KR20050032475A - 컨베이어를 이용하여 기판을 교환하는 대면적 엘씨디제조장치 및 이를 이용한 기판의 운송방법 - Google Patents
컨베이어를 이용하여 기판을 교환하는 대면적 엘씨디제조장치 및 이를 이용한 기판의 운송방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20050032475A KR20050032475A KR1020040077541A KR20040077541A KR20050032475A KR 20050032475 A KR20050032475 A KR 20050032475A KR 1020040077541 A KR1020040077541 A KR 1020040077541A KR 20040077541 A KR20040077541 A KR 20040077541A KR 20050032475 A KR20050032475 A KR 20050032475A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- substrate
- load lock
- lock chamber
- chamber
- conveyor device
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67155—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations
- H01L21/67161—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the layout of the process chambers
- H01L21/67173—Apparatus for manufacturing or treating in a plurality of work-stations characterized by the layout of the process chambers in-line arrangement
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H01L21/67736—Loading to or unloading from a conveyor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
- H01L21/6776—Continuous loading and unloading into and out of a processing chamber, e.g. transporting belts within processing chambers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
Description
Claims (13)
- 반응공간을 형성하며, 기판에 대한 공정을 수행하는 공정 챔버와;내부 컨베이어장치를 구비하며, 기판이 출입하는 도어를 가지는 로드락 챔버와;일부는 상기 공정챔버에 연결되고, 다른 일부는 상기 로드락챔버에 연결되며, 기판을 운송하기 위한 운송수단을 구비하는 이송챔버를 포함하는 LCD 제조장치
- 제1항에 있어서,상기 로드락 챔버와 인접 설치되어 상기 내부 컨베이어장치로 기판을 이송하는 외부 컨베이어장치를 더 포함하는 LCD 제조장치
- 제2항에 있어서,상기 내부 컨베이어장치와 상기 외부 컨베이어장치는 별도의 구동장치를 사용하는 것을 특징으로 하는 LCD 제조 장치
- 제2항에 있어서,상기 로드락 챔버는, 상기 외부 컨베이어장치와 인접한 영역에 제1 도어를 구비하고, 상기 이송 챔버와 인접한 영역에 제2 도어를 구비하는 것을 특징으로 하는 LCD 제조 장치
- 제4항에 있어서,상기 로드락챔버를 2이상 구비하며, 제1 로드락 챔버는 상기 제1 도어를 통하여 상기 외부 컨베이어장치로부터 기판을 반입하는 반입 로드락 챔버이고, 제2 로드락 챔버는 상기 제2 도어를 통하여 상기 이송챔버로부터 기판을 반출하는 반출 로드락 챔버인 것을 특징으로 하는 LCD 제조장치
- 제4항에 있어서,상기 로드락 챔버의 상기 제1 도어를 통하여 상기 기판을 상기 외부 컨베이어장치에 반입 또는 반출하는 것을 특징으로 하는 LCD 제조 장치
- 제1항에 있어서,상기 로드락 챔버는 상기 내부 컨베이어장치의 상하 운동을 위한 구동부를 더 포함하는 LCD 제조장치
- 제1항에 있어서,상기 로드락 챔버 내에는 2개의 상기 내부 컨베이어장치가 적층되어 설치되는 것을 특징으로 하는 LCD 제조 장치
- 제1항에 있어서,상기 공정 챔버 및 상기 로드락 챔버는 각 2개 이상인 LCD 제조장치
- 제1항에 있어서,상기 이송 챔버의 상기 운송수단은 수평 왕복 운동하는 로봇암인 것을 특징으로 하는 LCD 제조 장치
- 제1항에 있어서,상기 내부 컨베이어장치는 롤러로 구동하는 것을 특징으로 하는 LCD 제조 장치
