KR20040045015A - 고 내부 투과도 및 저 복굴절을 갖는 용융 실리카 - Google Patents

고 내부 투과도 및 저 복굴절을 갖는 용융 실리카 Download PDF

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KR20040045015A
KR20040045015A KR10-2004-7004561A KR20047004561A KR20040045015A KR 20040045015 A KR20040045015 A KR 20040045015A KR 20047004561 A KR20047004561 A KR 20047004561A KR 20040045015 A KR20040045015 A KR 20040045015A
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제프리 제이. 도메이
마이클 알. 헤스린
줄리 엘. 레디슨
마이클 더블유. 린더
존 이. 맥슨
조한스 몰
주니어 로버트 에스. 파브릭
다니엘 알. 샘폴린스키
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코닝 인코포레이티드
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Abstract

본 발명은 고 내부 투과도 및 저 복굴절을 갖는 용융 실리카 부재에 관한 것이다. 본 발명에서는 또한 이러한 용융 실리카 부재의 제조방법이 기술된다. 본 발명에 따르면, 193㎚에서 99.65%/㎝ 이상의 내부 투과도 및 0.75㎚/㎝ 이하의 사용축을 따른 절대 최대 복굴절을 갖는 용융 실리카 부재가 제공된다.

Description

고 내부 투과도 및 저 복굴절을 갖는 용융 실리카 {Fused silica having high internal transmission and low birefringence}
렌즈, 프리즘, 포토마스크 및 윈도우와 같은 상업적으로 사용되는 용융 실리카 광학 부재는 통상적으로 거대 제조로에서 제조된 용융 실리카의 벌크 조각으로부터 제조된다. 개괄적으로, 실리콘-함유 가스 분자는 화염내에서 반응되어 실리카 수트 입자를 형성한다. 상기 수트 입자는 회전 또는 진동 바디의 뜨거운 표면상에 증착되어 유리상 고체 상태로 고형화된다. 당해분야에서, 이러한 형태의 유리 제조는 기상 가수분해/산화 공정, 또는 단순히 불꽃 가수분해 공정으로 공지되어 있다. 상기 용융 실리카 입자의 증착에 의해 형성된 벌크 용융 실리카 바디는 종종 "보울"로 기술되며, 본원에서는 "보울"이 불꽃 가수분해 공정에 의해 형성되는 모든 실리카-함유 바디를 포함하는 것으로 기술됨과 더불어 이러한 기술이 사용된다.
5피트(1.5미터) 및 5-10인치(13-25㎝)의 두께상 직경을 갖는 보울은 통상적으로 대형 제조로에서 일반적인 방법에 따라 제조될 수 있다. 복수의 블랭크가 이러한 보울로부터 절단되어 상술한 여러가지 광학 부재를 제조하는데 사용된다. 이러한 블랭크로부터 제조된 렌즈 부재의 주(principal) 광학축은 또한 일반적으로 상기 로내의 보울의 회전축에 평행하다. 참고로, 상기 방향은 "1축" 또는 "사용축"으로 기술될 것이다.
레이저 에너지 및 펄스 속도가 증가함에 따라, 이러한 레이저와 함께 사용되는 렌즈, 프리즘, 포토마스크 및 윈도우와 같은 광학 부재는 증가된 레벨의 레이저 조사선에 노출된다. 용융 실리카 부재는 우수한 광학적 성질 및 레이저 유도 손상에 대한 내성에 기인하여 이러한 레이저에 기초한 광학 시스템의 광학 부재용 제조 물질로 폭넓게 사용되어 왔다.
