KR20040065151A

KR20040065151A - 워크 처리 장치의 처리 정밀도 검사 장치, 액체 방울 토출장치의 묘화 정밀도 검사 장치, 액체 방울 토출 장치 및워크, 전기 광학 장치, 전기 광학 장치의 제조 방법 및전자 기기

Info

Publication number: KR20040065151A
Application number: KR1020030093597A
Authority: KR
Inventors: 이와타유지
Original assignee: 세이코 엡슨 가부시키가이샤
Priority date: 2003-01-15
Filing date: 2003-12-19
Publication date: 2004-07-21
Also published as: US20040179060A1; JP4337348B2; CN1286644C; KR100553495B1; TWI256344B; JP2004216737A; TW200413175A; US7059705B2; CN1517210A

Abstract

본 발명은 이동 기구의 기계적 정밀도에 의거한 정밀도 불량과 기능 액체 방울 토출 헤드의 토출 정밀도에 의거한 정밀도 불량을 판별할 수 있는 액체 방울 토출 장치의 묘화 정밀도 검사 장치를 제공하는 것을 과제로 한다.

이동 기구(11)에 의해 워크(W)에 대하여 기능 액체 방울 토출 헤드(5)를 상대적으로 이동시키면서, 기능 액체 방울을 토출하여 묘화를 행하는 액체 방울 토출 장치(1)의 묘화 정밀도 검사 장치로서, 기능 액체 방울 토출 헤드(5)에 병설하여 이동 기구(11)에 탑재되고, 상기 상대적인 이동에 따라, 코히런트광을 워크(W)에 조사하여 워크(W) 위에 시인(視認) 가능한 점묘를 행하는 점묘 수단(6)과, 소정의 주파수 타이밍으로 점묘 수단(6)을 점묘 구동하는 점묘 제어 수단(81)을 구비한 것이다.

Description

워크 처리 장치의 처리 정밀도 검사 장치, 액체 방울 토출 장치의 묘화 정밀도 검사 장치, 액체 방울 토출 장치 및 워크, 전기 광학 장치, 전기 광학 장치의 제조 방법 및 전자 기기{APPARATUS FOR INSPECTING HANDLING PRECISON OF WORK HANDLING APPARATUS, APPARATUS FOR INSPECTING LITHOGRAPHY PRECISION OF LIQUID DROPLET DISCHARGE APPARATUS, LIQUID DROPLET DISCHARGE APPARATUS AND WORK, ELECTROOPTIC APPARATUS, METHOD OF MANUFACTURING ELECTROOPTIC APPRATUS AND ELECTRONIC INSTRUMENT}

본 발명은, 예를 들어, 기판 등의 워크에 대하여 잉크젯 헤드로 대표되는 기능 액체 방울 토출 헤드에 의해 기능액의 토출을 행하는 액체 방울 토출 장치에 있어서, 토출한 기능 액체 방울의 착탄(着彈) 정밀도 등을 검사하는 워크 처리 장치의 처리 정밀도 검사 장치, 액체 방울 토출 장치의 묘화 정밀도 검사 장치, 액체 방울 토출 장치 및 워크, 전기 광학 장치, 전기 광학 장치의 제조 방법 및 전자 기기에 관한 것이다.

이러한 검사 장치로서, 잉크젯 프린터에 적용한 종래의 것은 기록 헤드에 의해 기록 매체 위에 특정한 패턴 화상을 인쇄하여, 이 패턴 화상을 스캐너에 의해 판독하고, 그 판독 데이터를 처리하여, 기록 헤드를 왕복 이동(往復移動)시키는 이동 기구(이동계)의 「속도 불균일」을 보정하도록 하고 있다.

이러한 종래의 잉크젯 프린터(액체 방울 토출 장치)에 있어서, 기록 매체(용지)에 프린트한 패턴 화상에는, 이동 기구의 「속도 불균일」 이외에, 이동 가이드계의 왜곡(「기복(起伏)」)이나 잉크의 「비행 구부러짐」 등에 의거한 복수의 성분이 포함되어 있기 때문에, 「속도 불균일」만을 양호한 정밀도로 검사할 수 없었다. 즉, 패턴 화상에는 이동 기구의 기계적 정밀도에 의거한 불량 성분과, 기능 액체 방울 토출 헤드의 토출 정밀도에 의거한 불량 성분이 포함되어 있고, 이들을 구별하여 검출할 수 없어, 정확한 대응책을 취하기 어려운 문제가 있었다.

본 발명은 이동 기구의 기계적 정밀도에 의거한 정밀도 불량과 처리 기구의 처리 정밀도에 의거한 정밀도 불량을 판별할 수 있는 워크 처리 장치의 처리 정밀도 검사 장치, 액체 방울 토출 장치의 묘화 정밀도 검사 장치, 액체 방울 토출 장치 및 워크, 전기 광학 장치, 전기 광학 장치의 제조 방법 및 전자 기기를 제공하는 것을 과제로 하고 있다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 액체 방울 토출 장치를 모식적으로 나타낸 평면도.

도 2는 실시예에 따른 액체 방울 토출 장치를 모식적으로 나타낸 정면도.

도 3은 액체 방울 토출 장치의 검사 결과인 묘화(描畵) 도트 및 점묘(點描) 도트의 상태를 나타낸 평면도.

도 4는 액체 방울 토출 장치의 제어 수단을 나타낸 블록도.

도 5는 레이저 조사 장치 주위의 제어계를 나타낸 블록도.

도 6은 다른 검사 결과인 묘화 도트 및 점묘 도트의 상태를 나타낸 평면도.

도 7은 흡착 테이블에 설치한 타깃(target) 플레이트 주위의 평면도.

도 8의 (a) 및 (b)는 검사 결과인 묘화 도트 및 점묘 도트의 상태를 나타낸평면도.

도 9는 본 발명의 액체 방울 토출 장치에 의해 제조한 액정 표시 장치의 단면도.

도 10은 본 발명의 액체 방울 토출 장치에 의해 제조한 유기 EL 장치의 단면도.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*

1 : 액체 방울 토출 장치

3 : 묘화 장치

4 : 헤드 기능 회복 장치

5 : 기능 액체 방울 토출 헤드

5a : 노즐

5b : 노즐면

6 : 레이저 조사 장치

7 : 제어 수단

11 : 이동 기구

12 : X축 테이블

13 : Y축 테이블

15 : 헤드 유닛

32 : 세트 테이블

34 : 흡착 테이블

51 : 반도체 레이저

52 : 발진(發振) 유닛

61 : 점묘(點描) 도트

71 : 묘화(描畵) 도트

81 : 제어부

82 : CPU

91 : 레이저 발진 드라이버

92 : 헤드 드라이버

93 : 지연(delay) 회로

95 : 화상 인식 카메라

301 : 액정 표시 장치

401 : 유기 EL 장치

W : 워크(work)

Wa : 묘화 영역

Wb : 비(非)묘화 영역

T : 타깃(target) 플레이트

본 발명의 워크 처리 장치의 처리 정밀도 검사 장치는, 워크 및 워크 처리를 행하는 워크 처리 기구를 탑재한 이동 기구에 의해, 워크에 대하여 워크 처리 기구를 상대적으로 이동시키면서, 워크의 표면에 워크 처리를 행하는 워크 처리 장치의 처리 정밀도 검사 장치로서, 워크 처리 기구에 병설(倂設)하여 이동 기구에 탑재되고, 워크 및 워크 처리 기구의 상대적인 이동에 따라, 코히런트(coherent)광을 워크에 조사하여 워크 위에 시인(視認) 가능한 점묘를 행하는 점묘 수단과, 소정의 주파수 타이밍으로 점묘 수단을 점묘 구동하는 점묘 제어 수단을 구비하는 것을 특징으로 한다.

