틸암모늄 요오다이드 또는 NaI가 포함된다. 경우에 따라, 이들 촉매의 혼합물을 사용하였지만 바람직한 촉매는 NaI이었다. 상 기 방법에 사용하기에 적합한 염기로는 비 제한적으로 금속 하이드라이드, 예를 들어 수소화 나트륨 또는 칼륨; 금속 알콕사이드, 예를 들어 나트륨 또는 칼륨 알콕사이드; 알칼리 금속 하이드록사이드, 예를 들어 수산화 나트륨 또는 칼륨; 3 급 아민, 예를 들어 트리에틸아민 또는 디이소프로필에틸아민; 알칼리 금속 카보네이트, 예를 들어 탄산 나트륨 또는 칼륨; 또는 피리딘이 있다. 경우에 따라, 이들 염기의 혼합물을 사용하였으나, 바람직한 염기는 디이소프로필에틸아민 또는 H-G¹(이때 G¹은 NR⁷R⁸이다)이었다. 상기 방법을 -78 내지 약 100 ℃의 온도에서 수행하였다. 바람직하게는, 상기 반응을 0 내지 약 100 ℃에서 수행하였다. 상기 본 발명의 화합물을 제조하는 방법을 바람직하게는 약 대기압에서 수행하나, 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 압력도 사용할 수 있다. 실질적으로, 동 몰 량의 반응물들을 사용하는 것이 바람직하지만 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 양도 사용할 수 있다. 상기 촉매를 통상적으로는 화학식 VII의 화합물 및 H-G¹ 모두의 양보다 적은 양으로 사용하였다. H-G¹을 일반적으로는 상업적으로 입수하거나 또는 공지된 과정에 따라 제조하였다. 화학식 VII의 화합물을 공지된 문헌 과정에 따라 제조하였다(Sonawane, H.R.; et al., Tetrahedron, 1994, 50(4), 1243-1260).

반응식 5의 화학식 VII의 화합물을 하기 반응식 6a에 나타낸 바와 같이 제조하였다.

상기에서, R² 및 R³은 앞서 화학식 I에 대해 정의한 바와 같고, A²는 C₁ _- ₆알킬 또는 아릴-C₁ _- ₆알킬이고, A³ 및 A⁵는 적합한 이탈 그룹, 예를 들어 할로이고, A⁴는 할로 또는 OTf이다.

화학식 VII 화합물의 전형적인 제조에서, 화학식 VIII의 화합물을 적합한 유기리튬 시약 또는 금속 촉매와 반응시킨 다음 적합한 용매 중에서 화학식 IX의 화합물과 반응시켰다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 용매로는 비 제한적으로 에테르, 예를 들어 테트라하이드로푸란(THF), 글라임, 디에틸 에테르, 디옥산 등; 방향족 용매, 예를 들어 벤젠 및 톨루엔이 있다. 경우에 따라, 이들 용매의 혼합물을 사용하였으나, 바람직한 용매는 THF이었다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 유기리튬 또는 금속 종으로는 비 제한적으로 유기리튬 종, 예를 들어 n-부틸 리튬 또는 3급-부틸 리튬; 마그네슘이 있다. 바람직한 금속 촉매는 마그네슘이었다. 상기 방법을 -78 내지 약 100 ℃의 온도에서 수행하였다. 바람직하게는, 상기 반응을 0 내지 약 100 ℃에서 수행하였다. 상기 본 발명의 화합물을 제조하는 방법 을 바람직하게는 약 대기압에서 수행하나, 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 압력도 사용할 수 있다. 실질적으로, 동 몰 량의 반응물들을 사용하는 것이 바람직하지만 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 양도 사용할 수 있다. 상기 마그네슘을 통상적으로는 화학식 VIII 화합물의 양보다 과잉량으로 사용하였다. 화학식 VIII 및 IX의 화합물들을 일반적으로는 상업적으로 입수하거나 또는 공지된 과정에 따라 제조하였다.

한편으로, 반응식 5의 화학식 VI의 화합물을 하기 반응식 6b에 나타낸 바와 같이 제조하였다.

상기에서, R², R³ 및 G¹은 앞서 화학식 I에 대해 정의한 바와 같고, A²는 C_1-6알킬 또는 아릴-C₁ _- ₆알킬이고, A⁴는 할로 또는 OTf이다.

화학식 VI 화합물의 전형적인 제조에서, 화학식 VIII의 화합물을 적합한 유기리튬 시약 또는 금속 촉매와 반응시킨 다음 적합한 용매 중에서 화학식 X의 화합물과 반응시켰다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 용매로는 비 제한적으로 에테 르, 예를 들어 테트라하이드로푸란(THF), 글라임, 디에틸 에테르, 디옥산 등; 방향족 용매, 예를 들어 벤젠 및 톨루엔이 있다. 경우에 따라, 이들 용매의 혼합물을 사용하였으나, 바람직한 용매는 THF이었다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 유기리튬 또는 금속 종으로는 비 제한적으로 유기리튬 종, 예를 들어 n-부틸 리튬 또는 3급-부틸 리튬; 마그네슘이 있다. 바람직한 유기리튬 종은 3급-부틸 리튬이었다. 상기 방법을 -78 내지 약 100 ℃의 온도에서 수행하였다. 바람직하게는, 상기 반응을 -78 내지 약 50 ℃에서 수행하였다. 상기 본 발명의 화합물을 제조하는 방법을 바람직하게는 약 대기압에서 수행하나, 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 압력도 사용할 수 있다. 실질적으로, 동 몰 량의 반응물들을 사용하는 것이 바람직하지만 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 양도 사용할 수 있다. 화학식 VIII 및 X의 화합물들을 일반적으로는 상업적으로 입수하거나 또는 공지된 과정에 따라 제조하였다.

본 발명의 화학식 III의 화합물 및 본 발명 화합물의 합성에 사용된 중간체들을 하기 방법에 따라 제조하였다.

방법 B를 화학식 III의 화합물을 하기 반응식 7에 나타낸 바와 같이 제조하는 경우 사용하였다:

방법 B:

상기에서, R², R³, G¹, (Z)_n2, (CR^4bR^5b)_n3 및 (Q¹)_n4은 앞서 화학식 I에 대해 정의한 바와 같고, A³은 할로이다.

방법 B, 반응식 7에 따른, 화학식 III 화합물의 전형적인 제조에서, 화학식 XI의 화합물을 적합한 염기의 존재 하에 적합한 용매 중에서 H-G¹과 반응시켰다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 용매로는 비 제한적으로 에테르, 예를 들어 테트라하이드로푸란(THF), 글라임, 디에틸 에테르, 디옥산 등; 방향족 용매, 예를 들어 벤젠 및 톨루엔; 아세토니트릴; 염소화된 용매, 예를 들어 염화 메틸렌(CH₂Cl₂), 사염화 탄소(CCl₄) 또는 클로로포름(CHCl₃)이 있다. 경우에 따라, 이들 용매의 혼합 물을 사용하였지만, 바람직한 용매는 아세토니트릴의 혼합물이었다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 촉매에는 비 제한적으로 테트라부틸암모늄 요오다이드 또는 NaI가 포함된다. 경우에 따라, 이들 촉매의 혼합물을 사용하였지만 바람직한 촉매는 NaI이었다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 염기로는 비 제한적으로 금속 하이드라이드, 예를 들어 수소화 나트륨 또는 칼륨; 금속 알콕사이드, 예를 들어 나트륨 또는 칼륨 알콕사이드; 알칼리 금속 하이드록사이드, 예를 들어 수산화 나트륨 또는 칼륨; 3 급 아민, 예를 들어 트리에틸아민 또는 디이소프로필에틸아민; 알칼리 금속 카보네이트, 예를 들어 탄산 나트륨 또는 칼륨; 또는 피리딘이 있다. 경우에 따라, 이들 염기의 혼합물을 사용하였으나, 바람직한 염기는 디이소프로필에틸아민 또는 H-G¹(이때 G¹은 NR⁷R⁸이다)이었다. 상기 방법을 -78 내지 약 100 ℃의 온도에서 수행하였다. 바람직하게는, 상기 반응을 0 내지 약 100 ℃에서 수행하였다. 상기 본 발명의 화합물을 제조하는 방법을 바람직하게는 약 대기압에서 수행하나, 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 압력도 사용할 수 있다. 실질적으로, 동 몰 량의 반응물들을 사용하는 것이 바람직하지만 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 양도 사용할 수 있다. 상기 촉매를 통상적으로는 화학식 XI의 화합물 및 H-G¹ 모두의 양보다 적은 양으로 사용하였다. H-G¹을 일반적으로는 상업적으로 입수하거나 또는 공지된 과정에 따라 제조하였다.

반응식 7의 화학식 XI의 화합물을 하기 반응식 8에 나타낸 바와 같이 제조하였다:

상기에서, R², R³, (Z)_n2, (CR^4bR^5b)_n3 및 (Q¹)_n4은 앞서 화학식 I에 대해 정의한 바와 같고, A³은 할로이다.

화학식 XI 화합물의 전형적인 제조에서, 화학식 XII의 화합물을 적합한 용매 중에서 적합한 할로겐화제와 반응시켰다. 적합한 할로겐화제로는 Br₂, Cl₂, N-브로모숙신이미드, N-클로로숙신이미드, 염화 설푸릴 및 CuBr₂가 있다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 용매로는 비 제한적으로 에테르, 예를 들어 테트라하이드로푸란(THF), 글라임, 디에틸 에테르, 디옥산 등; 방향족 용매, 예를 들어 벤젠 및 톨루엔; 아세토니트릴; 염소화된 용매, 예를 들어 염화 메틸렌(CH₂Cl₂), 사염화 탄소 (CCl₄) 또는 클로로포름(CHCl₃)이 있다. 경우에 따라, 이들 용매의 혼합물을 사용하였지만, 바람직한 용매는 디옥산이었다. 상기 방법을 -78 내지 약 150 ℃의 온도에서 수행하였다. 바람직하게는, 상기 반응을 80 내지 약 150 ℃에서 수행하였다. 상기 본 발명의 화합물을 제조하는 방법을 바람직하게는 약 대기압에서 수행하나, 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 압력도 사용할 수 있다. 실질적으로, 동 몰 량의 반응물들을 사용하는 것이 바람직하지만 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 양도 사용할 수 있다. 일반적으로는, 화학식 XII 화합물의 출발 물질의 당량 당 2 당량의 CuBr₂를 사용하였다.

반응식 8의 화학식 XII의 화합물을 하기 반응식 9에 나타낸 바와 같이 제조하였다:

상기에서, R², R³, (Z)_n2, (CR^4bR^5b)_n3 및 (Q¹)_n4은 앞서 화학식 I에 대해 정의한 바와 같고, A¹은 할로 또는 OH이다.

화학식 XII 화합물(화학식 V의 화합물에서 A¹이 할로인 경우)의 전형적인 제조에서, 화학식 XIII의 화합물을 적합한 염기의 존재 하에 적합한 용매 중에서 화학식 V(이때 A¹은 할로이다)의 화합물과 반응시켰다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 용매로는 비 제한적으로 에테르, 예를 들어 테트라하이드로푸란(THF), 글라임, 디에틸 에테르, 디옥산 등; 디메틸포름아미드(DMF); 디메틸 설폭사이드(DMSO); 아세토니트릴(CH₃CN); 염소화된 용매, 예를 들어 염화 메틸렌(CH₂Cl₂) 또는 클로로포름(CHCl₃)이 있다. 경우에 따라, 이들 용매의 혼합물을 사용하였다. 바람직한 용매는 DMF 또는 CH₃CN이었다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 염기로는 비 제한적으로 금속 하이드라이드, 예를 들어 수소화 나트륨 또는 칼륨; 금속 알콕사이드, 예를 들어 나트륨 또는 칼륨 알콕사이드; 알칼리 금속 하이드록사이드, 예를 들어 수산화 나트륨 또는 칼륨; 3 급 아민, 예를 들어 트리에틸아민 또는 디이소프로필에틸아민; 알칼리 금속 카보네이트, 예를 들어 탄산 나트륨 또는 칼륨; 또는 피리딘이 있다. 경우에 따라, 이들 염기의 혼합물을 사용하였으나, 바람직한 염기는 수소화 나트륨 또는 칼륨 3급-부톡사이드이었다. 상기 방법을 -78 내지 약 100 ℃의 온도에서 수행하였다. 바람직하게는, 상기 반응을 0 내지 약 100 ℃에서 수행하였다. 상기 본 발명의 화합물을 제조하는 방법을 바람직하게는 약 대기압에서 수행하나, 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 압력도 사용할 수 있다. 실질적으로, 동 몰 량의 반응물들을 사용하는 것이 바람직하지만 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 양도 사용할 수 있다. 일반적으로는 화학식 XIII 화합물의 출발 물질 당량 당 1 당량의 염기를 사용하였다.

화학식 XII 화합물(화학식 V의 화합물에서 A¹이 OH인 경우)의 전형적인 제조에서, 화학식 XIII의 화합물을 적합한 반응물의 존재 하에 적합한 용매 중에서 화학식 V(이때 A¹은 OH이다)의 화합물과 반응시켰다. 상기 방법에 사용하기에 적합 한 용매로는 비 제한적으로 에테르, 예를 들어 테트라하이드로푸란(THF), 글라임 등; 디메틸포름아미드(DMF); 디메틸 설폭사이드(DMSO); 아세토니트릴(CH₃CN); 염소화된 용매, 예를 들어 염화 메틸렌(CH₂Cl₂) 또는 클로로포름(CHCl₃)이 있다. 경우에 따라, 이들 용매의 혼합물을 사용하였으나, 바람직한 용매는 THF이었다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 반응물로는 비 제한적으로 트리페닐포스핀 및 아조디카복실레이트(DIAD, DEAD, DBAD)가 있다. 목적하는 반응물은 트리페닐포스핀 및 DIAD이었다. 상기 방법을 -78 내지 약 100 ℃의 온도에서 수행하였다. 바람직하게는, 상기 반응을 0 내지 약 50 ℃에서 수행하였다. 상기 본 발명의 화합물을 제조하는 방법을 바람직하게는 약 대기압에서 수행하나, 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 압력도 사용할 수 있다. 실질적으로, 동 몰 량의 반응물들을 사용하는 것이 바람직하지만 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 양도 사용할 수 있다. 일반적으로는 화학식 XIII 화합물의 출발 물질 당량 당 1 당량의 트리페닐포스핀, DIAD 및 화학식 V의 화합물 사용하였다. 화학식 V 및 XIII의 화합물을 일반적으로는 상업적으로 입수하거나 또는 공지된 방법에 따라 제조하였다.

방법 C를 화학식 I-B의 화합물[R¹이 H이고; R^4a, R^5a, R^6a 및 R^6b가 H이며; Y가 O이고, n⁴가 1이고, Q¹이 CO₂H인 화학식 I의 화합물]을 하기 반응식 10에 나타낸 바와 같이 제조하는 경우 사용하였다:

방법 C:

상기에서, X, R², R³, G¹, (Z)_n2, 및 (CR^4bR^5b)_n3은 앞서 화학식 I에 대해 정의한 바와 같고, R⁷은 알킬이다.

방법 C에 따른 화학식 I-B의 화합물[R¹이 H이고, R^4a, R^5a, R^6a 및 R^6b가 H이며, Y가 O이고, n⁴가 1이고, Q¹이 CO₂H인 화학식 I의 화합물]의 전형적인 제조에서, 화학식 I-A의 화합물[R¹이 H이고, R^4a, R^5a, R^6a 및 R^6b가 H이며, Y가 O이고, n⁴가 1이고, Q¹이 CO₂R⁷인 화학식 I의 화합물]을 적합한 용매 중에서 염기성 또는 산성 조건 하에 반응시켰다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 용매로는 비 제한적으로 에테 르, 예를 들어 테트라하이드로푸란(THF), 글라임 등; 디메틸포름아미드(DMF); 디메틸 설폭사이드(DMSO); 아세토니트릴; 알콜 용매, 예를 들어 메탄올, 에탄올 등이 있다. 경우에 따라, 이들 용매의 혼합물을 사용하였지만, 바람직한 용매는 물, THF 및 메탄올의 혼합물이었다. 상기 방법에 사용하기 위한 염기성 조건에는 알콕사이드, 예를 들어 나트륨 또는 칼륨 알콕사이드, 및 알칼리 금속 하이드록사이드, 예를 들어 수중 수산화 나트륨 또는 칼륨이 포함된다. 상기 방법에 사용하기 위한 산성 조건에는 수중 HCl이 포함된다. 상기 방법을 0 내지 약 80 ℃의 온도에서 수행하였다. 바람직하게는, 상기 반응을 22 내지 약 70 ℃에서 수행하였다. 상기 본 발명의 화합물을 제조하는 방법을 바람직하게는 약 대기압에서 수행하나, 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 압력도 사용할 수 있다. 실질적으로, 동 몰 량의 반응물들을 사용하는 것이 바람직하지만 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 양도 사용할 수 있다.

방법 D를 하기 반응식 11에 나타낸 바와 같이 화학식 I-(HA⁶)_n7 화합물의 염을 제조하는 경우 사용하였다:

방법 D:

상기에서, X, R¹, R², R³, G¹, Y, (Z)_n2, (CR^4bR^5b)_n3, (Q¹)_n4, R^6a 및 R^6b는 앞서 화학식 I에 대해 정의한 바와 같고, n⁷은 1 또는 2이고, A⁶은 H에 대한 대 음이온, 예를 들어 클로라이드 또는 포르메이트이다.

방법 D에 따른 화학식 I-(HA⁶)_n7 화합물의 전형적인 제조에서, 화학식 I의 화합물을 적합한 용매 중에서 적합한 산 HA⁶과 반응시켰다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 용매로는 비 제한적으로 에테르, 예를 들어 테트라하이드로푸란(THF), 글라임, 디에틸 에테르 등; 아세토니트릴; 물; 알콜 용매, 예를 들어 메탄올, 에탄올 등이 있다. 경우에 따라, 이들 용매의 혼합물을 사용하였지만, 바람직한 용매는 디에틸 에테르, 메탄올 및 물이었다. HA⁶는 화학식 I-(HA⁶)_n7 화합물의 각각의 일염 또는 이염을 형성하는 적합한 약학적으로 허용 가능한 산이다. 상기 방법을 0 내지 약 60 ℃의 온도에서 수행하였다. 바람직하게는, 상기 반응을 0 내지 약 25 ℃에서 수행하였다. 상기 본 발명의 화합물을 제조하는 방법을 바람직하게는 약 대기압에서 수행하나, 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 압력도 사용할 수 있다. 실질적으로, 동 몰 량의 반응물들을 사용하는 것이 바람직하지만 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 양도 사용할 수 있다. 산 HA⁶을 일반적으로는 상업적으로 입수하거나 또는 공지된 방법에 따라 제조하였다.

방법 E를 화학식 I-D의 화합물[R¹이 H이고, n¹이 1이고, R^4a, R^5a, R^6a 및 R^6b가 H이며, Y가 O이고, n⁴가 1이고, Q¹이 CONR⁷R⁸인 화학식 I의 화합물]을 하기 반응식 12에 나타낸 바와 같이 제조하는 경우 사용하였다:

방법 E:

상기에서, X, R², R³, G¹, (Z)_n2, R⁷, R⁸ 및 (CR^4bR^5b)_n3은 앞서 화학식 I에 대해 정의한 바와 같다.

방법 E에 따른 화학식 I-D의 화합물[R¹이 H이고, n¹이 1이고, R^4a, R^5a, R^6a 및 R^6b가 H이며, Y가 O이고, n⁴가 1이고, Q¹이 CONR⁷R⁸인 화학식 I의 화합물]의 전형적인 제조에서, 화학식 I-B의 화합물[R¹이 H이고, n¹이 1이고, R^4a, R^5a, R^6a 및 R^6b가 H이며, Y가 O이고, n⁴가 1이고, Q¹이 CO₂H인 화학식 I의 화합물]을 적합한 조건 하에서 HNR⁷R⁸과 반응시켜 화학식 I-D의 화합물을 수득하였다. 적합한 조건에는 비 제한 적으로 화학식 I-B의 화합물을 염화 티오닐, 트리페닐포스핀/사염화 탄소, CDI, 또는 디페닐포스포릴아지드로 처리하여 활성화된 카보닐 종을 수득하고, 이어서 HNR⁷R⁸로 처리함이 포함된다. 바람직한 반응 조건은 화학식 I-B의 화합물과 CDI와의 반응에 이어서 HNR⁷R⁸에 의한 처리이었다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 용매로는 비 제한적으로 에테르, 예를 들어 테트라하이드로푸란(THF), 글라임 등; 디메틸포름아미드(DMF); 디메틸 설폭사이드(DMSO); 아세토니트릴; 할로겐화된 용매, 예를 들어 클로로포름 또는 염화 메틸렌이 있다. 경우에 따라, 이들 용매의 혼합물을 사용하였지만, 바람직한 용매는 아세토니트릴이었다. 상기 방법을 0 내지 약 80 ℃의 온도에서 수행하였다. 바람직하게는, 상기 반응을 22 내지 약 80 ℃에서 수행하였다. 상기 본 발명의 화합물을 제조하는 방법을 바람직하게는 약 대기압에서 수행하나, 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 압력도 사용할 수 있다. 실질적으로, 동 몰 량의 반응물들을 사용하는 것이 바람직하지만 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 양도 사용할 수 있다.

또한, 방법 E에 따른 화학식 I-D의 화합물[R¹이 H이고, n¹이 1이고, R^4a, R^5a, R^6a 및 R^6b가 H이며, Y가 O이고, n⁴가 1이고, Q¹이 CONR⁷R⁸인 화학식 I의 화합물]의 전형적인 제조에서, 화학식 I-B의 화합물[R¹이 H이고, n¹이 1이고, R^4a, R^5a, R^6a 및 R^6b가 H이며, Y가 O이고, n⁴가 1이고, Q¹이 CO₂H인 화학식 I의 화합물]을 전형적인 아미드 형성 조건 하에서 반응시켜 화학식 I-D의 화합물을 수득하였다. 적합한 조건에는 비 제한적으로 화학식 I-B의 화합물 및 HNR⁷R⁸을 DMAP, HOBt, HOAt 등과 함께 커플링 시약, 예를 들어 DCC 또는 EDC로 처리함이 포함된다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 용매로는 비 제한적으로 에테르, 예를 들어 테트라하이드로푸란(THF), 글라임 등; 디메틸포름아미드(DMF); 디메틸 설폭사이드(DMSO); 아세토니트릴; 할로겐화된 용매, 예를 들어 클로로포름 또는 염화 메틸렌이 있다. 경우에 따라, 이들 용매의 혼합물을 사용하였지만, 바람직한 용매는 DMF이었다. 상기 방법을 0 내지 약 80 ℃의 온도에서 수행하였다. 바람직하게는, 상기 반응을 22 내지 약 80 ℃에서 수행하였다. 상기 본 발명의 화합물을 제조하는 방법을 바람직하게는 약 대기압에서 수행하나, 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 압력도 사용할 수 있다. 실질적으로, 동 몰 량의 반응물들을 사용하는 것이 바람직하지만 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 양도 사용할 수 있다. 또한, CO₂H의 CONR⁷R⁸로의 전환에 적합한 다른 반응 조건들을 문헌[Larock, R.C. Comprehensive Organic Transformations, 2nd ed.; Wiley and Sons: New York, 1999, pp 1941-1949]에서 찾을 수 있다.

한편으로, 반응식 1의 화학식 II의 화합물을 하기 반응식 13에 나타낸 바와 같이 제조하였다.

상기에서, R², R³, A³, G¹, (Z)_n2, (CR^4bR^5b)_n3 및 (Q¹)_n4은 앞서 화학식 I에 대해 정의한 바와 같다.

화학식 II 화합물의 전형적인 제조에서, 화학식 XI의 화합물을 적합한 용매 중에서 적합한 환원제로 처리하였으며, 이때 상기 적합한 환원제는 붕소 유도된 환원제, 예를 들어 비 제한적으로 붕수소화 나트륨, 붕수소화 리튬, 보란 등; 알루미늄 유도된 환원제, 예를 들어 리튬 알루미늄 하이드라이드, 알란, 리튬 트리-3급-부톡시-알루미늄 하이드라이드 등; 금속 촉매 상의 수소화, 예를 들어 탄소상 팔라듐을 포함하였다. 그러나, 바람직한 환원제는 붕수소화 나트륨이었다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 용매로는 비 제한적으로 에테르, 예를 들어 테트라하이드로푸란(THF), 글라임 등; 알콜 용매, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 이소프로판올 등이 있으나; 상기 반응을 통상적으로는 메탄올 중에서 수행하였다. 상기 방법을 약 -78 내지 약 100 ℃의 온도에서 수행하였다. 바람직하게는, 상기 반응을 0 내지 약 20 ℃에서 수행하였다. 상기 본 발명의 화합물을 제조하는 방법을 바람직하게는 약 대기압에서 수행하나, 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 압력도 사용할 수 있다. 실질적으로, 동 몰 량의 반응물들을 사용하는 것이 바람직하지만 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 양도 사용할 수 있다. 일단 상기 케톤의 알콜로의 환원이 완료된 것으로 생각되면, 상기 반응물에 적합한 용매 중의 HNR⁷R⁸을 충전시켰다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 용매로는 비 제한적으로 에테르, 예를 들어 테트라하이드로푸란(THF), 글라임 등; 디메틸포름아미드(DMF); 디메틸 설폭사이드(DMSO); 아세토니트릴(CH₃CN); 염소화된 용매, 예를 들어 염화 메틸렌(CH₂Cl₂) 또는 클로로포름(CHCl₃); 알콜성 용매, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 이소프로판올 등이 있다. 경우에 따라, 이들 용매의 혼합물을 사용하였으나; 상기 반응을 통상적으로는 메탄올 중에서 수행하였다. 상기 방법을 약 -78 내지 약 100 ℃의 온도에서 수행하였다. 바람직하게는, 상기 반응을 0 내지 약 60 ℃에서 수행하였다. 상기 본 발명의 화합물을 제조하는 방법을 바람직하게는 약 대기압에서 수행하나, 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 압력도 사용할 수 있다. 실질적으로, 동 몰 량의 반응물들을 사용하는 것이 바람직하지만 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 양도 사용할 수 있다. HNR⁷R⁸을 화학식 XI의 화합물에 대해 과잉으로 사용하였으며, 일반적으로는 상업적으로 입수하거나 또는 공지된 방법에 따라 제조하였다.

한편으로, 방법 F를 화학식 I-A의 화합물[R¹이 H이고, R^4a, R^5a, R^6a 및 R^6b가 H이며, Y가 O인 화학식 I의 화합물]을 하기 반응식 14에 나타낸 바와 같이 제조하는 경우 사용하였다:

방법 F:

상기에서, X, R², R³, G¹, (Z)_n2, (CR^4bR^5b)_n3 및 (Q¹)_n4은 앞서 화학식 I에 대해 정의한 바와 같고 A¹은 OH, OTs, OMs 또는 할로이다.

방법 F에 따른 화학식 I-A의 화합물[R¹이 H이고, R^4a, R^5a, R^6a 및 R^6b가 H이며, Y가 O인 화학식 I의 화합물]의 전형적인 제조에서, 화학식 XIV의 화합물을 적 합한 염기의 존재 하에서 적합한 용매 중의 화학식 V(이때 A¹은 할로이다)의 화합물과 반응시켰다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 용매로는 비 제한적으로 에테르, 예를 들어 테트라하이드로푸란(THF), 글라임 등; 디메틸포름아미드(DMF); 디메틸 설폭사이드(DMSO); 아세토니트릴(CH₃CN); 염소화된 용매, 예를 들어 염화 메틸렌(CH₂Cl₂) 또는 클로로포름(CHCl₃)이 있다. 경우에 따라, 상기 용매들의 혼합물을 사용할 수도 있다. 바람직한 용매는 DMF 또는 CH₃CN이었다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 염기로는 비 제한적으로 금속 하이드라이드, 예를 들어 수소화 나트륨 또는 칼륨; 금속 알콕사이드, 예를 들어 나트륨 또는 칼륨 알콕사이드; 알칼리 금속 하이드록사이드, 예를 들어 수산화 나트륨 또는 칼륨; 3 급 아민, 예를 들어 트리에틸아민 또는 디이소프로필에틸아민; 알칼리 금속 카보네이트, 예를 들어 탄산 나트륨 또는 칼륨; 또는 피리딘이 있다. 경우에 따라, 이들 염기의 혼합물을 사용하였다. 바람직한 염기는 수소화 나트륨 또는 칼륨 3급 부톡사이드이었다. 상기 방법을 약 -78 내지 약 100 ℃의 온도에서 수행하였다. 바람직하게는, 상기 반응을 0 내지 약 50 ℃에서 수행하였다. 상기 본 발명의 화합물을 제조하는 방법을 바람직하게는 약 대기압에서 수행하나, 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 압력도 사용할 수 있다. 실질적으로, 동 몰 량의 반응물들을 사용하는 것이 바람직하지만 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 양도 사용할 수 있다. 일반적으로는, 화학식 XIV 화합물의 출발 물질 당량 당 1 당량의 염기를 사용하였다.

