KR20050046572A - 편광광학소자와 그 연속적 제조방법, 및 이편광광학소자를 이용한 반사광학소자 - Google Patents

편광광학소자와 그 연속적 제조방법, 및 이편광광학소자를 이용한 반사광학소자 Download PDF

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Abstract

가시광 영역으로부터 적외광 영역까지 사용할 수 있는 그리드(grid)형의 편광광학소자 및 그 연속적 제조방법 및 편광소자를 제공한다.
폴리프로필렌 필름을 롤(12), 제 1 항온조(13), 롤(12')에 의해 4배로 1축 연신하고, 그 후 진공 증착조(14)에서 알루미늄 금속을 10㎚의 두께로 증착하고, 추가로 롤(15), 제 2항온조(16), 롤(15')로 2배로 1축 연신함과 동시에, 폴리프로필렌 필름을 부분적으로 결정화시켰다. 이때, 알루미늄 금속은 거의 균질하게 연신방향과는 직각방향으로 갈라졌다. 그 후, 이 필름을 제 3항온조(17)에서 열처리한 후, 권취롤(18)로 권취하였다.
얻어진 필름형상의 편광광학소자의 적외선 파장 1㎛~10㎛영역에 있어서의 편광률은 99.5%이고, 광투과율은 90%이었다. 또, 이 필름(2) 2장을 직교시켜서 적외선의 반사율을 측정한 바, 99.9% 이상이었다.

Description

편광광학소자와 그 연속적 제조방법, 및 이 편광광학소자를 이용한 반사광학소자{POLARIZING OPTICAL DEVICE, ITS CONTINUOUS MANUFACTURING PROCESS AND REFLECTIVE OPTICAL DEVICE USING IT}
본 발명은 편광광학소자와 그 연속적 제조방법, 및 이 편광광학소자를 이용한 반사광학소자에 관한 것으로, 특히 고분자의 고차구조 제어에 의해 그 표면 또는 내부에 수 ㎚로부터 수10 ㎛폭으로, 길이가 수10 ㎚로부터 수 ㎜의 이방형 도전성물질을 형성한 가시영역으로부터 적외영역까지 사용가능한 그리드형의 편광광학소자와 그 연속적 제조방법, 및 이 편광광학소자를 이용한 반사광학소자에 관한 것이다.
필름형상의 편광광학소자의 제작방법은 현재까지 3종류의 방법이 알려져 있다. 제 1방법은, 하기 특허문헌 1에 개시되어 있는 바와 같이, 연신된 폴리비닐 알콜(PVA)필름 안에 요소와 같은 이색성색소를 도프하는 방법이다. 이 방법은 요소착체 등의 이색성물질을 흡착시킨 PVA 필름을 회전하는 롤러 사이를 통과하고, 가열하면서 1축연신하여, PVA분자를 배향시킴과 동시에 요소착체도 배향시키는 것이다. 이러한 구성의 필름형상의 편광광학소자는 필름의 연신방향에 직교하는 진동면을 갖는 광은 투과하지만, 필름의 연신방향과 평행한 진동면을 갖는 광은 흡수되어 소실되기 때문에, 이 필름형상의 편광광학소자를 2장 겹치면 모든 진동면의 빛이 흡수 되어버려서 검게 보인다. 이 제 1방법에 의해 제조된 편광광학소자는 저가이고, 소광비가 우수하며 또, 필름형상으로 임의의 크기의 것을 제조할 수 있으므로, 현재의 액정표시장치 등에 있어서 폭넓게 사용되고 있지만, 사용영역은 거의 가시영역으로 제한되어 있다.
제 2필름형상의 편광광학소자의 제작방법은, 하기 특허문헌 2에 개시되어 있는 바와 같이, 2종류의 고분자 또는 무기미립자를 고분자에 분산해서, 1축연신 처리하는 방법이다. 예를 들어, 연신방향으로 혼합한 물질의 굴절률을 일치시키고, 그 수직방향으로 가능한 한 큰 굴절률차△n을 발생하도록 하는 방법이다. 이 경우, 상술한 방법과는 역으로 연신방향으로 굴절률차△n을 크게 해서, 그 수직방향의 굴절률차△n=0으로 해도 된다. 어느 경우에 있어서도, 한쪽 방향의 굴절률차△n을 가능한 한 크게 해서, 0.5이상으로 하고, 다른 방향의 굴절률차△n을 0으로 하면 이상적이지만, 이 조건을 찾는 것이 극히 곤란하다. 때문에, 이 제 2제작방법에 의한 편광광학소자는, 작은 면적의 편광광학소자를 만드는 것은 가능하지만, 국소적으로 연신배율이 조금이라도 다르면, 그 부분의 굴절률차△n이 다른 부분과는 달라져 버리기 때문에 편광기능이 약해진다. 또, 소정의 편광성능을 얻기 위해서는 어느 정도 두껍게 할 필요가 있기 때문에, 박막화한 고성능 편광광학소자를 얻기에는 곤란이 따른다.
또, 제 3필름형상의 편광광학소자 제조방법은, 가는 철사의 간격을 편광시키고자 하는 파장이하로 갖춤으로써 편광성을 얻는 방법이다. 이 방법에 의한 편광광학소자는, 그리드형 편광광학소자라고 불리는 것으로, 가는 철사의 간격d가 광의 파장λ보다도 충분히 짧은 간격, 구체적으로는 d<λ/2의 간격으로 등간격으로 배치되어 있는 경우에 편광광학소자로서의 작용을 나타낸다. 이 형식의 편광광학소자는 금속선의 길이방향과 같은 진동면을 갖는 광을 반사하고, 그 직각방향과 같은 진동면을 갖는 광을 투과하는 기능을 갖고 있다. 따라서, 이 그리드형 편광광학소자는 상기 제 1필름형상의 편광광학소자와는 동작원리가 완전히 다르고, 그리드형 편광광학소자를 2장 직교시켜서 겹치면 모든 진동면의 입사광을 반사하므로, 실질적으로 거울처럼 작용한다. 이 그리드형 편광광학소자는 광의 투과율을 향상시킬 수 있지만, 도전성의 가는 철사 및 그 간격을 편광시켜야 할 파장이하로 갖추지 않으면 안된다. 그로 인해, 종래는 파장이 긴 적외광 등에 사용되고 있고, 가시광의 편광에는 무리가 있기 때문에, 거의 사용되고 있지 않았다.
이와 같은 그리드형 편광광학소자의 일례로서, 하기 특허문헌 3에는 유전체 중에 또는 유전체표면 상에 금속이 격자형태로 분포하는 구조의 그리드형 편광광학소자에 있어서, 2개의 유전체 사이에 금속을 격자형태로 개재시켜서 일체화시킨 후, 상기 금속격자 전체를 직선방향으로 가열연신 또는 압연해서 제조하는 그리드형 편광광학소자의 제조방법이 개시되어 있다.
그러나, 하기 특허문헌 3에 개시되어 있는 그리드형 편광광학소자의 제조방법은, 금속이 늘어나는 온도까지 가열할 필요가 있기 때문에 고분자물질을 유전체로 하는 경우, 이 온도에서는 고분자물질이 융액상태로 되거나 또는 분리되어 버리므로, 편광광학소자를 제작하는 것이 불가능하고, 또 큰 면적으로 만드는 것은 실질적으로 곤란하다.
또, 하기 특허문헌 4에는 투명하고 유연한 기판 상에 금속막을 형성하고, 금속막의 융점이하로 기판과 금속막을 연신함으로써, 이방적인 형상을 갖는 금속부분과 유전체부분으로 이루어지는 구조를 형성한 그리드형 편광광학소자가 개시되어 있다.
그러나, 하기 특허문헌 4에 개시되어 있는 그리드형 편광광학소자의 제조방법에 의하면, 투명하고 유연한 기판은 연신에 의해 균일하게 연신되기 때문에, 이 기판 상의 금속박막에도 평균적인 연신력이 걸리므로, 금속막으로 형성된 금속세선(細線)이 광의 파장 오더(order)의 간격으로 규칙적으로 나열되어 있는 것은 아니다. 즉, 금과 같이 연전성(延展性)이 좋은 금속을 사용한 경우, 이 금속은 기판과 함께 늘어나 버리므로 여전히 기판을 덮고 있으며, 한편, 알루미늄과 같이 연전성이 그다지 없는 금속을 사용한 경우에는 불규칙하게 균열이 생기거나, 기판으로부터 금속이 벗겨져서 떨어져버리므로, 거의 편광효과는 얻을 수 없다는 문제점이 존재하고 있다.
또, 최근에 이르러서, 하기 특허문헌 5에 개시되어 있는 바와 같이 유리판 상에 포토레지스트를 이용해서 가는 홈을 만들고, 이것에 금속을 증착함으로써 가시광역의 편광광학소자로 하는 방법도 발표되어 있지만, 이 방법으로는 제조과정이 복잡해지므로, 고가가 되는 이외에도 실용상 5㎠이상의 큰 면적으로 만드는 것은 불가능하다.
따라서, 상술한 바와 같은 그리드형 편광광학소자의 제조방법으로는 최대로 수㎠의 것 밖에 얻지 못하고 그 이상의 큰 면적을 갖는 필름형상의 그리드형 편광광학소자를 얻을 수 없었다. 그 때문에 가시광 영역으로부터 적외광 영역에 걸쳐서 편광효과를 향상시킨 사용파장의 1/10정도의 폭, 즉 수10 ㎚에서 수 ㎛의 폭으로, 사용파장의 10배 이상 길이, 즉 수100 ㎚에서 수100 ㎛의 길이를 갖는 도전체와 유전체가 교대로 배치된 구조를 갖고, 큰 면적으로 필름형상의 그리드형 편광광학소자 및 그 저가의 제조법의 개발이 강하게 요구되고 있다.
