KR20030030980A - Ｕｖ 방사선 차단용 비가용성 유기 화합물의 분산물을안정화하기 위한 양쪽성 코폴리머의 용도, 상기코폴리머로 안정화된 분산물 및 상기 물질들을 포함하는화장료 조성물 - Google Patents

Ｕｖ 방사선 차단용 비가용성 유기 화합물의 분산물을안정화하기 위한 양쪽성 코폴리머의 용도, 상기코폴리머로 안정화된 분산물 및 상기 물질들을 포함하는화장료 조성물 Download PDF

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Abstract

본 발명은, UV 방사선을 흡수하는 적어도 하나의 기(group)를 포함하며, 평균 입자 크기가 10 ㎚ 내지 5 ㎛ 범위의 입자 형태인 비가용성 유기 화합물의 분산물을 안정화하기 위하여, 적어도 하나의 친수성 블록 및 적어도 하나의 소수성 블록을 포함하는 적어도 하나의 양쪽성 코폴리머의 용도, 상기 양쪽성 코폴리머를 포함하여 안정화된 분산물 및 국소용 화장료 조성물, 특히 이들을 포함하는 일광 차단용(antisun) 조성물에 관한 것이다.

Description

ＵＶ 방사선 차단용 비가용성 유기 화합물의 분산물을 안정화하기 위한 양쪽성 코폴리머의 용도, 상기 코폴리머로 안정화된 분산물 및 상기 물질들을 포함하는 화장료 조성물{USE OF AMPHIPHILIC COPOLYMERS TO STABILIZE DISPERSIONS OF INSOLUBLE ORGANIC COMPOUNDS FOR SCREENING OUT UV RADIATION, DISPERSIONS STABILIZED WITH THESE COPOLYMERS AND COSMETIC COMPOSITIONS CONTAINING THEM}
본 발명은 적어도 하나의 UV 방사선 흡수기(group)를 함유하는 비가용성 유기 화합물의 분산물을 안정화하기 위한 양쪽성(amphiphilic) 코폴리머의 용도, 상기 코폴리머로 안정화되는 상기 분산물, 상기 분산물을 포함하는 화장료 조성물 및 상기 분산물의 제조방법에 관한 것이며, 상기 유기 화합물은 평균 입자 크기 10 nm 내지 5 ㎛ 범위의 입자 형태이다.
일광으로부터 피부를 보호하기 위한 많은 화장료 조성물들이 오늘날까지 제안되고 있다.
이런 일광 차단(antisun) 조성물은 종종 유해한 UV 방사를 선택적으로 흡수할 수 있는 하나 이상의 유기 및/또는 광물성, 비가용성 및/또는 가용성, 친유성 및/또는 친수성 차단제를 함유하는 물 속의 기름(oil-in-water) 혹은 기름 속의물(water-in-oil) 형태인 에멀전형, 젤형 또는 무수 생성물형이다. 이들 차단제의 효능은 몰 흡광 계수(molar extinction coefficient) ε을 특징으로 한다. 상기 일광 차단 조성물에 있어서, 이들 차단제의 성질 및 농도는 바람직한 차단 인자 및 바람직한 차단 프로필 간 작용으로 나타난다. 상기 차단제가 친유성인가 혹은 친수성인가에 따라, 차단제가 일광 차단 조성물의 지방 상태로 나타나는지 또는 수성 상태로 나타나는지 분류할 수 있다.
일반적으로 사용되는 다수의 유기 차단제는 다양한 화장용 매질 내에서 차단제를 녹을 수 있게 하는 치환체를 포함하며, 상기 치환체를 예시하면, 오일 내에서 차단제를 녹게 하는 2-에틸헥실 형태의 사슬, 및 차단제에 극성 용매, 특히 물에서 해당 수준의 가용성을 제공하는 설폰산과 같은 이온화된 기(group)를 들 수 있다.
그러나, 발색단 상에 치환체가 존재하면 차단제의 자외선 흡수 능력을 감소시킨다는 것이 관찰됨에 따라, 그들의 흡수 성질을 완전히 이용하기 위해서는 치환되지 않은 발색단을 포함하는 차단제를 사용할 수 있을 때 이점을 얻을 수 있다.
그러나, 대부분 화장용 용매 내에 있는 차단제들은 비가용성이어서, 차단제를 조절하는 것이 어렵다. 또한, 자외선의 효율적인 차단을 위해서는, 차단제가 화장용 매질 내에 완전히 분산되어 있는 대단히 미세한 입자 형태이어야 한다고 알려져 있다.
화장료 조성물 내 만족할 만한 수준으로 분산되어 있는 차단제 입자를 얻기 위한 방법 중 하나는, 우선 화장용 매질 내에 도입할 농축된 전구 분산물(predispersion)을 제조하는 것이다.
이런 미세화된 가용성 유기 차단제의 전구 분산물은 굵은 입자들의 분산물을 하나 이상의 적당한 분산제 존재 하에서 바람직한 입자 크기로 분쇄함으로써 제조될 수 있다. 상기한 분산제로는 일반적으로 계면활성이 있는 화합물이 사용되며, 이 화합물은 고체/액체 계면에 위치함으로써 입자들의 응집 및 침전을 방지한다.
국제 특허 출원 WO 97/03643 및 특허 출원 EP 0 893 119에는, 식 CnH2n+1O(C6H10O5)xH(단, 상기 식에서 n은 8 내지 16 사이의 정수이며, x는 1.4 내지 1.6 사이의 수임)로 표시되는 알킬폴리글루코사이드로부터 선택되는 분산제의 존재 하에서, 비가용성 유기 차단제를 분쇄(마이크로화)하는 공정이 기재되어 있다.
국제 특허 출원 WO 95/22959에는, 알킬화된 폴리비닐피롤리돈, 비닐피롤리돈 및 비닐 아세테이트의 코폴리머, 아실글루타메이트, 아크릴산 및 tert-옥틸프로펜아미드의 코폴리머, 디톨일에테르설폰산/포름알데하이드 응축 생성물, Carbomer(R)제품, 에톡실화 트리스티릴페놀을 포함하는 상업적 혼합물 및 인지질로부터 선택되는 분쇄 보조제의 존재 하에서, 비가용성 유기 차단제를 마이크로화하는 공정이 기재되어 있다.
그러나, 상기한 바와 같이, 마이크로화된 유기 UV 차단제의 분산을 안정화하기 위하여 분산제 및 분쇄 보조제를 사용하는 것은 몇 가지 문제점이 있다. 특히, 상기 분산제가 안정한 농축 전구 분산물을 생성할 수 있어도, 일반적으로 일광 차단 조성물의 제조 중에, 적어도 부분적으로 일어나는 분산제의 탈착 및 최종 일광 차단용 화장료 조성물의 탈안정화에 의해 화장용 매질 내에 이 전구 분산물이 용해됨에 따라 상기 조성물 매질 내에 전구 분산물이 희석된다.
이처럼 전구 분산물의 희석 시 관찰되는 차단제 분산의 불안정성을 해결하기 위한 것으로 분산제의 농도를 증가시키는 방법을 들 수 있다. 그러나, 분산제의 농도를 증가시키면, 피부 또는 모발 상에서 비가용성 유기 차단제의 지속성을 저하한다는 것, 즉, 물과의 접촉 시 차단제의 제거를 촉진하는 결과를 가져온다는 사실이 알려졌다.
따라서, 본 발명의 목적은, 차단제의 잔류자기(remanence)를 해하지 않는 상대적으로 낮은 농도에서, 미세화된 비가용성 유기 차단제의 농축 분산물 및 상기 농축 분산물을 화장용 매질에 희석시킴으로써 얻어지는 화장료 조성물 모두를 안정화하기 위한 분산제를 제공하는 것이다.
본 출원인은 적어도 하나의 친수성 모노머 블록 및 적어도 하나의 소수성 모노머 블록을 포함하는 일반적인 성질을 갖는, "양쪽성 코폴리머(amphiphilic copolymer)"라고 알려진 하나의 특별한 폴리머 기(group)가 UV 방사선을 흡수하는 비가용성 유기 화합물 미세 입자들의 분산물의 농축 분산물 및 희석 분산물을 만족스럽게 안정화할 수 있다는 것을 발견하였다.
따라서, 본 발명의 목적은, UV 방사선을 흡수하는 적어도 하나의 기(group)를 포함하고 평균 입자 크기가 10 ㎚ 내지 5 ㎛의 범위인 입자 형태의 비가용성 유기 화합물의 분산물을 안정화하기 위하여, 적어도 하나의 친수성 블록 및 적어도 하나의 소수성 블록을 포함하는 적어도 하나의 양쪽성 코폴리머의 용도를 제공하는것이다.
또한, 본 발명의 목적은 UV 방사선을 흡수하는 적어도 하나의 기(group)를 포함하는 비가용성 유기 화합물의 분산물을 제조를 위한 제조방법으로서, 상기 제조방법은 액체 매질에 현탁된 상태에서, 10 ㎚ 내지 5 ㎛ 범위의 평균 입자 크기가 얻어질 때까지 입자 크기를 감소시키는 단계를 상기 유기 화합물 입자에 수행하는 단계와, 상기 입자 크기를 감소시키는 공정 전, 공정 중, 또는 공정 후에 적어도 하나의 친수성 블록 및 적어도 하나의 소수성 블록을 포함하는 적어도 하나의 양쪽성 코폴리머를 첨가하는 단계를 포함하는 상기 분산물의 제조방법을 제공하는 것이다.
또한, 본 발명의 목적은, 액체 매질 내에 UV 방사선을 흡수하는 적어도 하나의 기(group)를 포함하는 적어도 하나의 비가용성 유기 화합물 및 적어도 하나의 친수성 블록 및 적어도 하나의 소수성 블록을 포함하는 양쪽성 코폴리머의 특수기로부터 선택되는 적어도 하나의 분산제를 포함하는 분산물; 및 상기 분산물을 화장용으로 허용 가능한 매질에 상기 분산물을 희석시켜 제조되는 국소용 화장료 조성물, 특히 피부 및/또는 모발의 일광 차단용 조성물을 제공한다.
본 발명에 있어서, "적어도 하나의 친수성 블록 및 적어도 하나의 소수성 블록을 포함하는 양쪽성 코폴리머(amphiphilic copolymer)"란 표현은 적어도 두 가지 형태의 모노머 "블록"을 의미하는 것으로, 각 블록은 동일한 모노머의 연결로 이루어진다. 본 발명의 양쪽성 폴리머는 선형 구조를 가질 수 있으며, 이 구조 내에다양한 블록이 함께, 교대로 서로 (친수성/소수성) 연이어 연결되어 있다. 디블록, 트리블록 또는 폴리블록 선형 구조를 포함하는 폴리머의 이런 형태는 일반적으로 고분자 화학 분야에서 "블록 코폴리머"로서 알려져 있다. 그러나, 본 출원은, 본 발명에서 사용된 양쪽성 코폴리머의 정의에 있어서 가지형(branch) 구조를 가지는 폴리머, 예를 들면, 처음 형태의 블록(친수성 또는 소수성)이 두 번째 형태의 블록(친수성 또는 소수성)을 형성하는 주사슬에 부착되는 구조를 가지는 폴리머를 포함하는 것으로 한다. 일반적으로 이들 폴리머는 "그라프트 코폴리머" 또는 "빗 구조의 코폴리머" 라고 알려져 있다.
이 모든 코폴리머들은 종래 기술에 공지되어 있으며, 자유 라디칼 중합과 같은 공정들, 그리고 그 뒤에 중합-그라프팅 단계, 음이온 또는 양이온 중합, 폴리축합, 또는 이들 대안으로, "조절된 자유 라디칼 중합(controlled free-radical polymerization)", 즉 "폴리머 합성의 새로운 방법"(Blackie Academic & Professional, London, 1995, volume 2, page 1 또는 Matyjasezwski et al.의 원자 전송 자유 라디칼 중합(atom-transfer free radical polymerization)에 의한 방법(Trends Polym. Sci. 4, page 183(1996) by C.J. Hawker) 및 특히, JACS, 117, page 5614(1995) by Matyjasezwski et al.)들에 따라 제조될 수 있다.
액체 매질 내에서 비가용성 UV 차단제 입자들의 분산 안정화를 위하여 사용되는 적어도 하나의 친수성 블록 및 적어도 하나의 소수성 블록을 포함하는 상기 양쪽성 코폴리머로는 비이온성 폴리머가 바람직하다. 특히, 상기 전구 분산물 및 이들로부터 제조되는 화장료 조성물이 일반적으로 수성 상을 함유한다면, 이 분산시킨 폴리머 상에 존재하는 많은 전하들이 분산 매질 내 폴리머의 가용성을 과도하게 증가시킬 수 있으며, 그 결과 화장용으로 허용가능한 매질 내에서 희석시킬 때 탈착을 촉진할 수도 있다.
본 발명에서 분산제로 언급되는 바람직한 양쪽성 코폴리머의 예로는 하기의 것들을 포함할 수 있다:
ㆍ하기 식의 폴리알콕시화 지방족 알코올:
H2n+1Cn(CH2CH2O)x(CH2CH(CH3)O)y(CH(CH3)CH2O)zH
(상기 식에서,
n은 5 내지 20 사이의 정수이고, 바람직하게는 7 내지 19 사이의 정수이고,
x는 2 내지 20 사이의 정수이고, 바람직하게는 4 내지 10 사이의 정수이고,
y는 2 내지 20 사이의 정수이고, 바람직하게는 4 내지 10 사이의 정수이고,
y+z는 2 내지 20 사이의 정수이고, 바람직하게는 2 내지 12 사이의 정수임).
상기 식의 화합물을 예시하면, Uniquema사를 통해 제품명 Synperonic(R), 시리즈 LF 및 A와 Atplus(R)의 화합물을 들 수 있다.
ㆍ 하기 식의, 에틸렌 옥사이드 및 프로필렌 옥사이드의 트리블록 코폴리머:
HO(CH2CH2O)a(CH2CH(CH3)O)b(CH2CH2O)cH
(상기 식에서, a는 2 내지 150 사이의 정수를 나타내고, b는 10 내지 80 사이의 정수를 나타내며, c는 2 내지 150 사이의 정수를 나타냄);
상기 폴리머의 HLB(hydrophilic/lipophilic balance)값은 a, b 및 c 값의 함수로서 다양하다.
ㆍ 에틸렌 옥사이드 및 프로필렌 옥사이드의 블록 코폴리머와 에틸렌디아민과의 축합 생성물은 하기 식에 해당한다:
상기 축합 생성물로는 Uniquema사에서 시판하는 화합물들을 예로 들 수 있다.