화학식 I-A의 화합물[R¹이 H이고, R^4a, R^5a, R^6a 및 R^6b가 H이며, Y가 O인 화학식 I의 화합물]의 전형적인 제조에서, 화학식 XIV의 화합물을 적합한 반응물의 존재 하에 적합한 용매 중에서 화학식 V(이때 A¹은 OH이다)의 화합물과 반응시켰다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 용매로는 비 제한적으로 에테르, 예를 들어 테트라하이드로푸란(THF), 글라임 등; 디메틸포름아미드(DMF); 디메틸 설폭사이드(DMSO); 아세토니트릴(CH₃CN); 염소화된 용매, 예를 들어 염화 메틸렌(CH₂Cl₂) 또는 클로로포름(CHCl₃)이 있다. 경우에 따라, 상기 용매들의 혼합물을 사용할 수도 있지만, 바람직한 용매는 THF이었다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 반응물로는 비 제한적으로 트리페닐포스핀 및 아조디카복실레이트(DIAD, DEAD, DBAD)가 있다. 바람직한 반응물은 트리페닐포스핀 및 DIAD이었다. 상기 방법을 약 -78 내지 약 100 ℃의 온도에서 수행하였다. 바람직하게는, 상기 반응을 0 내지 약 50 ℃에서 수행하였다. 상기 본 발명의 화합물을 제조하는 방법을 바람직하게는 약 대기압에서 수행하나, 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 압력도 사용할 수 있다. 실질적으로, 동 몰 량의 반응물들을 사용하는 것이 바람직하지만 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 양도 사용할 수 있다. 일반적으로는, 화학식 XIV 화합물의 출발 물질 당량 당 1 당량의 트리페닐포스핀, DIAD 및 화학식 V의 화합물을 사용하였다. 화학식 V의 화합물을 일반적으로는 상업적으로 입수하거나 또는 공지된 과정에 따라 제조하였다.

반응식 14의 화학식 XIV의 화합물을 하기 반응식 15에 나타낸 바와 같이 제조하였다:

상기에서,

X, R², R³ 및 G¹은 앞서 화학식 I 화합물에 대해 정의한 바와 같다.

화학식 XIV 화합물의 전형적인 제조에서, 화학식 XV의 화합물을 적합한 용매 중에서 CDI 또는 CDT와 반응시켰다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 용매로는 비 제한적으로 에테르, 예를 들어 테트라하이드로푸란(THF), 글라임 등; 디메틸포름아미드(DMF); 디메틸 설폭사이드(DMSO); 아세토니트릴; 염소화된 용매, 예를 들어 염화 메틸렌(CH₂Cl₂) 또는 클로로포름(CHCl₃)이 있다. 경우에 따라, 이들 용매의 혼합물을 사용하였다. 바람직한 용매는 사용되는 기질에 따라 다르며 상기 기질의 성질에 따라 선택되었다. 상기 방법을 약 -78 내지 약 100 ℃의 온도에서 수행하였다. 바람직하게는, 상기 반응을 22 내지 약 80 ℃에서 수행하였다. 상기 본 발명의 화합물을 제조하는 방법을 바람직하게는 약 대기압에서 수행하나, 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 압력도 사용할 수 있다. 실질적으로, 동 몰 량의 반 응물들을 사용하는 것이 바람직하지만 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 양도 사용할 수 있다.

반응식 15의 화학식 XV의 화합물을 하기 반응식 16에 나타낸 바와 같이 제조하였다:

상기에서, R², R³ 및 G¹은 앞서 화학식 I에 대해 정의한 바와 같다.

화학식 XV 화합물의 전형적인 제조에서, 화학식 IV의 화합물을 적합한 용매 중의 적합한 환원제로 처리하였으며, 이때 상기 적합한 환원제는 붕소 유도된 환원제, 예를 들어 비 제한적으로 붕수소화 나트륨, 붕수소화 리튬, 보란 등; 알루미늄 유도된 환원제, 예를 들어 리튬 알루미늄 하이드라이드, 알란, 리튬 트리-3급-부톡시-알루미늄 하이드라이드 등; 금속 촉매 상의 수소화, 예를 들어 탄소상 팔라듐을 포함하였다. 바람직한 환원제는 붕수소화 나트륨이었다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 용매로는 비 제한적으로 에테르, 예를 들어 테트라하이드로푸란(THF), 글라임 등; 알콜 용매, 예를 들어 메탄올, 에탄올, 이소프로판올 등이 있으나; 상기 반응을 통상적으로는 메탄올 중에서 수행하였다. 상기 방법을 약 -78 내지 약 100 ℃의 온도에서 수행하였다. 바람직하게는, 상기 반응을 0 내지 약 20 ℃에서 수행하였다. 상기 본 발명의 화합물을 제조하는 방법을 바람직하게는 약 대기압에서 수행하나, 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 압력도 사용할 수 있다. 실질적으로, 동 몰 량의 반응물들을 사용하는 것이 바람직하지만 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 양도 사용할 수 있다.

화학식 I-Z의 화합물[R¹이 OH이고, Y가 O이고, n1이 1이고, R^4a, R^5a, R^6a 및 R^6b가 H인 화학식 I의 화합물]을 하기 반응식 17에 나타낸 바와 같이 반응 A 내지 C에 따라 제조하였다:

상기에서, X, R², R³, G¹, (Z)_n2, (CR^4bR^5b)_n3 및 (Q¹)_n4은 앞서 화학식 I에 대해 정의한 바와 같고 A¹은 적합한 교환 가능한 그룹, 예를 들어 할로 또는 트리플레이트 또는 탈양자화 가능한 수소 원자이고, d는 0 또는 1이고, R⁹⁹는 적합한 보호 그룹, 예를 들어 벤질 또는 트리틸이고, M은 금속, 예를 들어 리튬 및 마그네슘이고; M으로 나타낸 금속의 염은 예를 들어 금속 할라이드, 예를 들어 염화 마그네슘, 브롬화 마그네슘 또는 마그네슘 트리플레이트를 포함할 수 있다.

반응 A를 통한 화학식 XVII 중간체의 전형적인 제조에서, 화학식 XVI의 화합물을 적합한 알킬-리튬 종 또는 마그네슘 금속으로 처리한다. 상기와 같은 알킬-리튬 종의 예로는 n-부틸리튬, 2급-부틸리튬 또는 3급-부틸리튬이 있다. 상기 알킬-마그네슘 할라이드의 예로는 에틸마그네슘 브로마이드 또는 메틸마그네슘 클로라이드가 있다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 용매로는 비 제한적으로 에테르, 예를 들어 테트라하이드로푸란(THF), 디에틸 에테르, 디옥산 등; 포화된 탄화수소, 예를 들어 헥산, 펜탄 등; 방향족 탄화수소, 예를 들어 벤젠 또는 톨루엔이 있다. 상기 방법을 약 -40 내지 약 70 ℃의 온도에서 수행하였다. 상기 본 발명의 화합물을 제조하는 방법을 바람직하게는 약 대기압에서 수행하나, 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 압력도 사용할 수 있다. 실질적으로, 동 몰 량의 반응물들을 사용하는 것이 바람직하지만 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 양도 사용할 수 있다. 알킬-리튬의 경우에, 출발 물질 XVI 1 몰당 상기 알킬-리튬을 1 내지 3 몰, 바람직하게는 1 내지 1.5 몰의 양으로 사용한다.

반응 B에 따라, 화학식 XVIII 화합물의 전형적인 제조에서, 화학식 XVII의 중간체를 화학식 III의 화합물과 반응시킨다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 용매로는 비 제한적으로 에테르, 예를 들어 테트라하이드로푸란(THF), 디에틸 에테르, 디옥산 등; 포화된 탄화수소, 예를 들어 헥산, 펜탄 등; 방향족 탄화수소, 예를 들어 벤젠 또는 톨루엔이 있다. 상기 방법을 약 -40 내지 약 70 ℃의 온도에 서 수행하였다. 상기 본 발명의 화합물을 제조하는 방법을 바람직하게는 약 대기압에서 수행하나, 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 압력도 사용할 수 있다. 실질적으로, 동 몰 량의 반응물들을 사용하는 것이 바람직하지만 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 양도 사용할 수 있다.

반응 C에 따라, 화학식 I-Z 화합물의 전형적인 제조에서, 화학식 XVIII의 화합물을 적합한 탈보호 조건 하에서 처리하여 R⁹⁹를 수소 원자로 전환시킨다. 예를 들어, d가 1이고 R⁹⁹가 트리틸 그룹인 경우, 산성 또는 가수소 분해 조건 하에서 탈보호가 제공된다. 산성 조건의 예로는 유기산, 예를 들어 포름산, 아세트산 또는 트리플루오로아세트산의 사용 또는 무기산, 예를 들어 염산의 사용이 있다. 적합한 용매로는 알콜, 에테르 또는 할로겐화된 용매가 있다. 상기 방법을 약 -40 내지 약 70 ℃의 온도에서 수행하였다. 상기 본 발명의 화합물을 제조하는 방법을 바람직하게는 약 대기압에서 수행하나, 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 압력도 사용할 수 있다. 실질적으로, 동 몰 량의 반응물들을 사용하는 것이 바람직하지만 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 양도 사용할 수 있다. A¹-X-(R⁹⁹)_d의 예로는 비 제한적으로 하기의 헤테로아릴 그룹들이 있다:

한편으로, 반응식 17의 화학식 XVII의 화합물을 하기 반응식 18에 나타낸 바와 같이 제조한다:

상기에서, X, R², R³, G¹, (Z)_n2, (CR^4bR^5b)_n3 및 (Q¹)_n4은 앞서 화학식 I에 대해 정의한 바와 같고 A²는 C₁ _- ₆알킬 또는 아릴-C₁ _- ₆알킬이고, A⁴는 할로 또는 OTf이고, d는 0 또는 1이고, R⁹⁹는 적합한 보호 그룹, 예를 들어 벤질 또는 트리틸이다.

화학식 XVII 화합물의 전형적인 제조에서, 화학식 VIII의 화합물을 먼저 적합한 유기리튬 시약 또는 금속 촉매와 반응시킨 다음 적합한 용매 중의 화학식 XIX 화합물과 반응시킨다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 용매로는 비 제한적으로 에테르, 예를 들어 테트라하이드로푸란(THF), 글라임, 디에틸 에테르, 디옥산 등; 방향족 용매, 예를 들어 벤젠 및 톨루엔이 있다. 상기 방법에 사용하기에 적합한 유기리튬 또는 금속 종으로는 비 제한적으로 유기리튬 종, 예를 들어 n-부틸 리튬 또는 3급-부틸 리튬, 마그네슘이 있다. 상기 방법을 약 -78 내지 약 70 ℃의 온도에서 수행하였다. 상기 본 발명의 화합물을 제조하는 방법을 바람직하게는 약 대기압에서 수행하나, 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 압력도 사용할 수 있다. 실질적으로, 동 몰 량의 반응물들을 사용하는 것이 바람직하지만 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 양도 사용할 수 있다. 화학식 VIII 및 XIX의 화합물을 일반적으로는 상업적으로 입수하거나 또는 공지된 방법에 따라 제조한다. 예를 들어 화학식 XIX의 화합물을, 화학식 VIII의 화합물을 화학식 XVI의 화합물로 대체함으로써 반응식 6b에 개시된 방법에 따라 제조한다.

광학적으로 순수한 이성체들인 화학식 I' 및 I"의 화합물들을 반응식 19에 나타낸 바와 같이 화학식 (±)-I-syn의 화합물인 (±)-syn-이성체로부터 제조한다:

상기에서, X, R¹, R², R³, G¹, (CR^4aR^5a)_n1, (Z)_n2, (CR^4bR^5b)_n3, R^6a, R^6b 및 (Q¹)_n4은 앞서 화학식 I에 대해 정의한 바와 같다.

화학식 I' 및 I"의 광학적으로 분리된 syn-화합물들의 전형적인 제조에서, 화학식 I의 (±)-syn-화합물에 대해 키랄 컬럼이 구비된 액체 크로마토그래피 방법 또는 광학적으로 활성인 산 또는 광학적으로 활성인 염기를 사용하는 부분 입체 이성체 염 방법을 수행한다. 화학식 I' 또는 I"의 목적하는 거울상 이성체를 상기 부분 입체 이성체 염 방법으로부터 그들의 각각의 부분 입체 이성체 염 형태(화학식 I-(HA⁶)_n7의 화합물, 이때 HA⁶은 광학적으로 순수한 산, 예를 들어 타르타르산 또는 만델산이다)로 수득하는 경우, 화학식 I' 및 I"의 거울상 이성체를 상기 반응 혼합물의 중화에 의해 그들의 각각의 유리 형태로 수득한다. 또한, 부분 입체 이성체로서 화학식 I' 및 I"의 화합물을 적합한 조건 하에서 HCl로 처리하여 화학식 I-(HA⁶)_n7(이때 n7은 2이고 HA⁶은 HCl이다)의 화합물을 수득한다.

광학적으로 순수한 이성체들인 화학식 I'" 및 I""의 화합물들을 반응식 20에 나타낸 바와 같이 화학식 I의 (±)-anti- 화합물로부터 제조한다:

화학식 I'" 및 I""의 광학적으로 분리된 anti-화합물들의 전형적인 제조에서, 화학식 I의 (±)-anti-화합물에 대해 키랄 컬럼이 구비된 액체 크로마토그래피 방법 또는 광학적으로 활성인 산 또는 광학적으로 활성인 염기를 사용하는 부분 입체 이성체 염 방법을 수행한다. 화학식 I'" 또는 I""의 목적하는 거울상 이성체를 상기 부분 입체 이성체 염 방법으로부터 그들의 각각의 부분 입체 이성체 염 형태(화학식 I-(HA⁶)_n7의 화합물, 이때 HA⁶은 광학적으로 순수한 산, 예를 들어 타르타르산 또는 만델산이다)로 수득하는 경우, 화학식 I'" 및 I""의 거울상 이성체를 상기 반응 혼합물의 중화에 의해 그들의 각각의 유리 형태로 수득한다. 또한, 부분 입체 이성체로서 화학식 I'" 및 I""의 화합물을 적합한 조건 하에서 HCl로 처리하여 화학식 I-(HA⁶)_n7(이때 n7은 2이고 HA⁶은 HCl이다)의 화합물을 수득한다.

광학적으로 순수한 이성체들인 화학식 III' 및 III"의 화합물들을 반응식 21에 나타낸 바와 같이 화학식 III의 (±)-화합물로부터 제조한다:

상기에서, R², R³, (CR^4bR^5b)_n3, 및 (Q¹)_n4은 앞서 화학식 I에 대해 정의한 바와 같고 G¹은 NR⁷²R⁷⁸이다.

화학식 III' 및 III"의 광학적으로 분리된 화합물들의 전형적인 제조에서, 화학식 III의 (±)-화합물에 대해 키랄 컬럼이 구비된 액체 크로마토그래피 방법 또는 광학적으로 활성인 산 또는 광학적으로 활성인 염기를 사용하는 부분 입체 이 성체 염 방법을 수행한다. 화학식 III' 또는 III"의 목적하는 거울상 이성체를 그들의 각각의 부분 입체 이성체 염 형태로 수득하는 경우, 화학식 III' 및 III"의 화합물을 상기 반응 혼합물의 중화에 이어서 적합한 유기 용매, 예를 들어 EtOAc 또는 염화 메틸렌으로의 추출에 의해 그들 각각의 유리 비-염 형태로 수득한다.

광학적으로 순수한 이성체들인 화학식 II' 및 II"의 화합물들을 반응식 22에 나타낸 바와 같이 화학식 II의 (±)-syn-화합물로부터 제조한다:

상기에서, R², R³, (Z)_n2, (CR^4bR^5b)_n3, 및 (Q¹)_n4은 앞서 화학식 I에 대해 정의한 바와 같고 G¹은 NR⁷²R⁸²이다.

화학식 II' 및 II"의 광학적으로 분리된 syn-화합물들의 전형적인 제조에서, 화학식 II의 (±)-syn-화합물에 대해 키랄 컬럼이 구비된 액체 크로마토그래피 방 법 또는 광학적으로 활성인 산 또는 광학적으로 활성인 염기를 사용하는 부분 입체 이성체 염 방법을 수행한다. 화학식 II' 또는 II"의 목적하는 거울상 이성체를 상기 부분 입체 이성체 염 방법으로부터 그들의 각각의 부분 입체 이성체 염 형태(화학식 I-HA⁶의 화합물, 이때 HA⁶은 광학적으로 순수한 산, 예를 들어 타르타르산 또는 만델산이다)로 수득하는 경우, 화학식 II' 및 II"의 거울상 이성체를 상기 반응 혼합물의 중화에 의해 그들의 각각의 유리 형태로 수득한다.

광학적으로 순수한 이성체들인 화학식 II'" 및 II""의 화합물들을 반응식 23에 나타낸 바와 같이 화학식 II의 (±)-anti-화합물로부터 제조한다:

화학식 II'" 및 II""의 광학적으로 분리된 anti-화합물들의 전형적인 제조에서, 화학식 II의 (±)-anti-화합물에 대해 키랄 컬럼이 구비된 액체 크로마토그래 피 방법 또는 광학적으로 활성인 산 또는 광학적으로 활성인 염기를 사용하는 부분 입체 이성체 염 방법을 수행한다. 화학식 II'" 또는 II""의 목적하는 거울상 이성체를 상기 부분 입체 이성체 염 방법으로부터 그들의 각각의 부분 입체 이성체 염 형태(화학식 I-HA⁶의 화합물, 이때 HA⁶은 광학적으로 순수한 산, 예를 들어 타르타르산 또는 만델산이다)로 수득하는 경우, 화학식 II'" 및 II""의 거울상 이성체를 상기 반응 혼합물의 중화에 의해 그들의 각각의 유리 형태로 수득한다.

본 발명의 화학식 II', II", II'" 및 II""의 화합물들 및 본 발명 화합물들의 합성에 사용되는 중간체들을 하기 반응식 24 내지 27에 나타낸 바와 같이 방법 G에 따라 제조하였다. 화학식 II'의 광학적으로 순수한 화합물을 하기 반응식 24에 나타낸 바와 같이 화학식 IIa'의 광학적으로 순수한 화합물로부터 제조한다:

방법 G:

상기에서, R², R³, (Z)_n2, (CR^4bR^5b)_n3, 및 (Q¹)_n4은 앞서 화학식 I에 대해 정의한 바와 같고 G¹은 NR⁷²R⁸²이고 Z⁵⁵는 키랄 보조제이다.

화학식 II' 화합물의 전형적인 제조에서, 화학식 IIa'(여기에서 OZ⁵⁵는 함께 O-(C=O)-R^*이고, 이때 R^*는 키랄 보조제이다)의 화합물을 전형적인 반응 조건 하에서 반응시켜 에스테르를 알콜로 가수분해시킨다. 전형적인 가수분해 조건은 수중 HCl 또는 수중 NaOH, KOH 또는 LiOH를 포함한다. 적합한 용매로는 물, THF, 아세토니트릴, 또는 알콜, 예를 들어 메탄올 또는 에탄올이 있다. 상기 방법을 약 -5 내지 약 100 ℃의 온도에서 수행한다. 본 발명의 화합물을 제조하기 위한 상기 방법을 바람직하게는 약 대기압에서 수행하나, 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 압력도 사용된다. 실질적으로, 동 몰 량의 반응물들을 사용하지만, 경우에 따라 과잉의 HCl 또는 NaOH도 사용된다.

화학식 II"의 광학적으로 순수한 화합물을 하기 반응식 25에 나타낸 바와 같이 화학식 IIa"의 광학적으로 순수한 화합물로부터 제조한다:

화학식 II" 화합물의 전형적인 제조에서, 화학식 IIa"(여기에서 OZ⁵⁵는 함께 O-(C=O)-R^*이고, 이때 R^*는 키랄 보조제이다)의 화합물을 전형적인 반응 조건 하에서 반응시켜 에스테르를 알콜로 가수분해시킨다. 전형적인 가수분해 조건은 수중 HCl 또는 수중 NaOH, KOH 또는 LiOH를 포함한다. 적합한 용매로는 물, THF, 아세토니트릴, 또는 알콜, 예를 들어 메탄올 또는 에탄올이 있다. 상기 방법을 약 -5 내지 약 100 ℃의 온도에서 수행한다. 본 발명의 화합물을 제조하기 위한 상기 방법을 바람직하게는 약 대기압에서 수행하나, 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 압력도 사용된다. 실질적으로, 동 몰 량의 반응물들을 사용하지만, 경우에 따라 과잉의 HCl 또는 NaOH도 사용된다.

화학식 II'"의 광학적으로 순수한 화합물을 하기 반응식 26에 나타낸 바와 같이 화학식 IIb'의 광학적으로 순수한 화합물로부터 제조한다:

화학식 II'" 화합물의 전형적인 제조에서, 화학식 IIb'(여기에서 OZ⁵⁵는 함께 O-(C=O)-R^*이고, 이때 R^*는 키랄 보조제이다)의 화합물을 전형적인 반응 조건 하에서 반응시켜 에스테르를 알콜로 가수분해시킨다. 전형적인 가수분해 조건은 수중 HCl 또는 수중 NaOH, KOH 또는 LiOH를 포함한다. 적합한 용매로는 물, THF, 아세토니트릴, 또는 알콜, 예를 들어 메탄올 또는 에탄올이 있다. 상기 방법을 약 -5 내지 약 100 ℃의 온도에서 수행한다. 본 발명의 화합물을 제조하기 위한 상기 방법을 바람직하게는 약 대기압에서 수행하나, 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 압력도 사용된다. 실질적으로, 동 몰 량의 반응물들을 사용하지만, 경우에 따라 과잉의 HCl 또는 NaOH도 사용된다.

화학식 II""의 광학적으로 순수한 화합물을 하기 반응식 27에 나타낸 바와 같이 화학식 IIb"의 광학적으로 순수한 화합물로부터 제조한다:

화학식 II"" 화합물의 전형적인 제조에서, 화학식 IIb"(여기에서 OZ⁵⁵는 함 께 O-(C=O)-R^*이고, 이때 R^*는 키랄 보조제이다)의 화합물을 전형적인 반응 조건 하에서 반응시켜 에스테르를 알콜로 가수분해시킨다. 전형적인 가수분해 조건은 수중 HCl 또는 수중 NaOH, KOH 또는 LiOH를 포함한다. 적합한 용매로는 물, THF, 아세토니트릴, 또는 알콜, 예를 들어 메탄올 또는 에탄올이 있다. 상기 방법을 약 -5 내지 약 100 ℃의 온도에서 수행한다. 본 발명의 화합물을 제조하기 위한 상기 방법을 바람직하게는 약 대기압에서 수행하나, 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 압력도 사용된다. 실질적으로, 동 몰 량의 반응물들을 사용하지만, 경우에 따라 과잉의 HCl 또는 NaOH도 사용된다.

화학식 IIa' 및 IIa"의 광학적으로 순수한 화합물을 하기 반응식 28에 나타낸 바와 같이 화학식 II의 (±)-syn-화합물의 각각의 화학식 IIa' 및 IIa"의 부분 입체 이성체 화합물로의 전환으로부터 제조한다:

화학식 IIa' 및 IIa"의 부분 입체 이성체적으로 분리된 syn-화합물의 전형적인 제조에서, 화학식 II의 (±)-syn-화합물을 적합한 키랄 보조제와 반응시키고 이어서 각각의 부분 입체 이성체들인 화학식 IIa' 및 IIa"의 화합물을 재결정화 또는 크로마토그래피 등의 공지된 방법에 의해 분리시킨다. 전형적인 반응은 화학식 II의 (±)-syn-화합물의, 카복실산 또는 산 클로라이드 잔기를 함유하는 적합한 키 랄 보조제에 의한 처리를 포함한다. 화학식 II의 (±)-syn-화합물의 산-기재 키랄 보조제에 의한 처리는 알콜의 에스테르로의 전환에 대한 전형적인 조건을 수반한다. 이러한 커플링 조건에는 비 제한적으로 트리에틸아민 또는 디이소프로필아민과 같은 적합한 염기 존재 하의 적합한 용매 중의 DMAP, HOAT 또는 HOBT와 같은 적합한 촉매와 DCC 또는 EDC가 포함된다. 화학식 II의 (±)-syn-화합물의 클로라이드-기재 키랄 보조제에 의한 처리는 불활성 용매 및 염기와 같은 산 클로라이드에 의한 알콜의 에스테르로의 전환에 전형적인 조건을 수반한다. 전형적인 키랄 보조제로는 비 제한적으로 적합하게 보호된 아미노산, 예를 들어 N-(3급-부톡시카보닐)-L-프롤린, N-(3급-부톡시카보닐)-D-프롤린, (R)-(+)-α-메톡시-α-(트리플루오로메틸)페닐아세트산, (S)-(-)-α-메톡시-α-(트리플루오로메틸)페닐아세트산, (R)-(+)-α-메톡시-α-(트리플루오로메틸)페닐아세틸 클로라이드, (S)-(-)-α-메톡시-α-(트리플루오로메틸)페닐아세틸 클로라이드, (1R)-(+)-캄판산, (1S)-(-)-캄판산, 및 (1S)-(-)-캄판 클로라이드가 있다. 상기 두 방법 모두에 사용하기에 적합한 용매로는 비 제한적으로 에테르, 예를 들어 테트라하이드로푸란(THF), 글라임 등; 디메틸 포름아미드; 디메틸 설폭사이드; 할로겐화된 용매, 예를 들어 염화 메틸렌 또는 클로로포름이 있다. 상기 방법을 약 -5 내지 약 100 ℃의 온도에서 수행한다. 본 발명의 화합물을 제조하기 위한 상기 방법을 바람직하게는 약 대기압에서 수행하나, 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 압력도 사용된다. 실질적으로, 경우에 따라 동 몰 량의 반응물들을 사용한다.

화학식 IIb' 및 IIb"의 광학적으로 순수한 화합물을 하기 반응식 29에 나타 낸 바와 같이 화학식 II의 (±)-anti-화합물의 각각의 화학식 IIb' 및 IIb"의 부분 입체 이성체 화합물로의 전환으로부터 제조한다:

화학식 IIb' 및 IIb"의 부분 입체 이성체적으로 분리된 anti-화합물의 전형적인 제조에서, 화학식 II의 (±)-anti-화합물을 적합한 키랄 보조제와 반응시키고 이어서 각각의 부분 입체 이성체들인 화학식 IIb' 및 IIb"의 화합물을 재결정화 또 는 크로마토그래피 등의 공지된 방법에 의해 분리시킨다. 전형적인 반응은 화학식 II의 (±)-anti-화합물의, 카복실산 또는 산 클로라이드 잔기를 함유하는 적합한 키랄 보조제에 의한 처리를 포함한다. 화학식 II의 (±)-anti-화합물의 산-기재 키랄 보조제에 의한 처리는 알콜의 에스테르로의 전환에 대한 전형적인 조건을 수반한다. 이러한 커플링 조건에는 비 제한적으로 트리에틸아민 또는 디이소프로필아민과 같은 적합한 염기 존재 하의 적합한 용매 중의 DMAP, HOAT 또는 HOBT와 같은 적합한 촉매와 DCC 또는 EDC가 포함된다. 화학식 II의 (±)-anti-화합물의 클로라이드-기재 키랄 보조제에 의한 처리는 불활성 용매 및 염기와 같은 산 클로라이드에 의한 알콜의 에스테르로의 전환에 전형적인 조건을 수반한다. 전형적인 키랄 보조제로는 비 제한적으로 적합하게 보호된 아미노산, 예를 들어 N-(3급-부톡시카보닐)-L-프롤린, N-(3급-부톡시카보닐)-D-프롤린, (R)-(+)-α-메톡시-α-(트리플루오로메틸)페닐아세트산, (S)-(-)-α-메톡시-α-(트리플루오로메틸)페닐아세트산, (R)-(+)-α-메톡시-α-(트리플루오로메틸)페닐아세틸 클로라이드, (S)-(-)-α-메톡시-α-(트리플루오로메틸)페닐아세틸 클로라이드, (1R)-(+)-캄판산, (1S)-(-)-캄판산, 및 (1S)-(-)-캄판 클로라이드가 있다. 상기 두 방법 모두에 사용하기에 적합한 용매로는 비 제한적으로 에테르, 예를 들어 테트라하이드로푸란(THF), 글라임 등; 디메틸 포름아미드; 디메틸 설폭사이드; 할로겐화된 용매, 예를 들어 염화 메틸렌 또는 클로로포름이 있다. 상기 방법을 약 -5 내지 약 100 ℃의 온도에서 수행한다. 본 발명의 화합물을 제조하기 위한 상기 방법을 바람직하게는 약 대기압에서 수행하나, 경우에 따라 보다 높거나 보다 낮은 압력도 사용된다. 실질적 으로, 경우에 따라 동 몰 량의 반응물들을 사용한다.

하기의 실시예들은 본 발명의 범위를 예시하고자 하며 제한하지 않는다.

분석학적 HPLC 조건:

달리 나타내지 않는 한, 모든 HPLC 분석을 XTERRA MS C18 5 μ 4.6 x 50 ㎜ 컬럼이 있는 마이크로매스(Micromass) 시스템에서 실행하고 254 ㎚에서 검출하였다. 하기의 표 A는 이동상, 유속 및 압력을 나타낸다.