[특허문헌1]
특허공개 평05-019247호 공보 (단락 [0008])
[특허문헌2]
특허공개 2002-022966호 공보(특허청구의 범위, 단락 [0033]∼[0043])
[특허문헌3]
특허공개 평9-090122호 공보 (특허청구의 범위, 단락 [0011]∼[0021]], 도 1)
[특허문헌4]
특허공개2001-074935호 공보 (특허청구의 범위, 단락 [0010]∼[0014], 도 1, 도 2)
[특허문헌5]
특표2003-529680호 공보 (특허청구의 범위)
본 발명자는 상술한 바와 같은 종래의 그리드형 편광광학소자의 제조상의 문제점을 극복하고, 고성능으로, 큰 면적이면서도, 저가로 제조할 수 있는 그리드형의 편광광학소자의 연속적 제조방법을 제공하고자, 여러 가지 검토를 반복한 결과, 롤 기술을 이용하여, 고분자 필름의 마이크로 구조를 제어함으로써, 광 또는 전파의 파장 이하의 폭을 갖는 도전성 세선을 광 또는 전파의 파장보다도 충분히 작은 간격으로 나열할 수 있는 것을 발견해 내고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
즉, 본 발명 제 1목적은, 가시광 영역으로부터 적외광 영역의 파장의 광에 사용할 수 있는, 고성능으로, 큰 면적이면서도, 저가로 제조할 수 있는 그리드형의 편광광학소자를 제공하는 것이다.
또, 본 발명의 제 2목적은, 롤 연신기술을 구사한 상기 그리드형 편광광학소자의 연속적 제조법을 제공하는 데 있다.
또, 본 발명의 제 3목적은, 상기 그리드형 편광광학소자를 복합화한 가시광 영역이나 적외광 영역으로부터 밀리파, 마이크로파까지의 넓은 파장대역폭에 있어서의 그리드형 반사광학소자를 제공하는 데 있다.
본 발명의 상기 제 1목적은 이하의 구성에 의해 달성할 수 있다. 즉, 본 발명의 청구항 1에 기재된 편광광학소자의 발명은, 하기 (1) 또는 (2)의 고차구조를 갖는 필름의 한쪽면 또는 양면의 전면에 도전성 박막을 형성하여 얻어진 복합막을 추가로 연신한 후에 열고정하여 얻어진, 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조가 형성되어 있고, 이 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 짧고, 긴 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 길게 되어 있는 편광광학소자인 것을 특징으로 한다.
(1) 결정성 고분자를 그의 융점 이하 글라스 전이점 이상의 온도에서 연신 열처리하여 얻어진 결정부 및 비결정부가 교대로 이어지는 고차구조를 갖는 필름.
(2) 하기 (a)∼(c)로부터 선택된 하기 A상 및 B상이 연신방향으로 교대로 이어지는 고차구조를 갖는 필름.
(a) 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 연신하여 얻어진 필름.
(b) 부분적 상용계의 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 폴리머 블렌드를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 연신하여 얻어진 필름.
(c) 결정성 또는 액정성 폴리머 A 및 비결정성 폴리머 B로 구성되는 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 융점과 각각의 글라스 전이점 사이의 온도대역에서 연신하여 얻어진 필름.
이 경우, 상기 (1)의 결정성 고분자를 그의 융점 이하 글라스 전이점 이하의 온도로 연신 열처리해서 얻어진 결정부 및 비결정부가 교대로 이어지는 고차구조를 갖는 필름 또는 상기(2)의 A상 및 B상이 연신방향으로 교대로 이어지는 고차구조를 갖는 필름은, 미세한 결정부 및 비결정부 내지는 A상 및 B상이 균일하게 분산되어 있기 때문에, 양 필름의 표면 전면에 도전성 박막을 형성해서 얻어진 복합막을 추가로 연신처리한 경우, 결정부와 비결정부 내지는 A상과 B상의 연신성이 달라져 있기 때문에, 각각의 표면에 형성되어 있는 도전성 박막은 규칙적으로 갈라져서, 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조가 형성된다. 이 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조가, 짧은 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 짧고, 긴 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 길게 되어 있으면, 양호한 편광광학소자가 된다. 또, 상기 연신처리 후의 열고정은, 늘어난 필름이 원상태로 되돌아가지 않도록 하여 전체의 치수 안정성을 향상시키기 위해 행해지는 것이다.
또, 본원의 상기 제 1목적은 이하의 구성에 의해서도 달성할 수 있다. 즉, 본원의 청구항 2에 기재된 편광광학소자의 발명은, 하기 (1) 또는 (2)의 고차구조를 갖는 필름의 한쪽면 또는 양면에 화학적 석출법에 의해서, 하기 결정부 및 비결정부의 어느 한쪽 또는 하기 A상 및 B상의 어느 한쪽에 선택적으로 도전성 물질을 형성하고, 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조가 형성되어 있고, 이 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 짧고, 긴 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 길게 되어 있는 편광광학소자인 것을 특징으로 한다.
(1) 결정성 고분자를 그의 융점 이하 글라스 전이점 이상의 온도에서 연신 열처리하여 얻어진 결정부 및 비결정부가 교대로 이어지는 고차구조를 갖는 필름.
(2) 하기 (a)∼(c)로부터 선택된 하기 A상 및 B상이 연신방향으로 교대로 이어지는 고차구조를 갖는 필름.
(a) 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 연신하여 얻어진 필름.
(b) 부분적 상용계의 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 폴리머 블렌드를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 연신하여 얻어진 필름.
(c) 결정성 또는 액정성 폴리머 A 및 비결정성 폴리머 B로 구성되는 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 융점과 각각의 글라스 전이점 사이의 온도대역에서 연신하여 얻어진 필름.
이 경우, 상기 (1)의 결정성 고분자를 그의 융점 이하 글라스 전이점 이상의 온도로 연신 열처리하여 얻어진 결정부 및 비결정부가 교대로 이어지는 고차구조를 갖는 필름 또는 상기(2)의 A상 및 B상이 연신방향으로 교대로 연결되는 고차구조를 갖는 필름은, 이미 미세한 결정부 및 비결정부 내지는 A상 및 B상이 균일하게 분산되어 있으면서도, 결정부 및 비결정부의 연신방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다도 짧고, 결정부 및 비결정부로 형성된 구조의 연신방향과는 직각인 필름면 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다도 긴 고차구조를 갖고 있는 것을 얻을 수 있고, 또, A상 및 B상의 연신방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다도 짧고, A상 및 B상으로 형성된 구조의 연신방향과는 직각인 필름면 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다도 긴 고차구조를 갖는 필름도 얻어진다.
또, 일반적으로 1:1의 A·B형 블록 공중합체는 그 분자량에 따라서 줄무늬 모양의 구조를 형성하는 것은 주지되어 있고, 짧은 방향의 길이는 항상 수 ㎚∼수십 ㎚정도가 된다. 통상적으로, 수 ㎛ 길이의 분자길이를 갖는 블록 공중합체는 곤란하지만, 폴리머 A 또는 B로서 액정성 고분자를 사용하면, 긴 방향은 A4사이즈 이상에 달하는 길이의 구조를 얻을 수 있다.
따라서, 상기 고차구조를 갖는 필름에 화학적 석출방법에 의해 도전성물질을 형성하면, 결정부 또는 비결정부 내지는 A상 또는 B상에 선택적으로 도전성물질이 형성되므로, 양호한 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조를 갖고, 이 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 짧고, 긴 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 길게 되어 있는 편광광학소자가 된다. 또, 상기 도전성물질을 형성한 후, 늘어난 필름이 원상태로 되돌아가지 않도록 열고정하여 전체의 치수안정성을 향상시켜도 된다.
또, 본원의 상기 제 1목적은 이하의 구성에 의해서도 달성될 수 있다. 즉, 본원의 청구항 3에 기재된 편광광학소자의 발명은, 이하의 (1)∼(4)의 공정을 거쳐서 제조된, 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조가 형성되어 있고, 이 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 짧고, 긴 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 길게 되어 있는 편광광학소자인 것을 특징으로 한다.
(1) 하기 (Ⅰ) 또는 (Ⅱ)의 공정에 의해 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정,
(Ⅰ) 결정성 고분자를 그의 융점 이하 글라스 전이점 이상의 온도에서 롤 연신 열처리하여 결정부 및 비결정부가 교대로 이어지는 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정.
(Ⅱ) 하기 (a)∼(c)의 어느 하나의 공정에 의해 하기 A상 및 B상이 연신방향으로 교대로 이어지는 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정.
(a) 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
(b) 부분적 상용계의 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 폴리머 블렌드를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
(c) 결정성 또는 액정성 폴리머 A 및 비결정성 폴리머 B로 구성되는 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 융점과 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
(2) 상기 (1)의 공정에서 얻어진 고차구조를 갖는 필름의 한쪽면 또는 양면의 전면에 도전성 박막을 형성하여 복합막을 얻는 공정.
(3) 상기 (2)의 공정에서 얻어진 복합막을 추가로 롤 연신하는 공정,
(4) 상기 (3)의 공정에서 얻어진 필름의 도전성 부위에 대해서 접착력이 큰 투명 고분자 필름, 혹은 접착제 또는 경화성 점착제를 도포한 투명필름과 접촉시켜서 도전성 부위를 이 투명필름 상에 전사시킨 후에 상기 투명필름을 박리하는 공정.
이 경우, 상기 (1)∼(3)까지의 공정에서는, 상기 청구항 1에 기재된 편광광학소자와 동일하게, 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조가 형성되어 있고, 이 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 짧고, 긴 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 길게 되어 있는 필름이 얻어지지만, 이 필름 상에 형성되어 있는 도전성 부위가 상기 (4)의 공정으로 투명필름에 전사되어, 새롭게 투명필름 상에 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조가 형성되어 있고, 이 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 짧고, 긴 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 길게 되어 있는 편광광학소자가 된다.