ㆍ스티렌 및 에틸렌 옥사이드의 블록 코폴리머.
상기 형태의 폴리머로는 Goldschmidt사를 통해 Tegomer(R)이라는 이름으로 시판되는 폴리머를 예로 들 수 있다.
ㆍ하기 식의 폴리알킬화 지방(fatty) 알코올 디우레탄 폴리머:
(상기 식에서, n은 40 내지 70 사이의 정수를 나타내고, m은 5 내지 20 사이의 수를 나타내고, R은 C8-30의 알킬 그룹을 나타내며, L은 이소포론 디이소시아네이트 또는 헥사메틸렌 디이소시아네이트로부터 유래된 기(group)를 나타냄).
상기한 폴리머의 예로는 PPG-14 라우레스(laureth)-60 이소포릴디카르바메이트(INCI명) 및 PPG-14 palmeth-60 헥실디카르바메이트(INCI명)를 들 수 있고, 이들은 각각 Elfacos(R)T211 및 Elfacos(R)T212라는 이름으로 Akzo사를 통해 시판된다.
ㆍ하기 식의 폴리에톡시화 폴리올레핀 숙시네이트, 특히 폴리에톡시화 폴리이소부틸렌 숙시네이트:
상기 식에서,
PIB는 폴리이소부틸렌 사슬을 나타내고, n은 2 내지 15 사이의 정수, 바람직하게는 7 내지 10 사이의 정수를 나타내며, m은 2 내지 15 사이의 정수, 바람직하게는 2 내지 6 사이의 정수를 나타낸다.
이들 폴리머는, 폴리이소부틸렌과 같은 폴레올레핀과 숙신산 무수물이 하기의 반응식을 통해 축합하고, 그 후 얻어지는 폴리올레핀 숙시네이트를 폴리에톡시화함으로써 제조될 수 있다:
상기 형태의 폴리머로는 Lubrizol사의 OS149480를 예로 들 수 있다.
ㆍ(메타)아크릴산, C10-3알킬 (메타)아크릴레이트 및 폴리에틸렌 글리콜 (메타)크릴레이트의 터폴리머.
상기 군의 바람직한 폴리머로는 아크릴산의 터폴리머, C15인 알킬 아크릴레이트의 터폴리머 및 폴리에틸렌 글리콜 아크릴레이트(28 EO)의 터폴리머를 포함하며, 예시하면 Akzo사를 통해 Dapral(R)GE 202라는 이름으로 시판되는 것을 들 수 있다.
본 발명에서 사용되고, UV 방사선을 흡수하는 적어도 하나의 기를 포함하는 상기 비가용성 유기 화합물은 공지되어 있다.
본 발명의 목적에 있어서, "비가용성 유기 화합물"은 물에서 0.1 중량% 미만의 가용성(용해도)을 가지고, 대부분의 유기 용매 내, 예를 들면 액체 파라핀, 지방산 알킬벤조에이트 및 지방산 트리글리세라이드 내에서 1 중량% 미만의 가용성을 가지는 유기 화합물을 의미한다.
UV 방사선을 흡수하는 적어도 하나의 기를 포함하는 비가용성 유기 화합물은특히 옥살아닐라이드, 트리아진, 벤조트리아졸, 비닐아미드, 신나미드, 벤즈아졸, 벤조퓨란, 아릴비닐리덴 케톤, 아크릴로니트릴 아미드, 아크릴로니트릴 설폰아미드, 아크릴로니트릴 카르바메이트 및 페닐렌비스(벤족사지논) 형의 비가용성 유기 UV 차단제 중에서 선택될 수 있다.
상기 옥살아닐라이드형 비가용성 UV 차단제 중에서 하기 식의 화합물들을 예시할 수 있다:
상기 식에서, T1, T1', T2및 T2'는 각각 독립적으로 C1-8의 알킬 라디칼 또는 C1-8의 알콕시 라디칼을 나타낸다. 이들 화합물은 특허 출원 WO 95/22959에 기재되어 있다. 상기한 화합물의 예로는 Ciba-Geigy사에서 시판하는 상품 Tinuvin(R)315 및 Tinuvin(R)312가 있으며, 각각 하기 식에 해당한다:
상기 트리아진형 비가용성 차단제로는 하기 식의 화합물들을 예시할 수 있다:
상기 식에서, R1, R2및 R3는 각각 독립적으로 치환되지 않은 페닐기, 페녹시기 또는 피롤로기이거나, -OH, C1-18의 알킬, C1-18의 알콕시, 카르복시(C1-18의 알킬), C5-8의 시클로알킬, 메틸벤질리덴캄퍼(methylbenzylidene camphor), 및-(CH=CR')n(CO)-OR4(여기서, R'가 수소원자, 시아노기, 또는 COOR4기이고, R4는 C1-18인 알킬기 또는 신나밀기이고, n이 0 또는 1임)중에서 선택된 1종, 2종 또는 3종의 치환기로 각각 독립적으로 치환된 페닐기, 페녹시기 또는 피롤로기이다.
상기 화합물들은 WO 97/03643, GB 2 286 774, EP 743 309, WO 98/22447, GB 2 319 523 및 EP-A-0 790 243에 기재되어 있다.
특히, 하기의 화합물들이 더욱 더 언급될 것이다:
- 2,4,6-트리스(디에틸 4'-아미노벤잘말로네이트)-s-트리아진,
- 2,4,6-트리스(디이소프로필 4'-아미노벤잘말로네이트)-s-트리아진,
- 2,4,6-트리스(디메틸 4'-아미노벤잘말로네이트)-s-트리아진,
- 2,4,6-트리스(에틸 α-시아노-4-아미노신나메이트)-s-트리아진.
또한, 본 발명에서 사용되는 상기 트리아진형 UV 차단제들 중에서는, 특허 출원 WO 98/25922에 기재된 것들과 같은 비가용성 벤조트리아졸기 및/또는 벤조티아졸기를 포함하는 s-트리아진 유도체가 언급될 수 있다.
이들 화합물 중에서, 특히 2,4,6-트리스[(3'-벤조트리아졸-2-일-2'-하이드록시-5'-메틸)페닐아미노]-s-트리아진 및 2,4,6-트리스[(3'-벤조트리아졸-2-일-2'-하이드록시-5'-터셔리-옥틸)-페닐아미노]-s-트리아진이 더욱 언급될 수 있다.
상기 벤조트리아졸형 비가용성 유기 UV 차단제 중에서는, 국제 특허 출원 WO 95/22959에 기재된 하기 식 (III)의 화합물들이 언급될 수 있다:
(상기 식에서, R5는 수소원자 또는 C1-18의 알킬 라디칼을 나타내고, R6및 R7은 동일하거나 상이할 수 있으며, 선택적으로 페닐기로 치환된 C1-18의 알킬 라디칼임).
상기 식 (III)의 화합물들 예로는 Ciba-Geigy사에서 시판하는 상품Tinuvin(R)328, 320, 234 및 350을 들 수 있으며, 각각 하기 식들에 해당된다:
또한, 상기 벤조트리아졸형 비가용성 유기 UV 차단제는 US 5 687 521, US 5 373 037 및 US 5 362 881에 기재되어 있는 화합물이고, 특히 이 가운데서도 [2,4'-디하이드록시-3-(2H-벤조트리아졸-2-일)-5-(1,1,3,3,-테트라메틸부틸)-2'-n-옥토시-5'-벤조일]디페닐메탄의 식은 하기와 같으며, Fairmount Chemical사에서 Mixxim(R)PB30이라는 이름으로 시판하고 있다:
기타 벤조트리아졸형 비가용성 유기 UV 차단제로는 하기 구조의 메틸렌비스(하이드록시페닐벤조트리아졸) 유도체가 있다:
(상기 식에서, R8및 R9는 동일하거나 상이할 수 있고, 각각은 C1-4의 알킬, C5-12의 시클로알킬 및 아릴 중에서 선택되는 하나 이상의 라디칼로 치환될 수 있는 C1-18의 알킬 라디칼임). 이들 화합물은 공지되어 있고, 특허 출원 US 5 273 071, US 5 166355, GB-A-2 303 549, DE 197 26 184 및 EP-A-893 119에 공개되어 있다.
앞서 정의된 식 (IV)에서, 상기 C1-18의 알킬기는 선형 또는 가지형일 수 있고, 예를 들어 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 이소부틸, tert-부틸, tert-옥틸, n-아밀, n-헥실, n-헵틸, n-옥틸, 이소옥틸, n-노닐, n-데실, n-운데실, n-도데실, 테트라데실, 헥사데실 또는 옥타데실이 있고, 상기 C5-12인 시클로알킬기를 예시하면, 시클로펜틸, 시클로헥실 또는 시클로옥틸이 있으며, 상기 아릴기를 예시하면 페닐 또는 벤질을 들 수 있다.
식(IV)의 화합물들 중에서, 특히 하기 식의 화합물이 바람직하다:
화합물 (a) 2,2'-메틸렌비스[6-(2H-벤조-트리아졸-2-일)-4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀)]은 순수한 형태로, Fairmount Chemical사를 통해 Mixxim(R)BB/100이라는 이름으로 시판되며, 마이크로화된 형태로 Ciba Geigy사를 통해 Tinosorb(R)라는 이름으로 시판된다.
화합물 (c) 2,2'-메틸렌비스[6-(2H-벤조-트리아졸-2-일)-4-(메틸)페놀)]은 Fairmount Chemical사를 통해 Mixxim(R)BB/200이라는 이름으로 시판된다.
상기 비닐아미드형 비가용성 유기 차단제 중에서, 예를 들면 특허 출원 WO 95/22959에 기재된 식 (V)의 화합물이 있다:
T3-(Y)r-C(=O)-C(T4)=C(T5)-N(T6)(T7)(V)
상기 식에서, T3는 C1-18의 알킬 라디칼, 바람직하게는 C1-5의 알킬 라디칼, 또는 페닐기이고, 상기 페닐기는 OH, C1-18의 알킬, C1-8의 알콕시 또는 -C(=O)-OT8(여기서, T8이 C1-18의 알킬기임) 중에서 선택되는 1종, 2종 또는 3종의 라디칼로 선택적으로 치환된 페닐기이고;
T4, T5, T6, 및 T7은 각각 독립적으로 C1-18의 알킬 라디칼, 바람직하게는 C1-5의 알킬 라디칼 또는 수소원자를 나타내고;
Y는 -NH-기 또는 산소 원자를 나타내며, r은 0 또는 1이다. 이들 화합물 중에서도, 특히 하기 화합물들이 언급될 수 있다:
4-옥틸아미노-3-펜텐-2-온;
에틸 3-옥틸아미노-2-부테노에이트;
3-옥틸아미노-1-페닐-2-부텐-1-온;
3-도데실아미노-1-페닐-2-부텐-1-온.
신나미드형 유기 차단제 중에서, 특허 출원 WO 95/22959에 기재된 것과 같은 화합물들 및 하기 식에 해당되는 화합물이 언급될 수 있다:
상기 식에서,
R10은 수소원자 또는 C1-4의 알킬기를 나타내고,
R11은 수소원자 또는 C1-4의 알킬기를 나타내고,
R12는 -(CONH)s-페닐기이고, 여기서 s가 0 또는 1이고, 페닐기가 OH, C1-18의 알킬, C1-8의 알콕시, 및 -C(=O)-OR13(여기서, R13는 C1-18의 알킬임) 중에서 선택되는 1종, 2종, 또는 3종의 기로 치환될 수 있으며, 보다 바람직하게는 R12는 페닐기, 4-메톡시페닐기 또는 페닐아미노카르보닐기를 나타낸다.
또한, 멘토인은, 예를 들어 특허 US 5 888 481에 기재되어 있는 하기 구조의 비스[α,β-치환 신나미드]다이머로부터 생성된다:
상기 식에서,
Ar1및 Ar2은 동일하거나 상이할 수 있고, 각각은 페닐 라디칼, 방향족 헤테로사이클, 페닐 융합핵(fused phenyl nucleus)을 포함하는 기, 또는 방향족 융합 헤테로사이클을 포함하는 기이며, 1종 이상의 동일 또는 상이한 치환체를 포함할 수 있고,
B 및 D는 수소원자가 아니며, 각각은 독립적으로 유기 라디칼을 나타내고,
A 및 C는 각각 독립적으로 유기 라디칼을 나타내고,
E는 2가의 유기 라디칼을 나타내고,
다만, Ar1및 Ar2가 모두 -OR 치환체를 포함하는 페닐기를 나타내고(여기서,R은 수소 원자, 또는 유기 라디칼임), A 및 C가 모두 시아노기를 나타내고, B 및 D가 모두 C1-35의 알킬 또는 알케닐기를 나타내며, E가 2가 유기 라디칼을 나타내는 상기 식의 화합물은 제외되며,
특히 하기 구조의 화합물이다:
상기 벤즈아졸형 비가용성 유기 차단제들은 하기 식 중 하나에 해당한다:
상기 식에서,
각 Y는 독립적으로 산소 원자 또는 황 원자 또는 NR15기를 나타내고,
각 Z는 독립적으로 질소 원자 또는 CH기를 나타내고,
각 R14는 독립적으로 OH기, 할로겐 원자, 실리콘 원자를 선택적으로 포함하는 선형 또는 가지형 C1-8의 알킬기, 또는 선형 또는 가지형 C1-8의 알콕시기이고,
숫자 m 각각 독립적으로 0,1, 또는 2이고,
n은 1 내지 4의 정수를 나타내고,
p는 0 또는 1이고,
숫자 q는 각각 독립적으로 0 또는 1이고,
R15는 독립적으로 수소원자, 벤질기, 또는 실리콘 원자를 선택적으로 포함하는 선형 또는 가지형 C1-8의 알킬기이고,
A는 하기 식의 화합물들중에서 선택되는 원자가 n의 라디칼을 나타낸다:
(상기 식에서, R16은 각각 독립적으로 할로겐 원자, 선형 또는 가지형 C1-4의 알킬기 또는 알콕시기, 또는 하이드록시기이고,
R17은 수소원자, 또는 선형 또는 가지형 C1-4의 알킬기이고,
c= 0-4, d= 0-3, e=0 또는 1 및 f= 0-2임).
