KR20030016375A

KR20030016375A - 샴푸 조성물

Info

Publication number: KR20030016375A
Application number: KR10-2003-7000159A
Authority: KR
Inventors: 아난드 람찬드라 마하데쉬와르; 루비 루 빅 탄-워커
Original assignee: 유니레버 엔.브이.
Priority date: 2000-07-07
Filing date: 2001-06-22
Publication date: 2003-02-26
Also published as: EP1299071B1; AR029574A1; GB0016807D0; ZA200210040B; ES2311019T3; ATE403414T1; MXPA02012703A; CN1440266A; US20040101502A1; JP5142440B2; AU2001275683A1; BR0112173A; US7163675B2; DE60135223D1; WO2002003936A1; EP1299071A1; JP2004502710A

Abstract

본 발명은 물에 더하여, 음이온성 계면활성제, 양이온성 계면활성제, 및 유화된 양이온성 실리콘 입자를 포함하는 수성 샴푸 조성물을 제공한다.

Description

샴푸 조성물{SHAMPOO COMPOSITIONS}

다양한 조합의 세정 계면활성제 및 모발 콘디쇼닝제를 포함하는 콘디쇼닝 모발 처리제가 공지되어 있다. 이들 샴푸 제품은 전형적으로 음이온성 계면활성제와 함께 실리콘과 같은 콘디쇼닝제를 포함한다. 실리콘은 모발에 침착되어 막을 형성한다. 실리콘 막은 우수한 콘디쇼닝은 제공하나, 특히 모발에 기름을 바르는 소비자들에게는 끈적거리고 지성인 느낌을 야기할 수도 있다는 문제점을 갖는다. 기름을 바르는 습관은 중앙 아시아 및 중동 지역의 약 8억 인구에 의해 널리 행해지고 있다. 세발 전에 기름을 바르는 것은 모발에 영양을 주고 세척 과정 중에 모발을 보호하는 것으로 생각되기 때문에 행해지고 있다. 세발 후에 기름을 바르는 것은 손질의 용이성과 스타일링을 위해 행해진다.

그러므로 모발의 청결감에는 부정적인 영향을 미치지 않으면서 모발에 콘디쇼닝 효과를 제공할 수 있는 샴푸가 요구되고 있다.

본 발명자들은 음이온성 계면활성제, 양이온성 계면활성제 및 유화된 양이온성 실리콘 입자의 혼합물을 함유하는 샴푸 조성물이 콘디쇼닝 효과, 모발에 축적된 유성 물질 제거의 개선 및 우수한 청결감을, 특히 모발에 기름을 바르는 소비자들에게 제공한다는 것을 발견했다.

제 WO 99/29286 호는 아미노 작용기화 실리콘과 히드록실 작용기화 실리콘을 함께 포함하는, 우수한 콘디쇼닝을 위한 모발 처리 조성물을 제공한다. 조성물은 음이온성 계면활성제와 함께 샴푸로, 또는 양이온성 계면활성제와 함께 콘디쇼너로 제형화될 수 있다.

미국 특허 제 5,756,076 호는 지방 알콜, 양이온성 계면활성제 및 임의적인 양이온성 실리콘을 포함하는 콘디쇼너계와 합해진 알킬폴리글리코시드형 계면활성제 세척 베이스를 기초로 하는 모발용 세정 및 콘디쇼닝 조성물을 기술한다.

미국 특허 제 4,529,586 호는 양이온성 계면활성제-유화제 및 양이온성 중합체와 함께 아미노 작용기 보유 실리콘 중합체의 양이온성 에멀젼을 포함하는, 샴푸 전 또는 후에 모발에 바르는 콘디쇼너를 기술한다. 이것은 실리콘이 소수성 모발 표면으로 침착되는 것을 향상시키는 것으로 언급되어 있다.

영국 특허 제 2,177,108 호 및 미국 특허 제 5,151,210 호는 음이온성 계면활성제, 현탁화제, 라우릴 트리메틸 4급 암모늄염, 및 폴리알킬 실록산, 폴리아릴 실록산, 폴리알킬아릴 실록산 또는 폴리에테르 실록산 공중합체일 수 있는 실리콘을 포함하는 샴푸를 기술한다. 이 샴푸는 양호한 안정성을 가지며 우수한 모발 콘디쇼닝을 제공하는 것으로 언급되어 있다.

일본 특허 제 06/293,620 호는 음이온성 및 양쪽성 계면활성제와 함께 라우릴 트리메틸 4급 암모늄염을 포함하는 샴푸를 기술한다. 이 샴푸는 모발을 손상시키지 않으면서 양호한 거품 발생과 연화성을 나타내는 것으로 언급되어 있다.

미국 특허 제 5,747,436 호는 모노알킬 4급 암모늄염 및 디-알킬 에톡실화 4급 염의 특유한 혼합물을 사용함으로써 대전방지성을 개선한 콘디쇼닝 샴푸를 기술한다. 이 샴푸의 이점은 콘디쇼닝 양의 실리콘 콘디쇼닝제가 없는 효과적이고 저비용의 콘디쇼닝 샴푸가 제조될 수 있다는 것으로 언급되어 있다.

상기 문헌 중 어느 것도 개선된 콘디쇼닝, 기름 제거와 청결감을 제공하기 위한 샴푸 중의 음이온성 계면활성제, 양이온성 계면활성제 및 유화된 양이온성 실리콘 입자의 혼합물을 개시하거나 제안하지 않았다.