이 구성에 의하면, 점묘 수단은 점묘 제어 수단에 의해 제어되고, 워크 및 워크 처리 기구의 상대적인 이동에 따라, 소정의 주파수 타이밍으로 조사되는 코히런트광을 워크 위에 조사하여, 이것에 시인 가능한 점묘를 행한다. 이것에 의해, 워크 위에는 점묘에 의한 도트가 넣어지고, 예를 들어, 이동 기구에 의한 이송 속도의 「속도 불균일」이 도트 사이의 피치가 일정하지 않은 형태로 시인된다. 또한, 이동 기구에 의한 이동의 「기복」은 복수의 도트에 직선성이 없는 것에 의해 시인된다. 한편, 이것과 동시에 워크 처리 기구에 의한 워크 처리를 행하고, 또한, 그 처리 부분을 시인할 수 있으면, 이동 방향에서의 각 도트와 위치 어긋남에 의해, 이것을 확인할 수 있다.

본 발명의 액체 방울 토출 장치의 묘화 정밀도 검사 장치는, 워크 및 기능 액체 방울 토출 헤드를 탑재한 이동 기구에 의해, 워크에 대하여 기능 액체 방울 토출 헤드를 상대적으로 이동시키면서, 기능 액체 방울 토출 헤드로부터 기능 액체 방울을 선택적으로 토출하여 묘화를 행하는 액체 방울 토출 장치의 묘화 정밀도 검사 장치로서, 기능 액체 방울 토출 헤드에 병설하여 이동 기구에 탑재되고, 워크 및 기능 액체 방울 토출 헤드의 상대적인 이동에 따라, 코히런트광을 워크에 조사하여 워크 위에 시인 가능한 점묘를 행하는 점묘 수단과, 소정의 주파수 타이밍으로 점묘 수단을 점묘 구동하는 점묘 제어 수단을 구비하는 것을 특징으로 한다.

이 구성에 의하면, 점묘 수단은 점묘 제어 수단에 의해 제어되고, 워크 및 기능 액체 방울 토출 헤드의 상대적인 이동에 따라, 소정의 주파수 타이밍으로 조사되는 코히런트광을 워크 위에 조사하여, 이것에 시인 가능한 점묘를 행한다. 이것에 의해, 워크 위에는 점묘에 의한 점묘 도트가 넣어지고, 예를 들어, 이동 기구에 의한 이송 속도의 「속도 불균일」이 점묘 도트 사이의 피치가 일정하지 않은 형태로 시인된다. 또한, 이동 기구에 의한 이동의 「기복」은 복수의 점묘 도트에 직선성이 없는 것에 의해 시인된다. 한편, 이것과 동시에 기능 액체 방울 토출 헤드에 의한 묘화를 행하면, 기능 액체 방울 토출 헤드에 의한 묘화 도트와, 이동 방향에서의 각 점묘 도트와 위치 어긋남에 의해, 기능 액체 방울 토출 헤드의 「비행 구부러짐」이나 기능 액체 방울 토출 헤드의 경사(워크에 대한 경사 및 이동 방향에 대한 경사 등), 더 나아가서는 기능액의 점도(粘度) 증가에 의거한 비행 속도 저하 등의 불량을 확인할 수 있다.

이 경우, 점묘 수단에 의한 점묘 결과를 화상 인식하는 화상 인식 수단을 더 구비하는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 점묘 도트 및 묘화 도트를 화상 인식함으로써, 이동 기구의 「속도 불균일」이나 「기복」, 또는 기능 액체 방울 토출 헤드의 「비행 구부러짐」 등을 수치적으로, 또한, 양호한 정밀도로 해석할 수 있고, 이것에 의거한 이동 기구의 보정이나 기능 액체 방울 토출 헤드의 메인터넌스(maintenance) 등의 대응책을 정확하게 행할 수 있다.

이러한 경우, 점묘 수단은 레이저광을 발진(發振) 또는 합초(合焦)하여 조사하는 레이저 조사 기구로 구성되어 있는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 검사 기준으로 되는 점묘 도트를 적어도 묘화 도트보다 작은 도트로, 또한, 선명하게 점묘할 수 있다. 또한, 레이저 조사 기구로서, 반도체 레이저나 탄산 레이저를 이용하는 것이 바람직하다.

이러한 경우, 점묘 제어 수단은 기능 액체 방울 토출 헤드의 헤드 드라이버로부터 취득한 토출 타이밍 신호에 의거하여, 점묘 수단을 점묘 구동하는 것이 바람직하다.

또한, 이 경우, 기능 액체 방울 토출 헤드는 묘화 검사를 위한 토출 구동을 행하고, 점묘 제어 수단은 기능 액체 방울 토출 헤드의 토출 구동에 동기(同期)하여 점묘 수단을 점묘 구동하는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 점묘 수단을 위한 전용(專用) 점묘 타이밍(데이터)을 생성할 필요가 없고, 또한, 시인에 의해 점묘 도트와 묘화 도트를 용이하게 비교할수 있다.

이 경우, 점묘 제어 수단은 기능 액체 방울 토출 헤드에 의한 기능액 토출로부터 이것이 워크 위에 착탄될 때까지의 시간만큼 점묘 수단의 점묘 구동을 지연시키는 지연 수단을 갖고 있는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 기능 액체 방울 토출 헤드 및 점묘 수단의 이동 방향에서, 묘화 도트와 점묘 도트가 이론상 동일 라인 위에 그려진다. 따라서, 묘화 도트와 점묘 도트를 보정하지 않고, 이것을 용이하게 비교할 수 있어, 정밀도 불량을 순간에 파악할 수 있다.

이러한 경우, 적어도 워크의 점묘 부위 대신에, 워크에 병설된 타깃 플레이트를 더 구비하는 것이 바람직하다.

마찬가지로, 워크 대신에, 검사용 더미(dummy) 워크를 더 구비하는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 점묘 수단에 의한 점묘를 전용 타깃 플레이트 또는 더미 워크에 행하도록 하고 있기 때문에, 워크 자체에 점묘 결과가 남지 않고, 또한, 워크에 점묘를 위한 표면 가공 등을 실시할 필요가 없다. 또한, 타깃 플레이트는 워크가 탑재되는 워크 테이블에 탑재되는 것이 바람직하다. 또한, 타깃 플레이트나 더미 워크의 표면에는 점묘 수단의 조사광에 의해 발색(發色) 또는 변색되는 색소를 도포하는 등, 점묘 수단에 의한 마킹(marking)을 선명하게 행할 수 있는 표면 가공이 실시되어 있는 것이 바람직하다. 또한, 표면 가공의 방법에 따라서는, 묘화 도트 위에 점묘 도트를 시인 가능하게 넣을 수 있기 때문에, 시각적으로 정밀도불량을 보다 명확화하는 것이 가능해진다. 또한, 타깃 플레이트에는, 점묘 영역 이외에, 검사용 묘화 영역을 마련하는 것이 바람직하다.

본 발명의 액체 방울 토출 장치는 상기한 액체 방울 토출 장치의 묘화 정밀도 검사 장치를 구비하는 것을 특징으로 한다.

