KR20040072397A - 탐술로신의 정제 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 탐술로신 정제 방법에 관한 것으로, 특히, 유기 용매 하에서, 하기 화학식 1의 구조를 가지는 탐술로신에 카르복시산을 가하여 탐술로신 카르복시산 염을 침전시킨 후, 상기 탐술로신 카르복시산 염에 염산을 가하는 간단한 공정을 통해 극미량의 불순물만을 포함하는 고순도의 탐술로신 염산염을 제조할 수 있도록 하는 탐술로신의 정제 방법에 관한 것이다.
[화학식 1]

Description

탐술로신의 정제 방법 {A purification process of Tamsulosin}
본 발명은 탐술로신 정제 방법에 관한 것으로, 특히, 유기 용매 하에서, 하기 화학식 1의 구조를 가지는 탐술로신에 카르복시산을 가하여 탐술로신 카르복시산 염을 침전시킨 후, 상기 탐술로신 카르복시산 염에 염산을 가하는 간단한 공정을 통해 극미량의 불순물만을 포함하는 고순도의 탐술로신 염산염을 제조할 수 있도록 하는 탐술로신의 정제 방법에 관한 것이다.
[화학식 1]
상기 화학식 1의 구조를 가지는 (R)-5-{2-[2-(2-에톡시페녹시)에틸]아미노}프로필-2-메톡시벤젠설폰아미드는 일명 탐술로신으로 알려진 화합물로써, 이러한화합물은 α-아드레날린성 차단 작용을 나타내며, 양성 전립선 비대, 항고혈압제 및 울혈성 심부전의 치료제로 유용하게 사용되는 것으로 알려져 있다.
이와 같은 상기 화합물의 효용성에 따라, 약학적으로 유용한 탐술로신을 제조하는 방법이 계속적으로 연구되어 왔으며, 이에 대한 여러 가지 제조 방법이 제안된 바 있다. 특히, 미국 특허 제 4,217,305 호 및 제 4,373,106 호에는 라세미체 화합물을 출발 물질로 사용하여 상기와 같은 탐술로신을 제조하는 방법이 개시된 바 있으며, 한국 특허 공고 제 94-7746 호에는 키랄 아민을 이용하여 광학 활성 물질인 탐술로신을 제조하는 방법이 널리 알려져 있다.
그러나, 상기와 같은 종래 기술의 제조 방법들은 라세미체로부터 단일 이성체 화합물을 분리하는 공정을 포함하게 되어 수율이 50%를 넘을 수 없거나, 여러 가지 부반응을 수반하는 등의 문제점을 가지고 있어서, 이에 의할 경우, 최종 제조되는 탐술로신의 수율이 극히 낮게 될 수밖에 없었다.
이에 따라, 본 발명자들은 상기 화학식 1의 구조를 가지는 탐술로신을 높은 수율로 제조할 수 있는 방법을 개발하여 2001. 5. 7. 자로 한국에 특허 출원한 바 있다(한국 특허 공개 제 2002-0085278 호, 2002. 11. 16. 공개).
[화학식 2]
상기 공개 공보에서는, 하기 반응식 1에서 볼 수 있는 바와 같이, 상기 화학식 2의 아지리딘 화합물과 Pd/C의 혼합물에 수소 가스를 주입하여, 환원 반응을 진행함으로써 얻어진 화합물을 이소프로판올로 재결정한 후, 메탄올/이소프로판올 혼합 용매 하에서 HCl/이소프로판올을 가하여 상기 화학식 1의 탐술로신을 염산염의 형태로 수득하는 방법을 개시하고 있다. 이러한 제조 방법은 라세미체 화합물의 생성을 수반하지 않으며, 부반응 또한 거의 수반되지 않는 바, 이러한 제조 방법에 따르면, 종래 기술에 의한 제조 방법에 비해 높은 수율로 탐술로신을 제조할 수 있게 된다.
[반응식 1]
그러나, 상기한 바와 같은 제조 방법에 의하여 생성되는 탐술로신에는 잔류 반응물, 약간의 부산물 등 여러 종류의 불순물들이 존재하므로, 그 순도가 낮아지는 문제점이 여전히 발생하게 되어, 간단한 공정을 통해, 상기 화학식 1의 구조를 가지는 탐술로신을 고순도로 정제할 수 있는 방법이 절실히 요구되어 왔다.
이에 본 발명의 목적은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여,간단한 공정을 통하여 상기 화학식 1의 탐술로신을 고순도로 정제할 수 있는 방법을 제공하는데 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 유기 용매 하에서 하기 화학식 1의 탐술로신에 카르복시산을 가하여, 하기 화학식 3의 탐술로신 카르복시산염을 침전시키는 단계; 및 상기 탐술로신 카르복시산염에 염산을 가하여 하기 화학식 4의 구조를 가지는 탐술로신 염산염을 제조하는 단계를 포함하여 구성되는 탐술로신의 정제 방법을 제공한다.