또, 본원의 상기 제 1목적은 이하의 구성에 의해서도 달성할 수 있다. 즉, 본원의 청구항 4에 기재된 편광광학소자의 발명은, 이하의 (1)∼(3)의 공정을 거쳐서 제조된, 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조가 형성되어 있고, 이 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 짧고, 긴 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 길게 되어 있는 편광광학소자인 것을 특징으로 한다.
(1) 하기 (Ⅰ) 또는 (Ⅱ)의 공정에 의해 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정,
(Ⅰ) 결정성 고분자를 그의 융점 이하 글라스 전이점 이상의 온도에서 연신 열처리하여 결정부 및 비결정부가 교대로 이어지는 고차구조를 갖는 필름.
(Ⅱ) 하기 (a)∼(c)의 어느 하나의 공정에 의해 하기 A상 및 B상이 연신방향으로 교대로 이어지는 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정.
(a) 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
(b) 부분적 상용계의 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 폴리머 블렌드를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
(c) 결정성 또는 액정성 폴리머 A 및 비결정성 폴리머 B로 구성되는 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 융점과 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
(2) 상기 (1)의 공정에서 얻어진 고차구조를 갖는 필름의 한쪽면 또는 양면에 화학적 석출법에 의해서, 상기 결정부 및 비결정부의 어느 한쪽 또는 상기 A상 및 B상의 어느 한쪽에 선택적으로 도전성 물질을 형성하여 복합막을 얻는 공정,
(3) 상기 (2)의 공정에서 얻어진 필름의 도전성 부위에 대해서 접착력이 큰 투명 고분자 필름, 혹은 접착제 또는 경화성 점착제를 도포한 투명필름과 접촉시켜서 도전성 부위를 이 투명필름 상에 전사시킨 후에 상기 투명필름을 박리하는 공정.
이 경우, 상기 (1)∼(2)까지의 공정에서는, 상기 청구항 2에 기재된 발명과 동일하게, 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조가 형성되어 있고, 이 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 짧고, 긴 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 길게 되어 있는 필름이 얻어지지만, 이 필름 상에 형성되어 있는 도전성부위가 상기 (3)의 공정에서 투명필름에 전사되어, 새롭게 투명필름 상에 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조가 형성되어 있고, 이 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 짧고, 긴 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 길게 되어 있는 편광광학소자가 된다.
상기 청구항 1∼4에 기재되어 있는 편광광학소자에 있어서, 상기 이방적인 도전성 부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이는, 편광시키고자 하는 입사광 파장의 1/20∼1/2의 범위에 있고, 긴 방향의 길이는, 이 입사광 파장의 2배 이상이 되도록 하면 된다. 이 경우, 상기 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이가 1/20 미만이면, 상기 이방적인 도전성부분에 의한 광흡수 내지는 반사가 많아지므로, 광투과율이 악화되기 때문에 바람직하지 않고, 또 1/2을 넘으면 편광특성이 악화된다. 게다가, 상기 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 긴 방향의 길이가 2배 미만이면, 편광특성이 악화되고, 또 긴 방향의 길이는 제조가능한 한 이론적으로는 한계는 없으며, 사용하는 편광광학소자의 사이즈에 따라서 정하면 된다.
편광시키는 입사광이 가시광인 경우는, 파장범위가 약 400㎚∼약 700㎚이기 때문에, 상기 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이를 20㎚∼350㎚의 범위로 하고, 긴 방향의 길이는 800㎚이상으로 하면 편광특성이 좋은 편광광학소자가 된다.
또, 편광시키는 입사광이 적외광인 경우는, 파장범위가 약 700㎚이상이기 때문에, 상기 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이를 35㎚∼1㎛의 범위로 하고, 긴 방향의 길이는 10㎛ 이상으로 하면 편광효율이 좋은 편광광학소자가 된다.
상기 청구항 1 및 3에 기재된 편광광학소자에 있어서의 도전성박막은, 증착법, 무전해 도금법, 화학적 기상성장법, 물리적 기상성장법 등을 채용하는 것이 가능하다. 또, 청구항 2 및 4에 기재된 편광광학소자에 있어서의 도전성박막 형성수단인 화학적 석출법으로서는, 무전해 도금법, 기상석출법 및 액상석출법 등을 채용하는 것이 바람직하다.
상기 이방적인 도전성부분은, 은, 금, 니켈, 크롬, 동 등의 금속 또는 합금, 폴리피롤, 폴리티오펜 등의 도전성 고분자, 사삼산화철 등의 산화물 도전체 등을 채용하는 것이 바람직하다.
상기 편광광학소자는 그 복수 장이 접착재에 의해 또는 열적으로 복합화되어 있어도 된다. 또, 상기 편광광학소자에는, 추가로, 상기 이방적인 도전성부분이 형성되어 있는 표면에 도전성부분의 박리방지기능도 겸비한 유전체 다층막으로 이루어지는 반사방지막이 형성되어 있어도 된다.
또, 본원의 상기 제 2목적은 이하의 구성에 의해 달성할 수 있다. 즉, 본원의 청구항 13에 기재된 편광광학소자의 연속적 제조방법의 발명은, 이하의 (1)∼(3)의 공정으로 이루어지는, 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조가 형성되어 있고, 이 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 짧고, 긴 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 길게 되어 있는 편광광학소자의 연속적 제조방법인 것을 특징으로 한다.
(1) 하기 (Ⅰ) 또는 (Ⅱ)의 공정에 의해 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정,
(Ⅰ) 결정성 고분자를 그의 융점 이하 글라스 전이점 이상의 온도에서 롤 연신 열처리하여 결정부 및 비결정부가 교대로 이어지는 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정.
(Ⅱ) 하기 (a)∼(c)의 어느 하나의 공정에 의해 하기 A상 및 B상이 연신방향으로 교대로 이어지는 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정.
(a) 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
(b) 부분적 상용계의 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 폴리머 블렌드를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
(c) 결정성 또는 액정성 폴리머 A 및 비결정성 폴리머 B로 구성되는 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 융점과 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
(2) 상기 (1)의 공정에서 얻어진 고차구조를 갖는 필름의 한쪽면 또는 양면의 전면에 도전성 박막을 형성하여 복합막을 얻는 공정.
(3) 상기 (2)의 공정에서 얻어진 복합막을 추가로 롤 연신한 후에 열고정하는 공정.
또, 본원의 상기 제 2목적은 이하의 구성에 의해서도 달성할 수 있다. 즉, 본원의 청구항 14에 기재된 편광광학소자의 연속적 제조방법의 발명은, 이하의 (1)∼(2)의 공정으로 이루어지는, 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조가 형성되어 있고, 이 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 짧고, 긴 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 길게 되어 있는 편광광학소자의 연속적 제조방법인 것을 특징으로 한다.
(1) 하기 (Ⅰ) 또는 (Ⅱ)의 공정에 의해 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정,
(Ⅰ) 결정성 고분자를 그의 융점 이하 글라스 전이점 이상의 온도에서 연신 처리하여 얻어진 결정부 및 비결정부가 교대로 이어지고, 결정부 및 비결정부의 연신방향의 길이가 사용광의 파장보다도 짧고, 결정부 및 비결정부로 형성되는 구조의 연신방향과는 직각인 필름면 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다도 긴 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정.
(Ⅱ) 하기 (a)∼(c)의 어느 하나의 공정에 의해 하기 A상 및 B상이 연신방향으로 교대로 이어지고, A상 및 B상의 연신방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다도 짧고, A상 및 B상으로 형성되는 구조의 연신방향과는 직각인 필름면 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다도 긴 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정.
(a) 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
(b) 부분적 상용계의 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 폴리머 블렌드를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
(c) 결정성 또는 액정성 폴리머 A 및 비결정성 폴리머 B로 구성되는 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 융점과 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
(2) 상기 (1)의 공정에서 얻어진 고차구조를 갖는 필름의 한쪽면 또는 양면에 화학적 석출법에 의해, 상기 결정부 및 비결정부의 어느 한쪽 또는 상기 A상 및 B상의 어느 한쪽에 선택적으로 도전성 물질을 형성하여 복합막을 얻는 공정,
또, 본원의 상기 제 2목적은 이하의 구성에 의해서도 달성할 수 있다. 즉, 본원의 청구항 15에 기재된 편광광학소자의 연속적 제조방법의 발명은, 이하의 (1)∼(4)의 공정으로 이루어지는, 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조가 형성되어 있고, 이 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 짧고, 긴 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 길게 되어 있는 편광광학소자의 연속적 제조방법인 것을 특징으로 한다.
(1) 하기 (Ⅰ) 또는 (Ⅱ)의 공정에 의해 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정,
(Ⅰ) 결정성 고분자를 그의 융점 이하 글라스 전이점 이상의 온도에서 롤 연신 열처리하여 결정부 및 비결정부가 교대로 이어지는 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정.
(Ⅱ) 하기 (a)∼(c)의 어느 하나의 공정에 의해 하기 A상 및 B상이 연신방향으로 교대로 이어지는 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정.
(a) 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
(b) 부분적 상용계의 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 폴리머 블렌드를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
(c) 결정성 또는 액정성 폴리머 A 및 비결정성 폴리머 B로 구성되는 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 융점과 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
(2) 상기 (1)의 공정에서 얻어진 고차구조를 갖는 필름의 한쪽 면 또는 양면의 전면에 도전성 박막을 형성하여 복합막을 얻는 공정,
(3) 상기 (2)의 공정에서 얻어진 복합막을 추가로 롤 연신하는 공정,
(4) 상기 (3)의 공정에서 얻어진 필름의 도전성 부위에 대해서 접착력이 큰 투명 고분자 필름, 혹은 접착제 또는 경화성 점착제를 도포한 투명필름과 접촉시켜서 도전성 부위를 이 투명필름 상에 전사시킨 후에 상기 투명필름을 박리하는 공정.
