KR20040095295A - 이방 도전 시트 및 그 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 기판 등의 회로 기판과 각종 회로 부품 사이에 개재하고, 이들을 도통시키는 이방 도전성 시트 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 최근 고집적된 회로 기판이나 전자 부품이 요구되는 파인 피치의 이방성의 도전성을 확보하여 도전성 부재의 내구를 높인 이방 도전성 시트를 제공한다. 도전성 피스(24)와 비도전성 피스(22)가 교대로 배치된 줄무늬 모양의 직사각형 부재(14)와, 비전도성 직사각형 부재(12)를 서로 배치하여 이방 도전성 시트(10)를 구성하도록 하였다.
Description
최근 전자 기기의 소형화 및 박형화에 수반하여 미세한 회로끼리의 접속, 미세 부분과 미세한 회로의 접속 등의 필요성이 비약적으로 증대해지고 있다. 그 접속 방법으로서 땜납 접합 기술이나, 이방성의 도전성 접착제가 사용되고 있다. 또한, 이방 도전성 엘라스토머 시트를 전자 부품과 회로 기판 사이에 개재시켜 도통시키는 방법도 행해지고 있다.
이방 도전성 엘라스토머 시트는 일정 방향으로만 도전성이 있는 엘라스토머 시트인 것을 말한다. 일반적으로, 두께 방향으로만 도전성을 나타내는 것, 또는 두께 방향으로 가압되었을 때에 두께 방향으로만 도전성을 나타내는 것 등이 있다. 납땜 혹은 기계적 끼워 맞춤 등의 수단을 이용하지 않고 콤팩트한 전기적 접속을 달성하는 것이 가능하고, 기계적인 충격이나 왜곡을 흡수하여 소프트한 접속이 가능한 것 등의 특징을 가지므로, 예를 들어 휴대 전화, 전자 계산기, 전자식 디지털 시계, 전자 카메라, 컴퓨터 등의 분야에 있어서 널리 이용되고 있다. 또한, 회로장치, 예를 들어 프린트 회로 기판과 리드레스 칩 캐리어, 액정 패널 등의 상호간 전기적인 접속을 달성하기 위한 커넥터로서도 널리 이용되고 있다.
또한, 프린트 회로 기판이나 반도체 집적 회로 등의 회로 장치의 전기적 검사에 있어서는, 검사 대상인 회로 장치 중 적어도 일면에 형성된 피검사 전극과, 검사용 회로 기판의 표면에 형성된 검사용 전극과의 전기적인 접속을 달성하기 위해, 회로 장치의 피검사 전극 영역과 검사용 회로 기판의 검사용 전극 영역 사이에 이방 도전성 엘라스토머 시트를 개재시키는 것이 행해지고 있다.
종래, 이와 같은 이방 도전성 엘라스토머 시트로서는, 병치된 금속 세선을 절연체로 일체화함으로써 작성된 이방 도전성 블럭을 금속 세선에 직각인 방향으로 얇게 절단함으로써 얻게 되는 것이 알려져 있다(일본 특허 공개 제2000-340037호 공보 등).
그러나, 이와 같은 이방성 도전성 막에서는 금속 세선을 이용하고 있으므로, 금속 세선간의 거리를 작게 하는 것이 곤란하고, 최근의 고집적된 회로 기판이나 전자 부품이 요구하는 파인 피치의 이방성의 도전성을 확보하는 것이 어렵다. 또한, 금속 세선은 사용에 의한 압축력 등으로 버클링하기 쉽거나, 사용을 반복하면 빠지기 쉬워져 이방성 도전성 막의 기능이 충분히 담보되지 않은 경우가 있다.
본 발명에서는 이상과 같은 과제에 비추어, 최근의 고집적 회로 기판이나 전자 부품이 요구하는 파인 피치의 이방성 도전성 시트이며, 높은 내구성을 갖는 이방 도전성 시트를 제공한다.
본 발명은 기판 등의 회로 기판과 각종 회로 부품 사이에 개재하여 이들을 도통시키는 이방 도전성 시트 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
도1은 본 발명의 실시예 중 하나인 이방 도전성 시트를 도시하는 겨냥도이다.
도2는 도1의 본 발명의 실시예 중 하나인 이방 도전성 시트의 상부 좌측부를 부분적으로 확대한 부분 확대도이다.
도3은 본 발명의 실시예 중 하나인 이방 도전성 시트를 제조하는 방법에 관한 것으로, 도전성 시트와 비도전성 시트를 적층하는 공정을 도해한 도면이다.
도4는 본 발명의 실시예 중 하나인 이방 도전성 시트를 제조하는 방법에 관한 것으로, 도3에 있어서 적층한 도전성 시트와 비도전성 시트의 적층체를 절단하는 공정을 도해한 도면이다.
도5는 본 발명의 실시예 중 하나인 이방 도전성 시트를 제조하는 방법에 관한 것으로, 도4에 있어서 절단한 시트와 비도전성 시트를 적층하는 공정을 도해한 도면이다.
도6은 본 발명의 실시예 중 하나인 이방 도전성 시트를 제조하는 방법에 관한 것으로, 도5에 있어서 적층한 적층체를 절단하는 공정을 도해한 도면이다.
도7은 본 발명의 실시예 중 하나인 이방 도전성 시트를 제조하는 방법에 있어서, 적층체(C) 그리고 제브라형 시트 부재를 작성하는 방법을 흐름으로 나타낸 도면이다.
도8은 본 발명의 실시예 중 하나인 이방 도전성 시트를 제조하는 방법에 있어서, 제브라형 시트 부재 등으로부터 이방 도전성 시트를 작성하는 방법을 흐름으로 나타낸 도면이다.
도9는 본 발명의 다른 하나의 실시예인 이방 도전성 시트의 평면도이다.
도10은 도9에 있어서의 본 발명의 다른 하나의 실시예인 이방 도전성 시트의 A-A 단면도이다.
도11은 도9에 있어서의 본 발명의 다른 하나의 실시예인 이방 도전성 시트의 B-B 단면도이다.
본 발명에 있어서는, 도전성 피스와 비도전성 피스가 교대로 배치된 줄무늬 모양의 직사각형 부재와, 비도전성 직사각형 부재를 교대로 배치하여 구성되도록 한 것을 특징으로 한다.
보다 구체적으로는, 본 발명은 이하와 같은 것을 제공한다.