시간 (분)	% CH₃CN	H₂O 중 0.01% HCOOH %	유속 (mL/min)	압력 (psi)
0.00	5	95	1.3	400
4.00	100	0	1.3	400
5.50	100	0	1.3	400
6.00	5	95	1.3	400
7.00	5	95	1.3	400

반 예비 HPLC 조건:

"길슨(Gilson) HPLC에 의해 정제된"을 나타내는 경우, 관심 화합물을 페노메넥스 루나(Phenomenex Luna) 5 μ C18(2) 60 x 21 20MM 5 μ 컬럼 및 길슨 215 액체 핸들러(806 압력측정 모듈, 811C 동적 혼합기, 254 ㎚에서의 검출)가 구비된 예비/반 예비 길슨 HPLC 워크스테이션에 의해 정제하였다. 표 B는 구배, 유속, 시간 및 압력을 나타낸다.

시간 (분)	% CH₃CN	H₂O 중의 0.01% HCOOH %	유속 (mL/min)	압력 (psi)
0.00	5	95	15	1000
15.00	60	40	15	1000
15.10	100	0	15	1000
19.00	100	0	15	1000
20.00	5	95	15	1000

중간체 A-1(R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, 및 A² = CH₃인 화학식 V의 화합물): CHCl₃ 500 ㎖ 및 MeOH 500 ㎖ 중의 2-요오도-1-(6-메톡시-나프탈렌-2-일)-프로판-1-온(R² = CH₃, R³ = H, A³ = I, 및 A² = CH₃인 화학식 VII의 화합물)(54 g, 161 밀리몰), 디메틸아민(MeOH 중의 2M 용액 161 ㎖, 322 밀리몰) 및 디이소프로필아민(28 ㎖, 161 밀리몰)의 용액을 16 시간 동안 실온에서 교반하였다. 상기 반응 혼합물을 진공 하에서 농축시키고 Na₂CO₃(포화)와 CH₂Cl₂ 사이에 분배시켰다. 수성 상을 CH₂Cl₂(4회)로 추출하고, Na₂SO₄ 상에서 건조시키고 진공 하에서 농축시켰다. 중간체 A-1은 ¹HNMR에 의해 순수한 것으로 생각되며 다음 반응에 직접 사용되었다. ¹HNMR (CDCl₃, 200 MHz) δ 1.31 (d, 3H, J = 7.0 Hz), 2.35 (s, 6H), 3.94 (s, 3H), 4.16 (q, 1H, J = 8.0 Hz), 7.15-8.56 (m, 6H); MS (ES) 258.0 (M+1).

중간체 A-2(R² = CH₃, R³ = H 및 G¹ = N(CH₃)₂인 화학식 V의 화합물): 환류 냉각기가 구비된 2L rbf에 중간체 A-1(38 g, 148 밀리몰), 48% HBr_aq(800 ㎖) 및 빙초산(800 ㎖)을 충전하고 16 시간 동안 교반하면서 120 ℃에서 오일 욕에서 가열하였다. 상기 반응 혼합물을 진공 하에서 가능한 작은 부피로 농축시키고, 빙욕에서 냉각시키고 8M NaOH로 급냉시켰다. 이어서 냉각된 슬러리를 CH₂Cl₂(7 회)로 추출하였다. 유기층들을 합하고 셀라이트 패드를 통해 여과하였다. 여액을 진공 하에서 농축시키고 생성물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피(용매 100 ㎖ 당 1% Et₃N과 함께 5% CH₃OH:CH₂Cl₂에서 용매 100 ㎖ 당 1% Et₃N과 함께 10% CH₃OH:CH₂Cl₂의 구배)에 의해 추가로 정제하여 발포성 갈색 고체로서 목적하는 중간체 A-2를 수득하였다. ¹HNMR (CDCl₃, 200 MHz) δ1.34 (d, 3H, J = 8.0 Hz), 2.39 (s, 6H), 4.22 (q, 1H, J = 8.0 Hz), 7.09-7.13 (m, 2H), 7.66 (d, 1H, J = 8.0 Hz), 7.82 (d, 1H, J = 8.0 Hz), 8.02 (dd, 1H, J = 2.0, 10.0 Hz), 8.52 (d, 1H, J = 2.0 Hz).

중간체 A-3(R² = CH₃, R³ = H, A² = CH₃ 및 G¹ = N(CH₃)₂인 화학식 VI의 화합물): -78 ℃ 에서 THF(30 ㎖) 중의 2-브로모-6-메톡시나프탈렌(2.37 g, 10 밀리몰) 용액에 20 분의 기간에 걸쳐 tBuLi(1.7 M, 11.76 ㎖, 20 밀리몰)를 충전시켰다. 상기 반응 혼합물을 -78 ℃에서 20 분 동안 교반하고, 이때 순수한 2-디메틸아미노-2-메틸-프로피오니트릴(1.23 g 11.1 밀리몰)을 가하였다. 상기 혼합물을 추가로 30 분 동안 교반하고 이어서 실온으로 가온하였다. 상기 혼합물에 2N H₂SO₄(50 ㎖)를 충전하고 10 분 동안 교반하였다. THF 층을 분리시키고 수성 층을 에틸 아세테이트(2x40 ㎖)로 추출하였다. 수성 층을 2N NaOH로 pH 8.0으로 염기성으로 만들고 CH₂Cl₂(3x40 ㎖)로 추출하였다. 상기 CH₂Cl₂ 추출물을 물, 염수로 세척하고, 무수 황산 나트륨 상에서 건조시키고, 진공 하에서 농축시켜 담황색 오일로서 중간체 A-3을 수득하였다. MS (ES): m/z 271.96 [M⁺]; ¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz): δ 9.09 (d, J = 1.2 Hz, 1H), 8.35 (dd, J = 8.8, 4.0 Hz, 1H), 7.76 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 7.62 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 7.07 (dd, J = 8.8, 2.8 Hz, 1H), 7.03 (d, J = 2.8 Hz, 1H), 3.83 (s, 3H), 2.21 (s, 6H), 1.25 (s, 6H).

중간체 A-4(R² = CH₃, R³ = CH₃ 및 G¹ = N(CH₃)₂인 화학식 IV의 화합물): 중간체 A-3(1.92 g, 7.11 밀리몰) 및 수성 HBr(48%, 30 ㎖)의 혼합물에 빙초산(30 ㎖)을 충전하고 16 시간 동안 120 ℃로 가열하였다. 반응 혼합물을 실온으로 냉각시키고 2N NaOH(pH 5.0 까지) 및 포화된 NaHCO₃(pH 7.0 까지)로 중화시켰다. 수성 혼합물을 CH₂Cl₂(4x40 ㎖)로 추출하고 합한 유기물을 물, 염수로 세척하고, 무수 황산 나트륨 상에서 건조시키고, 진공 하에서 농축시켜 갈색 오일로서 조 생성물을 수득하였다. 상기 조 생성물을 컬럼 크로마토그래피(10% MeOH/CH₂Cl₂)에 의해 정제시켜 중간체 A-4를 수득하였다. MS (ES): m/z 258.22 [M+H⁺]; ¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ9.17 (s, 1H), 8.39 (dd, J = 8.8, 2.0 Hz, 1H), 7.86 (d, J = 8.4 Hz, 1H), 7.63 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 7.15 (s, 1H), 7.12 (dd, J = 8.4, 2.4 Hz, 1H), 2.29 (s, 6H), 1.34 (s, 6H).

중간체 A-5(R² = CH₃, R³ = H, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 IV의 화합물): 1-(6-하이드록시나프탈렌-2-일)프로판-1-온(10.0 g, 50.0 밀리몰), 트리페닐포스핀(20.0, 76.0 밀리몰) 및 메틸 2,2-디메틸-3-하이드록시프로피오네이트(7.0 ㎖, 55.0 밀리몰)의 THF(160 ㎖) 용액을 배기시키고, N₂ atm 하에 놓고, 빙욕에서 냉각시키고 DIAD(15.0 ㎖, 76.0 밀리몰)를 5 분에 걸쳐 조금씩 나누어 충전하였다. 상기 혼합물을 실온으로 가온하고 이어서 16 시간 동안 45 ℃로 가열하였다. 반응 혼합물을 진공 하에서 검은색 오일로 농축시키고 실리카겔 컬럼 크로마토그래피(5에서 10% EtOAc/헥산)에 의해 정제시켰다. 백색 고체를 고온 헥산으로부터 재결정화시켜 목적하는 중간체 A-5를 수득하였다. ¹HNMR (CDCl₃, 400 MHz) δ1.28 (t, 3H, J = 7.2 Hz), 2.33 (s, 6H), 1.38 (s, 6H), 3.12 (q, 1H, J = 7.2 Hz), 3.72 (s, 3H), 4.12 (s, 2H), 7.16 (m, 2H), 7.20 (dd, 1H, J = 2.5, 8.8 Hz), 7.76 (d, 1H, J = 8.6 Hz), 7.84 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 8.01 (dd, 1H, J = 2.0, 8.6 Hz), 8.41 (s, 1H).

중간체 A-6(R² = CH₃, R³ = H, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, A³ = Br 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 XI의 화합물): 중간체 A-5(8.60 g, 27.4 밀리몰) 및 CuBr₂(12.2 g, 54.7 밀리몰)를 함유하는 250 ㎖ rbf에 디옥산(55 ㎖)을 충전하고, 배기치시키고, N₂ atm 하에 놓고, 16 시간 동안 110 ℃로 가열하였다. 반응 혼합물을 진공 하에서 검은색 슬러리로 농축시키고 실리카겔 컬럼 크로마토그래피(5에서 10% EtOAc/헥산)에 의해 정제시켰다. 회색 고체를 헥산/EtOAc로부터 재결정화시켜 회색 고체로서 중간체 A-6 9.36 g을 수득하였다. ¹HNMR (CDCl₃, 400 MHz) δ1.38 (s, 6H), 1.95 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 3.77 (s, 3H), 4.12 (s, 2H), 5.44 (q, 1H, J = 6.6 Hz), 7.16 (m, 2H), 7.21 (dd, 1H, J = 2.4, 8.8 Hz), 7.77 (d, 1H, J = 8.0 Hz), 7.86 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 8.03 (dd, 1H, J = 2.4, 8.8 Hz), 8.49 (s, 1H).

중간체 A-7(R² = H, R³ = H, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 XII의 화합물): 표제 화합물을, 1-(6-하이드록시나프탈렌-2-일)프로판-1-온 대신 1-(6-하이드록시-나프탈렌-2-일)에탄온을 사용함을 제외하고 상기 중간체 A-5에 개시된 과정에 따라 제조하였다. MS(ES) 301.0(M+1).

중간체 A-8(R² = H, R³ = H, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, A³ = Br 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 XI의 화합물): 중간체 A-7(3.0 g, 9.99 밀리몰) 및 CuBr₂(4.9 g, 21.97 밀리몰)를 디옥산(35 ㎖)에 용해시키고 20 시간 동안 100 ℃에서 가열하였다. 조 혼합물을 진공 하에서 농축시키고 물을 가하고 CH₂Cl₂(3 회)로 추출하였다. 유기층을 Na₂SO₄ 상에서 건조시키고, 여과하고 진공 하에서 농축시켰다. 조 생성물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피(10% EtOAc:헥산)에 의해 정제시켜 황색 고체로서 목적하는 생성물을 수득하였다. ¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ1.38 (s, 6H), 3.72 (s, 3H), 4.12 (s, 2H), 4.56 (s, 2H), 7.17-7.23 (m, 2H), 7.78 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 7.86 (d, 1H, J = 9.2 Hz), 7.99 (dd, 1H, J = 2.0, 6.4 Hz), 8.43 (s, 1H).

중간체 A-9(R² = CH₃, R³ = H, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로펜틸 고리를 형성하고, n⁴ = 1 및 Q¹ = CO₂Et인 화학식 XII의 화합물): 표제 화합물을, 메틸 2,2-디메틸-3-하이드록시프로피오네이트 대신 1-하이드록시메틸 사이클로펜탄카복실산 에틸 에스테르를 사용함을 제외하고 상기 중간체 A-5에 대해 개시된 과정에 따라 제조하였다. ¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ1.22 (t, 3H, J = 8.0 Hz), 1.28 (t, 3H, J = 8.0 Hz), 1.72-1.82 (m, 6H), 2.19-2.22 (m, 2H), 3.11 (q, 2H, J = 8.0 Hz), 4.18 (m, 4H), 7.16-7.21 (m, 2H), 7.75 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 7.83 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 8.00 (dd, 1H, J = 2.0, 6.4 Hz), 8.40 (s, 1H).

중간체 A-10(R² = CH₃, R³ = H, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로펜틸 고리를 형성하고, n⁴ = 1, A³ = Br 및 Q¹ = CO₂Et인 화학식 XI의 화합물): 표제 화합물을, 중간체 5 대신 중간체 A-9를 사용함을 제외하고 상기 중간체 A-6에 대해 개시된 과정에 따라 제조하였다. ¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ1.22 (t, 3H, J = 8.0 Hz), 1.72-1.75 (m, 6H), 1.95 (d, 3H, J = 6.4 Hz), 2.19-2.23 (m, 2H), 4.18 (q, 2H, J = 8.0 Hz), 5.44 (q, 1H, J = 6.4 Hz), 7.11-7.21 (m, 2H), 7.77 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 7.85 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 8.03 (dd, 1H, J = 2.0, 6.4 Hz), 8.48 (s, 1H).

중간체 A-11(R² = CH₂CH₃, R³ = H, A³ = Cl, A² = CH₃인 화학식 VII의 화합물): 표제 화합물을 하기와 같이 제조하였다: N₂ 유입구 및 환류 냉각기가 구비된 1 L, 3 목 rbf에 Mg 부스러기(7.70 g 317 밀리몰) 및 무수 THF(300 ㎖)를 충전시켰다. 6-브로모-2-메톡시-나프탈렌(A⁴ = Br 및 A² = CH₃인 화학식 VIII의 화합물)(60.0 g, 253 밀리몰)을 20 분의 기간에 걸쳐 적가하였다. 상기 반응물을 배기시키고 N₂ atm 하에 놓고 1 시간 동안 50 ℃로 점차적으로 가온하였다. N₂ 유입구, 적가 깔때기 및 격벽이 구비된 또 다른 3 목 플라스크에 2-클로로부티릴 클로라이드(R² = CH₂CH₃, R³ = H, A³ = Cl, A⁵ = Cl)(64.0 g, 505 밀리몰) 및 무수 THF(70 ㎖)를 넣었다. 반응 δδ혼합물을 -50 ℃로 냉각시키고 상기 제조된 그리냐르 시약을 N₂ 압력 하에서 캐뉼라에 의해 상기 적가 깔때기로 옮겼다. 반응 혼합물을 실온으로 가온시키고 16 시간 동안 교반하였다. 반응 혼합물을 5% HCl로 충전시키고 상기 THF의 분량을 진공 하에서 감소시키고, 물을 가하고 생성물을 CH₂Cl₂(3 회)로 추출하였다. 합한 유기 층들을 물, 염수로 세척하고, MgSO₄ 상에서 건조시키고, 진공 하에서 농축시켰다. 조 고체를 실리카겔 크로마토그래피(9:1 EtOAc:헥산)에 의해 정제시키고 MeOH로부터 재결정화시켜 표제 화합물을 수득하였다. ¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ1.11 (t, 3H, J=7.2 Hz), 2.04-2.15 (m, 1H), 2.18-2.29 (m, 1H), 3.93 (s, 3H), 5.18-5.22 (m, 1H), 7.16 (d, 1H, J = 2.4 Hz), 7.22 (dd, 1H, J = 6.0, 8.8 Hz), 7.79 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 7.87 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 8.02 (dd, 1H, J = 1.6, 8.8 Hz), 8.46 (s, 1H).

중간체 A-12(R² = CH₂CH₃, R³ = H, G = N(CH₃)₂, 및 A² = CH₃인 화학식 VI의 화합물)를, 2-요오도-1-(6-메톡시-나프탈렌-2-일)-프로판-1-온 대신 중간체 A-11을 사용함을 제외하고 상기 중간체 A-1에 대해 개시한 과정에 따라 제조하였다. MS (ES) 271.7 (M+1). ¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ0.89 (t, 3H, J = 7.4 Hz), 1.72-1.84 (m, 1H), 1.91-1.02 (m, 1H), 2.38 (s, 6H), 3.96 (s, 3H), 3.99-4.03 (m, 1H), 7.15-7.21 (m, 2H), 7.77 (d, 1H, J = 9.0 Hz), 7.87 (d, 1H, J = 9.0 Hz), 8.07 (dd, 1H, J = 1.8, 9.6 Hz), 8.53 (s, 1H).

중간체 A-13(R² = CH₂CH₃, R³ = H 및 G = N(CH₃)₂인 화학식 IV의 화합물)를, 중간체 A-1 대신 중간체 A-12를 사용함을 제외하고 상기 중간체 A-2에 대해 개시한 과정에 따라 제조하였다. MS(ES) 258.3(M+1).

앞서 개시한 일반적인 방법에 따라, 하기 표 1에 나타낸 바와 같은 화학식 III의 중간체들을 제조하였다.

[표 1]

화학식 III의 중간체들의 목록

(상기에서, A^* = R²R³G¹은 이들이 결합된 탄소 원자와 함께

를 형성하며, 이때 ●는 이들이 결합된 탄소이다)

화학식 III 화합물의 제조를 위한 일반적인 합성 방법 A:

화학식 IV의 화합물(1 당량)(중간체 A-2, A-4 또는 A-13), 트리페닐포스핀(1.1 당량) 및 화학식 V의 화합물(1 당량)의 THF(0.4 M) 용액을 배기시키고, N₂ atm 하에 놓고, 빙욕에서 냉각시키고 5 분에 걸쳐 DIAD(1 당량)를 조금씩 나누어 충전하였다. 상기 혼합물을 실온으로 가온하고 16 시간 동안 45 ℃로 가열하였다. 반응 혼합물을 진공 하에서 농축시키고 실리카겔 컬럼 크로마토그래피(CH₂Cl₂(1% Et₃N) 중의 6:1 CH₂Cl₂:10% CH₃OH에서 CH₂Cl₂(1% Et₃N) 중의 3:1 CH₂Cl₂:10% CH₃OH의 구배)에 의해 정제시켰다.

화학식 III 화합물의 제조를 위한 일반적인 합성 방법 B:

화학식 XI의 화합물(1 당량)(중간체 A-8 또는 A-10)의 아세토니트릴(0.5 M) 용액에 1 당량의 NaI 및 3 당량의 HG¹을 충전시키고 16 시간 동안 40 ℃에서 교반하였다. 반응 혼합물을 진공 하에서 슬러리로 농축시키고 CH₂Cl₂와 NaHCO(포화) 사이에 분배시키고, 수성층을 CH₂Cl₂(5 회)로 추출하였다. 합한 유기층을 Na₂SO₄ 상에서 건조시키고, 여과하고 진공 하에서 농축시켰다. 생성 잔사를 실리카겔 컬럼 크로마토그래피(CH₂Cl₂(1% Et₃N) 중의 6:1 CH₂Cl₂:10% CH₃OH에서 CH₂Cl₂(1% Et₃N) 중의 3:1 CH₂Cl₂:10% CH₃OH의 구배)에 의해 정제시켜 화학식 III의 목적하는 화합물을 수득하였다.

화합물 1-1(R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃ 인 화학식 III의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 A에 따라 제조하였으며, 화학식 IV의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, 및 G¹ = N(CH₃)₂ 이고, 화학식 V의 화합물에서, A¹ = OH, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹HNMR (CDCl₃, 200 MHz) δ 1.18-1.35 (m, 9H), 3.68 (s, 3H), 4.10 (s, 1H), 7.14-7.20 (m, 2H), 7.74 (d, 1H, J = 8.0 Hz), 7.84 (d, 1H, J = 8.0 Hz), 7.74 (dd, 1H, J = 0.6, 4.4 Hz), 8.55 (s, 1H).

화합물 1-2(R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 III의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 A에 따라 제조하였으며, 화학식 IV의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, 및 G¹ = N(CH₃)₂ 이고, 화학식 V의 화합물에서, A¹ = OH, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹HNMR (CDCl₃, 200 MHz) δ 1.30 (d, 3H, J = 6.0 Hz), 2.33 (s, 6H), 3.91 (s, 3H), 4.15 (q, 1H , J = 6.0 Hz), 5.27 (s, 2H), 7.20-7.31 (m, 1H), 7.56 (d, 2H, J = 8.0 Hz), 7.74 (d, 1H, J = 8.4 Hz), 7.89 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 8.06-8.10 (m, 4H), 8.57 (s, 1H); MS (ES) 391.9 (M+1).

화합물 1-3 (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 3-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 III의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 A에 따라 제조하였으며, 화학식 IV의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, 및 G¹ = N(CH₃)₂ 이고, 화학식 V의 화합물에서, A¹ = OH, n² = 1, Z = 3-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹HNMR (CDCl₃, 200 MHz) δ1.32 (d, 3H, J = 7.0 Hz), 2.36 (s, 6H), 3.94 (s, 3H), 4.18 (q, 1H, J = 6.6 Hz), 5.25 (s, 2H), 7.20-7.31 (m, 1H), 7.44-7.52 (m, 2H), 7.68-7.78 (m, 2H), 7.89 (d, 1H, J = 10.0 Hz), 8.00-8.09 (m, 2H), 8.18 (s, 1H), 8.56 (s, 1H); MS (ES) 392.0 (M+1).

화합물 1-4 (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = H, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 III의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 A에 따라 제조하였으며, 화학식 IV의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, 및 G¹ = N(CH₃)₂ 이고, 화학식 V의 화합물에서, A¹ = OH, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = H, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃ 이다. ¹H NMR (CDCl₃, 200 MHz) δ1.30 (d, 3H, J = 8.0 Hz), 2.35 (s, 6H), 3.64 (s, 2H), 3.68 (s, 3H), 4.17 (q, 1H, J = 8.0 Hz ), 5.16 (s, 2H), 7.11-8.08(m, 9H), 8.56 (s, 1H); MS (ES) 405.9 (M+1).

화합물 1-5 (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CH₃인 화학식 III의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 A에 따라 제조하였으며, 화학식 IV의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, 및 G¹ = N(CH₃)₂ 이고, 화학식 V의 화합물에서, A¹ = OH, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CH₃이다. ¹H NMR (CDCl₃, 200 MHz) δ1.07 (s, 9H), 1.40 (d, 3H, J = 6.2 Hz), 2.37 (s, 6H), 3.73 (s, 2H), 4.20 (q, 1H, J =7.0 Hz), 7.11 (d, 1H, J = 2.2 Hz), 7.20 (dd, 1H, J = 2.6, 9.2 Hz). 7.47-7.58 (m, 1H), 7.84 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 7.88 (dd, 1H, J = 1.4, 8.2 Hz), 8.55 (s, 1H).

화합물 1-6 (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = OtBu인 화학식 III의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 A에 따라 제조하였으며, 화학식 IV의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, 및 G¹ = N(CH₃)₂ 이고, 화학식 V의 화합물에서, A¹ = OH, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = OtBu 이다. ¹HNMR (CDCl₃, 200 MHz) δ1.30-1.36 (m, 12H), 2.35 (s, 6H), 4.17 (q, 1H, J = 6.0 Hz), 5.14 (s, 2H), 7.01-7.07 (m, 2H), 7.24-7.30 (m, 2H), 7.36-7.41 (m, 2H), 7.73-7.90 (m, 2H), 8.05-8.10 (m, 1H), 8.58 (s, 1H); MS (ES) 406.0 (M+1).

화합물 1-7 (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-PhO, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = H, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 III의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 A에 따라 제조하였으며, 화학식 IV의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, 및 G¹ = N(CH₃)₂ 이고, 화학식 V의 화합물에서, A¹ = OH, n² = 1, Z = 4-PhO, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = H, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹HNMR (CDCl₃, 200 MHz) δ 1.31 (d, 3H, J = 6.0 Hz), 2.34 (s, 6H), 3.80 (s, 3H), 4.17 (q, 1H, J = 6.0 Hz), 4.66 (s, 2H), 5.13 (s, 2H), 6.92-6.98 (m, 2H), 7.23-7.44 (m, 4H), 7.72-8.10 (m, 3H), 8.57 (s, 1H); MS (ES) 422.0 (M+1).

화합물 1-8 (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 2, R^4b 및 R^5b = H, n⁴ = 1, 및 Q¹ = OCH₃인 화학식 III의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 A에 따라 제조하였으며, 화학식 IV의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, 및 G¹ = N(CH₃)₂ 이고, 화학식 V의 화합물에서, A¹ = OH, n² = 0, n³ = 2, R^4b 및 R^5b = H, n⁴ = 1, 및 Q¹ = OCH₃이다. MS (ES) 302.3 (M+1).

화합물 1-9 (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = OCH₃인 화학식 III의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 A에 따라 제조하였으며, 화학식 IV의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, 및 G¹ = N(CH₃)₂ 이고, 화학식 V의 화합물에서, A¹ = OH, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = OCH₃이다. MS (ES) 364.3 (M+1).

화합물 1-10 (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 트랜스-CH=CHPh, n³ 및 n⁴ = 0인 화학식 III의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 A에 따라 제조하였으며, 화학식 IV의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, 및 G¹ = N(CH₃)₂ 이고, 화학식 V의 화합물에서, A¹ = OH, n² = 1, Z = 트랜스-CH=CHPh, n³ 및 n⁴ = 0이다. MS (ES) 360.3 (M+1).

화합물 1-11 (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CN인 화학식 III의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 A에 따라 제조하였으며, 화학식 IV의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, 및 G¹ = N(CH₃)₂ 이고, 화학식 V의 화합물에서, A¹ = OH, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CN이다. MS (ES) 359.3 (M+1).

화합물 1-12 (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = NO₂인 화학식 III의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 A에 따라 제조하였으며, 화학식 IV의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, 및 G¹ = N(CH₃)₂ 이고, 화학식 V의 화합물에서, A¹ = OH, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = NO₂이다. MS (ES) 381.3 (M+1).

화합물 1-13 (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₂CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et인 화학식 III의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 A에 따라 제조하였으며, 화학식 IV의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, 및 G¹ = N(CH₃)₂ 이고, 화학식 V의 화합물에서, A¹ = OH, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₂CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et이다. MS (ES) 400.3 (M+1).

화합물 1-14 (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로프로필 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et인 화학식 III의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 A에 따라 제조하였으며, 화학식 IV의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, 및 G¹ = N(CH₃)₂ 이고 화학식 V의 화합물에서, A¹ = OH, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로프로필 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et이다. MS (ES) 370.3 (M+1).

화합물 1-15 (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로부틸 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et인 화학식 III의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 A에 따라 제조하였으며, 화학식 IV의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, 및 G¹ = N(CH₃)₂ 이고 화학식 V의 화합물에서, A¹ = OH, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로부틸 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et이다. MS (ES) 384.3 (M+1).

화합물 1-16 (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 4-피라닐 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 III의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 A에 따라 제조하였으며, 화학식 IV의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, 및 G¹ = N(CH₃)₂ 이고, 화학식 V의 화합물에서, A¹ = OH, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 4-피라닐 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. MS (ES) 400.3 (M+1).

화합물 1-17 (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로헥실 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et인 화학식 III의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 A에 따라 제조하였으며, 화학식 IV의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, 및 G¹ = N(CH₃)₂ 이고 화학식 V의 화합물에서, A¹ = OH, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로헥실 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et이다. MS (ES) 412.3 (M+1).

화합물 1-18 (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로펜틸 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et인 화학식 III의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 A에 따라 제조하였으며, 화학식 IV의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, 및 G¹ = N(CH₃)₂ 이고 화학식 V의 화합물에서, A¹ = OH, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로펜틸 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et이다. MS (ES) 398.2 (M+1).

화합물 1-19 (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = Ph, n³ 및 n⁴ = 0인 화학식 III의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 A에 따라 제조하였으며, 화학식 IV의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, 및 G¹ = N(CH₃)₂ 이고 화학식 V의 화합물에서, A¹ = OH, n² = 1, Z = Ph, n³ 및 n⁴ = 0이다. ¹H NMR (CDCl₃, 200 MHz) δ1.32 (d, 3H, J = 6.0 Hz), 2.37 (s, 6H), 4.21 (q, 1H, J = 6.0 Hz), 5.50 (s, 2H), 7.24-7.50 (m, 3H), 7.75 (d, 2H, J = 10.0 Hz), 7.88 (d, 2H, J = 8.0 Hz ), 8.04-8.09 (m, 2H), 8.58 (s, 2H); MS (ES) 334.2 (M+1).

화합물 1-20 (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₂)₂O(CH₂)₂고리, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 III의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 B에 따라 제조하였으며, 화학식 XI의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, A³ = Br, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃ 및 HG¹ = HN(CH₂)₂O(CH₂)₂이다. MS (ES) 400.2 (M+1).

화합물 1-21 (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(Et)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 III의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 B에 따라 제조하였으며, 화학식 XI의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, A³ = Br, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃ 및 HG¹ = HN(Et)₂이다. MS (ES) 386.2 (M+1).

화합물 1-22 (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)사이클로헥실, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 III의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 B에 따라 제조하였으며, 화학식 XI의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, A³ = Br, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃ 및 HG¹ = HN(CH₃)사이클로헥실. MS (ES) 426.2 (M+1).

화합물 1-23 (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)n-부틸, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 III의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 B에 따라 제조하였으며, 화학식 XI의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, A³ = Br, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃ 및 HG¹ = HN(CH₃)n-부틸이다. MS (ES) 400.2 (M+1).

화합물 1-24 (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)iPr, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 III의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 B에 따라 제조하였으며, 화학식 XI의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, A³ = Br, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃ 및 HG¹ = HN(CH₃)iPr이다. MS (ES) 386.3 (M+1).

화합물 1-25 (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)Ph, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 III의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 B에 따라 제조하였으며, 화학식 XI의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, A³ = Br, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃ 및 HG¹ = HN(CH₃)Ph이다. MS (ES) 420.2 (M+1).