이 구성에 의하면, 묘화 정밀도 검사 장치에 의한 검사 결과로부터 정확한 대응책을 취할 수 있다. 즉, 정밀도 불량이 이동 기구에 의거한 것이면, 예를 들어, 「속도 불균일」에 있어서는 모터(액추에이터)의 시시각각의 속도를 펄스 폭의 보정 등에 의해 제어하고, 「기복」에 있어서는 이동 기구의 설치 보정이나 교환 등의 대응책을 행한다. 또한, 기능 액체 방울 토출 헤드에 의거한 것이면, 예를 들어, 「비행 구부러짐」에 있어서는 클리닝(cleaning)이나 헤드 교환을 행하고, 「경사」에 있어서는 캐리지로의 부착 보정을 행하도록 한다. 또한, 비행 속도의 변화에 대해서는 토출 타이밍을 보정함으로써 대응시킬 수 있다.

본 발명의 워크는 상기한 액체 방울 토출 장치에 의해 묘화되는 워크로서, 기능액 토출 영역으로부터 벗어난 영역에 점묘 수단에 의한 점묘 영역 및 기능 액체 방울 토출 헤드에 의한 검사용 묘화 영역을 갖고 있는 것이 바람직하다.

또한, 이 경우, 점묘 영역에는 점묘 수단의 조사광에 의해 발색 또는 변색되는 색소가 도포되어 있는 것이 바람직하다.

이 구성에 의하면, 액체 방울 토출 장치에 의해 워크에 대하여 원래의 묘화를 행하기 전에, 정밀도 검사를 간단하게 행할 수 있다. 예를 들면, 불활성 가스의 분위기 중에서 묘화를 행하는 액체 방울 토출 장치에서는, 분위기를 파괴하지않고 검사를 행할 수 있다. 또한, 점묘 영역 및 검사용 묘화 영역은 워크의 에지부나 최종적으로 분리되는 절단부 등의 워크의 불필요 부분(비묘화 영역)에 설정하는 것이 바람직하다.

본 발명의 전기 광학 장치는 상기한 액체 방울 토출 장치를 이용하여, 기능 액체 방울 토출 헤드로부터 워크 위에 기능 액체 방울을 토출하여 성막부를 형성하는 것을 특징으로 한다.

마찬가지로, 본 발명의 전기 광학 장치의 제조 방법은 상기한 액체 방울 토출 장치를 이용하여, 기능 액체 방울 토출 헤드로부터 워크 위에 기능 액체 방울을 토출하여 성막부를 형성하는 것을 특징으로 한다.

이러한 구성에 의하면, 묘화 정밀도(기능액의 착탄 정밀도)가 양호한 액체 방울 토출 장치를 이용하여 제조되기 때문에, 고품질의 전기 광학 장치를 제조할 수 있게 된다. 또한, 전기 광학 장치로서는, 액정 표시 장치, 유기 EL(Electro-Luminescence) 장치, 전자 방출 장치, PDP(Plasma Display Panel) 장치 및 전기 영동 표시 장치 등을 생각할 수 있다. 또한, 이들에 이용하는 컬러 필터 등을 생각할 수 있다. 또한, 전자 방출 장치는 이른바 FED(Field Emission Display) 장치를 포함하는 개념이다. 또한, 전기 광학 장치로서는, 금속 배선 형성, 렌즈 형성, 레지스트 형성 및 광확산체 형성 등의 장치를 생각할 수 있다.

본 발명의 전자 기기는 상기한 전기 광학 장치 또는 상기한 전기 광학 장치의 제조 방법에 의해 제조한 전기 광학 장치를 탑재하는 것을 특징으로 한다.

이 경우, 전자 기기로서는, 이른바 플랫 패널 디스플레이(flat paneldisplay)를 탑재한 휴대 전화, 퍼스널 컴퓨터 이외에, 각종 전기 제품이 이것에 해당된다.

이하, 첨부 도면을 참조하여, 본 발명의 워크 처리 장치의 처리 정밀도 검사 장치 및 액체 방울 토출 장치의 묘화 정밀도 검사 장치를 액체 방울 토출 장치에 적용한 경우에 대해서 설명한다. 본 실시예의 액체 방울 토출 장치는 기능 액체 방울 토출 헤드를 이용하여, 워크인 기판에 기능 액체 방울을 토출하여, 기판 위에 원하는 성막부를 형성하는(워크 처리) 것이다(상세한 것은 후술함).

도 1의 평면 모식도 및 도 2의 정면 모식도에 나타낸 바와 같이, 실시예의 액체 방울 토출 장치(1)는 기대(機臺)(2)와, 기대(2) 위의 전역(全域)에 널리 탑재된 묘화 장치(3)와, 기대(2) 위의 단부(端部)에 탑재된 헤드 기능 회복 장치(4)를 갖고, 묘화 장치(3)에 의해 워크(W) 위에 기능액에 의한 묘화를 행하는 동시에, 헤드 기능 회복 장치(4)에 의해 묘화 장치(3)에 구비하는 기능 액체 방울 토출 헤드(5)의 기능 회복 처리(메인터넌스)를 적절히 행하도록 하고 있다.

묘화 장치(3)는 X축 테이블(12) 및 X축 테이블(12)에 직교하는 Y축 테이블(13)로 이루어지는 이동 기구(11)와, Y축 테이블(13)에 이동 가능하게 부착한 메인 캐리지(14)와, 메인 캐리지(14)에 매달아 설치한 헤드 유닛(15)을 구비하고 있다. 그리고, 헤드 유닛(15)에는 서브 캐리지(16)를 통하여 기능 액체 방울 토출 헤드(5) 및 검사용 레이저 조사 장치(6)가 탑재되어 있다. 이 경우, 기판인 워크(W)는 X축 테이블(12)의 단부에 면하는 한쌍의 워크 인식 카메라(18, 18)에 의해 X축 테이블(12)에 위치 결정된 상태로 탑재되어 있다. 또한, 도시한 서브 캐리지(16)에는 1개의 기능 액체 방울 토출 헤드(5)가 탑재되어 있지만, 이것이 복수일 수도 있다.

헤드 기능 회복 장치(4)는 기대(2) 위에 탑재한 이동 테이블(21)과, 이동 테이블(21) 위에 탑재한 보관 유닛(22), 흡인 유닛(23) 및 와이핑 유닛(24)을 구비하고 있다. 보관 유닛(22)은, 장치의 가동(稼動) 정지 시에, 기능 액체 방울 토출 헤드(5)의 노즐(5a) 건조를 방지하기 위해 이것을 밀봉한다. 흡인 유닛(23)은 기능 액체 방울 토출 헤드(5)로부터 기능액을 강제적으로 흡인하는 동시에, 기능 액체 방울 토출 헤드(5)의 전체 노즐(5a)로부터의 기능액 토출을 받는 플러싱(flushing) 박스의 기능을 갖고 있다. 와이핑 유닛(24)은 주로 기능액 흡인을 행한 후의 기능 액체 방울 토출 헤드(5)의 노즐면(5b)을 청소(닦아냄)한다.