(1) 제1 평면으로 확대되는 이방 도전성 시트이며, 상기 제1 평면에 포함되는 제1 방향을 X 방향이라 하고, 이 X 방향에 직교하여 상기 제1 평면에 포함되는 방향을 Y 방향이라 하고, 상기 X 방향 및 Y 방향에 직교하는 방향을 Z 방향이라 한 경우에, Z 방향으로 소정의 두께를 갖고 상기 제1 평면에(X-Y 평면)에 대략 평행한 표면 및 이면을 갖는 이방 도전성 시트가 Y 방향으로 폭을 갖고 X 방향으로 신장하는 줄무늬 모양의 직사각형 부재이며, 도전성 피스 및 비도전성 피스를 X 방향에 교대로 배치한 줄무늬 모양의 직사각형 부재와, Y 방향으로 폭을 갖고 X 방향으로 신장하는 비도전성 직사각형 부재를 서로 Y 방향으로 늘어선 상태에서 포함하는 것을 특징으로 하는 이방 도전성 시트.
(2) 상기 줄무늬 모양의 직사각형 부재에 있어서의 상기 도전성 피스와 상기 비도전성 피스의 반복 간격이 X 방향으로 약 80 ㎛ 이하이고, Y 방향으로 약 110 ㎛ 이하이고, 상기 줄무늬 모양의 직사각형 부재의 폭이 약 80 ㎛ 이하이고, 상기 비도전성 직사각형 부재의 폭이 약 80 ㎛ 이하인 상기 (1)에 기재된 이방 도전성 시트.
(3) 상기 도전성 피스가 도전성 엘라스토머로 이루어지고, 상기 비도전성 피스가 제1 비도전성 엘라스토머로 이루어지고, 상기 비도전성 직사각형 부재가 제2비도전성 엘라스토머로 이루어지는 상기 (1) 또는 (2)에 기재된 이방 도전성 시트.
(4) 상기 도전성 피스와, 상기 비도전성 피스와, 및/또는 상기 줄무늬 모양의 직사각형 부재와, 상기 비도전성 직사각형 부재는 서로 화학 결합이 되어 있는 것이고, 상기 화학 결합 중 적어도 일부가 커플링제에 의해 행해지고 있는 상기 (3)에 기재된 이방 도전성 시트.
(5) 상기 이방 도전성 시트의 표면 및/또는 이면에 있어서, 상기 도전성 피스가 그 주위의 상기 비도전성 피스 또는 비도전성 직사각형 부재에 비해 돌출되어 있는 것을 특징으로 하는 상기 (1) 내지 (4) 중 어느 하나에 기재된 이방 도전성 시트.
(6) 상기 줄무늬 모양의 직사각형 부재가 직육면체 형상을 갖고 있는 상기 (1) 내지 (4) 중 어느 하나에 기재된 이방 도전성 시트.
(7) 상기 비도전성 직사각형 부재가 직육면체 형상을 갖고 있는 상기 (1) 내지 (4) 중 어느 하나에 기재된 이방 도전성 시트.
(8) 소정의 두께를 갖는 동시에 이 두께의 앞 및 뒤에 각각 소정의 표면 및 이면을 갖는 가요성의 이방 도전성 시트를 제조하는 방법이며, 도전성 시트(A)와 제1 비도전성 시트(B)를 교대로 적층하여 AB 시트 적층체(C)를 얻는 AB 시트 적층 공정과, 이 AB 시트 적층 공정에서 얻게 된 상기 AB 시트 적층체(C)를 소정의 두께로 절단하여 제브라형 시트를 얻는 제1 절단 공정과, 이 제1 절단 공정에서 얻게 된 상기 제브라형 시트와 제2 비도전성 시트(D)를 교대로 적층하여 제브라-D 시트 적층체(E)를 얻는 제브라-D 시트 적층 공정과, 이 제브라-D 시트 적층 공정에서 얻게 된 상기 제브라-D 시트 적층체(E)를 소정의 두께로 절단하는 제2 절단 공정을 포함하는 이방 도전성 시트를 제조하는 방법.
(9) 상기 AB 시트 적층 공정에 있어서, 상기 도전성 시트(A)를 상기 비도전성 시트(B) 상에 적층하기 전에 커플링제를 상기 비도전성 시트(B)에 실시하고, 상기 비도전성 시트(B)를 상기 도전성 시트(A) 상에 적층하기 전에 커플링제를 상기 도전성 시트(A)에 실시하고, 상기 제브라-D 시트 적층 공정에 있어서 상기 제브라형 시트를 상기 비도전성 시트(D) 상에 적층하기 전에 커플링제를 상기 비도전성 시트(D)에 실시하고, 상기 비도전성 시트(D)를 상기 제브라형 시트 상에 적층하기 전에 커플링제를 상기 제브라형 시트에 실시하는 것을 특징으로 하는 이방 도전성 시트를 제조하는 방법.
본 발명에서는 소정의 두께를 갖는 동시에 이 두께의 앞 및 뒤에 소정의 표면 및 이면을 갖는 가요성의 이방 도전성 시트이며, 상기 소정의 두께에 대략 합치하는 소정의 높이와, 소정의 폭을 갖고, 이들의 높이 및 폭 중 어느 쪽 보다도 긴 길이를 갖는 직사각형 부재이며, 이 직사각형 부재의 길이 방향에 도전성 피스와 비도전성 피스가 교대로 배치되는 줄무늬 모양의 직사각형 부재와, 상기 소정의 두께에 대략 합치하는 소정의 높이와, 소정의 폭을 갖고, 이들 높이 및 폭 중 어느 쪽 보다도 긴 길이를 갖는 직사각형 부재이며, 비도전성 직사각형 부재가 각각의 높이와 길이를 구비하도록 하여 폭 방향으로 나열한 폭이 넓은 직사각형 부재를 그 높이가 상기 이방 도전성 시트의 두께에 대략 상당하도록 포함하는 것을 특징으로 해도 좋다.
「제1 평면에 포함되는 제1 방향을 X 방향이라 하고, 이 X 방향에 직교하여 상기 제1 평면에 포함되는 방향을 Y 방향이라 하고, 상기 X 방향 및 Y 방향에 직교하는 방향을 Z 방향이라 한 경우에, Z 방향으로 소정의 두께를 갖고 상기 제1 평면에(X-Y 평면)에 대략 평행한 표면 및 이면을 갖는다」라고 함은, 통상의 시트가 갖는 특징이다. 이 이방 도전성 시트는 일정한 두께를 갖고, 두께보다도 큰 치수로 규정되는 표면 및 이면을 두께의 전후 혹은 상하로 갖고 있다. 「가요성」이라 함은, 시트가 휘어질 수 있는 것을 의미한다. 줄무늬 모양의 직사각형 부재는 도전성 피스와 비도전성 피스가 교대로 연결된 가늘고 긴 형상을 하고 있다. 줄무늬 모양의 직사각형 부재의 높이(또는 두께)는 도전성 피스 및 비도전성 피스의 높이(또는 두께)와 대략 동일하고, 일정한 높이(또는 두께)를 갖는다. 또한, 줄무늬 모양의 직사각형 부재의 폭은 도전성 피스 및 비도전성 피스의 폭과 대략 동일하고, 일정한 폭을 갖는다. 비도전성 직사각형 부재는 줄무늬 모양의 직사각형 부재와 대략 동일한 높이(또는 두께)와 길이를 갖는다. 따라서, 폭이 넓은 직사각형 부재는 줄무늬 모양의 직사각형 부재와 비도전성 직사각형 부재가 높이와 길이를 구비하여 폭 방향에 결합된 것으로, 상기 줄무늬 모양의 직사각형 부재의 폭과 비도전성 직사각형 부재의 폭을 더한 이상 또는 대략 동일한 폭을 갖는다.