화합물 1-26 (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₂)₄, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 III의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 B에 따라 제조하였으며, 화학식 XI의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, A³ = Br, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃ 및 HG¹ = HN(CH₂)₄이다. MS (ES) 384.3 (M+1).

화합물 1-27 (R² = CH₃, R³ = CH₃, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 III의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 A에 따라 제조하였으며, 화학식 IV의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = CH₃, 및 G¹ = N(CH₃)₂ 이고 화학식 V의 화합물에서, A¹ = OH, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다.

화합물 1-28 (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)Et, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 III의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 A에 따라 제조하였으며, 화학식 IV의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, 및 G¹ = N(CH₃)Et 이고 화학식 V의 화합물에서, A¹ = OH, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. MS (ES) 372.2 (M+1).

화합물 1-29 (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂ tBu인 화학식 III의 화합물): 표제 화합물을 하기와 같이 제조하였다: 중간체 A-2(3.00 g, 12.33 밀리몰)의 N,N-디메틸포름아미드(25 ㎖) 용액에 칼륨 3급-부톡사이드(1.52 g, 13.56 밀리몰)를 충전시키고 실온에서 30 분간 교반하였다. 3급-부틸 브로모아세테이트(2.64 g, 13.56 밀리몰), 화학식 V의 화합물(이때 A¹ = Br, n² = 0, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂ tBu이다)을 적가하고 반응물을 24 시간 동안 교반하였다. 상기 혼합물을 EtOAc에 용해시키고, Na₂CO₃(포화) 2회, 물 2 회, 및 염수 1 회로 세척하였다. 유기층을 Na₂SO₄ 상에서 건조시키고, 여과하고 진공 하에서 갈색 오일로서 농축시켰다. 실리카겔 컬럼 크로마토그래피(CH₂Cl₂ 에서 5% CH₃OH:CH₂Cl₂ (1 mL Et₃N/100 mL 용매 함유)의 구배)시켜 목적하는 생성물을 갈색 오일로서 수득하였다. ¹HNMR (CDCl₃, 200 MHz) δ1.32 (d, 3H, J = 6.0 Hz), 1.50 (s, 9H), 2.36 (s, 6H), 4.17 (q, 1H, J = 8.0 Hz), 4.66 (s, 2H), 7.08 (d, 2H, J = 2.0 Hz), 7.28 (dd, 1H, J = 4.0, 8.0 Hz), 7.73 (d, 1H, J = 8.0 Hz), 7.89 (d, 1H, J = 8.0 Hz), 8.08 (dd, 1H, J = 4.0, 8.0 Hz), 8.58 (s, 1H); MS (ES) 358.0 (M+1).

화합물 1-30 (R², R³, 및 G¹ 는 함께 A* 이고(표 1 참조), n² = 1, Z = Ph, n³ = 0, 및 n⁴ = 0인 화학식 III의 화합물): 표제 화합물을 하기와 같이 제조하였다: DCM(25 ㎖) 중의 N-(3급-부톡시카보닐)-L-프롤린(1.65 g 7.66 밀리몰)의 0 ℃ 용액에 트리에틸아민(1.07 ㎖, 7.66 밀리몰) 및 디페닐포스핀 클로라이드(1.44 ㎖, 7.66 밀리몰)를 충전시키고 2 시간에 걸쳐 실온으로 가온시켰다. 용매를 진공 하에서 제거하고, 잔사를 에틸 에테르와 H₂O 사이에 분배시켰다. 유기층을 후속적으로 Na₂CO₃(2 회) 및 염수(1 회)로 세척하고, Na₂SO₄ 상에서 건조시키고, 여과하고 진공 하에서 농축시켰다. 잔사를 THF(25 ㎖)에 용해시키고 -78 ℃로 냉각시켰다. 별도로, THF(4.8 ㎖) 중의 2-브로모-6-벤질옥시나프탈렌(1.20 g, 3.83 밀리몰) 및 Mg(0.140 g, 5.75 밀리몰)의 현탁액을 50 ℃로 30 분 동안 가열하고, CH₃I(1 방울)를 충전시키고, 50 ℃에서 추가로 30 분 동안 유지시키고, 30 분 동안 가열 환류시키고, 실온으로 냉각시키고, 냉각된 혼합된 무수물 용액에 적가하고, 이를 후속적으로 교반하면서 밤새 실온으로 가온시켰다. 용매를 진공 하에서 제거하고, 잔사를 CH₂Cl₂와 1:1 포스페이트 완충액:1M 시트르산 사이에 분배시켰다. 유기 층을 후속적으로 Na₂CO₃(2 회) 및 염수(1 회)로 세척하고, Na₂SO₄ 상에서 건조시키고, 여과하고 진공 하에서 농축시켰다. 잔사를 크로마토그래피(95% 헥산:5% EtOAc에서 80% 헥산:20% EtOAc의 구배)시켜 백색 고체로서 표제 화합물을 수득하였다; 융점 102-104 ℃; MS (ES) 432.13 (M+1).

화합물 1-31 (R² = CH₂CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 III의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 A에 따라 제조하였으며, 화학식 IV의 화합물에서, R² = CH₂CH₃, R³ = H, 및 G¹ = N(CH₃)₂ 이고 화학식 V의 화합물에서, A¹ = OH, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ0.89 (t, 3H, 7.4 Hz), 1.38 (s, 6H), 1.78-1.79 (m, 1H), 1.92-1.98 (m, 1H), 2.38 (s, 6H), 3.71 (s, 3H), 3.97-4.01 (m, 1H), 4.12 (s, 2H), 7.15 (d, 1H, J = 2.3 Hz), 7.18 (dd, 1H, J = 2.5, 8.9 Hz), 7.76 (d, 1H, J = 8.0 Hz), 7.86 (d, 1H, J = 8.0 Hz), 8.06 (dd, 1H, J = 1.7, 8.6 Hz), 8.52 (s, 1H).

화합물 1-32 (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)iPr, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 은 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로펜틸 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et인 화학식 III의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 A에 따라 제조하였으며, 화학식 IV의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, 및 G¹ = N(CH₃)iPr 이고 화학식 V의 화합물에서, A¹ = OH, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 은 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로펜틸 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et이다. MS (ES) 426.1 (M+1).

앞서 개시된 일반적인 방법들에 따라, 하기 표 2에 열거된 화학식 II의 중간체들을 제조하였다. 중간체 번호에서, "a"는 G¹에 대한 syn 아미노 알콜을, "b"는 anti 아미노 알콜을 나타낸다.

[표 2]

화학식 II의 중간체 목록

(상기에서, A2^* = R²R³G¹은 이들이 결합된 탄소와 함께

를 형성하며,

이때 ●는 이들이 결합된 탄소이다)

화학식 IIa /b 화합물의 제조를 위한 일반적인 합성 방법 C:

CH₃OH(0.3 M) 중의 화학식 III 화합물(1 당량)의 용액을 0 ℃로 냉각시켰다. 붕수소화 나트륨(1 당량)을 0 ℃에서 적가하고 반응 혼합물을 실온으로 냉각하고 1.5 시간 동안 교반하였다. 반응 혼합물을 진공 하에서 농축시키고, NaHCO₃와 CH₂Cl₂ 사이에 분배시키고 수성층을 CH₂Cl₂로 5 회 추출하였다. 합한 유기 층들을 Na₂SO₄ 상에서 건조시키고, 여과하고 진공 하에서 농축시켰다. 조 생성물을 실리카겔 컬럼 크로마토그래피(CH₂Cl₂에서 5% CH₃OH:CH₂Cl₂(1% EtN 함유)의 구배)에 의해 정제시켜 화학식 II 화합물의 목적하는 syn 및 anti 이성체인 a 및 b를 각각 수득하였다.

화합물 2-1a (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹HNMR (CDCl₃, 200 MHz) δ 0.72 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 1.36 (s, 6H), 2.34 (s, 6H), 2.63-2.68 (m, 1H), 3.71 (s, 3H), 4.08 (s, 2H), 4.32 (d, 1H, J = 9.8 Hz), 7.11-7.14 (m, 2H), 7.26 (s, 1H), 7.66-7.74 (m, 3H); MS (ES) 360.0 (M+1).

화합물 2-1b (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. . ¹HNMR (CDCl₃, 200 MHz) δ 0.85 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 1.36 (s, 6H), 2.34 (s, 6H), 2.63-2.68 (m, 1H), 3.71 (s, 3H), 4.08 (s, 2H), 5.13 (d, 1H, J = 3.6 Hz), 7.11-7.14 (m, 2H), 7.26 (s, 1H), 7.66-7.74 (m, 3H); MS (ES) 360.0 (M+1).

화합물 2-2a (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹HNMR (CDCl₃, 200 MHz) δ 0.73 (d, 3H, J = 6.8 Hz), 2.33 (s, 6H), 2.61-2.68 (m, 1H), 3.93 (s, 3H), 4.33 (d, 1H, J = 9.6 Hz), 5.24 (s, 2H), 7.16-7.24 (m, 2H), 7.37 (dd, 1H, J = 8.4 Hz, 1.2 Hz), 7.56 (d, 2H, J = 4.0 Hz), 7.66-7.77 (m, 3H), 8.06-8.08 (m, 2H); MS (ES) 393.9 (M+1).

화합물 2-2b (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. . ¹HNMR (CDCl₃, 200 MHz) δ0.83 (d, 3H, J = 6.8 Hz), 2.39 (s, 6H), 2.61-2.68 (m, 1H), 3.93 (s, 3H), 5.10 (d, 1H, J = 3.2 Hz), 5.24 (s, 2H), 7.17-7.24 (m, 2H), 7.47 (dd, 1H, J = 2.0, 8.8 Hz), 7.56 (d, 2H, J = 8.0 Hz), 7.66-7.77 (m, 3H), 8.06-8.08 (m, 2H); MS (ES) 393.9 (M+1).

화합물 2-3a (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 3-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 3-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃. ¹H NMR (CDCl₃, 200 MHz) δ0.73 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 2.34 (s, 6H), 2.63 -2.71 (m, 1H), 3.93 (s, 3H), 4.33 (d, 1H, J = 9.4 Hz), 5.21 (s, 2H), 7.20 (s, 1H), 7.24 (s, 1H), 7.35 -7.52 (m, 2H), 7.66 -7.73 (m, 3H), 7.77 (s, 1H), 8.00 -8.04 (m, 1H), 8.17 (s, 1H); MS (ES) 394.0 (M+1).

화합물 2-3b (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 3-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 3-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹H NMR (CDCl₃, 200 MHz) δ0.89 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 2.45 (s, 6H), 2.94 -3.02 (m, 1H), 3.93 (s, 3H), 4.33 (d, 1H, J = 9.4 Hz), 5.21 (s, 2H), 7.20 (s, 1H), 7.24 (s, 1H), 7.35 -7.52 (m, 2H), 7.66 -7.73 (m, 3H), 7.77 (s, 1H), 8.00 -8.04 (m, 1H), 8.17 (s, 1H); MS (ES) 394.0 (M+1).

화합물 2-4a (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = H, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = H, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹H NMR (CDCl₃, 200 MHz) δ0.73 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 2.34 (s, 6H), 2.58 -2.75 (m, 1H), 3.65 (s, 2H), 3.70 (s, 3H), 4.35 (d, 1H, J = 10.0 Hz), 5.16 (s, 2H), 7.18 -7.34 (m, 4H), 7.38 -7.50 (m, 3H), 7.67 -7.76 (m, 3H).

화합물 2-4b (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = H, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = H, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹H NMR (CDCl₃, 200 MHz) δ0.65 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 2.39 (s, 6H), 2.58 -2.75 (m, 1H), 3.65 (s, 2H), 3.70 (s, 3H), 4.35 (d, 1H, J = 10.0 Hz), 5.16 (s, 2H), 7.18 -7.34 (m, 4H), 7.38 -7.50 (m, 3H), 7.67 -7.76 (m, 3H); MS (ES) 408.0 (M+1).

화합물 2-5a (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CH₃이다. ¹H NMR (CDCl₃, 200 MHz) δ0.73 (d, 3H, J = 3.6 Hz), 1.08 (s, 9H), 2.34 (s, 6H), 2.66 -2.69 (m, 1H), 3.71 (s, 1H), 4.32 (d, 1H, J = 10.0 Hz), 5.12 (s, 2H), 7.11 (s, 1H), 7.16 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 7.35 (d, 1H, J = 7.4 Hz), 7.45 (d, 1H, J = 8.4 Hz), 7.67 -7.75 (m, 2H); MS (ES) 316.0 (M+1).

화합물 2-5b (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CH₃이다. ¹H NMR (CDCl₃, 200 MHz) δ0.85 (d, 3H, J = 3.6 Hz), 1.08 (s, 9H), 2.41 (s, 6H), 2.66 -2.69 (m, 1H), 3.71 (s, 1H), 4.32 (d, 1H, J = 10.0 Hz), 5.12 (s, 2H), 7.11 (s, 1H), 7.16 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 7.35 (d, 1H, J = 7.4 Hz), 7.45 (d, 1H, J = 8.4 Hz), 7.67 - 7.75 (m, 2H); MS (ES) 316.0 (M+1).

화합물 2-6a (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = OtBu인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = OtBu이다. ¹H NMR (CDCl₃, 200 MHz) δ 0.73 (d, 3H, J = 6.0 Hz), 1.36 (s, 9H), 2.34 (s, 6H), 2.63-2.72 (m, 1H), 4.33 (d, 1H, J = 8.0 Hz), 5.11 (s, 2H), 7.00-7.04 (m, 2H), 7.20-7.23 (m, 2H), 7.36-7.49 (m, 3H), 7.69-7.75 (m, 3H); MS (ES) 408.0 (M+1).

화합물 2-6b (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = OtBu인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = OtBu이다. ¹H NMR (CDCl₃, 200 MHz) δ 0.87 (d, 3H, J = 6.0 Hz), 1.36 (s, 9H), 2.43 (s, 6H), 2.63-2.72 (m, 1H), 5.11 (s, 2H), 5.16 (d, 1H, J = 4.0 Hz), 7.00-7.04 (m, 2H), 7.20-7.23 (m, 2H), 7.36-7.49 (m, 3H), 7.69-7.75 (m, 3H); MS (ES) 408.0 (M+1).

화합물 2-7a (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-PhO, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = H, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-PhO, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = H, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹H NMR (CDCl₃, 200 MHz) δ0.73 (d, 3H, J = 6.0 Hz), 2.34 (s, 6H), 2.64-2.72 (m, 1H), 3.81 (s, 3H), 4.34 (d, 1H, J = 8.0 Hz), 4.65 (s, 2H), 5.10 (s, 2H) 6.92-6.96 (m, 2H), 7.17-7.21 (m, 2H), 7.39-7.46 (m, 3H), 7.68-7.75 (m, 3H); MS (ES) 424.0 (M+1).

화합물 2-7b (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-PhO, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = H, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-PhO, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = H, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹H NMR (CDCl₃, 200 MHz) δ 0.90 (d, 3H, J = 6.0 Hz), 2.46 (s, 6H), 2.64-2.72 (m, 1H), 3.81 (s, 3H), 4.65 (s, 2H), 5.10 (s, 2H), 5.22 (d, 1H, J = 4.0 Hz), 6.92-6.96 (m, 2H), 7.17-7.21 (m, 2H), 7.39-7.46 (m, 3H), 7.68-7.75 (m, 3H); MS (ES) 424.0 (M+1).

화합물 2-8a (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 2, R^4b 및 R^5b = H, n⁴ = 1, 및 Q¹ = OCH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 2, R^4b 및 R^5b = H, n⁴ = 1, 및 Q¹ = OCH₃이다. MS (ES) 304.3 (M+1).

화합물 2-8b (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 2, R^4b 및 R^5b = H, n⁴ = 1, 및 Q¹ = OCH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 2, R^4b 및 R^5b = H, n⁴ = 1, 및 Q¹ = OCH₃이다. MS (ES) 304.3 (M+1).

화합물 2-9a (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = OCH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = OCH₃이다. MS (ES) 366.4 (M+1).

화합물 2-9b (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = OCH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = OCH₃이다. MS (ES) 366.4 (M+1).

화합물 2-10a (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z 는 트랜스-CH=CHPh이고, n³ 및 n⁴ = 0인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z 는 트랜스-CH=CHPh이고, n³ 및 n⁴ = 0. MS (ES) 362.3 (M+1).

화합물 2-10b (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z 는 트랜스-CH=CHPh이고, n³ 및 n⁴ = 0인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z 는 트랜스-CH=CHPh이고, n³ 및 n⁴ = 0이다. MS (ES) 362.3 (M+1).

화합물 2-11a/b (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CN인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 syn 및 anti 이성체의 혼합물로서 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CN이다. MS (ES) 361.2 (M+1).

화합물 2-12a (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = NO₂인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = NO₂이다. ¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ0.73 (d, 3H, J = 6.4 Hz), 2.33 (s, 6H), 2.63 -2.70 (m, 1H), 4.33 (d, 1H, J = 12.0 Hz), 5.28 (s, 2H), 7.15 (d, 1H, J = 2.0 Hz), 7.21 (dd, 1H, J = 2.8, 8.8 Hz), 7.38 -7.52 (m, 2H), 7.60 (d, 2H, J = 8.4 Hz), 7.67 -7.70 (m, 2H), 7.74 (s, 1H), 7.75 -7.78 (m, 1H).

화합물 2-12b (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = NO₂인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = NO₂이다. ¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ0.73 (d, 3H, J = 6.4 Hz), 2.33 (s, 6H), 2.63 -2.70 (m, 1H), 4.33 (d, 1H, J = 12.0 Hz), 5.28 (s, 2H), 7.15 (d, 1H, J = 2.0 Hz), 7.21 (dd, 1H, J = 2.8, 8.8 Hz), 7.38 -7.52 (m, 2H), 7.60 (d, 2H, J = 8.4 Hz), 7.67 - 7.70 (m, 2H), 7.74 (s, 1H), 7.75 - 7.78 (m, 1H).

화합물 2-13a (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₂CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₂CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et이다. ¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ0.72 (d, 3H, J = 6.8 Hz), 0.85 (t, 6H, J = 7.6 Hz), 1.26 (t, 3H, J = 7.2 Hz), 1.78 -1.83 (m, 4H), 2.33 (s, 6H), 2.63 -2.71 (m, 1H), 4.15 (s, 2H), 4.20 (q, 2H, J = 6.4 Hz, 14.0 Hz), 4.33 (d, 1H, J = 9.6 Hz), 7.12 (dd, 1H, J = 2.8 Hz, 8.8 Hz), 7.19 (d, 1H, J = 2.4 Hz), 7.46 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 7.69 -7.73 (m, 3H); MS (ES) 402.3 (M+1).

화합물 2-13b (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₂CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₂CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et이다. MS (ES) 402.3 (M+1).

화합물 2-14a (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로프로필 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로프로필 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et이다. ¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ0.73 (d, 3H, J = 6.4 Hz), 1.09 (q, 2H, J = 3.2 Hz), 1.22 (t, 3H, J = 7.6 Hz), 1.39 (q, 2H, J = 2.8 Hz), 2.34 (s, 6H), 2.63 -2.71 (m, 1H), 4.17 (q, 2H, J = 7.2 Hz), 4.25 (s, 2H), 4.33 (d, 1H, J = 8.0 Hz), 7.13 (s, 1H), 7.15 (d, 1H), 7.45 (d, 1H, J = 8.4 Hz), 7.69 -7.72 (m, 3H).

화합물 2-14b (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로프로필 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로프로필 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et이다. MS (ES) 372.0 (M+1).

화합물 2-15a (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로부틸 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로부틸 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et이다. ¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ0.74 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 1.23-1.30 (m, 3H), 2.03 -2.07 (m, 2H), 2.19 -2.21 (m, 2H), 2.35 (s, 6H), 2.55 -2.58 (m, 2H), 2.60 -2.75 (m, 1H), 4.17 -4.24 (m, 2H), 4.31 -4.38 (m, 3H), 7.15 (dd, 1H, J = 2.5 Hz, 8.8 Hz), 7.18 (d, 1H, J = 2.4 Hz), 7.48 (dd, 1H, J = 1.6 Hz, 8.6 Hz), 7.71 -7.74 (m, 3H).

화합물 2-15b (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로부틸 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로부틸 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et이다. MS (ES) 386.3 (M+1).

화합물 2-16a (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 4-피라닐 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 4-피라닐 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. . ¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ0.73 (d, 3H), 1.75 -1.82 (m, 2H), 2.23 -2.29 (m, 2H), 2.34 (s, 6H), 2.66 (m, 1H), 3.57 -3.64 (m, 2H), 3.75 (s, 3H), 3.86 -3.93 (m, 2H), 4.12 (s, 2H), 4.34 (d, 1H, J = 9.8 Hz), 7.10 (s, 1H), 7.13 (d, 1H, J = 2.6 Hz), 7.48 (dd, 1H, J = 1.4 Hz, 8.5 Hz), 7.68-7.76 (m, 3H).

화합물 2-16b (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 4-피라닐 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 4-피라닐 고리를 형성하고,n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. MS (ES) 402.2 (M+1).

화합물 2-17a (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로헥실 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로헥실 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et이다. ¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ0.71 (d, 3H, 9.9 Hz), 1.23 (t, 3H, J = 2.10), 1.30 -1.36 (m, 2H), 1.47 -1.51 (m, 3H), 1.52 -1.64 (m, 3H), 2.20 -2.23 (m, 2H), 2.35 (s, 6H), 2.67 -2.71 (m, 1H), 4.09 (s, 2H), 4.20 (q, 2H, J = 7.1 Hz, 7.10), 4.34 (d, 1H, 9.7 Hz), 7.11 (s, 1H), 7.13 (d, 1H, J = 2.5 Hz), 7.47 (dd, 1H, J = 1.6 Hz, 8.5 Hz), 7.69 -7.72 (m, 3H).

화합물 2-17b (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로헥실 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로헥실 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et이다. MS (ES) 414.3 (M+1).

화합물 2-18a (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로펜틸 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로펜틸 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et이다. ¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ0.72 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 1.21 (t, 3H, J = 7.1 Hz), 1.63-1.82 (m, 6H), 2.16 -2.21 (m, 2H), 2.34 (s, 6H), 2.65 -2.69 (m, 1H), 4.09 -4.21 (m, 4H), 4.33 (d, 1H, J = 9.7 Hz), 7.10 (d, 1H, J = 2.5 Hz), 7.13 (s, 1H), 7.46 (dd, 1H, J = 1.6 Hz, 8.4 Hz), 7.64 -7.71 (m, 3H).

화합물 2-18b (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로펜틸 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로펜틸 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et이다. MS (ES) 400.3 (M+1).

화합물 2-19a (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = Ph, n³ 및 n⁴ = 0인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = Ph, n³ 및 n⁴ = 0. ¹H NMR (CDCl₃, 200 MHz) δ0.74 (d, 3H, J = 6.0 Hz), 2.35 (s, 6H), 2.68-2.76 (m, 1H), 4.35 (d, 1H, J = 10.0 Hz), 5.16 (s, 2H), 7.18-7.78 (m, 11H); MS (ES) 336.1 (M+1).

화합물 2-19b (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = Ph, n³ 및 n⁴ = 0인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = Ph, n³ 및 n⁴ = 0이다. ¹H NMR (CDCl₃, 200 MHz) δ0.98 (d, 3H, J = 8.0 Hz), 2.62 (s, 6H), 2.68-2.76 (m, 1H), 5.16 (s, 2H), 5.45 (broad d, 1H), 7.18-7.78 (m, 11H); MS (ES) 336.1 (M+1).

화합물 2-20a (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₂)₂O(CH₂)₂ 고리, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₂)₂O(CH₂)₂고리, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ0.79 (d, 3H, J = 6.8 Hz), 1.36 (s, 3H), 2.49-2.54 (m, 2H), 2.64-2.70 (m, 1H), 2.74-2.79 (m, 2H), 3.75 (s, 3H), 3.76-3.85 (m, 4H), 4.08 (s, 2H), 4.39 (d, 1H, J = 10.0 Hz), 7.11-7.14 (m, 2H), 7.44 (dd, 1H, J = 8.8 Hz, 1.6 Hz), 7.70-7.72 (m, 3H).

화합물 2-20b (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₂)₂O(CH₂)₂ 고리, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₂)₂O(CH₂)₂ 고리, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃. ¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ 0.83 (d, 3H, J = 6.8 Hz), 1.36 (s, 3H), 2.49-2.54 (m, 2H), 2.64-2.70 (m, 1H), 2.74-2.79 (m, 2H), 3.75 (s, 3H), 3.76-3.85 (m, 4H), 4.08 (s, 2H), 4.93 (d, 1H, J = 4.0 Hz), 7.11-7.14 (m, 2H), 7.44 (dd, 1H, J = 8.8 Hz, 1.6 Hz), 7.70-7.72 (m, 3H).

화합물 2-21a (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(Et)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(Et)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹HNMR (CDCl₃, 400 MHz) δ0.77 (d, 3H, J = 6.8 Hz), 1.16 (t, 6H, J = 7.2 Hz), 1.37 (s, 6H), 2.38-2.46 (m, 2H), 2.69-2.78 (m, 2H), 2.79-2.86 (m, 1H), 3.71 (s, 3H), 4.08 (s, 2H), 4.32 (d, 1H, J = 10.0 Hz), 7.12-7.15 (m, 2H), 7.47 (dd, 1H, J = 8.4 Hz, 1.6 Hz), 7.70-7.72 (m, 3H).

화합물 2-21b (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(Et)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(Et)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹HNMR (CDCl₃, 400 MHz) δ0.92 (d, 3H, J = 6.8 Hz), 1.05 (t, 6H, J = 7.2 Hz), 1.36 (s, 6H), 2.53-2.54 (m, 4H), 3.09-3.17 (m, 1H), 3.07 (s, 3H), 4.08 (s, 2H), 4.89 (s, 1H), 7.11-7.14 (m, 2H), 7.38 (dd, 1H, J = 8.8 Hz, 1.2 Hz), 7.67-7.72 (m, 3H).

화합물 2-22a (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)사이클로헥실, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)사이클로헥실, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹HNMR (CDCl₃, 400 MHz) δ 0.76 (d, 3H, J = 6.8 Hz), 1.13-1.16 (m, 1H), 1.24-1.31 (m, 3H), 1.39 (s, 6H), 1.45-1.49 (m, 1H), 1.64-1.69 (m, 1H), 1.82-1.85 (m, 3H), 1.96-1.98 (m, 1H), 2.32 (s, 3H), 2.51-2.57 (m, 1H), 2.86-2.94 (m, 1H), 3.72 (s, 3H), 4.10 (s, 2H), 4.27 (d, 1H, J = 9.2 Hz), 7.13-7.16 (m, 2H), 7.48 (dd, 1H, J = 8.4 Hz, 2.0 Hz), 7.71-7.74 (m, 3H).

화합물 2-22b (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)사이클로헥실, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)사이클로헥실, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹HNMR (CDCl₃, 400 MHz) δ 0.89 (d, 3H, J = 6.8 Hz), 1.08-1.15 (m, 1H), 1.22-1.33 (m, 3H), 1.39 (s, 6H), 1.44-1.49 (m, 1H), 1.64-1.67 (m, 1H), 1.75-1.87 (m, 4H), 2.23 (s, 3H), 2.59-2.65 (m, 1H), 3.09-3.13 (m, 1H), 3.72 (s, 3H), 4.10 (s, 2H), 4.92 (s, 1H), 7.13-7.16 (m, 2H), 7.39 (dd, 1H, J = 8.4 Hz, 1.6 Hz), 7.68-7.75 (m, 3H).

화합물 2-23a (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)n-부틸, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)n-부틸, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹HNMR (CDCl₃, 400 MHz) δ0.76 (d, 3H, J = 6.8 Hz), 0.99 (t, 3H, J = 6.8 Hz), 1.39 (s, 6H), 1.40-1.45 (m, 1H), 1.52-1.61 (m, 3H), 2.31 (s, 3H), 2.38-2.43 (m, 1H), 2.56-2.63 (m, 1H), 2.70-2.76 (m, 1H), 3.73 (s, 3H), 4.10 (s, 2H), 4.37 (d, 1H, J = 9.6 Hz), 7.13-7.16 (m, 2H), 7.48 (dd, 1H, J = 2.0, 8.8 Hz), 7.71-7.74 (m, 3H).

화합물 2-23b (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)n-부틸, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)n-부틸, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹HNMR (CDCl₃, 400 MHz) δ0.89 (d, 3H, J = 7.2 Hz), 0.93 (t, 3H, J = 7.2 Hz), 1.27-1.34 (m, 2H), 1.39 (s, 6H), 1.47-1.55 (m, 2H), 2.30 (s, 3H), 2.47-2.58 (m, 2H), 2.90-2.94 (m, 1H), 3.73 (s, 3H), 4.10 (s, 2H), 4.99 (d, 1H, J = 3.6 Hz), 7.13-7.16 (m, 2H), 7.39 (dd, 1H, J = 1.6, 8.4 Hz), 7.69-7.76 (m, 3H).

화합물 2-24a (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)iPr, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)iPr, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹HNMR (CDCl₃, 400 MHz) δ0.82 (d, 3H, J = 6.8 Hz), 1.11 (d, 3H, J = 7.6 Hz), 1.14 (d, 3H, J = 8.4 Hz), 1.36 (s, 6H), 2.26 (s, 3H), 2.84-2.88 (m, 1H), 2.96-3.02 (m, 1H), 3.71 (s, 3H), 4.08 (s, 2H), 4.25 (d, 1H, J = 9.2 Hz), 7.13-7.16 (m, 2H), 7.46 (dd, 1H, J = 8.4 Hz, 1.6 Hz), 7.69-7.75 (m, 3H).