레이저 기술은 단파장, 고에너지 자외선 스펙트럼 영역, 레이저에 의해 생성되는 광 주파수의 증가(파장길이의 감소) 효과로 발전되어 왔다. 특히 UV 및 깊은 UV(DUV) 파장 영역에서 작동하는 단파장 엑시머 레이저에 대한 관심이 높아지고 있다. 엑시머 레이저 시스템은 마이크로리소그라피 응용에 많이 쓰이고 있고, 상기 단파장은 좀 더 작은 사이즈를 갖는 회로를 제조할 수 있는 집적 회로 및 마이크로칩의 제조시 선밀도의 증가를 가능하게 한다. 단파장(고주파수)의 직접적인 물리적 중요성은 각각의 개별적인 광자가 보다 높은 에너지를 갖는다는 점에 기인한 빔내의 보다 높은 광자 에너지이다. 이러한 엑시머 레이저 시스템에서, 용융 실리카 광학은 보다 연장된 기간동안 보다 높은 에너지 레벨의 광자 조사에 노출되어 상기 광학 부재의 광학 성질의 감퇴가 초래된다.
레이저-유도 감퇴는 광투과 레벨을 감소시키고, 굴절률을 변경시키며, 밀도를 변경시키고, 그리고 유리의 흡수레벨을 증가시킴으로써 용융 실리카 광학 부재의 성능에 악영향을 미친다. 수년동안 용융 실리카 유리의 광학 손상에 대한 내성을 향상시키기 위하여 여러가지 방법이 제안되어 왔다. 불꽃 가수분해, CVD-수트 재융해 공정, 플라즈마 CVD 공정, 석영 결정 분말의 전기적 용융, 및 기타 방법과 같은 방법에 의해 제조된 고순도 용융 실리카가 다양한 정도로 레이저 손상될 수 있음이 공지되어 있다.
광학 부재가 깊은 자외선(DUV) 마이크로리소그라피 스캐너에 설치되는 용융 실리카로부터 제조되며, 계단형(stepper) 노출 시스템이 마이크로프로세서 및 트랜지스터내에서 마이크론 이하의 크기를 갖는 회로를 프린팅 할 수 있어야 한다. 리딩-에지 크기로 프린트할 수 있도록 고투과도, 균일한 굴절률 특성 및 저복굴절값을 갖는 광학 부재가 요구되고 있다. 투과도, 굴절률 균질성 및 복굴절은 렌즈 물질의 광학 성능을 특성화하는 3가지의 유일한 방법이며, DUV 기술로서 일관성있게 향상이 요구되는 상기 2가지 성질로 확장된다.
유럽 특허출원 EP 1 067 092호에는 적어도 99.6%/㎝의 내부 투과도 및 1㎚/㎝ 이하의 복굴절을 갖는 석영 유리 부재가 개시되어 있다. 상기 유럽 특허출원 EP 1 067 092호에 개시된 석영 유리 부재는 고 내부 투과도를 갖지만, 보다 높은 절대 최소 내부 투과도, 즉, 99.65%/㎝ 이상의 내부 투과도 및 0.75㎚/㎝ 이하의 절대 최대 복굴절을 갖는 융융 실리카 유리 부재의 제공이 요구되고 있다. 본 출원의 양도인들은 99.5%/㎝의 최소 내부 투과도 및 0.5㎚/㎝ 이상의 복굴절을 갖는 상품명HPFS?Corning code 7980의 고순도 용융 실리카를 제조하여 판매하고 있다.
상술한 기재로부터 자외선 레이저 조사선에 장기 노출시 광학 손상, 특히 193 및 243㎚ 엑시머 레이저에 의한 UV 조사선에의 장기 노출시 나타나는 광학 손상에 대한 내성을 증가시키는 방법에 대한 요구가 지속되어 왔음을 알 수 있다. 이는 향상된 최소 내부 투과도, 즉 99.65%/㎝ 이상, 바람직하게는 99.75%/㎝ 이상의 향상된 최소 내부 투과도 및 낮은 절대 최대 복굴절, 즉 0.75㎚/㎝ 이하, 바람직하게는 0.5㎚/㎝ 이하의 낮은 절대 최대 복굴절을 가지며, 보울의 생성 후 용융 실리카의 후 처리가 더욱 요구되지 않는 용융 실리카 유리에 특히 유리하다. 또한, 고양산률로 이러한 유리를 생산하는 것이 바람직하다.