이들 화합물은 특히 특허 DE 676 103, CH 350 763, 특허 US 5 501 850, 특허 US 5 961 960, 특허 출원 EP 0 669 323, 특허 US 5 518 713, 특허 US 2 463 264, J. Am. Chem. Soc., 79, 5706-5708,1957의 문헌, J. Am. Chem. Soc., 82, 609-611, 1960에서 출판된 문헌, 특허 출원 EP 0 921 126 및 특허 출원 EP 0 712 855에 공개되어 있다.
상기 식 (VIII)의 2-아릴벤즈아졸 족의 바람직한 화합물을 예시하면, 2-벤족사졸-2-일-4-메틸페놀, 2-(1H-벤즈이미다졸-2-일)-4-메톡시페놀 또는 2-벤조티아졸-2-일페놀을 들 수 있으며, 이들 화합물은, 예를 들면 특허 CH 350 763에 기재된 방법에 따라 제조될 수 있다.
상기 식 (VIII)의 벤즈이미다졸일벤즈아졸 족의 바람직한 화합물 예로는 2,2'-비스(벤즈이미다졸), 5,5',6,6'-테트라메틸-2,2'-비스(벤즈이미다졸), 5,5'-디메틸-2,2'-비스(벤즈이미다졸), 6-메톡시-2,2'-비스(벤즈이미다졸), 2-(1H-벤즈이미다졸-2-일)벤조티아졸, 2-(1H-벤즈이미다졸-2-일)벤족사졸 및 N,N'-디메틸-2,2'-비스(벤즈이미다졸)을 들 수 있으며, 이들 화합물은 예를 들면 특허 US 5 961 960 및 US 2 463 264에 기재된 방법에 따라 제조될 수 있다.
상기 식 (VIII)의 페닐렌벤즈아졸 족의 바람직한 화합물을 예시하면, 1,4-페닐렌비스(2-벤족사졸일), 1,4-페닐렌비스(2-벤즈이미다졸일), 1,3-페닐렌비스(2-벤족사졸일), 1,2-페닐렌비스(2-벤족사졸일), 1,2-페닐렌비스(벤즈이미다졸일), 1,4-페닐렌비스(N-2-에틸헥실-2-벤즈이미다졸일) 및 1,4-페닐렌비스(N-트리메틸실일메틸-2-벤즈이미다졸)을 들 수 있고, 이들 화합물은 US 2 463 264 및 J. Am. Chem. Soc., 79, 5706-5708(1957)의 문헌에 공개된 방법에 따라 제조될 수 있다.
상기 식 (VIII)의 벤조퓨란일벤족사졸 족의 바람직한 화합물을 예시하면, 2-(2-벤조퓨란일)벤족사졸, 2-(벤조퓨란일)-5-메틸벤족사졸 및 2-(3-메틸-2-벤조퓨란일)벤족사졸을 들 수 있고, 이들 화합물은 US 5 518 713에 공개된 방법에 따라 제조될 수 있다.
상기 식 (IX)의 바람직한 화합물로는, 예를 들면 하기 식에 해당하는 2,6-디페닐-1,7-디하이드로벤조[1,2-d;4,5-d']디이미다졸 또는 2,6-디스티릴-1,7-디하이드로벤조[1,2-d;4,5-d']디이미다졸 또는 선택적으로 2,6-디(p-tert-부틸스티릴)-1,7-디하이드로벤조[1,2-d;4,-d']디이미다졸을 들 수 있고, 이들 화합물은 특허 출원 EP 0 669 323에 기재된 방법에 따라 제조될 수 있다:
상기 식 (X)의 바람직한 화합물로는 하기식의 5,5'-비스[(2-페닐)벤즈이미다졸]을 들 수 있고, 이 화합물의 제조방법은 J. Chim. Phys., 64, 1602(1967)에 기재되어 있다:
상기 UV 방사선 차단용 비가용성 유기 화합물 중에서, 특히 가장 바람직한 것으로는 2-(1H-벤즈이미다졸-2-일)벤족사졸, 6-메톡시-2,2'-비스(벤즈이미다졸), 2-(1H-벤즈이미다졸-2-일)벤조티아졸, 1,4-페닐렌비스(2-벤족사졸일), 1,4-페닐렌비스(2-벤즈이미다졸일), 1,3-페닐렌비스(2-벤족사졸일), 1,2-페닐렌비스(2-벤족사졸일), 1,2-페닐렌비스(2-벤즈이미다졸일) 및 1,4-페닐렌-비스(N-트리메틸실일메틸-2-벤즈이미다졸일)이 있다.
또한, 또 다른 비가용성 차단제 족으로는 하기 식 (XI) 및 식 (XII) 중 하나에 해당하는 화합물로부터 선택되는 아릴비닐렌 케톤이 있다:
상기 식에서,
n= 1 또는 2,
A는, 상기 식 (XI) 또는 식 (XII)에서 n=1일 때 하기 식 (a) 내지 (d)중에서 선택되는 아릴 라디칼이거나, 상기 식 (XI)에서 n=2일 때 하기 식 (e) 내지 (h)중에서 선택되는 라디칼이다:
상기 식에서,
R4는 각각 독립적으로 OH기, 할로겐 원자, 실리콘 원자를 선택적으로 포함하는 선형 또는 가지형 C1-6알킬기, 실리콘 원자를 선택적으로 포함하는 선형 또는 가지형 C1-6알콕시기, 선형 또는 가지형 C1-5알콕시카르보닐기, 또는 실리콘 원자 또는 아미노산 기능기(function)를 선택적으로 포함하는 선형 또는 가지형 C1-6알킬설폰아미드기를 나타내고,
p는 0 내지 4의 정수를 나타내고,
q는 0 또는 1을 나타내고,
R1은 수소 또는 OH기를 나타내고,
R2는 수소, 실리콘 원자를 선택적으로 포함하는 선형 또는 가지형 C1-6알킬기, 시아노기, C1-6의 알킬설포닐기 또는 페닐설포닐기를 나타내고,
R3는 실리콘 원자를 선택적으로 포함하는 선형 또는 가지형 C1-6알킬기, 또는 이환(bicycle)을 형성할 수 있으며 하나 또는 두개의 R4라디칼로 치환될 수 있는 페닐기를 나타내거나,
R2및 R3는 모두 하나 이상의 질소원자, 황원자, 및 산소원자로 중단되어 있고 다른 카르보닐기를 포함할 수 있으며, 선택적으로 실리콘 원자 또는 아미노산 기능기를 포함하는 선형 또는 가지형 C1∼C8알킬설폰아미드기로 선택적으로 치환된, 단환(單環), 이환, 또는 삼환의 C2-10탄화수소-기재 잔기이며, 단, n이 1일 때 R2및 R3는 캄퍼 핵을 형성하지 않는 조건이다.
상기 식 (XI)의 화합물들 중에서, n=1인 UV 방사선 차단용 비가용성 화합물은 하기 종류의 화합물로 제조될 수 있다:
ㆍ1-(3,4-디메톡시페닐)-4,4-디메틸펜트-1-엔-3-온과 같은 스티릴 케톤(Kao JP 04 134 042):
ㆍ 1,3,3-트리메틸-5-(4-메톡시벤질리덴)-2-옥사바이시클로[2.2.2]옥탄-6-온과 같은 벤질리덴 시네올(E. Mariani et al., 16th IFSCC Congress, NewYork(1990)):
ㆍ 3-(4-메톡시벤질리덴)-2,3,4a,8a-테트라하이드로크로멘-4-온과 같은 벤질리덴 크로마논(Kao JP 04 134 043):
ㆍ 3-(4-메톡시벤질리덴)-2,3,4a,8a-테트라하이드로크로멘-4-티온과 같은 벤질리덴 티오크로마논(Kao JP 04 134 043):
ㆍ 4-메톡시벤질리덴-1-아자바이시클로-[2.2.2]옥탄-3-온과 같은 벤질리덴 퀴누클리디논(Merck EP 0 576 974):
ㆍ 2-(4-메톡시벤질리덴)시클로펜타논 및 2-(4-메톡시벤질리덴)시클로헥사논과 같은 벤질리덴 시클로알칸(Henkel FR 2 395 023):
ㆍ 5-(3,4-디메톡시-벤질리덴)이미다졸리딘-2,4-디온과 같은 벤질리덴 하이단토인(Ajinomoto JP 01 158 090):
ㆍ2-(4-메톡시벤질리덴)인단-1-온과 같은 벤질리덴 인다논(Kao JP 04 134 043):
ㆍ 2-(4-메톡시벤질리덴)-3,4-디하이드로-2H-나프탈렌-1-온과 같은 벤질리덴 테트랄온(Kao JP 04 134 043):
ㆍ 4-(4-메톡시벤질리덴)-2,2,5,5-테트라메틸디하이드로퓨란-3-온과 같은 벤질리덴 퓨라논(L'Oreal EP 0 390 683):
ㆍ 2-벤질리덴벤조퓨란-3-온과 같은 벤질리덴 벤조퓨란(Kao JP 04 134 041)
ㆍ 2-(3,5-디-터셔리-부틸-4-하이드록시벤질리덴)인단-1,3-디온과 같은 벤질리덴 인단디온:
ㆍ 2-벤질리덴벤조-[b]티오펜-3-온과 같은 벤질리덴 벤조티오퓨라논(Kao JP04 134 043):
ㆍ 5-(4-메톡시벤질리덴)-1,3-디메틸피리미딘-2,4,6-트리온과 같은 벤질리덴 바르비투르산:
ㆍ 4-(4-메톡시벤질리덴)-5-메틸-2-페닐-2,4-디하이드로피라졸-3-온과 같은 벤질리덴 피라졸론(pyrazolone):
ㆍ5-(4-메톡시-벤질리덴)-2-페닐-3,5-디하이드로이미다졸-4-온과 같은 벤질리덴 이미다졸온:
ㆍ 1-(2-하이드록시-4-메톡시페닐)-3-페닐프로페논과 같은 칼콘:
ㆍ 3-하이드록시-1-(2-하이드록시-4-메톡시페닐)-3-페닐프로펜온과 같은 벤질리덴 온(디벤조일메탄의 토토머 형태의 차단제; L'Oreal 2 506 156):
상기 식 (XI)의 화합물 중에서, n=2인 UV 방사선 차단용 비가용성 화합물은 하기 종류의 화합물로 제조될 수 있다:
ㆍ1,4-페닐렌비스{3-메틸리덴바이시클로[2.2.1]헵탄-2-온}과 같은 페닐렌비스(메틸리덴-노르말-캄퍼):
ㆍ 1,4-페닐렌비스{3-메틸리덴-1,7,7-트리메틸바이시클로[2.2.1]-헵탄-2-온}과 같은 페닐렌비스(메틸리덴캄퍼)(L'Oreal FR 2 528 420):
또는 1,3-페닐렌비스{3-메틸리덴-1,7,7-트리메틸바이시클로[2.2.1]헵탄-2-온}:
ㆍ 에틸 또는 2-에틸헥실 1,4-페닐렌비스(3,3'-메틸리덴캄퍼-10,10'-설폰아미드)와 같은 페닐렌비스(메틸리덴캄퍼설폰아미드)와 같은 페닐렌비스(메틸리덴캄퍼설폰아미드)(L'Oreal FR 2 529 887):
또는
ㆍ 1,4-페닐렌비스{5-메틸리덴-3,3-디메틸-2-옥사바이시클로[2.2.2]옥탄-6-온}과 같은 페닐렌비스(메틸리덴시네올)(E. Mariani et al, 16th IFSCC Congress, New York(1990)):
ㆍ 1,4-페닐렌비스(옥타하이드로-4,7-메타노-6-인덴-5-온)과 같은 페닐렌비스(메틸리덴 케토트리시클로데칸)(Merck EP 0 694 521):
ㆍ 1,4-페닐렌비스(4,4-디메틸펜트-1-엔-3-온)과 같은 페닐렌비스(알킬렌 케톤)(Kao JP 04 134 041):
ㆍ 1,4-페닐렌비스(4-메틸리덴-2,2,5,5-테트라메틸디하이드로퓨란-3-온)과 같은 페닐렌비스(메틸리덴퓨라논)(L'Oreal FR 2 638 354):
ㆍ 1,4-페닐렌비스{2-메틸리덴-1-아자바이시클로[2.2.2]옥탄-3-온}과 같은 페닐렌비스(메틸리덴 퀴누클리디논)(Merch EP 0 714 880):
상기 식 (XII)의 화합물로는 하기 종류의 화합물을 예시할 수 있다:
ㆍ 2,5-디벤질리덴시클로펜타논과 같은 비스(벤질리덴)시클로알칸온:
ㆍ 2,6-비스(3,4-디메톡시페닐)피란-4-온과 같은 감마-피론(Kao JP 04 290 882):
본 발명에서 사용될 수 있는 다른 종류의 비가용성 차단제로는 아크릴로니트릴 아미드, 설폰아미드 및 하기 식에 해당하는 카르바메이트 유도체를 들 수 있다:
상기 식에서,
X2는 식 -(C=O)-R'3-(C=O)-, -SO2-R"3-SO2- 또는 -(C=O)-O-R"3-O-(C=O)-의 식을 갖는 2가 라디칼을 나타내고,
Y는 -(C=O)-R4또는 -SO2R5라디칼을 나타내고,
R2는 선형 또는 가지형 C1-8인 알킬기를 나타내고,
n은 0,1 또는 2이고,
R'3은 단일결합 또는 R"3을 나타내고,
R"3는 선형 또는 가지형 C1-30인 2가의 알킬렌 라디칼, 또는 선형 또는 가지형 C3-30인 2가의 알케닐렌 라디칼을 나타내며, 상기 라디칼은 하나 이상의 하이드록시 치환체를 가질 수 있고, 산소원자, 질소원자 및 실리콘원자 중에서 선택되는 하나 또는 그 이상의 헤테로 원자를 탄소-기재 사슬에 포함할 수 있으며,
R4는 -OR6또는 -NHR6라디칼을 나타내고,
R5는 선형 또는 가지형 C1-30의 알킬 라디칼, 또는 C1-4의 알킬 또는 알콕시 라디칼로 치환될 수 있는 페닐핵을 나타내고,
R6은 선형 또는 가지형 C1-30의 알킬기 또는 C3-30의 알케닐 라디칼을 나타내며, 상기 라디칼은 하나 또는 그 이상의 하이드록시 치환체를 가질 수 있고, 산소원자, 질소원자 및 실리콘 원자 중에서 선택되는 하나 또는 그 이상의 헤테로 원자를 탄소-기재 사슬에 포함할 수 있다.
