KR20050071682A

KR20050071682A - 모발 세척 및 컨디셔닝용 조성물

Info

Publication number: KR20050071682A
Application number: KR1020057008384A
Authority: KR
Inventors: 니콜라스 존 아인거; 아난드 램찬드라 마하데슈와르; 닐 스코트 쇼
Original assignee: 유니레버 엔.브이.
Priority date: 2002-11-12
Filing date: 2003-10-30
Publication date: 2005-07-07
Also published as: MXPA05005125A; AU2003276213A1; EP1560559B1; US7183243B2; JP2006508187A; JP4157555B2; DE60304369T2; ES2260695T3; RU2005118111A; US20060058205A1; EP1560559A1; WO2004043414A1; EP1560559B8; RU2332202C2; ATE321526T1; KR101063093B1; BR0314452B1; BR0314452A; DE60304369D1

Abstract

클렌징 계면활성제, 물, pH 7에서 각각 0.2 내지 1 meq/gm 및 1.3 내지 3 meq/gm의 전하 밀도를 갖는 제 1 및 제 2 양이온성 중합체와, 4 마이크로미터 이하의 지름을 갖는 수-불용성 컨디셔닝 오일 액적을 포함하는 모발 세척용 조성물이 개시된다. 조성물은 컨디셔닝을 겸한 클렌징과 젖거나 마른 모발의 낮은 마찰도 및 빗질의 용이성을 제공한다.

Description

모발 세척 및 컨디셔닝용 조성물 {COMPOSITIONS FOR WASHING AND CONDITIONING HAIR}

본원 발명은 모발 및 몸에 사용하여 충분히 씻어내는, 헹궈내는 형태의 모발 컨디셔닝 조성물에 관한 것이다. 특별하게는 본원 발명은 모발 샴푸 조성물과 샤워 젤에 관한 것인데, 이들은 모두 모발을 청결하게 하고 모발에 컨디셔닝의 이점을 제공한다. 더욱 특별하게는, 본원 발명은 건조시에 모발에 낮은 마찰도와 빗질의 용이성을 제공하는 효과를 갖는 모발 세척 조성물에 관한 것이다.

모발에 대한 클렌징과 컨디셔닝의 효과를 겸비한 조성물들은 당업계에 잘 알려져 있다. 이러한 샴푸나 샤워 젤 조성물들은 일반적으로는 샴푸 또는 클렌징의 목적으로 하나 이상의 계면활성제를 포함하며, 하나 이상의 컨디셔닝 제제를 포함한다. 일반적으로, 이러한 컨디셔닝 제제들은 수-불용성 유성 물질, 양이온성 중합체 또는 양이온성 계면활성제들이다. 컨디셔닝 제제의 목적 중 하나는 모발이 젖었을 때 더 쉽게 빗질할 수 있도록 하고, 말랐을 때는 더 다루기 쉽도록, 즉 정전기가 적고 덜 휘날리도록 만드는 데 있다. 또 다른 중요한 역할은, 특히 수-불용성 유성 컨디셔닝 제제에 있어서, 건조한 모발에 대해 낮은 마찰도와 빗질의 용이성을 제공하는 데 있다.

모발 세척 조성물에 양이온성 중합체가 포함되는 것은 잘 알려져 있다. 예를 들어, 미국특허 6,444,628은 물과 함께, 음이온성 클렌징 계면활성제, 양이온성 중합체 및 모노알킬 사차 암모늄 화합물을 포함하는 샴푸 수용액을 개시한다.

이러한 양이온성 중합체는 수-불용성 컨디셔닝 오일과 조합하여 자주 사용되어, 컨디셔닝 오일의 모발로의 침착을 향상시킨다. 미국특허 3,753,916은 양이온성 중합체의 침착 보조제로서의 용도를 개시한다.

수-불용성 유성 컨디셔닝 제제의 작은 액적들을 포함하는 모발 세척 조성물에서의 양이온성 중합체의 특정한 조합을 사용함으로써, 선행 기술인 세척 및 컨디셔닝 조성물들이 만났던 문제들이 극복될 수 있음이 알려졌다. 특히, 높은 전하 밀도의 양이온성 중합체와 유성 컨디셔닝 제제가 샴푸 내에서 합쳐질 때 많은 소비자들이 경험하는 끈적하고 기름진 느낌의 감소와 함께, 개선된 낮은 마찰도와 빗질의 용이성이 건조 후의 모발에서 얻어질 수 있다.

발명의 요약

첫번째 관점에서, 본원 발명은

a) 1 내지 50 중량%의 클렌징 계면활성제,

b) pH 7에서의 그램당 평균 전하 밀도가 0.2 내지 1.0 meq인 제 1 양이온성 중합체 0.01 내지 0.5 중량%,

c) pH 7에서의 그램당 평균 전하 밀도가 1.3 내지 3.0 meq인 제 2 양이온성 중합체 0.01 내지 0.4 중량%,

d) 40 중량% 초과의 물 및

e) 평균 지름(D_3,2)이 4 마이크로미터 이하인 수-불용성 컨디셔닝 오일의 분리된 분산 액적 0.1 내지 10 중량%

를 포함하며, 제 1 및 제 2 양이온성 중합체가 필수적으로 동일한 단량체 단위들을 포함하는 것을 특징으로 하는 모발 세척 조성물을 제공한다.

수-불용성이라는 것은, 그렇게 기술된 물질이 25℃에서 물에 0.1 중량% 이하의 용해도를 가짐을 의미한다.

언급되는 모든 점도는 다르게 특정되지 않는 한 동점도이며, 중력 유동 조건 하에서, 보정된 모세관 유리 점도측정기를 사용하여 25℃에서 측정된다.