도전성을 갖는다는 것은 도전율이 충분히 높은 것이다. 또한, 전기 저항이 충분히 낮은 것이다. 또한, 이방 도전성 시트 전체적으로는 이러한 구성을 갖는 이방 도전성 시트의 도전성 방향에 있어서 충분한 도전성을 갖게 할 수 있는 도전성을 갖는 것을 의미하고, 통상 접속되는 단자간의 저항이 100 Ω 이하(보다 바람직하게는 10 Ω 이하, 더욱 바람직하게는 1 Ω 이하)인 것이 바람직하다.
비도전성이라 함은, 도전율이 충분히 낮은 것이고, 또한 전기 저항이 충분히 높은 것이다. 또한, 이방 도전성 시트 전체적으로는 이와 같은 구성을 갖는 이방 도전성 시트의 비도전성 방향에 있어서 충분한 비도전성을 갖게 할 수 있는 비도전성을 갖는 것을 의미하고, 저항이 10 kΩ 이상(보다 바람직하게는100 kΩ 이상, 더욱 바람직하게는 1 MΩ 이상)인 것이 바람직하다.
교대로 배치된 줄무늬 모양의 직사각형 부재라 함은, 도전성 피스와 비도전성 피스가 교대로 배치되어, 가령 도전성 피스와 비도전성 피스의 색이 다르면 줄무늬 모양으로 되어 있는 가늘고 긴 부재이고, 실제로 줄무늬 모양으로 보일 필요는 없다. 단, 이와 같은 교대 배치는 줄무늬 모양의 직사각형 부재의 전체에 걸칠 필요는 없고, 일부에 그와 같은 상태가 있으면 된다.
반복 간격이라 함은, 인접하는 도전성 피스와 비도전성 피스의 길이(직사각형 부재의 길이 방향)를 더하여 2로 나눈 거리에 상당하고, 이러한 거리가 복수 존재할 경우에는 가장 짧은 거리의 것을 의미한다. 또한, 일반적으로는, 일정한 대략 직선을 시트 상에 그렸을 때에 그 대략 직선을 따라감으로써 도전성 피스(Ⅰ)/비도전성 피스(Ⅱ)/ 도전성 피스(Ⅲ)/비도전성 피스(Ⅳ), 또는 비도전성 피스(Ⅰ)/ 도전성 피스(Ⅱ)/비도전성 피스(Ⅲ)/ 도전성 피스(Ⅳ)를 통과할 때에, 상술한 (Ⅱ)와 (Ⅲ)을 통과할 때의 각각의 거리를 더하여 2로 나눈 것이 상당한다고 생각할 수 있다. 또한, 적용되는 단자 간격이라 함은, 예를 들어 이방 도전성 시트의 도전성 방향에 있어서 회로 기판 및/또는 전자 부품에 복수의 접속해야 할 단자가 있는 경우에, 이들 단자간의 상기 시트의 비도전성 방향에 있어서의 거리를 말하고, 이러한 거리가 복수 있는 경우에는 최소의 거리를 의미한다.
또한, 본 발명에서는 상기 줄무늬 모양의 직사각형 부재에 있어서 상기 도전성 피스와 비도전성 피스의 반복 간격이 X 방향으로 약 80 ㎛ 이하이고, Y 방향으로 약 110 ㎛ 이하이고, 상기 줄무늬 모양의 직사각형 부재의 폭이 약 80 ㎛ 이하이고, 상기 비도전성 직사각형 부재의 폭이 약 80 ㎛ 이하인 것을 특징으로 해도 좋다. 줄무늬 모양에 대해서는 상술한 바와 같이 실제로 줄무늬 모양으로 보일 필요는 없어, 교대로 배치된 상태를 표현하고 있는 것에 지나지 않는다. 여기서, 반복 간격은 상술한 바와 마찬가지로, X 및 Y 방향의 반복 간격이 X 방향으로 약 80 ㎛ 이하이고, Y 방향으로 약 110 ㎛ 이하이고, 또한 상기 2개의 폭이 약 80 ㎛ 이하일 필요가 있다. 또한, 보다 바람직하게는 각각 약 50 ㎛ 이하이다.
또한, 본 발명에서는 상기 도전성 피스가 도전성 엘라스토머로 이루어지고, 상기 비도전성 피스가 제1 비도전성 엘라스토머로 이루어지고, 상기 비도전성 직사각형 부재가 제2 비도전성 엘라스토머로 이루어져도 좋다. 제1 비도전성 엘라스토머와, 제2 비도전성 엘라스토머는 동일해도 좋고, 달라도 좋다.
또한, 본 발명에서는 상기 도전성 피스와, 상기 비도전성 피스와 및/또는 상기 줄무늬 모양의 직사각형 부재와, 상기 비도전성 직사각형 부재는 서로 화학 결합이 되어 있는 것으로, 상기 화학 결합 중 적어도 일부가 커플링제에 의해 행해지고 있는 것을 특징으로 한다. 본 발명에서는 상기한 각 요소간에 있어서 화학 결합이 행해지고 있고, 이방 도전성 시트는 일체적으로 취급되고 있다. 일반적으로,미가류의 엘라스토머(즉, 가열 등의 가교 처리를 행하고 있지 않는 것)의 경우에는 가류(즉, 가열 등의 가교 처리)에 의해 동일하게 미가류의 엘라스토머나 가류가 끝난 엘라스토머 사이에서 가교에 수반하여 분자 레벨에서의 화학 결합이 가능하다. 또한, 이들 조합이든, 그 이외의 조합이든 커플링제에 의해(프라이머 등에 의한 표면 처리를 포함함), 경계면에 있어서 분자 레벨에서의 화학 결합이 행해지는 것이 가능하다. 이 화학 결합의 특징은 결합력이 강한 것으로, 예를 들어 금속 세선을 엘라스토머 내에 삽입한 이방 도전성 시트에 있어서의 금속 세선과 엘라스토머의 결합보다도 견고하다. 또한, 이 화학 결합은 물리 결합이나 기계적 결합에 대한 언어로서 파악할 수도 있다.