- 내부 컨베이어 장치를 구비하며 기판의 출입을 위한 도어를 구비하는 로드락 챔버와, 기판에 대한 공정을 진행하는 공정챔버와, 상기 로드락챔버와 상기 공정챔버 사이에서 기판을 이송하는 운송수단을 구비하는 이송챔버와, 상기 로드락챔버의 도어까지 설치되는 외부 컨베이어장치를 포함하는 LCD제조장치를 이용하여 기판을 이송하는 방법에 있어서,상기 외부 컨베이어장치를 이용하여 상기 로드락 챔버의 도어까지 기판을 이송하는 단계와;상기 내부 컨베이어 장치를 구동하여, 상기 외부 컨베이어장치로부터 상기 로드락 챔버의 내부로 기판을 반입하는 단계와;상기 로드락 챔버의 내부를 진공상태로 전환하는 단계와;상기 로드락 챔버로부터 상기 공정챔버로 기판을 운송하는 단계와;상기 공정챔버에서 공정을 마친 기판을 상기 로드락챔버로 운송하는 단계와;상기 로드락 챔버의 내부를 대기압 상태로 전환하는 단계와;상기 내부 컨베이어 장치를 구동하여 상기 로드락챔버로부터 상기 외부 컨베이어장치로 기판을 반출하는 단계를 포함하는 기판의 운송방법
- 내부 컨베이어 장치를 구비하며 기판의 출입을 위한 도어를 각각 구비하는 반입 로드락 챔버 및 반출 로드락 챔버와, 기판에 대한 공정을 진행하는 공정챔버와, 상기 반입 및 반출 로드락챔버와 상기 공정챔버 사이에서 기판을 이송하는 운송수단을 구비하는 이송챔버와, 상기 로드락챔버의 도어까지 설치되는 외부 컨베이어장치를 포함하는 LCD제조장치를 이용하여 기판을 이송하는 방법에 있어서,상기 외부 컨베이어장치를 이용하여 상기 반입 로드락 챔버의 도어까지 기판을 이송하는 단계와;상기 내부 컨베이어 장치를 구동하여, 상기 외부 컨베이어장치로부터 상기 반입 로드락 챔버의 내부로 기판을 반입하는 단계와;상기 반입 로드락 챔버의 내부를 진공상태로 전환하는 단계와;상기 반입 로드락 챔버로부터 상기 공정챔버로 기판을 운송하는 단계와;상기 공정챔버에서 공정을 마친 기판을 상기 반출 로드락챔버로 운송하는 단계와;상기 반출 로드락 챔버의 내부를 대기압 상태로 전환하는 단계와;상기 내부 컨베이어 장치를 구동하여 상기 반출 로드락챔버로부터 상기 외부 컨베이어장치로 기판을 반출하는 단계를 포함하는 기판의 운송방법
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW093129900A TWI343894B (en) | 2003-10-01 | 2004-10-01 | Apparatus having conveyor and method of transferring substrate using the same |
US10/956,389 US8545159B2 (en) | 2003-10-01 | 2004-10-01 | Apparatus having conveyor and method of transferring substrate using the same |
CNB2004100805878A CN100462783C (zh) | 2003-10-01 | 2004-10-08 | 具有传送器的装置及用其转移基板的方法 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020030068347 | 2003-10-01 | ||
KR20030068347 | 2003-10-01 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20050032475A true KR20050032475A (ko) | 2005-04-07 |
KR101068769B1 KR101068769B1 (ko) | 2011-09-30 |
Family
ID=37236983
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020040077541A KR101068769B1 (ko) | 2003-10-01 | 2004-09-25 | 컨베이어를 이용하여 기판을 교환하는 대면적 엘씨디제조장치 및 이를 이용한 기판의 운송방법 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR101068769B1 (ko) |
TW (1) | TWI343894B (ko) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100934761B1 (ko) * | 2005-08-12 | 2009-12-30 | 주식회사 에이디피엔지니어링 | 평판표시소자 제조장치 |
KR100934762B1 (ko) * | 2005-08-12 | 2009-12-30 | 주식회사 에이디피엔지니어링 | 평판표시소자 제조장치 |
KR101040941B1 (ko) * | 2009-08-17 | 2011-06-16 | 주성엔지니어링(주) | 기판처리장치 및 방법 |
KR101465765B1 (ko) * | 2008-06-27 | 2014-12-01 | 주성엔지니어링(주) | 기판처리를 위한 클러스터 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5812342B2 (ja) * | 1981-03-31 | 1983-03-08 | 富士通株式会社 | 連続ドライエッチング方法 |