발명의 요약
본 발명은 190 내지 300㎚ 파장 범위의 자외선에 의한 광손상에 대하여 높은 내성을 갖는 용융 실리카 유리 부재에 관한 것이다. 일 측면에 따르면, 본 발명의 용융 실리카 부재는 193㎚의 파장에서 99.65%/㎝ 이상의 내부 투과도 및 0.75㎚/㎝ 이하의 사용축에 따른 절대 최대 복굴절을 갖는다. 본 발명의 상기 측면에 따르면, 상기 용융 실리카는 바람직하게는 3×1017분자/㎤ 이하의 수소 분자 함량을 갖는다.
본 발명의 다른 측면에 따르면, 용융 실리카 부재는 193㎚의 파장에서 99.75%/㎝ 이상의 내부 투과도 및 0.5㎚/㎝ 이하의 사용축에 따른 절대 최대 복굴절을 갖도록 제공된다. 본 발명의 상기 측면에 따르면, 바람직하게는 상기 용융 실리카 부재는 2×1017분자/㎤ 이하의 수소 분자 함량을 갖는다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 상기 용융 실리카 유리 부재는 상기 사용축을 따라 1ppm 이하의 굴절률 균질성을 갖는다. 본 발명의 다른 측면에서, 상기 용융 실리카 부재는 상기 부재가 2000Hz 및 1.0mJ/㎠/펄스에서 193㎚ 레이저의 1×1010shots로 조사된 후 0.005/㎝(10 스케일에 기초하여) 미만의 투과도 변화를 나타낸다. 본 발명의 용융 실리카 부재는 포토리소그라피 시스템의 렌즈로서 사용하기에 적합하다.
본 발명의 용융 실리카 부재는 포토리소그라피 기기에서 사용되는 렌즈 시스템내에서 보다 낮은 흡수 레벨을 나타내는 렌즈 시스템의 제조를 가능하게 한다. 보다 낮은 흡수는 렌즈 가열 효과를 감소시킬 것이고, 이는 포토리소그라피 내의 이미지 성능, 콘트래스트(contrast) 손실 및 스루풋(throghput)에 영향을 미친다. 본 발명의 용융 실리카 부재는 보다 낮은 복굴절을 나타내며, 이는 광학 수차(aberration)를 최소화시키고 포토리소그라피 시스템의 이미지 성능을 향상시킬 것이다.
본 발명의 또 다른 이점은 다음에서 후술될 것이다. 전술한 일반적인 설명 및 다음의 상세한 설명은 단지 예시를 위한 것으로서, 후술되는 본 발명의 청구항을 좀 더 상세히 설명하고자 제공된다.
본원은 고 내부 투과도 및 저 복굴절을 갖는 용융 실리카의 명칭으로 201. 9. 27.자로 출원된 미국 가출원 제60/325,950호를 우선권으로 청구한다.
본 발명은 내부 투과도 및 복굴절에 한정되는 것은 아니지만, 이를 포함하는 향상된 성질을 나타내는 용융 실리카 광학 부재 및 그 제조방법에 관한 것이다.
도 1은 본 발명에 따라 제조되는 용융 실리카의 펄수 수에 대한 유도 흡수의상관관계를 도시한 그래프이다.
도 2는 본 발명에 따른 용융 실리카 유리 제조용 로의 일반적인 형태를 나타낸 개략도이다.
본 발명에 따르면, 향상된 투과도, 향상된 균질성 및 사용축을 따라 낮은 절대 최소 복굴절을 갖는 용융 실리카 광학 부재가 제공된다. 용융 실리카 광학 부재는 용융 실리카 보울로부터 절단되며, 이의 제조방법이 다음에 후술될 것이다.
상기 용융 실리카 광학 부재는 용융 실리카 보울 공정에 의해서 제조될 수 있다. 통상적인 용융 실리카 공정에 있어서, 공정 가스, 예를 들어, 질소가 운반 가스로서 사용되며, 상기 질소의 바이패스 스트림의 포화를 방지하기 위해 도입된다. 상기 기상 반응물은 분포 메커니즘을 통해서 복수의 버너가 로 크라운에 근접해 있는 반응 사이트로 통과된다. 상기 반응물은 상기 버너에서 연료/산소 혼합물과 혼합되어 1700℃를 초과하는 온도에서 연소 및 산화된다. 상기 고순도의 금속 산화물 수트 및 얻어지는 열은 내화로 크라운을 통해서 하류로 향하여 즉시 핫 베이트(hot bait) 상의 유리 매스(glass mass)로 증착 및 고형화된다.