발명의 요약

본 발명은 물에 더하여

i) 음이온성 계면활성제;

ii) 양이온성 계면활성제; 및

iii) 유화된 양이온성 실리콘 입자

를 포함하는 수성 샴푸 조성물을 제공한다.

본 발명은 음이온성 계면활성제, 양이온성 계면활성제 및 유화된 양이온성 실리콘 입자의 혼합물을 포함하는 모발 샴푸 조성물에 관한 것이다. 본 조성물은 콘디쇼닝 효과, 모발에 축적된 유성 물질 제거의 개선 및 우수한 청결감을, 특히 모발에 기름을 바르는 소비자들에게 제공한다.

음이온성 계면활성제

본 발명에 따른 샴푸 조성물은 화장품용으로 허용 가능하고 모발에 국소 적용하기에 적합한 1종 이상의 음이온성 계면활성제를 포함한다.

적합한 음이온성 계면활성제의 예는 알킬 술페이트, 알킬 에테르 술페이트, 알크아릴 술포네이트, 알카노일 이세티오네이트, 알킬 숙시네이트, 알킬 술포숙시네이트, N-알킬 사르코시네이트, 알킬 포스페이트, 알킬 에테르 포스페이트, 알킬 에테르 카르복실레이트 및 알파 올레핀 술포네이트, 특히 그들의 나트륨, 마그네슘, 암모늄 및 모노-, 디- 및 트리에탄올아민 염이다. 알킬 및 아실기는 일반적으로 탄소수 8 내지 18일 수 있고 불포화일 수 있다. 알킬 에테르 술페이트, 알킬 에테르 포스페이트 및 알킬 에테르 카르복실레이트는 분자 당 1 내지 10개의 에틸렌 옥사이드 또는 프로필렌 옥사이드 단위를 포함할 수 있다.

본 발명의 샴푸에 사용하기 위한 전형적인 음이온성 계면활성제는 나트륨 올레일 숙시네이트, 암모늄 라우릴 술포숙시네이트, 암모늄 라우릴 술페이트, 나트륨 도데실벤젠 술포네이트, 트리에탄올아민 도데실벤젠 술포네이트, 나트륨 코코일 이세티오네이트, 나트륨 라우릴 이세티오네이트 및 나트륨 N-라우릴 사르코시네이트를 포함한다. 가장 바람직한 음이온성 계면활성제는 나트륨 라우릴 술페이트, 나트륨 라우릴 에테르 술페이트(n)EO(여기에서, n은 1 내지 3의 범위이다), 암모늄 라우릴 술페이트 및 암모늄 라우릴 에테르 술페이트(n)EO(여기에서, n은 1 내지 3의 범위이다)이다.

상기 음이온성 계면활성제의 임의의 혼합물이 또한 적합할 수 있다.

본 발명의 샴푸 조성물 중 음이온성 계면활성제의 총량(샴푸 조성물의 소수성 성분에 대한 유화제로서 존재할 수 있는 것을 포함)은 샴푸 조성물의 총 중량을 기준으로 하여 일반적으로 5 내지 30%, 바람직하게는 6 내지 20%, 보다 바람직하게는 8 내지 16%이다.

양이온성 계면활성제

본 발명에 따른 샴푸 조성물은 화장품용으로 허용 가능하고 모발에 국소 적용하기에 적합한 1종 이상의 양이온성 계면활성제를 포함한다.

본 발명의 조성물에 유용한 양이온성 계면활성제는 본 발명에 수성 조성물에 용해될 때 양으로 하전되는 아미노 또는 4급 암모늄 친수성 부분을 포함한다.

적합한 양이온성 계면활성제의 예는 하기 화학식에 해당하는 것들이다:

[N(R₁)(R₂)(R₃)(R₄)]⁺(X)^-

상기 화학식에서, R₁, R₂, R₃및 R₄는 독립적으로 (a) 탄소수 1 내지 22의 지방족기 또는 (b) 탄소수 22까지의 방향족, 알콕시, 폴리옥시알킬렌, 알킬아미도, 히드록시알킬, 아릴 또는 알킬아릴기로부터 선택되고; X는 할로겐, (예를 들면, 클로라이드, 브로마이드), 아세테이트, 시트레이트, 락테이트, 글리콜레이트, 포스페이트 니트레이트, 술페이트 및 알킬술페이트 라디칼로부터 선택되는 것과 같은 염 형성 음이온이다.

지방족기는 탄소 및 수소 원자에 추가하여 에테르 결합 및 아미노기와 같은 다른 기를 포함할 수 있다. 장쇄 지방족기, 예를 들면 탄소수 약 12 이상의 것들은 포화 또는 불포화일 수 있다.

본 발명의 샴푸 조성물에 가장 바람직한 양이온성 계면활성제는 알킬 사슬 길이가 C8 내지 C14인 모노알킬 4급 암모늄 화합물이다.