상기 식 (XIII)은 파라-아미노페닐 치환체에 대해 상대적으로 시아노 치환체가 "시스(cis)" 위치에 있는 유일한 이성질체를 표시하며, 이 식은 이중결합 각각에 대한 해당 트란스(trans) 이성질체를 포함하며, 시아노 치환체 및 파라-아미노페닐 치환체는 각각에 대하여 독립적으로 시스 배향 또는 트란스 배향이라고 여길 수 있다.
본 발명에서 사용가능한 다른 종류의 비가용성 유기 차단제는 하기 식의 페닐렌비스(벤족사지논) 유도체에 의해 형성된다:
상기 식에서, R은 하기 식 (e) 내지 식 (h) 중에서 선택되는 2가 방향족 잔기를 나타내고,
상기 식에서,
R4는 각각 독립적으로 OH기, 할로겐 원자, 실리콘 원자를 선택적으로 포함하는 선형 또는 가지형 C1-6의 알킬기, 선택적으로 실리콘 원자를 포함하는 선형 또는가지형 C1-6의 알콕시기, 선형 또는 가지형 C1-5의 알콕시카르보닐기, 또는 실리콘 원자 또는 아미노산의 기능기(function)를 포함하는 선형 또는 가지형 C1-6의 알킬설폰아미드기를 나타내고,
p는 0 내지 4의 정수를 나타내며,
q는 0 또는 1을 나타낸다.
상기 식 (XIV)의 UV 방사선 차단용 비가용성 화합물로는 하기 유도체를 예로 들 수 있다:
2,2'-p-페닐렌비스(3,1-벤족사진-4-온)(상품명 Cyasorb(R)UV 3638, Cytec사 제조), 2,2'-(4,4'-바이페닐렌)비스(3,1-벤족사진-4-온), 2,2'-(2,6-나프틸렌)비스(3,1-벤족사진-4-온).
특히, 상기 비가용성 유기 차단제의 또 다른 종류로, 특허 출원 FR-A-2 639 347에 공개된 화합물과 같은 벤질리덴캄퍼 설폰산염 유도체의 다가 금속염과 같은 설포네이트염 또는 카르복실레이트염 유기 차단제의 다가(polyvalent) 금속염(예를 들면, Ca2+, Zn2+, Mg2+, Ba2+, Al3+또는 Zr4+), 특허 출원 EP-A-893 119에 공개된 화합물과 같은 벤즈이미다졸 설폰산염 유도체의 다가 금속염, 및 특허 출원 JP-87 166 517에 공개된 화합물과 같은 신남산의 다가 금속염을 들 수 있다.
또한, 본 발명의 비가용성 유기 화합물은 특허 출원 WO 93/10753, WO 93/11059 및 WO 95/05150에 공개된 것과 같이 UV-A 및/또는 UV-B 유기 차단제의 금속 착화합물 또는 암모늄 착화합물 또는 치환 암모늄 착화합물로부터 제조될 수 있다.
상기 비가용성 유기 UV 차단제의 분산물은 상기한 양쪽성 코폴리머의 사용을 안정하게 하며, 바람직하게는 수성 분산물, 즉, 물을 액체 분산 매질로 하거나 대부분으로 하는 것이다.
상기 분산물은 UV 방사선을 흡수하는 적어도 하나의 기를 포함하는 비가용성 유기 화합물의 입자를 바람직하게는 5 중량% 내지 70 중량%, 특히 바람직하게는 30 중량% 내지 50 중량% 포함한다.
앞서 기술한 바와 같이, UV 방사선을 흡수하는 적어도 하나의 기를 포함하는 비가용성 유기 화합물의 평균 입자 크기는 10 ㎚ 내지 5 ㎛의 범위에 있다.
상기 UV 방사선을 흡수하는 적어도 하나의 기를 포함하는 비가용성 유기 화합물의 평균 입자 크기는 바람직하게는 10 ㎚ 내지 2 ㎛, 특히 20 ㎚ 내지 1.5 ㎛, 이상적으로는 30 ㎚ 내지 1.0 ㎛의 범위에 있다.
일반적으로, 상기 평균 입자 크기는 수평균 입경 분포에 해당될 것이다.
상기 평균 입도는 최적 방법(준탄성 산란 또는 레이저 산란), 원심법, 또는 마이크로 비주얼라이제이션(micro visualization) 및 이미지 분석과 같이 해당하는 표준적인 방법에 의해 결정될 수 있다.
상기 분산물이 만족할 만한 안정성 및 지속성을 얻기 위해 필요한 양쪽성 코폴리머의 양은 양쪽성 코폴리머의 성질, 즉 안정해진 비가용성 유기 UV 차단제 입자들의 성질, 농도, 크기 및 비표면적에 의존한다.
본 발명에 따른 UV 방사선을 흡수하는 기를 적어도 하나 포함하는 비가용성 유기 화합물 입자의 표면적이 1 ㎎/㎡ 내지 10 ㎎/㎡인, 바람직하게는 1 ㎎/㎡ 내지 5 ㎎/㎡인, 적어도 하나의 친수성 블록 및 적어도 하나의 소수성 블록을 포함하는 양쪽성 코폴리머를 사용함으로써, 비가용성 UV 차단제의 분산물을 충분히 안정화할 수 있다는 것을 발견하였다.
또한, 본 발명의 목적은 UV 방사선을 흡수하는 적어도 하나의 기를 포함하는 비가용성 유기 화합물 분산물의 제조방법에 관한 것이다. 상기 분산물의 제조방법은 액체 매질에 현탁된 상태에서, 10 ㎚ 내지 5 ㎛ 범위의 평균 입자 크기가 얻어질 때까지 입자 크기를 감소시키는 단계를 상기 유기 화합물 입자에 수행하는 단계 및 상기 입자 크기를 감소시키는 공정 전, 공정 중, 또는 공정 후에 적어도 하나의 친수성 블록 및 적어도 하나의 소수성 블록을 포함하는 적어도 하나의 양쪽성 코폴리머를 첨가하는 단계를 포함한다.
본 발명의 분산물의 제조방법에 있어서, 상기 입도 감소 단계는 건조 분쇄 또는 액체 매질 내에서 분쇄, 차단, 원자화, 미립자화, 분사 또는 에멀전이나 희석에 의한 침전과 같은 화학 공정 등의 적절한 방법에 의해 실행될 수 있다.
본 발명의 제조방법에 있어서 바람직한 실시예에 따르면, 상기 입도를 감소시키는 공정은 수성 매질 내에서 분쇄 공정을 실시하는 것이다.
상기 분쇄 공정 후, 양쪽성 코폴리머를 단독으로 첨가할 수 있지만, 본 발명의 바람직한 실시예에는 프리믹스(premix)시 분쇄하기 전, 즉, 액체 매질 내 성긴 입자들의 현탁 상태에서, 또는 분쇄 공정 중에 양쪽성 코폴리머를 첨가하는 단계를포함한다.
비가용성 유기 차단제를 분쇄함으로써 입도를 감소시키는 제조방법의 일례는 WO 95/22959 및 WO 97/03643의 명세서에 기재되어 있다.
상기 명세서에 따르면, 분쇄 장치로 제트 밀(jet mill), 볼 밀(ball mill), 진동 밀(vibration mill) 또는 해머 밀(hammer mill)을 들 수 있고, 바람직하게는 고속 회전 밀(high-spin-speed mill) 또는 임팩트 밀(impact mill)을 사용할 수 있고, 더욱 바람직하게는 로터리 볼 밀(rotary ball mill), 진동 밀(vibrating mill), 튜브 밀(tube mill) 또는 로드 밀(rod mill)을 사용할 수 있다.
또한, 본 발명의 목적은, 상기 제조방법에 따라 제조되고, 적어도 하나의 친수성 블록 및 적어도 하나의 소수성 블록을 포함하는 양쪽성 코폴리머 군에서 선택되는 분산제를 포함하며, UV 방사선을 흡수하는 적어도 하나의 기를 포함하는 비가용성 유기 화합물 입자의 분산물, 및 국소용 화장료 조성물, 특히 화장용으로 수용가능한 매질에 상기 분산물을 희석시켜 제조되는 피부 및/또는 모발의 일광차단용 조성물을 제공하는 것이다.
상기 양쪽성 코폴리머 군으로는 하기의 화합물들을 예시하면 하기와 같다:
ㆍ 하기 식의 폴리알콕시화 지방족 알코올;
H2n+1Cn(CH2CH2O)x(CH2CH(CH3)O)y(CH(CH3)CH2O)zH
(상기 식에서,
n은 5 내지 20 사이의 정수이고, 바람직하게는 7 내지 19 사이의 정수이고,
x는 2 내지 20 사이의 정수이고, 바람직하게는 4 내지 10 사이의 정수이고,
y는 2 내지 20 사이의 정수이고, 바람직하게는 4 내지 10 사이의 정수이고,
y+z는 2 내지 20 사이의 정수이고, 바람직하게는 2 내지 20 사이의 정수임).
ㆍ 하기 식의, 에틸렌 옥사이드 및 프로필렌 옥사이드의 트리블록 코폴리머;
HO(CH2CH2O)a(CH2CH(CH3)O)b(CH2CH2O)cH
(상기 식에서, a는 2 내지 150 사이의 정수를 나타내고, b는 10 내지 80 사이의 정수를 나타내며, c는 2 내지 150 사이의 정수를 나타냄);
ㆍ하기 식의 에틸렌 옥사이드 및 프로필렌 옥사이드의 블록 코폴리머와 에틸렌디아민의 축합 생성물;
ㆍ스티렌 및 에틸렌 옥사이드의 블록 코폴리머,
ㆍ하기 식의 폴리알콕시화 폴리올레핀 숙시네이트, 특히 폴리에톡시화 폴리이소부틸렌 숙시네이트:
(상기 식에서, PIB는 폴리이소부틸렌 사슬을 나타내고, n은 2 내지 15 사이의 정수, 바람직하게는 7 내지 10 사이의 정수를 나타내며, m은 2 내지 15 사이의 정수, 바람직하게는 2 내지 6 사이의 정수를 나타냄);
ㆍ(메타)아크릴산, C10-30의 알킬 (메타)아크릴레이트 및 폴리에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트의 블록 터폴리머.
상기 UV 방사선을 흡수하는 적어도 하나의 기를 포함하는 비가용성 유기 화합물, 이들을 포함하는 일광 차단제 입자의 평균 입자 크기 및 이들을 안정화하기 위해 사용되는 양쪽성 코폴리머의 양은 상기한 바와 동일하다.
상기 분산물을 화장용으로 수용가능한 매질에 희석시켜 얻어지는 본 발명의 화장료 조성물 내, UV 방사선을 흡수하는 적어도 하나의 기를 포함하는 비가용성 유기 화합물 입자의 함량은 바람직하게는 0.1 중량% 내지 15 중량%, 특히 바람직하게는 0.2 중량% 내지 10 중량%이다.
또한, 본 발명의 화장료 조성물은 UV-A 및/또는 UV-B 영역 내에서 활성이 있는 수용성 또는 지용성 유기 일광차단제를 하나 또는 그 이상을 추가로 포함할 수있다.
상기 수용성 또는 지용성 일광 차단제로는, 특히 특허 또는 특허 출원 US 4 367 390, EP 0 863 145, EP 0 517 104, EP 0 570 838, EP 0 796 851, EP 0 775 698, EP 0 878 469, EP 0 933 376, EP 0 507 691, EP 0 507 692, EP 0 790 243, EP 0 944 624 및 US 4 724 137에 공개된 신남산 유도체, 디벤조일메탄 유도체, 살리실산 유도체, 벤질리덴캄퍼(benzylidenecamphor) 유도체, 가용성 트리아진 유도체; 벤조페논 유도체; β,β'-디페닐 아크릴레이트 유도체; 페닐벤즈이미다졸 유도체; 안트라닐산 유도체; 이미다졸린 유도체; p-아미노벤조산 유도체; 특허 출원 WO 93/04665에 공개된 화합물과 같은 차단성(screening) 탄화수소계 폴리머 및 차단성 실리콘; 특허 출원 DE 198 55 649에 공개된 바와 같은 α-알킬스티렌으로부터 유래된 다이머(dimer); 및 이들 차단제의 혼합물을 들 수 있다.
항기 UV-A 및/또는 UV-B 영역에서 활성이 있는 수용성 또는 지용성 일광 차단제를 추가적으로 예시하면, 그들의 INCI명으로 표기한 하기 화합물을 들 수 있으며, 또한 이들의 혼합물도 가능하다.