보관 유닛(22)에는, 예를 들어, 기능 액체 방울 토출 헤드(5)에 대응하는 밀봉 캡(26)이 승강 가능하게 설치되어 있어, 장치의 가동 정지 시에 헤드 유닛(의 기능 액체 방울 토출 헤드(5))(15)에 면하여 상승하고, 기능 액체 방울 토출 헤드(5)의 노즐면(5b)에 밀봉 캡(26)을 밀접시켜, 이것을 밀봉한다. 이것에 의해, 기능 액체 방울 토출 헤드(5)의 노즐면(5b)에서의 기능액 기화(氣化)가 억제되어, 이른바 노즐 막힘이 방지된다.

마찬가지로, 흡인 유닛(23)에는, 예를 들어, 기능 액체 방울 토출 헤드(5)에 대응하는 흡인 캡(27)이 승강 가능하게 설치되어 있어, 헤드 유닛(의 기능 액체 방울 토출 헤드(5))(15)에 기능액의 충전을 행할 경우나, 기능 액체 방울 토출 헤드(5) 내에서 점도 증가한 기능액을 제거할 경우에, 흡인 캡(27)을 기능 액체 방울 토출 헤드(5)에 밀착시켜, 펌프 흡인을 행한다. 또한, 기능액의 토출(묘화)을 휴지(休止)할 때에는, 흡인 캡(27)을 기능 액체 방울 토출 헤드(5)로부터 약간 이간(離間)시켜 두어, 플러싱(버리기 토출)을 행한다. 이것에 의해, 노즐 막힘이 방지되거나, 또는 노즐 막힘이 발생한 기능 액체 방울 토출 헤드(5)의 기능 회복이 도모된다.

와이핑 유닛(24)에는, 예를 들어, 와이핑 시트(28)가 조출(繰出), 또한, 권취(卷取) 가능하게 설치되어 있으며, 조출한 와이핑 시트(28)를 보내면서, 또한, 이동 테이블(21)에 의해 와이핑 유닛(24)을 X축 방향으로 이동시키면서, 기능 액체 방울 토출 헤드(5)의 노즐면(5b)을 닦아내도록 되어 있다. 이것에 의해, 기능 액체 방울 토출 헤드(5)의 노즐면(5b)에 부착된 기능액이 제거되어, 기능액 토출 시의 비행 구부러짐 등이 방지된다.

또한, 도시에서는 생략했지만, 이 액체 방울 토출 장치(1)에는 각 기능 액체 방울 토출 헤드(5)에 기능액을 공급하는 기능액 공급 기구나, 상기 묘화 장치(3)나 기능 액체 방울 토출 헤드(5) 등의 구성 장치를 통괄 제어하는 제어 수단(후술함)(7) 등이 일체로 구성되어 있다.

X축 테이블(12)은 X축 방향의 구동계를 구성하는 모터 구동의 X축 슬라이더(31)를 갖고, 이것에 흡착 테이블(33) 및 θ테이블(34) 등으로 이루어지는 세트 테이블(32)을 이동 가능하게 탑재하여, 구성되어 있다. 마찬가지로, Y축 테이블(13)은 Y축 방향의 구동계를 구성하는 모터 구동의 Y축 슬라이더(36)를 갖고, 이것에 θ테이블(37)을 통하여 상기 메인 캐리지(14)를 이동 가능하게 탑재하여,구성되어 있다.

이 경우, X축 테이블(12)은 기대(2) 위에 직접 지지되는 반면, Y축 테이블(13)은 기대(2) 위에 세워 설치한 좌우의 지주(支柱)(38, 38)에 지지되어 있다. X축 테이블(12)과 헤드 기능 회복 장치(4)는 X축 방향으로 서로 평행하게 배열 설치되어 있고, Y축 테이블(13)은 X축 테이블(12)과 헤드 기능 회복 장치(4)의 이동 테이블(21)을 타넘듯이 연장되어 있다.

그리고, Y축 테이블(13)은, 이것에 탑재한 헤드 유닛(기능 액체 방울 토출 헤드(5))(15)을 헤드 기능 회복 장치(4)의 직상부(直上部)에 위치하는 기능 회복 영역(41)과, X축 테이블(12)의 직상부에 위치하는 묘화 영역(42)의 상호간에서 적절히 이동시킨다. 즉, Y축 테이블(13)은, 기능 액체 방울 토출 헤드(5)의 기능 회복을 행할 경우에는 헤드 유닛(15)을 기능 회복 영역(41)에 면하게 하고, 또한, X축 테이블(12)에 도입한 워크(W)에 묘화를 행할 경우에는 헤드 유닛(15)을 묘화 영역(42)에 면하게 한다.

한편, X축 테이블(12)의 한쪽 단부는 워크(W)를 X축 테이블(12)에 세트(교체 탑재)하기 위한 이송 탑재 영역(43)으로 되어 있고, 이송 탑재 영역(43)에는 상기 한쌍의 워크 인식 카메라(18, 18)가 배열 설치되어 있다. 그리고, 이 한쌍의 워크 인식 카메라(18, 18)에 의해 흡착 테이블(33) 위에 공급된 워크(W)의 2개소의 기준 마크가 동시에 인식되고, 이 인식 결과에 의거하여 워크(W)의 얼라인먼트(alignment)가 실행된다.

실시예의 액체 방울 토출 장치(1)에서는, X축 방향으로의 워크(W)의 이동을주(主)주사로 하고, Y축 방향으로의 기능 액체 방울 토출 헤드(헤드 유닛(15))(5)의 이동을 부(副)주사로 하여, 상기 제어 수단(7)에 기억하는 토출 패턴 데이터에 의거하여 묘화가 실행된다.

묘화 영역(42)에 도입한 워크(W)에 묘화를 행할 경우에는, 기능 액체 방울 토출 헤드(헤드 유닛(15))(5)를 묘화 영역(42)에 면하게 하여 두어, X축 테이블(12)에 의한 주주사(워크(W)의 왕복 이동)에 동기하여, 기능 액체 방울 토출 헤드(5)를 토출 구동(기능 액체 방울의 선택적 토출)시킨다. 또한, Y축 테이블(13)에 의해 부주사(헤드 유닛(15)의 이동)가 적절히 실행된다. 이 일련의 동작에 의해, 워크(W)의 묘화 영역(Wa)에 원하는 기능 액체 방울의 선택적 토출, 즉, 묘화가 실행된다.

또한, 기능 액체 방울 토출 헤드(5)의 기능 회복을 행할 경우에는, 이동 테이블(21)에 의해 흡인 유닛(23)을 기능 회복 영역(41)에 이동시키는 동시에, Y축 테이블(13)에 의해 헤드 유닛(15)을 기능 회복 영역(41)에 이동시키고, 기능 액체 방울 토출 헤드(5)의 플러싱 또는 펌프 흡인을 행한다. 또한, 펌프 흡인을 행한 경우에는, 이어서 이동 테이블(21)에 의해 와이핑 유닛(24)을 기능 회복 영역(41)에 이동시키고, 기능 액체 방울 토출 헤드(5)의 와이핑을 행한다. 마찬가지로, 작업이 종료되어 장치의 가동을 정지할 때에는, 보관 유닛(22)에 의해 기능 액체 방울 토출 헤드(5)에 캡핑이 실행된다.