상기 물질의 적합한 예는 하기 화학식에 해당한다:

[N(R₅)(R₆)(R₇)(R₈)]⁺(X)^-

상기 화학식에서, R₅는 탄소수 8 내지 14의 히드로카르빌 사슬, 또는 탄소수 8 내지 14이고 에테르, 에스테르, 아미도 또는 아미노 부분이 치환기 또는 라디칼 사슬 내의 연결기로서 존재하는 작용기화 히드로카르빌 사슬이고, R₆, R₇및 R₈은 독립적으로 (a) 탄소수 1 내지 약 4의 히드로카르빌 사슬 또는 (b) 탄소수 1 내지 약 4이고, 1개 이상의 방향족, 에테르, 에스테르, 아미도 또는 아미노 부분이 치환기 또는 라디칼 사슬 내의 연결기로서 존재하는 작용기화 히드로카르빌 사슬로부터 선택되며, X는 할로겐, (예를 들면, 클로라이드, 브로마이드), 아세테이트, 시트레이트, 락테이트, 글리콜레이트, 포스페이트 니트레이트, 술페이트 및 알킬술페이트 라디칼로부터 선택되는 것과 같은 염 형성 음이온이다.

작용기화 히드로카르빌 사슬(b)는 알콕시(바람직하게는, C₁-C₃알콕시), 폴리옥시알킬렌(바람직하게는, C₁-C₃폴리옥시알킬렌), 알킬아미도, 히드록시알킬, 알킬에스테르 및 그의 혼합물로부터 선택된 1개 이상의 친수성 부분을 적합하게 포함할 수 있다.

히드로카르빌 사슬 R₁은 탄소수가 바람직하게는 12 내지 14, 가장 바람직하게는 12이다. 이것은 원하는 히드로카르빌 사슬 길이를 갖는 지방산을 상당량 포함하는 원료 기름으로부터 유도될 수 있다. 예를 들면, 야자핵 기름 또는 코코넛기름의 지방산이 C8 내지 C12 히드로카르빌 사슬의 원료로서 사용될 수 있다.

본 발명의 샴푸 조성물에 사용하기 위한 상기 화학식의 전형적인 모노알킬 4급 암모늄 화합물은 하기를 포함한다:

(i) 라우릴 트리메틸암모늄 클로라이드(Arquad C35로서 구입할 수 있다. 악조(Akzo)); 코코디메틸 벤질 암모늄 클로라이드(Arquad DMCB-80으로서 구입할 수 있다. 악조)

(ii) 하기 화학식의 화합물:

[N(R₁)(R₂)((CH₂CH₂O)_xH)((CH₂CH₂O)_yH)]⁺(X)^-

상기 화학식에서:

x+y는 2 내지 20의 정수이고;

R₁은 탄소수 8 내지 14, 바람직하게는 12 내지 14, 가장 바람직하게는 12의 히드로카르빌 사슬, 또는 탄소수 8 내지 14, 바람직하게는 12 내지 14, 가장 바람직하게는 12이고, 에테르, 에스테르, 아미도 또는 아미노 부분이 치환기 또는 라디칼 사슬 내의 연결기로서 존재하는 작용기화 히드로카르빌 사슬이고;

R₂는 C₁-C₃알킬기 또는 벤질기, 바람직하게는 메틸이고;

X는 할로겐, (예를 들면, 클로라이드, 브로마이드), 아세테이트, 시트레이트, 락테이트, 글리콜레이트, 포스페이트 니트레이트, 술페이트, 메토술페이트 및 알킬술페이트 라디칼로부터 선택되는 것과 같은 염 형성 음이온이다.

적합한 예는 PEG-n 라우릴 암모늄 클로라이드(여기에서, n은 PEG 사슬의 길이이다), 예컨대 PEG-2 코코모늄 클로라이드(Ethoquad C12로서 상업적으로 구입할 수 있다. 악조 노벨(Akzo Nobel)); PEG-2 코코벤질 암모늄 클로라이드(Ethoquad CB/12로서 구입할 수 있다. 악조 노벨); PEG-5 코코모늄 메토술페이트(Rewoquat CPEM으로서 구입할 수 있다. 레보(Rewo)); PEG-15 코코모늄 클로라이드(Ethoquad C/25로서 구입할 수 있다. 악조)이다.

(iii) 하기 화학식의 화합물:

[N(R₁)(R₂)(R₃)((CH₂)_nOH]⁺(X)^-

상기 화학식에서:

n은 1 내지 4, 바람직하게는 2의 정수이고;

R₁은 탄소수 8 내지 14, 바람직하게는 12 내지 14, 가장 바람직하게는 12의 히드로카르빌 사슬이며;

R₂및 R₃은 독립적으로 C₁-C₃알킬기로부터 선택되고, 바람직하게는 메틸이며;

X는 할로겐, (클로라이드, 브로마이드), 아세테이트, 시트레이트, 락테이트, 글리콜레이트, 포스페이트, 니트레이트, 술페이트 및 알킬술페이트 라디칼로부터 선택되는 것과 같은 염 형성 음이온이다.

적합한 예는 라우릴디메틸히드록시에틸암모늄 클로라이드(Prapagen HY로서 구입할 수 있다. 클라리언트(Clariant))이다.

상기 양이온성 계면활성제 화합물의 임의의 혼합물도 적합할 수 있다.

본 발명의 샴푸 조성물 중의 양이온성 계면활성제의 총량(샴푸 조성물의 소수성 성분에 대한 유화제로서 존재할 수 있는 것을 포함)은 샴푸 조성물의 총 중량을 기준으로 하여 일반적으로 0.05 내지 10%, 바람직하게는 0.1 내지 7.5%, 보다 바람직하게는 0.25 내지 5%이다.

유화된 양이온성 실리콘 입자

본 발명의 샴푸 조성물은 유화된 양이온성 실리콘 입자를 포함한다.

