JP2003137719A - Ｕｖ照射を遮蔽する不溶性有機化合物の分散物を安定化するための両親媒性コポリマーの使用、このコポリマーで安定化した分散物及びこれを含む化粧組成物 - Google Patents

Ｕｖ照射を遮蔽する不溶性有機化合物の分散物を安定化するための両親媒性コポリマーの使用、このコポリマーで安定化した分散物及びこれを含む化粧組成物

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JP2003137719A
JP2003137719A JP2002298282A JP2002298282A JP2003137719A JP 2003137719 A JP2003137719 A JP 2003137719A JP 2002298282 A JP2002298282 A JP 2002298282A JP 2002298282 A JP2002298282 A JP 2002298282A JP 2003137719 A JP2003137719 A JP 2003137719A
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カンドウ ディーディエイ
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 平均粒径が１０nm〜５μmである粒子の形態
にあるＵＶ照射を吸収する少なくとも一つの基を含む不
溶性有機化合物の分散物を両親媒性コポリマーで安定化
した分散物、これらを含む化粧組成物、及びさらにこれ
らの分散物を製造する方法を提供すること。 【解決手段】 本発明は、平均粒径が１０nm〜５μmで
ある粒子の形態にあるＵＶ照射を吸収する少なくとも一
つの基を含む不溶性有機化合物の分散物を安定化するた
めの、少なくとも一つの親水性ブロックと少なくとも一
つの疎水性ブロックを含む少なくとも一つの両親媒性コ
ポリマーの使用に関し、さらにこれらの両親媒性コポリ
マーで安定化した分散物、及びこれらを含む局所適用の
ための化粧組成物、特に日焼け止め化粧組成物に関す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、平均粒径が１０nm
〜５μmである粒子の形態にあるＵＶ照射を吸収する少
なくとも一つの基を含む不溶性有機化合物の分散物を安
定化する両親媒性コポリマーの使用、これらのコポリマ
ーで安定化した得られた分散物、これらを含む化粧組成
物、及びさらにこれらの分散物を製造する方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】皮膚を保護するための多くの化粧組成物
が今日まで提案されてきた。これらの日焼け止め組成物
の多くは、一又は複数の剤を含む水中油型又は油中水型
のエマルション、ジェル又は無水製品であり、これらの
剤は有機及び／又は無機の、不溶性及び／又は可溶性
の、親油性及び／又は親水性の遮蔽剤であって、有害な
ＵＶ照射を選択的に吸収することが可能なものである。
これらの日焼け止め剤の効率は、その分子消光係数εに
よって特徴付けられる。日焼け止め剤組成物中の遮蔽剤
の性質及び濃度を、所望の保護因子及び所望の保護特性
に従って選択する。遮蔽剤の親油性又は親水性に依存し
て、それを日焼け止め組成物の脂肪相又は水性相に分散
させることができる。多数の一般に使用される有機遮蔽
剤はそれらを種々の化粧媒体に溶解させる置換基を有し
ている：例えば２−エチルヘキシル型の鎖は遮蔽剤を油
に溶解させ、イオン化基、例えばスルホン酸は遮蔽剤に
極性溶媒、特に水へのある程度の溶解性を与える。
【０００３】しかしながら、発色団に置換基が存在する
と吸収力が減少する結果となり、従って発色団の吸収特
性を十分に利用するために未置換の発色団を含む遮蔽剤
が使用可能であることには大きな利点があることが見出
されている。しかしながら、これらの遮蔽剤は不溶性で
あり多くの化粧用溶媒中での取扱が困難となっている。
さらに、十分に有効であるためには、これらは化粧用媒
体中で完全に分散した非常に微小な粒子の形態にある必
要があることも見出されている。化粧組成物における遮
蔽剤の粒子の満足すべき分散を得るための溶液の一つ
は、最初に濃縮した予製分散物を製造し次いで化粧用媒
体に導入することから成る。これらの微小化した不溶性
の有機遮蔽剤の予製分散物を、一又は複数の適切な分散
剤の存在下に粗製粒子分散物を粉砕して所望の大きさに
することによって製造することができる。これらの分散
剤は通常界面活性を有する化合物であり、これらは固体
／液体の界面に存在して粒子の凝集及び沈殿を防止す
る。
【０００４】国際特許出願ＷＯ ９７／０３６４３及び
特許出願ＥＰ ０ ８９３ １１９は、式ＣnＨ2n+1Ｏ(Ｃ6
Ｈ10Ｏ5)xＨのアルキルポリグルコシドから選択する分
散剤の存在下に不溶性有機遮蔽剤を粉砕する（微小化す
る）方法を記載しており、上記式中ｎは８〜１６の整数
であり、ｘは１．４〜１．６である。国際特許出願ＷＯ
９５／２２９５９は、以下から選択する粉砕助剤の存
在下に不溶性有機遮蔽剤を微小化する方法を開示してい
る：アルキル化したポリビニルピロリドン、ビニルピロ
リドンと酢酸ビニルとのコポリマー、アシルグルタメー
ト、アクリル酸とｔ−オクチルプロペンアミドとのコポ
リマー、ジトルイルエーテルスルホン酸／ホルムアルデ
ヒド縮合生成物、Carbomer（登録商標）製品、エトキシ
ル化したトリスチリルフェノールとリン脂質を含む脂肪
酸エステルの市販混合物。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】微小化した有機ＵＶ遮
蔽剤の分散物を安定化するために上記の分散剤及び粉砕
助剤を使用したとしても、いくつかの問題が残る。特に
これらの分散物により安定な濃縮した予製分散物を製造
することが可能であるとしても、日焼け止め組成物を製
造中の化粧媒体における予製分散物を希釈すると通常、
分散剤の少なくとも部分的な吸着及び最終日焼け止め化
粧組成物の不安定化を伴う。分散剤の濃度を増加させる
ことにより、予製分散物の希釈時に見られる不安定性を
回避するために多くの試みがなされてきた。しかしなが
ら、濃度を増加させるとその結果として不溶性有機遮蔽
剤の皮膚又は毛髪上での持続性が損なわれ、すなわち水
と接触した場合にその除去を促進することとなることが
見出された。従って、本発明の目的は、微小化した不溶
性有機遮蔽剤の濃縮した分散物及び該濃縮分散物を化粧
媒体中に希釈することによって得られる化粧組成物の両
者を（遮蔽剤の残留を損なわない相対的に低い濃度で）
安定化させる分散剤を見出すことである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】出願人は、“両親媒性コ
ポリマー”として公知の、少なくとも一つの親水性モノ
マーのブロックと少なくとも一つの疎水性モノマーのブ
ロックを含む共通の性質を有する特定の群のポリマーに
よって、ＵＶ照射を吸収する不溶性有機化合物の微粒子
の濃縮分散物及び希釈分散物を十分に安定化することが
可能であることを見出した。
【０００７】
【発明の実施の形態】従って、本発明の主題は、ＵＶ照
射を吸収する少なくとも一つの基を含む不溶性有機化合
物であって平均粒径が１０nm〜５μmである粒子の形態
にあるものの分散物を安定化するための、少なくとも一
つの親水性ブロックと少なくとも一つの疎水性ブロック
を含む少なくとも一つの両親媒性コポリマーの使用であ
る。本発明の主題はさらに、液体媒体に懸濁させた該有
機化合物の粒子の粒径を１０nm〜５μmの平均粒径とな
るまで減少させる工程、及び少なくとも一つの親水性ブ
ロックと少なくとも一つの疎水性ブロックを含む少なく
とも一つの両親媒性コポリマーを粒径減少工程の前、そ
の工程中又はその工程の後で添加する工程から成る該分
散物を製造する方法でもある。本発明の主題はさらに、
ＵＶ照射を吸収する少なくとも一つの基を含む少なくと
も一つの不溶性有機化合物であって、平均粒径が１０nm
〜５μmの粒子の形態にあるもの、及び少なくとも一つ
の親水性ブロックと少なくとも一つの疎水性ブロックを
含む両親媒性コポリマーの特定の群から選択する少なく
とも一つの分散剤を含む液体媒体中の分散物でもあり、
さらに該分散物を化粧品として受容可能な媒体に希釈し
て得られる局所適用のための化粧組成物、特に皮膚及び
／又は毛髪を光から保護するための組成物でもある。
【０００８】先行技術の分散剤で安定化させた微小化し
た有機ＵＶ日焼け止め剤の分散物（ＷＯ ９７／０３６
４３及びＷＯ ９５／２２９５９）と対照的に、以下に
詳細に述べる両親媒性コポリマーで安定化した本発明の
分散物は、これらの分散物を化粧品として受容可能な媒
体に希釈することによってこれらの分散物から化粧組成
物を製造した場合、完全な安定性を維持する−すなわ
ち、粒子の凝集、綿状沈殿又は沈殿が全く見られない。
希釈時に見られる安定化効果は少量の、すなわち粒子の
みの表面積１平方メートル当たり数ミリグラムの程度の
分散性ポリマーについて得られ、このことにより組成物
の出発原料の費用が減少するのみならず、結局皮膚及び
／又は毛髪上に不溶性のＵＶ吸収剤を残留させないとい
う利点をも有する。不溶性有機ＵＶ遮蔽剤の粒子を含
み、以下に記載する両親媒性ポリマーで安定化された光
保護化粧組成物は、さらに優れた光保護力と満足すべき
化粧特性とによって区別される。
【０００９】本発明において、“少なくとも一つの親水
性ブロックと少なくとも一つの疎水性ブロックを含む両
親媒性コポリマー”という表現は、少なくとも二つの型
のモノマー“ブロック”を含み、各ブロックは一連の特
定のモノマーから成っているポリマーを意味する。本発
明の両親媒性ポリマーは、種々のブロックが交互に（親
水性／疎水性）一緒に結合している直鎖構造を有するこ
とができる。ジブロック、トリブロック又はポリブロッ
クを含むこの型のポリマーは、高分子化学の分野で一般
に“ブロックコポリマー”として公知である。しかしな
がら本出願人は、本発明で使用する両親媒性ポリマーの
定義に以下のポリマーをも含ませることを意図してい
る：分岐した構造を有するポリマー、例えば第１の型の
ブロック（疎水性又は親水性）が第２の型のブロック
（親水性又は疎水性）を形成する主鎖に結合している構
造を有するポリマー。これらのポリマーは一般に“グラ
フトコポリマー”又は“くし型構造を有するコポリマ
ー”として公知である。
【００１０】本技術分野においてこれらの全てのコポリ
マーは公知であり、例えば以下の方法に従って製造する
ことができる：重合−グラフト化が続くフリーラジカル
重合、アニオン又はカチオン重合、重縮合、又は“制御
フリーラジカル重合”として知られている最近の技術、
この技術は特に以下の文献に記載されている："New Met
hod of Polymer Synthesis", Blackie Academic & Prof
essional, London, 1995, volume 2, page 1, 又はTren
ds Polym. Sci. 4, page 183 (1996), C. J. Hawker、
及び特にJACS, 117, page 5614 (1995), Matyjasezwski
他に記載されている原子移転フリーラジカル重合。液体
媒体中の不溶性ＵＶ遮蔽剤の粒子の分散物を安定化させ
るために使用する、少なくとも一つの親水性ブロックと
少なくとも一つの疎水性ブロックを含む両親媒性コポリ
マーは、好ましくはノニオン性ポリマーである。予製分
散物及びそれから製造した化粧組成物が一般に水性相を
含むことが所与である場合、分散性ポリマー上に多くの
電荷が存在することによって、分散媒体へのその溶解性
が極度に増加し、かつその結果化粧品として受容可能な
媒体による希釈時に分散が促進される。
【００１１】本発明における分散剤として挙げることが
できる好ましい両親媒性コポリマーの例は以下を含む： ・以下の式のポリアルコキシル化した脂肪族アルコー
ル： Ｈ2n+1Ｃn(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)x(ＣＨ2ＣＨ(ＣＨ3)Ｏ)y(ＣＨ