JP3909888B2 (ja) * | 1996-04-17 | 2007-04-25 | キヤノンアネルバ株式会社 | トレイ搬送式インライン成膜装置 |
JP2000323551A (ja) * | 1999-05-11 | 2000-11-24 | Anelva Corp | 基板処理装置 |
-
2004
- 2004-09-25 KR KR1020040077541A patent/KR101068769B1/ko active IP Right Grant
- 2004-10-01 TW TW093129900A patent/TWI343894B/zh active
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100934761B1 (ko) * | 2005-08-12 | 2009-12-30 | 주식회사 에이디피엔지니어링 | 평판표시소자 제조장치 |
KR100934762B1 (ko) * | 2005-08-12 | 2009-12-30 | 주식회사 에이디피엔지니어링 | 평판표시소자 제조장치 |
KR101465765B1 (ko) * | 2008-06-27 | 2014-12-01 | 주성엔지니어링(주) | 기판처리를 위한 클러스터 |
KR101040941B1 (ko) * | 2009-08-17 | 2011-06-16 | 주성엔지니어링(주) | 기판처리장치 및 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TWI343894B (en) | 2011-06-21 |
KR101068769B1 (ko) | 2011-09-30 |
TW200513424A (en) | 2005-04-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5934856A (en) | Multi-chamber treatment system | |
US20070237608A1 (en) | Cluster device having dual structure | |
TWI386500B (zh) | 薄膜沉積裝置及其系統 | |
KR100965413B1 (ko) | 기판 처리용 클러스터 장치 및 클러스터 장치의 기판 처리방법 | |
WO2007099929A1 (ja) | 有機薄膜蒸着方法及び有機薄膜蒸着装置 | |
TW201802999A (zh) | 傳送腔室與具有其之處理系統以及對應處理基板之方法 | |
TW200305248A (en) | Method of operating substrate processing device | |
KR101068769B1 (ko) | 컨베이어를 이용하여 기판을 교환하는 대면적 엘씨디제조장치 및 이를 이용한 기판의 운송방법 | |
KR101000086B1 (ko) | 기판 처리용 클러스터 장치 및 클러스터 장치의 기판 처리 방법 | |
KR20070015759A (ko) | 평판표시소자 제조장치 | |
CN100462783C (zh) | 具有传送器的装置及用其转移基板的方法 | |
KR101039231B1 (ko) | 기판 제조 장치 | |
KR100747440B1 (ko) | 적층 구조의 클러스터 | |
KR100898975B1 (ko) | 플라즈마 처리방법 | |
JP3665716B2 (ja) | 処理システム | |
KR100586773B1 (ko) | 처리시스템 | |
KR100905394B1 (ko) | 평판표시소자 제조장치 | |
KR100920420B1 (ko) | 평판표시소자 제조장치 | |
KR101255718B1 (ko) | 기판처리시스템 및 이를 이용한 기판처리방법 | |
JP2913312B2 (ja) | 真空処理装置 | |
JP4401865B2 (ja) | 基板搬送装置 | |
KR20220103545A (ko) | 증착 시스템 | |
KR100920383B1 (ko) | 평판표시소자 제조장치 | |
KR100920419B1 (ko) | 평판표시소자 제조장치 | |
JP4004260B2 (ja) | 基板処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140805 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150803 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160712 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170703 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180702 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190701 Year of fee payment: 9 |