본 발명의 일 구체예에 따르면, 레이저 손상에 대해서 높은 내성을 갖는 광학 부재가 다음의 방법에 따라 형성된다:
a) 산화 또는 불꽃 가수분해로의 열분해를 통해서 실리카로 전환될 수 있는 기상의 실리카-함유 화합물을 함유하는 가스 스트림을 생성시키는 단계;
b) 상기 가스 스트림을 연소 버너의 불꽃내로 통과시켜 무정형의 용융 실리카 입자를 형성시키는 단계;
c) 상기 무정형 입자를 지지체 상에 증착시키는 단계; 및
d) 상기 무정형 입자의 증착물을 투명 유리 바디로 고형화시키는 단계.
낮은 OH 함량을 갖는 용융 실리카 블랭크가 바람직한 경우, 상기 무정형 입자는 염소-함유 분위기에서 고형화되어 물이 제거되고 상기 유리를 정제한다. 일 공정에서, 상기 무정형 입자의 증착은 He/HCl-함유 분위기내에서 고형화되어 10ppm 미만의 OH 함량을 갖는 투명한 유리 바디를 형성한다.
유리 블랭크를 형성하기에 유용한 실리콘-함유 화합물은 바람직하게는 할라이드가 없는 시클로실록산 화합물, 예를 들어, 헥사메틸디실록산, 폴리메틸시클로실록산 및 이들의 혼합물과 같은 폴리메틸실록산을 포함한다. 특히 유용한 폴리메틸시클로실록산으로는 옥타메틸시클로테트라실록산, 데카메틸시클로펜타실록산, 헥사메틸시클로트리실록산 및 이들의 혼합물이 포함된다.
본 발명의 특히 유용한 하나의 방법에 있어서, 옥타메틸시클로테트라실록산(OMCTS)과 같은, 할라이드가 없는 시클로실록산 화합물은 다음의 화학식 1로 표시된다:
- [SiO(CH3)2]4-
상기 화합물은 용융 실리카 보울 공정 또는 광도파관 적용을 위한 고순도 용융 실리카의 제조에 사용되는 것과 같은 기상증착 공정용 공급용액으로서 사용된다.
상업적으로 실시되는 바와 같이, 5피트(1.5미터) 및 5-10인치(13-25㎝)의 두께상의 직경을 갖는 보울이 도 2에 나타낸 형태의 로를 사용하여 제조될 수 있다. 개관하면, 로(100)는 보울(19)을 형성하기 위해 수집되는 실리카 수트를 형성하는 복수의 버너(14)를 운반하는 크라운(12)을 포함하며, 상기 보울(19)은 상술한 바와 같이 통상적으로 5피트의 직경상에 있다. 이러한 형태의 로의 구조 및 작동에 관하여 본원의 참고문헌으로 포함된 미국 특허 제5,951,730호에 보다 상세히 기재되어 있다. 용융 실리카 보울 제조용 버너 구조에 대해서 PCT 공개번호 제WO 00/17115호에 보다 상세히 기재되어 있다.
본 출원인은 연마된 보울의 수소 농도가 라만 분광기로 측정된 바에 따라 3.0×1017분자/㎤ 미만으로 낮아지도록 상기 보울 제조 로내의 버너 흐름을 조절함으로써 통상의 보울보다 높은 투과도를 갖는 블랭크를 만든다. 기존의 공정에 따르면, 버너 흐름은 일반적으로 상기 보울내의 수소 농도가 5.0×1017분자/㎤ 정도가 되도록 유지된다. 본 발명의 또 다른 측면에 있어서, 본 출원인들은 기준 보울 제조 로내의 지르콘 내화재내에 함유된 금속 불순물을 더욱 낮춤으로써 이러한 보울로부터 제조된 용융 실리카 부재의 내부 투과도가 향상됨을 발견하였다. 본원의 참고문헌으로 포함된, 공동 양도중인 미국 특허 제6,174,509호에는 지르콘 내화벽돌로부터 300ppm 미만의 레벨로 금속 불순물을 제거하는 공정이 개시되어 있다. 본 출원인은 미국 특허 제6,174,509호에 개시된 공정을 이용함으로써 내화재 물질내의불순물을 낮추기 위하여 장기간동안 상기 보울 로에 사용된 내화재를 하소하여 상기 용융 실리카의 내부 투과도가 향상됨을 발견하였다. 상기 내화재내의 불순물의 양은 나트륨이 2ppm 미만, 칼륨이 2ppm 미만, 그리고 철이 5ppm 미만이 되도록 저감되는 것이 바람직하다. 각각의 처리 시간 및 조건은 상기 내화재 물질내의 불순물의 함량에 의존하며, 실험에 의해 결정될 수 있다.