도전성 엘라스토머라 함은, 도전성을 갖는 엘라스토머인 것을 말하고, 통상 체적 고유 저항을 낮게(예를 들어, 1 Ωㆍ㎝ 이하) 하도록 도전성의 재료를 섞은 엘라스토머이다. 구체적으로는, 엘라스토머로서 천연 고무, 폴리이소프렌 고무, 부타디엔-스틸렌, 부타디엔-아크릴로니트릴, 부타디엔-이소브틸렌 등의 부타디엔 공중합체나 공역 디엔계 고무 및 이들의 수소 첨가물, 스틸렌-부타디엔-디엔블럭 공중합체 고무, 스틸렌-이소프렌블럭 공중합체 등의 블럭 공중합체 고무 및 이들의 수소 첨가물, 클로로플렌 중합체, 염화비닐-초산비닐 공중합체, 우레탄 고무, 폴리에스테르계 고무, 에피크롤히드린 고무, 에틸렌-프로필렌 공중합체 고무, 에틸렌-프로필렌-디엔 공중합체 고무, 연질액형 에폭시 고무, 실리콘 고무, 또는 불소 고무 등이 사용된다. 이들 중에서도, 내열성, 내한성, 내약품성, 내후성, 전기 절연성 및 안전성이 우수한 실리콘 고무가 적합하게 이용된다. 이와 같은 엘라스토머에 금속의 분말, 후레이크, 소편, 박 등이나 카본 등의 비금속 분말, 후레이크, 소편, 박 등의 도전성 물질을 혼합함으로써 도전성 엘라스토머가 구성된다. 금속으로서는, 예를 들어 금, 은, 구리, 니켈, 텅스텐, 백금, 팔라듐, 그 밖의 순금속, 스테인레스강, 인청동, 베릴륨동 등의 합금이 포함된다. 또한, 카본에는 카본나노튜브나 플라렌 등을 포함하고 있다.
비도전성 엘라스토머라 함은, 도전성이 없거나 또는 도전성이 현저히 낮은 엘라스토머인 것을 말하며, 구체적으로는 천연 고무, 폴리이소프렌 고무, 부타디엔-스틸렌, 부타디엔-아크릴로니트릴, 부타디엔-이소브틸렌 등의 부타디엔 공중합체나 공역 디엔계 고무 및 이들의 수소 첨가물, 스틸렌-부타디엔-디엔블럭 공중합체 고무, 스틸렌-이소프렌블럭 공중합체 등의 블럭 공중합체 고무 및 이들의 수소 첨가물, 클로로플렌 중합체, 염화비닐-초산비닐 공중합체, 우레탄 고무, 폴리에스테르계 고무, 에피크롤히드린 고무, 에틸렌-프로필렌 공중합체 고무, 에틸렌-프로필렌-디엔 공중합체 고무, 연질액형 에폭시 고무, 실리콘 고무, 또는 불소 고무 등이 사용된다. 이들 중에서도, 내열성, 내한성, 내약품성, 내후성, 전기 절연성 및 안전성이 우수한 실리콘 고무가 적합하게 이용된다. 이와 같은 비도전성 엘라스토머는, 통상은 체적 저항이 높기(예를 들어, 100 V에서 1 MΩㆍ㎝ 이상) 때문에 비도전성이다.
이들 도전성 엘라스토머 및 비도전성 엘라스토머를 결합시키는 커플링제는 이들 부재를 결합시키는 결합제로, 통상 시판되고 있는 접착제를 포함한다. 구체적으로는, 실란계, 알루미늄계, 티타네이트계 등의 커플링제이고, 실란 커플링제가양호하게 이용된다.
또한, 본 발명에 관한 이방 도전성 시트에 있어서는, 상기 도전성 피스가 상기 비도전성 매트릭스에 비해 돌출되어 있는 것을 특징으로 한다. 「돌출되어 있다」라 함은, 이방 도전성 시트의 두께에 있어서 비도전성 매트릭스 부위보다도 도전성 피스의 부위 쪽이 두꺼운 경우, 이방 도전성 시트를 수평하게 두었을 때에 비도전성 매트릭스의 상측면 상치가 도전성 피스의 상측면 상치보다도 낮은 경우, 및/또는 이방 도전성 시트를 수평하게 두었을 때에 비도전성 매트릭스의 하측면 위치가 도전성 피스의 하측면 위치보다도 높은 경우이다. 이와 같이 하면, 전자 부품이나 기판 단자의 전기적 접촉이 보다 확실해진다. 이들 단자가 시트에 근접할 때에 도전성 피스에 최초로 접촉하여 시트에의 압박력에 의해 적절한 접촉압을 확보할 수 있기 때문이다.
혹은, 본 발명에서는 상기 줄무늬 모양의 직사각형 부재가 직육면체 형상을 갖고 있어도 좋다. 또한, 상기 비도전성 직사각형 부재가 직육면체 형상을 갖고 있어도 좋다.
또한, 본 발명은 소정의 두께를 갖는 동시에 이 두께의 앞 및 뒤에 각각 소정의 표면 및 이면을 갖는 가요성의 이방 도전성 시트를 제조하는 방법이며, 도전성 시트(A)와 제1 비도전성 시트(B)를 교대로 적층하여 AB 시트 적층체(C)를 얻는 AB 시트 적층 공정과, 상기 AB 시트 적층체(C)를 소정의 두께로 절단하여 제브라형 시트 부재를 얻는 제1 절단 공정과, 상기 제브라형 시트 부재와 제2 비도전성 시트(D)를 교대로 적층하여 제브라-D 시트 적층체(E)를 얻는 제브라-D 시트 적층 공정과, 상기 제브라-D 시트 적층체(E)를 소정의 두께로 절단하는 제2 절단 공정을 포함하는 것을 특징으로 한다.
여기서, 상기 도전성 시트(A), 상기 비도전성 시트(B)는 각각 단일 종류의 시트 부재라도 좋고, 다른 종류의 시트 부재의 집합체라도 좋다. 예를 들어, 도전성 시트(A)가 재질은 동일해도 그 두께를 바꾼 시트 부재의 집합체라도 좋다. 교대로 적층한다라 함은, 상기 도전성 시트(A)와 상기 비도전성 시트(B)를 임의의 순서로 엇갈리게 적층하는 것을 의미하지만, 제3 시트나 막, 그 밖의 부재 등을 또한 상기 도전성 시트(A)와 상기 비도전성 시트(B) 사이에 협입하는 것을 방해하지 않는다. 또한, 각 시트 부재를 적층하는 공정에 있어서, 시트 사이에 커플링제를 실시하여 시트 사이가 결합되도록 해도 좋다. 이와 같은 적층으로 만들어진 AB 시트 적층체(C)는 시트간의 결합성을 증가시키기 위해, 시트 부재 자체의 경화를 보다 진행시키기 위해, 혹은 그 밖의 목적으로 가열 등을 해도 좋다.