한편, 기능 액체 방울 토출 헤드(5)와 함께 헤드 유닛(15)의 서브 캐리지(16)에 탑재된 레이저 조사 장치(6)는, 코히런트광을 소정의 주파수 타이밍으로 워크 위에 조사하는 것이며, 하향으로 마련한 반도체 레이저(51)와, 반도체 레이저(51)를 발진시키는 발진 유닛(52)으로 구성되어 있다. 이 경우, 레이저 조사 장치(6)는 기능 액체 방울 토출 헤드(5)의 검사용 토출 동작에 맞추어 워크(W) 위에 레이저 조사에 의한 점묘를 행한다(도 3 참조). 즉, 레이저 조사 장치(6)는 기능 액체 방울 토출 헤드(5)의 구동 타이밍에 동기하여 레이저 조사하고, 워크(W) 위에 점묘를 행한다(상세한 것은 후술함). 또한, 레이저 조사 장치(6)는, 레이저 발진 이외에, 합초에 의해 점묘를 행하도록 할 수도 있다. 또한, 반도체 레이저(51) 대신에 탄산 레이저를 이용할 수도 있다.

제어 수단(7)은, 도 3에 나타낸 바와 같이, 액체 방울 토출 장치(1)의 각종 동작을 제어하는 제어부(81)를 구비하고 있다. 제어부(81)는 각종 제어를 행하는 CPU(82), ROM(83), RAM(84) 및 인터페이스(85)를 구비하고, 이들은 서로 버스(86)를 통하여 접속되어 있다. ROM(83)은 CPU(82)에서 처리하는 제어 프로그램이나 제어 데이터를 기억하는 영역을 갖고 있다. RAM(84)은 제어 처리를 위한 각종 작업 영역으로서 사용된다. 인터페이스(85)에는, CPU(82)의 기능을 보충하는 동시에 주변 회로와의 인터페이스 신호를 취급하기 위한 논리 회로가 일체로 구성되어 있다.

인터페이스(85)에는 상기 X축 테이블(12), Y축 테이블(13), 기능 액체 방울 토출 헤드(5), 레이저 조사 장치(6), 헤드 기능 회복 장치(4)가 각각 드라이버(도시 생략)를 통하여 접속되어 있다. 또한, 인터페이스(85)에는, 검출부(87)로서, 상기 워크 인식 카메라(18, 18)가 접속되어 있다. 그리고, CPU(82)는, ROM(83) 내의 제어 프로그램에 따라, 인터페이스(85)를 통하여 각종 검출 신호, 각종 지령,각종 데이터를 입력하고, RAM(84) 내의 각종 데이터(토출 패턴 데이터) 등을 제어하며, 인터페이스(85)를 통하여 각종 제어 신호를 출력한다.

즉, CPU(82)는 기능 액체 방울 토출 헤드(5)의 토출 구동을 제어하는 동시에, X축 테이블(12) 및 Y축 테이블(13)의 이동 동작을 제어하여, 워크(W) 위에 묘화(액체 방울 토출)를 실행시키는 한편, 레이저 조사 장치(6)를 제어하여, 워크(W) 위에 레이저 조사에 의한 점묘를 실행시킨다. 또한, CPU(82)는, 워크(W)가 세트되면, 워크 인식 카메라(18)의 인식 결과에 의거하여, X축 테이블(12)에서의 각도 보정 및 토출 패턴 데이터(토출 타이밍)의 보정을 행한다. 또한, CPU(82)는, 기능 액체 방울 토출 헤드(5)의 정기적인 메인터넌스 시에, 헤드 기능 회복 장치(4)의 보관 유닛(22), 흡인 유닛(23) 및 와이핑 유닛(24) 등을 제어한다.

도 5는 이 제어 수단(7)의 레이저 조사 장치(6) 주위의 블록도이다. 레이저 조사 장치(점묘 수단)(6)에는, 이것을 발진 구동하는 레이저 발진 드라이버(점묘 제어 수단)(91)가 접속되고, 레이저 발진 드라이버(91)는 제어부(81)에 접속되어 있다. 또한, 기능 액체 방울 토출 헤드(5)는 헤드 드라이버(92)를 통하여 제어부(81)에 접속되어 있다. 제어부(81)의 CPU(82)는 헤드 드라이버(92)의 토출 타이밍 신호를 레이저 발진 드라이버(91)에 출력하고, 레이저 발진 드라이버(91)는 이 토출 타이밍 신호를 지연 회로(지연 수단)(93)에 의해 지연시켜 발진 타이밍을 생성하여, 이 발진 타이밍에 의해 레이저 조사 장치(6)를 점묘 구동한다.

이 경우, 지연 회로(93)는 기능 액체 방울 토출 헤드(5)에 의한 액체 방울 토출로부터 이것이 워크(W) 위에 착탄될 때까지의 시간만큼 레이저 조사 장치(6)의점묘 구동을 지연시킨다. 즉, 워크(W)로의 기능액 착탄과 레이저광의 조사(도달)가 동시에 실행되도록 하고 있다. 이것에 의해, 도 3에 나타낸 바와 같이, 레이저 조사에 의해 워크(W) 위에 그려진 점묘 도트(61)와, 액체 방울 토출에 의해 워크(W) 위에 그려진 묘화 도트(71)가 주주사 방향인 X축 방향에서 이론적으로 일치하게 되고, 일치하지 않을 경우에는 묘화 정밀도에 어떠한 결점이 있음이 시인된다(상세한 것은 후술함).

또한, 도 5에 나타낸 바와 같이, 제어부(81)에 화상 인식 카메라(화상 인식 수단)(95)를 접속하고, 점묘 결과인 점묘 도트(61) 및 묘화 결과인 묘화 도트(71)를 화상 인식하도록 할 수도 있다. 즉, 워크(W) 위의 점묘 도트(61) 및 묘화 도트(71)는 육안(肉眼)으로 시인할 수 있지만, 화상 인식함으로써, 양자의 객관적인 비교나 결과의 수치화 등이 용이해지고, 각부(各部)의 보정 데이터를 생성하는 것도 가능해진다.

도 3은 기능 액체 방울 토출 헤드(5)의 전체 노즐(일부일 수도 있음)(5a)로부터 기능액을 토출하는 검사용 토출 동작과, 이것에 동기시켜 레이저 조사 장치(6)를 점묘 동작시킨 상태를 나타내고 있으며, 도 3에 나타낸 바와 같이, 워크(W) 위에는 기능액의 묘화 도트(71)와 레이저광의 점묘 도트(61)가 X축 방향(이동 방향)으로 소정의 간격을 남겨서 그려진다.

이 경우, 우선 점묘 도트(61)에 주목하면, 예를 들어, 도 3과 같이 점묘 도트(61)의 도트 피치 P1, P2 및 P3이 원래 등간격으로 되는 것이 등간격으로 되지 않은(일정하지 않은) 상태를 생각할 수 있다. 이 점묘 결과에서는, 원인이 X축 테이블(12)에서의 「속도 불균일」임을 생각할 수 있다. 또한, 도 3에서는 라인(La)에 대하여 각 점묘 도트(61)가 일치하고 있지만, 이것의 위치가 어긋나 있을 경우에는, X축 테이블(12)에 「기복」이 있다고 생각할 수 있다.

한편, 묘화 도트(71)에 주목하면, 예를 들어, 도 3과 같이 점묘 도트(61)의 라인 L1, L2, L3 및 L4에 대하여 원래는 각 묘화 도트(71)가 이 라인 위에 묘화되지만, 위치가 어긋나게(도시 지면(紙面)의 전후 좌우로의 어긋남) 묘화되어 있다. 이 묘화 결과에서는, 원인이 기능 액체 방울 토출 헤드(의 특정 노즐(5a))(5)의 「비행 구부러짐」임을 생각할 수 있다. 또한, 각 라인 L1, L2, L3, L4에 대하여 가로 배열(5개)의 묘화 도트(71)가 전체적으로 경사져 있으면, 기능 액체 방울 토출 헤드(5)가 평면 내에서 경사져 있음(θ방향)을 생각할 수 있다.