내부 투과도, 균질성 및 복굴절의 측정이 다음과 같이 수행된다. 노출되지 않은 용융 실리카에 있어서, 상기 내부 투과도는 광학적으로 연마된 샘플상에 적합한 UV 분광기(예를 들어, Hitachi U4001)를 사용하여 결정된다. 내부 투과도(Ti)는 표면 반사에 의해 결정되는 바에 따라 샘플의 이론적 투과도로 나눈 후 10㎜ 경로길이로 표준화함으로써 샘플을 통해 측정된 투과도로 결정된다. 본 발명에 따라 제조된 용융 실리카 부재의 투과도는 99.65%/㎝ 및 99.75%/㎝를 초과하는 내부 투과도를 나타낸다.
파면(wavefront) 왜곡으로 표현되며 굴절률 비균질성에 의해 기인되는 균질성은 632.8㎚의 파장에서 HeNe 레이저로 시판되는 상 측정 간섭계를 사용하여 측정된다. 상기 렌즈 블랭크는 열적으로 안정하다. 상기 표면은 굴절률-일치 오일로 연마하거나 또는 투명하게 한다. 상기 간섭계 공동(cavity)내의 모든 광학의 표면 형상 및 상기 샘플의 굴절률 변화가 상기 간섭계로 측정된 총 파면 왜곡으로 나타난다. 당해분야에 공지된 기술로부터 상기 표면에 기인한 시스템 에러를 교정하고 굴절률 불균질성을 계산한다. 이로부터 얻어진 결과는 상기 굴절률 파트의 상대적 변화 맵(map)이다. 광학 적용에 있어서, 이러한 편차가 제르니케(Zernike) 다항식으로 표시된다. 본 발명에 따라 제조된 용융 실리카 부재는 x-y 틸트(tilt)를 제거하고 제르니케 피스톤으로 1.0ppm 미만, x-y 틸트 및 파워(power)를 제거하고 제르니케 피스톤으로 0.9ppm 미만, 및 x-y 틸트, 파워 및 비점수차(astigmatism)를 제거하고 제르니케 피스톤으로 0.7 미만의 사용축을 따르는 균일도를 가져야 한다.
복굴절은 0.02㎚를 초과하는 감응도를 갖는 HINDES EXICORTM복굴절 측정 시스템 또는 사용자가 선택한 샘플 위치상에서 복굴절을 측정할 수 있는 당해분야에 공지된 유사 시스템을 사용하여 측정될 수 있다. 상기 시스템은 HeNe 레이저 빔의 편광 상태를 조절하기 위한 광탄성 조절기를 사용하여 샘플내의 복굴절 크기 및 방향 모두를 동시에 결정한다. 상기 조절된 레이저 빔이 샘플을 통해서 통과한 후, 2개의 검출 채널이 상기 샘플에 기인한 편광 변화를 분석한다. 그 다음 HINDES EXICORTM소프트웨어가 측정 데이타를 계산 및 분석한다. 본 발명에 따라 제조된 용융 실리카 부재의 복굴절은 상기 사용축을 따라 0.5㎚/㎝ 미만의 절대 최대 및 0.25㎚/㎝ 미만의 절대 평균값을 가져야 한다.