[화학식 1]
[화학식 3]
상기 식에서, R은 알킬, 아릴, 알릴, 비닐 또는 벤질이다.
[화학식 4]
상기 본 발명에 의한 정제 방법에 따르면, 후술할 실시예 및 시험예를 통해서도 명백히 알 수 있는 바와 같이, 불순물이 0.3% 이하의 미량으로 포함되고, 최종 생성물인 탐술로신 염산염의 함량이 99% 이상으로 되는 고순도의 결과물을 얻을 수 있는 바, 결국, 간단한 공정을 통하여 상기 화학식 1의 탐술로신을 약학적으로 허용 가능한 염산염의 형태로써 고순도, 고수율로 정제할 수 있게 되는 것이다.
상기 본 발명에 의한 탐술로신의 정제 방법에 있어서, 상기 유기 용매로는 일반적인 화합물의 정제에 사용되는 용매가 모두 사용될 수 있으나, 특히, 에틸아세테이트, 아세톤, 클로로포름, 이소프로판올, 메탄올 및 에탄올로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상의 용매를 사용할 수 있다. 상기와 같은 용매를 사용함으로써, 최종 형성되는 탐술로신 염산염의 순도를 더욱 높일 수 있게 된다.
또한, 상기 본 발명에 의한 정제 방법에 있어서, 상기 카르복시산으로는 일반적인 카르복시산 화합물을 모두 사용할 수 있으나, 특히, 만델산(mandelic acid), 살리실산(salicylic acid), 말레산(maleic acid), 말론산(malonic acid), 능금산(malic acid) 및 아니스산(anisic acid)으로 이루어진 그룹에서 선택된 어느 하나의 카르복시산을 사용함이 바람직하며, 이 중에서도 만델산을 사용함이 더욱 바람직하다. 상기와 같은 카르복시산을 사용함에 의하여, 중간 생성물인 탐술로신 카르복시산염을 더욱 높은 순도로 분리할 수 있게 되며, 이에 따라, 최종 생성물인탐술로신 염산염을 고순도로 정제할 수 있게 되는 것이다.
이하, 본 발명에 의한 정제 방법의 일례를 상세히 설명하기로 한다.
우선, 이미 공지된 방법, 예를 들어, 한국 특허 공개 제 2002-0085278 호에 개시된 방법에 따라 제조된 상기 화학식 1의 구조를 가지는 탐술로신 화합물에 유기 용매와 카르복시산을 가해 탐술로신 카르복시산염을 얻는다. 상기한 바와 같이, 이러한 공정에 있어서는 에틸아세테이트, 아세톤, 클로로포름, 이소프로판올, 메탄올 및 에탄올로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상의 용매를 상기 유기 용매로써 사용할 수 있으며, 상기 카르복시산으로는 만델산, 살리실산, 말레산, 말론산, 능금산 및 아니스산으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 물질을 사용할 수 있다. 이 중에서도 특히, 만델산이 가장 바람직하게 사용될 수 있다.
상기한 바와 같은 유기 용매 및 카르복시산을 사용함으로써, 최초 반응물에 포함된 불순물로부터 중간 생성물인 탐술로신 카르복시산염을 더욱 높은 순도로 분리할 수 있게 되는 바, 결국, 탐술로신 염산염을 더욱 높은 순도로 정제할 수 있게 되는 것이다.
한편, 상기와 같은 공정을 진행하면, 유기 용매 하에서 침전물의 형태로 탐술로신 카르복시산염을 얻을 수 있는 바, 이러한 결과물을 여과하여, 고체 상태의 탐술로신 카르복시산염을 얻고, 이를 가온 하에, 용매에 가하여 녹인 후, 상기 용액에 염산 용액을 가하여 고순도로 정제된 탐술로신 염산염을 최종적으로 제조할 수 있다. 이러한 과정에서는 이소프로판올, 메탄올, 에탄올 등의 알코올, 물 또는 알코올과 물의 혼합 용매를 사용할 수 있다.
이와 같은 과정을 통해 정제된 탐술로신 염산염은 0.3% 이하의 미량으로 불순물을 함유하고, 탐술로신 염산염을 99% 이상의 함량으로 포함하게 되는 바, 결국, 본 발명에 따르면 간단한 공정을 통하여, 탐술로신의 약학적으로 허용 가능한 염산염을 고순도로 정제할 수 있게 되는 것이다.