또, 본원의 상기 제 2목적은 이하의 구성에 의해서도 달성할 수 있다. 즉, 본원의 청구항 16에 기재된 편광광학소자의 연속적 제조방법의 발명은, 이하의 (1)∼(3)의 공정으로 이루어지는, 이방적인 도전성 부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조가 형성되어 있고, 이 이방적인 도전성 부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 짧고, 긴 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 길게 되어 있는 편광광학소자의 연속적 제조방법인 것을 특징으로 한다.
(1) 하기 (Ⅰ) 또는 (Ⅱ)의 공정에 의해 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정,
(Ⅰ) 결정성 고분자를 그의 융점 이하 글라스 전이점 이상의 온도에서 연신 열처리하여 얻어진 결정부 및 비결정부가 교대로 이어지고, 결정부 및 비결정부의 연신방향의 길이가 사용광의 파장보다도 짧고, 결정부 및 비결정부로 형성되는 구조의 연신방향과는 직각인 필름면 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다도 긴 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정.
(Ⅱ) 하기 (a)∼(c)의 어느 하나의 공정에 의해 하기 A상 및 B상이 연신방향으로 교대로 이어지고, A상 및 B상의 연신방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다도 짧고, A상 및 B상으로 형성되는 구조의 연신방향과는 직각인 필름면 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다도 긴 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정.
(a) 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
(b) 부분적 상용계의 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 폴리머 블렌드를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
(c) 결정성 또는 액정성 폴리머 A 및 비결정성 폴리머 B로 구성되는 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 융점과 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
(2) 상기 (1)의 공정에서 얻어진 고차구조를 갖는 필름의 한쪽면 또는 양면에 화학적 석출법에 의해서, 상기 결정부 및 비결정부의 어느 한쪽 또는 상기 A상 및 B상의 어느 한쪽에 선택적으로 도전성 물질을 형성하여 복합막을 얻는 공정,
(3) 상기 (2)의 공정에서 얻어진 필름의 도전성 부위에 대해서 접착력이 큰 투명 고분자 필름, 혹은 접착제 또는 경화성 점착제를 도포한 투명필름과 접촉시켜서 도전성 부위를 이 투명필름 상에 전사시킨 후에 상기 투명필름을 박리하는 공정.
또, 본원의 상기 제 2목적은 이하의 구성에 의해서도 달성할 수 있다. 즉, 본원의 청구항 17에 기재된 편광광학소자의 연속적 제조방법의 발명은, 이하의 (1)∼(4)의 공정으로 이루어지는, 이방적인 도전성 부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조가 형성되어 있고, 이 이방적인 도전성 부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이가 사용광의 파장보다 짧고, 긴 방향의 길이가 사용광의 파장보다 길게 되어 있는 편광광학소자의 연속적 제조방법인 것을 특징으로 한다.
(1) 하기 (Ⅰ) 또는 (Ⅱ)의 공정에 의해 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정,
(Ⅰ) 결정성 고분자를 그의 융점 이하 글라스 전이점 이상의 온도에서 연신 열처리하여 얻어진 결정부 및 비결정부가 교대로 이어지고, 결정부 및 비결정부의 연신방향의 길이가 사용광의 파장보다도 짧고, 결정부 및 비결정부로 형성되는 구조의 연신방향과는 직각인 필름면 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다도 긴 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정.
(Ⅱ) 하기 (a)∼(c)의 어느 하나의 공정에 의해 하기 A상 및 B상이 연신방향으로 교대로 이어지고, A상 및 B상의 연신방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다도 짧고, A상 및 B상으로 형성되는 구조의 연신방향과는 직각인 필름면 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다도 긴 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정.
(a) 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
(b) 부분적 상용계의 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 폴리머 블렌드를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
(c) 결정성 또는 액정성 폴리머 A 및 비결정성 폴리머 B로 구성되는 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 융점과 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
(2) 상기 (1)의 공정에서 얻어진 소정 길이의 고차구조를 갖는 필름을 엔드리스로 순환시키는 공정.
(3) 상기 (2)의 공정에 있어서의 순환되고 있는 고차구조를 갖는 필름의 한쪽면 또는 양면에, 화학적 석출법에 의해 상기 A상 및 B상의 어느 한쪽에 선택적으로 도전성 물질을 형성하여 복합막을 얻는 공정.
(4) 상기 (3)의 공정에서 얻어진 복합막의 도전성 부위에 대해서 접착력이 큰 투명 고분자 필름, 혹은 접착제 또는 경화성 점착제를 도포한 투명필름과 접촉시켜서 도전성 부위를 이 투명필름 상에 전사시킨 후에 상기 투명필름을 박리하는 공정.
이 청구항 17에 기재된 편광광학소자의 연속적 제조방법의 경우, 상기 (1)의 공정에서 얻어진 소정 길이의 고차구조를 갖는 필름이 상기 (2)의 공정에서 엔드리스로 순환되고 있고, 이 필름의 표면에 화학적 석출법에 의해 도전성물질을 형성하면, 상기 결정부 또는 비결정부 혹은 A상 또는 B상의 어느 하나에 도전성물질이 피복된 복합막이 얻어지고, 이 복합막 표면의 도전성물질은 상기 (4)의 공정을 거침으로써, 투명필름의 표면에 그대로 전사된다. 따라서, 상기 복합막의 표면에 형성되는 도전성물질은, 이미 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이가 사용광의 파장보다 짧고, 긴 방향의 길이가 사용광의 파장보다 길게 되어 있기 때문에, 얻어진 편광광학소자의 도전성물질도, 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이가 사용광의 파장보다 짧고, 긴 방향의 길이가 사용광의 파장보다 긴 구성을 갖고 있다.
상기 청구항 13∼17에 기재되어 있는 편광광학소자의 연속적 제조방법에 있어서는, 상기 이방적인 도전성 부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이는, 편광시키고자 하는 입사광 파장의 1/20∼1/2의 범위로 하고, 긴 방향의 길이는, 이 입사광 파장의 2배 이상으로 해도 된다. 이 경우, 상기 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이가 1/20 미만이면, 상기 이방적인 도전성부분에 의한 광흡수 내지는 반사가 많아지므로, 광투과율이 악화되기 때문에 바람직하지 않고, 또 1/2을 넘으면 편광효율이 악화된다. 게다가, 상기 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 긴 방향의 길이가 2배 미만이면, 편광효율이 악화되고, 또 긴 방향의 길이는 제작가능한 한 이론적으로는 한계는 없으며, 사용하는 편광광학소자의 사이즈에 따라서 정하면 된다.
편광시키는 입사광이 가시광인 경우는, 파장범위가 약 400㎚∼약 700㎚이기 때문에, 상기 이방적인 도전성부분과 고분자 유연체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이를 20㎚∼350㎚의 범위로 하고, 긴 방향의 길이는 800㎚ 이상이 되도록 하면 편광효율이 좋은 편광광학소자로 할 수 있게 된다.
또, 편광시키는 입사광이 적외광인 경우는, 파장범위가 약 700㎚ 이상이기 때문에, 상기 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이를 35㎚∼1㎛의 범위로 하고, 긴 방향의 길이는 10㎛ 이상으로 하면 편광효율이 좋은 편광광학소자를 제조할 수 있다.
상기 청구항 13 및 15에 기재된 편광광학소자의 연속적 제조방법에 있어서의 도전성박막은, 증착법, 무전해 도금법, 화학적 기상성장법, 물리적 기상성장법 등을 채용할 수 있다. 또, 청구항 14, 16 및 17에 기재된 편광광학소자의 연속적 제조방법에 있어서의 도전성박막 형성수단인 화학적 석출법으로서는, 무전해 도금법, 기상석출법 및 액상석출법 등을 채용하는 것이 바람직하다.
또, 상기 편광광학소자의 연속적 제조방법에 있어서의 이방적인 도전성부분은, 은, 금, 니켈, 크롬, 동 등의 금속 또는 합금, 폴리피롤, 폴리티오펜 등의 도전성 고분자, 사삼산화철 등의 산화물 도전체 등을 채용하는 것이 바람직하다.
상기 편광광학소자는, 그 복수매가 접착재에 의해 또는 열적으로 복합화되어 있어도 된다. 또, 상기 편광광학소자에는, 추가로, 상기 이방적인 도전성부분이 형성되어 있는 표면에 도전성부분의 박리방지기능도 겸비한 유전체 다층막으로 이루어지는 반사방지막이 형성되어 있어도 된다.
또, 본원의 상기 제 3목적은 이하의 구성에 의해 달성할 수 있다. 즉, 본원의 청구항 26∼28에 기재된 반사광학소자의 발명은, 상기 청구항 1∼12의 어느 한 항에 기재된 편광광학소자로 이루어지는 2장의 필름이 각각의 도전성물질이 직교하도록 배치된 구조를 갖는 반사광학소자인 것을 공통의 특징으로 한다.
이 경우, 청구항 1∼12에 기재된 그리드형 편광광학소자는, 도전성부분의 길이방향과 같은 진동면을 갖는 광을 반사해서, 그 직각방향과 같은 진동면을 갖는 광을 투과하는 기능을 갖고 있다. 따라서, 이 청구항 1∼12에 기재된 그리드형 편광광학소자를 2장 직교시켜서 겹치면, 소정의 파장 범위의 모든 진동면의 입사광을 반사해서 실질적으로 거울과 같이 작용하는 반사광학소자가 얻어진다.
이 경우, 상기 청구항 1∼12에 기재된 편광광학소자의 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 치수를 선택함으로써, 가시광, 적외광, 밀리파 및 마이크로파를 반사하도록 할 수도 있고, 혹은 가시광은 투과하고, 적외광, 밀리파 및 마이크로파를 반사하도록 할 수도 있다.