상기 AB 시트 적층체(C)에 대해서는 초강 커터, 세라믹 커터 등의 날에 의한 절단이나, 파인 커터와 같은 지석을 사용한 절단, 톱과 같은 날에 의한 절단이나, 그 밖의 절삭 기기나 절단 기구(레이저 절단기와 같은 비접촉형 절단 장치를 포함해도 좋음)에 의한 절단을 할 수 있다. 또한, 절단의 과정에 있어서, 과열을 방지하기 위해, 말끔한 절단면을 내기 위해, 혹은 그 밖의 목적을 위해 절삭유 등의 절삭 유동체(fluid)를 이용해도 좋고, 건식으로 절단해도 좋다. 또한 절단의 대상물(예를 들어 워크)을 단독으로 혹은 절삭 기기 및 기구와 함께 회전하여 움직여 절단해도 좋지만, 절단을 위한 다양한 조건은 상기 AB 시트 적층체(C)에 맞추어 적절하게 선택되는 것은 물론이다. 소정의 두께로 절단한다라 함은, 미리 정해 놓은 두께를 갖는 시트 부재를 얻을 수 있도록 절단하는 것을 의미하고, 소정의 두께는 균일해야만 하는 것은 아니며, 시트 부재의 장소에 따라 두께가 변화되어도 좋다.
제1 비도전성 시트(B)와 제2 비도전성 시트(D)는 동일해도 좋고, 달라도 좋다.
상기 제브라형 시트와 상기 비도전성 시트(D)를 교대로 적층하여 제브라-D 시트 적층체(E)를 얻는 제브라-D 시트 적층 공정에 있어서도, 상술한 도전성 시트(A) 및 비도전성 시트(B)로부터 AB 시트 적층체(C)를 얻는 AB 시트 적층 공정과 마찬가지이다. 또한, 상기 제브라-D 시트 적층체(E)를 소정의 두께로 절단하는 제2 절단 공정에 있어서도 상술한 AB 시트 적층체(C)를 절단하는 제1 절단 공정과 마찬가지이다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 예로 들면서, 본 발명을 보다 상세하게 설명한다. 우선, 본 실시예는 본 발명의 적합한 예로서 구체적인 재료나수치를 예로 든 것이므로, 본 발명은 본 실시예에 한정되는 것은 아니다.
도1은 본 발명의 실시예인 이방 도전성 시트(10)를 도시한다. 좌측 상부의 부분에 이 이방 도전성 시트(10)의 XYZ의 직교 좌표계가 도시되어 있다(도2에 있어서 동일함). 본 실시예의 이방 도전성 시트(10)는 직사각형의 시트 부재이고, 비도전성 직사각형 부재(12)와, 도전성 피스 및 비도전성 피스를 교대로 배치한 줄무늬 모양의 직사각형 부재(14)가 교대로 배치되어 있다. 인접하는 상기 비도전성 직사각형 부재(12)와 줄무늬 모양의 직사각형 부재(14)는 커플링제에 의해 결합되어 있다. 본 실시예의 이방 도전성 시트에서는 비도전성 직사각형 부재(12) 및 줄무늬 모양의 직사각형 부재(14)에 도전성 엘라스토머 및 비도전성 엘라스토머가 이용되고 있다. 도전성 엘라스토머로서는 신에쯔 폴리머 가부시끼가이샤제의 도전성 실리콘 고무를 이용하고 있고, 비도전성 엘라스토머로서는 미쯔비시 주시 가부시끼가이샤제의 실리콘 고무나 신에쯔 폴리머 가부시끼가이샤제의 실리콘 고무 등을 이용하고 있다. 또한, 본 실시예의 이방 도전성 시트에서는 적절하게 커플링제가 이용되고 있고, 커플링제는 신에쯔 폴리머 가부시끼가이샤제의 실란 커플링제를 이용하고 있다.
도2는 도1의 좌측 상부 구석을 확대한 부분 확대도로, 비도전성 직사각형 부재(12) 및 줄무늬 모양의 직사각형 부재(14)를 보다 상세하게 도시하고 있다. 도1의 비도전성 직사각형 부재(12)는, 여기서는 비도전성 직사각형 부재(20, 40, 60) 등이 상당하고, 도1의 줄무늬 모양의 직사각형 부재(14)는 비도전성 피스(22, 26, 30, 34) 및 도전성 피스(24, 28, 32) 등으로 이루어지는 줄무늬 모양의 직사각형부재, 비도전성 피스(42, 46, 50, 54) 등 및 도전성 피스(44, 48, 52, 56) 등으로 이루어지는 줄무늬 모양의 직사각형 부재 등이 상당한다. 즉, 비도전성 직사각형 부재(20) 옆에 비도전성 피스(22, 26, 30, 34) 및 도전성 피스(24, 28, 32) 등으로 이루어지는 줄무늬 모양의 직사각형 부재가 배치되고, 그 옆에 비도전성 직사각형 부재(40)가 배치되고, 또한 비도전성 피스(42, 46, 50, 54) 및 도전성 피스(44, 48, 52, 56) 등으로 이루어지는 줄무늬 모양의 직사각형 부재가 배치되는 구조로 되어 있다. 이들 직사각형 부재의 두께는, 본 실시예에 있어서는 대략 동일(T)하다. 상술한 바와 같이 인접하는 양 직사각형 부재는 서로 커플링제에 의해 결합되어 있고, 줄무늬 모양의 직사각형 부재(14)를 구성하는 인접하는 도전성 및 비도전성 피스도 커플링제로 결합되어 있고, 도1에 도시한 바와 같은 1매의 시트를 구성한다. 여기서, 결합시키고 있는 커플링제는 비도전성이고, 시트의 면 방향의 비도전성은 담보되어 있다.