또한, 도 6에 나타낸 바와 같이, 도 6의 왼쪽 반분(半分)에 나타낸 묘화 결과로 되겠지만, 도 6의 오른쪽 반분에 나타낸 바와 같이, 각 라인 L1, L2, L3, L4에 대하여 가로 배열(3개)의 묘화 도트가 전체적으로 위치 어긋남하고 있으면, 기능액의 점도 증가 등에 의해, 기능 액체 방울 토출 헤드(의 각 노즐(5a))(5)의 토출 속도가 전체적으로 느려지고(빨라지고) 있음을 생각할 수 있다. 또는, 기능 액체 방울 토출 헤드(5)가 연직(鉛直)에 대하여 경사지게 설치되어 있음을 생각할 수 있다.

이와 같이, 기능 액체 방울 토출 헤드(5)에 의한 묘화 도트(71)와, 이것에 동기하여 점묘되는 레이저 조사 장치(6)에 의한 점묘 도트(61)를 비교함으로써, 점묘 도트(61) 자체의 점묘 불량에 대해서는, 이동 기구(X축 테이블(12))(11)의 기계적 정밀도나 얼라인먼트 정밀도에 기인하는 것이 판명되고, 또한, 점묘 도트(61)를 기준으로 하는 묘화 도트(71)의 묘화 불량에 대해서는, 기능 액체 방울 토출 헤드(의 각 노즐(5a))(5)의 토출 정밀도나 얼라인먼트 정밀도에 기인하는 것이 판명된다. 이 때문에, 이 검사 결과에 의거한 보정 등의 대응책을 정확하게 행하는 것이 가능해진다.

또한, 도시에서는 생략했지만, 부주사 방향(Y축 방향)에서도 레이저 조사 장치에 의한 점묘를 행하면, Y축 테이블의 기계적 정밀도나 얼라인먼트 정밀도를 검사할 수 있게 된다. 또한, X축 방향(주주사 방향) 및 Y축 방향(부주사 방향)으로 점묘만을 행함으로써, 이동 기구(X축 테이블(12) 및 Y축 테이블(13))(11)의 기계적 정밀도 등을 독자적으로 검사할 수 있다. 또한, 이 경우에는, 독자적인 주파수 타이밍으로 점묘를 행하도록 할 수도 있다.

또한, 이 검사에서는, 검사용 묘화 및 점묘를 워크(W)에서의 불필요 부분, 예를 들어, 에지부나 나중에 절단 부분 등의 비묘화 영역(Wb)에 행하도록 한다(도 1 참조). 또한, 워크(W) 대신에 이것과 동일한 형태를 갖는 더미 워크를 장치에 도입하도록 할 수도 있다. 또한, 도 7에 나타낸 바와 같이, 흡착 테이블(33)에 워크와 근접하도록 검사 전용 타깃 플레이트(T)를 설치하도록 할 수도 있다. 타깃 플레이트(T)는 상기 점묘 및 상기 검사용 묘화를 행하는 것이며, 예를 들어, 워크(W)의 2개의 변에 따르는 「L」자 형상의 것이 바람직하다.

또한, 워크(W)의 점묘 영역, 더미 워크의 표면 및 타깃 플레이트(T)의 표면에는 레이저광에 의해 발색 또는 변색되는 유기 색소 등을 도포하여, 점묘 결과를선명하게 시인할 수 있도록 하는 것이 바람직하다. 이렇게 하면, 예를 들어, 도 8의 (a) 및 (b)에 나타낸 바와 같이, 묘화 도트(71)와 점묘 도트(61)를 동일한 위치에 넣고, 이것을 비교하는 것이 용이해진다. 이것에 의해, 점묘 도트와 묘화 도트의 위치 어긋남 상태를 보다 명확하게 판별할 수 있다.

여기서, 상기 액체 방울 토출 장치(1)를 액정 표시 장치의 제조에 적용한 경우에 대해서 설명한다. 도 9는 액정 표시 장치(301)의 단면 구조를 나타내고 있다. 도 9에 나타낸 바와 같이, 액정 표시 장치(301)는, 유리 기판(321)을 주체로 하여 대향면에 투명 도전막(ITO막)(322) 및 배향막(323)을 형성한 상(上)기판(311) 및 하(下)기판(312)과, 이 상하 양 기판(311, 312) 사이에 개재시켜 설치한 다수의 스페이서(331)와, 상하 양 기판(311, 312) 사이를 밀봉하는 밀봉재(332)와, 상하 양 기판(311, 312) 사이에 충전한 액정(333)으로 구성되는 동시에, 상기판(311)의 뒷면에 위상(位相) 기판(341) 및 편광판(342a)을 적층하고, 또한, 하기판(312)의 뒷면에 편광판(342b) 및 백라이트(343)를 적층하여, 구성되어 있다.

통상의 제조 공정에서는, 각각 투명 도전막(322)의 패터닝 및 배향막(323)의 도포를 행하여 상기판(311) 및 하기판(312)을 각각 제작한 후, 하기판(312)에 스페이서(331) 및 밀봉재(332)를 만들어 넣고, 이 상태에서 상기판(311)을 접합시킨다. 이어서, 밀봉재(332)의 주입구로부터 액정(333)을 주입하고, 주입구를 폐지(閉止)한다. 그 후, 위상 기판(341), 양 편광판(342a, 342b) 및 백라이트(343)를 적층한다.

실시예의 액체 방울 토출 장치(1)는, 예를 들어, 스페이서(331)의 형성이나액정(333)의 주입에 이용할 수 있다. 구체적으로는, 기능액으로서 셀 갭을 구성하는 스페이서 재료(예를 들어, 자외선 경화 수지나 열경화 수지)나 액정을 도입하고, 이들을 소정의 위치에 균일하게 토출(도포)시켜 간다. 우선, 밀봉재(332)를 고리 형상으로 인쇄한 하기판(312)을 흡착 테이블(33)에 세트하여, 이 하기판(312) 위에 스페이서 재료를 성긴 간격으로 토출하고, 자외선 조사하여 스페이서 재료를 응고시킨다. 다음으로, 하기판(312)의 밀봉재(332) 내측에 액정(333)을 소정량만 균일하게 토출하여 주입한다. 그 후, 별도 준비한 상기판(311)과 액정을 소정량 도포한 하기판(312)을 진공 중에 도입하여 접합시킨다.

이와 같이, 상기판(311)과 하기판(312)을 접합시키기 전에, 액정(333)을 셀 중에 균일하게 도포(충전)하도록 하고 있기 때문에, 액정(333)이 셀의 코너 등 세부(細部)에 골고루 미치지 않는 등의 결점을 해소할 수 있다.

또한, 기능액(밀봉재용 재료)으로서 자외선 경화 수지 또는 열경화 수지를 이용함으로써, 상기 밀봉재(332)의 인쇄를 이 액체 방울 토출 장치(1)에서 행하는 것도 가능하다. 마찬가지로, 기능액(배향막 재료)으로서 폴리이미드 수지를 도입함으로써, 배향막(323)을 액체 방울 토출 장치(1)에서 제조하는 것도 가능하다.