(ＣＨ3)ＣＨ2Ｏ)zＨ 式中、ｎは５〜２０、好ましくは７〜１９の整数であ
り、ｘは２〜２０、好ましくは４〜１０の整数であり、
ｙは２〜２０、好ましくは４〜１０の整数であり、ｙ＋
ｚの合計は２〜２０、好ましくは２〜１２の整数であ
る。これらの製品はユニケマ（Uniquema）社によりSynp
eronic（登録商標）の名称で、シリーズLF及びAで、Atp
lus（登録商標）の名称で市販されている。
【００１２】・以下の式のエチレンオキシド及びプロピ
レンオキシドのトリブロックコポリマー： ＨＯ(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)a(ＣＨ2ＣＨ(ＣＨ3)Ｏ)b(ＣＨ2ＣＨ
2Ｏ)cＨ 式中、ａは２〜１５０の整数を表し、ｂは１０〜８０の
整数を表し、ｃは２〜１５０の整数を表し；これらのポ
リマーの親水性／親油性バランスはａ、ｂ及びｃの値の
関数として変化する。 ・以下の式に相当するエチレンオキシドとプロピレンオ
キシドのブロックコポリマーとエチレンジアミンとの縮
合生成物： これらの製品はユニケマ（Uniquema）社により市販され
ている、
【００１３】・スチレンとエチレンオキシドとのブロッ
クコポリマー。 この型のポリマーは、例えばゴールドシュミット（Gold
schmidt）社によりTegomer（登録商標）の名称で市販さ
れている。 ・以下の式のポリアルコキシル化した脂肪アルコールジ
ウレタンポリマー： 式中、ｎは４０〜７０の数を表し、ｍは５〜２０の数を
表し、ＲはＣ8-30アルキル基を表し、かつＬはイソホロ
ンジイソシアナート又はヘキサメチレンジイソシアナー
トから誘導した基を表す。挙げることができるこれらの
製品の例は、PPG-14 Laureth-60イソホリルジカルバメ
ート（ＩＮＣＩ名）及びPPG-14 Palmeth-60ヘキシルジ
カルバメート（ＩＮＣＩ名）を含み、これらはそれぞれ
アクゾ（Akzo）社によりElfacos（登録商標）T211及びE
lfacos（登録商標）T212の名称で市販されている。
【００１４】・ポリエトキシル化したポリオレフィンス
クシネート、特に以下の式のポリエトキシル化したポリ
イソブチレンスクシネート： 式中、ＰＩＢはポリイソブチレン鎖を表し、ｎは２〜１
５、好ましくは７〜１０の整数を表し、ｍは２〜１５、
好ましくは２〜６の整数を表す。これらのポリマーを、
以下の式に従ってポリオレフィン、例えばポリイソブチ
レンと無水コハク酸との縮合によって製造し、次いで得
られたポリオレフィンスクシネートのポリエトキシル化
によって製造することができる： この型の製品は例えばラブリゾール（Lubrizol）社によ
りOS149480の名称で市販されている。
【００１５】・（メタ）アクリル酸、Ｃ10-30アルキル
（メタ）アクリレート及びポリエチレングリコール（メ
タ）アクリレートのブロックターポリマー。 挙げることができるこの族の好ましいポリマーはアクリ
ル酸、Ｃ15アルキルアクリレート及びポリエチレングリ
コールアクリレート（２８ＥＯ）のターポリマーを含
み、例えばアクゾ（Akzo）社によりDapral（登録商標）
GE 202の名称で市販されている。本発明で使用するＵＶ
照射を吸収する少なくとも一つの基を含む不溶性有機化
合物は公知である。本発明の目的のために、“不溶性有
機化合物”という表現は、水への溶解性が０．１質量％
より小さくかつ多くの有機溶媒、例えば流動パラフィ
ン、脂肪アルキルベンゾエート及び脂肪酸トリグリセリ
ドに対する溶解性が１質量％より小さい有機化合物を意
味する。ＵＶ照射を吸収する少なくとも一つの基を含む
不溶性有機化合物を特に以下から選択することができ
る：オキサルアニリド、トリアジン、ベンゾトリアゾー
ル、ビニルアミド、シンナミド、ベンズアゾール、ベン
ゾフラン、アリールビニリデンケトン、アクリロニトリ
ルアミド、アクリロニトリルスルホンアミド、アクリロ
ニトリルカルバメート及びフェニレンビス（ベンズオキ
サジノン）型の不溶性有機ＵＶ遮蔽剤。
【００１６】オキサルアニリド型の不溶性ＵＶ遮蔽剤の
うち挙げることができるのは以下の式に対応するもので
ある： 式中、Ｔ1、Ｔ'1、Ｔ2及びＴ'2はそれぞれ独立にＣ1〜
Ｃ8アルキル基又はＣ1〜Ｃ8アルコキシ基を表す。これ
らの化合物は特許出願ＷＯ ９５／２２９５９に記載さ
れている。挙げることができる例は、チバガイギー（Ci
ba−Geigy）社が市販する市販品Tinuvin（登録商標）31
5及びTinuvin（登録商標）312を含み、これらは以下の
式にそれぞれ対応する：
【００１７】トリアジン型の不溶性遮蔽剤は以下の一般
式に対応する： 式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立にフェニル、フ
ェノキシ又はピロロ基を表し、これらの基は未置換であ
るか又はそれぞれ独立に１、２又は３の以下から選択す
る置換基を有する：−ＯＨ、Ｃ1-18アルキル、Ｃ1-18ア
ルコキシ、カルボキシ（Ｃ1-18アルキル）、Ｃ5〜Ｃ8シ
クロアルキル、メチルベンジリデンカンファー、−(Ｃ
Ｈ＝ＣＲ')n(ＣＯ)−ＯＲ4、式中Ｒ'は水素原子、シア
ノ基又は基ＣＯＯＲ4を表し、ここでＲ4＝Ｃ1-18アルキ
ル又はシンナミル、かつｎは０又は１である。これらの
化合物はＷＯ ９７／０３６４３、ＧＢ ２ ２８６ ７７
４、ＥＰ ７４３ ３０９、ＷＯ ９８／２２４４７、Ｇ
Ｂ ２ ３１９ ５２３及びＥＰ−Ａ−０ ７９０ ２４３
に記載されている。
【００１８】特に以下の化合物を挙げることができる： − ２，４，６−トリス(ジエチル４'−アミノベンザル
マロネート)−ｓ−トリアジン、 − ２，４，６−トリス(ジイソプロピル４'−アミノベ
ンザルマロネート)−ｓ−トリアジン、 − ２，４，６−トリス(ジメチル４'−アミノベンザル
マロネート)−ｓ−トリアジン、 − ２，４，６−トリス(エチルα−シアノ−４−アミ
ノシンナメート)−ｓ−トリアジン。 本発明で使用することができるトリアジン型のＵＶ遮蔽
剤のうち、ベンゾトリアゾール及び／又はベンゾチアゾ
ール基を有する不溶性のｓ−トリアジン誘導体、例えば
特許出願ＷＯ ９８／２５９２２に記載されているもの
を挙げることができる。これらの化合物のうち特に以下
を挙げることができる：２，４，６−トリス[(３'−ベ
ンゾトリアゾール−２−イル−２'−ヒドロキシ−５'−
メチル)フェニルアミノ]−ｓ−トリアジン及び２，４，
６−トリス[(３'−ベンゾトリアゾール−２−イル−２'
−ヒドロキシ−５'−ｔ−オクチル)フェニルアミノ]−
ｓ−トリアジン。
【００１９】挙げることができるベンゾトリアゾール型
の不溶性有機ＵＶ遮蔽剤は以下の式（III）のものであ
り、例えば国際特許出願ＷＯ ９５／２２９５９に記載
されている： 式中、Ｒ5は水素原子又はＣ1-18アルキル基を意味し、
Ｒ6及びＲ7は同一又は異なることができ、それぞれ独立
に、任意にフェニル基で置換されたＣ1-18アルキル基を
意味する。
【００２０】挙げることができる式（III）の化合物の
例は、チバ ガイギー（Ciba−Geigy）社の市販品である
Tinuvin（登録商標）328、320、234及び350を含み、そ
れぞれ以下の式に相当する：
【００２１】挙げることができるベンゾトリアゾール型
の不溶性有機ＵＶ遮蔽剤は米国特許ＵＳ５，６８７，５
２１、ＵＳ５，３７３，０３７及びＵＳ５，３６２，８
８１に記載された化合物であり、特にこれらのうち以下
の式の[２，４'−ジヒドロキシ−３−(２Ｈ−ベンゾト
リアゾール−２−イル)−５−(１，１，３，３−テトラ
メチルブチル)−２'−ｎ−オクトキシ−５'−ベンゾイ
ル]ジフェニルメタンを挙げることができる： これはフェアモント ケミカル（Fairmount Chemical）
社によりMixxim（登録商標）PB30の名称で市販されてい
る。
【００２２】他のベンゾトリアゾール型の不溶性有機Ｕ
Ｖ遮蔽剤は以下の構造のメチレンビス（ヒドロキシフェ
ニルベンゾトリアゾール）誘導体である： 式中、Ｒ8及びＲ9は同一又は異なることができ、それぞ
れＣ1-4アルキル、Ｃ5 -12シクロアルキル又はアリール
から選択する一又は複数の基で置換されていてもよいＣ
1-18アルキル基を表す。これらの化合物は公知であり、
特許出願ＵＳ５，２３７，０７１、ＵＳ ５，１６６，
３５５，ＧＢ−Ａ−２ ３０３ ５４９、ＤＥ １９７ ２
６ １８４及びＥＰ−Ａ−８９３ １１９に記載されてい
る。上記の式（IV）において、Ｃ1-18アルキル基は直鎖
又は分岐していてもよく、例えばメチル、エチル、ｎ−
プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ
−ブチル、ｔ−オクチル、ｎ−アミル、ｎ−ヘキシル、
ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、ｎ−ノニ
ル、ｎ−デシル、ｎ−ウンデシル、ｎ−ドデシル、テト
ラデシル、ヘキサデシル又はオクタデシルであり；Ｃ５
−１２シクロアルキル基は、例えばシクロペンチル、シ
クロヘキシル又はシクロオクチルであり；アリール基
は、例えばフェニル又はベンジルである。
【００２３】式（IV）の化合物のうち特に好ましいのは
以下の式に相当するものである： 化合物（ａ）２，２'−メチレンビス[６−(２Ｈ−ベン
ゾトリアゾール−２−イル)−４−(１，１，３，３−テ
トラメチルブチル)フェノール)]は、フェアモント ケミ
カル（Fairmount Chemical）社によりMixxim（登録商
標）BB/100の名称で純粋な形態で、チバガイギー（Ciba
−Geigy）によりTinosorub（登録商標）Mの名称で微小
化した形態で市販されている。化合物（ｃ）２，２'−
メチレンビス[６−(２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イ
ル)−４−(メチルフェノール)]は、フェアモント ケミ
カル（Fairmount Chemical）社によりMixxim（登録商
標）BB/200の名称で市販されている。
【００２４】ビニルアミド型の不溶性有機遮蔽剤のうち
挙げることができるものは、例えば以下の式（Ｖ）の化
合物であり、特許出願ＷＯ ９５／２２９５９に記載さ
れている： Ｔ3−(Ｙ)r−Ｃ(＝Ｏ)−Ｃ(Ｔ4)＝Ｃ(Ｔ5)−Ｎ(Ｔ6)(Ｔ7) （Ｖ） 式中、Ｔ3はＣ1-18、好ましくはＣ1-5アルキル基、又は
ＯＨ、Ｃ1-18アルキル、Ｃ1-8アルコキシ又は−Ｃ(＝
Ｏ)−ＯＴ8（式中Ｔ8はＣ1-18アルキル基を表す）から
選択する１、２又は３の基で任意に置換されたフェニル
基であり；Ｔ4、Ｔ5、Ｔ6及びＴ7はそれぞれ独立にＣ
1-18、好ましくはＣ1-5アルキル基又は水素原子を表
し；Ｙは−ＮＨ−基又は酸素原子を表し、かつｒは０又
は１である。これらの化合物のうち特に挙げられるのは
以下のものである：４−オクチルアミノ−３−ペンテン
−２−オン；エチル３−オクチルアミノ−２−ブテノエ
ート；３−オクチルアミノ−１−フェニル−２−ブテン
−１−オン；３−ドデシルアミノ−１−フェニル−２−
ブテン−１−オン。
【００２５】シンナミド型の有機遮蔽剤のうち挙げるこ
とができるのは特許出願ＷＯ ９５／２２９５９に記載
されているものであり、以下の式に対応する： 式中、Ｒ10は水素原子又はＣ1-4アルキル基、好ましく
はメチル又はエチルを表し、Ｒ11は水素原子又はＣ1-4
アルキル基、好ましくはメチル又はエチルを表し、Ｒ12
は基−(ＣＯＮＨ)s−フェニルを表し、式中ｓは０又は
１であり、フェニル基は、ＯＨ、Ｃ1-18アルキル、Ｃ
1-8アルコキシ又は−Ｃ(＝Ｏ)−ＯＲ13（式中Ｒ13はＣ
1-18アルキルである）から選択する１、２又は３の基で
置換されていてもよいフェニル基を表し、好ましくはＲ
12はフェニル、４−メトキシフェニル又はフェニルアミ
ノカルボニル基を表す。
【００２６】以下の構造の、例えばＵＳ ５，８８８，
４８１に記載されているビス[α，βジ置換シンナミド]
ダイマーも挙げることができる： 式中、Ａｒ1及びＡｒ2は、同一又は異なることができ、