본 명세서에서 사용되는 용어 "유화된 양이온성 실리콘 입자"는 (a) 양이온성 성질을 제공하는 양전하가 실리콘 입자 자체에 존재하는 물질 및 (b) 실리콘 입자가 자체 전하와는 상관 없이 샴푸 조성물에 혼입되기 전에 양이온성 유화제로 유화된 물질을 의미한다.

본 발명의 샴푸 조성물 중의 실리콘 입자는 샴푸 조성물 중에서 평균 실리콘 입자 크기가 적합하게는 30미크론 미만, 바람직하게는 20미크론 미만, 보다 바람직하게는 10미크론 미만일 것이다. 가장 바람직하게는 샴푸 조성물 중의 평균 실리콘 입자 크기는 2미크론 미만, 이상적으로는 0.01 내지 0.5미크론의 범위이다.<0.15미크론의 평균 실리콘 입자 크기를 갖는 실리콘 에멀젼이 일반적으로 미세에멀젼으로 지칭된다.

입자 크기는 맬번 인스트루먼트(Malvern Instruments)의 2600D Particle Sizer를 사용하는 레이저 광산란 기술에 의해 측정될 수 있다.

양이온성 성질을 제공하는 양전하가 실리콘 입자 자체에 존재하는 물질의 적합한 예는 아미노 작용기화 실리콘을 포함한다.

"아미노 작용기화 실리콘"은 1개 이상의 1차, 2차 또는 3차 아민기, 또는 4급 암모늄기를 포함하는 실리콘을 의미한다.

예를 들면 다음과 같다:

(i) CTFA 명칭 "아모디메티콘" 및 하기 화학식을 갖는 폴리실록산:

HO-[Si(CH₃)₂-O-]_x-[Si(OH)(CH₂CH₂CH₂-NH-CH₂CH₂NH₂)-O-]_y-H

상기 화학식에서, x 및 y는 중합체의 분자량에 의존하는 수인데, 일반적으로 분자량이 약 5,000 내지 500,000이도록 하는 수이다.

(ii) 하기 화학식을 갖는 폴리실록산:

R'_aG_3-a-Si(OSiG₂)_n-(OSiG_bR'_2-b)_m-O-SiG_3-a-R'_a

상기 화학식에서:

G는 H, 페닐, OH 또는 C_1-8알킬로부터 선택되고, 예를 들면 메틸이고;

a는 0 또는 1 내지 3의 정수, 바람직하게는 0이고;

b는 0 또는 1, 바람직하게는 1이고;

m 및 n은 (m+n)이 1 내지 2,000, 바람직하게는 50 내지 150의 범위일 수 있는 수이며;

m은 1 내지 2,000, 바람직하게는 1 내지 10의 수이고;

n은 0 내지 1,999, 바람직하게는 49 내지 149의 수이며;

R'는 화학식 -C_qH_2qL(여기에서, q는 2 내지 8의 수이고, L은 하기:

-NR''-CH₂-CH₂-N(R'')₂

-N(R'')₂

-N⁺(R'')₃A^-

-N⁺H(R'')₂A^-

-N⁺H₂(R'')A^-

-N(R'')-CH₂-CH₂-N⁺H₂(R'')A^-

(상기 화학식에서, R''는 H, 페닐, 벤질 또는 포화 1가 탄화수소 라디칼, 예를 들면 C_1-20알킬로부터 선택된다)로부터 선택되는 아미노 작용기이다)의 1가 라디칼이고,

A는 할라이드 이온, 예를 들면 클로라이드 또는 브로마이드이다.

상기 화학식에서 해당하는 적합한 아미노 작용기화 실리콘은 하기에 표시되며 본 발명의 샴푸 조성물에 유용하도록 충분하게 수불용성인 "트리메틸실릴아모디메티콘"으로 지칭되는 폴리실록산을 포함한다:

Si(CH₃)₃-O-[Si(CH₃)₂-O-]_x-[Si(CH₃)(R-NH-CH₂CH₂NH₂)-O-]_y-Si(CH₃)₃

상기 화학식에서, x+y는 약 50 내지 약 500의 수이고, 여기에서 R은 탄소수 2 내지 5의 알킬렌기이다. 바람직하게는, x+y는 약 100 내지 약 300의 범위이다.

(iii) 하기 화학식을 갖는 4급 실리콘 중합체:

{(R¹)(R²)(R³)N⁺CH₂CH(OH)CH₂O(CH₂)₃[Si(R⁴)(R⁵)-O-]_n-Si(R⁶)(R⁷)-(CH₂)₃-O-CH₂CH(OH)CH₂N⁺(R⁸)(R⁹)(R¹⁰)}(X^-)₂

상기 화학식에서, R¹및 R¹⁰은 동일하거나 상이할 수 있으며, 독립적으로 H, 포화 또는 불포화 장쇄 또는 단쇄 알킬(알케닐), 분지쇄 알킬(알케닐) 및 C₅-C₈고리계로부터 선택될 수 있고;

R²내지 R⁹는 동일하거나 상이할 수 있으며, 독립적으로 H, 직쇄 또는 분지쇄 저급 알킬(알케닐) 및 C₅-C₈고리계로부터 선택될 수 있고;

n은 약 60 내지 약 120 범위 내의 수이고, 바람직하게는 약 80이며;

X^-는 바람직하게는 아세테이트이나, 예를 들면 할라이드, 유기 카르복실레이트, 유기 술포네이트 등일 수 있다.

이러한 부류의 적합한 4급 실리콘 중합체는 제 EP-A-0 530 974 호에 기술되어 있다.