비도전성 직사각형 부재(20, 40, 60)는 각각의 폭이 t31, t32, t33,…, t3k(k는 4 이상의 자연수)이고, 줄무늬 모양의 직사각형 부재(14)는 각각의 폭이 t41, t42, t43,…, t4k(k는 4 이상의 자연수)이다. 이들 폭은, 본 실시예에서는 모두 동일하지만, 다른 실시예에 있어서 모두 동일해도 좋고, 모두 달라도 좋다. 이들 폭은, 뒤에 서술하는 본 실시예의 이방 도전성 시트의 제조 방법에 있어서 쉽게 조정할 수 있다. 또한, 줄무늬 모양의 직사각형 부재(14)는 길이1t11,1t12,1t13,…,1t1m(m은4 이상의 자연수) ;2t11,2t12,2t13,…,2t1n(n은 4 이상의 자연수)…의 비도전성 피스(22, 26, 30, 34,…, 42, 46, 50, 54,…) 및 길이1t21,1t22,1t23,…,1t2m(m은 4 이상의 자연수) ;2t21,2t22,2t23,…,2t2n(n은 4 이상의 자연수)…의 도전성 피스(24, 28, 32,…, 44, 48, 52,…)로 구성된다. 이들 각 부재의 길이는 본 실시예에 있어서 모두 동일하지만, 다른 실시예에 있어서 모두 동일해도 좋고, 모두 달라도 좋다. 이들 길이는 뒤에 서술하는 본 실시예의 이방 도전성 시트의 제조 방법에 있어서 쉽게 조정할 수 있다.
또한, 본 실시예에 있어서는 줄무늬 모양의 직사각형 부재의 도전성 피스의 길이를 약 50 ㎛로 하고, 비도전성 피스의 길이를 약 30 ㎛로 하고, 줄무늬 모양의 직사각형 부재의 폭을 약 50 ㎛로 하고, 비도전성 직사각형 부재의 폭을 약 50 ㎛로 하고 있지만, 다른 실시예에 있어서 그들보다 길게(혹은 크게) 또는 짧게(혹은 작게) 할 수 있는 것은 물론이다.
본 실시예의 경우, 반복 간격은 2개의 인접하는 다른 종류의 엘라스토머의 길이를 더하여 2로 나눈 수치, 즉 [(kt1m＋kt2m)/2] 혹은 [(kt1m＋kt2(m-1))/2]에 상당한다. 이방 도전성 시트 전체적으로는 이들 수치의 평균치를 이용해도 좋고, 최소치를 이용할 수도 있고, 시트가 필요한 장소의 최소치 또는 평균치를 이용할 수도 있다. 평균치를 이용하는 경우에는 시트 전체적인 파인 피치의 성능을 나타내고, 최소치를 이용할 때에는 보증할 수 있는 최소 단자간 간격을 규정한다고 생각할 수 있다. 또한, 비교적 균일하게 도전성 엘라스토머가 배치되어 있는 경우에는, 줄무늬 모양의 직사각형 부재에 있어서, 단위 길이당 소정 길이의 도전성 엘라스토머의 출현 횟수나 도전성 엘라스토머의 누적 길이를 이용해도 좋다. 본 실시예에 있어서는, 반복 간격은 평균 혹은 최소치를 이용했다고 해도 약 40 ㎛이고, 단위 길이당 도전성 엘라스토머의 누적 길이는 약 0.6 ㎜/㎜이다.
본 실시예의 이방 도전성 시트는 상술한 폭이나 길이를 더함으로써 그 치수를 명시할 수 있지만, 폭이나 길이에 제한은 없고, 또한 두께(T)에 대해서도 제한이 없다(본 실시예의 이방 도전성 시트의 두께는 약 1 ㎜임). 단, 회로 기판과 전자 부품의 단자 사이를 접속하기 위해 이용하는 경우에는, 이들 치수와 정합하는 크기이면 바람직하다. 이와 같은 경우에는, 통상 0.5 내지 3.0 ㎝ × 0.5 내지 3.0 ㎝의 두께가 0.5 내지 2.0 ㎜이다.
도3 내지 도6에 있어서, 상술한 실시예의 이방 도전성 시트를 제조하는 방법을 설명한다. 도3에 있어서는, 도전성 시트(A)(70) 및 비도전성 시트(B)(80)가 준비되어 있고, 이들로부터 각종 시트 부재를 교대로 적층하여 AB 시트 적층체(C)를 작성하고 있는 모습을 도시하고 있다. 적층 도중 AB 시트 적층체(C)(90)에는 다시 비도전성 시트(B)(82)가 적층되고, 그 위에 도전성 시트(A)(72)가 적층되어 있다. 이들 시트 부재 사이에는 커플링제가 실시되어 있고, 시트 부재 사이는 결합된다. 적층 도중의 AB 시트 적층체(C)(90)의 가장 하부에는 비도전성 시트(B)(83)가 배치되어 있고, 이 시트 부재의 두께가 도1 및 도2에 있어서의1t11에 상당한다고 생각하고 있고, 그 바로 위의 도전성 시트(A)(73)의 두께가 도1 및 도2에 있어서의1t21에 상당한다고 생각해도 좋고, 차례로 시트 부재(84, 74, 85, 75)의 두께가 각각 도1 및 도2에 있어서의1t12,1t22,1t13,1t23에 상당한다고 생각해도 좋다. 즉, 도1 및 도2의 줄무늬 모양의 직사각형 부재(14)에 있어서의 비도전성 피스 및 도전성 피스의 길이는 이들 시트 부재의 두께를 바꿈으로써 자유롭게 바꿀 수 있다. 마찬가지로, 비도전성 직사각형 부재(40과 60)에 끼워진 줄무늬 모양의 직사각형 부재의 각종 부재의 길이(2t11,2t21,2t12,2t22,2t13,2t23)는 대응하는 비도전성 및 도전성 시트의 두께에 대응한다. 통상 이들 두께는 약 80 ㎛ 이하이고, 파인 피치로서 보다 바람직하게는 약 50 ㎛ 이하이다. 본 실시예에 있어서는, 비도전성 피스의 길이를 약 30 ㎛로 하고, 도전성 피스의 길이를 약 50 ㎛로 하도록 두께를 조정하였다.
또한, 도전성 시트와 비도전성 시트를 교대로 적층하는 것에는 도전성 시트를 2매 이상 연속해서 적층하고, 그 후 비도전성 시트를 1매 이상 적층하는 것을 포함한다. 또한, 비도전성 시트를 2매 이상 연속해서 적층하고, 그 후 도전성 시트를 1매 이상 적층하는 것이 마찬가지로 교대로 적층하는 것에 포함된다.
도4는 상술한 AB 시트 적층 공정에 의해 작성된 AB 시트 적층체(C)(92)를 절단하는 제1 절단 공정을 나타내고 있다. AB 시트 적층체(C)(92)는 얻게 되는 제브라형 시트(91)의 두께가 원하는 t4k(k는 자연수)가 되도록, 1-1 절단선으로부터 절단된다. 이 두께(t4k)는 도1 및 도2에 있어서의 t41, t42등에 상당한다. 이와 같이, 도1 및 도2에 있어서의 줄무늬 모양의 직사각형 부재(14)의 폭은 자유롭게 조정할 수 있어, 모두를 동일하게 해도, 다르게 해도 좋고, 통상은 약 80 ㎛ 이하가, 보다 바람직하게는 약 50 ㎛ 이하가 된다. 본 실시예에서는 약 50 ㎛로 하였다.