파라-아미노벤조산 유도체:
- PABA,
- 에틸 PABA,
- 에틸 디하이드록시프로필 PABA,
- 특히, ISP에 의해 상품명 "Escalol 507(ISP사)"인 에틸헥실 디메틸 PABA,
- 글리세릴 PABA,
- PEG-25 PABA(BASF에 의하여 상품명 Uvinul P25로 시판됨),
살리실산염 유도체:
- Rona/EM Industries에 의해 상품명 "Eusolex HMS"로 시판되는 호모살레이트,
- 에틸헥실 살리실레이트(Haarmann and Reimer에 의해 상품명 "NEO Heliopan OS"로 시판됨),
- 디프로필렌 글리콜 살리실레이트(Scher에 의해 상품명 "Dipsal"로 시판됨),
- TEA 살리실레이트(Haarmann and Reimer에 의해 상품명 "NEO Heliopan TS"로 시판됨),
디벤조일메탄 유도체:
- 부틸 메톡시디벤조일메탄(Hoffmann LaRoche에 의해 상품명 "Parsol 1789"로 시판됨),
- 이소프로필디벤조일메탄,
신남산 유도체:
- 에틸헥실 메톡신나메이트(Hoffmann LaRoche에 의해, 특히 상품명 "Parsol MCX"로 시판됨),
- 이소프로필 메톡신나메이트,
- 이소프로필 메톡신나메이트(Haarmann and Reimer에 의해 상품명 "NeoHeliopan E 1000"로 시판됨),
- 시녹세이트(Cinoxate),
- DEA 메톡시신나메이트,
- 디이소프로필 메틸신나메이트,
- 글리세릴 에틸헥사노에이트 디메톡시신나메이트,
β,β'-디페닐아크릴레이트 유도체:
- 옥토크릴렌(BASF에 의해, 특히 상품명 "Uvinul-539"로 시판됨),
벤조페논 유도체:
- 벤조페논-1(BASF에 의해 상품명 "Uvinul 400"으로 시판됨),
- 벤조페논-2(BASF에 의해 상품명 "Uvinul D50"으로 시판됨),
- 벤조페논-3 또는 옥시벤존(BASF에 의해 상품명 "Uvinul M-40"으로 시판됨),
- 벤조페논-4(BASF에 의해 상품명 "Uvinull MS-40"으로 시판됨),
- 벤조페논-5,
- 벤조페논-6(Norquay에 의해 상품명 "Helisorb 11"로 시판됨),
- 벤조페논-8(American Cyanamid에 의해 상품명 "Spectra-Sorb UV-24"로 시판됨),
- 벤조페논-9(BASF에 의해 상품명 "Uvinul DS-49"로 시판됨),
- 벤조페논-12,
벤질리덴캄퍼 유도체:
- 벤질리덴캄퍼설폰산(Chimex 제조, 상품명 "Mexoryl SL"),
- 캄퍼 벤잘코늄 메토설페이트(Chimex 제조, 상품명 "Mexoryl SO"),
- 테레프탈리덴디캄퍼설폰산(Chimex 제조,상품명 "Mexoryl SX"),
- 폴리아크릴아미도메틸벤질리덴캄퍼(Chimex 제조, 상품명 "Mexoryl SW"),
페닐벤즈이미다졸 유도체:
- 페닐벤즈이미다졸설폰산(Merck에 의해, 특히 상품명 "Eusolex 232"로 시판됨),
- 벤즈이미다질리에이트(Haarmann and Reimer에 의해 상품명 "Neo Heliopan AP"로 시판됨),
트리아진 유도체:
- 안이소트리아진(Ciba-Geigy에 의해 상품명 "Tinosorb S"로 시판됨),
- 에틸헥실트리아존(BASF에 의해, 특히 상품명 "Uvinul T150"로 시판됨),
- 디에틸헥실부타미도트리아존(Sigma 3V에 의해 상품명 "Uvasorb HEB"로 시판됨),
페닐벤조트리아졸 유도체:
- 드로메트리졸 트리실록산(Rhodia Chimie에 의해 상품명 Silatrizole"로 시판됨),
안트라닐산 유도체:
a) 멘틸 안트라닐레이트(Haarmann and Reimer에 의해 상품명 "Neo Heliopan MA"로 시판됨),
이미다졸리논 유도체:
b) 에틸헥실디메톡시벤질리덴디옥소이미다졸린 프로피오네이트,
벤잘말로네이트 유도체:
c) 벤잘말로네이트기를 함유하는 폴리오르가노실록산(Hoffmann LaRoche사에 의해 상품명 "Parsol SLX"로 시판됨).
상기 수용성 또는 지용성 유기 UV 차단제로 바람직한 화합물은 특히 하기한 화합물들 중에서 선택되는 것이 바람직하다:
에틸헥실 살리실레이트,
부틸 메톡시디벤조일메탄,
에틸헥실 메톡시신나메이트,
옥토크릴렌,
페닐벤즈이미다졸설폰산,
테레프탈리덴디캄퍼설폰산,
벤조페논-3,
벤조페논-4,
벤조페논-5,
벤즈이미다질레이트,
안이소트리아진,
에틸헥실트리아존,
에틸헥실트리아존,
디에틸헥실부타미도트리아존,
드로메트리졸 트리실록산, 및
이들의 혼합물.
본 발명에 따른 화장료 조성물은 또한 인공 태닝제 및/또는 디하이드록시아세톤(ADH)과 같은 피부 갈색화제(browning agent, 인공적 태닝제)를 추가로 포함할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 화장료 조성물은 하나 또는 그 이상의 색소, 특히 금속 산화물 나노색소를 추가로 포함할 수 있고, 도포 또는 도포되지 않은 비정질 또는 결정(금홍석 및/또는 예추석) 형태로 티타늄 옥사이드, 철 산화물, 아연 산화물, 지르코늄 산화물 또는 세륨 산화물의 나노색소를 예로 들 수 있다. 상기 나노색소의 평균 입자 크기는 5 ㎚ 내지 100 ㎚의 범위, 바람직하게는 10 ㎚ 내지 50 ㎚의 범위이며, 모두 UV-광 차단제로 알려져 있다.
상기 나노색소는 예를 들어 알루미나 및/또는 알루미늄 스테아레이트와 같이 공지된 도포제로 도포될 수 있다.
이처럼 도포되거나 도포되지 않은 나노색소를 예시하면, 특허 출원 EP-A-0 518 772, 및 EP-A-0 518 773에 기재된 것을 들 수 있다.
또한, 상기 화장료 조성물은 통상의 보조제로서, 지방산 성분, 약제학적으로 수용 가능한 유기 용매, 실리콘, 계면활성제, 음이온성 폴리머, 양이온성 폴리머, 비이온성 폴리머 또는 양쪽성 폴리머, 또는 이들 폴리머의 혼합물, 증점제, 항산화제, 유탁제, 안정화제, 소포제, 향료, 방부제, 충전제, 킬레이트제, 추진제, pH 조절제 및 착색제, 및 이들의 혼합물을 추가로 포함할 수 있다.
또한 상기 조성물은, 예를 들면 연화제, 하이드록시산, 비타민, 보습제, 완화제, 자유 라디칼 스캐빈저(scavenger), 인물질 길항제 성분 및 방난연제, 그리고 이들의 혼합물로부터 선택되는 화장용 활성 실효 성분을 하나 또는 그 이상 추가로 포함할 수 있다.
상기 지방산 성분은 오일 또는 왁스, 또는 이들의 혼합물을 포함할 수 있고, 지방산, 지방산 알코올 및 지방산 에스테르를 함유할 수 있다. 상기 오일은 동물 오일, 식물 오일, 광물 오일 및 합성 오일로부터 선택될 수 있으며, 특히 휘발성 또는 비휘발성일 수 있는, 액체 바셀린, 액체 파라핀, 실리콘 오일, 이소파라핀, 폴리올레핀, 플루오로 오일 및 퍼플루오로 오일로부터 선택될 수 있다. 이와 유사하게, 상기 왁스는 공지된 동물 왁스, 화석 왁스, 식물 왁스, 광물 왁스 및 합성 왁스로부터 선택될 수 있다.
상기 유기 용매를 예시하면, 에탄올, 이소프로판올, 프로필렌 글리콜, 글리세롤 및 솔비톨과 같은 저가 알코올 및 폴리올을 들 수 있다.
상기 증점제는 특히 구아 검(guar gum) 및 셀룰로오즈로부터 선택될 수 있으며, 하이드록시프로필 구아 검, 메틸하이드록시에틸 셀룰로오즈, 하이드록시프로필메틸셀룰로오즈 또는 하이드록시에틸셀룰로오즈와 함께 변형되거나 변형되지 않을 수 있다.
본 발명이 당업자들이 본 발명에 내재한 유익한 성질들을 위하여 최적의 추가 화합물(들) 및/또는 이들의 양을 선택할 수 있고, 특히 본 발명의 분산물의 안정성이 추가물에 의해 역영향을 받지 않음은 자명하다.
본 발명의 조성물은 종래 기술에 공지된 바에 따라 제조될 수 있으며, 특히 오일 내 물 또는 물 내 오일 형태의 에멀젼을 제조할 수 있다.
본 조성물은 특히 크림, 우유, 젤 또는 크림-젤과 같이 단순 또는 복합 에멀젼 형태(O/W, W/O, O/W/O, 또는 W/O/W 에멀젼)일 수 있고, 조건적으로 에어로젤로 포장될 수 있으며, 무스나 스프레이의 형태일 수도 있다.
상기 조성물이 에멀젼인 경우, 상기 에멀전의 수성 상은 공지된 공정들에 따라 제조된 비이온성 소포 분산물을 포함할 수 있다(Bangham, Standish and Watkins, J. Mol. Biol. 13, 238(1965), FR 2 315 991 및 FR 2 416 008).
본 발명에 따른 화장료 조성물은 자외선에 대하여 인체 피부 또는 모발 보호용 조성물로 사용될 수 있고, 일광(antisun) 차단용 조성물 또는 메이크업 제품으로 사용될 수 있다.
또한, 상기 화장료 조성물이 자외선에 대한 인체 피부 보호용으로, 또는 태양광선(일광) 차단용으로 사용되는 경우, 상기 조성물은 용매 또는 지방산 성분 내에 현탁된 또는 분산된 형태일 수 있고, 비이온성 소포 분산물 형태 또는 에멀전 형태일 수 있으며, 바람직하게는 크림이나 우유와 같이 오일 속 물 형태, 또는 연고, 젤, 크림-젤, 에어로졸 무스 또는 스프레이 상태일 수 있다.
상기 조성물이 자외선에 대한 모발 보호용으로 사용되는 경우, 상기 조성물은 샴푸, 로션, 젤, 에멀전 또는 비이온성 소포 분산물 형태일 수 있고, 예를 들면 샴푸로 머리를 감기 전 또는 그 후에 적용될 수 있는 린스 없는 조성물이나 염색 또는 블리칭 전이나 후, 파마 또는 스트레이트를 실시하기 전, 실시중, 실시 후, 머리 손질 및 트리트먼트(treatment) 로션 또는 젤, 건조 또는 헤어셋팅 로션이나 젤, 또는 모발 파마용, 스트레이트용, 염색용 또는 블리치용 조성물로 사용될 수 있다.
상기 조성물이 국소 처리 크림, 파운데이션, 립스틱, 아이샤도우, 안면 파우더, 마스카라 또는 아이라이너와 같은 속눈썹용, 눈썹용 또는 피부용 메이크업 제품으로 사용되는 경우, 예를 들면 오일 속 물 또는 물 속 오일의 에멀전, 소포성 비이온성 분산물 또는 소포성 비이온 현탁물 형태일 수 있다.
지침으로서, 본 발명에 따른 일광 차단용 제제에 있어서, 오일 내 물의 에멀젼 형태인 경우, 상기 수성 상은 일반적으로 전체 제제에 대하여 50 내지 95 중량%를 나타내고, 바람직하게는 70 내지 90 중량%이며, 오일 상으로는 전체 제제에 대하여 5 내지 50 중량%, 바람직하게는 10 내지 30 중량%를 나타내고, (조)유화제로는 전체 제제에 대하여 0.5 내지 20 중량%, 바람직하게는 2 내지 10 중량%를 나타낸다.
종래 기술(WO 97/03643 및 WO 95/22959)에 공지된 분산제로 안정화되고,미세화된 유기 UV 차단제 분산물과 비교하여, 본 발명의 분산물은, 앞으로 상술할 양쪽성 폴리머로 안정화되고, 화장료 조성물이 화장용으로 허용 가능한 매질 내에 희석됨으로써 얻은 분산물로부터 제조될 때, 상기 분산물 전체적으로 안정한 상태, 예를 들면 입자 간의 응집(aggregation), 응고(flocculation) 또는 침전(sediment)이 관측되지 않는 상태를 유지한다. 희석시 관찰되는 상기 안정화 효과는 소량의 분산 폴리머, 예를 들면 입자만의 표면적 당 수 밀리그램의 차수로 얻어지며, 본 발명의 조성물의 출발 물질 비용을 감소시키지는 않고, 피부 및/또는 모발 상에 비가용성 UV 차단제의 잔류자기를 손상하지 않는 평균으로 얻어진다.
아울러, 비가용성 유기 UV 차단제 입자를 포함하고, 하기 할 양쪽성 폴리머로 안정화되는 본 발명의 광차단용 화장료 조성물은 우수한 광차단력 및 만족스런 화장성질을 나타낸다.

Claims (54)

  1. UV 방사선을 흡수하는 적어도 하나의 기(group)를 포함하며 10 ㎚ 내지 5 ㎛ 범위의 평균 입자 크기를 갖는 입자 형태의 비가용성 유기 화합물의 분산물을 안정화시키기 위한, 적어도 하나의 친수성 블록 및 적어도 하나의 소수성 블록을 포함하는 양쪽성(amphiphilic) 코폴리머의 용도.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 UV 방사선을 흡수하는 적어도 하나의 기를 포함하는 비가용성 유기 화합물의 분산물이 수성 분산물인 양쪽성 코폴리머의 용도.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 친수성 블록 및 적어도 하나의 소수성 블록을 포함하는 양쪽성 코폴리머가 비이온성 폴리머인 양쪽성 코폴리머의 용도.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 친수성 블록 및 적어도 하나의 소수성 블록을 포함하는 양쪽성 코폴리머가 하기식으로 표시되는 화합물들로 이루어진 군에서 선택되는 것인 양쪽성 코폴리머의 용도:
    ㆍ 하기 식의 폴리알콕시화 지방족 알코올;
    H2n+1Cn(CH2CH2O)x(CH2CH(CH3)O)y(CH(CH3)CH2O)zH
    (상기 식에서,
    n은 5 내지 20 사이의 정수이고, 바람직하게는 7 내지 19 사이의 정수이고,
    x는 2 내지 20 사이의 정수이고, 바람직하게는 4 내지 10 사이의 정수이고,
    y는 2 내지 20 사이의 정수이고, 바람직하게는 4 내지 10 사이의 정수이고,
    y+z는 2 내지 20 사이의 정수이고, 바람직하게는 2 내지 12 사이의 정수임);
    ㆍ 하기 식의 에틸렌 옥사이드 및 프로필렌 옥사이드의 트리블록 코폴리머;
    HO(CH2CH2O)a(CH2CH(CH3)O)b(CH2CH2O)cH
    (상기 식에서, a는 2 내지 150 사이의 정수를 나타내고, b는 10 내지 80 사이의 정수를 나타내며, c는 2 내지 150 사이의 정수를 나타냄);
    ㆍ하기 식의 에틸렌 옥사이드 및 프로필렌 옥사이드의 블록 코폴리머와 에틸렌디아민의 축합 생성물;
    ㆍ스티렌 및 에틸렌 옥사이드의 블록 코폴리머,
    ㆍ하기 식의 폴리알콕시화 지방 알코올 디우레탄 폴리머:
    (상기 식에서, n은 40 내지 70 사이의 정수를 나타내고, m은 5 내지 20 사이의 정수를 나타내고, R은 C8-30의 알킬 그룹을 나타내며, L은 이소포론 디이소시아네이트 또는 헥사메틸렌 디이소시아네이트로부터 유래된 기(group)를 나타냄)
    ㆍ하기 식의 폴리에톡시화 폴리올레핀 숙시네이트, 특히 폴리에톡시화 폴리이소부틸렌 숙시네이트:
    (상기 식에서, PIB는 폴리이소부틸렌 사슬을 나타내고, n은 2 내지 15 사이의 정수, 바람직하게는 7 내지 10 사이의 정수를 나타내며, m은 2 내지 15 사이의 정수, 바람직하게는 2 내지 6 사이의 정수를 나타냄);
    ㆍ(메타)아크릴산, C10-30의 알킬 (메타)아크릴레이트 및 폴리에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트의 블록 터폴리머.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 UV 방사선을 흡수하는 적어도 하나의 기를 포함하는 비가용성 유기 화합물이 옥살아닐라이드, 트리아진, 벤조트리아졸, 비닐아미드, 신나미드(cinnamide), 벤즈아졸, 벤조퓨란, 아릴비닐리덴 케톤, 아크릴로니트릴 아미드, 아크릴로니트릴 설폰아미드, 아크릴로니트릴 카르바메이트 및 페닐렌비스(벤족사지논) 형(type) 비가용성 UV 차단제들 중에서 선택되는 양쪽성 코폴리머의 용도.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 옥살아닐라이드 형 비가용성 UV 차단제가 하기 식의 화합물들 중에서 선택되는 양쪽성 코폴리머의 용도:
    (상기 식에서, T1, T1', T2및 T2'는 각각 독립적으로 C1-8의 알킬 라디칼 또는 C1-8의 알콕시 라디칼을 나타냄).