본 발명의 샴푸 조성물에 사용하기에 적합한 아미노 작용기화 실리콘은 전형적으로 약 0.1 내지 약 8.0몰%, 바람직하게는 약 0.1 내지 약 5.0몰%, 가장 바람직하게는 약 0.1 내지 약 2.0몰% 범위의 아민 작용가를 가질 것이다. 일반적으로 아민 농도는 약 8.0몰%를 초과하지 않아야 한다.

아미노 작용기화 실리콘의 점도는 적합하게는 약 100 내지 약 500,000cst 범위일 수 있다.

본 발명의 샴푸 조성물에 사용하기에 적합한 아미노 작용기화 실리콘의 구체적인 예는 아미노실리콘유 DC2-8220, DC2-8055, DC2-8162, 및 DC2-8950-114(모두 다우 코닝(Dow Corning)) 및 GE 1149-75(제너럴 일렉트릭 실리콘(General Electric Silicones))이다.

비이온성 및(또는) 양이온성 유화제를 사용한 아미노 작용기화 실리콘의 미리 형성된 에멀젼이 또한 적합하다.

아미노 작용기화 실리콘의 미리 형성된 에멀젼은 다우 코닝 및 제너럴 일렉트릭과 같은 실리콘유 공급자로부터 구입할 수 있다. 구체적인 예는 DC929 Cationic Emulsion, DC939 Cationic Emulsion, DC949 Cationic Emulsion과 에멀젼 DC2-7224 및 DC2-8154(모두 다우 코닝)를 포함한다.

본 발명에 유용한 4급 실리콘 중합체의 예는 K3474(골드 슈미트(Goldschmidt))이다.

상기한 바와 같이, 실리콘 입자가 자체 전하와는 상관 없이 샴푸 조성물 내로 혼입되기 전에 양이온성 유화제로 유화된 물질 또한 본 발명의 샴푸 조성물에 사용되기에 적합하다.

상기 물질의 예를 들면, 양이온성 계면활성제(예컨대 세틸트리메틸암모늄 클로라이드 및(또는) 탈로우트리메틸암모늄 클로라이드)를 사용한 비이온성 실리콘(예컨대 CTFA 명칭이 "디메티콘"인 폴리디메틸실록산 및(또는) CTFA 명칭이 "디메티코놀"인 히드록실 작용기화 폴리디메틸실록산)의 미리 형성된 에멀젼 등이 있다.상업적으로 구입할 수 있는 적합한 것의 예를 들면 다우 코닝사의 에멀젼 DC1669이다.

상기 유형들의 실리콘의 임의의 혼합물이 또한 적합할 수 있다.

본 발명의 샴푸 조성물 중의 유화된 양이온성 실리콘 입자의 총량은 샴푸 조성물의 총 중량을 기준으로 하여 일반적으로 0.01 내지 10%, 바람직하게는 0.05 내지 7.5%, 보다 바람직하게는 0.1 내지 5%이다.

명백하게, 본 발명은 양이온성 실리콘 입자의 미리 형성된 에멀젼에 유화제로서 사용된 양이온성 계면활성제로부터 유도되는 양이온성 계면활성제가 존재하는 유일한 양이온성 계면활성제인 샴푸 조성물은 포함하지 않는다. 예비-에멀젼으로부터 유도된 양이온성 계면활성제가 존재할 때, 본 발명의 효과를 달성하기 위해 추가의 양이온성 계면활성제가 본 발명의 조성물 내에 포함되어야 한다. 게다가, 예비-에멀젼으로부터 유도된 양이온성 계면활성제가 존재할 때, "추가"의 양이온성 계면활성제의 양은 존재하는 전체 양이온성 계면활성제의 바람직하게는 50중량% 이상, 보다 바람직하게는 75중량% 이상, 보다 더 바람직하게는 90중량% 이상이다.

선택 성분

양이온성 중합체가 본 발명의 샴푸 조성물 중의 바람직한 선택 성분이다. "양이온성 중합체"는 4급 암모늄 또는 양성자화 아미노기 또는 그의 혼합물과 같은 양이온성 질소 함유기를 가지나, 규소 원자는 포함하지 않는 중합체를 의미한다.

양이온성 중합체는 단독중합체이거나 2개 이상 유형의 단량체로부터 형성될 수 있다. 중합체의 분자량은 일반적으로 5,000 내지 10,000,000, 전형적으로는10,000이상, 바람직하게는 100,000 내지 약 2,000,000의 범위일 것이다.

양이온성 질소 함유기는 일반적으로 양이온성 중합체의 전체 단량체 단위 중 일정 분량의 단량체 상의 치환기로서 존재할 것이다. 그래서 중합체가 단독중합체가 아닐 때는 스페이서로 비양이온성 단량체 단위를 포함할 수 있다. 상기 중합체는 문헌[CTFA Cosmetic Ingredient Directory, 3판]에 기술되어 있다. 양이온성 단량체 대 비양이온성 단량체 단위의 비는 요구되는 범위의 양이온 전하 밀도를 갖는 중합체가 얻어지도록 선택된다. 적합한 양이온성 중합체는, 예를 들면 양이온성 아민 또는 4급 암모늄 작용기를 갖는 비닐 단량체와 수용성 스페이서 단량체, 예컨대 (메트)아크릴아미드, 알킬 및 디알킬 (메트)아크릴아미드, 알킬 (메트)아크릴레이트, 비닐 카프로락톤 및 비닐 피롤리딘과의 공중합체를 포함한다. 알킬 및 디알킬 치환 단량체는 바람직하게는 C1-C7알킬기, 보다 바람직하게는 C1-C3알킬기를 갖는다. 기타 적합한 스페이서는 비닐 에스테르, 비닐 알콜, 말레산 무수물, 프로필렌 글리콜 및 에틸렌 글리콜 등이다.