それぞれフェニル基、芳香ヘテロ環、縮合フェニル核を
含む基又は縮合芳香ヘテロ環を含む基を表し、一又は複
数の同一又は異なる置換基を有することができ、Ｂ及び
Ｄは水素原子以外であり、それぞれ独立に有機基を表
し、Ａ及びＣはそれぞれ独立に有機基を表し、かつＥは
２価の有機基を表し、ただし、Ａｒ1及びＡｒ2が共に置
換基−ＯＲ（式中Ｒは水素原子又は有機基を表す）を有
するフェニル基を表す化合物、Ａ及びＣが共にシアノ基
を表す化合物、Ｂ及びＤが共にＣ1-35アルキル又はアル
ケニル基を表す化合物、及びＥが２価の有機基を表す化
合物を除く、特に以下の化合物である：
【００２７】ベンズアゾール型の不溶性有機遮蔽剤のう
ち挙げることができるのは以下の式の一つに相当するも
のである： 式中、記号Ｙのそれぞれは独立に酸素又は硫黄原子又は
基ＮＲ15を表し、記号Ｚのそれぞれは独立に窒素原子又
はＣＨ基を表し、記号Ｒ14のそれぞれは独立にＯＨ基、
ハロゲン原子、任意にケイ素原子を含む直鎖又は分岐し
たＣ1-8アルキル基、又は直鎖又は分岐したＣ1-8アルコ
キシ基を表し、数ｍのそれぞれは独立に０、１又は２で
あり、ｎは両端を含む１〜４の整数であり、ｐは０又は
１であり、数ｑのそれぞれは独立に０又は１であり、記
号Ｒ15のぞれぞれは独立に水素原子、ベンジル基又は任
意にケイ素原子を含む直鎖又は分岐したＣ1-8アルキル
基を意味し、
【００２８】Ａは以下の式から選択する価数ｎの基を表
し： 式中、記号Ｒ16のそれぞれは独立にハロゲン原子又は直
鎖又は分岐したＣ1-4アルキル又はアルコキシ基、又は
ヒドロキシルを表し、Ｒ17は水素原子又は直鎖又は分岐
したＣ1-4アルキル基を表し、ｃ＝０〜４、ｄ＝０〜
３、ｅ＝０又は１、かつｆ＝０〜２である。
【００２９】これらの化合物は特に特許ＤＥ ６７６ １
０３及びＣＨ ３５０ ７６３、特許ＵＳ ５，５０１，
８５０、特許ＵＳ ５，９６１，９６０、特許出願ＥＰ
０ ６６９ ３２３、特許ＵＳ ５，５１８，７１３、特
許ＵＳ ２，４６３，２６４、論文J. Am. Chem. Soc.,
79, 5706-5708, 1957、J. Am. Chem. Soc., 82, 609-61
1, 1960に公表された論文、特許出願ＥＰ ０ ９２１ １
２６及び特許出願ＥＰ０ ７１２ ８５５に記載されてい
る。２−アリールベンズアゾール族の式（VIII）の好ま
しい化合物の例として、２−ベンゾキサゾール−２−イ
ル−４−メチルフェノール、２−(１Ｈ−ベンズイミダ
ゾール−２−イル)−４−メトキシフェノール又は２−
ベンゾチアゾール−２−イルフェノールを挙げることが
でき、これらの化合物は例えば特許ＣＨ ３５０ ７６３
に記載された方法に従って製造することができる。
【００３０】式（VIII）のベンズイミダゾリルベンズア
ゾール族の好ましい化合物の例として以下を挙げること
ができる：２，２'−ビス(ベンズイミダゾール)、５，
５'，６，６'−テトラメチル−２，２'−ビス(ベンズイ
ミダゾール)、５，５'−ジメチル−２，２'−ビス(ベン
ズイミダゾール)、６−メトキシ−２，２'−ビス(ベン
ズイミダゾール)、２−(１Ｈ−ベンズイミダゾール−２
−イル)ベンゾチアゾール、２−(１Ｈ−ベンズイミダゾ
ール−２−イル)ベンズオキサゾール及びＮ，Ｎ'−ジメ
チル−２，２'−ビス(ベンズイミダゾール)、これらの
化合物は特許ＵＳ ５，９６１，９６０及びＵＳ ２，４
６３，２６４に記載された手順に従って製造することが
できる。式（VIII）のフェニレンベンズアゾール族の好
ましい化合物の例として以下を挙げることができる：
１，４−フェニレンビス(２−ベンズオキサゾリル)、
１，４−フェニレンビス(２−ベンズイミダゾリル)、
１，３−フェニレンビス(２−ベンズオキサゾリル)、
１，２−フェニレンビス(２−ベンズオキサゾリル)、
１，２−フェニレンビス(ベンズイミダゾリル)、１，４
−フェニレンビス(Ｎ−２−エチルヘキシル−２−ベン
ズイミダゾリル) 及び１，４−フェニレンビス(Ｎ−ト
リメチルシリルメチル−２−ベンズイミダゾリル)、こ
れらの化合物を特許ＵＳ ２，４６３，２６４及び刊行
物J. Am. Chem. Soc., 82, 609 (1960)及びJ.Am. Chem.
Soc., 79, 5706-5708 (1957)に記載された手順に従っ
て製造することができる。
【００３１】ベンゾフラニルベンゾキサゾール族の式
（VIII）の好ましい化合物の例として以下を挙げること
ができる：２−(２−ベンゾフラニル)ベンゾキサゾー
ル、２−(ベンゾフラニル)−５−メチルベンゾキサゾー
ル及び２−(３−メチル−２−ベンゾフラニル)ベンゾキ
サゾール、これらの化合物を特許ＵＳ ５，５１８，７
１３に記載された手順に従って製造することができる。
挙げることができる式（IX）の好ましい化合物は例えば
以下を含む：以下の式に対応する２，６−ジフェニル−
１，７−ジヒドロベンゾ[１，２−ｄ；４，５−ｄ']ジ
イミダゾール： 又は２，６−ジスチリル−１，７−ジヒドロベンゾ
[１，２−ｄ；４，５−ｄ']ジイミダゾール又は２，６
−ジ(ｐ−ｔ−ブチルスチリル)−１，７−ジヒドロベン
ゾ[１，２−ｄ；４，５−ｄ']ジイミダゾール、これら
を特許出願ＥＰ ０ ６６９ ３２３に記載された方法に
従って製造することができる。
【００３２】挙げることができる式（Ｘ）の好ましい化
合物は以下の式の５，５'−ビス[(２−フェニル)ベンズ
イミダゾール]である： この製造はJ. Chim. Phys., 64, 1602 (1967)に記載さ
れている。ＵＶ照射を遮蔽するこれらの不溶性有機化合
物のうち最も好ましいのは以下の化合物である：２−
(１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル)ベンゾキサゾー
ル、６−メトキシ２，２'−ビス(ベンズイミダゾー
ル)、２−(１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル)ベン
ゾチアゾール、１，４−フェニレンビス(２−ベンゾキ
サゾリル)、１，４−フェニレンビス(２−ベンズイミダ
ゾリル)、１，３−フェニレンビス(２−ベンゾキサゾリ
ル)、１，２−フェニレンビス(２−ベンゾキサゾリ
ル)、１，２−フェニレンビス(２−ベンズイミダゾリ
ル)及び１，４−フェニレンビス(Ｎ−トリメチルシリル
メチル−２−ベンズイミダゾリル)。
【００３３】不溶性遮蔽剤の他の族は、以下の式（XI）
及び（XII）に対応するものから選択するアリールビニ
レンケトンである： 式中：ｎ＝１又は２、Ａは、ｎ＝１のとき式（XI）にお
いて又は式（XII）において以下の式（ａ）〜（ｄ）か
ら選択するアリール基であり、又はｎ＝２のとき式（X
I）において以下の式（ｅ）〜（ｈ）から選択する基で
あり：
【００３４】式中：それぞれの記号Ｒ4は独立してＯＨ
基、ハロゲン原子、任意にケイ素原子を含む直鎖又は分
岐したＣ1-6アルキル基、任意にケイ素原子を含む直鎖
又は分岐したＣ1-6アルコキシ基、直鎖又は分岐したＣ
1-5アルコキシカルボニル基、又は任意にケイ素原子を
含む直鎖又は分岐したＣ1-6アルキルスルホンアミド基
又はアミノ酸官能基を表し、ｐは両端を含む０〜４の整
数を表し、ｑは０又は１を表し、Ｒ1は水素又はＯＨ基
を表し、Ｒ2は水素、任意にケイ素原子を含む直鎖又は
分岐したＣ1-6アルキル基、シアノ基、Ｃ1-6アルキルス
ルホニル基又はフェニルスルホニル基を表し、Ｒ3は任
意にケイ素原子を含む直鎖又は分岐したＣ1-6アルキル
基又は２環式基を形成することができかつ任意に１又は
２の基Ｒ4で置換されたフェニル基を表し、又はＲ2とＲ
3は一緒になって１環式、２環式又は３環式Ｃ2-10炭化
水素ベースの残基を形成し、任意に一又は複数の窒素、
硫黄及び酸素原子で中断されかつ他のカルボニルを含む
ことができ、及び任意に直鎖又は分岐したＣ1〜Ｃ8アル
キルスルホンアミド基で置換され、任意にケイ素原子又
はアミノ酸官能基を含み；ただし、ｎ＝１のときＲ2と
Ｒ3はカンファー環を形成しない。
【００３５】ＵＶ照射を遮蔽するｎ＝１における式（X
I）の不溶性化合物の例として、以下の族を挙げること
ができる：− スチリルケトン（花王 ＪＰ ０４ １３
４０４２）、例えば１−(３，４−ジメトキシフェニル)
−４，４−ジメチルペント−１−エン−３−オン： − ベンジリデンシネオール（E. Mariani他, 16th IFS
CC Congress, New York (1990)）、例えば１，３，３−
トリメチル−５−(４−メトキシベンジリデン)−２−オ
キサビシクロ[２．２．２]オクタン−６−オン：
【００３６】− ベンジリデンクロマノン（花王 ＪＰ
０４ １３４０４３）、例えば３−(４−メトキシベンジ
リデン)−２，３，４ａ，８ａ−テトラヒドロクロメン
−４−オン： − ベンジリデンチオクロマノン（花王 ＪＰ ０４ １
３４０４３）、例えば３−(４−メトキシベンジリデン)
−２，３，４ａ，８ａ−テトラヒドロクロメン−４−チ
オン： − ベンジリデンキヌクリジノン（Merck ＥＰ ０ ５７
６ ９７４）、例えば４−メトキシベンジリデン−１−
アザビシクロ[２．２．２]オクタン−３−オン：
【００３７】− ベンジリデンシクロアルカノン（Henk
el ＦＲ ２ ３９５ ０２３）、例えば２−(４−メトキ
シベンジリデン)シクロペンタノン及び２−(４−メトキ
シベンジリデン)シクロヘキサノン： − ベンジリデンヒダントイン（味の素 ＪＰ ０１ １
５８０９０）、例えば５−(３，４−ジメトキシベンジ
リデン)イミダゾリジン−２，４−ジオン： − ベンジリデンインダノン（花王 ＪＰ ０４ １３４
０４３）、例えば２−(４−メトキシベンジリデン)イン
ダン−１−オン：
【００３８】− ベンジリデンテトラロン（花王 ＪＰ
０４ １３４０４３）、例えば２−(４−メトキシベンジ
リデン)−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ナフタレン−１−
オン： − ベンジリデンフラノン（L'Oreal ＥＰ ０ ３９０
６８３）、例えば４−(４−メトキシベンジリデン)−
２，２，５，５−テトラメチルジヒドロフラン−３−オ
ン： − ベンジリデンベンゾフラノン（花王 ＪＰ ０４ １
３４０４１）、例えば２−ベンジリデンベンゾフラン−
３−オン：
【００３９】− ベンジリデンインダンジオン、例えば
２−(３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジ
リデン)インダン−１，３−ジオン： − ベンジリデンベンゾチオフラノン（花王 ＪＰ ０４
１３４０４３）、例えば２−ベンジリデンベンゾ[ｂ]
チオフェン−３−オン： − ベンジリデンバルビツール酸、例えば５−(４−メ
トキシベンジリデン)−１，３−ジメチルピリミジン−
２，４，６−トリオン：
【００４０】− ベンジリデンピラゾロン、例えば４−
(４−メトキシベンジリデン)−５−メチル−２−フェニ
ル−２，４−ジヒドロピラゾール−３−オン： − ベンジリデンイミダゾロン、例えば５−(４−メト
キシベンジリデン)−２−フェニル−３，５−ジヒドロ
イミダゾール−４−オン： − カルコン、例えば１−(２−ヒドロキシ−４−メト
キシフェニル)−３−フェニルプロペノン：
【００４１】− ベンジリデンオン（ジベンゾイルメタ
ンの遮蔽性互変異性体；L'Oreal ＦＲ ２ ５０６ １５
６）、例えば３−ヒドロキシ−１−(２−ヒドロキシ−
４−メトキシフェニル)−３−フェニルプロペノン： ＵＶ照射を遮蔽するｎ＝２である式（XI）の不溶性化合
物の例として、以下の族を挙げることができる：− フ
ェニレンビス（メチリデン−ノル−カンファー）（Merc
k ＥＰ ０ ６９３ ４７１）、例えば１，４−フェニレ
ンビス｛３−メチリデンビシクロ[２．２．１]ヘプタン
−２−オン｝： − フェニレンビス（メチリデンカンファー）（L'Orea
l ＦＲ ２ ５２８ ４２０）、例えば１，４−フェニレ
ンビス｛３−メチリデン−１，７，７−トリメチルビシ
クロ[２．２．１]ヘプタン−２−オン｝： 又は１，３−フェニレンビス｛３−メチリデン−１，