화합물 2-24b (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)iPr, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)iPr, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹HNMR (CDCl₃, 400 MHz) δ 0.86 (d, 3H, J = 6.8 Hz), 1.07 (d, 3H, J = 6.4 Hz), 1.12 (d, 3H, J = 6.4 Hz), 1.39 (s, 6H), 2.21 (s, 3H), 2.99-3.02 (m, 1H), 3.15-3.18 (m, 1H), 3.70 (s, 3H), 4.10 (s, 2H), 4.95 (d, 1H, J = 4.0 Hz), 7.13-7.16 (m, 2H), 7.39 (dd, 1H, J = 8.4 Hz, 1.6 Hz), 7.69-7.75 (m, 3H).

화합물 2-25a (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)Ph, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)Ph, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ0.86 (d, 3H, J = 6.8 Hz), 1.36 (s, 6H), 2.84 (s, 3H), 3.70 (s, 3H), 3.88-3.92 (m, 1H), 4.68 (d, 1H, J = 9.6 Hz), 6.86-6.90 (m, 1H), 7.05-7.08 (m, 2H), 7.13-7.16 (m, 2H), 7.28-7.33 (m, 2H), 7.56 (dd, 1H, J = 8.4 Hz, 1.6 Hz), 7.72-7.76 (m, 2H), 7.80 (s, 1H).

화합물 2-26a (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₂)₄ 고리, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₂)₄고리, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹HNMR (CDCl₃, 400 MHz) d 0.78 (d, 3H, J = 6.4 Hz), 1.36 (s, 6H), 1.78-1.87 (m, 4H), 2.67-2.78 (m, 4H), 2.97-3.05 (m, 1H), 3.70 (s, 3H), 4.08 (s, 2H), 4.36 (d, 1H, J = 10.0 Hz), 7.11-7.14 (m, 2H), 7.47 (dd, 1H, J = 8.4 Hz, 1.6 Hz), 7.69-7.73 (m, 3H).

화합물 2-26b (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₂)₄ 고리, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₂)₄ 고리, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹HNMR (CDCl₃, 400 MHz) δ0.81 (d, 3H, J = 6.4 Hz), 1.36 (s, 6H), 1.82-1.89 (m, 4H), 2.58-2.61 (m, 1H), 2.66-2.72 (m, 2H), 2.80-2.88 (m, 2H), 3.71 (s, 3H), 4.08 (s, 2H), 5.15 (d, 1H, J = 2.4 Hz), 7.12-7.14 (m, 2H), 7.36 (dd, 1H, J = 8.4 Hz, 1.6 Hz), 7.67-7.74 (m, 2H), 7.77 (s, 1H).

화합물 2-27 (R² = CH₃, R³ = CH₃, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = CH₃, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. MS (ES) 374.3 (M+1).

화합물 2-28a (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)Et, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)Et, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹HNMR (CDCl₃, 400 MHz) δ0.74 (d, 3H, J = 6.8Hz), 1.16 (t, 3H, J = 6.8Hz), 1.36(s, 6H), 2.29(s, 3H)2.41-2.49(m, 1H), 2.61-2.69(m, 1H), 2.71-2.78 (m, 1H), 3.71 (s, 3H), 4.08 (s, 2H), 4.34 (d, 1H, J = 9.6 Hz), 7.11-7.14 (m, 2H), 7.46 (dd, 1H, J = 8.0 Hz, 1.6 Hz), 7.69-7.71 (m, 3H).

화합물 2-28b (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)Et, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂ CH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)Et, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂ CH₃이다. ¹HNMR (CDCl₃, 400 MHz) δ1.04 (d, 3H, J = 7.2 Hz), 1.30 (t, 3H, J = 7.2 Hz), 1.36 (s, 6H), 2.65 (s, 3H), 2.88-2.93 (m, 1H), 3.04-3.07 (m, 1H), 3.23-3.27 (m, 1H), 3.70 (s, 3H), 4.07 (s, 2H), 5.58 (s, 1H), 7.09-7.13 (m, 2H), 7.44 (dd, 1H, J = 8.4 Hz, 1.6 Hz), 7.63-7.70 (m, 2H), 7.79 (s, 1H).

화합물 2-29a (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂ tBu인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂ tBu이다. ¹HNMR (CDCl₃, 200 MHz) δ 0.71 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 1.49 (s, 9H), 2.33 (s, 6H), 4.32 (d, 1H, J = 9.4 Hz), 4.62 (s, 2H), 7.04-7.06 (m, 1H), 7.18-7.24 (m, 1H), 7.34-7.49 (m, 1H), 7.64-7.77 (m, 3H) MS (ES) 360.0 (M+1).

화합물 2-29b (R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂ tBu인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂ tBu이다. ¹HNMR (CDCl₃, 200 MHz) δ 0.82 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 1.49 (s, 9H), 2.38 (s, 6H), 4.75 (s, 2H), 5.07 (d, 1H, J = 3.6 Hz), 7.04-7.06 (m, 1H), 7.18-7.24 (m, 1H), 7.34-7.49 (m, 1H), 7.64-7.77 (m, 3H); MS (ES) 360.0 (M+1).

화합물 2-30 (R² = H, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 하기와 같이 제조하였다: 중간체 A-8(200 ㎎, 0.53 밀리몰)를 CH₂Cl₂:CH₃OH의 1:1 혼합물(2 ㎖)에 용해시키고 0 ℃로 냉각시켰다. 상기 용액에 NaBH₄(30 ㎎, 0.79 밀리몰)를 충전시키고 실온으로 가온하였다. 4 시간 후에, 반응 혼합물을 CH₃OH 중의 2M HN(CH₃)₂으로 실온에서 충전시켰다. 24 시간 후에, 반응물을 진공 하에서 농축시키고 CH₂Cl₂와 포화된 수성 NaHCO₃ 사이에 분배시키고, 수성층을 CH₂Cl₂(3 회)로 추출하였다. 유기층을 Na₂SO₄ 상에서 건조시키고 진공 하에서 농축시켰다. 조 생성물을 실리카겔 크로마토그래피(2% CH₃OH:CH₂Cl₂)에 의해 정제시켜 황색 검으로서 목적하는 생성물을 수득하였다. MS(ES) 346.0(M+1).

화합물 2-31a 및 2-31b(R², R³, 및 G¹ 이 함께 A2* (표 2 참조)이고, n² = 1, Z = Ph, 및 n³ 및 n⁴ = 0)인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 하기와 같이 제조하였다: THF (6 mL) 중의 화합물 1-30(0.43 g 1.0 밀리몰)의 0 ℃ 용액을 LiAlH₄ (0.11 g, 3.0 밀리몰)로 충전시키고, 50 ℃로 3 시간 동안 가열하고, 실온으로 ㄴ냉각시키고, 얼음 상에 붓고, EtOAc(3 회)로 추출하였다. 후속적으로 유기층을 Na₂SO₄ 상에서 건조시키고, 여과하고, 진공 하에서 농축시켰다. 잔사를 실리카겔 컬럼 크로마토그래피(100% CHCl₃ 에서 99% CHCl₃:1% CH₃OH (NH₃ 포화)의 구배)시켜 표제 화합물 2-31a 및 2-31b를 수득하였다. 화합물 2-31a 백색 고체, 융점 108-110 ℃; ¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ 1.25-1.32 (m, 1H), 1.61-1.77 (m, 3H), 2.34-2.40 (m, 1H), 2.51 (s, 3H), 2.60-2.64 (m, 1H), 3.15-3.19 (m, 1H), 5.00 (d, 1H, J = 2.8 Hz), 5.18 (s, 2H), 7.22-7.26 (m, 2H), 7.34-7.43 (m, 3H), 7.49 (d, 2H, J = 7.6 Hz), 7.69 (d, 1H, J = 8.4 Hz), 7.76 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 7.82 (s, 1H); MS (ES) 348.31 (M+1), 330.28 (M-18, loss of -OH). 화합물 2-31b: 백색 고체, 융점 84-87 ℃; ¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ1.76-1.81 (m, 3H), 1.82-1.94 (m, 1H), 2.25 (s, 3H), 2.41-2.51 (m, 1H), 2.84-2.87 (m, 1H), 3.14-3.17 (m, 1H), 4.49 (d, 1H, J = 5.2 Hz), 5.18 (s, 2H), 7.21-7.24 (m, 2H), 7.34 (d, 1H, J = 7.6 Hz), 7.40-7.50 (m, 5H), 7.70 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 7.75 (d, 1H, J = 10.0 Hz), 7.78 (s, 1H); MS ( ES ) 348.31 (M+1), 330.26 (M-18, loss of -OH).

화합물 2-32a ( R ² = CH ₂ CH ₃ , R ³ = H, G ¹ = N( CH ₃ ) ₂ , n ² = 0, n ³ = 1, R ^4b 및 R ^5b = CH ₃ , n ⁴ = 1, 및 Q ¹ = CO ₂ CH ₃ 인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R ² = CH ₂ CH ₃ , R ³ = H, G ¹ = N( CH ₃ ) ₂ , n ² = 0, n ³ = 1, R ^4b 및 R ^5b = CH ₃ , n ⁴ = 1, 및 Q ¹ = CO ₂ CH ₃ 이다. ¹ H NMR ( CDCl ₃ , 400 MHz) δ0.58 (t, 3H, 7.6 Hz), 1.13-1.24 (m, 1H), 1.36 (s, 6H), 1.50-1.61 (m, 1H), 2.47 (s, 6H), 2.47-2.53 (m, 1H), 3.71 (s, 3H), 4.08 (s, 2H), 4.27 (d, 1H, J = 9.6 Hz), 7.11-7.14 (m, 2H), 7.48 ( dd , 1H, J = 1.5, 8.4 Hz), 7.69-7.72 (m, 3H).

화합물 2-32b ( R ² = CH ₂ CH ₃ , R ³ = H, G ¹ = N( CH ₃ ) ₂ , n ² = 0, n ³ = 1, R ^4b 및 R ^5b = CH ₃ , n ⁴ = 1, 및 Q ¹ = CO ₂ CH ₃ 인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R ² = CH ₂ CH ₃ , R ³ = H, G ¹ = N( CH ₃ ) ₂ , n ² = 0, n ³ = 1, R ^4b 및 R ^5b = CH ₃ , n ⁴ = 1, 및 Q ¹ = CO ₂ CH ₃ 이다. ¹ H NMR ( CDCl ₃ , 400 MHz) δ0.81 (t, 3H, 7.5 Hz), 1.36 (s, 6H), 1.49-1.67 (m, 1H), 2.59 (s, 6H), 2.84-2.89 (m, 1H), 3.71 (s, 3H), 4.08 (s, 2H), 5.33 (d, 1H, J =3.1 Hz), 7.13 (s, 1H), 7.15 (d, 1H, J = 2.4 Hz), 7.39 ( dd , 1H, J = 1.6, 8.5 Hz), 7.70 (q, 2H, J = 8.6 Hz), 7.8 (s, 1H).

화합물 2-33a ( R ² = CH ₃ , R ³ = H, G ¹ = N( CH ₃ ) i Pr, n ² = 0, n ³ = 1, R ^4b 및 R ^5b 은 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로펜틸 고리를 형성하고, n ⁴ = 1, 및 Q ¹ = CO ₂ Et 인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R ² = CH ₃ , R ³ = H, G ¹ = N( CH ₃ ) i Pr, n ² = 0, n ³ = 1, R ^4b 및 R ^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로펜틸 고리를 형성하고, n ⁴ = 1, 및 Q ¹ = CO ₂ Et 이다. ¹ H NMR (CDCl ₃ , 400 MHz) δ0.84 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 1.12 (d, 3H, J = 6.5 Hz), 1.16 (d, 3H, J = 6.5 Hz), 1.21 (t, 3H, J = 7.1 Hz), 1.67 -1.84 (m, 6H), 2.16 -2.21 (m, 2H), 2.28 (s, 3H), 2.83 -2.90 (m, 1H), 2.94 -3.04 (m, 1H), 4.14 -4.19 (m, 4H), 4.24 (d, 1H, J = 9.4 Hz), 7.10 -7.13 (m, 2H), 7.46 (dd, 1H, J = 1.5 Hz, 8.6 Hz), 7.69 (s, 1H), 7.71 (s, 1H).

화합물 2-33b ( R ² = CH ₃ , R ³ = H, G ¹ = N( CH ₃ ) i Pr, n ² = 0, n ³ = 1, R ^4b 및 R ^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로펜틸 고리를 형성하고, n ⁴ = 1, 및 Q ¹ = CO ₂ Et인 화학식 II의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 III의 화합물에서, R ² = CH ₃ , R ³ = H, G ¹ = N( CH ₃ ) i Pr, n ² = 0, n ³ = 1, R ^4b 및 R ^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로펜틸 고리를 형성하고, n ⁴ = 1, 및 Q ¹ = CO ₂ Et 이다. MS ( ES ) 428.0 (M+1).

앞서 개시된 일반적인 방법에 따라, 하기 표 3에 나타낸 화학식 I의 화합물(이때 R ¹ = H, n ¹ = 1, R ^6a = H, R ^6b = H, Y = O, R ^4a = H, R ^5a = H) 을 제조하였다. 실시예 번호에서, X 및 G ¹ 에 대해서 "a"는 syn 이성체를 나타내고 "b"는 anti 이성체를 나타낸다. X1 = 이미다졸 -1-일, X2 = 트리아졸 -1-일, X3 = 트리아졸 -3-일.

[표 3]

화학식 I 화합물의 목록

(상기에서, A2^* = R²R³G¹은 이들이 결합된 탄소 원자와 함께

를 형성하며, 이때 ●는 이들이 결합된 탄소이다)

화학식 I 화합물의 제조를 위한 일반적인 합성 방법 D:

화학식 II 화합물(1 당량)의 아세토니트릴 용액(0.2 M)을 1,1'-카보닐디이미다졸 또는 1,1-카보닐디트리아졸(2 당량)로 충전하고 70 ℃에서 10 시간 동안 교반하였다. 반응 혼합물을 물 및 포화된 NaHCO₃로 급냉시키고 진공 하에서 슬러리로 농축시켰다. 상기 혼합물을 CH₂Cl₂와 NaHCO₃(포화) 사이에 분배시키고 수성층을 CH₂Cl₂(5 회)로 추출하였다. 합한 유기층을 Na₂SO₄ 상에서 건조시키고, 여과하고 진공 하에서 농축시켰다. 생성된 잔사를 실리카겔 크로마토그래피(CH₂Cl₂ 중의 2:1 CH₂Cl₂:4% CH₃OH (CH₃OH 중의 1% ~7 N NH₃)에서 CH₂Cl₂ 중의 4% CH₃OH (CH₃OH 중의 1% ~7 N NH₃)에 의해 정제시켜 화학식 I의 목적하는 화합물을 수득하였다.

실시예 3-1a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹H NMR (CDCl₃, 200 MHz) δ0.79 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 1.35 (s, 6H), 2.27 (s, 6H), 3.46 -3.55 (m, 1H), 3.70 (s, 3H), 4.07 (s, 2H), 5.05 (d, 1H, J = 10.6 Hz), 7.00 (s, 2H), 7.11 - 7.14 (m, 1H), 7.17 (d, 1H, J = 5.2 Hz), 7.26 - 7.30 (m, 1H), 7.65 (d, 2H, J = 11.6 Hz), 7.72 (d, 2H, J = 8.8 Hz); MS (ES) 410.0 (M+1).

실시예 3-1b (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹H NMR (CDCl₃, 200 MHz) δ0.90 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 1.35 (s, 6H), 2.21 (s, 6H), 3.55 - 3.63 (m, 1H), 3.70 (s, 3H), 4.07 (s, 2H), 5.09 (d, 1H, J = 9.8 Hz), 7.01 (d, 2H, J = 9.6 Hz), 7.10 (s, 1H), 7.15 (d, 1H, J = 2.6 Hz), 7.40 (dd, 1H, J = 1.4 Hz, 8.6 Hz), 7.67 -7.71 (m, 4H); MS (ES) 410.0 (M+1).

실시예 3-2a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂ CH₃인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. . ¹HNMR (CDCl₃, 200 MHz) δ 0.81 (d, 3H, J = 8.0 Hz), 2.28 (s, 6H), 3.49-3.53 (m, 1H), 3.93 (s, 3H), 5.06 (d, 1H, J = 8.0 Hz), 5.24 (s, 2H), 7.00 (s, 2H), 7.16 (d, 1H, J = 2.4 Hz), 7.27-7.31 (m, 2H), 7.55 (d, 2H, J = 8.0 Hz ), 7.65-7.75 (m, 4H), 8.07 (d, 2H, J = 8.0 Hz); MS (ES) 375.9 (M+1).

실시예 3-2b (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ 0.90 (d, 3H, J = 8.0 Hz), 2.23 (s, 6H), 3.58-3.62 (m, 1H), 3.93 (s, 3H), 5.09 (d, 1H, J = 8.0 Hz), 5.24 (s, 2H), 7.01 (d, 2H, J = 8.0 Hz), 7.15 (d, 1H, J = 2.4 Hz), 7.23-7.25 (m, 2H), 7.41-7.43 (m, 1H), 7.55 (d, 2H, J = 8.0 Hz), 7.65-7.74 (m, 3H), 8.07 (d, 2H, J = 8.0 Hz); MS (ES) 375.9 (M+1).

실시예 3-3a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 3-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 3-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹H NMR (CDCl₃, 200 MHz) δ0.80 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 2.28 (s, 6H), 3.47 -3.55 (m, 1H), 3.92 (s, 3H), 5.06 (d, 1H, J = 10.6 Hz), 5.21 (s, 2H), 6.75 (s, 1H), 7.21 - 7.27 (m, 1H), 7.36 -7.45 (m, 3H), 7.59 (d, 2H, J = 7.2 Hz), 7.73 - 7.87 (m, 4H), 7.93 (s, 1H), 8.01 (s, 1H); MS (ES) 443.9 (M+1).

실시예 3-3b (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 3-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 3-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹H NMR (CDCl₃, 200 MHz) δ0.91 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 2.21 (s, 6H), 3.55 - 3.65 (m, 1H), 3.93 (s, 3H), 5.08 (d, 1H, J = 10.2 Hz), 5.21 (s, 2H), 6.83 (s, 1H), 7.23 (dd, 1H, J = 2.6, 8.8 Hz), 7.37 -7.38 (m, 2H), 7.51 (t, 1H, J = 7.4 Hz), 7.68 -7.91 (m, 7H), 8.05 (s, 1H); MS (ES) 443.89.

실시예 3-4a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = H, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = H, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. . ¹H NMR (CDCl₃, 200 MHz) δ0.80 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 2.28 (s, 6H), 3.43 -3.58 (m, 1H), 3.64 (s, 2H), 3.70 (s, 3H), 5.05 (d, 1H, J = 10.0 Hz), 5.15 (s, 2H), 6.99 (s, 2H), 7.17 -7.33 (m, 5H), 7.42 (s, 1H), 7.46 (s, 1H), 7.65 -7.73 (m, 4H); MS (ES) 458.0 (M+1).

실시예 3-4b (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = H, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 C에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = H, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹H NMR (CDCl₃, 200 MHz) δ0.90 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 2.21 (s, 6H), 3.53 -3.65 (m, 1H), 3.64 (s, 2H), 3.69 (s, 3H), 5.10 (d, 1H, J = 10.0 Hz), 5.15 (s, 2H), 7.01 (d, 2H, J = 4.4 Hz), 7.18 -7.26 (m, 3H), 7.29 (s, 1H), 7.33 (s, 1H), 7.41 -7.45 (m, 2H), 7.65 -7.73 (m, 4H); MS (ES) 458.0 (M+1).

실시예 3-5a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CH₃인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CH₃이다. ¹H NMR (CDCl₃, 200 MHz) δ0.80 (d, 3H, J = 6.4 Hz), 3.69 (s, 9H), 2.28 (s, 6H), 3.49 -3.53 (m, 1H), 3.70 (s, 2H), 5.05 (d, 1H, J = 10.4 Hz), 7.00 (d, 2H, J = 4.8 Hz), 7.09 (d, 1H, J = 2.0 Hz), 7.19 (dd, 1H, J = 2.4 Hz, 8.8 Hz) 7.29 (d, 1H, J = 1.6 Hz), 7.63 -7.74 (m, 4H); MS (ES) 366.0 (M+1).

실시예 3-5b (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CH₃인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CH₃이다. ¹H NMR (CDCl₃, 200 MHz) δ0.90 (d, 3H, J = 6.0 Hz), 1.07 (s, 9H), 2.12 (s, 6H), 3.57 -3.61 (m, 1H), 3.69 (s, 2H), 5.10 (d, 1H, J = 10 Hz), 7.00 (bs, 1H), 7.03 (bs, 1H), 7.08 (d, 1H, J = 2.0 Hz), 7.17 (dd, 1H, J = 2.4 Hz, 9.2 Hz), 7.40 (dd, 1H, J = 1.0, 4.2 Hz), 7.66 -7.70 (m, 4H); MS (ES) 366.02 (M+1).

실시예 3-6a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = OtBu인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = OtBu이다. ¹H NMR (CDCl₃, 200 MHz) δ 0.81 (d, 3H, J = 6.0 Hz), 1.36 (s, 9H), 2.21 (s, 6H), 3.47-3.63 (m, 1H), 5.06 (d, 1H, J = 6.0 Hz), 5.11 (s, 2H), 7.00-7.04 (m, 4H), 7.19-7.39 (m, 5H), 7.64-7.74 (m, 4H); MS (ES) 458.0 (M+1).

실시예 3-6b (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = OtBu인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = OtBu이다. ¹H NMR (CDCl₃, 200 MHz) δ 0.91 (d, 3H, J = 6.0 Hz), 1.36 (s, 9H), 2.21 (s, 6H), 3.47-3.63 (m, 1H), 5.06 (d, 1H, J = 6.0 Hz), 5.11 (s, 2H), 7.00-7.04 (m, 4H), 7.19-7.39 (m, 5H), 7.64-7.74 (m, 4H); MS (ES) 458.0 (M+1).

실시예 3-7a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-PhO, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = H, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-PhO, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = H, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹H NMR (CDCl₃, 200 MHz) δ 0.80 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 2.73 (s, 6H), 3.46-3.55 (m, 1H), 3.80 (s, 3H), 4.64 (s, 2H), 5.05 (d, 1H, J = 10.6 Hz), 5.09 (s, 2H), 6.90-7.00 (m, 4H), 7.17-7.31 (m, 2H), 7.36-7.44 (m, 3H), 7.64-7.73 (m, 4H); MS (ES) 474.0 (M+1).

실시예 3-7b (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-PhO, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = H, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-PhO, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = H, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹H NMR (CDCl₃, 200 MHz) δ 0.89 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 2.73 (s, 6H), 3.46-3.55 (m, 1H), 3.80 (s, 3H), 4.64 (s, 2H), 5.05 (d, 1H, J = 10.6 Hz), 5.09 (s, 2H), 6.90-7.00 (m, 4H), 7.17-7.31 (m, 2H), 7.36-7.44 (m, 3H), 7.64-7.73 (m, 4H); MS (ES) 474.0 (M+1).

실시예 3-8a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 2, R^4b 및 R^5b = H, n⁴ = 1, 및 Q¹ = OCH₃인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 2, R^4b 및 R^5b = H, n⁴ = 1, 및 Q¹ = OCH₃이다. MS (ES) 354.3 (M+1).

실시예 3-8b (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 2, R^4b 및 R^5b = H, n⁴ = 1, 및 Q¹ = OCH₃인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 2, R^4b 및 R^5b = H, n⁴ = 1, 및 Q¹ = OCH₃이다. MS (ES) 354.3 (M+1).

실시예 3-9a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = OCH₃인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = OCH₃이다. MS (ES) 416.3 (M+1).

실시예 3-10a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z 는 트랜스-CH=CHPh이고, n³ 및 n⁴ = 0인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z 는 트랜스-CH=CHPh이고, n³ 및 n⁴ = 0 이다. MS (ES) 412.3 (M+1).

실시예 3-10b (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z 는 트랜스-CH=CHPh이고, n³ 및 n⁴ = 0인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z 는 트랜스-CH=CHPh이고, n³ 및 n⁴ = 0 이다. MS (ES) 412.3 (M+1).

실시예 3-11a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CN인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CN이다. ¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ0.80 (d, 3H, J = 6.4 Hz), 2.28 (s, 6H), 3.48 -3.53 (m, 1H), 5.06 (d, 1H, J = 10.4 Hz), 5.24 (s, 2H), 7.00 (s, 2H), 7.14 (d, 1H, J = 2.4 Hz), 7.24 (d, 1H, J = 2.4 Hz), 7.29 -7.31 (m, 1H), 7.59 (d, 2H, J = 8.4 Hz), 7.62 (d, 2H, J = 2.4 Hz), 7.69 (d, 2H, J = 1.6 Hz), 7.71 -7.76 (m, 2H).

실시예 3-11b (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CN인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CN이다. ¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ0.91 (d, 3H, J = 6.4 Hz), 2.22 (s, 6H), 3.58 -3.63 (m, 1H), 5.10 (d, 1H, J = 10.0 Hz), 5.28 (s, 2H), 7.01 (d, 2H, J = 12.0 Hz), 7.14 (s, 1H), 7.23 (s, 1H), 7.43 (d, 1H, J = 8.8 Hz) 7.64 -7.76 (m, 6H), 8.26 (d, 2H, J = 7.2 Hz).

실시예 3-12a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = NO₂인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = NO₂이다. ¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ0.80 (d, 3H, J = 6.4 Hz), 2.28 (s, 6H), 3.48 -3.53 (m, 1H), 5.06 (d, 1H, J = 10.4 Hz), 5.24 (s, 2H), 7.13 (s, 1H), 7.22 (dd, 1H, J= 2.4, 8.8 Hz), 7.42 (d, 1H, J = 8.4 Hz), 7.57 -7.59 (m, 2H), 7.67 -7.75 (m, 8H).

실시예 3-13a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₂CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₂CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et이다. MS (ES) 452.3 (M+1).

실시예 3-14a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로프로필 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로프로필 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et이다. MS (ES) 422.3 (M+1).

실시예 3-15a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로부틸 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로부틸 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et이다. MS (ES) 436.3 (M+1).

실시예 3-16a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 4-피라닐 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 4-피라닐 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. MS (ES) 452.3 (M+1).

실시예 3-17a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로헥실 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로헥실 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et이다. MS (ES) 464.2 (M+1).

실시예 3-18a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로펜틸 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로펜틸 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et이다. MS (ES) 450.3 (M+1).

실시예 3-19a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = Ph, n³ 및 n⁴ = 0인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = Ph, n³ 및 n⁴ = 0이다. ¹H NMR (CDCl₃, 200 MHz) δ 0.80 (d, 3H, J = 6.0 Hz), 2.21 (s, 6H), 3.47-3.55 (m, 1H), 5.03 (d, 1H, J = 6.0 Hz), 5.17 (s, 2H), 7.00-7.74 (m, 14H); MS (ES) 386.1 (M+1).

실시예 3-19b (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = Ph, n³ 및 n⁴ = 0인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = Ph, n³ 및 n⁴ = 0이다. ¹H NMR (CDCl₃, 200 MHz) δ 0.91 (d, 3H, J = 6.0 Hz), 2.21 (s, 6H), 3.47-3.55 (m, 1H), 5.03 (d, 1H, J = 6.0 Hz), 5.17 (s, 2H), 7.00-7.74 (m, 14H); MS (ES) 386.1 (M+1).

실시예 3-20a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₂)₂O(CH₂)₂ 고리, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₂)₂O(CH₂)₂ 고리, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. MS (ES) 452.3 (M+1).

실시예 3-21a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(Et)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(Et)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. MS (ES) 438.3 (M+1).

실시예 3-22a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)사이클로헥실, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)사이클로헥실, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. MS (ES) 478.2 (M+1).

실시예 3-23a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)n-부틸, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)n-부틸, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. MS (ES) 425.2 (M+1).

실시예 3-24a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)iPr, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)iPr, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. MS (ES) 438.2 (M+1).

실시예 3-25a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₂)₄, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₂)₄, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. MS (ES) 436.3 (M+1).

실시예 3-26a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)Et, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂ CH₃인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)Et, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂ CH₃이다. MS (ES) 424.3 (M+1).

실시예 3-27a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂ tBu인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂ tBu이다. ¹HNMR (CDCl₃, 200 MHz) δ 0.79 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 1.49 (s, 9H), 2.27 (s, 6H), 3.51-3.66 (m, 1H), 4.61 (s, 2H), 5.20 (d, 1H, J = 4.0 Hz), 6.98-7.04 (m, 3H), 7.21 (dd, 1H, J = 2.6, 9.2 Hz), 7.41 (dd, 1H, J = 1.8, 8.4 Hz), 7.64-7.74 (m, 4H).

실시예 3-27b (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂ tBu인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 0, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂ tBu이다. ¹HNMR (CDCl₃, 200 MHz) δ 0.89 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 1.49 (s, 9H), 2.20 (s, 6H), 3.51-3.66 (m, 1H), 4.61 (s, 2H), 5.60 (d, 1H, J = 9.4 Hz), 6.98-7.04 (m, 3H), 7.21 (dd, 1H, J = 2.6, 9.2 Hz), 7.41 (dd, 1H, J = 1.8, 8.4 Hz), 7.64-7.74 (m, 4H).