양이온성 아민은 조성물의 구체적인 종류 및 pH에 따라서 1차, 2차 또는 3차 아민일 수 있다. 일반적으로 2차 및 3차 아민, 특히 3차가 바람직하다.

아민 치환 비닐 단량체 및 아민은 아민 형태로 중합시킨 다음 4급화에 의해 암모늄으로 전환시킬 수 있다.

양이온성 중합체는 아민- 및(또는) 4급 암모늄 치환 단량체 및(또는) 상용성이 있는 스페이서 단량체로부터 유도된 단량체 단위의 혼합물을 포함할 수 있다.

적합한 양이온성 중합체는, 예를 들면 다음을 포함한다:

공업적으로 Cosmetic, Toiletry and Fragrance Association(CTFA)에 의해 Polyquaternium-16으로 지칭되는 1-비닐-2-피롤리돈과 1-비닐-3-메틸-이미다졸리움염(예를 들면, 클로라이드 염)의 공중합체. 이 물질은 바스프 위안도트 Corp.(BASF Wyandotte Corp., 미국 뉴저지주 파르시패니)로부터 상표명 LUVIQUAT(예를 들면, LUVIQUAT FC370)으로 상업적으로 구입할 수 있다;

공업적으로(CTFA) Polyquaternium-11로 지칭되는 1-비닐-2-피롤리딘과 디메틸아미노에틸 메타크릴레이트의 공중합체. 이 물질은 가프 코포레이션(GAF Corporation, 미국 뉴저지주 웨인)으로부터 상표명 GAFQUAT(예를 들면, GAFQUAT 755N)으로 상업적으로 구입할 수 있다;

양이온성 디알릴 4급 암모늄 함유 중합체, 예를 들면 공업적으로(CTFA) 각각 Polyquaternium 6 및 Polyquaternium 7로 지칭되는 디메틸디알릴암모늄 클로라이드 단독중합체 및 아크릴아미드와 디메틸디알릴암모늄 클로라이드의 공중합체;

탄소수 3 내지 5의 불포화 카르복실산의 단독- 및 공중합체의 아미노-알킬 에스테르의 무기산염, (미국 특허 제 4,009,256 호에 기술되어 있다);

양이온성 폴리아크릴아미드(제 WO95/22311 호에 기술되어 있다).

사용될 수 있는 기타 양이온성 중합체는 양이온성 폴리사카라이드 중합체, 예컨대 양이온성 셀룰로스 유도체, 양이온성 전분 유도체 및 양이온성 구아 고무 유도체를 포함한다.

본 발명의 조성물에 사용하기에 적합한 양이온성 폴리사카라이드 중합체는 하기 화학식의 것들을 포함한다:

A-O-[R-N⁺(R¹)(R²)(R³)X^-]

상기 화학식에서: A는 무수글루코스 잔기, 예컨대 전분 또는 셀룰로스 무수글루코스 잔기이다. R은 알킬렌, 옥시알킬렌, 폴리옥시알킬렌 또는 히드록시알킬렌기 또는 그의 조합이다. R¹, R²및 R³은 독립적으로 알킬, 아릴, 알킬아릴, 아릴알킬, 알콕시알킬 또는 알콕시아릴기를 나타내고, 각각의 기는 약 18 개까지의 탄소 원자를 포함한다. 각 양이온성 부분의 탄소 원자의 총수(즉, R¹, R²및 R³의 탄소수의 합)는 바람직하게는 약 20 이하이고, X는 음이온성 반대 이온이다.

양이온성 셀룰로스는 공업적으로(CTFA) Polyquaternium 10으로 지칭되는 트리메틸 암모늄 치환 에폭시드와 반응시킨 히드록시에틸 셀룰로스의 염으로서, 아머콜사(Amerchol Corp., 미국 뉴저지주 에디슨)으로부터 Polymer JR(상표명) 및 LR(상표명) 시리즈 중합체로 구입할 수 있다. 또 다른 유형의 양이온성 셀룰로스는 공업적으로(CTFA) Polyquaternium 24로 지칭되는 라우릴 디메틸 암모늄 치환 에폭시드와 반응시킨 히드록시에틸 셀룰로스의 중합체 4급 암모늄 염을 포함한다. 이들 물질은 아머콜사(미국 뉴저지주 에디슨)으로부터 상표명 Polymer LM-200으로 구입할 수 있다.

기타 적합한 양이온성 폴리사카라이드 중합체는 4급 질소 함유 셀룰로스 에테르(예를 들면, 미국 특허 제 3,962,418 호에 기술되어 있다), 및 에테르화 셀룰로스 및 전분의 공중합체(예를 들면, 미국 특허 제 3,958,581 호에 기술되어 있다)를 포함한다.

사용될 수 있는 특히 적합한 유형의 양이온성 폴리사카라이드 중합체는 양이온성 구아 고무 유도체, 예컨대 구아 히드록시프로필트리모늄 클로라이드 (롱-쁠랑(Rhone-Poulenc)으로부터 상표명 JAGUAR 시리즈로 구입할 수 있다)이다.