이하, 본 발명을 실시하기 위한 최량의 실시예에 의해 설명한다. 또, 이하에 나타내는 실시예는 본 발명을 이 실시예에 기재한 것으로 특정하는 것을 의도하는 것은 아니며, 본 발명은 특허청구의 범위에 기재된 기술적 범위에 포함되는 것에 똑같이 적용할 수 있는 것이다.
(실시예 1)
실시예 1에서는 도 1에 나타낸 편광광학소자의 연속적 제조장치(10)를 사용해서, 폴리프로필렌 필름의 표면에 증착에 의해 알루미늄 금속을 석출시켜서 필름형상의 편광광학소자를 제조하였다. 먼저, 폴리프로필렌 필름의 공급롤(11)에서 공급된 폴리프로필렌 필름을 롤(12), 제 1항온조(13), 롤(12')을 통과함으로써 4배로 1축연신하였다. 롤(12 및 12')은 그 원주속도의 차를 이용해서 연신하는 1축연신수단이다. 또, 제 1항온조(13)는, 연신조건을 부여하기 위해 설치된 것으로, 여기에서는 100℃로 유지하였다. 그 후, 진공증착조(14)에서, 알루미늄 금속을 100㎚의 두께로 증착하고, 계속해서 롤(15), 120℃로 유지된 제 2항온조(16), 롤(15')을 통과해서 추가로 2배로 1축연신함과 동시에 폴리프로필렌 필름을 부분적으로 결정화시켰다.
이 때, 폴리프로필렌 필름의 결정부와 비결정부는 전체에 걸쳐서 균질하게 분산되어 있으면서도, 결정부와 비결정부는 연신성이 다르기 때문에, 알루미늄 금속은 거의 균질하게 연신방향과는 직각방향으로 갈라졌다. 그 후, 이 알루미늄 금속을 130℃로 유지된 제 3항온조(17)에서 5분간 열처리하여 치수안정성을 부여하고, 권취롤(18)로 권취하였다. 얻어진 필름형상의 편광광학소자의 적외선 파장1㎛~10㎛ 영역에 있어서의 편광율은 99.5%이고, 광투과율은 90%이었다. 또, 이 필름 2장을 직교시켜서 적외선의 반사율을 측정한 바, 99.9% 이상이었다.
(실시예 2)
실시예 2에서는, 도 2에 나타낸 편광광학소자의 연속적 제조장치(20)를 사용해서, 폴리불화 비닐리덴 필름의 표면에 증착에 의해 알루미늄 금속을 석출시켜서 필름형상의 편광광학소자를 제조하였다. 먼저, 폴리불화 비닐리덴 필름의 공급롤(21)에서 공급된 폴리불화 비닐리덴 필름을 롤(22), 60℃로 유지된 제 1항온조(23), 롤(22')을 통과함으로써 5배로 1축연신하고, 그 후, 장력을 유지한 채, 120℃로 유지된 제 2항온조(24)에서 5분간 열처리하여 폴리불화 비닐리덴 필름의 일부를 결정화시켰다.
그 후, 진공증착조(25)에서, 알루미늄 금속을 약 50㎚의 두께로 증착하고, 계속해서, 롤(26), 80℃로 유지된 제 3항온조(27), 롤(26')을 통과해서 추가로 2배로 1축연신한 후, 130℃로 유지된 제 4항온조(28)에서 5분간 열처리하여 치수안정성을 부여하고, 권취롤(29)로 권취하였다. 얻어진 필름형상의 편광광학소자에 관해서 편광성능을 측정한 바, 파장 420㎚내지 700㎚의 가시파장 범위로 소광비 1:300의 편광성능이 얻어졌다.
(실시예 3)
실시예 3에서는, 폴리프로필렌 필름의 표면에 화학 도금(무전해 도금)법에 의해 은금속을 석출시켜서 필름형상의 편광광학소자를 제조하였다. 먼저, 폴리프로필렌 필름을 80℃에서 5배로 연신한 후, 장력을 유지한 채, 110℃에서 10분간 열처리하여 폴리프로필렌 필름의 일부를 결정화시켰다. 그 필름을 염화 제 1석용액을 통과한 후, 물로 가볍게 헹구어, 암모니아성 초산 은용액을 통과하여 염화 제 1석이 선택적으로 흡착되어 있던 비정질부분에만 무전해 도금을 행하여서 필름의 표면에 불균일하게 은금속을 석출시켰다. 얻어진 필름형상의 편광광학소자의 편광성능은, 420㎚ 내지 700㎚의 가시파장 범위에서 소광비 1:5000의 값을 나타냈다. 또, 광투과성은 48%이었다.
또, 본 실시예 3에서는 무전해 도금층으로서 은을 사용한 예를 나타냈지만, 그 밖에 금, 니켈, 크롬, 동 등의 금속도 사용할 수 있고, 또 폴리피롤, 폴리티오펜 등의 도전성 고분자, 사삼산화철 등의 산화물 도전체 등도 사용할 수 있다. 예를 들어, 폴리피롤, 폴리티오펜 등의 도전성 고분자를 형성하는 경우, 염화 제2철 수용액, 과산화수소수 등과 같은 산화제 수용액과 각각의 모노머 용액 또는 모노머 증기를 사용함으로써, 최초에 흡착된 산화제가 존재하고 있는 부위에만 폴리피롤, 폴리티오펜 등의 도전성 고분자로 이루어지는 세선이 형성된다.
(실시예 4)
실시예 4에서는, 에틸렌 옥사이드(A)와 카보네이트(B)의 블록 공중합체로 이루어지는 A·B타입의 블록 공중합체를 연신해서, 에틸렌 옥사이드층이 연신방향과 90±5˚의 각도로 배향되도록 고차구조를 제어한 필름을 제조하였다. 이 A·B타입의 블록 공중합체를 압출해서 형성할 때, 장력을 가해 A·B의 라멜라층이 필름의 길이방향에 대해서, 직각에 대해서 ±10°이내로 배향되도록 고차구조를 제어하였다. 이 필름에 도전성물질, 예를 들어 알루미늄 금속을 진공증착한 후, 2.5배 연신을 행하였다. 이 경우, A상과 B상은 전체에 걸쳐서 균질하게 분산되어 있으면서도, A상과 B상은 연신성이 다르기 때문에, 알루미늄 금속은 거의 균질하게 연신방향과는 직각방향으로 갈라졌다. 이 필름형상의 편광광학소자의 420㎚~700㎚의 가시광 영역에 있어서의 편광율은 99.8%이었다.
(실시예 5)
실시예 5에서는, 실시예 4에서 사용한 것과 동일하게 하여 A·B타입의 에틸렌 옥사이드·카보네이트 블록 공중합체를 연신해서, 에틸렌 옥사이드층이 연신방향과 90±5°의 각도로 배향되도록 고차 구조를 제어한 필름을 조제하고, 이 필름을 염화 제 1석용액에 침적하자 염화 제 1석은 친수성 부분의 에틸렌 옥사이드층에 선택적으로 흡착되었다. 그 후, 무전해 니켈 도금을 행하였다. 얻어진 필름형상의 편광광학소자의 가시광 영역의 편광성능은 99%이었다. 같은 방법으로 에틸렌·하이드로 에틸 메타 아크릴레이트(HEMA)블록의 공중합체에서도 제작할 수 있었다.
(실시예 6)
실시예 6에서는, 도 3에 나타낸 편광광학소자의 연속적 제조장치(30)를 사용해서, 폴리프로필렌 필름의 표면에 화학 도금법(무전해 도금법)에 의해 은금속을 석출시킨 후, 도전성물질의 표면에 반사방지막을 형성한 필름형상의 편광광학소자를 제조하였다. 먼저, 폴리프로필렌 필름의 공급롤(31)에서 공급된 폴리프로필렌 필름을 롤(32), 80℃로 유지된 제 1항온조(33), 롤(32')을 순차적으로 통과하여 5배로 연신하였다. 그 후, 연신된 폴리프로필렌 필름을 장력을 유지한 채, 제 1항온조(33)보다도 온도가 높은 온도, 여기에서는 110℃로 유지된 제 1항온조(34)에 10분간 통과함으로써 열처리를 행하였다. 이 열처리에 의해, 프로필렌 필름의 비결정부가 완화되어 힘을 제거해도 오그라드는 일이 없고 치수안정성이 부여되었다.
그 필름을 롤(32')과 같은 원주속도의 롤(35), 필름가이드(36)를 개재해서, 먼저, 염화 제 1석용액(37)이 들어 있는 제 1조(38)를 통과하였다. 필름이 그 제 1조(38)을 통과할 때, 염화 제 1석이 비정질 부분에 선택적으로 흡착된다. 그 후, 물로 가볍게 헹구고, 이어서 암모니아성 초산 은용액(39)이 들어 있는 제 2조(40)를 통과하였다. 필름이 이 제 2조(40)를 통과할 때, 염화 제 1석이 선택적으로 흡착되어 있는 비정질부분에만 무전해 도금이 행하여져, 암모니아성 초산 은용액(39)중의 은이온이 은금속으로 되어 필름의 표면에 불균일하게 석출하였다.
이 제 2조(40)에서 얻어진 비정질부분에만 은으로 이루어지는 도전성물질이 코팅되어 있는 폴리프로필렌 필름(41)을, 먼저, 롤(42)을 통과하고 130℃로 유지된 제 3항온조(43)에 5분간 통과함으로써, 치수안정성을 부여함과 동시에 도전성물질의 부착강도를 크게 하였다. 그리고, 저굴절률과 고굴절률의 고분자필름이 각각 교대로 복수층 라미네이트된 반사방지필름의 공급롤(44)에서 공급된 반사방지 필름을, 항온조(43)를 통과해서 공급되는 필름의 도전성물질이 부여되어 있는 면에 롤(45)을 개재하여 적층시키고, 롤(46)을 통과해서 접착시켰다. 이 새롭게 가해진 반사방지필름은 광의 반사방지뿐만 아니라, 롤(46)의 강한 압력으로 편광광학소자의 표면에 부착되어 있는 도전성물질의 이탈방지 기능도 갖는다. 그 후, 열처리장치(47)에서 부착안정성을 가하고, 롤(48)을 개재해서 권취롤(49)로 권취하였다. 이 롤(49)에 권취된 필름형상의 편광광학소자는, 실시예 3의 편광광학소자와 동등한 편광광학소자를 갖고 있는 것을 확인할 수 있었다.