  7. 제5항에 있어서,
    상기 트리아진 형 비가용성 UV 차단제가 하기 식의 화합물 중에서 선택되는 양쪽성 코폴리머의 용도:
    상기 식에서, R1, R2및 R3는 각각 독립적으로 치환되지 않은 페닐기, 페녹시기 또는 피롤로기이거나, -OH, C1-18의 알킬, C1-18의 알콕시, 카르복시(C1-18의 알킬), C5-8의 시클로알킬, 메틸벤질리덴캄퍼(methylbenzylidenecamphor), 및-(CH=CR')n(CO)-OR4(여기서, R'가 수소원자, 시아노기, 또는 COOR4기이고, R4는 C1-18인 알킬기 또는 신나밀기이고, n이 0 또는 1임)중에서 선택된 1종, 2종 또는 3종의 치환기로 각각 독립적으로 치환된 페닐기, 페녹시기 또는 피롤로기이다.
  8. 제5항에 있어서,
    상기 벤조트리아졸 형 비가용성 UV 차단제가 하기 식의 화합물들 중에서 선택되는 양쪽성 코폴리머의 용도:
    하기 식의 화합물;
    (상기 식에서, R5는 수소원자 또는 C1-18의 알킬 라디칼을 나타내고, R6및 R7은 동일하거나 상이할 수 있으며, 선택적으로 페닐기로 치환된 C1-18의 알킬 라디칼임); 및
    하기 식의 화합물;
    (상기 식에서, R8및 R9는 동일하거나 상이할 수 있고, 각각은 C1-4의 알킬, C5-12의 시클로알킬 및 아릴 중에서 선택되는 하나 이상의 라디칼로 치환될 수 있는 C1-18의 알킬 라디칼임).
  9. 제5항에 있어서,
    상기 비닐아미드 형 비가용성 UV 차단제가 하기 식의 화합물 중에서 선택되는 양쪽성 코폴리머의 용도:
    T3-(Y)r-C(=O)-C(T4)=C(T5)-N(T6)(T7)(V)
    상기 식에서, T3는 C1-18의 알킬 라디칼, 바람직하게는 C1-5의 알킬 라디칼, 또는 페닐기이고, 상기 페닐기는 OH, C1-18의 알킬, C1-8의 알콕시 또는 -C(=O)-OT8(여기서, T8이 C1-18의 알킬기임) 중에서 선택되는 1종, 2종 또는 3종의 라디칼로 선택적으로 치환된 페닐기이고;
    T4, T5, T6, 및 T7은 각각 독립적으로 C1-18의 알킬 라디칼, 바람직하게는 C1-5의 알킬 라디칼 또는 수소원자를 나타내고;
    Y는 -NH-기 또는 산소 원자를 나타내며, r은 0 또는 1이다.
  10. 제5항에 있어서,
    상기 신나미드 형 비가용성 UV 차단제가 하기 식의 화합물들 중에서 선택되는 양쪽성 코폴리머의 용도:
    상기 식에서,
    R10은 수소원자 또는 C1-4의 알킬기를 나타내고,
    R11은 수소원자 또는 C1-4의 알킬기를 나타내고,
    R12는 -(CONH)s-페닐기이고, 여기서 s가 0 또는 1이고, 페닐기가 OH, C1-18의 알킬, C1-8의 알콕시, 및 -C(=O)-OR13(여기서, R13는 C1-18의 알킬임) 중에서 선택되는 1종, 2종, 또는 3종의 기로 치환될 수 있으며, 보다 바람직하게는 R12는 페닐기, 4-메톡시페닐기 또는 페닐아미노카르보닐기를 나타낸다.
  11. 제5항에 있어서,
    상기 신나미드 형 비가용성 UV 차단제가 하기 식의 화합물들 중에서 선택되는 비스(α,β-치환된 신나미드)인 양쪽성 코폴리머의 용도:
    상기 식에서,
    Ar1및 Ar2은 동일하거나 상이할 수 있고, 각각은 페닐 라디칼, 방향족 헤테로사이클, 페닐 융합핵(fused phenyl nucleus)을 포함하는 기, 또는 방향족 융합 헤테로사이클을 포함하는 기이며, 1종 이상의 동일 또는 상이한 치환체를 포함할 수 있고,
    B 및 D는 수소원자가 아니며, 각각은 독립적으로 유기 라디칼을 나타내고,
    A 및 C는 각각 독립적으로 유기 라디칼을 나타내고,
    E는 2가의 유기 라디칼을 나타내고,
    다만, Ar1및 Ar2가 모두 -OR 치환체를 포함하는 페닐기를 나타내고(여기서, R은 수소 원자, 또는 유기 라디칼임), A 및 C가 모두 시아노기를 나타내고, B 및 D가 모두 C1-35의 알킬 또는 알케닐기를 나타내며, E가 2가 유기 라디칼을 나타내는 상기 식의 화합물은 제외된다.
  12. 제5항에 있어서,
    상기 벤즈아졸 형, 또는 벤조퓨란 형의 비가용성 UV 차단제가 하기 식의 화합물들 중에서 선택되는 양쪽성 코폴리머의 용도:
    상기 식에서,
    각 Y는 독립적으로 산소 원자 또는 황 원자 또는 NR15기를 나타내고,
    각 Z는 독립적으로 질소 원자 또는 CH기를 나타내고,
    각 R14는 독립적으로 OH기, 할로겐 원자, 실리콘 원자를 선택적으로 포함하는 선형 또는 가지형 C1-8의 알킬기, 또는 선형 또는 가지형 C1-8의 알콕시기이고,
    숫자 m 각각 독립적으로 0,1, 또는 2이고,
    n은 1 내지 4의 정수를 나타내고,
    p는 0 또는 1이고,
    숫자 q는 각각 독립적으로 0 또는 1이고,
    R15는 독립적으로 수소원자, 벤질기, 또는 실리콘 원자를 선택적으로 포함하는 선형 또는 가지형 C1-8의 알킬기이고,
    A는 하기 식의 화합물들중에서 선택되는 원자가 n의 라디칼을 나타낸다:
    (상기 식에서, R16은 각각 독립적으로 할로겐 원자, 선형 또는 가지형 C1-4의 알킬기 또는 알콕시기, 또는 하이드록시기이고,
    R17은 수소원자, 또는 선형 또는 가지형 C1-4의 알킬기이고,
    c= 0-4, d= 0-3, e=0 또는 1 및 f= 0-2임).
  13. 제5항에 있어서,
    상기 아릴비닐렌 케톤 형 비가용성 차단제가 하기 식의 화합물들 중에서 선택되는 양쪽성 코폴리머의 용도:
    상기 식에서,
    n= 1 또는 2,
    A는, 상기 식 (XI) 또는 식 (XII)에서 n=1일 때 하기 식 (a) 내지 (d)중에서 선택되는 아릴 라디칼이거나, 상기 식 (XI)에서 n=2일 때 하기 식 (e) 내지 (h)중에서 선택되는 라디칼이다:
    상기 식에서,
    R4는 각각 독립적으로 OH기, 할로겐 원자, 실리콘 원자를 선택적으로 포함하는 선형 또는 가지형 C1-6알킬기, 실리콘 원자를 선택적으로 포함하는 선형 또는 가지형 C1-6알콕시기, 선형 또는 가지형 C1-5알콕시카르보닐기, 또는 실리콘 원자 또는 아미노산 기능기(function)를 선택적으로 포함하는 선형 또는 가지형 C1-6알킬설폰아미드기를 나타내고,
    p는 0 내지 4의 정수를 나타내고,
    q는 0 또는 1을 나타내고,
    R1은 수소 또는 OH기를 나타내고,
    R2는 수소, 실리콘 원자를 선택적으로 포함하는 선형 또는 가지형 C1-6알킬기, 시아노기, C1-6의 알킬설포닐기 또는 페닐설포닐기를 나타내고,
    R3는 실리콘 원자를 선택적으로 포함하는 선형 또는 가지형 C1-6알킬기, 또는 이환(bicycle)을 형성할 수 있으며 하나 또는 두개의 R4라디칼로 선택적으로 치환될 수 있는 페닐기를 나타내거나,
    R2및 R3는 모두 하나 이상의 질소원자, 황원자, 및 산소원자로 선택적으로 중단되어 있고 다른 카르보닐기를 포함할 수 있으며, 선택적으로 실리콘 원자 또는 아미노산 기능기를 포함하는 선형 또는 가지형 C1∼C8알킬설폰아미드기로 선택적으로 치환된, 단환(單環), 이환, 또는 삼환의 C2-10탄화수소-기재 잔기이며, 단, n이 1일 때 R2및 R3는 캄퍼(camphor) 핵을 형성하지 않는 조건이다.
  14. 제5항에 있어서,
    상기 아크릴로니트릴 아미드 형, 아크릴로니트릴 설폰아미드 형 및 아크릴로니트릴 카르바메이트 형의 비가용성 유기 차단제가 하기 식의 화합물들 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 용도:
    상기 식에서,
    X2는 식 -(C=O)-R'3-(C=O)-, -SO2-R"3-SO2- 또는 -(C=O)-O-R"3-O-(C=O)-의 식을 갖는 2가 라디칼을 나타내고,
    Y는 -(C=O)-R4또는 -SO2R5라디칼을 나타내고,
    R2는 선형 또는 가지형 C1-8인 알킬기를 나타내고,
    n은 0,1 또는 2이고,
    R'3은 단일결합 또는 R"3을 나타내고,
    R"3는 선형 또는 가지형 C1-30인 2가의 알킬렌 라디칼, 또는 선형 또는 가지형 C3-30인 2가의 알케닐렌 라디칼을 나타내며, 상기 라디칼은 하나 이상의 하이드록시 치환체를 가질 수 있고, 산소원자, 질소원자 및 실리콘원자 중에서 선택되는 하나 또는 그 이상의 헤테로 원자를 탄소-기재 사슬에 포함할 수 있으며,
    R4는 -OR6또는 -NHR6라디칼을 나타내고,
    R5는 선형 또는 가지형 C1-30의 알킬 라디칼, 또는 C1-4의 알킬 또는 알콕시 라디칼로 치환될 수 있는 페닐핵을 나타내고,
    R6은 선형 또는 가지형 C1-30의 알킬기 또는 C3-30의 알케닐 라디칼을 나타내며, 상기 라디칼은 하나 또는 그 이상의 하이드록시 치환체를 가질 수 있고, 산소원자, 질소원자 및 실리콘 원자중에서 선택되는 하나 또는 그 이상의 헤테로 원자를 탄소-기재 사슬에 포함할 수 있다.
  15. 제5항에 있어서,
    상기 페닐렌비스(벤족사지논) 형의 비가용성 유기 차단제가 하기 식의 화합물들 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 용도:
    상기 식에서, R은 하기 식 (e) 내지 식 (h) 중에서 선택되는 2가 방향족 잔기를 나타내고,
    상기 식에서,
    R4는 각각 독립적으로 OH기, 할로겐 원자, 실리콘 원자를 선택적으로 포함하는 선형 또는 가지형 C1-6의 알킬기, 선택적으로 실리콘 원자를 포함하는 선형 또는 가지형 C1-6의 알콕시기, 선형 또는 가지형 C1-5의 알콕시카르보닐기, 또는 실리콘 원자 또는 아미노산의 기능기를 포함하는 선형 또는 가지형 C1-6의 알킬설폰아미드기를 나타내고,
    p는 0 내지 4의 정수를 나타내며,
    q는 0 또는 1을 나타낸다.
  16. 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,
    UV 방사선을 흡수하는 적어도 하나의 기를 포함하는 비가용성 유기 화합물 입자의 평균 입자 크기가 10 ㎚ 내지 2 ㎛ 범위, 바람직하게는 20 ㎚ 내지 1.5 ㎛ 범위, 특히 30 ㎚ 내지 1.0 ㎛범위인 것을 특징으로 하는 용도.
  17. 제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 분산물이 UV 방사선을 흡수하는 적어도 하나의 기를 포함하는 비가용성 유기 화합물의 입자를 5 내지 70 중량%, 바람직하게는 30 내지 50 중량%로 포함하는 것을 특징으로 하는 용도.
  18. 제1항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서,
    적어도 하나의 친수성 블록 및 적어도 하나의 소수성 블록을 포함하는 상기 양쪽성 코폴리머가 UV 방사선을 흡수하는 적어도 하나의 기를 포함하는 비가용성 유기 화합물 입자 표면적 ㎡ 당 1 내지 10 ㎎, 바람직하게는 1 내지 5 ㎎ 비율로 으로 사용되는 것을 특징으로 하는 용도.
  19. UV 방사선을 흡수하는 적어도 하나의 기(group)를 포함하는 비가용성 유기 화합물의 분산물을 제조를 위한 제조방법으로서, 상기 제조방법은 액체 매질에 현탁된 상태에서, 10 ㎚ 내지 5 ㎛ 범위의 평균 입자 크기가 얻어질 때까지 입자 크기를 감소시키는 단계를 상기 유기 화합물 입자에 수행하는 단계와,
    상기 입자 크기를 감소시키는 단계 전, 단계 중, 또는 단계 후에 적어도 하나의 친수성 블록 및 적어도 하나의 소수성 블록을 포함하는 적어도 하나의 양쪽성 코폴리머를 첨가하는 단계를 포함하는 제조방법.