실시예 3-28 (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = CH₃, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = CH₃, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. MS (ES) 424.3 (M+1).

실시예 3-29 (X1 = 이미다졸-1-일, R² = H, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = H, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. ¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ 1.36 (s, 6H), 2.31 (s, 6H), 2.91-3.19 (m, 2H), 3.70 (s, 3H), 4.08 (s, 2H), 5.39-5.42 (m, 1H), 7.00-7.23 (m, 5H), 7.55 (s, 1H), 7.66-7.70 (m, 3H); MS (ES) 396.0 (M+1).

실시예 3-30a (X1 = 이미다졸-1-일, R², R³, 및 G¹ 은 함께 A2* (표 3 참조)이고, n² = 1, Z = Ph, 및 n³ 및 n⁴ = 0인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R², R³, 및 G¹ 은 함께 A2*이고, n² = 1, Z = Ph, 및 n³ 및 n⁴ = 0이다. 백색 고체, 융점 124-126 ℃; MS (ES) 398.18 (M+1).

실시예 3-30b (X1 = 이미다졸-1-일, R², R³, 및 G¹ 은 함께 A2* (표 3 참조)이고, n² = 1, Z = Ph인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R², R³, 및 G¹ 은 함께 A2*이고, n² = 1, Z = Ph이다. 백색 고체, 융점 110-112 ℃; MS (ES) 398.05 (M+1).

실시예 3-31a (X2 = 트리아졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로펜틸 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로펜틸 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et이다. MS (ES) 451.2 (M+1).

실시예 3-32a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₂CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₂CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂CH₃이다. MS (ES) 424.2 (M+1). ¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ0.74 (t, 3H, J = 7.4 Hz), 1.19-1.27 (m, 1H), 1.36 (s, 6H), 1.45-1.56 (m, 1H), 2.33 (s, 6H), 3.25-3.31 (m, 1H), 3.70 (s, 3H), 4.07 (s, 2H), 5.12 (d, 1H, J = 10.0 Hz), 7.00 (s, 1H), 7.05 (s, 1H), 7.11 (d, 1H, J = 2.3 Hz), 7.16 (dd, 1H, J = 2.5, 8.9 Hz), 7.37 (dd, 1H, J = 1.8, 8.5 Hz), 7.68-7.70 (m, 4H).

실시예 3-33a (X2 = 트리아졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)iPr, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로펜틸 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et인 화학식 I의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 D에 따라 제조하였으며, 화학식 II의 화합물에서, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)iPr, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로펜틸 고리를 형성하고, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CO₂Et이다. MS (ES) 478.2 (M+1).

앞서 개시된 일반적인 방법에 따라, 하기 표 4에 나타낸 화학식 I-B의 화합물을 제조하였다. 실시예 번호에서, X 및 G¹에 대해서 "a"는 syn 이성체를 나타내고 "b"는 anti 이성체를 나타낸다. X1 = 이미다졸-1-일, X2 = 트리아졸-1-일, X3 = 트리아졸-3-일.

[표 4]

화학식 I-B 화합물의 목록

화학식 I-B 화합물의 제조를 위한 일반적인 합성 방법 E:

THF 중의 화학식 I-C 화합물의 용액에 H₂O 중의 5 당량의 NaOH를 충전시키고 45 ℃에서 3 시간 동안 교반하였다. 반응 혼합물을 진공 하에서 고체로 농축시키고, 최소량의 물에 용해시키고, 6M HCl로 pH 7로 중화시키고 CH₂Cl₂로 추출하였다. 합한 유기층들을 Na₂SO₄ 상에서 건조시키고 여과하고 진공 하에서 농축시켰다. 생성 고체를 CHCl₃ 중의 10% CH₃OH로 실리카겔 크로마토그래피에 의해 정제시켜 화학식 I-B의 목적하는 화합물을 수득하였다.

실시예 4-1a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃인 화학식 I-B의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 E에 따라 제조하였으며, 화학식 I-C의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, 및 R⁷ = CH₃이다. ¹HNMR (CD₃OD, 200 MHz) δ 0.85 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 1.32 (s, 6H), 2.30 (s, 6H), 3.81-3.98 (m, 1H), 4.07 (s, 2H), 5.43 (d, 1H, J = 15 Hz), 6.97-7.22 (m, 3H), 7.35-7.60 (m, 2H), 7.23-7.96 (m, 3H), 8.20 (s, 1H); MS (ES) 395.9 (M+1).

실시예 4-1b (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, 및 R^4b 및 R^5b = CH₃인 화학식 I-B의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 E에 따라 제조하였으며, 화학식 I-C의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, 및 R⁷ = CH₃이다. ¹HNMR (CD₃OD, 200 MHz) δ 0.94 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 1.32 (s, 6H), 2.30 (s, 6H), 3.81-3.98 (m, 1H), 4.07 (s, 2H), 6.97-7.22 (m, 3H), 7.35-7.60 (m, 2H), 7.23-7.96 (m, 3H), 8.20 (s, 1H); MS (ES) 395.9 (M+1).

실시예 4-2a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, 및 n³ = 0인 화학식 I-B의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 E에 따라 제조하였으며, 화학식 I-C의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, 및 R⁷ = CH₃이다. ¹H NMR (DMSO-d ₆, 400 MHz) δ 0.85 (d, 3H, J = 8.0 Hz), 2.39 (s, 6H), 4.15-4.40 (m, 1H), 5.31 (s, 2H), 5.83 (d, 1H, J = 9.2 Hz), 7.30 (dd, 1H, J = 9.2 Hz, 2.8 Hz), 7.15 (d, 1H, J = 2.0 Hz), 7.59 (d, 2H, J = 8.4 Hz), 7.67 (d, 2H, J = 8.8 Hz), 8.31 (d, 2H, J = 8.8 Hz), 7.91-7.96 (m, 3H), 8.05 (s, 1H), 9.05 (s, 1H); MS (ES) 429.1 (M+1).

실시예 4-2b (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, 및 n³ = 0인 화학식 I-B의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 E에 따라 제조하였으며, 화학식 I-C의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 0, 및 R⁷ = CH₃이다. ¹H NMR (CD₃OD, 200 MHz) δ 0.71 (d, 3H, J = 6.4 Hz), 2.10 (s, 6H), 3.74-3.82 (m, 1H), 5.27 (s, 2H), 5.34 (d, 1H, J = 11.0 Hz), 6.82 (s, 1H), 7.23 (dd, 1H, J = 9.2 Hz, 2.6 Hz), 7.36-7.39 (m, 2H), 7.55 (d, 2H, J = 8.0 Hz), 7.69 (d, 2H, J = 3.8 Hz), 7.75-7.80 (m, 2H), 7.91-7.95 (m, 3H); MS (ES) 361.8 (M+1).

실시예 4-3a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 3-페닐, 및 n³ = 0인 화학식 I-B의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 E에 따라 제조하였으며, 화학식 I-C의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 3-페닐, n³ = 0, 및 R⁷ = CH₃이다. ¹H NMR (CDCl₃, 200 MHz) δ0.66 (d, 3H, J = 6.2 Hz), 2.15 (s, 6H), 3.65 - 3.83 (m, 1H), 5.24 (s, 2H), 5.33 (d, 1H, J = 11.4 Hz), 6.75 (s, 1H), 6.75 (s, 1H), 7.21 -7.27 (m, 1H), 7.34 -7.45 (m, 3H), 7.59 (d, 2H, J = 7.2 Hz), 7.73 -7.87 (m, 4H), 7.93 (s, 1H), 8.01 (s, 1H); MS (ES) 430.0 (M+1).

실시예 4-3b (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 3-페닐, 및 n³ = 0인 화학식 I-B의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 E에 따라 제조하였으며, 화학식 I-C의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 3-페닐, n³ = 0, 및 R⁷ = CH₃이다. ¹H NMR (CDCl₃, 200 MHz) δ0.71 (d, 3H, J = 6.2 Hz), 2.09 (s, 6H), 3.74 -3.83 (m, 1H), 5.28 (s, 2H), 5.34 (d, 1H, J = 11.4 Hz), 6.83 (s, 1H), 7.21 (d, 1H, J = 2.6 Hz), 7.25 (d, 1H, J = 2.6 Hz), 7.37 -7.91 (m, 9H), 8.05 (s, 1H); MS (ES) 430.0 (M+1).

실시예 4-4a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 1, 및 R^4b 및 R^5b = H인 화학식 I-B의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 E에 따라 제조하였으며, 화학식 I-C의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = H, 및 R⁷ = CH₃이다. ¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ0.77 (d, 3H, J = 6.2 Hz), 2.19 (s, 6H), 3.46 -3.70 (m, 3H), 5.00 -5.18 (m, 3H), 7.02 (m, 2H), 7.15 -7.36 (m, 6H), 7.62 -7.69 (m, 3H), 7.89 (s, 1H), 8.08 (s, 1H), 11.26 (bs, 1H).

실시예 4-4b (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 1, 및 R^4b 및 R^5b = H인 화학식 I-B의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 E에 따라 제조하였으며, 화학식 I-C의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-페닐, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = H, 및 R⁷ = CH₃이다. ¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ0.90 (d, 3H), 2.24 (s, 6H), 3.46 -3.70 (m, 3H), 5.00-5.18 (m, 3H), 7.02 (m, 2H), 7.15-7.36 (m, 6H), 7.62-7.69 (m, 3H), 7.89 (s, 1H), 8.08 (s, 1H), 11.26 (bs, 1H).

실시예 4-5a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, 및 R^4b 및 R^5b = CH₂CH₃인 화학식 I-B의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 E에 따라 제조하였으며, 화학식 I-C의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₂CH₃, 및 R⁷ = Et이다. MS (ES) 424.2 (M+1).

실시예 4-6a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, 및 R^4b 및 R^5b 은 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로프로필 고리를 형성하는 화학식 I-B의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 E에 따라 제조하였으며, 화학식 I-C의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로프로필 고리를 형성하고, R⁷ = Et이다. MS (ES) 394.2 (M+1).

실시예 4-7a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, 및 R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로부틸 고리를 형성하는 화학식 I-B의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 E에 따라 제조하였으며, 화학식 I-C의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로부틸 고리를 형성하고, R⁷ = Et이다. MS (ES) 408.6 (M+1).

실시예 4-8a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, 및 R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 4-피라닐 고리를 형성하는 화학식 I-B의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 E에 따라 제조하였으며, 화학식 I-C의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 4-피라닐 고리를 형성하고, R⁷ = CH₃이다. MS (ES) 438.3 (M+1).

실시예 4-9a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, 및 R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로헥실 고리를 형성하는 화학식 I-B의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 E에 따라 제조하였으며, 화학식 I-C의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로헥실 고리를 형성하고, R⁷ = Et이다. MS (ES) 436.2 (M+1).

실시예 4-10a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, 및 R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로펜틸 고리를 형성하는 화학식 I-B의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 E에 따라 제조하였으며, 화학식 I-C의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로펜틸 고리를 형성하고, R⁷ = Et이다. MS (ES) 422.2 (M+1).

실시예 4-11a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₂)₂O(CH₂)₂ 고리, n² = 0, n³ = 1, 및 R^4b 및 R^5b = CH₃인 화학식 I-B의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 E에 따라 제조하였으며, 화학식 I-C의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₂)₂O(CH₂)₂ 고리, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, 및 R⁷ = CH₃이다. ¹HNMR (CD₃OD, 400 MHz) δ 0.92 (d, 3H, J = 6.8 Hz), 1.36 (s, 6H), 2.45-2.52 (m, 2H), 2.75-2.80 (m, 2H), 3.48-3.69 (m, 4H), 3.69-3.73 (m, 1H), 4.12 (s, 2H), 5.42 (d, 1H, J = 11.6 Hz), 6.99-7.00 (m, 1H), 7.18 (dd, 1H, J = 9.2 Hz, 3.2 Hz), 7.25 (d, 1H, J = 4.0 Hz), 7.36-7.39 (m, 1H), 7.55 (d, 1H, J = 9.2 Hz), 7.73-7.83 (m, 2H), 7.89 (s, 1H), 8.04 (s, 1H).

실시예 4-12a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(Et)₂, n² = 0, n³ = 1, 및 R^4b 및 R^5b = CH₃인 화학식 I-B의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 E에 따라 제조하였으며, 화학식 I-C의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(Et)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, 및 R⁷ = CH₃이다. ¹HNMR (CD₃OD, 400 MHz) δ 0.85 (d, 3H, J = 6.8 Hz), 0.93 (t, 6H, J = 6.8 Hz), 1.37 (s, 6H), 2.37-2.45 (m, 2H), 2.65-2.73 (m, 2H), 3.76-3.84 (m, 1H), 4.09 (s, 2H), 5.35 (d, 1H, J = 11.2 Hz), 7.00 (s, 1H), 7.15 (dd, 1H, J = 9.2 Hz, 2.4 Hz), 7.23 (d, 1H, J = 2.0 Hz), 7.37 (s, 1H), 7.56 (d, 1H, J = 8.4 Hz), 7.77 (m, 2H), 7.90 (s, 1H), 8.11 (s, 1H).

실시예 4-13a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)사이클로헥실, n² = 0, n³ = 1, 및 R^4b 및 R^5b = CH₃인 화학식 I-B의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 E에 따라 제조하였으며, 화학식 I-C의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)사이클로헥실, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, 및 R⁷ = CH₃이다. MS (ES) 464.2 (M+1).

실시예 4-14a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)n-부틸, n² = 0, n³ = 1, 및 R^4b 및 R^5b = CH₃인 화학식 I-B의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 E에 따라 제조하였으며, 화학식 I-C의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)n-부틸, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, 및 R⁷ = CH₃이다. MS (ES) 438.1 (M+1).

실시예 4-15a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)iPr, n² = 0, n³ = 1, 및 R^4b 및 R^5b = CH₃인 화학식 I-B의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 E에 따라 제조하였으며, 화학식 I-C의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)iPr, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, 및 R⁷ = CH₃이다. MS (ES) 424.2 (M+1).

실시예 4-16a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₂)₄ 고리, n² = 0, n³ = 1, 및 R^4b 및 R^5b = CH₃인 화학식 I-B의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 E에 따라 제조하였으며, 화학식 I-C의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₂)₄ 고리, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, 및 R⁷ = CH₃이다. MS (ES) 436.3 (M+1). MS (ES) 422.1 (M+1).

실시예 4-17a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)Et, n² = 0, n³ = 1, 및 R^4b 및 R^5b = CH₃인 화학식 I-B의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 E에 따라 제조하였으며, 화학식 I-C의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)Et, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, 및 R⁷ = CH₃이다. ¹HNMR (CD₃OD, 400 MHz) δ 0.83 (d, 3H, J = 6.8 Hz), 0.96 (t, 3H, J = 6.8 Hz), 1.32 (s, 6H), 2.28 (s, 3H), 2.42-2.47 (m, 1H), 2.60-2.65 (m, 1H), 3.79-3.82 (m, 1H), 4.08 (s, 2H), 5.39 (d, 1H, J = 10.8 Hz), 6.99 (s, 1H), 7.14 (dd, 1H, J = 9.2 Hz, 2.4 Hz), 7.22 (d, 1H, J = 2.0 Hz), 7.36 (s, 1H), 7.50 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 7.73-7.77 (m, 2H), 7.86 (s, 1H), 8.11 (s, 1H).

실시예 4-18 (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = CH₃, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃인 화학식 I-B의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 E에 따라 제조하였으며, 화학식 I-C의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = CH₃, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, 및 R⁷ = CH₃이다. MS (ES) 410.2 (M+1).

실시예 4-19 (X1 = 이미다졸-1-일, R² = H, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, 및 R^4b 및 R^5b = CH₃인 화학식 I-B의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 E에 따라 제조하였으며, 화학식 I-C의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = H, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, 및 R⁷ = CH₃이다. ¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ1.37 (s, 6H), 2.29 (s, 6H), 2.99-3.20 (m, 2H), 4.06 (s, 2H), 5.44 (m, 1H), 7.05 -7.21 (m, 5H), 7.44 -7.52 (m, 2H), 7.63 (d, 1H, J = 8.4 Hz), 7.74 (s, 1H); MS (ES) 382.0 (M+1).

실시예 4-20a (X2 = 트리아졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, 및 R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로펜틸 고리를 형성하는 화학식 I-B의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 E에 따라 제조하였으며, 화학식 I-C의 화합물에서, X2 = 트리아졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로펜틸 고리를 형성하고, R⁷ = Et이다. MS (ES) 423.3 (M+1).

실시예 4-21a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₂CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃인 화학식 I-B의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 E에 따라 제조하였으며, 화학식 I-C의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₂CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, 및 R⁷ = CH₃이다. ¹H NMR (CDCl₃, 400 MHz) δ0.72 (t, 3H, J = 7.4 Hz), 1.19-1.26 (m, 1H), 1.38 (s, 6H), 1.47-1.54 (m, 1H), 2.32 (s, 6H), 3.26-3.31 (m, 1H), 4.08 (m, 2H), 5.08 (d, 1H, J = 10.1 Hz), 7.04 (d, 2H, J = 8.2 Hz), 7.09 (d, 1H, J = 2.3 Hz), 7.13 (dd, 1H, J = 2.4, 8.9 Hz), 7.30 (dd, 1H, J = 1.6 Hz, 8.6 Hz), 7.62 (t, 3H, J = 11.0 Hz), 7.84 (s, 1H).

실시예 4-22a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)iPr, n² = 0, n³ = 1, 및 R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로펜틸 고리를 형성하는 화학식 I-B의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 E에 따라 제조하였으며, 화학식 I-C의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)iPr, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로펜틸 고리를 형성하고, R⁷ = Et이다. MS (ES) 450.2 (M+1).

앞서 개시된 일반적인 방법에 따라, 하기 표 5에 나타낸 화학식 I-(HA⁶)_n7의 화합물(이때 R¹ = H, Y = O, n1 = 1, R^4a 및 R^5a = H, R^6a 및 R^6b = H, n4 = 1)을 제조하였다. 실시예 번호에서, X 및 G¹에 대해서 "a"는 syn 이성체를 나타내고 "b"는 anti 이성체를 나타낸다. X1 = 이미다졸-1-일, X2 = 트리아졸-1-일, X3 = 트리아졸-3-일.

[표 5]

화학식 I-(HA⁵)_n7 화합물의 목록

화학식 I-(HA ⁶ ) _n7 화합물의 제조를 위한 일반적인 합성 방법 F:

화학식 I의 화합물을 수 중 5 당량의 2N HCl로 충전시키고 진공 하에서 고체로 농축시켜 화학식 I-(HCl)₂의 화합물을 수득하였다. 화학식 I의 화합물을 또한 수중 포름산으로 처리하고 이어서 진공 하에서 농축시켜 화학식 I-(HCO₂H)의 화합물을 수득하였다. 또한, 화학식 I의 화합물을 에테르 중의 3 당량의 2N HCl로 충전시키고 진공 하에서 고체로 농축시켜 화학식 I-(HCl)₂의 화합물을 수득하였다.

실시예 5-1a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, Q¹ = CO₂H, 및 (HA⁶)_n7 = HCO₂H인 화학식 I-(HA⁶)_n7의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 F에 따라 제조하였으며, 화학식 I의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, 및 Q¹ = CO₂H이다. ¹H NMR (CD₃OD, 200 MHz) δ0.89 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 1.33 (s, 6H), 2.38 (s, 6H), 3.86 -4.01 (m, 1H), 4.09 (s, 2H), 5.42 (d, 1H, J = 11.0 Hz), 7.11 -8.46 (m, 9H); MS (ES) 396.0(M+1).

실시예 5-1a'(X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, Q¹ = CO₂H, 및 (HA⁶)_n7 = (HCl)₂인 화학식 I-(HA⁶)_n7의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 F에 따라 제조하였으며, 화학식 I의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, 및 Q¹ = CO₂H이다. ¹H NMR (CD₃OD, 400 MHz) δ1.31 (d, 3H, J = 6.7 Hz), 1.37 (s, 6H), 3.03 (s, 3H), 3.11 (s, 3H), 4.14 (s, 2H), 5.04 -5.12 (m, 1H), 6.28 (d, 1H, J = 11.3 Hz), 7.26 (dd, 1H, J = 2.4 Hz, 9.0 Hz), 7.32 (d, 1H, J = 2.2 Hz), 7.66 (dd, 1H, J = 1.9 Hz, 8.7 Hz), 7.73 (t, 1H, J = 1.7 Hz), 7.87 (d, 1H, J = 9.0 Hz), 3.94 (d, 1H, J = 8.6 Hz), 8.10 (s, 1H), 8.21 (t, 1H, J = 1.8 Hz), 9.62 (s, 1H).

실시예 5-1b (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, Q¹ = CO₂H, 및 (HA⁶)_n7 = HCO₂H인 화학식 I-(HA⁶)_n7의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 F에 따라 제조하였으며, 화학식 I의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, 및 Q¹ = CO₂H이다. ¹H NMR (CD₃OD, 200 MHz) δ0.93 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 1.33 (s, 6H), 2.30 (s, 6H), 3.91 -4.00 (m, 1H), 4.09 (s, 2H), 5.42 (d, 1H, J = 10.6 Hz), 6.96 (s, 1H), 7.14 (dd, 1H, J = 2.6 Hz, 9.1 Hz), 7.22 (d, 1H, J = 2.6 Hz), 7.35 (s, 1H), 7.58 -7.94 (m, 5H); MS (ES) 395.9 (M+1).

실시예 5-2a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-Ph, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = H, Q¹ = CO₂H, 및 (HA⁶)_n7 = HCO₂H인 화학식 I-(HA⁶)_n7의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 F에 따라 제조하였으며, 화학식 I의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-Ph, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = H, 및 Q¹ = CO₂H이다. ¹H NMR (CD₃OD, 200 MHz) δ0.93 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 2.42 (s, 6H), 3.90-3.99 (m, 1H), 4.54 (s, 2H), 5.14 (s, 2H), 5.52 (d, 1H, J = 11.2 Hz), 6.97 (d, 2H, J = 8.4 Hz), 6.90 (d, 1H, J = 1.4 Hz), 7.25 (dd, 1H, J = 2.6 Hz, 6.6 Hz), 7.33-7.43 (m, 3H), 7.50-7.58 (m, 2H), 7.81 (d, 2H, J = 8.8 Hz), 7.90-7.95 (m, 1H), 8.37 (s, 1H), 8.44 (s, 1H); MS (ES) 460.0 (M+1).

실시예 5-3a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₂CH₃, Q¹ = CO₂H, 및 (HA⁶)_n7 = (HCl)₂인 화학식 I-(HA⁶)_n7의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 F에 따라 제조하였으며, 화학식 I의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₂CH₃, 및 Q¹ = CO₂H이다. ¹H NMR (CD₃OD, 400 MHz) δ0.89 (t, 6H, J = 7.6 Hz), 1.29 (d, 3H, J = 6.8 Hz), 1.81 (q, 4H, J = 7.6 Hz), 3.01 (s, 3H), 3.09 (s, 3H), 3.30 (s, 2H), 5.06 -5.11 (m, 1H), 6.28 (d, 1H, J = 11.2 Hz), 7.23 (dd, 1H, J = 2.8, 9.2 Hz), 7.34 (d, 1H, J = 2.0 Hz), 7.67 (t, 2H, J = 12.4 Hz), 7.85 (d, 1H, J = 9.2 Hz), 7.93 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 8.10 (s, 1H), 8.20 (s, 1H), 9.62 (s, 1H).

실시예 5-4a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로프로필 고리를 형성하고, Q¹ = CO₂H, 및 (HA⁶)_n7 = (HCl)₂인 화학식 I-(HA⁶)_n7의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 F에 따라 제조하였으며, 화학식 I의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로프로필 고리를 형성하고, Q¹ = CO₂H이다. ¹H NMR (DMSO-d ₆, 400 MHz), δ1.15-1.18 (m, 2H), 1.20 (d, 3H, J = 6.5 Hz), 1.33-1.36 (m, 2H), 2.91 (s, 3H), 3.02 (s, 3H), 4.29 (s, 2H), 5.24 -5.35 (m, 1H), 6.51 (d, 1H, J = 11.3 Hz), 7.36 (dd, 1H, J = 2.5, 8.9 Hz), 7.45 (d, 1H, J = 2.4 Hz), 7.85 -7.86 (m, 2H), 7.92 (d, 1H, J = 9.1 Hz), 8.00 (d, 1H, J = 8.9 Hz), 8.24 (s, 1H), 8.39 (s, 1H), 9.97 (s, 1H), 10.39 (s, 1H).

실시예 5-5a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로부틸 고리를 형성하고, Q¹ = CO₂H, 및 (HA⁶)_n7 = (HCl)₂인 화학식 I-(HA⁶)_n7의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 F에 따라 제조하였으며, 화학식 I의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로부틸 고리를 형성하고, Q¹ = CO₂H이다. ¹H NMR (DMSO-d ₆, 400 MHz), δ1.10 (d, 3H, J = 7.61), 1.85 -2.10 (m, 4H), 2.37 -2.45 (m, 2H), 2.82 (s, 3H), 2.92 (s, 3H), 4.33 (s, 2H), 5.23 -5.27 (m, 1H), 6.46 (d, 1H, J = 11.0 Hz), 7.23 (dd, 1H, J = 2.5, 9.0 Hz), 7.44 (d, 1H, J = 2.4 Hz), 7.75 (s, 1H), 7.78 -7.83 (m, 2H), 7.91 (d, 1H, J = 8.7 Hz), 8.17 (s, 1H), 8.33 (s, 1H), 9.93 (s, 1H), 10.36 (s, 1H).

실시예 5-6a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 4-피라닐 고리를 형성하고, Q¹ = CO₂H, 및 (HA⁶)_n7 = (HCl)₂인 화학식 I-(HA⁶)_n7의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 F에 따라 제조하였으며, 화학식 I의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 4-피라닐 고리를 형성하고, Q¹ = CO₂H이다. ¹H NMR (DMSO-d ₆, 400 MHz), δ1.10 (d, 3H, J = 6.8 Hz), 1.63 -1.71 (m, 2H), 2.03 (d, 2H, J = 13.6 Hz), 2.82 (s, 3H), 2.93 (s, 3H), 3.49 (t, 2H, J = 10.4 Hz), 3.77 -3.81 (m, 2H), 4.17 (s, 2H), 5.24 -5.28 (m, 1H), 6.47 (d, 1H), 7.21 (dd, 1H, J = 2.4, 8.8 Hz), 7.42 (d, 1H, J = 2.4 Hz), 7.75 -7.84 (m, 2H), 7.91 (d, 1H, J = 8.4 Hz), 8.18 (s, 1H), 8.33 (s, 1H), 9.94 (s, 1H), 10.38 (s, 1H).

실시예 5-7a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로헥실 고리를 형성하고, Q¹ = CO₂H, 및 (HA⁶)_n7 = (HCl)₂인 화학식 I-(HA⁶)_n7의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 F에 따라 제조하였으며, 화학식 I의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로헥실 고리를 형성하고, Q¹ = CO₂H이다. ¹H NMR (CD₃OD, 400 MHz) δ1.34 (d, 3H, J = 6.7 Hz), 1.54 -1.69 (m, 8H), 2.18 -2.26 (m, 2H), 3.06 (s, 3H), 3.14 (s, 3H), 4.18 (s, 2H), 5.05 -5.14 (m, 1H), 6.31 (d, 1H), 7.28 (dd, 1H, J = 2.3, 9.1 Hz), 7.34 (s, 1H), 7.69 (d, 1H, J = 8.7 Hz), 7.76 (s, 1H), 7.89 (d, 1H, J = 8.9 Hz), 7.97 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 8.13 (s, 1H), 8.24 (s, 1H), 9.65 (s, 1H).

실시예 5-8a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로펜틸 고리를 형성하고, Q¹ = CO₂H, 및 (HA⁶)_n7 = (HCl)₂인 화학식 I-(HA⁶)_n7의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 F에 따라 제조하였으며, 화학식 I의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로펜틸 고리를 형성하고, Q¹ = CO₂H이다. ¹H NMR (CD₃OD, 400 MHz) δ1.29 (d, 3H, J = 6.8 Hz), 1.75 -1.83 (m, 6H), 2.14 -2.23 (m, 2H), 3.00 (s, 3H), 3.07 (s, 3H), 4.19 (s, 2H), 5.01 -5.09 (m, 1H), 6.25 (d, 1H, J = 11.2 Hz), 7.22 (dd, 1H, J = 2.4, 8.8 Hz), 7.30 (d, 1H, J = 2.4 Hz), 7.63 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 7.70 (s, 1H), 7.84 (d, 1H, J = 9.2 Hz), 7.91 (d, 1H, J = 8.4 Hz), 8.07 (d, 1H, J = 1.6 Hz), 8.18 (d, 1H, J = 1.2 Hz), 9.59 (s, 1H).