언급되는 모든 분자량은 다르게 특정되지 않는 한 중량 평균(Mw) 분자량이다.

본원 발명에 의해 제공되는 조성물은 수성 조성물이며, 그것을 모발에 마사지하고, 모발 건조전 깨끗한 물로 헹구어내는 식으로 사용된다.

선택적으로는, 별개의 컨디셔닝 제형이 헹군 후 건조 전에 적용될 수도 있으나, 이것은 본원 발명의 조성물이 모발에 클렌징과 컨디셔닝 둘 다를 제공하도록 의도되어 있으므로 필요하지 않을 수도 있다.

본원 발명에 의해 제공되는 조성물은 40 중량% 초과, 바람직하게는 50 중량% 초과, 더욱 바람직하게는 65 중량% 초과의 물을 포함한다.

클렌징 계면활성제

본원 발명에 따르는 모발 세척 조성물은 화장용으로 사용 가능하고 모발의 국부적 적용에 적당한 군으로부터의 하나 이상의 클렌징 계면활성제를 포함한다.

적당한 클렌징 계면활성제는 단독으로 또는 조합으로 사용될 수 있는데, 음이온성, 비이온성, 양성, 양쪽이온성 계면활성제 및 그들의 혼합물들로부터 선택된다.

음이온성 클렌징 계면활성제

본 발명에 따르는 샴푸 조성물은 일반적으로 화장용으로 사용 가능하고 모발의 국부적 적용에 적당한 하나 이상의 음이온성 클렌징 계면활성제를 포함한다.

적당한 음이온성 클렌징 계면활성제의 예들은 알킬 술페이트, 알킬 에테르 술페이트, 알카릴 술포네이트, 알카노일 이세티오네이트, 알킬 숙시네이트, 알킬 술포숙시네이트, N-알킬 사르코시네이트, 알킬 포스페이트, 알킬 에테르 포스페이트, 알킬 에테르 카르복실레이트 및 알파-올레핀 술포네이트, 특히 이들의 소듐, 마그네슘, 암모늄 및 모노-, 디- 및 트리에탄올아민 염들이다. 알킬 및 아실 기들은 일반적으로 8 내지 18개의 탄소 원자를 포함하며 불포화될 수도 있다. 알킬 에테르 술페이트, 알킬 에테르 포스페이트 및 알킬 에테르 카르복실레이트는 분자당 1 내지 10개의 에틸렌 옥사이드 또는 프로필렌 옥사이드 단위를 포함할 수 있다.

본 발명의 샴푸 조성물에의 사용을 위한 일반적인 음이온성 클렌징 계면활성제는 소듐 올레일 숙시네이트, 암모늄 라우릴 술포숙시네이트, 암모늄 라우릴 술페이트, 소듐 도데실벤젠 술포네이트, 트리에탄올아민 도데실벤젠 술포네이트, 소듐 코코일 이세티오네이트, 소듐 라우릴 이세티오네이트 및 소듐 N-라우릴 사르코시네이트를 포함한다. 가장 바람직한 음이온성 계면활성제는 소듐 라우릴 술페이트, 소듐 라우릴 에테르 술페이트(n)EO(n은 1 내지 3), 암모늄 라우릴 술페이트 및 암모늄 라우릴 에테르 술페이트(n)EO(n은 1 내지 3)이다.

앞서 말한 임의의 음이온성 클렌징 계면활성제들의 혼합물 역시 적당할 수 있다.

본 발명의 샴푸 조성물 내의 음이온성 클렌징 계면활성제의 총량은 일반적으로 조성물의 0.5 내지 45, 바람직하게는 1.5 내지 35, 더욱 바람직하게는 5 내지 20 중량%이다.

공-계면활성제

심미적, 물리적 또는 클렌징의 성질을 조성물에 부여하는 데 도움을 주기 위해서, 조성물은 공-계면활성제를 포함할 수 있다.

바람직한 예는 양성 또는 양쪽이온성 계면활성제인데, 이들은 조성물의 0 내지 약 8, 바람직하게는 1 내지 4 중량%의 양으로 포함될 수 있다.

양성적 및 양쪽이온성 계면활성제의 예들은 알킬 아민 옥사이드, 알킬 베타인, 알킬 아미도프로필 베타인, 알킬 술포베타인(술타인), 알킬 글리시네이트, 알킬 카르복시글리시네이트, 알킬 암포프로피오네이트, 알킬암포글리시네이트, 알킬 아미도프로필 히드록시술타인, 아실 타우레이트 및 아실 글루타메이트를 포함하며, 여기서 알킬 및 아실 기는 8 내지 19개의 탄소 원자를 가진다. 본 발명의 샴푸에 사용되는 일반적인 양성 또는 양쪽이온성 계면활성제는 라우릴 아민 옥사이드, 코코디메틸 술포프로필 베타인 및 바람직하게는 라우릴 베타인, 코카미도프로필 베타인 및 소듐 코캄포프로피오네이트를 포함한다.

또 다른 바람직한 예는 비이온성 계면활성제인데, 이들은 조성물의 0 내지 약 8, 바람직하게는 2 내지 5 중량%의 양으로 포함될 수 있다.

예를 들어, 본 발명의 샴푸 조성물에 포함될 수 있는 대표적인 비이온성 계면활성제는 지방족(C₈-C₁₈) 일차 또는 이차의 직쇄 또는 분지쇄 알코올 또는 페놀과, 보통은 에틸렌 옥사이드이며 일반적으로 6 내지 30개의 에틸렌 옥사이드 기를 갖는 알킬렌 옥사이드와의 축합물을 포함한다.