본 발명에 따라 제조된 용융 실리카 부재는 물질의 성질, 속도 상수, 플루엔스 및 노출 펄스 수에 따라 제한된 수명 모델을 사용하여 예측될 수 있다. 상기 물질의 실제 성능은 관련 물질의 성질, 공정 파라미터 및 샘플의 테스트 노출을 사용하여 변화시킬 수 있다. 도 1은 193㎚ 레이저로 조사된 용융 실리카의 펄수수에 대한 유도 흡수를 도시한 것이다. 도 1의 선은 모델에 따른 데이타이고, 도 1의 데이타 포인트는 후술하는 실시예 1에 따라 제조된 용융 실리카의 측정치이다.
투과 손실(△k(10 기준))은 193㎚ 레이저에의 노출 전 및 노출 후의 투과도 변화로 정의된다. 본 발명에 따라 제조된 용융 실리카는 수명 모델하에서 1.0mJ/㎠/펄스에서 1011펄스로 조사되었을 때 0.0050/㎝ 이하의 △k, 0.1mJ/㎠/펄스에서 1011펄스로 조사된 후 0.0006/㎝ 미만의 △k, 및 1.0mJ/㎠/펄스에서 1011펄스 후 0.0050/㎝ 미만의 △k를 나타내어야 한다. 투과 손실을 측정하기 위한 모델링 기술이 "실리카의 유도 흡수(A Preliminary Model),"의 명칭으로 Araujo, R.J, Borrelli, N.F., 및 Smith, C., Proceedings of SPIE Vol. 3424 Inorganic Optical Materials 1998, pages 1-9에 기술되어 있다.
이하 실시예를 통하여 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 하기의 실시예에 의하여 본 발명의 범주가 한정되는 것은 아니다.
실시예 1
표준 공정을 이용한 고 투과도, 저 복굴절 용융 실리카의 제조
용융 실리카 보울이 도 2에 나타낸 로에서 제조되었다. 이러한 형태의 로의 구조 및 작업에 대해서는 공동 양도된 미국 특허 제5,951,730호에 보다 상세히 기술되어 있다. 상기 보울 내에 3×1017분자/㎤ 미만의 수소 함량이 얻어지도록 버너 흐름이 유지된다. 용융 실리카 보울 제조용 버너의 구조에 대해서는 공동 양도된 PCT 특허 공개번호 제WO 00/17115호에 상세히 기재되어 있다. 본 출원인은 로 제조에 사용되는 내화물질을 나트륨, 칼륨 및 철 불순물의 함량이 각각 2ppm 미만,2ppm 미만 및 5ppm 미만의 레벨로 낮아지도록 충분히 하소함으로써 상당히 향상된 투과도를 갖는 용융 실리카를 얻을 수 있음을 발견하였다. 하기 표 1에 이러한 공정에 따라 제조된 용융 실리카의 최소 투과도, 최대 복굴절 및 균질성 측정치를 나타내었다. 균질성 측정은 x-y 틸트가 제거된 제르니케 피스톤으로 평가되었다. 균질성 및 최대 절대 복굴절 측정이 사용축을 따라 수행되었다.
투과도(%/㎝) 균질성(ppm_ 복굴절(㎚/㎝)
샘플 1 99.70 0.59 0.18
샘플 2 99.70 0.57 0.18
샘플 3 99.69 0.64 0.24
샘플 4 99.69 0.40 0.30
샘플 5 99.68 0.39 0.26
샘플 6 99.70 0.57 0.10
샘플 7 99.69 0.43 0.15
샘플 8 99.69 0.52 0.17
샘플 9 99.68 0.32 0.20
실시예 2
변형 로를 이용한 고 투과도, 저 복굴절 용융 실리카의 제조
본 발명에 따른 용융 실리카의 제조에 변형 로가 사용되었다. 상기 로 및 이의 작동에 관하여는 본원의 참고문헌으로 포함되어 있고, 공동 양도된, Marley, Sproul 및 Sempolinski 등에 의해 "용융 실리카 제조용 로 및 개선된 방법"의 명칭으로 계류중인 출원에 보다 상세히 기술되어 있다. 투과도는 상기 보울의 중앙으로부터 7, 9, 14, 21, 23 및 25인치 방사상으로 이격된 위치에서 측정되었고, 각각의 내부 투과도는 99.74%/㎝를 초과하였다. 이러한 측정에 기초하여, 상기 공정은 99.75%/㎝를 초과하는 최소 내부 투과도를 갖는 용융 실리카를 양산성 있게 제조할 수 있음을 알 수 있다. 각각의 샘플에 대한 최소값을 하기 표 2에 나타내었다. 예비 관찰 및 경험으로부터 이러한 샘플들의 복굴절이 사용축을 따라 0.5㎚/㎝ 미만임이 예측된다.