  20. 제19항에 있어서,
    상기 입자 크기를 감소시키는 단계가 수성 매질 내에서 분쇄(grinding) 공정으로 이루어진 것을 특징으로 하는 제조방법.
  21. 제20항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 친수성 블록 및 적어도 하나의 소수성 블록을 포함하는 양쪽성 코폴리머가 분쇄 공정 이전 또는 분쇄 공정 중에 첨가되는 것을 특징으로 하는 제조방법.
  22. 제19항 내지 제21항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 친수성 블록 및 적어도 하나의 소수성 블록을 포함하는 양쪽성 코폴리머가 제4항 또는 제5항에 따른 비이온성 폴리머인 것을 특징으로 하는 제조방법.
  23. 제19항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서,
    UV 방사선을 흡수하는 적어도 하나의 기를 포함하는 상기 비가용성 유기 화합물이 옥살아닐라이드, 트리아진, 벤조트리아졸, 비닐아미드, 신나미드, 벤즈아졸, 벤조퓨란, 아릴비닐리덴 케톤, 아크릴로니트릴 아미드, 아크릴로니트릴 설폰아미드, 아크릴로니트릴 카르바메이트 및 페닐렌비스(벤족사지논) 형 비가용성 유기 차단제 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 제조방법.
  24. 제23항에 있어서,
    상기 비가용성 UV 차단제가 제7항 내지 제16항에 따른 화합물들 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 제조방법.
  25. 제19항 내지 제24항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 비가용성 유기 화합물의 입자가 UV 방사선을 차단하는 적어도 하나의 기(group)를 최종 분산물의 5 내지 70 중량%로, 바람직하게는 30 내지 50 중량%로 포함하는 것을 특징으로 하는 제조방법.
  26. 제19항 내지 제25항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 입자 크기를 감소시키는 단계 후에, 적어도 하나의 친수성 블록 및 적어도 하나의 소수성 블록을 포함하는 상기 양쪽성 코폴리머를, UV 방사선을 차단하는 적어도 하나의 기를 포함하는 비가용성 유기 화합물 입자의 표면적 ㎡ 당 1 내지 10 ㎎, 바람직하게는 1 내지 5 ㎎의 비율로 첨가하는 것을 특징으로 하는 제조방법.
  27. 액체 매질 내에,
    (a) UV 방사선을 차단하는 적어도 하나의 기(group)를 10 ㎚ 내지 5 ㎛ 범위의 평균 입자 크기를 갖는 입자 형태로 포함하는 적어도 하나의 비가용성 유기 화합물; 및
    (b) 분산제로서, 하기 식의 화합물로 이루어진 군에서 선택되며, 적어도 하나의 친수성 블록 및 적어도 하나의 소수성 블록을 포함하는 양쪽성 코폴리머;
    ㆍ 하기 식의 폴리알콕시화 지방족 알코올;
    H2n+1Cn(CH2CH2O)x(CH2CH(CH3)O)y(CH(CH3)CH2O)zH
    (상기 식에서,
    n은 5 내지 20 사이의 정수이고, 바람직하게는 7 내지 19 사이의 정수이고,
    x는 2 내지 20 사이의 정수이고, 바람직하게는 4 내지 10 사이의 정수이고,
    y는 2 내지 20 사이의 정수이고, 바람직하게는 4 내지 10 사이의 정수이고,
    y+z는 2 내지 20 사이의 정수이고, 바람직하게는 2 내지 12 사이의 정수임);
    ㆍ 하기 식의 에틸렌 옥사이드 및 프로필렌 옥사이드의 트리블록 코폴리머;
    HO(CH2CH2O)a(CH2CH(CH3)O)b(CH2CH2O)cH
    (상기 식에서, a는 2 내지 150 사이의 정수를 나타내고, b는 10 내지 80 사이의 정수를 나타내며, c는 2 내지 150 사이의 정수를 나타냄);
    ㆍ하기 식의 에틸렌 옥사이드 및 프로필렌 옥사이드의 블록 코폴리머와 에틸렌디아민의 축합 생성물;
    ㆍ스티렌 및 에틸렌 옥사이드의 블록 코폴리머,
    ㆍ하기 식의 폴리알콕시화 지방 알코올 디우레탄 폴리머:
    (상기 식에서, n은 40 내지 70 사이의 정수를 나타내고, m은 5 내지 20 사이의 정수를 나타내고, R은 C8-30의 알킬 그룹을 나타내며, L은 이소포론 디이소시아네이트 또는 헥사메틸렌 디이소시아네이트로부터 유래된 기(group)를 나타냄)
    ㆍ하기 식의 폴리에톡시화 폴리올레핀 숙시네이트, 특히 폴리에톡시화 폴리이소부틸렌 숙시네이트:
    (상기 식에서, PIB는 폴리이소부틸렌 사슬을 나타내고, n은 2 내지 15 사이의 정수, 바람직하게는 7 내지 10 사이의 정수를 나타내며, m은 2 내지 15 사이의 정수, 바람직하게는 2 내지 6 사이의 정수를 나타냄);
    ㆍ메타크릴산, C10-30의 알킬 메타크릴레이트 및 폴리에틸렌글리콜 메타크릴레이트의 블록 터폴리머
    를 포함하는 분산물.
  28. 제27항에 있어서,
    상기 분산물이 UV 방사선을 흡수하는 적어도 하나의 기를 포함하는 비가용성 유기 화합물 입자를 5 내지 70 중량%, 바람직하게는 30 내지 50 중량%로 포함하는 것을 특징으로 하는 분산물.
  29. 제27항 또는 제28항에 있어서,
    상기 분산물이 UV 방사선을 흡수하는 적어도 하나의 기를 포함하는 비가용성유기 화합물 입자의 표면적 ㎡ 당 1 내지 10 ㎎, 바람직하게는 1 내지 5 ㎎의 범위로 분산제를 포함하는 것을 특징으로 하는 분산물.
  30. 제27항 내지 제29항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 액체 매질이 수성 매질인 것을 특징으로 하는 분산물.
  31. 제27항 내지 제30항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 적어도 하나의 친수성 블록 및 적어도 하나의 소수성 블록을 포함하는 양쪽성 코폴리머가 비이온성 폴리머인 것을 특징으로 하는 분산물.
  32. 제27항 내지 제31항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 UV 방사선을 흡수하는 적어도 하나의 기를 포함하는 비가용성 유기 화합물이 옥살아닐라이드, 트리아진, 벤조트리아졸, 비닐아미드, 신나미드, 벤즈아졸, 벤조퓨란, 아릴비닐리덴 케톤, 아크릴로니트릴 아미드, 아크릴로니트릴 설폰아미드, 아크릴로니트릴 카르바메이트 및 페닐렌비스(벤족사지논) 형 비가용성 유기 차단제들 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 분산물.
  33. 제32항에 있어서,
    상기 옥살아닐라이드 형 비가용성 UV 차단제가 하기 식의 화합물들 중에서선택되는 것을 특징으로 하는 분산물:
    (상기 식에서, T1, T1', T2및 T2'는 각각 독립적으로 C1-8의 알킬 라디칼 또는 C1-8의 알콕시 라디칼을 나타냄).
  34. 제32항에 있어서,
    상기 트리아진 형 비가용성 UV 차단제가 하기 식의 화합물들 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 분산물:
    상기 식에서, R1, R2및 R3는 각각 독립적으로 치환되지 않은 페닐기, 페녹시기 또는 피롤로기이거나, -OH, C1-18의 알킬, C1-18의 알콕시, 카르복시(C1-18의 알킬), C5-8의 시클로알킬, 메틸벤질리덴캄퍼, 및 -(CH=CR')n(CO)-OR4(여기서, R'가 수소원자, 시아노기, 또는 COOR4기이고, R4는 C1-18인 알킬기 또는 신나밀기이고, n이 0 또는 1임)중에서 선택된 1종, 2종 또는 3종의 치환기로 각각 독립적으로 치환된 페닐기, 페녹시기 또는 피롤로기이다.
  35. 제32항에 있어서,
    상기 벤조트리아졸 형 비가용성 UV 차단제가 하기 식의 화합물들 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 분산물:
    (상기 식에서, R5는 수소원자 또는 C1-18의 알킬 라디칼을 나타내고, R6및 R7은 동일하거나 상이할 수 있으며, 선택적으로 페닐기로 치환된 C1-18의 알킬 라디칼임); 및
    하기 식의 화합물;
    (상기 식에서, R8및 R9는 동일하거나 상이할 수 있고, 각각은 C1-4의 알킬, C5-12의 시클로알킬 및 아릴 중에서 선택되는 하나 이상의 라디칼로 치환될 수 있는 C1-18의 알킬 라디칼임).
  36. 제32항에 있어서,
    상기 비닐아미드 형 비가용성 UV 차단제가 하기 식의 화합물들 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 분산물:
    T3-(Y)r-C(=O)-C(T4)=C(T5)-N(T6)(T7)(V)
    상기 식에서, T3는 C1-18의 알킬 라디칼, 바람직하게는 C1-5의 알킬 라디칼, 또는 페닐기이고, 상기 페닐기는 OH, C1-18의 알킬, C1-8의 알콕시 또는 -C(=O)-OT8(여기서, T8이 C1-18의 알킬기임) 중에서 선택되는 1종, 2종 또는 3종의 라디칼로 선택적으로 치환된 페닐기이고;
    T4, T5, T6, 및 T7은 각각 독립적으로 C1-18의 알킬 라디칼, 바람직하게는 C1-5의 알킬 라디칼 또는 수소원자를 나타내고;
    Y는 -NH-기 또는 산소 원자를 나타내며, r은 0 또는 1이다.
  37. 제32항에 있어서,
    상기 신나미드 형 비가용성 UV 차단제가 하기 식의 화합물들 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 분산물:
    상기 식에서,
    R10은 수소원자 또는 C1-4의 알킬기를 나타내고,
    R11은 수소원자 또는 C1-4의 알킬기를 나타내고,
    R12는 -(CONH)s-페닐기이고, 여기서 s가 0 또는 1이고, 페닐기가 OH, C1-18의 알킬, C1-8의 알콕시, 및 -C(=O)-OR13(여기서, R13는 C1-18의 알킬임) 중에서 선택되는 1종, 2종, 또는 3종의 기로 치환될 수 있으며, 보다 바람직하게는 R12는 페닐기, 4-메톡시페닐기 또는 페닐아미노카르보닐기를 나타낸다.
  38. 제32항에 있어서,
    상기 신나미드 형 비가용성 UV 차단제가 하기 식의 화합물들 중에서 선택되는 비스(α,β-치환된 신나미드)인 것을 특징으로 하는 분산물:
    상기 식에서,
    Ar1및 Ar2은 동일하거나 상이할 수 있고, 각각은 페닐 라디칼, 방향족 헤테로사이클, 페닐 융합핵(fused phenyl nucleus)을 포함하는 기, 또는 방향족 융합 헤테로사이클을 포함하는 기이며, 1종 이상의 동일 또는 상이한 치환체를 포함할수 있고,
    B 및 D는 수소원자가 아니며, 각각은 독립적으로 유기 라디칼을 나타내고,
    A 및 C는 각각 독립적으로 유기 라디칼을 나타내고,
    E는 2가의 유기 라디칼을 나타내고,
    다만, Ar1및 Ar2가 모두 -OR 치환체를 포함하는 페닐기를 나타내고(여기서, R은 수소 원자, 또는 유기 라디칼임), A 및 C가 모두 시아노기를 나타내고, B 및 D가 모두 C1-35의 알킬 또는 알케닐기를 나타내며, E가 2가 유기 라디칼을 나타내는 상기 식의 화합물은 제외된다.
  39. 제32항에 있어서,
    상기 벤즈아졸 또는 벤조퓨란 형 비가용성 UV 차단제가 하기 식의 화합물들로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 분산물:
    상기 식에서,
    각 Y는 독립적으로 산소 원자 또는 황 원자 또는 NR15기를 나타내고,
    각 Z는 독립적으로 질소 원자 또는 CH기를 나타내고,
    각 R14는 독립적으로 OH기, 할로겐 원자, 실리콘 원자를 선택적으로 포함하는 선형 또는 가지형 C1-8의 알킬기, 또는 선형 또는 가지형 C1-8의 알콕시기이고,
    숫자 m 각각 독립적으로 0,1, 또는 2이고,
    n은 1 내지 4의 정수를 나타내고,
    p는 0 또는 1이고,
    숫자 q는 각각 독립적으로 0 또는 1이고,
    R15는 독립적으로 수소원자, 벤질기, 또는 실리콘 원자를 선택적으로 포함하는 선형 또는 가지형 C1-8의 알킬기이고,
    A는 하기 식의 화합물들중에서 선택되는 원자가 n의 라디칼을 나타낸다:
    (상기 식에서, R16은 각각 독립적으로 할로겐 원자, 선형 또는 가지형 C1-4의 알킬기 또는 알콕시기, 또는 하이드록시기이고,
    R17은 수소원자, 또는 선형 또는 가지형 C1-4의 알킬기이고,
    c= 0-4, d= 0-3, e=0 또는 1 및 f= 0-2임).
  40. 제32항에 있어서,
    상기 아릴비닐렌 케톤 형 비가용성 차단제가 하기 식들의 화합물들 중에서선택되는 것을 특징으로 하는 분산물:
    상기 식에서,
    n= 1 또는 2,
    A는, 상기 식 (XI) 또는 식 (XII)에서 n=1일 때 하기 식 (a) 내지 (d)중에서 선택되는 아릴 라디칼이거나, 상기 식 (XI)에서 n=2일 때 하기 식 (e) 내지 (h)중에서 선택되는 라디칼이다:
    상기 식에서,
    R4는 각각 독립적으로 OH기, 할로겐 원자, 실리콘 원자를 선택적으로 포함하는 선형 또는 가지형 C1-6알킬기, 실리콘 원자를 선택적으로 포함하는 선형 또는 가지형 C1-6알콕시기, 선형 또는 가지형 C1-5알콕시카르보닐기, 또는 실리콘 원자 또는 아미노산 기능기(function)를 선택적으로 포함하는 선형 또는 가지형 C1-6알킬설폰아미드기를 나타내고,
    p는 0 내지 4의 정수를 나타내고,
    q는 0 또는 1을 나타내고,
    R1은 수소 또는 OH기를 나타내고,
    R2는 수소, 실리콘 원자를 선택적으로 포함하는 선형 또는 가지형 C1-6알킬기, 시아노기, C1-6의 알킬설포닐기 또는 페닐설포닐기를 나타내고,
    R3는 실리콘 원자를 선택적으로 포함하는 선형 또는 가지형 C1-6알킬기, 또는 이환(bicycle)을 형성할 수 있으며 하나 또는 두개의 R4라디칼로 선택적으로 치환될 수 있는 페닐기를 나타내거나,
    R2및 R3는 모두 하나 이상의 질소원자, 황원자, 및 산소원자로 선택적으로 중단되어 있고 다른 카르보닐기를 포함할 수 있으며, 선택적으로 실리콘 원자 또는 아미노산 기능기를 포함하는 선형 또는 가지형 C1∼C8알킬설폰아미드기로 선택적으로 치환된, 단환(單環), 이환, 또는 삼환의 C2-10탄화수소-기재 잔기이며, 단, n이1일 때 R2및 R3는 캄퍼 핵을 형성하지 않는 조건이다.