다른 대표적인 비이온성 계면활성제는 모노- 또는 디-알킬 알칸올아미드를 포함한다. 이러한 예들은 코코 모노- 또는 디-에탄올아미드 및 코코 모노-이소프로판올아미드를 포함한다.

본 발명의 샴푸 조성물에 포함될 수 있는 또 다른 비이온성 계면활성제는 알킬 폴리글리코시드(APG)이다. 일반적으로, APG는 하나 이상의 글리코실 기 블록에 (선택적으로는 다리원자단을 통해) 연결된 알킬 기를 포함하는 것이다. 바람직한 APG는 다음의 식에 의해 정의된다:

RO-(G)n

여기에서, R은 포화 또는 불포화된 분지쇄 또는 직쇄 알킬 기이며, G는 당류 기이다.

R은 약 C₅ 내지 약 C₂₀의 평균 알킬 사슬 길이를 나타낼 수 있다. 바람직하게는 R은 약 C₈ 내지 약 C₁₂의 평균 알킬 사슬 길이를 나타낼 수 있다. 가장 바람직하게는 R값은 약 9.5 내지 약 10.5이다. G는 C₅ 또는 C₆인 단당류 잔기로부터 선택될 수 있으며, 바람직하게는 글루코시드이다. G는 글루코스, 자일로스, 락토스, 프룩토스, 만노스 및 이들의 유도체들을 포함하는 군으로부터 선택될 수 있다. 바람직하게는 G는 글루코스이다.

중합도 n은 약 1 내지 약 10 또는 그 이상의 값을 가질 수 있다. 바람직하게는, n값은 약 1.1 내지 약 2이다. 가장 바람직하게는, n값은 약 1.3 내지 약 1.5이다.

본 발명에 사용하기에 적당한 알킬 폴리글리코시드는 상업적으로 이용가능하며, 예를 들어 세픽(Seppic) 사의 오라믹스(Oramix) NS10; 헨켈(Henkel) 사의 플란타렌(Plantaren) 1200 및 플란타렌 2000로 명명되는 물질들을 포함한다.

본 발명의 조성물에 포함될 수 있는 다른 당-유도된 비이온성 계면활성제는, 예를 들어 WO 92 06154 및 US 5 194 639에 기술된 C₁₂-C₁₈ N-메틸 글루카미드 등의 C₁₀-C₁₈ N-알킬 (C₁-C₆) 폴리히드록시 지방산 아미드와, C₁₀-C₁₈ N-(3-메톡시프로필)글루카미드 등의 N-알콕시 폴리히드록시 지방산 아미드를 포함한다.

본 발명에 따르는 조성물은 또한 선택적으로, 조성물의 0.01 내지 10, 더욱 바람직하게는 0.05 내지 5, 가장 바람직하게는 0.05 내지 2 중량%의 양으로 포함되는 하나 이상의 양이온성 공-계면활성제를 포함할 수 있다.

본 발명의 조성물 내의 클렌징 계면활성제(임의의 공-계면활성제 및/또는 임의의 유화제를 포함하여)의 전체 양은 일반적으로, 조성물의 1 내지 50, 바람직하게는 2 내지 40, 더욱 바람직하게는 10 내지 25 중량%이다.

바람직한 클렌징 계면활성제의 배합물은 암모늄 라우릴 에테르 술페이트, 암모늄 라우릴 술페이트, PEG 5 코카미드 및 코카미드 MEA(미국화장품협회(CTFA) 명명)의 조합이다.

양이온성 중합체

본 발명에 따르는 조성물은, pH 7에서의 그램당 평균 전하 밀도가 0.2 내지 1.0 meq인 0.01 내지 0.5 중량%의 제 1 양이온성 중합체와, pH 7에서의 그램당 평균 전하 밀도가 1.3 내지 3.0 meq인 0.01 내지 0.4 중량%의 제 2 양이온성 중합체를 포함한다.

본 발명에서는 제 1 및 제 2 양이온성 중합체 모두가 필수적으로 동일한 단량체와 양이온성 치환체를 포함하는 것이 꼭 필요한데, 이로 인해 중합체들이 95 중량% 이상의 동일한 단량체를 포함하게 된다. 중합체들이 양이온적으로 치환된 단독 중합체 또는 공중합체인 경우, 양이온성 치환체는 각각의 중합체에 대해 필수적으로 동일해야 하나, 두 양이온성 중합체에 필요한 전하 밀도를 부여하기 위해서 치환도는 제 1 및 제 2 단독 중합체에 대해 다를 것이다.

양이온성 중합체는 양이온적으로 치환된 단독 중합체이거나, 둘 이상의 유형의 단량체로 형성될 수도 있다. 각각의 중합체의 분자량은 일반적으로 100 000 내지 2 000 000 달튼이다. 중합체는 사차 암모늄 또는 양성자화된 아미노 기 또는 이들의 혼합물 등의 기를 포함하는 양이온성 질소를 가진다. 만일 중합체의 분자량이 너무 낮다면, 컨디셔닝 효과가 나빠지게 된다. 너무 높다면, 쏟아 부어질 때의 조성물의 끈적끈적함을 유발하는 높은 증량 점도의 문제가 생길 수 있다.

양이온성 질소-함유 기는 일반적으로 양이온성 중합체의 총 단량체 단위의 단편상에 치환체로 존재한다. 그러므로 중합체가 단독 중합체가 아니라면, 중합체는 스페이서 비-양이온성 단량체를 포함할 수 있다. 이러한 중합체들은 CTFA 화장 재료 목록 제 3판에 기술되어 있다. 양이온성 대 비-양이온성 단량체 단위의 비는, 제 1 및 제 2 양이온성 중합체 각각의 필요한 범위 내의 양이온 전하 밀도를 갖는 중합체를 만들기 위해 선택된다.