７，７−トリメチルビシクロ[２．２．１]ヘプタン−２
−オン｝：
【００４２】− フェニレンビス（メチリデンカンファ
ースルホンアミド）（L'Oreal ＦＲ２ ５２９ ８８
７）、例えばエチル又は２−エチルヘキシル１，４−フ
ェニレンビス(３，３'−メチリデンカンファー−１０，
１０'−スルホンアミド)： 又は − フェニレンビス（メチリデンシネオール）（E. Mar
iani他, 16th IFSCC Congress, New York (1990)）、例
えば１，４−フェニレンビス｛５−メチリデン−３，３
−ジメチル−２−オキサビシクロ[２．２．２]オクタン
−６−オン｝：
【００４３】− フェニレンビス（メチリデンケトトリ
シクロデカン）（Merck ＥＰ ０ ６９４ ５２１）、例
えば１，４−フェニレンビス(オクタヒドロ−４，７−
メタノ−６−インデン−５−オン)： − フェニレンビス（アルキレンケトン）（花王 ＪＰ
０４ １３４０４１）、例えば１，４−フェニレンビス
(４，４−ジメチルペント−１−エン−３−オン)： − フェニレンビス（メチリデンフラノン）（L'Oreal
ＥＰ ２ ６３８ ３５４）、例えば１，４−フェニレン
ビス(４−メチリデン−２，２，５，５−テトラメチル
ジヒドロフラン−３−オン)：
【００４４】− フェニレンビス（メチリデンキヌクリ
ジノン）（Merck ＥＰ ０ ７１４８８０）、例えば
１，４−フェニレンビス｛２−メチリデン−１−アザビ
シクロ[２．２．２]オクタン−３−オン｝： 挙げることができる式（XII）の化合物の例は以下の族
を含む：− ビス（ベンジリデン）シクロアルカノン、
例えば２，５−ジベンジリデンシクロペンタノン： − γ−ピロン（花王 ＪＰ ０４ ２９０８８２）、例
えば２，６−ビス(３，４−ジメトキシフェニル)ピラン
−４−オン：
【００４５】本発明で使用することができる不溶性遮蔽
剤の他の族はアクリルニトリルアミド、スルホンアミド
及びカルバメート誘導体であり、以下の式に対応する： 式中、Ｘ2は式−(Ｃ＝Ｏ)−Ｒ'3−(Ｃ＝Ｏ)−、−ＳＯ2
−Ｒ"3−ＳＯ2−又は−(Ｃ＝Ｏ)−Ｏ−Ｒ"3−Ｏ−(Ｃ＝
Ｏ)−の２価の基を表し、Ｙは基−(Ｃ＝Ｏ)−Ｒ4又は−
ＳＯ2Ｒ5を表し、Ｒ2は直鎖又は分岐したＣ1-8アルキル
基を表し、ｎは０、１又は２であり、Ｒ'3は単結合又は
Ｒ"3を表し、Ｒ"3は直鎖又は分岐したＣ1-30の２価アル
キレン基又は直鎖又は分岐したＣ3- 30の２価アルケニレ
ン基を表し、これらの基は一又は複数のヒドロキシル置
換基を有することができかつ炭素をベースとする鎖中に
一又は複数の酸素、窒素及びケイ素原子から選択するヘ
テロ原子を含むことができ、Ｒ4は基−ＯＲ6又は−ＮＨ
Ｒ6を表し、Ｒ5は直鎖又は分岐したＣ1-30アルキル基又
はＣ1-4アルキル若しくはアルコキシ基で置換されてい
てもよいフェニル核を表し、Ｒ6は直鎖又は分岐したＣ
1-30アルキル又はＣ3-30アルケニル基を表し、これらの
基は一又は複数のヒドロキシル置換基を有することがで
きかつ炭素をベースとする鎖中に一又は複数の酸素、窒
素及びケイ素原子から選択するヘテロ原子を含むことが
できる。
【００４６】上記の式（XIII）において、パラ−アミノ
フェニル置換基に対してcis位にシアノ置換基がある異
性体のみが記載されているが、この式は二つの二重結合
について対応するtrans異性体をも含み、かつ、独立に
シアノ基とパラ−アミノフェノール置換基は相互に関し
てcis又はtrans配置にあってもよいことを理解すべきで
ある。本発明に従って使用することができる不溶性有機
遮蔽剤の他の族は以下の式のフェニレンビス（ベンズオ
キサジノン）誘導体から成る： 式中、Ｒは以下の式（ｅ）〜（ｈ）から選択する２価芳
香族残基を表す： 式中：それぞれの記号Ｒ4は独立してＯＨ基、ハロゲン
原子、任意にケイ素原子を含む直鎖又は分岐したＣ1-6
アルキル基、任意にケイ素原子を含む直鎖又は分岐した
Ｃ1-6アルコキシ基、直鎖又は分岐したＣ1-5アルコキシ
カルボニル基、又は任意にケイ素原子を含む直鎖又は分
岐したＣ1-6アルキルスルホンアミド基又はアミノ酸官
能基を表し、ｐは両端を含む０〜４の整数を表し、ｑは
０又は１を表す。
【００４７】挙げることができるＵＶ照射を遮蔽する式
（XIV）の不溶性化合物の例は、以下の誘導体を含む：
２，２'−ｐ−フェニレンビス(３，１−ベンゾキサジン
−４−オン)、サイテック（Cytec）社からの市販品Cyas
orb（登録商標）UV-3638、２，２'−(４，４'−ビフェ
ニレン)ビス(３，１−ベンゾキサジン−４−オン)、
２，２'−(２，６−ナフチレン)ビス(３，１−ベンゾキ
サジン−４−オン)。不溶性有機遮蔽剤の他の特定の族
は、スルホン化した又はカルボキシル化した有機遮蔽剤
の多価金属塩（例えばＣａ2+、Ｚｎ2+、Ｍｇ2+、Ｂ
ａ2+、Ａｌ3+又はＺｒ4+）、例えば特許出願ＦＲ−Ａ−
２ ６３９ ３４７に記載されているスルホン化したベン
ジリデンカンファー誘導体の多価金属塩、特許出願ＥＰ
−Ａ−８９３ １１９に記載されているスルホン化した
ベンズイミダゾール誘導体の多価金属塩、及び例えば特
許出願ＪＰ ８７ １６６５１７に記載されているケイヒ
酸誘導体の多価金属塩である。ＵＶ−Ａ及び／又はＵＶ
−Ｂ有機遮蔽剤の金属又はアンモニウム又は置換アンモ
ニウム複合体も挙げることができ、これらは例えば特許
出願ＷＯ ９３／１０７５３、ＷＯ ９３／１１０９５及
びＷＯ ９５／０５１５０に記載されている。
【００４８】上記の両親媒性コポリマーを使用して安定
化することを提案している不溶性有機ＵＶ遮蔽剤の分散
物は、好ましくは水性分散物であり、すなわち水が液状
分散媒の全て又はほとんどを構成している。これらは好
ましくは５質量％〜７０質量％、特に３０質量％〜５０
質量％のＵＶ照射を吸収する少なくとも一つの基を含む
不溶性有機化合物の粒子を含む。上記したように、ＵＶ
照射を吸収する少なくとも一つの基を含む不溶性有機化
合物の平均粒径は１０nm〜５μmである。ＵＶ照射を吸
収する少なくとも一つの基を含む不溶性有機化合物の平
均粒径は、好ましくは１０nm〜２μm、特に２０nm〜
１．５μm、理想的には３０nm〜１．０μmである。一般
に、平均粒径は数平均直径分布に対応する。平均粒径を
標準的な何れの方法によっても測定することができ、例
えば光学的方法（準弾性散乱又はレーザー散乱）、遠心
法又は顕微可視化法及び映像分析法によって行うことが
できる。安定性及び持続性の満足すべき特性を得るのに
必要な両親媒性コポリマーの量は特に両親媒性コポリマ
ーの性質、及び安定化すべき不溶性有機ＵＶ遮蔽剤の粒
子の性質、濃度、大きさ及び比表面積に依存する。
【００４９】少なくとも一つの親水性ブロックと少なく
とも一つの疎水性ブロックを含む両親媒性コポリマーの
ある量を使用して、本発明の不溶性有機ＵＶ遮蔽剤の分
散物を十分に安定化させることが、ＵＶ照射を吸収する
少なくとも一つの基を含む不溶性有機化合物の粒子の表
面積が１〜１０mg／m2、好ましくは１〜５mg／m2である
ことによって可能であることが分かった。本発明の主題
は、ＵＶ照射を吸収する少なくとも一つの基を含む不溶
性有機化合物の分散物を製造する方法でもある。本方法
は、液体媒体中に懸濁させた該有機化合物の粒子に対し
て平均粒径１０nm〜５μmが得られるまで粒径減少化工
程を行い、かつ粒径減少化工程の前、その際又はその後
で、少なくとも一つの親水性ブロックと少なくとも一つ
の疎水性ブロックを含む少なくとも一つの両親媒性コポ
リマー、例えば上記したものを添加する工程より成る。
本発明の分散物を製造する方法における粒径減少工程
を、全ての適切な手段、例えば溶媒媒体中での乾燥粉砕
又は粉砕、選別、細分化、微小化、スプレー又はいずれ
かの化学的方法、例えば乳化又は希釈による沈殿により
行うことができる。本発明の方法の好ましい態様に従う
と、粒径減少工程は水性媒体中での粉砕操作である。
【００５０】粉砕工程の後で両親媒性コポリマーを単独
で添加することが可能であるが、好ましい態様は両親媒
性コポリマーを粉砕の前にプレミックスへ添加すること
を含み、すなわち液体媒体中の粗い粒子の懸濁物へ添加
すること又は粉砕工程中に添加することを含む。不溶性
有機遮蔽剤を粉砕して粒径を減少する方法の一つの例が
文献ＷＯ ９５／２２９５９及びＷＯ ９７／０３６４３
に記載されている。これらの文献で使用される粉砕装置
はジェットミル、ボールミル、振動ミル又はハンマーミ
ルであり、好ましくは高回転速度ミル又は衝撃ミルであ
り、特にロータリーボールミル、振動ミル、チューブミ
ル又はロッドミルである。本発明の主題は、ＵＶ照射を
吸収する少なくとも一つの基を含む不溶性有機化合物の
粒子の分散物でもあり、これは上記の方法で製造され、
少なくとも一つの親水性ブロックと少なくとも一つの疎
水性ブロックを含む両親媒性のコポリマーの特定の群か
ら選択した分散剤を含み、さらに局所に適用する化粧組
成物、特に皮膚及び／又は毛髪の保護を意図した組成物
であって化粧品として受容可能な媒体中に分散したそれ
を希釈して製造するものでもある。
【００５１】両親媒性コポリマーの特定の群は以下を含
む： ・以下の式のポリアルコキシル化した脂肪族アルコー
ル： Ｈ2n+1Ｃn(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)x(ＣＨ2ＣＨ(ＣＨ3)Ｏ)y(ＣＨ
(ＣＨ3)ＣＨ2Ｏ)zＨ 式中、ｎは５〜２０、好ましくは７〜１９の整数であ
り、ｘは２〜２０、好ましくは４〜１０の整数であり、
ｙは２〜２０、好ましくは４〜１０の整数であり、ｙ＋
ｚの合計は２〜２０、好ましくは２〜２０の整数であ
る。 ・以下の式のエチレンオキシドとプロピレンオキシドの
トリブロックコポリマー： ＨＯ(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)a(ＣＨ2ＣＨ(ＣＨ3)Ｏ)b(ＣＨ2ＣＨ
2Ｏ)cＨ 式中、ａは２〜１５０の整数を表し、ｂは１０〜８０の
整数を表し、かつｃは２〜１５０の整数を表し；・以下
の式に相当するエチレンオキシドとプロピレンオキシド
のブロックコポリマーとエチレンジアミンとの縮合生成
物：
【００５２】・スチレンとエチレンオキシドのブロック
コポリマー、 ・ポリアルコキシル化したポリオレフィンスクシネー
ト、特に以下の式のポリエトキシル化したポリイソブチ
レンスクシネート： 式中、ＰＩＢはポリイソブチレン鎖を表し、ｎは２〜１
５、好ましくは７〜１０の整数を表し、ｍは２〜１５、
好ましくは２〜６の整数を表す。 ・（メタ）アクリル酸、Ｃ10-30アルキル（メタ）アク
リレート及びポリエチレングリコール（メタ）アクリレ
ートのブロックターポリマー。 ＵＶ照射を吸収する少なくとも一つの基を含む不溶性有
機化合物、これらの遮蔽剤の平均粒径及びこれらを安定
化するのに使用する両親媒性コポリマーの量は、先に特
定したものと同一である。化粧品として受容可能な媒体
で希釈して得られる本発明の化粧組成物は、好ましくは
ＵＶ照射を吸収する少なくとも一つの基を含む不溶性有
機化合物の粒子を０．１質量％〜１５質量％、特に０．
２質量％〜１０質量％含む。本発明の組成物はさらに、
ＵＶ−Ａ及び／又はＵＶ−Ｂ範囲で活性な一又は複数の
水溶性又は脂溶性有機日焼け止め剤を含むこともでき
る。
【００５３】これらの水溶性又は脂溶性日焼け止め剤を
特に以下から選択することができる：ケイヒ酸誘導体、
ジベンゾイルメタン誘導体、サリチル酸誘導体、ベンジ
リデンカンファー誘導体、可溶性トリアジン誘導体、例
えば以下の特許又は特許出願に記載されているもの：Ｕ
Ｓ ４，３６７，３９０、ＥＰ ０ ８６３ １４５、ＥＰ
０ ５１７ １０４、ＥＰ ０ ５７０ ８３８、ＥＰ ０
７９６ ８５１、ＥＰ０ ７７５ ６９８、ＥＰ ０ ８７
８ ４６９、ＥＰ ０ ９３３ ３７６、ＥＰ ０５０７ ６
９１、ＥＰ ０ ５０７ ６９２、ＥＰ ０ ７９０ ２４
３、ＥＰ ０ ９４４ ６２４及びＵＳ ４，７２４，１３
７；ベンゾフェノン誘導体；β，β'−ジフェニルアク
リレート誘導体；フェニルベンズイミダゾール誘導体；
アントラニル酸誘導体；イミダゾリン誘導体；ｐ−アミ