도5는 상술한 제1 절단 공정에 의해 작성된 제브라형 시트(93) 및 비도전성 시트(D)(80)로부터 이들 시트 부재를 교대로 적층하여 제브라-D 시트 적층체(E)를 작성하고 있는 모습을 도시하고 있다. 적층 도중의 제브라-D 시트 적층체(E)(100)에는 또한 비도전성 시트(86)가 적층되고, 그 위에 제브라형 시트(96)가 적층되고 있다. 이들 시트 부재 사이에는 커플링제가 실시되어 있고, 시트 부재 사이가 결합된다. 적층 도중의 제브라-D 시트 적층체(100)의 가장 하부에는 비도전성 시트(87)가 배치되어 있고, 이 시트 부재의 두께가 도1 및 도2에 있어서의 비도전성 직사각형 부재(12)의 폭인 t31에 상당한다고 생각해도 좋고, 그 바로 위의 시트 부재(97)의 두께가 도1 및 도2에 있어서의 t41에 상당하면 상술한 바와 같이 생각해도 좋고, 차례로 시트 부재(89, 99)의 두께가 각각 도1 및 도2에 있어서의 t32, t42에 상당한다고 생각해도 좋다. 즉, 도1의 비도전성 직사각형 부재(12)와 줄무늬 모양의 직사각형 부재(14)의 폭은 이들 시트 부재의 두께를 바꿈으로써 자유롭게 바꿀수 있다. 통상 이들 폭은 약 80 ㎛ 이하이고, 파인 피치로서 보다 바람직하게는 약 50 ㎛ 이하이다. 본 실시예에 있어서는, 비도전성 직사각형 부재(12)의 폭을 약 30 ㎛로 하고, 줄무늬 모양의 직사각형 부재(14)의 폭을 약 50 ㎛로 하도록 두께를 조정하였다.
도6은 상술한 제브라-D 시트 적층 공정에 의해 작성된 제브라-D 시트 적층체(E)(102)를 절단하는 제2 절단 공정을 나타내고 있다. 적층체(102)는 얻게 되는 이방 도전성 시트(104)의 두께가 원하는 T가 되도록 2-2 절단선으로 절단된다. 따라서, 통상은 매우 얇은 이방 도전성 시트의 작성이나 두꺼운 이방 도전성 시트의 작성을 쉽게 할 수 있다. 통상은 약 1 ㎜정도이지만, 얇게 하는 경우에는 약 100 ㎛ 이하(특히 원할 때에는 약 50 ㎛ 이하)로 할 수도 있고, 수 ㎜로 할 수도 있다. 본 실시예에서는 약 1 ㎜로 하였다.
도7 및 도8에 상술한 이방 도전성 시트를 제조하는 방법을 흐름도에 나타냈다. 도7은 제브라형 시트를 작성하는 공정을 나타낸다. 우선, 비도전성 시트(B)를 적층하기 위한 소정 위치에 둔다(S-01). 옵션으로서 커플링제를 상기 비도전성 시트(B) 상에 실시한다(S-02). 옵션이기 때문에 이 공정을 생략할 수 있는 것은 물론이다(이하 동일). 도전성 시트(A)를 그 위에 둔다(S-03). 쌓인 AB 시트 적층체(C)의 두께(또는 높이)가 원하는 두께(또는 높이)로 되어 있는지를 체크한다(S-04). 만약 원하는(소정의) 두께로 되어 있으면 제1 절단 공정(S-08)으로 진행한다. 만약 원하는(소정의) 두께로 되어 있지 않으면 옵션으로서 커플링제를 상기 도전성 시트(A)에 실시한다(S-05). 비도전성 시트(B)를 그 위에 둔다(S-06). 적재된 AB 시트 적층체(C)의 두께(또는 높이)가 원하는 두께(또는 높이)로 되어 있는지를 체크한다(S-07). 만약 원하는(소정의) 두께로 되어 있으면 제1 절단 공정(S-08)으로 진행한다. 만약 원하는(소정의) 두께로 되어 있지 않으면 S-02 공정으로 복귀하여, 옵션으로서 커플링제를 상기 비도전성 시트(B)에 실시한다. 제1 절단 공정(S-08)에서는 1매씩 혹은 복수매 동시에 제브라형 시트를 절취하고, 제브라형 시트를 스톡해 둔다(S-09).
도8은 제브라형 시트와 비도전성 시트(D)로부터 이방 도전성 시트를 작성하는 제브라-D 시트 적층 공정을 나타낸다. 우선, 비도전성 시트(D)를 적층하기 위한 소정 위치에 둔다(S-10). 옵션으로서 커플링제를 상기 비도전성 시트(D) 상에 실시한다(S-11). 제브라형 시트를 그 위에 둔다(S-12). 적재된 제브라-D 시트 적층체(E)의 두께(또는 높이)가 원하는 두께(또는 높이)로 되어 있는지를 체크한다(S-13). 만약 원하는(소정의) 두께로 되어 있으면 제2 절단 공정(S-17)으로 진행한다. 만약 원하는(소정의) 두께로 되어 있지 않으면 옵션으로서 커플링제를 상기 제브라형 시트에 실시한다(S-14). 비도전성 시트(D)를 그 위에 둔다(S-15). 적재된 제브라-D 시트 적층체(E)의 두께(또는 높이)가 원하는 두께(또는 높이)로 되어 있는지를 체크한다(S-16). 만약 원하는(소정의) 두께로 되어 있으면 제2 절단 공정(S-17)으로 진행한다. 만약 원하는(소정의) 두께로 되어 있지 않으면 S-11 공정으로 복귀하고, 옵션으로서 커플링제를 상기 제브라형 시트에 실시한다. 제2 절단 공정(S-17)에서는 1매씩 혹은 복수매 동시에 이방 도전성 시트를 절취한다(S-18).