(실시예 7)
실시예 7에서는, 도 4에 나타낸 편광광학소자의 연속적 제조장치(50)를 사용해서, 폴리프로필렌 필름의 표면에 화학 도금법(무전해 도금법)에 의해 은금속을 석출시킨 후, 이 필름의 표면에 형성된 은금속을 다른 투명한 필름의 표면에 복사하여 편광광학소자를 제조하였다. 또, 도 4에서는, 폴리프로필렌 필름의 표면에 무전해 도금법으로 은금속을 석출시킨 필름(41)을 얻는 공정까지는 도 3에 나타낸 실시예 6의 구성과 공통이므로, 이 공통의 구성부분에는 도 3과 동일의 참조부호를 부여하는 것으로 하고, 그 상세한 설명은 생략한다.
먼저, 실시예 6과 동일하게 하여 제조된 제 2조(40)에 의해 얻어진 비결정부분에만 은으로 이루어지는 도전성물질이 코팅되어 있는 폴리프로필렌 필름(41)의 도전성물질이 부여되어 있는 면에, 상기 은으로 이루어지는 도전성물질에 대해서 접착력이 큰 아크릴계 접착제가 도포된 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)필름의 공급롤(52)에서 공급된 투명한 PET필름을 롤(53)을 개재해서 적층시키고, 전사롤(54)을 개재해서 강한 압력을 가하였고, 다음에, 양 필름을 롤(55)을 통과해서 박리하고, 폴리프로필렌 필름을 롤(56)에, 또 투명한 PET필름을 롤(57)에 권취하였다. 상기 폴리프로필렌 필름(41)의 표면에 형성되어 있는 은으로 이루어지는 도전성물질은 전부 롤(57)에 권취된 투명한 PET필름 상에 전사되어 있다. 이 롤(57)에 권취된 필름 형상의 편광광학소자는, 실시예 3의 편광광학소자와 동등한 편광효과를 갖고 있는 것을 확인할 수 있었다. 또, 본 실시예 7에서는 도전성물질을 전사하기 위한 필름으로서 아크릴계 접착제가 도포된 PET필름을 사용했지만, 그밖에 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리카보네이트 등의 투명한 고분자필름도 사용할 수 있다.
(실시예 8)
실시예 8에서는, 도 4에 나타낸 편광광학소자의 연속적 제조장치(60)를 사용해서, 에틸렌 옥사이드(A)와 카보네이트(B)의 A·B타입의 블록 공중합체로 이루어지는 고차구조를 제어한 필름의 표면에 무전해 도금법에 의해 연속적으로 도전성물질을 형성한 후, 이 필름의 표면으로부터 도전성물질을 다른 투명필름의 표면에 전사하고, 또 전사한 도전성물질의 표면에 반사방지막을 형성하였다.
먼저, 실시예 4에 기재한 것과 같은 방법으로, A·B타입의 에틸렌 옥사이드와 카보네이트의 블록 공중합체를 연신해서 에틸렌 옥사이드층이 연신방향과 90±5°의 각도로 배향되도록 고차구조를 제어한 필름(61)을 조제하였다. 그리고, 이 필름(61)을 염화 제 1석용액(62)이 들어 있는 제 1조(63), 가이드 롤러(64) 및 수분제거필름(65)으로 이루어지는 제 1수분제거기(66), 암모니아성 초산 은용액(67)이 들어 있는 제 2조(68), 가이드 롤러(69) 및 수분제거필름(70)으로 이루어지는 제 2 수분제거기(71), 전사롤러(72), 복수의 가이드 롤러(73)를 통과하여 엔드리스로 연속적으로 순환하도록 배치하였다.
상기 필름(61)이 제 1조(63)를 통과할 때, 친수성부인 에틸렌 옥사이드층의 표면에만 염화 제 1석이 흡착되므로, 제 1수분제거기(66)에서 가볍게 물로 헹군 후 수분을 제거하고, 다음에 제 2조(68)를 통과시키자 염화 제 1석이 흡착해 있는 부분에 선택적으로 은이온이 은금속으로 되어 필름의 표면에 불균일하게 석출되었다. 이 은금속이 석출된 필름(74)을 제 2수분제거기(71)에서 가볍게 물로 헹군 후, 수분을 제거하고, 다음에, 필름 공급롤(75)에서 공급된 표면에 접착제가 도포된 투명필름(76)의 접착제 도포면이 상기 필름(74)의 은금속이 석출되어 있는 면에 접하도록 공급하고, 양 필름(74 및 76)을 전사롤러(72)를 통과하여 압착하였다.
그 후, 전사롤러(72)를 통과한 양 필름(74 및 76)을 분리하자 필름(74)의 표면에 부착되어 있던 은금속이 전사된 필름(77)이 얻어졌다. 그래서, 별도의 반사방지 필름 공급롤(78)에서 공급된 반사방지 필름(79)을 필름(77) 표면의 은금속을 덮도록 공급하고, 드라이브 롤(80)을 통과하여 양 필름(77 및 79)을 압착하자 반사방지필름과 일체화된 편광광학소자로 이루어지는 필름(81)이 얻어지므로, 이 필름(81)을 권취롤(82)로 권취하였다. 얻어진 필름형상 편광광학소자의 파장420~700㎚의 가시광 영역에 있어서의 편광특성은 99%이었다.
또, 실시예 8에서는 엔드리스로 연속적으로 순환하는 고차구조를 갖는 필름(61)으로서 A·B타입의 에틸렌 옥사이드와 카보네이트의 블록 공중합체를 연신처리한 것을 사용했지만, 이것으로 한정되지 않으며, 예를 들어, 스틸렌 에틸렌 옥사이드 블록 공중합체, 스틸렌 HEMA 블록 공중합체 등의 소수성부와 친수성부를 갖는 블록 공중합체를 사용할 수 있다. 이것들의 블록 공중합체는 고가이기 때문에, 엔드리스로 순환함으로써 사용량을 억제할 수 있다.
또, 투명필름(76)으로서는, 폴리프로필렌, 폴리카보네이트, 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리술폰, 폴리부티랄 등을 사용할 수 있다. 또, 투명필름(76)에 형성되는 접착제로서는, 아크릴계, 시아의 아크릴레이트계, 요소계 등의 것을 적절히 선택해서 사용할 수 있다.
본 발명의 상기 구성에 의하면 이하와 같은 우수한 효과를 달성한다. 즉, 본원의 청구항 1∼12에 기재되어 있는 편광광학소자에 의하면, 고분자필름의 미크로구조를 제어함으로써, 이하의 실시예에서 상세하게 기술하는 바와 같이, 큰 면적으로, 필름형상의 편광특성이 양호하고, 광투과율이 높으면서도, 가시광 영역으로부터 적외광 영역까지 사용할 수 있는 그리드형의 편광광학소자가 제공된다. 특히, 청구항 11에 기재된 상기 편광광학소자에 의하면, 상기 편광광학소자는 그 복수 장이 접착재에 의해 또는 열적으로 복합화되어 있으므로, 편광특성이 향상된다. 또, 청구항 12에 기재된 상기 편광광학소자에 의하면, 추가로 상기 이방적인 도전성부분이 형성되어 있는 표면에 도전성부분의 박리방지 기능도 겸비한 유전체 다층막으로 이루어지는 반사방지막이 형성되어 있으므로, 열화가 억제되고, 동시에 광의 투과율이 향상된 편광광학소자가 얻어진다.
또, 본원의 청구항 13∼25에 기재되어 있는 편광광학소자의 연속적 제조방법의 발명에 의하면, 상기 청구항 1∼12에 기재되어 있는 편광광학소자를 각각 롤 기법에 의해 연속적으로, 큰 면적의 것을, 간단하게, 저가로 제조하는 것이 가능해진다.
또, 본원의 청구항 26∼28에 기재된 반사광학소자의 발명에 의하면, 큰 면적으로, 필름형상의 소정 파장의 광 내지는 전자파를 반사할 수 있는 반사광학소자가 얻어진다. 따라서, 이 반사광학소자를, 예를 들어, 자동차의 프론트 글라스, 사이드 글라스 등에 사용하면, 맞은편 차의 하이빔이 부딪쳐도 운전자가 눈부시지 않도록 할 수 있고, 또 빌딩의 유리창 등에 사용하면 가시광은 투과하지만, 적외선 및 그보다 파장이 긴 전자파를 반사시키도록 할 수 있기 때문에 실내가 밝아질 뿐만 아니라, 단열성이 향상된다.
도 1은 실시예 1에서 사용하는 필름형상의 편광광학소자의 연속적 제조장치를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 2는 실시예 2에서 사용하는 필름형상의 편광광학소자의 연속적 제조장치를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 3은 실시예 6에서 사용하는 필름형상의 편광광학소자의 연속적 제조장치를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 4는 실시예 7에서 사용하는 필름형상의 편광광학소자의 연속적 제조장치를 개략적으로 나타내는 도면이다.
도 5는 실시예 8에서 사용하는 필름형상의 편광광학소자의 연속적 제조장치를 개략적으로 나타내는 도면이다.