이와 같이, 액정 표시 장치(301)의 제조에서는 다종(多種)의 기능액을 도입하는 것을 상정(想定)할 수 있지만, 상기한 액체 방울 토출 장치(1)에서는 기능 액체 방울 토출 헤드(5)에 의해 기능액을 양호한 정밀도로 토출할(착탄시킬) 수 있기 때문에, 액정 표시 장치(301)를 양호한 정밀도로, 또한, 안정되게 제조할 수 있다.

그런데, 상기한 액체 방울 토출 장치(1)는, 휴대 전화나 퍼스널 컴퓨터 등의전자 기기에 탑재되는 상기 액정 표시 장치(301) 이외에, 각종 전기 광학 장치(디바이스)의 제조에 이용하는 것이 가능하다. 즉, 본 실시예의 액체 방울 토출 장치(1)는 유기 EL 장치, FED 장치(전자 방출 장치), PDP 장치 및 전기 영동 표시 장치 등의 제조에 적용할 수 있다. 또한, 액정 표시 장치나 유기 EL 장치 등의 컬러 필터의 제조에 적용할 수 있다.

다음으로, 유기 EL 장치의 제조에 상기한 액체 방울 토출 장치(1)를 응용한 예를 간단하게 설명한다. 유기 EL 장치(401)는, 도 10에 나타낸 바와 같이, 기판(421), 회로 소자부(422), 화소 전극(423), 뱅크부(424), 발광 소자(425), 음극(426)(대향 전극), 및 밀봉용 기판(427)으로 구성된 유기 EL 소자(411)에 플렉시블 기판(도시 생략)의 배선 및 구동 IC(도시 생략)를 접속한 것이다. 회로 소자부(422)는 기판(421) 위에 형성되고, 복수의 화소 전극(423)이 회로 소자부(422) 위에 정렬되어 있다. 그리고, 각 화소 전극(423) 사이에는 뱅크부(424)가 격자 형상으로 형성되어 있으며, 뱅크부(424)에 의해 생긴 오목부 개구(431)에 발광 소자(425)가 형성되어 있다. 음극(426)은 뱅크부(424) 및 발광 소자(425)의 상부 전면(全面)에 형성되고, 음극(426) 위에는 밀봉용 기판(427)이 적층되어 있다.

유기 EL 장치(401)의 제조 공정에서는, 미리 회로 소자부(422) 위 및 화소 전극(423)이 형성되어 있는 기판(421)(워크(W)) 위의 소정 위치에 뱅크부(424)가 형성된 후, 발광 소자(425)를 적절히 형성하기 위한 플라즈마 처리가 실행되고, 그 후에 발광 소자(425) 및 음극(426)(대향 전극)이 형성된다. 그리고, 밀봉용기판(427)을 음극(426) 위에 적층하여 밀봉하여, 유기 EL 소자(411)를 얻은 후, 이 유기 EL 소자(411)의 음극(426)을 플렉시블 기판의 배선에 접속하는 동시에, 구동 IC에 회로 소자부(422)의 배선을 접속함으로써, 유기 EL 장치(401)가 제조된다.

액체 방울 토출 장치(1)는 발광 소자(425)의 형성에 이용된다. 구체적으로는, 기능 액체 방울 토출 헤드(5)에 발광 소자 재료(기능액)를 도입하고, 뱅크부(424)가 형성된 기판(421)의 화소 전극(423)의 위치에 대응하여 발광 소자 재료를 토출시켜, 이것을 건조시킴으로써 발광 소자(425)를 형성한다. 또한, 상기한 화소 전극(423)이나 음극(426)의 형성 등에서도, 각각 대응하는 액체 재료를 사용함으로써, 액체 방울 토출 장치(1)를 이용하여 제조하는 것도 가능하다.

또한, 예를 들어, 전자 방출 장치의 제조 방법에서는, 복수의 기능 액체 방울 토출 헤드(5)에 R, G, B 각색의 형광 재료를 도입하고, 복수의 기능 액체 방울 토출 헤드(5)를 주주사 및 부주사하며, 형광 재료를 선택적으로 토출하여, 전극 위에 다수의 형광체를 형성한다.

PDP 장치의 제조 방법에서는, 복수의 기능 액체 방울 토출 헤드(5)에 R, G, B 각색의 형광 재료를 도입하고, 복수의 기능 액체 방울 토출 헤드(5)를 주주사 및 부주사하며, 형광 재료를 선택적으로 토출하여, 뒷면 기판 위의 다수의 오목부에 각각 형광체를 형성한다.

전기 영동 표시 장치의 제조 방법에서는, 복수의 기능 액체 방울 토출 헤드(5)에 각색의 영동체 재료를 도입하고, 복수의 기능 액체 방울 토출 헤드(5)를 주주사 및 부주사하며, 영동체 재료를 선택적으로 토출하여, 전극 위의 다수의 오목부에 각각 형광체를 형성한다. 또한, 대전 입자와 염료(染料)로 이루어지는 영동체는 마이크로캡슐에 봉입(封入)되어 있는 것이 바람직하다.

또한, 다른 전기 광학 장치로서는, 금속 배선 형성, 렌즈 형성, 레지스트 형성 및 광확산체 형성 등의 장치를 생각할 수 있고, 본 실시예의 액체 방울 토출 장치(1)는 이들 각종 제조 방법에도 적용할 수 있다.

예를 들면, 금속 배선 형성 방법에서는, 복수의 기능 액체 방울 토출 헤드(5)에 액상(液狀) 금속 재료를 도입하고, 복수의 기능 액체 방울 토출 헤드(5)를 주주사 및 부주사하며, 액상 금속 재료를 선택적으로 토출하여, 기판 위에 금속 배선을 형성한다. 예를 들면, 상기 액정 표시 장치에서의 드라이버와 각 전극을 접속하는 금속 배선이나, 상기 유기 EL 장치에서의 TFT 등과 각 전극을 접속하는 금속 배선에 적용하여 이들 디바이스를 제조할 수 있다. 또한, 이러한 플랫 패널 디스플레이 이외에, 일반적인 반도체 제조 기술에도 적용할 수 있다.

렌즈의 형성 방법에서는, 복수의 기능 액체 방울 토출 헤드(5)에 렌즈 재료를 도입하고, 복수의 기능 액체 방울 토출 헤드(5)를 주주사 및 부주사하며, 렌즈 재료를 선택적으로 토출하여, 투명 기판 위에 다수의 마이크로 렌즈를 형성한다. 예를 들면, 상기 FED 장치에서의 빔 집속용(集束用) 디바이스를 제조할 경우에 적용할 수 있다. 또한, 각종 광 디바이스의 제조 기술에도 적용할 수 있다.

렌즈의 제조 방법에서는, 복수의 기능 액체 방울 토출 헤드(5)에 투광성의 코팅 재료를 도입하고, 복수의 기능 액체 방울 토출 헤드(5)를 주주사 및 부주사하며, 코팅 재료를 선택적으로 토출하여, 렌즈의 표면에 코팅막을 형성한다.

레지스트 형성 방법에서는, 복수의 기능 액체 방울 토출 헤드(5)에 레지스트 재료를 도입하고, 복수의 기능 액체 방울 토출 헤드(5)를 주주사 및 부주사하며, 레지스트 재료를 선택적으로 토출하여, 기판 위에 임의 형상의 포토레지스트를 형성한다. 예를 들면, 상기 각종 표시 장치에서의 뱅크의 형성은 물론, 반도체 제조 기술의 주체를 이루는 포토리소그래피법에서 포토레지스트의 도포에 널리 적용할 수 있다.