실시예 5-9a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)iPr, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로펜틸 고리를 형성하고, Q¹ = CO₂H, 및 (HA⁶)_n7 = (HCl)₂인 화학식 I-(HA⁶)_n7의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 F에 따라 제조하였으며, 화학식 I의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)iPr, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b 는 이들이 결합된 탄소와 함께 사이클로펜틸 고리를 형성하고, Q¹ = CO₂H이다. ¹H NMR (CD₃OD, 400 MHz) δ1.12 -1.16 (m, 3H), 1.31 -1.76 (m, 8H), 2.08 (s, 3H), 2.92 -2.98 (m, 1H), 3.61 -3.73 (m, 1H), 4.09 (s, 2H), 6.27 (d, 1H, J = 7.5 Hz), 7.12 (dd, 1H, J = 2.3, 9.0 Hz), 7.20 (s, 1H), 7.62 (s, 2H), 7.75 (d, 1H, J = 9.1 Hz), 7.80 -7.82 (m, 1H), 8.04 (s, 1H), 8.19 (s, 1H), 9.39 (s, 1H).

실시예 5-10a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₂CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, Q¹ = CO₂H, 및 (HA⁶)_n7 = (HCl)₂인 화학식 I-(HA⁶)_n7의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 F에 따라 제조하였으며, 화학식 I의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₂CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, 및 Q¹ = CO₂H이다. ¹HNMR (CD₃OD, 400 MHz) δ1.29 (d, 3H, J = 6.8 Hz), 1.37 (s, 6H), 1.48-1.54 (m, 6H), 3.25-3.29 (m, 1H), 3.61-3.66 (m, 1H), 3.77-3.82 (m, 1H), 4.14 (s, 2H), 5.00-5.04 (m, 1H), 6.47 (d, 1H, J = 10.4 Hz), 7.25 (dd, 1H, J = 2.8, 9.2 Hz), 7.32 (d, 1H, J = 2.4 Hz), 7.72-7.76 (m, 2H), 7.88 (d, 1H, J = 9.2 Hz), 7.93 (d, 1H, J = 8.4 Hz), 8.19 (d, 1H, J = 1.6 Hz), 8.28-8.29 (m, 1H), 9.67 (s, 1H).

실시예 5-11a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)사이클로헥실, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, Q¹ = CO₂H, 및 (HA⁶)_n7 = (HCl)₂인 화학식 I-(HA⁶)_n7의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 F에 따라 제조하였으며, 화학식 I의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)사이클로헥실, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, 및 Q¹ = CO₂H이다. ¹HNMR (CD₃OD, 400 MHz) δ 1.26-1.28 (m, 4H), 1.37 (s, 6H), 1.45-1.47 (m, 3H), 1.73-1.76 (m, 2H), 1.94-2.01 (m, 2H), 2.11-2.13 (m, 1H), 2.49-2.57 (m, 1H), 3.06 (s, 3H), 3.43-3.45 (m, 1H), 4.13 (s, 2H), 5.08-5.11 (m, 1H), 6.41 (d, 1H, J = 11.2 Hz), 7.25 (dd, 1H, J = 2.4, 8.8 Hz), 7.31 (d, 1H, J = 2.4 Hz), 7.72-7.75 (m, 2H), 7.87 (d, 1H, J = 9.2 Hz), 7.92 (d, 1H, J = 9.2 Hz), 8.12 (s, 1H), 8.31 (s, 1H), 9.51 (s, 1H).

실시예 5-12a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)n-Bu, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, Q¹ = CO₂H, 및 (HA⁶)_n7 = (HCl)₂인 화학식 I-(HA⁶)_n7의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 F에 따라 제조하였으며, 화학식 I의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)n-Bu, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, 및 Q¹ = CO₂H이다. ¹HNMR (CD₃OD, 400 MHz) δ 1.06 (t, 3H, J = 7.2 Hz), 1.29-1.32 (m, 4H), 1.37 (s, 6H), 1.45-1.53 (m, 3H), 1.70-1.72 (m, 1H), 3.07 (s, 3H), 3.04-3.09 (m, 1H), 3.35-3.46 (m, 1H), 4.13 (s, 2H), 6.36 (d, 1H, J = 11.2 Hz), 7.25 (dd, 1H, J = 2.4, 8.8 Hz), 7.32 (d, 1H, J = 2.4 Hz), 7.71-7.73 (m, 2H), 7.87 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 7.93 (d, 1H, J =8.4 Hz), 8.16 (s, 1H), 8.28 (s, 1H), 9.60 (s, 1H).

실시예 5-13a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)iPr, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, Q¹ = CO₂H, 및 (HA⁶)_n7 = (HCl)₂인 화학식 I-(HA⁶)_n7의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 F에 따라 제조하였으며, 화학식 I의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)iPr, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, 및 Q¹ = CO₂H이다. ¹HNMR (CD₃OD, 400 MHz) δ 1.28 (d, 3H, J = 6.4 Hz), 1.37 (s, 6H), 1.51 (d, 3H, J = 6.8 Hz), 1.58 (d, 3H, J = 6.8 Hz), 3.08 (s, 3H), 3.76-3.83 (m, 1H), 4.14 (s, 2H), 5.02-5.10 (m, 1H), 6.42 (d, 1H, J = 10.8 Hz), 7.25 (dd, 1H, J = 2.4, 8.8 Hz), 7.31 (d, 1H, J = 2.4 Hz), 7.73-7.77 (m, 2H), 7.87 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 7.92 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 8.18 (s, 1H), 8.34 (s, 1H), 9.54 (s, 1H).

실시예 5-14a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)Et, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, Q¹ = CO₂H, 및 (HA⁶)_n7 = (HCl)₂인 화학식 I-(HA⁶)_n7의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 F에 따라 제조하였으며, 화학식 I의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)Et, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, 및 Q¹ = CO₂H이다. ¹HNMR (CD₃OD, 400 MHz) δ 1.26 (d, 3H, J = 6.8 Hz), 1.33 (s, 6H), 1.48 (t, 3H, J = 7.2 Hz), 3.03 (s, 3H), 3.36-3.41 (m, 1H), 3.52-3.57 (m, 1H), 4.11 (s, 2H), 5.06-5.10 (m, 1H), 6.47 (d, 1H, J = 10.8 Hz), 7.20 (dd, 1H, J = 2.4, 8.8 Hz), 7.27 (s, 1H), 7.68-7.77 (m, 2H), 7.84-7.90 (m, 2H), 8.21-8.34 (m, 2H), 9.68 (s, 1H).

실시예 5-15a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-PhO, n³ = 1, R^4a 및 R^5b = H, Q¹ = CO₂H, 및 (HA⁶)_n7 = HCO₂H인 화학식 I-(HA⁶)_n7의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 E에 이어서 합성 방법 F에 따라 제조하였으며, 화학식 I의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-PhO, n³ = 1, R^4a 및 R^5b = H, Q¹ = CO₂H이고, 화학식 I-B의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-PhO, n³ = 1, R^4a 및 R^5b = H이고, 화학식 I-C의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-PhO, n³ = 1, R^4a 및 R^5b = H, 및 R⁷ = CH₃이다. ¹H NMR (CD₃OD, 200 MHz) δ 0.93 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 2.42 (s, 6H), 3.90-3.99 (m, 1H), 4.54 (s, 2H), 5.14 (s, 2H), 5.52 (d, 1H, J = 11.2 Hz), 6.97 (d, 2H, J = 8.4 Hz), 6.90 (d, 1H, J = 1.4 Hz), 7.25 (dd, 1H, J = 2.6 Hz, 6.6 Hz), 7.33-7.43 (m, 3H), 7.50-7.58 (m, 2H), 7.81 (d, 2H, J = 8.8 Hz), 7.90-7.95 (m, 1H), 8.37 (s, 1H), 8.44 (s, 1H); MS (ES) 460.0 (M+1).

실시예 5-16a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 0, Q¹ = CO₂H, 및 (HA⁶)_n7 = (HCl)₂인 화학식 I-(HA⁶)_n7의 화합물): 표제 화합물을 하기와 같이 제조하였다: THF(500 ㎕) 중의 화합물 3-27a(100 ㎎, 0.24 밀리몰)를 2M HCl(610 ㎕, 1.22 밀리몰)로 충전시키고 실온에서 4 시간 동안 교반하였다. 상기 혼합물을 진공 하에서 농축시켜 화합물 5-16a를 수득하였다. ¹HNMR (D₂O, 200 MHz) δ 1.20 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 2.90 (s, 6H), 4.80 (s, 2H), 6.05 (d, 1H, J = 10.0 Hz), 7.17-7.22 (m, 2H), 7.5 (s, 1H), 7.79-7.83 (m, 2H), 7.94 (d, 2H, J = 6.0 Hz), 9.18 (s, 1H); MS (ES) 354.2 (M+1).

실시예 5-16b (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 0, Q¹ = CO₂H, 및 (HA⁶)_n7 = (HCl)₂인 화학식 I-(HA⁶)_n7의 화합물): 표제 화합물을, 화합물 3-27a 대신에 화합물 3-27b를 사용함을 제외하고, 상기 화합물 5-16a에대해 나타낸 과정에 따라 제조하였다. ¹HNMR (D₂O, 200 MHz) δ1.32 (d, 3H, J = 7.4 Hz), 2.90 (s, 6H), 4.80 (s, 2H), 7.17-7.22 (m, 2H), 7.5 (s, 1H), 7.79-7.83 (m, 2H), 7.94 (d, 2H, J = 6.0 Hz), 9.18 (s, 1H); MS (ES) 354.3 (M+1).

실시예 5-17 (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = CH₃, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, Q¹ = CO₂H, 및 (HA⁶)_n7 = (HCl)₂인 화학식 I-(HA⁶)_n7의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 F에 따라 제조하였으며, 화학식 I의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = CH₃, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, 및 Q¹ = CO₂H이다. MS (ES) 424.3 (M+1).

화학식 I-( HA ⁶ ) _n7 화합물의 제조를 위한 일반적인 합성 방법 G(R¹ = H, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n¹ = 1, R^4a, R^5a, R^6a 및 R^6b = H, Y = O, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CONR⁷R⁸인 화학식 I의 화합물): 화학식 I의 화합물(1 당량) 및 1,1'-카보닐디이미다졸(2 당량)의 아세토니트릴 용액(0.3 M)을 80 ℃에서 16 시간 동안 환류시켰다. HNR⁷R⁸(THF 중의 용액, 1.0 밀리몰)을 반응 혼합물에 적가하였다. 3 시간 동안 교반한 후에, 반응 혼합물을 진공 하에서 농축시키고, 포화된 NaHCO₃와 CH₂Cl₂ 사이에 분배시키고, 수성층을 CH₂Cl₂(5 회)로 추출하였다. 합산 유기층들을 염수로 세척하고, Na₂SO₄ 상에서 건조시키고, 여과하고 진공 하에서 농축시켰다. 생성된 잔사를 길슨 HPLC에 의해 정제시켜 화학식 I-(HA⁶)_n7의 화합물을 수득하였다.

실시예 5-18a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, Q¹ = CONH₂, 및 (HA⁶)_n7 = HCO₂H인 화학식 I-(HA⁶)_n7의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 G에 따라 제조하였으며, 화학식 I의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, 및 Q¹ = CO₂H 및 HNR⁷R⁸ = NH₃이다. MS (ES) 395.3 (M+1).

실시예 5-19a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, Q¹ = CONHCH₃, 및 (HA⁶)_n7 = HCO₂H인 화학식 I-(HA⁶)_n7의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 G에 따라 제조하였으며, 화학식 I의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, 및 Q¹ = CO₂H 및 HNR⁷R⁸ = NH₂CH₃이다. ¹H NMR (CD₃OD, 400 MHz) δ 0.90 (d, 3H, J = 6.4 Hz), 1.32 (s, 6H), 2.40 (s, 6H), 2.74 (s, 3H), 3.90-3.98 (m, 1H), 4.07 (s, 2H), 5.06 (d, 1H, J = 10.4 Hz), 7.17 (dd, 1H, J = 6.4 Hz, 2.4 Hz), 7.24 (d, 1H, J = 2.4 Hz), 7.51 (d, 1H, J = 8.8 Hz), 7.76-7.81 (m, 3H), 7.89 (s, 1H), 8.39 (s, 1H); MS (ES) 409.2 (M+1).

실시예 5-20a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, Q¹ = CON(CH₃)₂, 및 (HA⁶)_n7 = HCO₂H인 화학식 I-(HA⁶)_n7의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 G에 따라 제조하였으며, 화학식 I의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, 및 Q¹ = CO₂H 및 HNR⁷R⁸ = NH(CH₃)₂이다. MS (ES) 423.3 (M+1).

화학식 I-( HA ⁶ ) _n7 화합물의 제조를 위한 일반적인 합성 방법 H(R¹ = H, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n¹ = 1, R^4a, R^5a, R^6a 및 R^6b = H, Y = O, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, n⁴ = 1, 및 Q¹ = CONR⁷R⁸인 화학식 I의 화합물): 화학식 I의 화합물(1 당량), 1-(3-디메틸아미노프로필)-3-에틸카보디이미드 하이드로클로라이드(1.5 당량), HNR⁷R⁸·HCl(1.5 당량), 및 1-하이드록시-7-아자벤조트리아졸(0.5 당량)의 DMF 용액에 디이소프로필에틸아민(1.5 당량)을 적가 충전시키고, 실온에서 16 시간 동안 교반하였다. 완료 시, 반응 혼합물을 진공 하에서 농축시키고, 포화된 NaHCO₃와 CH₂Cl₂ 사이에 분배시키고, 수성층을 CH₂Cl₂(5 회)로 추출하였다. 합한 유기 층들을 염수로 세척하고, Na₂SO₄ 상에서 건조시키고, 여과하고 진공 하에서 농축시켰다. 생성 잔사를 길슨 HPLC에 의해 정제시켜 화학식 I-(HA⁶)_n7의 화합물을 수득하였다.

실시예 5-21a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-Ph, n³ = 0, Q¹ = CONH₂, 및 (HA⁶)_n7 = HCO₂H인 화학식 I-(HA⁶)_n7의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 H에 따라 제조하였으며, 화학식 I의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-Ph, n³ = 0, 및 Q¹ = CO₂H 및 HNR⁷R⁸ = NH₃이다. MS (ES) 429.3 (M+1).

실시예 5-22a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-Ph, n³ = 0, Q¹ = CONHCH₃, 및 (HA⁶)_n7 = HCO₂H인 화학식 I-(HA⁶)_n7의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 H에 따라 제조하였으며, 화학식 I의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-Ph, n³ = 0, 및 Q¹ = CO₂H 및 HNR⁷R⁸ = NH₂CH₃이다. MS (ES) 443.3 (M+1).

실시예 5-23a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-Ph, n³ = 0, Q¹ = CON(CH₃)₂, 및 (HA⁶)_n7 = HCO₂H인 화학식 I-(HA⁶)_n7의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 H에 따라 제조하였으며, 화학식 I의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-Ph, n³ = 0, 및 Q¹ = CO₂H 및 HNR⁷R⁸ = NH(CH₃)₂이다. ¹H NMR (CD₃OD, 400 MHz) δ 0.91 (d, 3H, J = 6.8 Hz), 2.41 (s, 6H), 2.96 (s, 1H), 3.09 (s, 1H), 3.90-4.10 (m, 1H), 5.26 (s, 2H), 5.53 (d, 1H, J = 11.6 Hz), 7.19 (s, 1H), 7.27 (dd, 1H, J = 2.4, 6.4 Hz), 7.33 (d, 1H, J = 2.8 Hz), 7.37 (d, 1H, J = 7.6 Hz), 7.47-7.54 (m, 4H), 7.60 (d, 1H, J = 7.6 Hz), 7.78-7.82 (m, 2H), 7.91 (s, 1H), 8.46 (s, 1H); MS (ES) 457.3 (M+1).

실시예 5-24a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₂CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, Q¹ = CO₂H, 및 (HA⁶)_n7 = (HCl)₂인 화학식 I-(HA⁶)_n7의 화합물): 표제 화합물을 상술한 바와 같은 일반적인 합성 방법 F에 따라 제조하였으며, 화학식 I의 화합물에서, X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₂CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 0, n³ = 1, R^4b 및 R^5b = CH₃, 및 Q¹ = CO₂H이다. ¹H NMR (CD₃OD, 400 MHz) δ0.81 (t, 3H, J = 7.6 Hz), 1.37 (s, 6H), 1.63 -1.75 (m, 1H), 1.85-1.94 (m, 1H), 3.02 (s, 3H), 3.10 (s, 3H), 4.11 (s, 2H), 5.06 -5.11 (m, 1H), 6.59 (d, 1H, J = 11.6 Hz), 7.17 (d, 1H, J = 2.8 Hz), 7.23 (dd, 1H, J = 2.4, 9.2 Hz), 7.42 (s, 1H), 7.47 (s, 1H), 7.74 (dd, 1H, J = 2.0, 8.8 Hz), 7.82 -7.85 (m, 2H), 8.19 (s, 1H), 8.35 (s, 1H), 9.91 (s, 1H).

실시예 5-25a (X1 = 이미다졸-1-일, R² = CH₃, R³ = H, G¹ = N(CH₃)₂, n² = 1, Z = 4-Ph, n³ = 0, Q¹ = OH, 및 (HA⁶)_n7 = HCO₂H인 화학식 I-(HA⁶)_n7의 화합물): 화합물 3-6a(20 ㎎, 0.044 밀리몰)의 염화 메틸렌 용액(1 ㎖)에 트리플루오로아세트산을 충전시키고 실온에서 16 시간 동안 교반하였다. 완료 시에, 반응 혼합물을 진공 하에서 농축시키고, 최소의 물에 용해시키고, 포화된 NaHCO₃으로 pH 7로 중화시켰다. 용액으로부터 침전된 백색 고체를 여과하고, 물로 세척하고, 길슨 HPLC 상에서 정제시켜 백색 고체로서 목적하는 생성물을 수득하였다. ¹H NMR (CD₃OD, 200 MHz) δ 0.83 (d, 3H, J = 6.6 Hz), 2.30 (s, 6H), 3.70-3.79 (m, 1H), 4.32 (s, 2H), 5.32 (d, 1H, J = 10.6 Hz), 6.63 (d, 2H, J = 8.4 Hz), 6.90 (s, 1H), 7.02 (d, 2H, J = 8.8 Hz), 7.21 (d, 1H, J = 9.2 Hz), 7.28-7.31 (m, 1H), 7.42 (d, 1H, J = 8.4 Hz), 7.68 (d, 1H, J = 9.2 Hz), 7.81-7.89 (m, 2H), 8.58 (s, 2H); MS (ES) 402.0 (M+1).

Claims

하기 화학식 I의 화합물 또는 그의 약학적으로 허용 가능한 염:

화학식 I

상기 식에서,

X 는 피롤릴, 피라졸릴, 이미다졸릴, 트리아졸릴, 테트라졸릴, 티아졸 및 피리디닐 중에서 선택된 불포화된 헤테로사이클이고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁶ 치환체로 임의로 치환되며;

R¹ 은 C₀ _- ₆알킬, -OR⁷, -SR⁷, 또는 -NR⁷R⁸이고;

R² 및 R³ 은 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알콕시C_1-10알킬, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₁ _- ₁₀알킬, C₁ _- ₁₀알킬티오C_2-10알케닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐, 사이클로C_3-8알킬C_1-10알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알케닐, 사이클로C_3-8알케닐C_2-10알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알키닐, 헤테로사이클릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤테로사이클릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 헤테로사이클릴-C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알킬카보닐, C₂ _- ₁₀알케닐카보닐, C₂ _- ₁₀알키닐카보닐, C₁ _- ₁₀알콕시카보닐, C₁ _- ₁₀알콕시카보닐C_1-10알킬, 모노C₁ _- ₆알킬아미노카보닐, 디C₁ _- ₆알킬아미노카보닐, 모노(아릴)아미노카보닐, 디(아릴)아미노카보닐, 또는 C₁ _- ₁₀알킬(아릴)아미노카보닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷¹R⁸¹ 또는 -NR⁷¹R⁸¹ 치환체로 임의로 치환된다); 또는 아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 아릴-C₂ _- ₁₀알케닐 또는 아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷¹, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷¹R⁸¹, -SO₂NR⁷¹R⁸¹ 또는 -NR⁷¹R⁸¹ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 헤트아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤트아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤트아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷¹, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷¹R⁸¹, -SO₂NR⁷¹R⁸¹ 또는 -NR⁷¹R⁸¹ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는

R² 및 R³ 은 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 여기에서 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 C₁ _- ₆알킬, 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷¹, -SO₂NR⁷¹R⁸¹ 또는 -NR⁷¹R⁸¹ 치환체에 의해 임의로 치환되며;

G¹ 은 -OR⁷², -SR⁷², -NR⁷²R⁸²(R⁹)_n5 이거나, 또는 G¹ 및 R³ 이 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁷에 의해 임의로 치환되며, 상기 헤테로사이클릭 포화된 고리 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리의 N 헤테로 원자는 R⁷² 치환체에 의해 임의로 치환되거나; 또는 -NR⁷²R⁸²(R⁹)_n5의 경우에 R⁷² 및 R⁸² 은 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷³R⁸³ 또는 -NR⁷³R⁸³ 치환체에 의해 임의로 치환되고;

Y 는 산소 원자, 황 원자, -(C=O)N(R⁷⁴)-, >CR^4cR^5c 또는 >NR⁷⁴ 이고;

Z 는 -아릴-, -아릴알킬-, -아릴옥시-, -옥시아릴-, -아릴알케닐-, -알케닐아릴-, -헤트아릴-, -헤트아릴알킬-, -알킬헤트아릴-, -헤트아릴알케닐-, -알케닐헤트아릴- 또는 -아릴-이고, 이들 중 어느 것이든 R⁶⁸에 의해 임의로 치환되고;

Q¹ 은 C₀ _- ₆알킬, -OR⁷⁵, -NR⁷⁵R⁸⁵(R⁹⁵)_n6, -CO₂R⁷⁵, -CONR⁷⁵R⁸⁵, -(C=S)OR⁷⁵, -(C=O)SR⁷⁵, -NO₂, -CN, 할로, -S(O)_n6R⁷⁵, -SO₂NR⁷⁵R⁸⁵, -NR⁷⁵(C=NR⁷⁷⁵)NR⁷⁷⁷⁵R⁸⁵, -NR⁷⁵(C=NR⁷⁷⁵)OR⁷⁷⁷⁵, -NR⁷⁵(C=NR⁷⁷⁵)SR⁷⁷⁷⁵, -O(C=O)OR⁷⁵, -O(C=O)NR⁷⁵R⁸⁵, -O(C=O)SR⁷⁵, -S(C=O)OR⁷⁵, -S(C=O)NR⁷⁵R⁸⁵, -S(C=O)SR⁷⁵, -NR⁷⁵(C=O)NR⁷⁷⁵R⁸⁵, 또는 -NR⁷⁵(C=S)NR⁷⁷⁵R⁸⁵이고; -NR⁷⁵R⁸⁵(R⁹⁵)_n6 의 경우에 R⁷⁵ 및 R⁸⁵ 는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷⁶R⁸⁶ 또는 -NR⁷⁶R⁸⁶ 치환체에 의해 임의로 치환되고;

R^4a, R^4b, R^4c, R^5a, R^5b 및 R^5c 는 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₁ _- ₁₀알킬, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알킬 티오C_1-10알킬, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬, 사이클로C_3-8알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C_3-8알킬C_2-10알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알키닐, 사이 클로C_3-8알케닐C_2-10알키닐, 헤테로사이클릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤테로사이클릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤테로사이클릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 아릴-C₂ _- ₁₀알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷R⁸⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 헤트아릴-C_0-10알킬, 헤트아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤트아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷R⁸⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 모노(C₁ _{- 6}알킬)아미노C_1-6알킬, 디(C_1-6알킬)아미노C₁ _- ₆알킬, 모노(아릴)아미노C₁ _- ₆알킬, 디(아릴)아미노C_1-6알킬, 또는 N(C₁ _- ₆알킬)-C₁ _- ₆알킬-아릴(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷R⁸⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4a 와 R^5a _, 또는 R^4b 와 R^5b, 또는 R^4c 와 R^5c 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화 또는 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b 와 R^5b, 또는 R^4c 와 R^5c 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화 또는 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되고;

n1, n2, n3, n4, n5, n6 및 n7은 각각 독립적으로 0, 1 또는 2이고;

R^6a, R^6b, R⁶⁶, R⁶⁷, R⁶⁸, 및 R⁶⁹ 는 각각 독립적으로 할로, -OR⁷⁸, -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7, -CO₂R⁷⁸, -CONR⁷⁸R⁸⁸, -NO₂, -CN, -S(O)_n7R⁷⁸, -SO₂NR⁷⁸R⁸⁸, C₀ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₁ _- ₁₀알킬, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알케닐, C_1-10알콕시C_2-10알키 닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₁ _- ₁₀알킬, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C_3-8알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C_3-8알케닐C_1-10알킬, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알케닐, 사이클로C_3-8알킬C_2-10알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알키닐, 헤테로사이클릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤테로사이클릴-C_2-10알케닐, 또는 헤테로사이클릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷⁸, -SO₂NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 또는 -NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 아릴-C₂ _- ₁₀알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷⁸, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _-10알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C_1-4알콕시카보닐, -CONR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸, -SO₂NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 또는 -NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 헤트아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤트아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤트아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷⁸, C_1-10알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸, -SO₂NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 또는 -NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 치환체에 의해 임의로 치환된 다); 또는 모노(C_1-6알킬)아미노C₁ _- ₆알킬, 디(C_1-6알킬)아미노C₁ _- ₆알킬, 모노(아릴)아미노C_1-6알킬, 디(아릴)아미노C₁ _- ₆알킬, N(C₁ _- ₆알킬)-C₁ _- ₆알킬-아릴(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷⁸, C₁ _- ₁₀알킬, C_2-10알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸, -SO₂NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 또는 -NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7의 경우에 R⁷⁸ 및 R⁸⁸ 은 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리는 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 또는 -NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 치환체에 의해 임의로 치환되고;

R⁷, R⁷¹, R⁷², R⁷³, R⁷⁴, R⁷⁵, R⁷⁷⁵, R⁷⁷⁷⁵, R⁷⁶, R⁷⁷, R⁷⁸, R⁷⁷⁸, R⁸, R⁸¹, R⁸², R⁸³, R⁸⁴, R⁸⁵, R⁸⁶, R⁸⁷, R⁸⁸, R⁸⁸⁸, R⁹, R⁹⁵, 및 R⁹⁸ 은 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬, C_2-10알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₁ _- ₁₀알킬, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알키닐, C_1-10알킬티오C_1-10알킬, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _{- 8}알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C_3-8알킬C_2-10알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알키닐, 사이 클로C_3-8알케닐C_2-10알키닐, 헤테로사이클릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤테로사이클릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 헤테로사이클릴-C_2-10알키닐, C₁ _- ₁₀알킬카보닐, C₂ _- ₁₀알케닐카보닐, C₂ _- ₁₀알키닐카보닐, C₁ _-10알콕시카보닐, C₁ _- ₁₀알콕시카보닐C₁ _- ₁₀알킬, 모노C₁ _- ₆알킬아미노카보닐, 디C₁ _- ₆알킬아미노카보닐, 모노(아릴)아미노카보닐, 디(아릴)아미노카보닐, 또는 C₁ _-10알킬(아릴)아미노카보닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 또는 -N(C_0-4알킬)(C_0-4알킬) 치환체에 의해 임의로 치환된다); 아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -O(C₀ _- ₄알킬), C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CON(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₁₀알킬), -SO₂N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 또는 -N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 헤트아릴-C_0-10알킬, 헤트아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤트아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -O(C₀ _- ₄알킬), C₁ _- ₁₀알킬, C_2-10알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시 카보닐, -CON(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬), -SO₂N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 또는 -N(C_0-4알킬)(C_0-4알킬) 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 모노(C_1-6알킬)아미노C₁ _- ₆알킬, 디(C_1-6a 알킬)아미노C_1-6알킬, 모노(아릴)아미노C₁ _- ₆알킬, 디(아릴)아미노C₁ _- ₆알킬, 또는 -N(C₁ _- ₆알킬)-C₁ _-6알킬-아릴(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -O(C_0-4알킬), C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C_2-10알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CON(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₁₀알킬), -SO₂N(C₀ _- ₄알킬)(C_0-4알킬) 또는 -N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 치환체에 의해 임의로 치환된다)이다.
제 1 항에 있어서, X가 이미다졸릴 또는 트리아졸릴이고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁶ 치환체에 의해 임의로 치환되는 화합물.
제 2 항에 있어서, X가 이미다졸릴 또는 트리아졸릴인 화합물.
제 2 항에 있어서, Q¹이 -CO₂H 또는 -CO₂R⁷⁵인 화합물.
제 1 항에 있어서, Y가 산소 원자인 화합물.
제 5 항에 있어서, X가 이미다졸릴 또는 트리아졸릴이고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁶ 치환체에 의해 임의로 치환되는 화합물.
제 5 항에 있어서, X가 이미다졸릴 또는 트리아졸릴인 화합물.
제 5 항에 있어서, Q¹이 -CO₂H 또는 -CO₂R⁷⁵인 화합물.
제 5 항에 있어서, R^4a 및 R^5a가 각각 수소인 화합물.
제 2 항에 있어서,

R¹, R² 및 R³ 가 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬이고;

G¹ 이 -NR⁷²R⁸²이거나; 또는 G¹ 및 R³ 이 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리가 하나 이상의 독립적인 R⁶⁷에 의해 임의로 치환되며, 상기 헤테로사이클릭 포화된 고리 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리의 N 헤테로 원자가 R⁷² 치환체에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R⁷² 및 R⁸² 는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리가 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷³R⁸³ 또는 -NR⁷³R⁸³ 치환체에 의해 임의로 치환되고;

Y가 산소이고;