♣도면의 주요부분에 대한 부호의 설명♣
10, 20, 30, 50, 60: 편광광학소자의 연속적 제조장치
13, 16, 17, 23, 24, 27, 28: 항온조 14, 25: 진공증착조
33, 34, 43, 47: 항온조 36, 62: 염화 제 1석용액
38, 63: 제 1조 39, 67: 암모니아성 초산 은용액
22, 68: 제 2조 44, 78: 반사방지 필름의 공급롤
52, 75: 투명필름의 공급롤 54, 72: 전사롤러
61: 고차구조를 제어한 필름 64, 69: 가이드 롤러
65, 70: 수분제거필름 66, 71: 수분제거기

Claims (28)

  1. 하기 (1) 또는 (2)의 고차구조를 갖는 필름의 한쪽면 또는 양면의 전면에 도전성 박막을 형성하여 얻어진 복합막을 추가로 연신한 후에 열고정하여 얻어진, 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조가 형성되어 있고, 이 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 짧고, 긴 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 길게 되어 있는 편광광학소자.
    (1) 결정성 고분자를 그의 융점 이하 글라스 전이점 이상의 온도에서 연신 열처리하여 얻어진 결정부 및 비결정부가 교대로 이어지는 고차구조를 갖는 필름.
    (2) 하기 (a)∼(c)로부터 선택된 하기 A상 및 B상이 연신방향으로 교대로 이어지는 고차구조를 갖는 필름.
    (a) 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 연신하여 얻어진 필름.
    (b) 부분적 상용계의 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 폴리머 블렌드를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 연신하여 얻어진 필름.
    (c) 결정성 또는 액정성 폴리머 A 및 비결정성 폴리머 B로 구성되는 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 융점과 각각의 글라스 전이점 사이의 온도대역에서 연신하여 얻어진 필름.
  2. 하기 (1) 또는 (2)의 고차구조를 갖는 필름의 한쪽면 또는 양면에 화학적 석출법에 의해서, 하기 결정부 및 비결정부의 어느 한쪽 또는 하기 A상 및 B상의 어느 한쪽에 선택적으로 도전성 물질을 형성한 후, 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조가 형성되어 있고, 이 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 짧고, 긴 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 길게 되어 있는 편광광학소자.
    (1) 결정성 고분자를 그의 융점 이하 글라스 전이점 이상의 온도에서 연신 열처리하여 얻어진 결정부 및 비결정부가 교대로 이어지는 고차구조를 갖는 필름.
    (2) 하기 (a)∼(c)로부터 선택된 하기 A상 및 B상이 연신방향으로 교대로 이어지는 고차구조를 갖는 필름.
    (a) 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 연신하여 얻어진 필름.
    (b) 부분적 상용계의 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 폴리머 블렌드를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 연신하여 얻어진 필름.
    (c) 결정성 또는 액정성 폴리머 A 및 비결정성 폴리머 B로 구성되는 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 융점과 각각의 글라스 전이점 사이의 온도대역에서 연신하여 얻어진 필름.
  3. 이하의 (1)∼(4)의 공정을 거쳐서 제조된, 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조가 형성되어 있고, 이 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 짧고, 긴 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 길게 되어 있는 편광광학소자.
    (1) 하기 (Ⅰ) 또는 (Ⅱ)의 공정에 의해 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정,
    (Ⅰ) 결정성 고분자를 그의 융점 이하 글라스 전이점 이상의 온도에서 롤 연신 열처리하여 결정부 및 비결정부가 교대로 이어지는 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정.
    (Ⅱ) 하기 (a)∼(c)의 어느 하나의 공정에 의해 하기 A상 및 B상이 연신방향으로 교대로 이어지는 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정.
    (a) 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
    (b) 부분적 상용계의 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 폴리머 블렌드를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
    (c) 결정성 또는 액정성 폴리머 A 및 비결정성 폴리머 B로 구성되는 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 융점과 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
    (2) 상기 (1)의 공정에서 얻어진 고차구조를 갖는 필름의 한쪽면 또는 양면의 전면에 도전성 박막을 형성하여 복합막을 얻는 공정.
    (3) 상기 (2)의 공정에서 얻어진 복합막을 추가로 롤 연신하는 공정,
    (4) 상기 (3)의 공정에서 얻어진 필름의 도전성 부위에 대해서 접착력이 큰 투명 고분자 필름, 혹은 접착제 또는 경화성 점착제를 도포한 투명필름과 접촉시켜서 도전성 부위를 이 투명필름 상에 전사시킨 후에 상기 투명필름을 박리하는 공정.
  4. 이하의 (1)∼(3)의 공정을 거쳐서 제조된, 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조가 형성되어 있고, 이 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 짧고, 긴 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 길게 되어 있는 편광광학소자.
    (1) 하기 (Ⅰ) 또는 (Ⅱ)의 공정에 의해 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정,
    (Ⅰ) 결정성 고분자를 그의 융점 이하 글라스 전이점 이상의 온도에서 연신 열처리하여 결정부 및 비결정부가 교대로 이어지는 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정.
    (Ⅱ) 하기 (a)∼(c)의 어느 하나의 공정에 의해 하기 A상 및 B상이 연신방향으로 교대로 이어지는 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정.
    (a) 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
    (b) 부분적 상용계의 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 폴리머 블렌드를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
    (c) 결정성 또는 액정성 폴리머 A 및 비결정성 폴리머 B로 구성되는 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 융점과 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
    (2) 상기 (1)의 공정에서 얻어진 고차구조를 갖는 필름의 한쪽면 또는 양면에 화학적 석출법에 의해서, 상기 결정부 및 비결정부의 어느 한쪽 또는 상기 A상 및 B상의 어느 한쪽에 선택적으로 도전성 물질을 형성하여 복합막을 얻는 공정,
    (3) 상기 (2)의 공정에서 얻어진 필름의 도전성 부위에 대해서 접착력이 큰 투명 고분자 필름, 혹은 접착제 또는 경화성 점착제를 도포한 투명필름과 접촉시켜서 도전성 부위를 이 투명필름 상에 전사시킨 후에 상기 투명필름을 박리하는 공정.
  5. 제 1∼4항의 어느 한 항에 있어서, 상기 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이는, 편광시키고자 하는 입사광 파장의 1/20∼1/2의 범위이고, 긴 방향의 길이는, 이 입사광 파장의 2배 이상인 것을 특징으로 하는 편광광학소자.
  6. 제 5항에 있어서, 상기 편광시키는 입사광이 가시광이고, 상기 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이는 20㎚∼350㎚의 범위이고, 긴 방향의 길이는 800㎚ 이상인 것을 특징으로 하는 편광광학소자.
  7. 제 5항에 있어서, 상기 편광시키는 입사광이 적외광이고, 상기 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이는 35㎚∼1㎛의 범위이고, 긴 방향의 길이는 10㎛ 이상인 것을 특징으로 하는 편광광학소자.
  8. 제 1항 또는 제 3항에 있어서, 상기 도전성 박막이, 증착법, 무전해 도금법, 화학적 기상 성장법, 물리적 기상 성장법으로부터 선택된 하나 이상의 방법으로 형성된 것임을 특징으로 하는 편광광학소자.
  9. 제 2항 또는 제 4항에 있어서, 상기 화학적 석출법이, 무전해 도금법, 기상 석출법 및 액상 석출법으로부터 선택된 어느 하나의 방법인 것을 특징으로 하는 편광광학소자.
  10. 제 1∼4항의 어느 한 항에 있어서, 상기 이방적인 도전성 부분이 은, 금, 니켈, 크롬, 동 등의 금속 또는 합금, 폴리피롤, 폴리티오펜 등의 도전성 고분자, 사삼산화철 등의 산화물 도전체로부터 선택된 1종으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 편광광학소자.
  11. 제 1항 또는 제 3항에 있어서, 상기 편광광학소자의 복수 장이 접착제에 의해서 또는 열적으로 복합화되어 있는 것을 특징으로 하는 편광광학소자.
  12. 제 1∼4항의 어느 한 항에 있어서, 추가로, 상기 이방적인 도전성부분이 형성되어 있는 표면에 도전성 부분의 박리 방지기능도 겸비한 유전체 다층막으로 이루어지는 반사방지막이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 편광광학소자.
  13. 이하의 (1)∼(3)의 공정으로 이루어지는, 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조가 형성되어 있고, 이 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 짧고, 긴 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 길게 되어 있는 편광광학소자의 연속적 제조방법.
    (1) 하기 (Ⅰ) 또는 (Ⅱ)의 공정에 의해 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정,
    (Ⅰ) 결정성 고분자를 그의 융점 이하 글라스 전이점 이상의 온도에서 롤 연신 열처리하여 결정부 및 비결정부가 교대로 이어지는 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정.
    (Ⅱ) 하기 (a)∼(c)의 어느 하나의 공정에 의해 하기 A상 및 B상이 연신방향으로 교대로 이어지는 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정.
    (a) 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
    (b) 부분적 상용계의 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 폴리머 블렌드를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
    (c) 결정성 또는 액정성 폴리머 A 및 비결정성 폴리머 B로 구성되는 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 융점과 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
    (2) 상기 (1)의 공정에서 얻어진 고차구조를 갖는 필름의 한쪽면 또는 양면의 전면에 도전성 박막을 형성하여 복합막을 얻는 공정.
    (3) 상기 (2)의 공정에서 얻어진 복합막을 추가로 롤 연신한 후에 열고정하는 공정.
  14. 이하의 (1)∼(2)의 공정으로 이루어지는, 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조가 형성되어 있고, 이 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 짧고, 긴 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 길게 되어 있는 편광광학소자의 연속적 제조방법.
    (1) 하기 (Ⅰ) 또는 (Ⅱ)의 공정에 의해 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정,
    (Ⅰ) 결정성 고분자를 그의 융점 이하 글라스 전이점 이상의 온도에서 연신 처리하여 얻어진 결정부 및 비결정부가 교대로 이어지고, 결정부 및 비결정부의 연신방향의 길이가 사용광의 파장보다도 짧고, 결정부 및 비결정부로 형성되는 구조의 연신방향과는 직각인 필름면 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다도 긴 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정.