광확산체 형성 방법에서는, 복수의 기능 액체 방울 토출 헤드(5)에 광확산 재료를 도입하고, 복수의 기능 액체 방울 토출 헤드(5)를 주주사 및 부주사하며, 광확산 재료를 선택적으로 토출하여, 기판 위에 다수의 광확산체를 형성한다. 이 경우도 각종 광 디바이스에 적용할 수 있다.

이와 같이, 액체 방울 토출 장치(1)에는 다종의 기능액이 도입될 가능성이 있지만, 상기한 액체 방울 토출 장치(1)를 각종 전기 광학 장치(디바이스)의 제조에 이용함으로써, 전기 광학 장치를 양호한 정밀도로, 또한, 안정되게 제조할 수 있다.

본 발명의 워크 처리 장치의 처리 정밀도 검사 장치에 의하면, 점묘 수단에 의한 워크 위의 점묘 결과로부터, 이동 기구의 기계적 정밀도에 의거한 정밀도 불량과 처리 기구의 처리 정밀도에 의거한 정밀도 불량을 용이하게 판별할 수 있다. 따라서, 정밀도 불량에 대한 정확한 대응책을 취할 수 있다.

본 발명의 액체 방울 토출 장치의 묘화 정밀도 검사 장치 및 액체 방울 토출장치에 의하면, 이동 기구의 기계적 정밀도에 의거한 정밀도 불량과 기능 액체 방울 토출 헤드의 토출 정밀도에 의거한 정밀도 불량을 판별할 수 있는 동시에, 묘화 정밀도 검사 장치에 의한 검사 결과로부터 정확한 대응책을 취할 수 있다. 또한, 본 발명의 워크에 의하면, 필요에 따라 정밀도 검사를 간단하게 행할 수 있다.

본 발명의 전기 광학 장치, 전기 광학 장치의 제조 방법 및 전자 기기에 의하면, 묘화 정밀도(기능액의 착탄 정밀도)가 양호한 액체 방울 토출 장치를 이용하여 제조되기 때문에, 고품질이며 신뢰성이 높은 전기 광학 장치를 제공할 수 있다.

Claims

워크(work) 및 워크 처리를 행하는 워크 처리 기구를 탑재한 이동 기구에 의해, 상기 워크에 대하여 상기 워크 처리 기구를 상대적으로 이동시키면서, 상기 워크의 표면에 워크 처리를 행하는 워크 처리 장치의 처리 정밀도 검사 장치로서,

상기 워크 처리 기구에 병설(倂設)하여 상기 이동 기구에 탑재되고, 상기 워크 및 상기 워크 처리 기구의 상대적인 이동에 따라, 코히런트(coherent)광을 상기 워크에 조사하여 상기 워크 위에 시인(視認) 가능한 점묘(點描)를 행하는 점묘 수단과,

소정의 주파수 타이밍으로 상기 점묘 수단을 점묘 구동하는 점묘 제어 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 워크 처리 장치의 처리 정밀도 검사 장치.
워크 및 기능 액체 방울 토출 헤드를 탑재한 이동 기구에 의해, 상기 워크에 대하여 상기 기능 액체 방울 토출 헤드를 상대적으로 이동시키면서, 상기 기능 액체 방울 토출 헤드로부터 기능 액체 방울을 선택적으로 토출하여 묘화(描畵)를 행하는 액체 방울 토출 장치의 묘화 정밀도 검사 장치로서,

상기 기능 액체 방울 토출 헤드에 병설하여 상기 이동 기구에 탑재되고, 상기 워크 및 상기 기능 액체 방울 토출 헤드의 상대적인 이동에 따라, 코히런트광을 상기 워크에 조사하여 상기 워크 위에 시인 가능한 점묘를 행하는 점묘 수단과,

소정의 주파수 타이밍으로 상기 점묘 수단을 점묘 구동하는 점묘 제어 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 액체 방울 토출 장치의 묘화 정밀도 검사 장치.
제 2 항에 있어서,

상기 점묘 수단에 의한 점묘 결과를 화상 인식하는 화상 인식 수단을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 액체 방울 토출 장치의 묘화 정밀도 검사 장치.
제 2 항에 있어서,

상기 점묘 수단은 레이저광을 발진(發振) 또는 합초(合焦)하여 조사하는 레이저 조사 기구로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 액체 방울 토출 장치의 묘화 정밀도 검사 장치.
제 2 항에 있어서,

상기 점묘 제어 수단은 상기 기능 액체 방울 토출 헤드의 헤드 드라이버로부터 취득한 토출 타이밍 신호에 의거하여, 상기 점묘 수단을 점묘 구동하는 것을 특징으로 하는 액체 방울 토출 장치의 묘화 정밀도 검사 장치.
제 5 항에 있어서,

상기 기능 액체 방울 토출 헤드는 묘화 검사를 위한 토출 구동을 행하고, 상기 점묘 제어 수단은 상기 기능 액체 방울 토출 헤드의 토출 구동에 동기(同期)하여 상기 점묘 수단을 점묘 구동하는 것을 특징으로 하는 액체 방울 토출 장치의 묘화 정밀도 검사 장치.
제 6 항에 있어서,

상기 점묘 제어 수단은 상기 기능 액체 방울 토출 헤드에 의한 기능액 토출로부터 이것이 상기 워크 위에 착탄(着彈)될 때까지의 시간만큼 상기 점묘 수단의 점묘 구동을 지연시키는 지연 수단을 갖고 있는 것을 특징으로 하는 액체 방울 토출 장치의 묘화 정밀도 검사 장치.
제 2 항에 있어서,

적어도 상기 워크의 점묘 부위 대신에, 상기 워크에 병설된 타깃(target) 플레이트를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 액체 방울 토출 장치의 묘화 정밀도 검사 장치.
제 2 항에 있어서,

상기 워크 대신에, 검사용 더미(dummy) 워크를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 액체 방울 토출 장치의 묘화 정밀도 검사 장치.
제 2 항에 기재된 액체 방울 토출 장치의 묘화 정밀도 검사 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 액체 방울 토출 장치.
제 10 항에 기재된 액체 방울 토출 장치에 의해 묘화되는 워크로서,

기능액 토출 영역으로부터 벗어난 영역에, 상기 점묘 수단에 의한 점묘 영역 및 상기 기능 액체 방울 토출 헤드에 의한 검사용 묘화 영역을 갖고 있는 것을 특징으로 하는 워크.
제 11 항에 있어서,

상기 점묘 영역에는, 상기 점묘 수단의 조사광에 의해 발색(發色) 또는 변색되는 색소가 도포되어 있는 것을 특징으로 하는 워크.
제 10 항에 기재된 액체 방울 토출 장치를 이용하여, 상기 기능 액체 방울 토출 헤드로부터 워크 위에 기능 액체 방울을 토출하여 성막부(成膜部)를 형성하는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치.
제 10 항에 기재된 액체 방울 토출 장치를 이용하여, 상기 기능 액체 방울 토출 헤드로부터 워크 위에 기능 액체 방울을 토출하여 성막부를 형성하는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치의 제조 방법.
제 13 항에 기재된 전기 광학 장치를 탑재하는 것을 특징으로 하는 전자 기기.
제 14 항에 기재된 전기 광학 장치의 제조 방법에 의해 제조한 전기 광학 장치를 탑재하는 것을 특징으로 하는 전자 기기.