ノ安息香酸誘導体；遮蔽性の炭化水素をベースとするポ
リマー及び遮蔽性のシリコーン、例えば特に特許出願Ｗ
Ｏ９３／０４６６５に記載されているもの；特許出願Ｄ
Ｅ １９８ ５５ ６４９に記載されているα−アルキル
スチレンから誘導したダイマー；及びこれらの遮蔽剤の
混合物。
【００５４】ＵＶ−Ａ及び／又はＵＶ−Ｂ範囲で活性な
追加の水溶性又は脂溶性遮蔽剤の例として、以下の化合
物をＩＮＣＩ名で示して挙げることができ、さらにそれ
らの混合物も挙げることができる：ｐ−アミノ安息香酸誘導体： − ＰＡＢＡ、 − エチルＰＡＢＡ、 − エチルジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ、 − エチルヘキシルジメチルＰＡＢＡ、特にISPにより
“Escalol 507”の商品名で市販されているもの、 − グリセリルＰＡＢＡ、 − ＰＥＧ−２５ＰＡＢＡ、BASFにより“Uvinul P25”
の商品名で市販されているもの、サリチル酸誘導体： − Rona／EM工業（Rona／EM Industries）により“Eus
olex HMS”の商品名で市販されているホモサレート、 − ハーマン アンド ライマー（Haarmann and Reime
r）により“Neo Heliopan OS”の商品名で市販されてい
るエチルヘキシルサリチレート、 − シェール（Scher）により“Dipasl”の商品名で市
販されているジプロピレングリコールサリチレート、 − ハーマン アンド ライマー（Haarmann and Reime
r）により“Neo Heliopan TS”の商品名で市販されてい
るＴＥＡサリチレート、
【００５５】ジベンゾイルメタン誘導体： − ホフマン ラロッシュ（Hoffmann LaRoche）により
特に“Parsol 1789”の商品名で市販されているブチル
メトキシジベンゾイルメタン、 − イソプロピルジベンゾイルメタン、ケイヒ酸誘導体： − ホフマン ラロッシュ（Hoffmann LaRoche）により
特に“Parsol MCX”の商品名で市販されているエチルヘ
キシルメトキシシンナメート、 − イソプロピルメトキシシンナメート、 − ハーマン アンド ライマー（Haarmann and Reime
r）により“Neo Heliopan E 1000”の商品名で市販され
ているイソアミルメトキシシンナメート、 − シノキセート（Cinoxate）、 − ＤＥＡメトキシシンナメート、 − ジイソプロピルメチルシンナメート、 − グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナ
メート、β，β'−ジフェニルアクリレート誘導体： − BASFにより特に“Uvinul-539”の商品名で市販され
ているオクトクリレン（octocrylene）、
【００５６】ベンゾフェノン誘導体： − BASFにより“Uvinul 400”の商品名で市販されてい
るベンゾフェノン−１、 − BASFにより“Uvinul D50”の商品名で市販されてい
るベンゾフェノン−２、 − BASFにより“Uvinul M-40”の商品名で市販されて
いるベンゾフェノン−３又はオキシベンゾン、 − BASFにより“Uvinul MS-40”の商品名で市販されて
いるベンゾフェノン−４、 − ベンゾフェノン−５ − ノルケイ（Norquay）により“Helisorb 11”の商品
名で市販されているベンゾフェノン−６、 − アメリカン シアナミド（American Cyanamid）によ
り“Spectra-Sorb UV-24”の商品名で市販されているベ
ンゾフェノン−８、 − BASFにより“Uvinul DS-49”の商品名で市販されて
いるベンゾフェノン−９、 − ベンゾフェノン−１２、ベンジリデンカンファー誘導体： − シメックス（Chimex）により“Mexoryl SL”の名称
で製造されているベンジリデンカンファースルホン酸、 − シメックス（Chimex）により“Mexoryl SO”の名称
で製造されているカンファーベンザルコニウムメトスル
フェート、 − シメックス（Chimex）により“Mexoryl SX”の名称
で製造されているテレフタリリデンジカンファースルホ
ン酸、 − シメックス（Chimex）により“Mexoryl SW”の名称
で製造されているポリアクリルアミドメチルベンジリデ
ンカンファー、
【００５７】フェニルベンズイミダゾール誘導体： − メルク（Merck）により特に“Eusolex 232”の商品
名で市販されているフェニルベンズイミダゾールスルホ
ン酸、 − ハーマン アンド ライマー（Haarmann and Reime
r）により“Neo Heliopan AP”の商品名で市販されてい
るベンズイミダジレート、トリアジン誘導体： − チバ ガイギー（Ciba−Geigy）により“Tinosorb
S”の商品名で市販されているアニソトリアジン、 − BASFにより特に“Uvinul T150”の商品名で市販さ
れているエチルヘキシルトリアゾン、 − シグマ（Sigma）3Vにより“Uvasorb HEB”の商品名
で市販されているジエチルヘキシルブタミドトリアゾ
ン、フェニルベンゾトリアゾール誘導体： − ローディア キミ（Rhodia Chimie）により“Silatr
izole”の商品名で市販されているドロメトリゾールト
リシロキサン、アントラニル酸誘導体： ａ）ハーマン アンド ライマー（Haarmann and Reime
r）により“Neo HeliopanMA”の商品名で市販されてい
るメンチルアントラニレート、イミダゾリン誘導体： ｂ）エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイ
ミダゾリンプロピオネート、ベンザルマロネート誘導体： ｃ）ホフマン ラロッシュ（Hoffmann LaRoche）により
“Parsol SLX”の商品名で市販されているベンザルマロ
ネート官能基を含むポリオルガノシロキサン、
【００５８】特に好ましい水溶性又は脂溶性有機ＵＶ遮
蔽剤を以下の化合物から選択する：エチルヘキシルサリ
チレート、ブチルメトキシジベンゾイルメタン、エチル
ヘキシルメトキシシンナメート、オクトクリレン、フェ
ニルベンズイミダゾールスルホン酸、テレフタリリデン
ジカンファースルホン酸、ベンゾフェノン−３、ベンゾ
フェノン−４、ベンゾフェノン−５、ベンズイミダジレ
ート、アニソトリアジン、エチルヘキシルトリアゾン、
ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、ドロメトリゾー
ルトリシロキサン、及びこれらの混合物。
【００５９】本発明に従う化粧組成物はさらに皮膚を人
工的に日焼けさせ及び／又は褐色化させる剤（自己日焼
け剤）、例えばジヒドロキシアセトン（ＤＨＡ）も含む
ことができる。本発明に従う化粧組成物はさらに一又は
複数の無機顔料、特に金属酸化物ナノ顔料であって被覆
又は未被覆のもの、例えば非晶質又は結晶性（ルチル及
び／又はアナターゼ）の酸化チタン、酸化鉄、酸化亜
鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムのナノ顔料も含
むことができる。これらのナノ顔料の平均粒径は５nm〜
１００nm、好ましくは１０nm〜５０nmであり、全てＵＶ
光保護剤として公知である。これらのナノ顔料を公知の
被覆剤、例えばアルミナ及び／又はアルミナステアレー
トで被覆することができる。このような被覆した又は未
被覆のナノ顔料は、例えば特許出願ＥＰ−Ａ−０５１８
７７２及びＥＰ−Ａ−０ ５１８ ７７３に記載されて
いる。本化粧組成物は例えば以下のような通常の配合添
加物も含むことができる：脂肪物質、生理学的に受容可
能な有機溶媒、シリコーン、界面活性剤、アニオン性、
カチオン性、ノニオン性又は両性ポリマー又はこれらの
混合物、増粘剤、抗酸化剤、不透明化剤、安定剤、消泡
剤、芳香剤、保存剤、フィラー、封鎖剤、噴射剤、ｐＨ
調整剤及び着色剤、及びこれらの混合物。これらはさら
に例えば以下から選択する一又は複数の化粧品として活
性な成分を含むこともできる：軟化剤、ヒドロキシ酸、
ビタミン、保湿剤、エモリエント、フリーラジカル除去
剤、物質Ｐ拮抗剤及び抗炎症剤、及びこれらの化合物の
混合物。
【００６０】脂肪物質は油又はワックス又はこれらの混
合物から成ることができ、さらに脂肪酸、脂肪アルコー
ル及び脂肪酸エステルを含む。油を動物油、植物油、鉱
油及び合成油から選択することができ、特に揮発性又は
非揮発性であってもよい流動ワセリン、流動パラフィ
ン、シリコーン油、イソパラフィン、ポリオレフィン、
フルオロ油及びペルフルオロ油から選択することができ
る。同様に、動物性、化石性、植物性、無機性及び合成
ワックスからワックスを選択することができ、これら自
体は公知である。挙げることができる有機溶媒は、低級
アルコール及びポリオール、例えばエタノール、イソプ
ロパノール、プロピレングリコール、グリセリン及びソ
ルビトールである。増粘剤を特に変性又は未変性のグア
ガム及びセルロース、例えばヒドロキシプロピルグアガ
ム、メチルヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプ
ロピルメチルセルロース又はヒドロキシエチルセルロー
スから選択することができる。いうまでもなく当業者
は、本発明に本質的な有利な性質、特に分散物の安定性
が意図する添加によって悪い作用を受けないように、こ
れらの任意に添加する化合物及び／又はこれらの量を十
分注意して選択するであろう。
【００６１】本発明の組成物を当業者に周知の技術、特
に水中油又は油中水型のエマルションの製造を意図した
技術に従って製造することができる。本組成物は特に単
一又は複合エマルション（Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ
又はＷ／Ｏ／Ｗエマルション）、例えばクリーム、ミル
ク、ジェル又はクリーム−ジェルの形態にあることがで
き、任意にエアゾールとして包装することができ、ムー
ス又はスプレーの形態にあることもできる。エマルショ
ンである場合、エマルションの水性相は公知の方法（Ba
ngham, Standish及びWatkins, J. Mol. Biol. 13, 238
(1965)、ＦＲ ２ ３１５ ９９１及びＦＲ ２ ４１６ ０
０８）に従って製造したノニオン性の小胞分散物を含む
ことができる。本発明の化粧組成物を、紫外線に対して
ヒトの表皮又は毛髪を保護するための組成物として、抗
太陽光組成物として又はメーキャップ組成物として使用
することができる。本発明に従う化粧組成物をＵＶ照射
に対してヒトの表皮を保護するため、又は抗太陽光組成
物として使用する場合、溶媒又は脂肪物質中に懸濁又は
分散した形態、ノニオン性の小胞分散物の形態又はエマ
ルションの形態にあることができ、エマルション、好ま
しくは水中油型エマルション、例えばクリーム又はミル
クの形態にあることができ、又は軟膏、ゲル、クリーム
−ジェル、エアゾールムース又はスプレーの形態にある
ことができる。
【００６２】本発明に従う化粧組成物をＵＶ線に対して
毛髪を保護するために使用する場合、組成物はシャンプ
ー、ローション、ジェル、エマルション又はノニオン性
小胞分散物の形態にあることができ、かつ例えば洗い流
し組成物を構成することができ、該組成物をシャンプー
をする前又は後に、染色又は脱色の前又は後に、毛髪を
パーマネント処置又は直毛化する前、その際又はその後
に使用し、スタイリング又は処置ローション又はジェ
ル、ブロー乾燥又は毛髪セットローション又はジェル、
又は毛髪をパーマネントウェーブ処置、直毛化、染色又
は脱色する組成物を構成することができる。まつげ、眉
毛又は皮膚をメーキャップする製品として本組成物を使
用する場合、例えば表皮処置クリーム、ファンデーショ
ン、口紅のチューブ、アイシャドウ、フェイスパウダ
ー、マスカラ又はアイライナーとして使用する場合、該
組成物は水性形態、例えば水中油又は油中水エマルショ
ン、ノニオン性小胞分散物又は懸濁物の形態にあること