적당한 양이온성 중합체는 예를 들어, 양이온성 아민 또는 사차 암모늄 관능기를 갖는 비닐 단량체와, (메트)아크릴아미드, 알킬 및 디알킬 (메트)아크릴아미드, 알킬 (메트)아크릴레이트, 비닐 카프로락톤 및 비닐 피롤리딘 등의 수용성 스페이서 단량체와의 공중합체를 포함한다. 알킬 및 디알킬 치환 단량체는 바람직하게는 C1-C7 알킬 기와, 더욱 바람직하게는 C1-3 알킬 기를 갖는다. 다른 적당한 스페이서들은 비닐 에스테르, 비닐 알코올, 말레산 무수물, 프로필렌 글리콜 및 에틸렌 글리콜을 포함한다.

양이온성 아민은 조성물의 특정 종류 및 pH에 따라서 일차, 이차 또는 삼차 아민일 수 있다. 일반적으로 이차 및 삼차 아민이, 특히 삼차 아민이 더 바람직하다.

아민 치환된 비닐 단량체와 아민은 아민 형태로 중합되고 나서, 사차화 반응에 의해 암모늄으로 전환된다.

양이온성 컨디셔닝 중합체는 아민- 및/또는 사차 암모늄-치환 단량체 및/또는 상용성 스페이서 단량체들로부터 유도된 단량체 단위의 혼합물들을 포함할 수 있다.

적당한 양이온성 컨디셔닝 중합체는 예를 들어,

- 예를 들어 산업계(CTFA)에서는 폴리쿼터늄(Polyquaternium) 6과 폴리쿼터늄 7로 각각 알려진, 디메틸디알릴암모늄 클로라이드 단독 중합체와, 아크릴아미드 및 디메틸디알릴암모늄 클로라이드의 공중합체를 포함하는 양이온성 디알릴 사차 암모늄-함유 중합체

- (미국 특허 4,009,256에서 기술된) 3 내지 5개의 탄소 원자를 가지는 불포화 카르복실산의 단독 및 공중합체의 아미노-알킬 에스테르의 무기산 염

- (WO95/22311에서 기술된) 양이온성 폴리아크릴아미드

들을 포함한다.

사용 가능한 다른 양이온성 컨디셔닝 중합체들은 양이온성 셀룰로스 유도체, 양이온성 전분 유도체 및 양이온성 구아 검 유도체 등의 양이온성 다당류 중합체들을 포함한다.

본 발명의 조성물에 사용하기에 적당한 양이온성 다당류 중합체는 다음 식의 단량체를 포함한다.

A-O-[R-N⁺(R¹)(R²)(R³)X^-]

여기서 A는 전분 또는 셀룰로스 무수글루코스 잔기 등의 무수글루코스 잔기 이다. R은 알킬렌, 옥시알킬렌, 폴리옥시알킬렌 또는 히드록시알킬렌 기, 또는 이들의 조합이다. R¹, R² 및 R³은 독립적으로 알킬, 아릴, 알킬아릴, 아릴알킬, 알콕시알킬 또는 알콕시아릴 기를 나타내며, 각각의 기는 약 18개까지의 탄소 원자를 포함한다. 각 양이온성 잔기의 총 탄소 수(즉 R¹, R² 및 R³의 탄소 수의 총합)는 바람직하게는 약 20 이하이며, X는 음이온성 반대이온이다.

또 다른 유형의 양이온성 셀룰로스는 산업계(CTFA)에서 폴리쿼터늄 24로 알려진, 라우릴 디메틸 암모늄-치환 에폭사이드와 반응시킨 히드록시에틸 셀룰로스의 중합체성 사차 암모늄 염을 포함한다. 이 물질은 예를 들면 중합체 LM-200이라는 상표명으로 아메르콜 사(Amerchol Corp.; Edison, NJ, USA)에서 구할 수 있다.

다른 적당한 양이온성 다당류 중합체는 사차 질소-함유 셀룰로스 에테르(예를 들면, 미국특허 3,962,418에서 기술된) 및 에테르화된 셀룰로스와 전분의 중합체(예를 들면, 미국특허 3,958,581에서 기술된)을 포함한다.

사용 가능한 양이온성 다당류 중합체의 특히 적당한 유형은 구아 히드록시프로필트리모늄 클로라이드(론-풀렌크(Rhone-Poulenc)사의 재규어(JAGUAR) 상표명 시리즈로부터 상업적으로 구할 수 있는) 등의 양이온성 구아 검 유도체이다.

제 1 양이온성 중합체는 일반적으로 조성물의 0.01 내지 0.5, 바람직하게는 0.05 내지 0.4, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 0.3 중량%의 수준으로 본 발명의 조성물에 존재한다.

제 2 양이온성 중합체는 일반적으로 조성물의 0.01 내지 0.4, 바람직하게는 0.05 내지 0.35, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 0.3 중량%의 수준으로 본 발명의 조성물에 존재한다.

중합체의 양이온 전하 밀도는, 질소 측정을 위한 화학적 시험을 통해 미국 약전에 기술된 켈달(Kjeldahl) 방법에 의해 적절하게 결정된다.

이들 중합체들의 상대적인 제조의 용이성 및 광범위한 유용성 때문에, 제 1 및 제 2 양이온성 중합체 모두가 양이온적으로 치환된 구아 검이거나, 양이온적으로 치환된 히드록시에틸셀룰로스이거나 양이온성 폴리아크릴아미드인 것이 바람직하다.

제 1 및 제 2 양이온성 중합체 모두가 구아 히드록시프로필트리메틸암모늄 클로라이드인 것이 특히 바람직하다.

제 1 양이온성 중합체는 0.2 내지 1.0 meq/gm, 바람직하게는 0.3 내지 0.9 meq/gm의 평균 전하 밀도를 가진다.