그 예를 들면, 양이온성기의 치환도가 낮고 고점도를 갖는 JAGUAR C13S, 중간치환도 및 저점도를 갖는 JAGUAR C15, 고치환도 및 고점도를 갖는 JAGUAR C17, 소량의 치환기와 양이온성 4급 암모늄기를 포함하는 히드록시프로필화 양이온성 구아 유도체인 JAGUAR C16, 및 치환도가 낮은 고투명, 중간 점도 구아인 JAGUAR 162이다.

바람직하게는 양이온성 중합체는 양이온성 셀룰로스 및 양이온성 구아 고무 유도체로부터 선택된다.

상기 양이온성 중합체의 임의의 혼합물이 또한 적합할 수 있다.

양이온성 중합체는 샴푸 조성물 총 중량의 일반적으로 약 0.01 내지 약 5%, 바람직하게는 0.01 내지 1%의 양으로 존재할 수 있다.

본 발명의 조성물 중의 양이온성 중합체의 특히 바람직한 양은, 우수한 감각적 성질을 나타내기 때문에 0.05 내지 0.25중량%의 범위이다.

샴푸 조성물은 조성물에 미적, 물리적 또는 세정 특성을 부여하는 것을 돕기 위해 공계면활성제를 선택적으로 포함할 수 있다.

바람직한 예는 샴푸 조성물 총 중량을 기준으로 하여 0 내지 약 8%, 바람직하게는 1 내지 4% 범위의 총량(샴푸 조성물의 소수성 성분에 대한 유화제로서 존재할 수 있는 것을 포함)으로 포함될 수 있는 양쪽성 또는 쯔비터이온성 계면활성제이다.

양쪽성 및 쯔비터이온성 계면활성제의 예는 알킬 아민 옥사이드, 알킬 베타인, 알킬 아미도프로필 베타인, 알킬 술포베타인(술테인), 알킬 글리시네이트, 알킬 카르복시글리시네이트, 알킬 암포프로피오네이트, 알킬 암포글리시네이트, 알킬 아미도프로필 히드록시술테인, 아실 타우레이트 및 아실 글루타메이트를 포함하는데, 여기에서 알킬 및 아실기는 탄소수 8 내지 19이다. 본 발명의 샴푸에 사용하기 위한 전형적인 양쪽성 및 쯔비터이온성 계면활성제는 라우릴 아민 옥사이드, 코코디메틸 술포프로필 베타인 및 바람직하게는 라우릴 베타인, 코카미도프로필 베타인 및 나트륨 코캄포프로피오네이트를 포함한다.

또 하나의 바람직한 예는 샴푸 조성물의 총 중량을 기준으로 하여 0% 내지 약 8%, 바람직하게는 2 내지 5% 범위의 총량(샴푸 조성물의 소수성 성분에 대한 유화제로서 존재할 수 있는 것을 포함)으로 포함될 수 있는 비이온성 계면활성제이다.

예를 들면, 본 발명의 샴푸 조성물에 포함될 수 있는 대표적인 비이온성 계면활성제는 지방족(C₈-C₁₈) 1차 또는 2차 선형 또는 분지쇄 알콜 또는 페놀과, 보통 에틸렌 옥사이드인 알킬렌 옥사이드와의 축합 생성물이고 일반적으로 6 내지 30개의 에틸렌 옥사이드기를 갖는 것을 포함한다.

기타 대표적인 비이온성 계면활성제는 모노- 또는 디-알킬 알칸올아미드를 포함한다. 예를 들면 코코 모노- 또는 디에탄올아미드와 코코 모노-이소프로판올아미드를 포함한다.

본 발명의 샴푸 조성물에 포함될 수 있는 추가의 비이온성 계면활성제는 알킬 폴리글리코시드(APG)이다. 전형적으로 APG는 1개 이상의 글리코실기로 된 블록에 (임의적으로 가교기를 통하여) 연결된 알킬기를 포함하는 것이다. 바람직한 APG는 하기 화학식으로 정의된다:

RO-(G)_n

상기 화학식에서, R은 포화 또는 불포화일 수 있는 분지쇄 또는 직쇄 알킬기이고 G는 사카라이드기이다.

R은 약 C₅내지 약 C₂₀의 평균 알킬 사슬 길이를 나타낼 수 있다. 바람직하게는 R은 약 C₈내지 약 C₁₂의 평균 알킬 사슬 길이를 나타낸다. 가장 바람직하게는 R의 값은 약 9.5 내지 약 10.5이다. G는 C₅또는 C₆모노사카라이드 잔기로부터 선택될 수 있으며, 바람직하게는 글루코시드이다. G는 글루코스, 자일로스, 락토스, 프럭토스, 만노스 및 그의 유도체를 포함하는 군으로부터 선택될 수 있다. 바람직하게는 G는 글루코스이다.

중합도 n은 약 1 내지 약 10 이상의 값을 가질 수 있다. 바람직하게는, n의 값은 약 1.1 내지 약 2의 범위이다. 가장 바람직하게는 n의 값은 약 1.3 내지 약 1.5의 범위이다.

본 발명에 사용하기에 적합한 알킬 폴리글리코시드는 상업적으로 구입할 수 있으며 상표명: Oramix NS10, 세픽(Seppic); Plantaren 1200 및 Plantaren 2000,헨켈(Henkel)의 물질을 포함한다.