ができる。指針として、本発明に従う日焼け止めファン
デーションは以下を含む：水中油エマルション型の支持
体、全配合物に対して５０質量％〜９５質量％、好まし
くは７０質量％〜９０質量％一般的に存在する水性相、
全配合物に対して５質量％〜５０質量％、好ましくは１
０質量％〜３０質量％存在する油性相、及び全配合物に
対して０．５質量％〜２０質量％、好ましくは２質量％
〜１０質量％存在する一又は複数の（共）乳化剤。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１４年１１月７日（２００２．１１．
７）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ａ６１Ｋ 7/42 Ａ６１Ｋ 7/42 7/48 7/48 Ｆターム(参考） 4C083 AB211 AB231 AB241 AC211 AC641 AC761 AC841 AC851 AD041 AD051 AD071 AD091 BB26 CC01 CC02 CC19 CC31 DD23 DD27 EE03 EE17

Claims (54)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ＵＶ照射を吸収する少なくとも一つの基
    を含む不溶性有機化合物であって平均粒径が１０nm〜５
    μmである粒子の形態にあるものの分散物を安定化する
    ための、少なくとも一つの親水性ブロックと少なくとも
    一つの疎水性ブロックを含む少なくとも一つの両親媒性
    コポリマーの使用。
  2. 【請求項２】 ＵＶ照射を吸収する少なくとも一つの基
    を含む不溶性有機化合物の分散物が水性分散物であるこ
    とを特徴とする、請求項１に記載の使用。
  3. 【請求項３】 少なくとも一つの親水性ブロックと少な
    くとも一つの疎水性ブロックを含む両親媒性コポリマー
    がノニオン性ポリマーであることを特徴とする、請求項
    １又は２に記載の使用。
  4. 【請求項４】 少なくとも一つの親水性ブロックと少な
    くとも一つの疎水性ブロックを含む両親媒性コポリマー
    を以下から成る群から選択することを特徴とする、請求
    項３に記載の使用： ・以下の式のポリアルコキシル化した脂肪族アルコー
    ル： Ｈ2n+1Ｃn(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)x(ＣＨ2ＣＨ(ＣＨ3)Ｏ)y(ＣＨ
    (ＣＨ3)ＣＨ2Ｏ)zＨ 式中、 ｎは５〜２０、好ましくは７〜１９の整数であり、 ｘは２〜２０、好ましくは４〜１０の整数であり、 ｙは２〜２０、好ましくは４〜１０の整数であり、 ｙ＋ｚの合計は２〜２０、好ましくは２〜１２の整数で
    ある； ・以下の式のエチレンオキシド及びプロピレンオキシド
    のトリブロックコポリマー： ＨＯ(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)a(ＣＨ2ＣＨ(ＣＨ3)Ｏ)b(ＣＨ2ＣＨ
    2Ｏ)cＨ 式中、ａは２〜１５０の整数を表し、ｂは１０〜８０の
    整数を表し、ｃは２〜１５０の整数を表す； ・以下の式に相当するエチレンオキシドとプロピレンオ
    キシドのブロックコポリマーとエチレンジアミンとの縮
    合生成物： ・スチレンとエチレンオキシドとのブロックコポリマ
    ー； ・以下の式のポリアルコキシル化した脂肪アルコールジ
    ウレタンポリマー： 式中、 ｎは４０〜７０の数を表し、ｍは５〜２０の数を表し、
    ＲはＣ8-30アルキル基を表し、かつＬはイソホロンジイ
    ソシアナート又はヘキサメチレンジイソシアナートから
    誘導した基を表す； ・ポリエトキシル化したポリオレフィンスクシネート、
    特に以下の式のポリエトキシル化したポリイソブチレン
    スクシネート： 式中、 ＰＩＢはポリイソブチレン鎖を表し、ｎは２〜１５、好
    ましくは７〜１０の整数を表し、ｍは２〜１５、好まし
    くは２〜６の整数を表す； ・（メタ）アクリル酸、Ｃ10-30アルキル（メタ）アク
    リレート及びポリエチレングリコール（メタ）アクリレ
    ートのブロックターポリマー。
  5. 【請求項５】 ＵＶ照射を吸収する少なくとも一つの基
    を含む不溶性有機化合物を以下から選択することを特徴
    とする、先の請求項１ないし４のいずれか１項に記載の
    使用：オキサルアニリド、トリアジン、ベンゾトリアゾ
    ール、ビニルアミド、シンナミド、ベンズアゾール、ベ
    ンゾフラン、アリールビニリデンケトン、アクリロニト
    リルアミド、アクリロニトリルスルホンアミド、アクリ
    ロニトリルカルバメート及びフェニレンビス（ベンズオ
    キサジノン）型。
  6. 【請求項６】 オキサルアニリド型の不溶性ＵＶ遮蔽剤
    を以下の式から選択することを特徴とする、請求項５に
    記載の使用： 式中、 Ｔ1、Ｔ'1、Ｔ2及びＴ'2はそれぞれ独立にＣ1〜Ｃ8アル
    キル基又はＣ1〜Ｃ8アルコキシ基を表す。
  7. 【請求項７】 トリアジン型の不溶性ＵＶ遮蔽剤を以下
    の式から選択することを特徴とする、請求項５に記載の
    使用： 式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立にフェニル、フ
    ェノキシ又はピロロ基を表し、これらの基は未置換であ
    るか又はそれぞれ独立に１、２又は３の以下から選択す
    る置換基を有する：−ＯＨ、Ｃ1-18アルキル、Ｃ1-18ア
    ルコキシ、カルボキシ（Ｃ1-18アルキル）、Ｃ5〜Ｃ8シ
    クロアルキル、メチルベンジリデンカンファー、−(Ｃ
    Ｈ＝ＣＲ')n(ＣＯ)−ＯＲ4、式中Ｒ'は水素原子、シア
    ノ基又は基ＣＯＯＲ4を表し、ここでＲ4＝Ｃ1-18アルキ
    ル又はシンナミル、かつｎは０又は１である。
  8. 【請求項８】 ベンゾトリアゾール型の不溶性ＵＶ遮蔽
    剤を以下の式から選択することを特徴とする、請求項５
    に記載の使用： 式中、Ｒ5は水素原子又はＣ1-18アルキル基を意味し、
    Ｒ6及びＲ7は同一又は異なることができ、任意にフェニ
    ル基で置換されたＣ1-18アルキル基を意味し、又は以下
    の式 式中、Ｒ8及びＲ9は同一又は異なることができ、それぞ
    れＣ1-4アルキル、Ｃ5 -12シクロアルキル又はアリール
    から選択する一又は複数の基で置換されていてもよいＣ
    1-18アルキル基を表す。
  9. 【請求項９】 ビニルアミド型の不溶性ＵＶ遮蔽剤を以
    下の式から選択することを特徴とする、請求項５に記載
    の使用： Ｔ3−(Ｙ)r−Ｃ(＝Ｏ)−Ｃ(Ｔ4)＝Ｃ(Ｔ5)−Ｎ(Ｔ6)(Ｔ7) （Ｖ） 式中、Ｔ3はＣ1-18、好ましくはＣ1-5アルキル基、又は
    ＯＨ、Ｃ1-18アルキル、Ｃ1-8アルコキシ又は−Ｃ(＝
    Ｏ)−ＯＴ8（式中Ｔ8はＣ1-18アルキル基を表す）から
    選択する１、２又は３の基で任意に置換されたフェニル
    基であり；Ｔ4、Ｔ5、Ｔ6及びＴ7はそれぞれ独立にＣ
    1-18、好ましくはＣ1-5アルキル基又は水素原子を表
    し；Ｙは−ＮＨ−又は酸素原子を表し、かつｒは０又は
    １である。
  10. 【請求項１０】 シンナミド型の不溶性ＵＶ遮蔽剤を以
    下の式から選択することを特徴とする、請求項５に記載
    の使用： 式中、 Ｒ10は水素原子又はＣ1-4アルキル基を表し、 Ｒ11は水素原子又はＣ1-4アルキル基を表し、 Ｒ12は基−(ＣＯＮＨ)s−フェニルを表し、式中ｓは０
    又は１であり、フェニル基は、ＯＨ、Ｃ1-18アルキル、
    Ｃ1-8アルコキシ又は−Ｃ(＝Ｏ)−ＯＲ13（式中Ｒ13は
    Ｃ1-18アルキルである）から選択する１、２又は３の基
    で置換されていてもよいフェニル基を表し、好ましくは
    Ｒ12はフェニル、４−メトキシフェニル又はフェニルア
    ミノカルボニル基を表す。
  11. 【請求項１１】 シンナミド型の不溶性遮蔽剤が以下の
    式から選択するビス（α，β−ジ置換シンナミド）であ
    ることを特徴とする、請求項５に記載の使用： 式中、 Ａｒ1及びＡｒ2は、同一又は異なることができ、それぞ
    れフェニル基、芳香ヘテロ環、縮合フェニル核を含む基
    又は縮合芳香ヘテロ環を含む基を表し、一又は複数の同
    一又は異なる置換基を有することができ、 Ｂ及びＤは水素原子以外であり、それぞれ独立に有機基
    を表し、 Ａ及びＣはそれぞれ独立に有機基を表し、かつＥは２価
    の有機基を表し、 ただし、Ａｒ1及びＡｒ2が共に置換基−ＯＲ（式中Ｒは
    水素原子又は有機基を表す）を有するフェニル基を表す
    化合物、Ａ及びＣが共にシアノ基を表す化合物、Ｂ及び
    Ｄが共にＣ1-35アルキル又はアルケニル基を表す化合
    物、及びＥが２価の有機基を表す化合物を除く。
  12. 【請求項１２】 ベンズアゾール又はベンゾフラン型の
    不溶性ＵＶ遮蔽剤を以下の式から選択することを特徴と
    する、請求項５に記載の使用： 式中、 記号Ｙのそれぞれは独立に酸素又は硫黄原子又は基ＮＲ
    15を表し、 記号Ｚのそれぞれは独立に窒素原子又はＣＨ基を表し、 記号Ｒ14のそれぞれは独立にＯＨ基、ハロゲン原子、任
    意にケイ素原子を含む直鎖又は分岐したＣ1-8アルキル
    基、又は直鎖又は分岐したＣ1-8アルコキシ基を表し、 数ｍのそれぞれは独立に０、１又は２であり、 ｎは両端を含む１〜４の整数であり、 ｐは０又は１であり、 数ｑのそれぞれは独立に０又は１であり、 記号Ｒ15のぞれぞれは独立に水素原子、ベンジル基又は
    任意にケイ素原子を含む直鎖又は分岐したＣ1-8アルキ
    ル基を表し、 Ａは以下の式から選択する価数ｎの基を表し： 式中、記号Ｒ16のそれぞれは独立にハロゲン原子又は直
    鎖又は分岐したＣ1-4アルキル又はアルコキシ基、又は
    ヒドロキシルを表し、 Ｒ17は水素原子又は直鎖又は分岐したＣ1-4アルキル基
    を表し、 ｃ＝０〜４、ｄ＝０〜３、ｅ＝０又は１、かつｆ＝０〜
    ２である。
  13. 【請求項１３】 アリールビニレンケトン型の不溶性遮
    蔽剤を以下の式から選択することを特徴とする、請求項
    ５に記載の使用： 式中：ｎ＝１又は２、 Ａは、ｎ＝１のとき式（XI）において又は式（XII）に
    おいて以下の式（ａ）〜（ｄ）から選択するアリール基
    であり、又はｎ＝２のとき式（XI）において以下の式
    （ｅ）〜（ｈ）から選択する基であり： 式中：それぞれの記号Ｒ4は独立してＯＨ基、ハロゲン
    原子、任意にケイ素原子を含む直鎖又は分岐したＣ1-6
    アルキル基、任意にケイ素原子を含む直鎖又は分岐した
    Ｃ1-6アルコキシ基、直鎖又は分岐したＣ1-5アルコキシ
    カルボニル基、又は任意にケイ素原子を含む直鎖又は分
    岐したＣ1-6アルキルスルホンアミド基又はアミノ酸官
    能基を表し、 ｐは両端を含む０〜４の整数を表し、 ｑは０又は１を表し、 Ｒ1は水素又はＯＨ基を表し、 Ｒ2は水素、任意にケイ素原子を含む直鎖又は分岐した
    Ｃ1-6アルキル基、シアノ基、Ｃ1-6アルキルスルホニル
    基又はフェニルスルホニル基を表し、 Ｒ3は任意にケイ素原子を含む直鎖又は分岐したＣ1-6ア
    ルキル基又は２環式基を形成することができかつ任意に
    １又は２の基Ｒ4で置換されたフェニル基を表し、 又はＲ2とＲ3は一緒になって１環式、２環式又は３環式
    Ｃ2-10炭化水素ベースの残基を形成し、該残基は任意に
    一又は複数の窒素、硫黄及び酸素原子で中断されかつ他
    のカルボニルを含むことができ、及び任意に直鎖又は分
    岐したＣ1〜Ｃ8アルキルスルホンアミド基で置換され、
    任意にケイ素原子又はアミノ酸官能基を含み；ただし、