제 2 양이온성 중합체는 1.3 내지 3 meq/gm, 바람직하게는 1.4 내지 2.5, 더욱 바람직하게는 1.5 내지 1.8 meq/gm의 평균 전하 밀도를 가진다.

만일 제 2 양이온성 중합체의 전하 밀도가 특정 범위보다 높다면, 모발이 끈적거리거나 기름진 느낌을 가질 수 있다는 것이 밝혀졌다. 이것은 제 2 중합체의 과도한 침착에 기인하는 것으로 생각된다. 만일 제 1 중합체의 전하 밀도가 특정 범위보다 낮다면, 젖은 상태에서의 조성물의 컨디셔닝이 부적절할 수 있음이 밝혀졌다.

수-불용성 컨디셔닝 오일

본 발명에 따르는 조성물은 0.1 내지 10 중량%의 수-불용성 컨디셔닝 오일을 포함한다. 이것은 비-실리콘 소수성 오일일 수도 있으나, 더욱 바람직하게는 실리콘 컨디셔닝 제제이다. 바람직하게는 컨디셔닝 제제는 비-휘발성이며, 이는 25℃에서의 증기압이 1000Pa 미만인 것을 의미한다. 컨디셔닝 오일은 분리된 유제 액적으로서 조성물 내에 존재한다.

본 발명의 조성물 내의 수-불용성 컨디셔닝 오일의 총량은 총 조성물에 대해 바람직하게는 0.2 내지 5, 더욱 바람직하게는 0.5 내지 3 중량%이다.

본 발명의 샴푸나 샤워 젤 조성물에 사용하는 유화된 소수성 컨디셔닝 오일은 적당하게는 조성물 내에 4 마이크로미터 이하, 바람직하게는 2 마이크로미터 이하, 더욱 바람직하게는 1 마이크로미터 이하의 소터 평균 액적 지름(Sauter mean droplet diameter)(D₃,₂)을 갖는다.

소터 D₃,₂평균 지름을 측정하는 적당한 방법은 말베른 마스터사이저(Malvern Mastersizer) 등의 기구를 사용하는 레이저 광 산란법에 의한다.

실리콘 컨디셔닝 오일

본 발명의 조성물의 수-불용성 컨디셔닝 오일은 실리콘 컨디셔닝 오일을 포함하거나, 바람직하게는 필수적으로 포함하는 유화된 액적인 것이 바람직하다.

적당한 실리콘은 폴리디오르가노실록산, 특히 CTFA에서 디메티콘(dimethicone)으로 명명한 폴리디메틸실록산을 포함한다. 또한 본 발명의 조성물의 용도(특히 샴푸 및 컨디셔너)로 적당한 것은, CTFA에서 디메티콘올(dimethiconol)로 명명한 히드록실 말단기를 갖는 폴리디메틸 실록산이다. 또한 본 발명의 조성물의 용도로 적당한 것은, 예를 들어 WO 96/31188에서 기술된, 낮은 가교도를 가지는 실리콘 검이다.

(유제 또는 최종 모발 컨디셔닝 조성물이 아닌) 실리콘 자체의 점도는 일반적으로 25℃에서 350 내지 200,000,000mm²sec^-1이다. 바람직하게는 점도는 25℃에서 5,000mm²sec^-1 이상, 더욱 바람직하게는 10,000mm²sec^-1 이상이다. 점도는 바람직하게는 20,000,000mm²sec^-1을, 더욱 바람직하게는 10,000,000mm²sec^-1을, 가장 바람직하게는 5,000,000mm²sec^-1을 초과하지 않는다.

점도는 일반적으로 실리콘의 공급자에 의해, 측정되거나 그들의 분자량으로부터 추론되어 제공된다.

실리콘 오일 역시 관능성화 실리콘을 포함하는 것이 바람직하다. 적당한 관능성화 실리콘은 아미노-, 카르복시-, 베타인-, 사차 암모늄-, 카르보하이드레이트-, 히드록시- 및 알콕시- 치환된 실리콘을 포함한다. 바람직하게는, 관능성화 실리콘은 다수의 치환체를 포함한다.

의심을 피하기 위해, 히드록실-치환된 실리콘에 관해서, 단지 히드록실 말단기만을 갖는 폴리디메틸실록산(CTFA에서 디메티콘올로 명명한)은 본원 발명의 정의 내의 관능성화 실리콘으로 간주되지 않는다. 그러나, 중합체 사슬을 따라 히드록실 치환기를 갖는 폴리디메틸실록산은 관능성화 실리콘으로 간주된다.

본 발명의 조성물 내에 포함되는 관능성화 실리콘의 바람직한 종류는 아미노 관능성 실리콘이다. "아미노 관능성 실리콘"이라 함은, 하나 이상의 일차, 이차 또는 삼차 아민 기를 포함하거나, 또는 사차 암모늄 기를 포함하는 실리콘을 의미한다. 적당한 아미노 관능성 실리콘의 예로는, CTFA에서 "아모디메티콘(amodimethicone)"으로 명명한 폴리실록산을 포함한다.

본 발명의 용도로서 적당한 아미노 관능성 실리콘의 특정한 예들로는 아미노실리콘 오일 DC2-8220, DC2-8166, DC2-8466 및 DC2-8950-114(모두 다우 코닝(Dow Corning) 사의 제품), 그리고 GE 1149-75(제너럴 일렉트릭 실리콘스(General Electric Silicones)사의 제품)이 있다.

적당한 사차 실리콘 중합체는 EP-A-0 530 974에 기술되어 있다. 바람직한 사차 실리콘 중합체는 K3474(골드슈미트(Goldschmidt)사의 제품)이다.