  41. 제32항에 있어서,
    상기 아크릴로니트릴 아미드, 아크릴로니트릴 설폰아미드 및 아크릴로니트릴 카르바메이트 형 비가용성 유기 차단제가 하기 식의 화합물들 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 분산물:
    상기 식에서,
    X2는 식 -(C=O)-R'3-(C=O)-, -SO2-R"3-SO2- 또는 -(C=O)-O-R"3-O-(C=O)-의 식을 갖는 2가 라디칼을 나타내고,
    Y는 -(C=O)-R4또는 -SO2R5라디칼을 나타내고,
    R2는 선형 또는 가지형 C1-8인 알킬기를 나타내고,
    n은 0,1 또는 2이고,
    R'3은 단일결합 또는 R"3을 나타내고,
    R"3는 선형 또는 가지형 C1-30인 2가의 알킬렌 라디칼, 또는 선형 또는 가지형 C3-30인 2가의 알케닐렌 라디칼을 나타내며, 상기 라디칼은 하나 이상의 하이드록시치환체를 가질 수 있고, 산소원자, 질소원자 및 실리콘원자 중에서 선택되는 하나 또는 그 이상의 헤테로 원자를 탄소-기재 사슬에 포함할 수 있으며,
    R4는 -OR6또는 -NHR6라디칼을 나타내고,
    R5는 선형 또는 가지형 C1-30의 알킬 라디칼, 또는 C1-4의 알킬 또는 알콕시 라디칼로 치환될 수 있는 페닐핵을 나타내고,
    R6은 선형 또는 가지형 C1-30의 알킬기 또는 C3-30의 알케닐 라디칼을 나타내며, 상기 라디칼은 하나 또는 그 이상의 하이드록시 치환체를 가질 수 있고, 산소원자, 질소원자 및 실리콘 원자중에서 선택되는 하나 또는 그 이상의 헤테로 원자를 탄소-기재 사슬에 포함할 수 있다.
  42. 제32항에 있어서,
    상기 페닐렌비스(벤족사지논) 형 비가용성 유기 차단제가 하기 식의 화합물들 중에서 선택되는 것을 특징으로 하는 분산물:
    상기 식에서, R은 하기 식 (e) 내지 식 (h) 중에서 선택되는 2가 방향족 잔기를 나타내고,
    상기 식에서,
    R4는 각각 독립적으로 OH기, 할로겐 원자, 실리콘 원자를 선택적으로 포함하는 선형 또는 가지형 C1-6의 알킬기, 선택적으로 실리콘 원자를 포함하는 선형 또는 가지형 C1-6의 알콕시기, 선형 또는 가지형 C1-5의 알콕시카르보닐기, 또는 실리콘 원자 또는 아미노산의 기능기를 포함하는 선형 또는 가지형 C1-6의 알킬설폰아미드기를 나타내고,
    p는 0 내지 4의 정수를 나타내며,
    q는 0 또는 1을 나타낸다.
  43. 제27항 내지 제 42항 중 어느 한 항에 있어서,
    UV 방사선을 흡수하는 적어도 하나의 기를 포함하는 비가용성 유기 화합물 입자의 평균 입자 크기가 10 ㎚ 내지 2 ㎛ 범위, 바람직하게는 20 ㎚ 내지 1.5 ㎛ 범위, 특히 30 ㎚ 내지 1.0 ㎛범위인 것을 특징으로 하는 분산물.
  44. 화장용으로 허용가능한 매질 내에
    (a) 10 ㎚ 내지 5 ㎛ 범위의 평균 입자 크기를 갖는 입자 형태인, UV 방사선을 차단하는 적어도 하나의 기(group)를 포함하는 적어도 하나의 비가용성 유기 화합물; 및
    (b) 적어도 하나의 친수성 블록 및 적어도 하나의 소수성 블록을 포함하는 양쪽성 코폴리머들 중에서 선택되는 적어도 하나의 분산제를 포함하고,
    화장용으로 허용가능한 매질 내에 제27항 내지 제43항 중 어느 한 항에 따르는 분산물을 희석시켜 제조되는, 국소용, 특히 피부 및/또는 모발의 광보호용(photoprotecting) 화장료 조성물.
  45. 제44항에 있어서,
    상기 조성물이 UV 방사선을 차단하는 적어도 하나의 기(group)를 포함하는 비가용성 유기 화합물 입자를 0.1 내지 15 중량%, 바람직하게는 0.2 내지 10 중량%로 포함하는 화장료 조성물.
  46. 제44항 또는 제45항에 있어서,
    상기 조성물이 UV-A 및/또는 UV-B 영역에서 활성이 있는 수용성 또는 지용성 유기 일광 차단제(sunscreens)를 하나 이상 추가로 포함하는 화장료 조성물.
  47. 제44항 내지 제46항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 가용성 유기 일광 차단제가 에틸헥실 살리실레이트, 부틸 메톡시디벤조일메탄, 에틸헥실 메톡시시아나메이트, 옥토크릴렌, 페닐벤즈이미다졸 설폰산, 테레프탈리덴 디캄퍼 설폰산, 벤조페논-3, 벤조페논-4, 벤조페논-5, 4-메틸벤질리덴캄퍼, 벤즈이미다질레이트, 안이소트리아진, 에틸헥실 트리아존, 디에틸헥실 부타미도 트리아존, 메틸렌 비스-벤조트리아졸일 테트라메틸부틸페놀, 드로메트리아졸 트리실록산 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 것인 화장료 조성물.
  48. 제44항 내지 제47항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 조성물이 하나 이상의 광물 색소를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 화장료 조성물.
  49. 제48항에 있어서,
    상기 광물성 색소가 티타늄 옥사이드, 아이언 옥사이드, 징크 옥사이드, 지르코늄 옥사이드, 세륨 옥사이드 및 이들의 혼합물의 금속 옥사이드인 나노색소들중에서 선택되며, 상기 나노색소가 선택적으로 코팅된 것을 특징으로 하는 화장료 조성물.
  50. 제49항에 있어서,
    상기 나노색소의 평균 입자 크기가 5 ㎚ 내지 100 ㎚ 범위, 바람직하게는 10 ㎚ 내지 50 ㎚ 범위인 것을 특징으로 하는 화장료 조성물.
  51. 제44항 내지 제50항 중 어느 한항에 있어서,
    상기 화장료 조성물이 피부의 인공적 태닝(tanning) 및 /또는 갈색화(browning)를 위한 적어도 하나의 작용제(agent)를 추가로 포함하는 화장료 조성물.
  52. 제44항 내지 제51항에 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 조성물이 지방성 물질, 생리학적으로 허용가능한 유기용매, 증점제, 항산화제, 유탁제, 안정화제, 소포제, 향료, 방부제, 충전제, 킬레이트제, 분사제, pH 조절제, 착색제, 및 이들의 혼합물중에서 선택되는 하나 이상의 제제화 보조제(formulation adjuvant)를 추가로 포함하는 화장료 조성물.
  53. 제44항 내지 제52항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 조성물이 비타민, 유연제, 하이드록시산, 보습제, 연화제, 자유 라디칼 스캐빈저(scavenger), 인물질 길항제 성분, 방난연제 및 이들의 혼합물 중에서 선택되는 하나 이상의 화장용 활성 성분을 추가로 포함하는 화장료 조성물.
  54. 제44항 내지 제53항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 화장료 조성물이 피부 또는 모발 보호용 화장료 조성물, 일광 차단용 조성물 또는 메이크업 제품을 구성하는 것인 화장료 조성물.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210124757A (ko) * 2020-04-07 2021-10-15 가톨릭대학교 산학협력단 자외선 차단용 고분자 및 이를 유효성분으로 함유하는 화장료 조성물

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030147937A1 (en) * 2000-04-12 2003-08-07 Thomas Schwarz Use of compatible solutes as substances having free radical scavenging properties
EP1311238B1 (de) * 2000-08-18 2009-10-21 Bitop Gesellschaft für Biotechnische Optimierung mbH Verwendung von di-zuckeralkoholphosphaten zum schutz menschlicher hautzellen vor uv- und/oder ir-strahlung
ES2301846T3 (es) * 2002-10-21 2008-07-01 L'oreal Proceso para disolver compuestos lipofilos en fase acuosa con copolimeros de bloque anfifilico; y composiciones cosmeticas.
FR2845930B1 (fr) * 2002-10-21 2006-05-26 Oreal Procede de solubilisation de composes lipophiles en solution aqueuse par des copolymeres blocs amphiphiles et composition cosmetique
DE10323178A1 (de) * 2003-05-22 2004-12-09 Basf Ag Mischung, umfassend ein Tensid und ein Cotensid
FR2841139B1 (fr) * 2003-05-27 2008-03-28 Oreal Composition cosmetique et/ou dermatologique contenant au moins un actif hydrophile sensible a l'oxydation stabilise par au moins un polymere amphiphile choisi parmi les oligomeres ou polymeres derives de polyolefines
WO2004105704A2 (en) * 2003-05-29 2004-12-09 Sun Pharmaceuticals Corporation Emulsion base for skin care compositions
WO2005030155A1 (en) * 2003-09-26 2005-04-07 L'oréal Continuous aqueous phase-based photoprotective composition containing a polymer comprising at least two blocks incompatible with each other and having different glass transition temperatures
DE102004007501A1 (de) * 2004-02-13 2005-09-01 Basf Ag Amphiphile Blockcopolymere enthaltende wässrige Polymerdispersionen, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
FR2873573B1 (fr) * 2004-08-02 2006-11-17 Oreal Emulsion eau-dans-huile comprenant une huile non-volatile non-siliconee, un tensioactif cationique, une polyolefine a partie's) polaire(s), et un alkylmonoglycoside ou alkylpolyglycoside
DE102005015632A1 (de) * 2005-04-05 2006-10-12 Basf Ag Verwendung von Polyisobuten enthaltenden Copolymerisaten in Lichtschutzmitteln
FR2885045B1 (fr) * 2005-04-29 2007-06-08 Oreal Emulsion inverse comprenant une solution de peroxyde d'hydrogene et une phase inerte de solubilite dans l'eau inferieure a 1%
CN101233187A (zh) * 2005-08-04 2008-07-30 巴斯福股份公司 水分散体及其用途
US20070134191A1 (en) * 2005-12-14 2007-06-14 L'oreal Hair styling compositions containing a nonionic amphiphilic polymer in combination with styling polymers and emulsifying agents
CN101505862B (zh) * 2006-08-22 2013-05-29 路博润有限公司 新颖的分散剂
MX2009008030A (es) * 2007-01-31 2009-10-19 Univ Rutgers Liberacion controlada de activos en la piel.
DE102007005335A1 (de) 2007-02-01 2008-08-07 Beiersdorf Ag Lichtschutzzubereitung mit einer Kombination von Mikropigmenten
JP5270134B2 (ja) * 2007-11-12 2013-08-21 株式会社コーセー 紫外線吸収剤水分散組成物
WO2009133647A1 (ja) * 2008-05-02 2009-11-05 国立大学法人筑波大学 高分子化環状二トロキシドラジカル化合物およびその使用
GB0920879D0 (en) * 2009-11-27 2010-01-13 Revolymer Ltd Cosmetic composition
CN103348290A (zh) * 2011-01-27 2013-10-09 保土谷化学工业株式会社 电荷控制剂及使用该电荷控制剂的调色剂
FR2972349B1 (fr) * 2011-03-07 2013-04-05 Coatex Sas Formulation cosmetique contenant un copolymere amphiphile non hydrosoluble comme agent epaississant.
CN102746439B (zh) * 2012-07-12 2014-03-26 华东理工大学 端基官能团化的丙烯腈的均聚物或共聚物的制备方法
IL225985A0 (en) * 2013-04-25 2013-07-31 Dov Ingman Prof Preparation@cosmetic@mushkollal
WO2015013464A1 (en) 2013-07-23 2015-01-29 Lotus Leaf Coatings, Inc. Process for preparing an optically clear superhydrophobic coating solution
CN104072425B (zh) * 2014-07-09 2016-12-07 大连理工大学 苯并咪唑类化合物及其应用
KR101669759B1 (ko) * 2015-06-03 2016-10-26 영남대학교 산학협력단 히드록시벤질리덴 크로마논계 화합물을 유효성분으로 함유하는 염증성 장질환의 예방 또는 치료용 조성물
JP7311501B2 (ja) * 2018-05-29 2023-07-19 株式会社 資生堂 ブロックコポリマーを含む化粧料用無機粒子分散液

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB9403451D0 (en) 1994-02-23 1994-04-13 Ciba Geigy Ag Sunscreen compositions
GB9515048D0 (en) 1995-07-22 1995-09-20 Ciba Geigy Ag Sunscreen compositions
GB9715751D0 (en) 1997-07-26 1997-10-01 Ciba Geigy Ag Formulations
DE19856728B4 (de) * 1998-12-09 2004-04-22 Henkel Kgaa Verfahren zur Herstellung von Nanopartikeldispersionen
FR2787322B1 (fr) * 1998-12-18 2002-10-18 Galderma Res & Dev Emulsion huile-dans-eau comprenant un agent actif micronise et un systeme emulsionnant approprie
WO2000051550A1 (en) * 1999-03-01 2000-09-08 Basf Corporation Cold processed water-in-oil emulsions
AU774383B2 (en) * 1999-07-12 2004-06-24 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Use of mixtures of micropigments for preventing tanning and for lightening skin and hair
FR2799964B1 (fr) * 1999-10-22 2002-07-26 Oreal Emulsions contenant au moins un filtre uv organique insoluble et un polymere associatif

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210124757A (ko) * 2020-04-07 2021-10-15 가톨릭대학교 산학협력단 자외선 차단용 고분자 및 이를 유효성분으로 함유하는 화장료 조성물

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