본 발명의 샴푸 조성물에 포함될 수 있는 기타 당-유도 비이온성 계면활성제는 C₁₀-C₁₈N-알킬(C₁-C₆)폴리히드록시 지방산 아미드, 예컨대 제 WO 92 06154 호 및 미국 특허 제 5 194 639 호에 기술되어 있는 C₁₂-C₁₈N-메틸 글루카미드 및 N-히드록시 폴리히드록시 지방산 아미드, 예컨대 C₁₀-C₁₈N-(3-메톡시프로필)글루카미드를 포함한다.

기타 선택 성분

본 발명의 샴푸 조성물은 샴푸 조성물에 통상적으로 사용되는 임의의 기타 성분을 포함할 수 있다. 이들 기타 성분은 점도 변형제, 보존제, 착색제, 폴리올, 예컨대 글리세린 및 폴리프로필렌 글리콜, 킬레이트제, 예컨대 EDTA, 항산화제, 예컨대 비타민 E 아세테이트, 향료, 항균제 및 햇볕차단제를 포함할 수 있다. 이들 성분 각각은 그의 목적을 달성할 수 있는 양으로 존재할 것이다. 일반적으로 이들 선택 성분 각각은 총 조성물 중량의 약 5% 까지의 양으로 포함된다.

본 발명은 하기 비제한적 실시예에 의해 더 설명되는데, 모든 백분율은 특별한 언급이 없으면 총 중량을 기준으로 한다.

하기 표에 기재된 성분을 갖는 샴푸 배합물을 제조했다. 비교예 A 및 B는 비교예이다. 실시예 1 및 2는 본 발명에 따른 실시예이다.

성분	대조용	비교예 A	비교예 B	실시예 1	실시예 2
나트륨 라우레트 술페이트	16	16	16	16	16
코코 아미도프로필 베타인	2	2	2	2	2
Jaguar C13S	0.1	0.1	0.1	0.1	0.1
디메티콘 에멀젼	2	-	-	-	-
양이온성 아모디메티콘 에멀젼	-	2	-	-	-
양이온성 디메티콘 에멀젼	-	-	2	2	2
라우릴 트리메틸 암모늄 클로라이드	-	-	-	2	3
물	충분량

시험 방법

상업적으로 구입할 수 있는 코코넛 기름과 광유의 블렌드로 모발 스위치 가닥에 기름을 발랐다. 정해진 양의 시험 배합물을 기름 바른 모발 끝에 적용한 후에 보통의 방법으로 세척하고 헹구었다. 건조되면 약간 훈련받은 평가단이 스위치의 여러가지 성질에 대하여 분석하고 점수(0-100)를 매기도록 하였다.

평가 결과

등급 점수를 하기 표에 설명된 성질에 대하여 기록했다.

"콘디쇼닝"은 용이한 빗질과 매끄러운 느낌의 척도이다.

"청결/윤기"는 청결감, 청결 외관, 밝기 및 대조의 척도이다.

유의성 수준은 다음과 같이 나타낸다:

* p<0.05

** p<0.01

*** p<0.001

성질	비교예 A	대조용 1	유의성 수준
콘디쇼닝	77	55	***
청결/윤기	64	67

성질	비교예 B	대조용	유의성 수준
콘디쇼닝	84	55	***
청결/윤기	64	64

성질	실시예 1	대조용	유의성 수준
콘디쇼닝	86	64	***
청결/윤기	73	66

성질	실시예 4	대조용	유의성 수준
콘디쇼닝	73	63	*
청결/윤기	66	40	***

결론

결과는 본 발명에 따른 실시예(실시예 1 및 2)에서 콘디쇼닝 및 청결/윤기 모두가 대조용에 비하여 개선되었다는 것을 보여준다. 대조적으로, 비교예(비교예 A 및 B)의 경우, 콘디쇼닝은 대조용에 비하여 개선되었으나 청결/윤기는 대조용에 비하여 개선되지 않았음을 보여준다.

Claims

물에 더하여:

i) 음이온성 계면활성제;

ii) 양이온성 계면활성제; 및

iii) 유화된 양이온성 실리콘 입자

를 포함하는 수성 샴푸 조성물.
제 1 항에 있어서, 상기 음이온성 계면활성제가 나트륨 라우릴 술페이트, 나트륨 라우릴 에테르 술페이트(n)EO(여기에서, n은 1 내지 3의 범위임), 암모늄 라우릴 술페이트 및 암모늄 라우릴 에테르 술페이트(n)EO(여기에서, n은 1 내지 3의 범위임) 및 그의 혼합물로부터 선택된 것인 샴푸 조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 양이온성 계면활성제가 알킬 사슬 길이가 C8 내지 C14인 모노알킬 4급 암모늄 화합물인 샴푸 조성물.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 유화된 양이온성 실리콘 입자가 비이온성 및(또는) 양이온성 계면활성제를 사용한 아미노 작용기화 실리콘의 미리 형성된 에멀젼으로서 샴푸 조성물에 첨가되는 샴푸 조성물.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 유화된 양이온성 실리콘 입자가 양이온성 계면활성제를 사용한 히드록실 작용기화 실리콘의 미리 형성된 에멀젼으로서 샴푸 조성물에 첨가되는 샴푸 조성물.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 샴푸 조성물 중의 평균 실리콘 입자 크기가 2 미크론 미만, 바람직하게는 0.01 내지 0.5미크론인 샴푸 조성물.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 양이온성 셀룰로스, 양이온성 구아 고무 유도체 및 그의 혼합물로부터 선택된 양이온성 중합체를 더 포함하는 샴푸 조성물.