소수성 컨디셔닝 오일의 성분으로 사용되는 또 다른 바람직한 관능성 실리콘은 알콕시-치환 실리콘이다. 이러한 분자들은 실리콘 코폴리올로 알려져 있으며, 실리콘 중합체 골격에, 선택적으로는 알킬 연결기를 통하여, 연결되는 하나 이상의 폴리에틸렌옥사이드 또는 폴리프로필렌옥사이드 기를 갖는다.

본 발명의 조성물 내에 유용한 실리콘 코폴리올의 유형의 한 예는 아래에 도시한 식을 따르는 분자구조를 갖는다.

Si(CH₃)₃[O-Si(CH₃)(A)]p-[O-Si(CH₃)(B)]q-O-Si(CH₃)₃

이 식에서, A는 1 내지 22개, 바람직하게는 4 내지 18개, 더욱 바람직하게는 10 내지 16개의 탄소 원자를 갖는 알킬렌 사슬이다. B는 -(R)-(EO)r(PO)s-OH의 구조를 갖는 기인데, 여기서 R은 연결기이고, 바람직하게는 1 내지 3개의 탄소 원자를 갖는 알킬렌 기이다. 바람직하게는 R은 -(CH₂)₂- 이다. r과 s의 평균값은 5 이상, 바람직하게는 10 이상, 더욱 바람직하게는 15 이상이다. r과 s의 평균값이 100 이하인 것이 바람직하다. 이 식에서, p 값은 적당하게는 10 이상, 바람직하게는 20 이상, 더욱 바람직하게는 50 이상, 그리고 가장 바람직하게는 100 이상이다. q값은 적당하게는 1 내지 20이며, 여기서 p/q의 비는 바람직하게는 10 이상, 더욱 바람직하게는 20 이상이다. p+q 값은 11 내지 500, 바람직하게는 50 내지 300 사이의 수이다.

적당한 실리콘 코폴리올은 10 이하, 바람직하게는 7 이하, 더욱 바람직하게는 4 이하의 HLB를 갖는다. 적당한 실리콘 코폴리올 물질은 DC5200인데, 라우릴 PEG/PPG - 18/18 메티콘(INCI명)으로 알려져 있고, 다우 코닝에서 구할 수 있다.

친수/친유 균형 또는 HLB(Hydrophile/Lipophile Balance)는 표면 활성 분자와 유화제를 특징짓기 위해 당업자가 사용하는 잘 알려진 매개변수이다. HLB의 실험적 결정을 위한 적당한 방법은 문헌[Griffin W.C, Journal of the Society of Cosmetic Chemists, volume 1, page 311 (1949)]에 나타나 있다. 상업적으로 이용 가능한 실리콘 코폴리올은 다우 코닝사에 의해 그들의 HLB 값과 함께 공급된다.

아미노 및 비-관능성 실리콘의 조합을 사용하는 것이 바람직하다. 특히, 수-불용성 오일이 실리콘 오일 배합물인 경우, 실리콘 오일 배합물이

(i) 실리콘 오일의 총 중량의 50 내지 95 중량%인, 통합 질량 단위로 분자량 200,000 이상을 갖는 폴리디메틸실록산 검 및

(ii) 실리콘 오일의 총 중량의 5 내지 50 중량%인, 통합 질량 단위로 분자량 200,000 미만을 갖는 아미노-관능성화 폴리디메틸실록산인 제 2 실리콘

을 포함하는 것이 바람직하다.

이러한 배합물에 적당한 아미노-관능성화 실리콘은 EP 455,185(헬렌 커티스(Helene Curtis))에 기술되어 있으며, 이하에 기술된 것처럼 트리메틸실릴아모디메티콘을 포함하고, 본 발명의 조성물에 유용할 수 있도록 충분히 수-불용성이다.

Si(CH₃)₃-O-[Si(CH₃)₂-O-]x-[Si(CH₃)(R-NH-CH₂CH₂NH₂)-O-]y-Si(CH₃)₃

여기에서 x+y는 약 50 내지 약 500의 수이며, 아민 관능기의 몰 퍼센트는 0.3% 내지 8%이고, R은 2 내지 5개의 탄소 원자를 갖는 알킬렌 기이다. 바람직하게는, x+y는 100 내지 300의 수이며, 아민 관능기의 몰 퍼센트는 0.3 내지 8%이다.

본원에서 밝히는 것과 같이, 아민 관능기의 중량 퍼센트는 아민-관능성화 실리콘의 시료를 알코올에 녹인 염산에 대해 브로모크레졸의 녹색 종말점까지 적정하여 측정된다. 아민의 몰 퍼센트는 (CH₃-CH₂-NH₂에 해당하는) 분자량 45를 사용하여 계산된다.

적당하게는, 이러한 방법으로 측정 및 계산되는 몰 퍼센트 아민 관능기는 0.3 내지 8%이며, 바람직하게는 0.5 내지 4%이다.

본원 발명의 조성물의 실리콘 성분 내에 유용한, 상업적으로 이용가능한 아민-관능성화 실리콘의 예로는 다우 코닝사에서 구할 수 있는 DC-8220이 있으며, 이는 25℃에서 150mm²S^-1의 점도와 2.0%의 몰 퍼센트 아민 관능기를 갖는다.

폴리디메틸실옥산 실리콘 검 역시 위에서 언급한 바람직한 실리콘 오일 배합물의 한 성분이다.

폴리디메틸실옥산 검은 실리콘 성분의 전체 중량을 기준으로 50 중량% 이상, 바람직하게는 60 중량% 이상의 수준으로 존재한다.