도9, 도10 및 도11에 제2 실시예를 나타낸다. 이 제2 실시예에서는, 가류가끝난 도전성 시트와 미가류의 비도전성 시트를 이용하여 상술한 바와 같은 방법으로 이방 도전성 시트(110)를 작성하였다. 도10 및 도11은 이 이방 도전성 시트(110)의 A-A 단면 및 B-B 단면을 도시하고 있다. 이들 도면으로부터 알 수 있는 바와 같이, 시트 표면에서는 도전성 피스(124 128, 132, 148)가 볼록 상태에 있고, 비도전성 피스(122 126, 130, 134, 120, 140, 160)보다도 돌출되어 있으므로 콘택트의 신뢰성이 높다. 이와 같은 형상이 된 것은 가열에 의한 미가류의 고무가 수축하였기 때문이다. 이 때의 도전성 엘라스토머는 가류가 끝난 것이고, 비도전성 엘라스토머는 미가류인 것이다. 미가류의 비도전성 엘라스토머는, 가열 등에 의해 가류가 끝난 엘라스토머와 접착할 수 있다. 그로 인해, 상술한 제조 방법에 있어서 옵션의 커플링제의 부여는 반드시 필요한 것이 아니며, 공정으로부터 삭제할 수 있다.
이상과 같이, 본 발명의 이방 도전성 시트는 면 방향의 절연성을 담보하면서, 두께 방향의 도전성을 만족하는 효과가 있을 뿐만 아니라, 비도전성 피스나 도전성 피스의 길이 등의 사이즈를 자유롭게 설정할 수 있어 고집적화에 의해 요구되는 파인 피치를 용이하게 달성할 수 있다. 또한, 도전성 피스와 비도전성 피스는 화학적으로 결합(고무의 가교)하고 있으므로, 선형의 금속 등을 도전성부에 이용하였을 때에 발생하기 쉬운 도전성부의 빠짐 등에 의한 누락이 없어지는 효과가 있다. 또한, 도전성 피스는 반드시 비도전성 피스에 둘러싸여 있으므로, 금속 등의 도전성 입자 등을 혼입시킨 이방 도전성 시트에 생기기 쉬운 시트의 면 방향에 있어서의 도전성 입자의 근접 및 접촉에 의한 혼선이 발생하지 않는 효과가 있다.또한, 본 발명에 관한 이방 도전성 시트는 줄무늬 모양의 직사각형 부재와 비도전성 직사각형 부재를 구성 요소로 하고 있으므로, 직사각형 부재간의 결합 상태를 조정함으로써 직사각형 부재의 방향으로 절단하는 것이 용이해지는 것을 기대할 수 있다.
Claims (9)
- 제1 평면으로 확대되는 이방 도전성 시트이며, 상기 제1 평면에 포함되는 제1 방향을 X 방향이라 하고, 이 X 방향에 직교하여 상기 제1 평면에 포함되는 방향을 Y 방향이라 하고, 상기 X 방향 및 Y 방향에 직교하는 방향을 Z 방향이라 한 경우에, Z 방향으로 소정의 두께를 갖고 상기 제1 평면에(X-Y 평면)에 대략 평행한 표면 및 이면을 갖는 이방 도전성 시트가 Y 방향으로 폭을 갖고 X 방향으로 신장하는 줄무늬 모양의 직사각형 부재이며, 도전성 피스 및 비도전성 피스를 X 방향으로 교대로 배치한 줄무늬 모양의 직사각형 부재와, Y 방향으로 폭을 갖고 X 방향으로 신장하는 비도전성 직사각형 부재를 서로 Y 방향으로 나열한 상태에서 포함하는 것을 특징으로 하는 이방 도전성 시트.
- 제1항에 있어서, 상기 줄무늬 모양의 직사각형 부재에 있어서의 상기 도전성 피스와 상기 비도전성 피스의 반복 간격이 X 방향으로 약 80 ㎛ 이하이고, Y 방향으로 약 110 ㎛ 이하이고, 상기 줄무늬 모양의 직사각형 부재의 폭이 약 80 ㎛ 이하이고, 상기 비도전성 직사각형 부재의 폭이 약 80 ㎛ 이하인 이방 도전성 시트.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 도전성 피스가 도전성 엘라스토머로 이루어지고, 상기 비도전성 피스가 제1 비도전성 엘라스토머로 이루어지고, 상기 비도전성 직사각형 부재가 제2 비도전성 엘라스토머로 이루어지는 이방 도전성 시트.
- 제3항에 있어서, 상기 도전성 피스와, 상기 비도전성 피스와, 및/또는 상기 줄무늬 모양의 직사각형 부재와, 상기 비도전성 직사각형 부재는 서로 화학 결합이 되어 있는 것으로, 상기 화학 결합 중 적어도 일부가 커플링제에 의해 행해지고 있는 이방 도전성 시트.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 이방 도전성 시트의 표면 및/또는 이면에 있어서, 상기 도전성 피스가 그 주위의 상기 비도전성 피스 또는 비도전성 직사각형 부재에 비해 돌출되어 있는 이방 도전성 시트.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 줄무늬 모양의 직사각형 부재가 직육면체 형상을 갖고 있는 이방 도전성 시트.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 비도전성 직사각형 부재가 직육면체 형상을 갖고 있는 이방 도전성 시트.
- 소정의 두께를 갖는 동시에 이 두께의 앞 및 뒤에 각각 소정의 표면 및 이면을 갖는 가요성의 이방 도전성 시트를 제조하는 방법이며, 도전성 시트(A)와 제1 비도전성 시트(B)를 교대로 적층하여 AB 시트 적층체(C)를 얻는 AB 시트 적층 공정과, 이 AB 시트 적층 공정에서 얻게 된 상기 AB 시트 적층체(C)를 소정의 두께로절단하여 제브라형 시트를 얻는 제1 절단 공정과, 이 제1 절단 공정에서 얻게 된 상기 제브라형 시트와 제2 비도전성 시트(D)를 교대로 적층하여 제브라-D 시트 적층체(E)를 얻는 제브라-D 시트 적층 공정과, 이 제브라-D 시트 적층 공정에서 얻게 된 상기 제브라-D 시트 적층체(E)를 소정의 두께로 절단하는 제2 절단 공정을 포함하는 이방 도전성 시트를 제조하는 방법.
- 상기 AB 시트 적층 공정에 있어서, 상기 도전성 시트(A)를 상기 비도전성 시트(B) 상에 적층하기 전에 커플링제를 상기 비도전성 시트(B)에 실시하고, 상기 비도전성 시트(B)를 상기 도전성 시트(A) 상에 적층하기 전에 커플링제를 상기 도전성 시트(A)에 실시하고, 상기 제브라-D 시트 적층 공정에 있어서 상기 제브라형 시트를 상기 비도전성 시트(D) 상에 적층하기 전에 커플링제를 상기 비도전성 시트(D)에 실시하고, 상기 비도전성 시트(D)를 상기 제브라형 시트 상에 적층하기 전에 커플링제를 상기 제브라형 시트에 실시하는 것을 특징으로 하는 이방 도전성 시트를 제조하는 방법.
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