투과도(%/㎝)
샘플 10 99.75
샘플 11 99.76
샘플 12 99.74
표준 제조공정을 이용하여 제조된 용융 실리카는 통상적으로 최대 99.6%/㎝의 투과도를 나타낸다. 용융 실리카의 이론 최대 투과도가 99.85%/㎝인 점을 감안하면, 상기 실시예에 따라 상기 변형 로를 이용하여 달성된 내부 투과도 값은 표준 공정에 비하여 괄목할 만하게 개선되었음을 알 수 있다. 예비 관찰 및 경험으로부터 샘플들의 복굴절이 사용축을 따라 0.5㎚/㎝ 미만임이 예측된다.
본 발명의 보호범위를 벗어나지 않는 범위에서 다양한 변형 및 변화가 이루어질 수 있음은 당업자에게 명백할 것이다. 따라서, 본 발명은 첨부되는 청구항 및 그 동등범위내에서 제공되는 본 발명의 변형 및 변화를 포함하고자 한다.

Claims (10)

193㎚의 파장에서 99.65%/㎝ 이상의 내부 투과도 및 0.75㎚/㎝ 이하의 사용축에 따른 절대 최대 복굴절을 가지며, 190 내지 300㎚ 파장 범위의 자외선에 의한 광손상에 대하여 내성을 갖는 것을 특징으로 하는 용융 실리카 유리 부재.
제1항에 있어서, 상기 용융 실리카 부재는 1ppm 이하의 사용 축에 따른 굴절률 균질성(homogeneity)을 갖는 것을 특징으로 하는 용융 실리카 유리 부재.
제2항에 있어서, 상기 용융 실리카 부재는 상기 부재가 1.0mJ/㎠/펄스에서 193㎚ 레이저의 1×1010shots로 조사된 후 0.005/㎝ 미만의 투과도 변화를 나타내는 것을 특징으로 하는 용융 실리카 부재.
제1항에 있어서, 상기 용융 실리카 부재는 3×1017분자/㎤ 이하의 수소 분자 함량을 갖는 것을 특징으로 하는 용융 실리카 유리 부재.
제1항에 있어서, 상기 부재는 포토리소그라피 시스템의 렌즈로 사용되는 것을 특징으로 하는 용융 실리카 부재.
193㎚의 파장에서 99.65%/㎝ 이상의 내부 투과도 및 0.5㎚/㎝ 이하의 사용축에 따른 절대 최대 복굴절을 가지며, 190 내지 300㎚ 파장 범위의 자외선에 의한 광손상에 대하여 내성을 갖는 것을 특징으로 하는 용융 실리카 유리 부재.
제6항에 있어서, 상기 용융 실리카 부재는 1ppm 이하의 사용 축에 따른 굴절률 균질성을 갖는 것을 특징으로 하는 용융 실리카 유리 부재.
제7항에 있어서, 상기 용융 실리카 부재는 상기 부재가 1.0mJ/㎠/펄스에서 193㎚ 레이저의 1×1010shots로 조사된 후 0.005/㎝ 미만의 투과도 변화를 나타내는 것을 특징으로 하는 용융 실리카 부재.
제6항에 있어서, 상기 용융 실리카 부재는 2×1017분자/㎤ 이하의 수소 분자 함량을 갖는 것을 특징으로 하는 용융 실리카 유리 부재.
제6항에 있어서, 상기 부재는 포토리소그라피 시스템의 렌즈로 사용되는 것을 특징으로 하는 용융 실리카 부재.
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