폴리디메틸실옥산 검은 25℃에서 적당하게는 500,000mm²/sec 이상, 바람직하게는 600,000mm²/sec 이상, 더욱 바람직하게는 1,000,000mm²/sec 이상의 점도를 갖는다.

적당하게는, 제 1 실리콘은 200,000 달튼 이상, 바람직하게는 400,000 달튼 이상, 더욱 바람직하게는 500,000 달튼 이상의 분자량을 갖는다.

적당한 실리콘 검은 SE30, SE54 및 SE76(제너럴 일렉트릭 실리콘스)을 포함한다.

실리콘은 유체 형태로 조성물에 첨가되어 후속적으로 유화될 수 있으나, 바람직하게는 가공의 편의상 미리 제조된 유제 형태로 첨가된다. 바람직하게는, 미리 제조된 실리콘 유제는 추가로 도데실벤젠술폰산 등의 적당한 유화제를 포함하거나, 표면 활성 블록 공중합체를 유화제로 사용하여 유화된다. 실리콘 오일 유제의 바람직한 형태는 고전단 혼합기를 사용한 기계적 유화에 의해 바람직하게 만들어지는 것이다.

비-실리콘 컨디셔닝 오일

본원 발명에 따르는 조성물은 수-불용성 컨디셔닝 오일처럼 분산되고, 비-휘발성이며, 수-불용성인 유성 비-실리콘 컨디셔닝 제제를 포함할 수 있다.

적당한 유성 또는 지방성 물질들은 탄화수소 오일, 지방산 에스테르 및 이들의 혼합물로부터 선택된다.

직쇄 탄화수소 오일은 바람직하게는 약 12 내지 약 30개의 탄소 원자를 포함한다. 또한 C2-C6 알케닐 단량체 등의, 알케닐 단량체의 중합체형 탄화수소가 적당하다.

적당한 탄화수소 오일의 특정한 예들은 파라핀 오일, 무기 오일, 포화 및 불포화 도데칸, 포화 및 불포화 트리데칸, 포화 및 불포화 테트라데칸, 포화 및 불포화 펜타데칸, 포화 및 불포화 헥사데칸 및 이들의 혼합물을 포함한다. 이들 화합물들의 분지쇄 이성질체와, 더 긴 사슬 길이의 탄화수소 역시 사용가능하다. 또 다른 적당한 물질로는 폴리이소부틸렌이 있다.

적당한 지방산 에스테르는 10개 이상의 탄소 원자를 가지는 것으로 특정되며, 지방산 또는 알코올로부터 유도되는 히드로카르빌 사슬을 갖는 에스테르를 포함한다. 모노 카르복실산 에스테르는 R'OOR의 식을 갖는 알코올 및/또는 산의 에스테르를 포함하는데, 여기서 R'과 R은 독립적으로 알킬과 알케닐 라디칼을 나타내며, R'과 R 내의 탄소 원자의 합은 10 이상, 바람직하게는 20 이상이다. 카르복실산의 디-, 트리알킬 및 알케닐 에스테르 역시 사용 가능하다.

특히 바람직한 지방산은 모노-, 디- 및 트리글리세리드이며, 더욱 명확하게는 글리세롤의 모노-, 디- 및 트리에스테르와, C1-C22 카르복실산 등의 장쇄 카르복실산이다. 바람직한 물질들은 코코아 버터, 팜 스테아린, 해바라기유, 대두유 및 코코넛유를 포함한다.

바람직하게는, 비-실리콘 컨디셔닝 오일 자체의 점도는 25℃에서 350 내지 10,000,000mm²sec^-1이다. 더욱 바람직하게는 점도는 25℃에서 5,000mm²sec^-1 이상이고, 가장 바람직하게는 10,000mm²sec^-1 이상이다. 바람직하게는 점도는 500,000mm²sec^-1을 넘지 않는다.

다른 성분들

본원 발명에 따르는 조성물은 모발 클렌징과 컨디셔닝 조성물의 사용에 적당한 다른 성분들을 포함할 수 있다. 이러한 성분들은 방향제, 현탁화제, 아미노산 및 단백질 유도체, 점도 개질제 및 방부제를 포함하나, 이들에 한정되지 않는다.

본 발명은 다음의 비-제한적 실시예를 참조로 하여 상술될 것이다.

조성물들은 표 1 및 2에 상술된 제형에 따라 제조하였다. 모든 성분들은 전체 제형의 중량 퍼센트 및 활성 성분의 수준으로서 표에 기술하였다.

성분	활성 중량 퍼센트
음이온성 계면활성제	10
양성 계면활성제 (CAPB)	3
양이온성 구아 (표 2 참조)	0.2
유화 실리콘	1.5
부가물 및 물	100까지

음이온성 계면활성제는 에테르 술페이트(1EO)이고, CAPB는 코코 아미도프로필 베타인이다. 양이온성 구아는 아래 표 2에서 상술하는 것과 같이, 재규어 C17 또는 재규어 C13S, 또는 이들 둘의 조합이다. 유화 실리콘은 아미노실리콘(분자량 32,000과 몰 퍼센트 아민 함량 약 1.75%)과 폴리디메틸실옥산 검(분자량 700,000u)의 평균 D_3,2 액적 지름 1 마이크론의 액적이다.