Q¹ 이 C₀ _- ₆알킬, -CO₂R⁷⁵, 또는 -CONR⁷⁵R⁸⁵이고;

R^4a, R^4b, R^5a 및 R^5b 가 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 가 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리가 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b와 R^5b 가 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이때 상기 고리가 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되고;

R^6a 및 R^6b 가 각각 독립적으로 할로, -OR⁷⁸, -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7, -CO₂R⁷⁸, -CONR⁷⁸R⁸⁸, -NO₂, -CN, -S(O)_n7R⁷⁸, -SO₂NR⁷⁸R⁸⁸, 또는 C₀ _- ₁₀알킬인 화합물.
제 10 항에 있어서,

X 가 이미다졸릴 또는 트리아졸릴이고;

R¹ 이 수소이고;

R² 및 R³ 가 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬이고;

Q¹ 이 -CO₂R⁷⁵ 또는 -CONR⁷⁵R⁸⁵ 이고;

R^6a 및 R^6b 가 각각 독립적으로 수소 원자인 화합물.
제 10 항에 있어서,

R^4a 및 R^5a 가 각각 수소이고;

R^4b 및 R^5b 가 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬이거나; 또는 R^4b와 R^5b 가 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 고리를 형성하고, 이때 상기 고리가 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R^4b와 R^5b 가 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화되거나 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이때 상기 고리가 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되는 화합물.
제 10 항에 있어서, R^4b 및 R^5b 가 각각 독립적으로 C₀ _- ₆알킬이거나; 또는 R^4b와 R^5b 가 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리를 형성하는 화합물.
제 13 항에 있어서, R^4b와 R^5b 가 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 사이클로프로필, 사이클로부틸, 사이클로펜틸 또는 사이클로헥실 고리를 형성하는 화합물.
제 13 항에 있어서, R^4b 및 R^5b 가 모두 에틸이거나 또는 모두 메틸인 화합물.
제 10 항에 있어서, Q¹이 -CO₂R⁷⁵인 화합물.
제 10 항에 있어서, Q¹이 -CO₂H인 화합물.
제 10 항에 있어서,G¹이 디(C_1-6알킬)아미노인 화합물.
제 10 항에 있어서, G¹이 디메틸아미노, 에틸메틸아미노, 디에틸아미노 또는 이소프로필메틸아미노인 화합물.
제 10 항에 있어서, R² 및 R³이 각각 독립적으로 수소, 메틸 또는 에틸인 화합물.
제 10 항에 있어서,

a) R²가 수소이고;

G¹ 및 R³이 이들이 결합된 탄소 원자와 함께
를 형성하고, 이때 ●이 이들이 결합된 탄소이거나; 또는

b) R²가 수소이고;

G¹ 및 R³이 이들이 결합된 탄소 원자와 함께
를 형성하고, 이때 ●이 이들이 결합된 탄소이며, 이들 중 어느 것이든 하나 내지 10 개의 독립적인 R⁶⁷ 치환체에 의해 임의로 치환되는 화합물.
제 3 항에 있어서, X가 이미다졸인 화합물.
제 11 항에 있어서, R²가 수소이고 R³이 메틸인 화합물.
제 11 항에 있어서, R²가 수소이고 R³이 에틸인 화합물.
제 11 항에 있어서, R² 및 R³이 모두 메틸인 화합물.
제 21 항에 있어서, n1 및 n2가 각각 1이고 Z가 아릴인 화합물.
제 26 항에 있어서, n3 및 n4가 각각 0인 화합물.
제 1 항에 있어서, Z가 -아릴- 또는 -아릴옥시- 또는 -옥시아릴-인 화합물.
제 26 항에 있어서, Q¹이 -CO₂R⁷⁵인 화합물.
제 29 항에 있어서, Q¹이 -CO₂H인 화합물.
제 1 항에 있어서,

3-[6-(2-디메틸아미노-1-이미다졸-1-일-프로필)-나프탈렌-2-일옥시]-2,2-디메틸-프로피온산;

2-[6-(2-디메틸아미노-1-이미다졸-1-일-프로필)-나프탈렌-2-일옥시메틸]-2-에틸-부티르산;

1-[6-(2-디메틸아미노-1-이미다졸-1-일-프로필)-나프탈렌-2-일옥시메틸]-사 이클로프로판카복실산;

1-[6-(2-디메틸아미노-1-이미다졸-1-일-프로필)-나프탈렌-2-일옥시메틸]-사이클로부탄카복실산;

1-[6-(2-디메틸아미노-1-이미다졸-1-일-프로필)-나프탈렌-2-일옥시메틸]-사이클로펜탄카복실산;

1-[6-(2-디메틸아미노-1-이미다졸-1-일-프로필)-나프탈렌-2-일옥시메틸]-사이클로헥산카복실산;

1-{6-[1-이미다졸-1-일-2-(이소프로필메틸아미노)-프로필]-나프탈렌-2-일옥시메틸}-사이클로펜탄카복실산;

3-[6-(2-디에틸아미노-1-이미다졸-1-일-프로필)-나프탈렌-2-일옥시]-2,2-디메틸-프로피온산;

3-{6-[1-이미다졸-1-일-2-(이소프로필메틸아미노)-프로필]-나프탈렌-2-일옥시}-2,2-디메틸-프로피온산;

3-{6-[2-(에틸-메틸-아미노)-1-이미다졸-1-일-프로필]-나프탈렌-2-일옥시}-2,2-디메틸-프로피온산;

3-[6-(2-디메틸아미노-1-이미다졸-1-일-프로필)-나프탈렌-2-일옥시]-2,2-디메틸-프로피온아미드;

3-[6-(2-디메틸아미노-1-이미다졸-1-일-프로필)-나프탈렌-2-일옥시]-2,2-N-트리메틸-프로피온아미드;

3-[6-(2-디메틸아미노-1-이미다졸-1-일-프로필)-나프탈렌-2-일옥시]-2,2- N,N-테트라메틸-프로피온아미드;

3-[6-(2-디메틸아미노-1-이미다졸-1-일-부틸)-나프탈렌-2-일옥시]-2,2-디메틸-프로피온산;

4-[6-(2-디메틸아미노-1-이미다졸-1-일-프로필)-나프탈렌-2-일옥시메틸]-벤조산;

3-[6-(2-디메틸아미노-1-이미다졸-1-일-프로필)-나프탈렌-2-일옥시메틸]-벤조산;

4-[6-(2-디메틸아미노-1-이미다졸-1-일-프로필)-나프탈렌-2-일옥시메틸]-벤즈아미드;

4-[6-(2-디메틸아미노-1-이미다졸-1-일-프로필)-나프탈렌-2-일옥시메틸]-N-메틸-벤즈아미드;

4-[6-(2-디메틸아미노-1-이미다졸-1-일-프로필)-나프탈렌-2-일옥시메틸]-N,N-디메틸-벤즈아미드; 및

1-[(6-벤질옥시-나프탈렌-2-일)-(1-메틸-피롤리딘-2-일)-메틸]-1H-이미다졸

로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 화학식 I의 화합물.
제 1 항에 있어서, 하기 화학식 I의 화합물 또는 그의 약학적으로 허용 가능한 염:

화학식 I

상기 식에서,

이고,

상기에서, X1은 이미다졸-1-일이고, X2는 트리아졸-1-일이고,
는 상기가 결합된 탄소(●)와 함께 R²R³G¹이고, syn 및 anti 배열은 X 및 G¹에 대한 것이다.
하기 화학식 I-B의 화합물 또는 그의 약학적으로 허용 가능한 염:

화학식 I-B

상기 식에서,

이고,

상기에서, X1은 이미다졸-1-일이고, X2는 트리아졸-1-일이고, syn 및 anti 배열은 X 및 G¹에 대한 것이다.
하기 화학식 II의 화합물 또는 그의 약학적으로 허용 가능한 염:

화학식 II

상기 식에서,

이고,

상기에서,
는 상기가 결합된 탄소(●)와 함께 R²R³G¹이고, syn 및 anti 배열은 -OH 및 G¹에 대한 것이다.
하기 화학식 III의 화합물 또는 그의 약학적으로 허용 가능한 염:

화학식 III

상기 식에서,

이고,

상기에서,
는 상기가 결합된 탄소(●)와 함께 R²R³G¹이다.
하기 화학식 I-(HA⁶)_n7로 나타내는 화합물:

화학식 I-(HA⁶)_n7

상기 식에서,

이고,

상기에서,

A⁶은 HCO^- ₂ 또는 Cl^-이고;

X1은 이미다졸-1-일이고;

R¹은 수소이고;

Y는 산소이고;

n1은 1이고;

R^4a 및 R^5a는 각각 수소이고;

R^6a 및 R^6b는 각각 수소이고;

n4는 1이고;

syn 및 anti 배열은 X 및 G¹에 대한 것이다.
하기 화학식 II의 화합물 또는 그의 약학적으로 허용 가능한 염:

화학식 II

상기 식에서,

R² 및 R³ 은 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알콕시C_1-10알킬, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₁ _- ₁₀알킬, C₁ _- ₁₀ 알킬티오C_2-10알케닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐, 사이클로C_3-8알킬C_1-10알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알케닐, 사이클로C_3-8알케닐C_2-10알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알키닐, 헤테로사이클릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤테로사이클릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 헤테로사이클릴-C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알킬카보닐, C₂ _- ₁₀알케닐카보닐, C₂ _- ₁₀알키닐카보닐, C₁ _- ₁₀알콕시카보닐, C₁ _- ₁₀알콕시카보닐C_1-10알킬, 모노C₁ _- ₆알킬아미노카보닐, 디C₁ _- ₆알킬아미노카보닐, 모노(아릴)아미노카보닐, 디(아릴)아미노카보닐, 또는 C₁ _- ₁₀알킬(아릴)아미노카보닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷¹R⁸¹ 또는 -NR⁷¹R⁸¹ 치환체로 임의로 치환된다); 또는 아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 아릴-C₂ _- ₁₀알케닐 또는 아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷¹, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷¹R⁸¹, -SO₂NR⁷¹R⁸¹ 또는 -NR⁷¹R⁸¹ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 헤테로아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤테로아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤테로아릴-C₂ _- ₁₀알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷¹, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷¹R⁸¹, -SO₂NR⁷¹R⁸¹ 또는 -NR⁷¹R⁸¹ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는

R² 및 R³ 은 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 C₁ _- ₆알킬, 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷¹, -SO₂NR⁷¹R⁸¹ 또는 -NR⁷¹R⁸¹ 치환체에 의해 임의로 치환되며;

G¹ 은 -OR⁷², -SR⁷², -NR⁷²R⁸²(R⁹)_n5 이거나, 또는 G¹ 및 R³ 이 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁷에 의해 임의로 치환되며, 상기 헤테로사이클릭 포화된 고리 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리의 N 헤테로 원자는 R⁷² 치환체에 의해 임의로 치환되거나; 또는 -NR⁷²R⁸²(R⁹)_n5의 경우에 R⁷² 및 R⁸² 는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷³R⁸³ 또는 -NR⁷³R⁸³ 치환체에 의해 임의로 치환되고;

Z 는 -아릴-, -아릴알킬-, -아릴옥시-, -옥시아릴-, -아릴알케닐-, -알케닐아릴-, -헤트아릴-, -헤트아릴알킬-, -알킬헤트아릴-, -헤트아릴알케닐-, -알케닐헤트아릴- 또는 -아릴-이고, 이들 중 어느 것이든 R⁶⁸에 의해 임의로 치환되고;

Q¹ 은 C₀ _- ₆알킬, -OR⁷⁵, -NR⁷⁵R⁸⁵(R⁹⁵)_n6, -CO₂R⁷⁵, -CONR⁷⁵R⁸⁵, -(C=S)OR⁷⁵, -(C=O)SR⁷⁵, -NO₂, -CN, 할로, -S(O)_n6R⁷⁵, -SO₂NR⁷⁵R⁸⁵, -NR⁷⁵(C=NR⁷⁷⁵)NR⁷⁷⁷⁵R⁸⁵, -NR⁷⁵(C=NR⁷⁷⁵)OR⁷⁷⁷⁵, -NR⁷⁵(C=NR⁷⁷⁵)SR⁷⁷⁷⁵, -O(C=O)OR⁷⁵, -O(C=O)NR⁷⁵R⁸⁵, -O(C=O)SR⁷⁵, -S(C=O)OR⁷⁵, -S(C=O)NR⁷⁵R⁸⁵, -S(C=O)SR⁷⁵, -NR⁷⁵(C=O)NR⁷⁷⁵R⁸⁵, 또는 -NR⁷⁵(C=S)NR⁷⁷⁵R⁸⁵이고; -NR⁷⁵R⁸⁵(R⁹⁵)_n6 의 경우에 R⁷⁵ 및 R⁸⁵ 는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷⁶R⁸⁶ 또는 -NR⁷⁶R⁸⁶ 치환체에 의해 임의로 치환되고;

R^4b 및 R^5b 는 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알콕시 C_1-10알킬, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₁ _- ₁₀알킬, C₁ _- ₁₀알킬티오C_2-10알케닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알케닐, 사이클로C_3-8알케닐C_2-10알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알키닐, 헤테로사이클릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤테로사이클릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤테로사이클릴-C_2-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 아릴-C₂ _- ₁₀알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₀ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷R⁸⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 헤트아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤트아릴-C_2-10알케닐, 또는 헤트아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷R⁸⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 모노(C_1-6알킬)아미노C_1-6알킬, 디(C_1-6알킬)아미노C₁ _- ₆알킬, 모노(아릴)아미노C₁ _- ₆알킬, 디(아릴)아미노C₁ _-6알킬, 또는 -N(C₁ _- ₆알킬)-C₁ _- ₆알킬-아릴(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C_2-10알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷R⁸⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b 와 R^5b, 또는 R^4c 와 R^5c 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화 또는 불포화된 고리를 형성하고, 이들 중 어느 것이든 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b 와 R^5b, 또는 R^4c 와 R^5c 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화 또는 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이들 중 어느 것이든 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되고;

n1, n2, n3, n4, n5, n6 및 n7은 각각 독립적으로 0, 1 또는 2이고;

R⁷, R⁷¹, R⁷², R⁷³, R⁷⁴, R⁷⁵, R⁷⁷⁵, R⁷⁷⁷⁵, R⁷⁶, R⁷⁷, R⁷⁸, R⁷⁷⁸, R⁸, R⁸¹, R⁸², R⁸³, R⁸⁵, R⁸⁶, R⁸⁷, R⁸⁸, R⁸⁸⁸, R⁹, R⁹⁵, 및 R⁹⁸ 은 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C_2-10알키닐, C_1-10알콕시C_1-10알킬, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₁ _- ₁₀알킬, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C_3-8알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C_3-8알케닐C_1-10알킬, 사이클로C₃ _- ₈알킬C_2-10알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알키닐, 헤테로사이클릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤테로사이클릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 헤테로사이클릴-C_2-10알키닐, C₁ _- ₁₀알킬카보닐, C₂ _- ₁₀알케닐카보닐, C₂ _- ₁₀알키닐카보닐, C₁ _- ₁₀알콕시카보닐, C₁ _- ₁₀알콕시카보닐C₁ _- ₁₀알킬, 모노C₁ _- ₆알킬아미노카보닐, 디C₁ _- ₆알킬아미노카보닐, 모노(아릴)아미노카보닐, 디(아릴)아미노카보닐, 또는 C₁ _-10알킬(아릴)아미노카보닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 또는 -N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 치환체에 의해 임의로 치환된다); 아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 아릴-C_2-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -O(C₀ _- ₄알킬), C_1-10알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CON(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₁₀알킬), -SO₂N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 또는 -N(C_0-4알킬)(C_0-4알킬) 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 헤트아릴-C_0-10알킬, 헤트아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤트아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하 나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -O(C₀ _- ₄알킬), C₁ _- ₁₀알킬, C_2-10알케닐, C₂ _-10알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CON(C_0-4알킬)(C_0-4알킬), -SO₂N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 또는 -N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 모노(C_1-6알킬)아미노C₁ _- ₆알킬, 디(C_1-6a 알킬)아미노C_1-6알킬, 모노(아릴)아미노C₁ _- ₆알킬, 디(아릴)아미노C₁ _- ₆알킬, 또는 -N(C₁ _- ₆알킬)-C₁ _-6알킬-아릴(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -O(C_0-4알킬), C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C_2-10알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CON(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₁₀알킬), -SO₂N(C₀ _- ₄알킬)(C_0-4알킬) 또는 -N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 치환체에 의해 임의로 치환된다)이다.
하기 화학식 I-B의 화합물 또는 그의 약학적으로 허용 가능한 염:

화학식 III

상기 식에서,

R² 및 R³ 은 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알콕시C_1-10알킬, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₁ _- ₁₀알킬, C₁ _- ₁₀알킬티오C_2-10알케닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐, 사이클로C_3-8알킬C_1-10알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알케닐, 사이클로C_3-8알케닐C_2-10알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알키닐, 헤테로사이클릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤테로사이클릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 헤테로사이클릴-C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알킬카보닐, C₂ _- ₁₀알케닐카보닐, C₂ _- ₁₀알키닐카보닐, C₁ _- ₁₀알콕시카보닐, C₁ _- ₁₀알콕시카보닐C_1-10알킬, 모노C₁ _- ₆알킬아미노카보닐, 디C₁ _- ₆알킬아미노카보닐, 모노(아릴)아미노카보닐, 디(아릴)아미노카보닐, 또는 C₁ _- ₁₀알킬(아릴)아미노카보닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷¹R⁸¹ 또는 -NR⁷¹R⁸¹ 치환체로 임의로 치환된다); 또는 아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 아릴-C₂ _- ₁₀알케닐 또는 아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷¹, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷¹R⁸¹, -SO₂NR⁷¹R⁸¹ 또는 -NR⁷¹R⁸¹ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 헤테로아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤테로아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤테로아릴-C₂ _- ₁₀알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷¹, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷¹R⁸¹, -SO₂NR⁷¹R⁸¹ 또는 -NR⁷¹R⁸¹ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는

R² 및 R³ 은 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 C₁ _- ₆알킬, 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷¹, -SO₂NR⁷¹R⁸¹ 또는 -NR⁷¹R⁸¹ 치환체에 의해 임의로 치환되며;

G¹ 은 -OR⁷², -SR⁷², -NR⁷²R⁸²(R⁹)_n5 이거나, 또는 G¹ 및 R³ 이 이들이 결합된 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 R⁶⁷에 의해 임의로 치환되며, 상기 헤테로사이클릭 포화된 고리 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리의 N 헤테로 원자는 R⁷² 치환체에 의해 임의로 치환되거나; 또는 -NR⁷²R⁸²(R⁹)_n5의 경우에 R⁷² 및 R⁸² 는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷³R⁸³ 또는 -NR⁷³R⁸³ 치환체에 의해 임의로 치환되고;

Z 는 -아릴-, -아릴알킬-, -아릴옥시-, -옥시아릴-, -아릴알케닐-, -알케닐아릴-, -헤트아릴-, -헤트아릴알킬-, -알킬헤트아릴-, -헤트아릴알케닐-, -알케닐헤트아릴- 또는 -아릴-이고, 이들 중 어느 것이든 R⁶⁸에 의해 임의로 치환되고;

Q¹ 은 C₀ _- ₆알킬, -OR⁷⁵, -NR⁷⁵R⁸⁵(R⁹⁵)_n6, -CO₂R⁷⁵, -CONR⁷⁵R⁸⁵, -(C=S)OR⁷⁵, -(C=O)SR⁷⁵, -NO₂, -CN, 할로, -S(O)_n6R⁷⁵, -SO₂NR⁷⁵R⁸⁵, -NR⁷⁵(C=NR⁷⁷⁵)NR⁷⁷⁷⁵R⁸⁵, -NR⁷⁵(C=NR⁷⁷⁵)OR⁷⁷⁷⁵, -NR⁷⁵(C=NR⁷⁷⁵)SR⁷⁷⁷⁵, -O(C=O)OR⁷⁵, -O(C=O)NR⁷⁵R⁸⁵, -O(C=O)SR⁷⁵, -S(C=O)OR⁷⁵, -S(C=O)NR⁷⁵R⁸⁵, -S(C=O)SR⁷⁵, -NR⁷⁵(C=O)NR⁷⁷⁵R⁸⁵, 또는 -NR⁷⁵(C=S)NR⁷⁷⁵R⁸⁵이고; -NR⁷⁵R⁸⁵(R⁹⁵)_n6 의 경우에 R⁷⁵ 및 R⁸⁵ 는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂NR⁷⁶R⁸⁶ 또는 -NR⁷⁶R⁸⁶ 치환체에 의해 임의로 치환되고;

R^4b 및 R^5b 는 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알콕시C_1-10알킬, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₁ _- ₁₀알킬, C₁ _- ₁₀알킬티오C_2-10알케닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알케닐, 사이클로C_3-8알케닐C_2-10알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알키닐, 헤테로사이클릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤테로사이클릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤테로사이클릴-C_2-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 아릴-C₂ _- ₁₀알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷R⁸⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 헤트아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤트아릴-C_2-10알케닐, 또는 헤트아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷R⁸⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 모노(C_1-6알킬)아미노C_1-6알킬, 디(C_1-6알킬)아미노C₁ _- ₆알킬, 모노(아릴)아미노C₁ _- ₆알킬, 디(아릴)아미노C₁ _-6알킬, 또는 N(C₁ _- ₆알킬)-C₁ _- ₆알킬-아릴(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C_2-10알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷R⁸⁷, -SO₂NR⁷⁷R⁸⁷ 또는 -NR⁷⁷R⁸⁷ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b 와 R^5b, 또는 R^4c 와 R^5c 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화 또는 불포화된 고리를 형성하고, 이들 중 어느 것이든 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되거나; 또는 R^4a 와 R^5a, 또는 R^4b 와 R^5b, 또는 R^4c 와 R^5c 는 이들이 결합된 각각의 탄소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화 또는 불포화된 헤테로사이클릭 고리를 형성하고, 이들 중 어느 것이든 R⁶⁹에 의해 임의로 치환되고;

n1, n2, n3, n4, n5, n6 및 n7은 각각 독립적으로 0, 1 또는 2이고;

R⁶⁷, R⁶⁸, 및 R⁶⁹ 는 할로, -OR⁷⁸, -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7, -CO₂R⁷⁸, -CONR⁷⁸R⁸⁸, -NO₂, -CN, -S(O)_n7R⁷⁸, -SO₂NR⁷⁸R⁸⁸, C₀ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₁ _- ₁₀알킬, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C_1-10알킬, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _-10알케닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C_3-8알킬C_2-10알케닐, 사이클로C_3-8알케닐C_2-10알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알키닐, 헤테로사이클릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤테로사이클릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤테로사이클릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷⁸, -SO₂NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 또는 -NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 아릴-C_2-10알케닐, 또는 아릴-C₂ _- ₁₀알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷⁸, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C_2-10알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸, -SO₂NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 또는 -NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 헤트아릴-C_0-10알킬, 헤트아릴 -C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤트아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷⁸, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C_2-10알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸, -SO₂NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 또는 -NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 모노(C_1-6알킬)아미노C_1-6알킬, 디(C_1-6알킬)아미노C_1-6알킬, 모노(아릴)아미노C₁ _- ₆알킬, 디(아릴)아미노C₁ _- ₆알킬, 또는 -N(C_1-6알킬)-C_1-6알킬-아릴(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -OR⁷⁷⁸, C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C_1-10알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CONR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸, -SO₂NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 또는 -NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 치환체에 의해 임의로 치환된다)이거나; 또는 -NR⁷⁸R⁸⁸(R⁹⁸)_n7의 경우에 R⁷⁸ 및 R⁸⁸ 은 이들이 결합된 질소 원자와 함께 3 내지 10 원의 포화된 고리, 불포화된 고리, 헤테로사이클릭 포화된 고리, 또는 헤테로사이클릭 불포화된 고리를 형성하고, 이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C_1-10알콕시, -SO₂NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 또는 -NR⁷⁷⁸R⁸⁸⁸ 치환체에 의해 임의로 치환되고;

R⁷, R⁷¹, R⁷², R⁷³, R⁷⁴, R⁷⁵, R⁷⁷⁵, R⁷⁷⁷⁵, R⁷⁶, R⁷⁷, R⁷⁸, R⁷⁷⁸, R⁸, R⁸¹, R⁸², R⁸³, R⁸⁵, R⁸⁶, R⁸⁷, R⁸⁸, R⁸⁸⁸, R⁹, R⁹⁵, 및 R⁹⁸ 은 각각 독립적으로 C₀ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C_2-10알키닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₁ _- ₁₀알킬, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알콕시C₂ _- ₁₀알키닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C_1-10알킬, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알케닐, C₁ _- ₁₀알킬티오C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₁ _- ₁₀알킬, 사이클로C_3-8알킬C_2-10알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알케닐C₂ _- ₁₀알케닐, 사이클로C₃ _- ₈알킬C₂ _- ₁₀알키닐, 사이클로C_3-8알케닐C_2-10알키닐, 헤테로사이클릴-C₀ _- ₁₀알킬, 헤테로사이클릴-C_2-10알케닐, 헤테로사이클릴-C_2-10알키닐, C₁ _- ₁₀알킬카보닐, C₂ _- ₁₀알케닐카보닐, C₂ _- ₁₀알키닐카보닐, C₁ _- ₁₀알콕시카보닐, C₁ _- ₁₀알콕시카보닐C₁ _- ₁₀알킬, 모노C₁ _- ₆알킬아미노카보닐, 디C₁ _- ₆알킬아미노카보닐, 모노(아릴)아미노카보닐, 디(아릴)아미노카보닐, 또는 C₁ _-10알킬(아릴)아미노카보닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 하이드록시, 니트로, C₁ _- ₁₀알콕시, -SO₂N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 또는 -N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 치환체에 의해 임의로 치환된다); 아릴-C₀ _- ₁₀알킬, 아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -O(C₀ _- ₄알킬), C_1-10알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CON(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₁₀알킬), -SO₂N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알 킬) 또는 -N(C_0-4알킬)(C_0-4알킬) 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 헤트아릴-C_0-10알킬, 헤트아릴-C₂ _- ₁₀알케닐, 또는 헤트아릴-C₂ _-10알키닐(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -O(C₀ _- ₄알킬), C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C_2-10알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C₂ _- ₁₀알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CON(C_0-4알킬)(C_0-4알킬), -SO₂N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 또는 -N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 치환체에 의해 임의로 치환된다); 또는 모노(C_1-6알킬)아미노C₁ _- ₆알킬, 디(C_1-6알킬)아미노C_1-6알킬, 모노(아릴)아미노C₁ _- ₆알킬, 디(아릴)아미노C₁ _- ₆알킬, 또는 -N(C_1-6알킬)-C_1-6알킬-아릴(이들 중 어느 것이든 하나 이상의 독립적인 할로, 시아노, 니트로, -O(C_0-4알킬), C₁ _- ₁₀알킬, C₂ _- ₁₀알케닐, C₂ _- ₁₀알키닐, 할로C₁ _- ₁₀알킬, 할로C₂ _- ₁₀알케닐, 할로C_2-10알키닐, -COOH, C₁ _- ₄알콕시카보닐, -CON(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬), -SO₂N(C_0-4알킬)(C_0-4알킬) 또는 -N(C₀ _- ₄알킬)(C₀ _- ₄알킬) 치환체에 의해 임의로 치환된다)이다.
치료 유효량의 제 1 항의 화합물 또는 그의 약학적으로 허용 가능한 염, 및 약학적으로 허용 가능한 담체를 포함하는 약학 조성물.
제 39 항에 있어서, 경구, 직장, 국소 또는 비 경구 투여에 적합한 약학 조성물.
제 39 항에 있어서, 정제, 캡슐, 향낭, 에어로졸, 크림, 연고, 로션, 분말 또는 좌약의 형태인 약학 조성물.
포유동물에게 치료 유효량의 제 1 항에 따른 화합물 또는 그의 약학적으로 허용 가능한 염을 투여함을 포함하는, 시토크롬 P450RAI 효소의 억제에 의해 상기 포유동물에서 피부병 또는 암성 질병을 치료하는 방법.
포유동물에게 치료 유효량의 제 39 항에 따른 약학 조성물을 투여함을 포함하는, 시토크롬 P450RAI 효소의 억제에 의해 상기 포유동물에서 피부병 또는 암성 질병을 치료하는 방법.
제 42 항에 있어서, 피부병이 건선인 방법.
제 42 항에 있어서, 암성 질병이 백혈병, 유방암, 전립선암 및 충실성 종양인 방법.
제 43 항에 있어서, 피부병이 건선인 방법.
제 43 항에 있어서, 암성 질병이 백혈병, 유방암, 전립선암 및 충실성 종양인 방법.
제 1 항의 화합물 또는 그의 약학적으로 허용 가능한 염, 및 하나 이상의 레티노이드를 포함하는 조성물.
Cyp26에 의해 대사되는 하나 이상의 레티노이드를 하나 이상의 제 1 항의 화합물과 함께 투여하여 상기 레티노이드의 보다 높은 내생적인 수준을 얻는 단계를 포함하는 피부 관련 또는 암성 질병을 치료하는 방법.
제 1 항에 있어서, Cyp3A4 활성의 IC₅₀ 값 대 Cyp26 활성의 IC₅₀ 값의 비가 10:1 이상인 화합물.
제 1 항에 있어서, Cyp3A4 활성의 IC₅₀ 값 대 Cyp26 활성의 IC₅₀ 값의 비가 100:1 이상인 화합물.