    ｎ＝１のときＲ2とＲ3はカンファー環を形成しない。
  14. 【請求項１４】 アクリルニトリルアミド、アクリロニ
    トリルスルホンアミド及びアクリロニトリルカルバメー
    ト型の不溶性遮蔽剤を以下の式から選択することを特徴
    とする、請求項５に記載の使用： 式中、 Ｘ2は式−(Ｃ＝Ｏ)−Ｒ'3−(Ｃ＝Ｏ)−、−ＳＯ2−Ｒ"3
    −ＳＯ2−又は−(Ｃ＝Ｏ)−Ｏ−Ｒ"3−Ｏ−(Ｃ＝Ｏ)−
    の２価の基を表し、 Ｙは基−(Ｃ＝Ｏ)−Ｒ4又は−ＳＯ2Ｒ5を表し、 Ｒ2は直鎖又は分岐したＣ1-8アルキル基を表し、 ｎは０、１又は２であり、 Ｒ'3は単結合又はＲ"3を表し、 Ｒ"3は直鎖又は分岐したＣ1-30の２価アルキレン基又は
    直鎖又は分岐したＣ3- 30の２価アルケニレン基を表し、
    これらの基は一又は複数のヒドロキシル置換基を有する
    ことができかつ炭素をベースとする鎖中に一又は複数の
    酸素、窒素及びケイ素原子から選択するヘテロ原子を含
    むことができ、 Ｒ4は基−ＯＲ6又は−ＮＨＲ6を表し、 Ｒ5は直鎖又は分岐したＣ1-30アルキル基又はＣ1-4アル
    キル若しくはアルコキシ基で置換されていてもよいフェ
    ニル核を表し、 Ｒ6は直鎖又は分岐したＣ1-30アルキル又はＣ3-30アル
    ケニル基を表し、これらの基は一又は複数のヒドロキシ
    ル置換基を有することができかつ炭素をベースとする鎖
    中に一又は複数の酸素、窒素及びケイ素原子から選択す
    るヘテロ原子を含むことができる。
  15. 【請求項１５】 フェニレンビス（ベンズオキサジノ
    ン）型の不溶性有機遮蔽剤を以下の式から選択すること
    を特徴とする、請求項５に記載の使用： 式中、Ｒは以下の式（ｅ）〜（ｈ）から選択する２価芳
    香族残基を表す： 式中：それぞれの記号Ｒ4は独立してＯＨ基、ハロゲン
    原子、任意にケイ素原子を含む直鎖又は分岐したＣ1-6
    アルキル基、任意にケイ素原子を含む直鎖又は分岐した
    Ｃ1-6アルコキシ基、直鎖又は分岐したＣ1-5アルコキシ
    カルボニル基、又は任意にケイ素原子を含む直鎖又は分
    岐したＣ1-6アルキルスルホンアミド基又はアミノ酸官
    能基を表し、 ｐは両端を含む０〜４の整数を表し、 ｑは０又は１を表す。
  16. 【請求項１６】 ＵＶ照射を吸収する少なくとも一つの
    基を含む不溶性有機化合物の平均粒径が１０nm〜２μ
    m、好ましくは２０nm〜１．５μm、特に３０nm〜１．０
    μmであることを特徴とする、先の請求項１ないし１５
    のいずれか１項に記載の使用。
  17. 【請求項１７】 ５質量％〜７０質量％、好ましくは３
    ０質量％〜５０質量％のＵＶ照射を吸収する少なくとも
    一つの基を含む不溶性有機化合物の粒子を分散物が含む
    ことを特徴とする、先の請求項１ないし１６のいずれか
    １項に記載の使用。
  18. 【請求項１８】 少なくとも一つの親水性ブロックと少
    なくとも一つの疎水性ブロックを含む両親媒性コポリマ
    ーをＵＶ照射を吸収する少なくとも一つの基を含む不溶
    性有機化合物の粒子の表面積当たり１〜１０mg／m2、好
    ましくは１〜５mg／m2となる比率で使用することを特徴
    とする、先の請求項１ないし１７のいずれか１項に記載
    の使用。
  19. 【請求項１９】 ＵＶ照射を吸収する少なくとも一つの
    基を含む不溶性有機化合物の分散物を製造する方法であ
    って、液体媒体中に懸濁させた該有機化合物の粒子に対
    して平均粒径１０nm〜５μmが得られるまで粒径減少化
    工程を行い、かつ粒径減少化工程の前、その際又はその
    後で、少なくとも一つの親水性ブロックと少なくとも一
    つの疎水性ブロックを含む少なくとも一つの両親媒性コ
    ポリマーを添加する工程より成る方法。
  20. 【請求項２０】 粒径減少化工程が水性媒体中での粉砕
    操作より成ることを特徴とする、請求項１９に記載の方
    法。
  21. 【請求項２１】 少なくとも一つの親水性ブロックと少
    なくとも一つの疎水性ブロックを含む両親媒性コポリマ
    ーを粉砕工程の前又はその際に添加することを特徴とす
    る、請求項２０に記載の方法。
  22. 【請求項２２】 少なくとも一つの親水性ブロックと少
    なくとも一つの疎水性ブロックを含む両親媒性コポリマ
    ーが請求項４及び５に規定するノニオン性ポリマーであ
    ることを特徴とする、請求項１９ないし２０の１項に記
    載の方法。
  23. 【請求項２３】 ＵＶ照射を吸収する少なくとも一つの
    基を含む不溶性有機化合物を以下の不溶性ＵＶ遮蔽剤か
    ら選択することを特徴とする、請求項１９ないし２２の
    １項に記載の方法：オキサルアニリド、トリアジン、ベ
    ンゾトリアゾール、ビニルアミド、シンナミド、ベンズ
    アゾール、ベンゾフラン、アリールビニリデンケトン、
    アクリロニトリルアミド、アクリロニトリルスルホンア
    ミド、アクリロニトリルカルバメート又はフェニレンビ
    ス（ベンズオキサジノン）型。
  24. 【請求項２４】 不溶性ＵＶ遮蔽剤を請求項７ないし１
    ６に記載されたものから選択することを特徴とする、請
    求項２３に記載の方法。
  25. 【請求項２５】 ＵＶ照射を遮蔽する少なくとも一つの
    基を含む不溶性有機化合物の粒子が最終分散物の５質量
    ％〜７０質量％、好ましくは３０質量％〜５０質量％存
    在することを特徴とする、請求項１９ないし２４の１項
    に記載の方法。
  26. 【請求項２６】 少なくとも一つの親水性ブロックと少
    なくとも一つの疎水性ブロックを含む両親媒性コポリマ
    ーを、粒径減少化の後に、ＵＶ照射を遮蔽する少なくと
    も一つの基を含む不溶性有機化合物の粒子の表面積ｍ2
    当たり１〜１０mg、好ましくは１〜５mgの比率で添加す
    ることを特徴とする、請求項１９ないし２５の１項に記
    載の方法。
  27. 【請求項２７】 液体媒体中に以下を含む分散物： (a) ＵＶ照射を遮蔽する少なくとも一つの基を含む少な
    くとも一つの不溶性有機化合物であって平均粒径が１０
    nm〜５μmである粒子の形態にあるもの、及び(b) 分散
    剤としての、少なくとも一つの親水性ブロックと少なく
    とも一つの疎水性ブロックを含む少なくとも一つの両親
    媒性コポリマーであって以下から成る群から選択するも
    の： ・以下の式のポリアルコキシル化した脂肪族アルコー
    ル： Ｈ2n+1Ｃn(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)x(ＣＨ2ＣＨ(ＣＨ3)Ｏ)y(ＣＨ
    (ＣＨ3)ＣＨ2Ｏ)zＨ 式中、 ｎは５〜２０、好ましくは７〜１９の整数であり、 ｘは２〜２０、好ましくは４〜１０の整数であり、 ｙは２〜２０、好ましくは４〜１０の整数であり、 ｙ＋ｚの合計は２〜２０、好ましくは２〜１２の整数で
    ある； ・以下の式のエチレンオキシド及びプロピレンオキシド
    のトリブロックコポリマー： ＨＯ(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)a(ＣＨ2ＣＨ(ＣＨ3)Ｏ)b(ＣＨ2ＣＨ
    2Ｏ)cＨ 式中、ａは２〜１５０の整数を表し、ｂは１０〜８０の
    整数を表し、ｃは２〜１５０の整数を表す； ・以下の式に相当するエチレンオキシドとプロピレンオ
    キシドのブロックコポリマーとエチレンジアミンとの縮
    合生成物： ・スチレンとエチレンオキシドとのブロックコポリマ
    ー； ・ポリエトキシル化したポリオレフィンスクシネート、
    特に以下の式のポリエトキシル化したポリイソブチレン
    スクシネート： 式中、ＰＩＢはポリイソブチレン鎖を表し、ｎは２〜１
    ５、好ましくは７〜１０の整数を表し、ｍは２〜１５、
    好ましくは２〜６の整数を表す； ・（メタ）アクリル酸、Ｃ10-30アルキル（メタ）アク
    リレート及びポリエチレングリコール（メタ）アクリレ
    ートのブロックターポリマー。
  28. 【請求項２８】 ５質量％〜７０質量％、好ましくは３
    ０質量％〜５０質量％のＵＶ照射を遮蔽する少なくとも
    一つの基を含む不溶性有機化合物の粒子を分散物が含む
    ことを特徴とする、請求項２７に記載の分散物。
  29. 【請求項２９】 ＵＶ照射を吸収する少なくとも一つの
    基を含む不溶性有機化合物の粒子の表面積ｍ2当たり１
    〜１０mg、好ましくは１〜５mgの分散剤を分散物が含む
    することを特徴とする、請求項２７又は２８に記載の分
    散物。
  30. 【請求項３０】 液体媒体が水性媒体であることを特徴
    とする、請求項２７ないし２９のいずれか１項に記載の
    分散物。
  31. 【請求項３１】 少なくとも一つの親水性ブロックと少
    なくとも一つの疎水性ブロックを含む両親媒性コポリマ
    ーがノニオン性ポリマーであることを特徴とする、請求
    項２７ないし３０のいずれか１項に記載の分散物。
  32. 【請求項３２】 ＵＶ照射を吸収する少なくとも一つの
    基を含む不溶性有機化合物を以下の不溶性ＵＶ遮蔽剤か
    ら選択することを特徴とする、請求項２７ないし３１の
    いずれか１項に記載の分散物：オキサルアニリド、トリ
    アジン、ベンゾトリアゾール、ビニルアミド、シンナミ
    ド、ベンズアゾール、ベンゾフラン、アリールビニリデ
    ンケトン、アクリロニトリルアミド、アクリロニトリル
    スルホンアミド、アクリロニトリルカルバメート及びフ
    ェニレンビス（ベンズオキサジノン）型。
  33. 【請求項３３】 オキサルアニリド型の不溶性ＵＶ遮蔽
    剤を以下の式から選択することを特徴とする、請求項３
    ２に記載の分散物： 式中、 Ｔ1、Ｔ'1、Ｔ2及びＴ'2はそれぞれ独立にＣ1〜Ｃ8アル
    キル基又はＣ1〜Ｃ8アルコキシ基を表す。
  34. 【請求項３４】 トリアジン型の不溶性ＵＶ遮蔽剤を以
    下の一般式から選択することを特徴とする、請求項３２
    に記載の分散物： 式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立にフェニル、フ
    ェノキシ又はピロロ基を表し、これらの基は未置換であ
    るか又はそれぞれ独立に１、２又は３の以下から選択す
    る置換基を有する：−ＯＨ、Ｃ1-18アルキル、Ｃ1-18ア
    ルコキシ、カルボキシ（Ｃ1-18アルキル）、Ｃ5〜Ｃ8シ
    クロアルキル、メチルベンジリデンカンファー、−(Ｃ
    Ｈ＝ＣＲ')n(ＣＯ)−ＯＲ4、式中Ｒ'は水素原子、シア
    ノ基又は基ＣＯＯＲ4を表し、ここでＲ4＝Ｃ1-18アルキ
    ル又はシンナミル、かつｎは０又は１である。
  35. 【請求項３５】 ベンゾトリアゾール型の不溶性ＵＶ遮
    蔽剤を以下の式から選択することを特徴とする、請求項
    ３２に記載の分散物： 式中、Ｒ5は水素原子又はＣ1-18アルキル基を意味し、
    Ｒ6及びＲ7は同一又は異なることができ、任意にフェニ
    ル基で置換されたＣ1-18アルキル基を意味し、又は以下
    の式 式中、Ｒ8及びＲ9は同一又は異なることができ、それぞ
    れＣ1-4アルキル、Ｃ5 -12シクロアルキル又はアリール
    から選択する一又は複数の基で置換されていてもよいＣ
    1-18アルキル基を表す。
  36. 【請求項３６】 ビニルアミド型の不溶性ＵＶ遮蔽剤を
    以下の式から選択することを特徴とする、請求項３２に
    記載の分散物： Ｔ3−(Ｙ)r−Ｃ(＝Ｏ)−Ｃ(Ｔ4)＝Ｃ(Ｔ5)−Ｎ(Ｔ6)(Ｔ7) （Ｖ） 式中、Ｔ3はＣ1-18、好ましくはＣ1-5アルキル基、又は