실시예	재규어C13S	재규어C17	마찰도	침착량
A	0.2	0	25643	108
1	0.175	0.025	22827	301
2	0.15	0.05	18896	515
3	0.125	0.075	16284	583
4	0.1	0.1	18098	615
B	0	0.2	15576	659

14% SLES 2EO와 2% 코코아미도프로필 베타인 수용액으로 클렌징하고 충분히 헹구어낸 모발의 0.25g/5cm 스위치를 다음과 같은 분석을 위한 기반으로 사용하였다. 시험 샴푸를 중량 기준 10 대 1로 증류수에 희석시켜 자석 교반기로 교반하였다. 페트리 접시의 절반에 5개의 스위치를 놓았다. 희석된 샴푸 1.5ml를 스위치 길이를 따라 놓고 접시 안에서 30초간 휘저은 뒤, 40℃에서 30초간, 분당 3~4리터의 유속으로 수돗물(12^o 프렌치 하드)로 헹구어내었다. 시험 샴푸 용액을 사용한 세척 과정을 반복한 뒤 다시 헹구어내었다. 그 뒤 25℃와 상대 습도 45 내지 60%에서 스위치를 자연스럽게 건조되도록 하였다.

모발 시료에 침착된 실리콘의 양은 X-선 형광 분광기를 사용하여 측정하였다(규소 원자의 백만분율(ppm)로 측정).

마찰도는 상업적으로 이용가능한 직물 분석기인 TA XT2i(스테이블 마이크로시스템즈(Stable Microsystems)사의 제품)를 이용한 실험 기법을 통해 측정하였다.

실시예 B와 3에 따르는 조성물들을 가정용 시험에서 식 A에 해당하는 0.2%만의 재규어 C13S를 사용하는 표준치 제형에 대해 각각 비교하였다. 시험자는 성능 속성의 각 세트에 대하여 각각의 제형을 기록하였다.

실시예 B와 3 모두 모발의 "부드러운 느낌"(각각 90% 및 95%의 유의성) 속성에 있어 가정용 시험에서 표준치보다 유의성 있게 더 나았다. 그러나, 실시예 B에서는 "지성 두피"에 대해 표준치보다 유의성 있게 (90%) 더 나쁜 기록을 보였다. 대조적으로, 실시예 3은 지성 두피 실험에서 표준치보다 (방향성은 있으나 유의성 있는 정도는 아님) 더 나았다.

가정용 시험의 결과와 마찰도 및 침착 시험 결과는, 본 발명에 따르는 조성물들이 지성 두피감 같은 결함 없이도, 높은 전하 밀도의 양이온성 중합체만의 조성물과 동등한 컨디셔닝 성능을 달성할 수 있음을 보여 준다.

Claims

a) 1 내지 50 중량%의 클렌징 계면활성제;

b) pH 7에서의 그램당 평균 전하 밀도가 0.2 내지 1.0 meq인 제 1 양이온성 중합체 0.01 내지 0.5 중량%;

c) pH 7에서의 그램당 평균 전하 밀도가 1.3 내지 3.0 meq인 제 2 양이온성 중합체 0.01 내지 0.4 중량%;

d) 40 중량% 초과의 물; 및

e) 평균 지름(D_3,2)이 4 마이크로미터 이하인 수-불용성 컨디셔닝 오일의 분리된 분산 액적 0.1 내지 10 중량%

를 포함하며, 제 1 및 제 2 양이온성 중합체가 필수적으로 동일한 단량체 단위들과 양이온성 치환체를 포함하는 것을 특징으로 하는 모발 세척 조성물.
제 1항에 있어서, 제 1 및 제 2 양이온성 중합체 둘 모두가 양이온적으로 치환된 구아 검인 것을 특징으로 하는 조성물.
제 2항에 있어서, 제 1 및 제 2 양이온성 중합체 둘 모두가 구아 히드록시프로필트리메틸암모늄 클로라이드인 것을 특징으로 하는 조성물.
제 1항에 있어서, 제 1 및 제 2 양이온성 중합체 둘 모두가 양이온적으로 치환된 히드록시에틸 셀룰로스인 것을 특징으로 하는 조성물.
제 1항에 있어서, 제 1 및 제 2 양이온성 중합체 둘 모두가 양이온성 폴리아크릴아미드인 것을 특징으로 하는 조성물.
제 1항 내지 제 5항 중 어느 한 항에 있어서, 클렌징 계면활성제가 음이온성 계면활성제, 양성 계면활성제, 양쪽이온성 계면활성제, 비이온성 계면활성제 및 그들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 1항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 있어서, 수-불용성 컨디셔닝 오일이 실리콘 오일을 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 7항에 있어서, 실리콘 오일이

(i) 실리콘 오일의 총 중량의 50 내지 95 중량%인, 통합 질량 단위로 분자량 200,000 이상을 갖는 폴리디메틸실록산 검 및

(ii) 실리콘 오일의 총 중량의 5 내지 50 중량%인, 통합 질량 단위로 분자량 200,000 미만을 갖는 아미노-관능성화 폴리디메틸실록산인 제 2 실리콘

을 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 8항에 있어서, 폴리디메틸실록산 검이 25℃에서 500,000 mm²/sec 이상의 점도를 갖는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 8항 또는 제 8항에 있어서, 아미노-관능성 폴리디메틸실록산이 25℃에서 500,000 mm²/sec 미만의 점도를 갖는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 8항 내지 제 10항 중 어느 한 항에 있어서, 아미노-관능성화 실리콘이 0.3 내지 8%의 몰 퍼센트 아미노 관능기를 갖는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 8항 내지 제 11항 중 어느 한 항에 있어서, 폴리디메틸실록산 검 대 아미노-관능성 폴리디메틸실록산의 중량비가 15:1 내지 1:1인 것을 특징으로 하는 조성물.
제 1항 내지 제 12항 중 어느 한 항에 있어서, 수-불용성 컨디셔닝 오일이 기계적으로 제조된 유제 형태인 것을 특징으로 하는 조성물.
제 1항 내지 제 13항 중 어느 한 항에 따르는 조성물을 모발에 마사지하고, 모발을 건조하기 전 깨끗한 물로 헹구어내는 모발 세척 및 컨디셔닝 방법.