    (Ⅱ) 하기 (a)∼(c)의 어느 하나의 공정에 의해 하기 A상 및 B상이 연신방향으로 교대로 이어지고, A상 및 B상의 연신방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다도 짧고, A상 및 B상으로 형성되는 구조의 연신방향과는 직각인 필름면 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다도 긴 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정.
    (a) 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
    (b) 부분적 상용계의 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 폴리머 블렌드를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
    (c) 결정성 또는 액정성 폴리머 A 및 비결정성 폴리머 B로 구성되는 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 융점과 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
    (2) 상기 (1)의 공정에서 얻어진 고차구조를 갖는 필름의 한쪽면 또는 양면에 화학적 석출법에 의해, 상기 결정부 및 비결정부의 어느 한쪽 또는 상기 A상 및 B상의 어느 한쪽에 선택적으로 도전성 물질을 형성하여 복합막을 얻는 공정,
  15. 이하의 (1)∼(4)의 공정으로 이루어지는, 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조가 형성되어 있고, 이 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 짧고, 긴 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 길게 되어 있는 편광광학소자의 연속적 제조방법.
    (1) 하기 (Ⅰ) 또는 (Ⅱ)의 공정에 의해 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정,
    (Ⅰ) 결정성 고분자를 그의 융점 이하 글라스 전이점 이상의 온도에서 롤 연신 열처리하여 결정부 및 비결정부가 교대로 이어지는 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정.
    (Ⅱ) 하기 (a)∼(c)의 어느 하나의 공정에 의해 하기 A상 및 B상이 연신방향으로 교대로 이어지는 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정.
    (a) 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
    (b) 부분적 상용계의 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 폴리머 블렌드를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
    (c) 결정성 또는 액정성 폴리머 A 및 비결정성 폴리머 B로 구성되는 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 융점과 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
    (2) 상기 (1)의 공정에서 얻어진 고차구조를 갖는 필름의 한쪽면 또는 양면의 전면에 도전성 박막을 형성하여 복합막을 얻는 공정,
    (3) 상기 (2)의 공정에서 얻어진 복합막을 추가로 롤 연신하는 공정,
    (4) 상기 (3)의 공정에서 얻어진 필름의 도전성 부위에 대해서 접착력이 큰 투명 고분자 필름, 혹은 접착제 또는 경화성 점착제를 도포한 투명필름과 접촉시켜서 도전성 부위를 이 투명필름 상에 전사시킨 후에 상기 투명필름을 박리하는 공정.
  16. 이하의 (1)∼(3)의 공정으로 이루어지는, 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조가 형성되어 있고, 이 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 짧고, 긴 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다 길게 되어 있는 편광광학소자의 연속적 제조방법.
    (1) 하기 (Ⅰ) 또는 (Ⅱ)의 공정에 의해 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정,
    (Ⅰ) 결정성 고분자를 그의 융점 이하 글라스 전이점 이상의 온도에서 연신 열처리하여 얻어진 결정부 및 비결정부가 교대로 이어지고, 결정부 및 비결정부의 연신방향의 길이가 사용광의 파장보다도 짧고, 결정부 및 비결정부로 형성되는 구조의 연신방향과는 직각인 필름면 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다도 긴 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정.
    (Ⅱ) 하기 (a)∼(c)의 어느 하나의 공정에 의해 하기 A상 및 B상이 연신방향으로 교대로 이어지고, A상 및 B상의 연신방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다도 짧고, A상 및 B상으로 형성되는 구조의 연신방향과는 직각인 필름면 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다도 긴 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정.
    (a) 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
    (b) 부분적 상용계의 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 폴리머 블렌드를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
    (c) 결정성 또는 액정성 폴리머 A 및 비결정성 폴리머 B로 구성되는 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 융점과 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
    (2) 상기 (1)의 공정에서 얻어진 고차구조를 갖는 필름의 한쪽면 또는 양면에 화학적 석출법에 의해서, 상기 결정부 및 비결정부의 어느 한쪽 또는 상기 A상 및 B상의 어느 한쪽에 선택적으로 도전성 물질을 형성하여 복합막을 얻는 공정,
    (3) 상기 (2)의 공정에서 얻어진 필름의 도전성 부위에 대해서 접착력이 큰 투명 고분자 필름, 혹은 접착제 또는 경화성 점착제를 도포한 투명필름과 접촉시켜서 도전성 부위를 이 투명필름 상에 전사시킨 후에 상기 투명필름을 박리하는 공정.
  17. 이하의 (1)∼(4)의 공정으로 이루어지는, 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조가 형성되어 있고, 이 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이가 사용광의 파장보다 짧고, 긴 방향의 길이가 사용광의 파장보다 길게 되어 있는 편광광학소자의 연속적 제조방법.
    (1) 하기 (Ⅰ) 또는 (Ⅱ)의 공정에 의해 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정,
    (Ⅰ) 결정성 고분자를 그의 융점 이하 글라스 전이점 이상의 온도에서 연신 열처리하여 얻어진 결정부 및 비결정부가 교대로 이어지고, 결정부 및 비결정부의 연신방향의 길이가 사용광의 파장보다도 짧고, 결정부 및 비결정부로 형성되는 구조의 연신방향과는 직각인 필름면 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다도 긴 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정.
    (Ⅱ) 하기 (a)∼(c)의 어느 하나의 공정에 의해 하기 A상 및 B상이 연신방향으로 교대로 이어지고, A상 및 B상의 연신방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다도 짧고, A상 및 B상으로 형성되는 구조의 연신방향과는 직각인 필름면 방향의 길이가 편광시키고자 하는 입사광의 파장보다도 긴 고차구조를 갖는 필름을 얻는 공정.
    (a) 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
    (b) 부분적 상용계의 글라스 전이점이 다른 2종의 폴리머 A 및 B의 폴리머 블렌드를 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
    (c) 결정성 또는 액정성 폴리머 A 및 비결정성 폴리머 B로 구성되는 A·B타입 또는 A·B·A타입의 블록 공중합체를 각각의 융점과 각각의 글라스 전이점의 중간 온도대역에서 롤 연신 처리하는 공정.
    (2) 상기 (1)의 공정에서 얻어진 소정 길이의 고차구조를 갖는 필름을 엔드리스로 순환시키는 공정.
    (3) 상기 (2)의 공정에 있어서의 순환되고 있는 고차구조를 갖는 필름의 한쪽면 또는 양면에, 화학적 석출법에 의해 상기 A상 및 B상의 어느 한쪽에 선택적으로 도전성 물질을 형성하여 복합막을 얻는 공정.
    (4) 상기 (3)의 공정에서 얻어진 복합막의 도전성 부위에 대해서 접착력이 큰 투명 고분자 필름, 혹은 접착제 또는 경화성 점착제를 도포한 투명필름과 접촉시켜서 도전성 부위를 이 투명필름 상에 전사시킨 후에 상기 투명필름을 박리하는 공정.
  18. 제 13∼17항의 어느 한 항에 있어서, 상기 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이는, 편광시키고자 하는 입사광 파장의 1/20∼1/2의 범위이고, 긴 방향의 길이는, 이 입사광 파장의 2배 이상인 것을 특징으로 하는 편광광학소자의 연속적 제조방법.
  19. 제 18항에 있어서, 상기 편광시키는 입사광이 가시광이고, 상기 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이는 20㎚∼350㎚의 범위이고, 긴 방향의 길이는 800㎚ 이상인 것을 특징으로 하는 편광광학소자의 연속적 제조방법.
  20. 제 18항에 있어서, 상기 편광시키는 입사광이 적외광이고, 상기 이방적인 도전성부분과 고분자 유전체부분으로 이루어지는 구조의 짧은 방향의 길이는 35㎚∼1㎛의 범위이고, 긴 방향의 길이는 10㎛ 이상인 것을 특징으로 하는 편광광학소자의 연속적 제조방법.
  21. 제 13항 또는 제 15항에 있어서, 상기 도전성 박막이, 증착법, 무전해 도금법, 화학적 기상 성장법, 물리적 기상 성장법으로부터 선택된 하나 이상의 방법으로 형성된 것임을 특징으로 하는 편광광학소자의 연속적 제조방법.
  22. 제 14, 16, 17항의 어느 한 항에 있어서, 상기 화학적 석출법이, 무전해 도금법, 기상 석출법 및 액상 석출법으로부터 선택된 어느 하나의 방법인 것을 특징으로 하는 편광광학소자의 연속적 제조방법.
  23. 제 13∼17항의 어느 한 항에 있어서, 상기 이방적인 도전성부분이 은, 금, 니켈, 크롬, 동 등의 금속 또는 합금, 폴리피롤, 폴리티오펜 등의 도전성 고분자, 사삼산화철 등의 산화물 도전체로부터 선택된 1종으로 형성되는 것을 특징으로 하는 편광광학소자의 연속적 제조방법.
  24. 제 13항 또는 제 15항에 있어서, 상기 (3)의 공정에 있어서, 추가로 열고정 후의 필름의 복수 장을 롤법에 의해 접착재를 사용하거나 또는 열적으로 복합화하도록 이루어진 것을 특징으로 하는 편광광학소자의 연속적 제조방법.
  25. 제 13∼17항의 어느 한 항에 있어서, 추가로, 롤 압착법에 의해 상기 이방적인 도전성부분이 형성되어 있는 표면에 도전성 부분의 박리 방지기능도 겸비한 유전체 다층막으로 이루어지는 반사방지막을 형성하는 공정을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 편광광학소자의 연속적 제조방법.
  26. 제 1∼12항의 어느 한 항에 기재된 편광광학소자로 이루어지는 2장의 필름이 각각의 도전성 물질이 직교하도록 배치된 구조를 갖는 반사광학소자.
  27. 제 26항에 있어서, 가시광, 적외광, 밀리파 및 마이크로파를 반사하도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 반사광학소자.
  28. 제 26항에 있어서, 가시광은 투과하고, 적외광, 밀리파 및 마이크로파를 반사하도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 반사광학소자.
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