    ＯＨ、Ｃ1-18アルキル、Ｃ1-8アルコキシ又は−Ｃ(＝
    Ｏ)−ＯＴ8（式中Ｔ8はＣ1-18アルキル基を表す）から
    選択する１、２又は３の基で任意に置換されたフェニル
    基であり；Ｔ4、Ｔ5、Ｔ6及びＴ7はそれぞれ独立にＣ
    1-18、好ましくはＣ1-5アルキル基又は水素原子を表
    し；Ｙは−ＮＨ−又は酸素原子を表し、かつｒは０又は
    １である。
  37. 【請求項３７】 シンナミド型の不溶性ＵＶ遮蔽剤を以
    下の式から選択することを特徴とする、請求項３２に記
    載の分散物： 式中、 Ｒ10は水素原子又はＣ1-4アルキル基を表し、 Ｒ11は水素原子又はＣ1-4アルキル基を表し、 Ｒ12は基−(ＣＯＮＨ)s−フェニルを表し、式中ｓは０
    又は１であり、フェニル基は、ＯＨ、Ｃ1-18アルキル、
    Ｃ1-8アルコキシ又は−Ｃ(＝Ｏ)−ＯＲ13（式中Ｒ13は
    Ｃ1-18アルキルである）から選択する１、２又は３の基
    で置換されていてもよいフェニル基を表し、好ましくは
    Ｒ12はフェニル、４−メトキシフェニル又はフェニルア
    ミノカルボニル基を表す。
  38. 【請求項３８】 シンナミド型の不溶性遮蔽剤が以下の
    式から選択するビス（α，β−ジ置換シンナミド）であ
    ることを特徴とする、請求項３２に記載の分散物： 式中、 Ａｒ1及びＡｒ2は、同一又は異なることができ、それぞ
    れフェニル基、芳香ヘテロ環、縮合フェニル核を含む基
    又は縮合芳香ヘテロ環を含む基を表し、一又は複数の同
    一又は異なる置換基を有することができ、 Ｂ及びＤは水素原子以外であり、それぞれ独立に有機基
    を表し、 Ａ及びＣはそれぞれ独立に有機基を表し、かつＥは２価
    の有機基を表し、 ただし、Ａｒ1及びＡｒ2が共に置換基−ＯＲ（式中Ｒは
    水素原子又は有機基を表す）を有するフェニル基を表す
    化合物、Ａ及びＣが共にシアノ基を表す化合物、Ｂ及び
    Ｄが共にＣ1-35アルキル又はアルケニル基を表す化合
    物、及びＥが２価の有機基を表す化合物を除く。
  39. 【請求項３９】 ベンズアゾール又はベンゾフラン型の
    不溶性ＵＶ遮蔽剤を以下の式から選択することを特徴と
    する、請求項３２に記載の分散物： 式中、 記号Ｙのそれぞれは独立に酸素又は硫黄原子又は基ＮＲ
    15を表し、 記号Ｚのそれぞれは独立に窒素原子又はＣＨ基を表し、 記号Ｒ14のそれぞれは独立にＯＨ基、ハロゲン原子、任
    意にケイ素原子を含む直鎖又は分岐したＣ1-8アルキル
    基、又は直鎖又は分岐したＣ1-8アルコキシ基を表し、 数ｍのそれぞれは独立に０、１又は２であり、 ｎは両端を含む１〜４の整数であり、 ｐは０又は１であり、 数ｑのそれぞれは独立に０又は１であり、 記号Ｒ15のぞれぞれは独立に水素原子、ベンジル基又は
    任意にケイ素原子を含む直鎖又は分岐したＣ1-8アルキ
    ル基を表し、 Ａは以下の式から選択する価数ｎの基を表し： 式中、記号Ｒ16のそれぞれは独立にハロゲン原子又は直
    鎖又は分岐したＣ1-4アルキル又はアルコキシ基、又は
    ヒドロキシルを表し、 Ｒ17は水素原子又は直鎖又は分岐したＣ1-4アルキル基
    を表し、 ｃ＝０〜４、ｄ＝０〜３、ｅ＝０又は１、かつｆ＝０〜
    ２である。
  40. 【請求項４０】 アリールビニレンケトン型の不溶性遮
    蔽剤を以下の式から選択することを特徴とする、請求項
    ３２に記載の分散物： 式中：ｎ＝１又は２、 Ａは、ｎ＝１のとき式（XI）において又は式（XII）に
    おいて以下の式（ａ）〜（ｄ）から選択するアリール基
    であり、又はｎ＝２のとき式（XI）において以下の式
    （ｅ）〜（ｈ）から選択する基であり： 式中：それぞれの記号Ｒ4は独立してＯＨ基、ハロゲン
    原子、任意にケイ素原子を含む直鎖又は分岐したＣ1-6
    アルキル基、任意にケイ素原子を含む直鎖又は分岐した
    Ｃ1-6アルコキシ基、直鎖又は分岐したＣ1-5アルコキシ
    カルボニル基、又は任意にケイ素原子を含む直鎖又は分
    岐したＣ1-6アルキルスルホンアミド基又はアミノ酸官
    能基を表し、 ｐは両端を含む０〜４の整数を表し、 ｑは０又は１を表し、 Ｒ1は水素又はＯＨ基を表し、 Ｒ2は水素、任意にケイ素原子を含む直鎖又は分岐した
    Ｃ1-6アルキル基、シアノ基、Ｃ1-6アルキルスルホニル
    基又はフェニルスルホニル基を表し、 Ｒ3は任意にケイ素原子を含む直鎖又は分岐したＣ1-6ア
    ルキル基又は２環式基を形成することができかつ任意に
    １又は２の基Ｒ4で置換されたフェニル基を表し、 又はＲ2とＲ3は一緒になって１環式、２環式又は３環式
    Ｃ2-10炭化水素ベースの残基を形成し、該残基は任意に
    一又は複数の窒素、硫黄及び酸素原子で中断されかつ他
    のカルボニルを含むことができ、及び任意に直鎖又は分
    岐したＣ1〜Ｃ8アルキルスルホンアミド基で置換され、
    任意にケイ素原子又はアミノ酸官能基を含み；ただし、
    ｎ＝１のときＲ2とＲ3はカンファー環を形成しない。
  41. 【請求項４１】 アクリルニトリルアミド、アクリロニ
    トリルスルホンアミド及びアクリロニトリルカルバメー
    ト型の不溶性遮蔽剤を以下の式から選択することを特徴
    とする、請求項３２に記載の分散物： 式中、 Ｘ2は式−(Ｃ＝Ｏ)−Ｒ'3−(Ｃ＝Ｏ)−、−ＳＯ2−Ｒ"3
    −ＳＯ2−又は−(Ｃ＝Ｏ)−Ｏ−Ｒ"3−Ｏ−(Ｃ＝Ｏ)−
    の２価の基を表し、 Ｙは基−(Ｃ＝Ｏ)−Ｒ4又は−ＳＯ2Ｒ5を表し、 Ｒ2は直鎖又は分岐したＣ1-8アルキル基を表し、 ｎは０、１又は２であり、 Ｒ'3は単結合又はＲ"3を表し、 Ｒ"3は直鎖又は分岐したＣ1-30の２価アルキレン基又は
    直鎖又は分岐したＣ3- 30の２価アルケニレン基を表し、
    これらの基は一又は複数のヒドロキシル置換基を有する
    ことができかつ炭素をベースとする鎖中に一又は複数の
    酸素、窒素及びケイ素原子から選択するヘテロ原子を含
    むことができ、 Ｒ4は基−ＯＲ6又は−ＮＨＲ6を表し、 Ｒ5は直鎖又は分岐したＣ1-30アルキル基又はＣ1-4アル
    キル若しくはアルコキシ基で置換されていてもよいフェ
    ニル核を表し、 Ｒ6は直鎖又は分岐したＣ1-30アルキル又はＣ3-30アル
    ケニル基を表し、これらの基は一又は複数のヒドロキシ
    ル置換基を有することができかつ炭素をベースとする鎖
    中に一又は複数の酸素、窒素及びケイ素原子から選択す
    るヘテロ原子を含むことができる。
  42. 【請求項４２】 フェニレンビス（ベンズオキサジノ
    ン）型の不溶性有機遮蔽剤を以下の式から選択すること
    を特徴とする、請求項３２に記載の分散物： 式中、Ｒは以下の式（ｅ）〜（ｈ）から選択する２価芳
    香族残基を表す： 式中：それぞれの記号Ｒ4は独立してＯＨ基、ハロゲン
    原子、任意にケイ素原子を含む直鎖又は分岐したＣ1-6
    アルキル基、任意にケイ素原子を含む直鎖又は分岐した
    Ｃ1-6アルコキシ基、直鎖又は分岐したＣ1-5アルコキシ
    カルボニル基、又は任意にケイ素原子を含む直鎖又は分
    岐したＣ1-6アルキルスルホンアミド基又はアミノ酸官
    能基を表し、 ｐは両端を含む０〜４の整数を表し、 ｑは０又は１を表す。
  43. 【請求項４３】 ＵＶ照射を吸収する少なくとも一つの
    基を含む不溶性有機化合物の平均粒径が１０nm〜２μ
    m、好ましくは２０nm〜１．５μm、特に３０nm〜１．０
    μmであることを特徴とする、請求項２７ないし４２の
    いずれか１項に記載の分散物。
  44. 【請求項４４】 化粧品として受容可能な媒体中に以下
    を含む局所適用のための、特に皮膚及び／又は毛髪を光
    から保護するための化粧組成物であって、請求項２７な
    いし４３のいずれか１項に記載の分散物を化粧品として
    受容可能な媒体中に希釈して製造したもの： (a) ＵＶ照射を遮蔽する少なくとも一つの基を含む少な
    くとも一つの不溶性有機化合物であって平均粒径が１０
    nm〜５μmである粒子の形態にあるもの、及び(b) 少な
    くとも一つの親水性ブロックと少なくとも一つの疎水性
    ブロックを含む両親媒性コポリマーから選択する少なく
    とも一つの分散剤。
  45. 【請求項４５】 ＵＶ照射を遮蔽する少なくとも一つの
    基を含む不溶性有機化合物の粒子を０．１質量％〜１５
    質量％、好ましくは０．２質量％〜１０質量％組成物が
    含むことを特徴とする、請求項４４に記載の組成物。
  46. 【請求項４６】 組成物がさらに、ＵＶ−Ａ及び／又は
    ＵＶ−Ｂ範囲で活性な一又は複数の水溶性又は脂溶性有
    機日焼け止め剤を含むことを特徴とする、請求項４４又
    は４５に記載の組成物。
  47. 【請求項４７】 可溶性の有機日焼け止め剤を以下から
    選択することを特徴とする、請求項４４ないし４６の１
    項に記載の化粧組成物：エチルヘキシルサリチレート、
    ブチルメトキシジベンゾイルメタン、エチルヘキシルメ
    トキシシンナメート、オクトクリレン、フェニルベンズ
    イミダゾールスルホン酸、テレフタリリデンジカンファ
    ースルホン酸、ベンゾフェノン−３、ベンゾフェノン−
    ４、ベンゾフェノン−５、４−メチルベンジリデンカン
    ファー、ベンズイミダジレート、アニソトリアジン、エ
    チルヘキシルトリアゾン、ジエチルヘキシルブタミドト
    リアゾン、メチレンビスベンゾトリアゾリルテトラメチ
    ルブチルフェノール、ドロメトリゾールトリシロキサ
    ン、及びこれらの混合物。
  48. 【請求項４８】 組成物がさらに一又は複数の無機顔料
    を含むことを特徴とする、請求項４４ないし４７の１項
    に記載の化粧組成物。
  49. 【請求項４９】 無機顔料を以下のナノ顔料から選択す
    ることを特徴とする、請求項４８に記載の化粧組成物：
    任意に被覆していてもよい金属酸化物、例えば酸化チタ
    ン、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム及び酸化セリ
    ウム及びこれらの混合物。
  50. 【請求項５０】 ナノ顔料の平均粒径が５nm〜１００n
    m、好ましくは１０nm〜５０nmであることを特徴とす
    る、請求項４９に記載の化粧組成物。
  51. 【請求項５１】 組成物がさらに少なくとも一つの皮膚
    を人工的に日焼けさせ及び／又は褐色化させる剤を含む
    ことを特徴とする、請求項４４ないし５０の１項に記載
    の化粧組成物。
  52. 【請求項５２】 組成物がさらに以下から選択する一又
    は複数の配合添加物も含むことを特徴とする、請求項４
    ４ないし５１のいずれか１項に記載の化粧組成物：脂肪
    物質、生理学的に受容可能な有機溶媒、増粘剤、抗酸化
    剤、不透明化剤、安定剤、消泡剤、芳香剤、保存剤、フ
    ィラー、封鎖剤、噴射剤、ｐＨ調整剤及び着色剤、及び
    これらの混合物。
  53. 【請求項５３】 組成物がさらに以下から選択する一又
    は複数の化粧活性成分をも含むことを特徴とする、請求
    項４４ないし５２の１項に記載の化粧組成物：ビタミ
    ン、柔軟剤、ヒドロキシ酸、保湿剤、エモリエント、フ
    リーラジカル除去剤、物質Ｐ拮抗剤及び抗炎症剤、及び
    これらの化合物の混合物。
  54. 【請求項５４】 組成物が、皮膚又は毛髪を保護するた
    めの化粧組成物、抗太陽光組成物又はメーキャップ製品
    を構成することを特徴とする、請求項４４ないし５３の
    いずれか１項に記載の化粧組成物。
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