이하 본 발명의 바람직한 실시예 통하여, 본 발명에 의한 탐술로신의 정제 방법을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 그러나, 이는 하나의 예시로 정해진 것으로 이에 의하여 본 발명의 권리 범위가 정해지는 것은 아니다.
참고예 : 탐술로신의 제조(한국 특허 공개 제 2002-0085278 호의 제조 공정 실시예 6 참조)
화학식 2로 표시되는 아지리딘 화합물 33g, 메탄올 660ml 및 Pd/C 3.3g의 혼합물에 수소 가스를 가하면서 12시간 동안 45 내지 50℃에서 교반하였다. 이것을 셀라이트로 여과한 후 농축하고 65ml의 포화 탄산수소나트륨을 가하고 클로로포름 130ml, 50ml로 추출한 후 유기층을 무수 황산나트륨으로 건조, 여과, 농축하였다. 330ml의 이소프로판올을 가하고 가열하여 녹인 후, 냉각하고 여과 건조하여 26.5g의 탐술로신, 즉, 하기 화학식 1의 구조를 가지는 (R)-5-{2-[2-(2-에톡시페녹시)에틸]아미노}프로필-2-메톡시벤젠설폰아미드를 수득하였다.(불순물 4.08%)
비교 실시예 : 탐술로신 염산염의 제조(한국 특허 공개 제 2002-0085278 호의 제조공정 실시예 6 참조)
상기 참고예를 통해 얻은 탐술로신 13.0g을 메탄올 110ml, 이소프로판올 150ml에서 가열하여 녹인후, 상기 결과물에 4.5N HCl(이소프로판올) 20ml를 서서히 가하고 냉각, 여과, 건조하여 탐술로신 염산염13.4g을 수득하였다.(불순물 0.63%)
실시예 : 탐술로신의 정제
상기 참고예를 통해 얻은 탐술로신 13.0g에 260ml의 에틸아세테이트, 5.8g의 만델산을 가하여 1시간동안 환류·교반함으로써, 탐술로신 만델산염을 침전시키고, 이를 냉각하고, 여과·건조하여 16.5g의 탐술로신 만델산염을 얻었다. 상기 탐술로신 만델산염에 메탄올 65ml, 이소프로판올 80ml를 가하여 가열하여 녹인 후, 4.5N HCl(이소프로판올) 20ml을 서서히 가하고, 냉각·여과·건조하여, 고순도로 정제된 탐술로신 염산염 12.9g을 수득하였다.(불순물 0.25%)
시험예 : 정제된 탐술로신의 순도 측정
상기 실시예를 통하여 정제된 탐술로신 염산염의 순도를 HPLC 및 전위차 적정을 사용한 정량법에 따라 측정하였다. 이러한 시험에서 사용된 HPLC 및 정량법의 시행 조건 및 그 측정 결과는 하기에 기재한 바와 같다.
(1) HPLC 조건
1) 검액의 조제
상기 실시예에서 제조된 탐술로신 염산염의 0.05g을 조건 1의 이동상 10ml에 녹여, 이를 검액으로 한다.
2) 표준액의 조제
검액 2.0ml를 정취하고, 조건 1의 이동상을 가하여 50ml로 하고, 이러한 용액 2.5ml를 다시 정취하고, 조건 1의 이동상을 가하여, 50ml로 한 것을 표준액으로 한다.
3) 조건 1
* 검 출 기 : 자외선 흡광광도계(측정파장 225nm)
* 칼 럼 : 4mm×15cm, 5μm Cosmosil C18(ODS)
* 칼럼온도 : 40℃ 부근의 일정온도
* 칼럼선정 : 탐술로신 염산염 5.0mg 및 파라옥시안식향산프로필 0.01g에 이동상을 가하여 용해한 후, 20ml로 한다. 상기 액체 2.0ml를 정취하여, 이를 이동상에 가해, 정확히 20ml로 한다. 이 액 10μl를 조건 1에 따라 조작할 때 탐술로신, 파라옥시안식향산프로필의 순으로 분리되고 그 분리도가 12이상 되어야 한다.
* 이 동 상 : 과염소산 8.7ml 및 수산화나트륨 3.0g을 물 1900ml에 녹인 후, 수산화나트륨 시액을 사용하여 pH 2.0으로 조절하고, 물을 가해 2000ml로 한다. 이 액 1400ml에 아세토니트릴 600ml를 가해 이동상으로 한다.
* 유 속 : 탐술로신의 유지시간이 약 6분이 되도록 한다.
* 검출감도 : 표준액 10μl에 대하여 얻은 탐술로신 피크 높이가 전체 크기(Full Scale)의 약 10%가 되도록 한다.
* 측정범위 : 탐술로신의 용출종료까지의 범위(단, 용매의 피크는 제외)
* 주 입 량 : 10μl
4)조건 2
* 검 출 기 : 자외선 흡광광도계(측정파장 225nm)
* 칼 럼 : 4mm×15cm, 5μm Cosmosil C18(ODS)
* 칼럼온도 : 40℃ 부근의 일정온도
* 칼럼선정 : 조건 1의 칼럼선정 조건에 적합한 것을 사용한다.
* 이 동 상 : 과염소산 8.7ml 및 수산화나트륨 3.0g을 물 1900ml에 녹인 후, 수산 화나트륨 시액으로 pH 2.0으로 조절하고 물을 가해 2000ml로 한다. 상기 액체에 아세토니트릴 1428ml를 가해 이동상으로 한다.
* 유 속 : 탐술로신의 유지시간이 약 2.5분이 되도록 한다.
* 검출감도 : 표준액 10μl에 대하여 얻은 탐술로신 피크 높이가 전체 크기(Full Scale)의 약 20%가 되도록 한다.
* 측정범위 : 탐술로신의 피크 후 부터 탐술로신 유지시간의 5배 범위
* 주 입 량 : 10μl
5) 조작 및 계산 : 검액 및 표준액 각각의 상기 조건에 따라 대한약전 일반시험법 중 액체크로마토그라프법에 준하여 시험한다.
* 계 산:
유연물질의 총량(%) = 0.2 ×(AT1/As1+ AT2/As2)
단,
AT1: 조건 1로서 얻은 검액의 탐술로신 피크 전에 용출한 피크 합계면적
AS1: 조건 1로서 얻은 표준액의 탐술로신 피크 면적
AT2: 조건 2로서 얻은 검액의 탐술로신 피크 후에 용출한 피크 합계면적
AS2: 조건 2로서 얻은 표준액의 탐술로신 피크 면적
(2) 정 량 법
건조한 탐술로신 염산염 약 0.7g을 정취하고, 개미산 5.0m에 녹인 후, 상기용액에 빙초산, 무수초산 혼액(3:2) 75ml를 넣고 즉시 0.1N 과염소산으로 적정한다.(전위차적정법)
단, 공시험 보정한다.
0.1N 과염소산 1.0ml = 44.5mg C20H23N2O5SㆍHCl
(3) HPLC 분석 결과
상기와 같은 조건으로, 상기 실시예에 의해 제조된 탐술로신 염산염에 포함된 불순물의 양을 분석한 결과, 상기 탐술로신 염산염에는 0.3% 이하의 미량의 불순물만이 포함되어 있었다.
(4) 정 량 법(전위차 적정법)
또한, 상기와 같은 방법으로 정량한 결과, 상기 실시예를 통해 제조된 탐술로신 염산염에는 함량 99.0% 이상의 탐술로신 염산염이 포함되어 있음이 밝혀졌다.
상기에서 본 바와 같이, 본 발명에 의한 탐술로신 정제 방법에 의하면, 카르복시산을 이용하여 탐술로신의 카르복시산염을 제조한 후, 이에 염산을 가하여 탐술로신 염산염을 제조하는 간단한 공정을 통하여, 불순물 0.3% 이하, 탐술로신 염산염의 함량 99.0% 이상의 고순도로, 상기 화학식 1의 탐술로신을 약학적으로 허용 가능한 염산염의 형태로 정제할 수 있으며, 특히, 고수율로 정제할수 있어 경제적으로도 매우 우수한 효과가 있음을 알 수 있다.

Claims (3)

  1. 유기 용매 하에서 하기 화학식 1의 탐술로신에 카르복시산을 가하여, 하기 화학식 3의 탐술로신 카르복시산염을 침전시키는 단계; 및
    상기 탐술로신 카르복시산염에 염산을 가하여 하기 화학식 4의 구조를 가지는 탐술로신 염산염을 제조하는 단계를 포함하여 구성되는 탐술로신 정제 방법.
    [화학식 1]
    [화학식 3]
    상기 식에서, R은 알킬, 아릴, 알릴, 비닐 또는 벤질이다.
    [화학식 4]
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 유기 용매로는 에틸아세테이트, 아세톤, 클로로포름, 이소프로판올, 메탄올 및 에탄올로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상의 용매를 사용함을 특징으로 하는 탐술로신 정제 방법.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 카르복시산으로는 만델산(mandelic acid), 살리실산(salicylic acid), 말레산(maleic acid), 말론산(malonic acid), 능금산(malic acid) 및 아니스산(anisic acid)으로 이루어진 그룹에서 선택된 어느 하나의 카르복시산을 사용함을 특징으로 하는 탐술로신 정제 방법.
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