JP2011500751A - 少なくとも２つの特定のシランアミノベンゾエート又はシランアミノベンズアミド基を含有するｓ−トリアジン誘導体；これらの誘導体を含有する光保護化粧組成物；前記ｓ−トリアジン誘導体の使用 - Google Patents
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Abstract
本発明は、少なくとも２つの特定のシランアミノベンゾエート又はシランアミノベンズアミド基を含有する新規ｓ−トリアジン誘導体及びその化粧品における使用に関する。本発明は、ＵＶ−Ｂ照射領域で活性のあるサンスクリーン剤として、少なくとも２つの特定のグラフト化シランアミノベンゾエート又はシランアミノベンズアミド基を含有するｓ−トリアジン誘導体を含む光保護組成物にも関する。
Description
本発明は、少なくとも２つの特定のシランアミノベンゾエート又はシランアミノベンズアミド基を含む新規ｓ−トリアジン誘導体及びその化粧品における使用に関する。
本発明は、ＵＶ照射領域において活性があるサンスクリーン剤として、少なくとも２つのグラフト化シランアミノベンゾエート又はシランアミノベンズアミド基を含有するｓ−トリアジン誘導体を含む光保護組成物にも関する。
２８０ｎｍと４００ｎｍとの間の波長を有する光の照射は、ヒトの表皮の日焼けを生じさせ、ＵＶ−Ｂとしても知られている２８０ｎｍと３２０ｎｍとの間の波長を有する光線は、自然な日焼けの発生に悪影響を及ぼし得る皮膚の火傷及び紅斑を生じさせることがよく知られている。そのため、このＵＶ−Ｂ照射は遮断されるべきである。
皮膚の日焼けを生じさせる、３２０と４００ｎｍとの間の波長を有するＵＶ−Ａ光線は、皮膚、特に敏感な皮膚及び太陽光照射に持続的に曝露されている皮膚の場合に、障害を誘導する傾向があることがよく知られている。特に、ＵＶ−Ａは、皮膚の弾力性の損失及びシワの出現をもたらし、早期の老化をもたらす。それは、紅斑を生じさせ、ある個体では当該反応を増幅し、且つ、光毒性又は光アレルギー性反応の原因とさえなり得る。
かくして、ＵＶ−Ａ及びＵＶ−Ｂ光線は遮断されるべきであり、ＵＶ−Ａ及びＵＶ−Ｂスクリーン剤を含有する皮膚表皮の保護のための化粧組成物が現在存在する。そのため、このＵＶ−Ａ照射も遮断されるべきである。
これらの抗太陽光線組成物は、非常に多くの場合において、有害なＵＶ照射を選択的に吸収することが可能な、１つ又は複数の標準的な脂溶性有機スクリーン剤及び／又は標準的な水溶性有機スクリーン剤を各種の濃度において含有する、エマルション、水中油型（すなわち、水分散連続相と脂肪分散非連続相とからなる、化粧品として又は皮膚科学的に許容される支持体）、又は油中水型（脂肪連続相に分散している水相）の形態である。これらのスクリーン剤（及びその量）は所望の太陽光線保護指数に応じて選択され、太陽光線保護指数（ＳＰＦ）は、ＵＶスクリーン剤を使用しない場合に紅斑形成閾値に達するのに必要なＵＶ照射量に対する、ＵＶスクリーン剤を用いた場合に紅斑形成閾値に達するのに必要なＵＶ照射量の比として数学的に表わされる。その様なエマルションでは、親水性スクリーン剤が水相に存在し、脂溶性スクリーン剤が脂肪相に存在する。
それらのスクリーン力に加えて、所望の光保護化合物は、良好な化粧特性、通常の溶媒、特に油及び脂肪などの脂肪物質における良好な可溶性または良好な分散性、水及び汗（残留磁気［ｒｅｍａｎｅｎｃｅ］）、並びに十分な光安定性も有するべきである。
最も一般的に使用されているＵＶスクリーン剤は有機物であり、油又は水性媒体に可溶性である。それらは、一般的に、脂溶性ＵＶスクリーン剤である場合は脂肪鎖であり、水溶性ＵＶスクリーン剤である場合はカルボン酸又はスルホン酸基である、可溶化基に結合した発色団をその構造に有している。
不溶性の、特に微粉化された、１０ｎｍから２μｍの平均粒径を有する有機ＵＶスクリーン剤は従来技術として知られており、同量で同じ発色団を含む可溶性の相同体よりも効果的であるという利点がある。このタイプの微粉化不溶性ＵＶスクリーン剤は、特許ＧＢ−Ａ−２ ３０３ ５４９及びＥＰ−Ａ−８９３ １１９に特に開示されている。それらは、化粧剤中に得られる粒子の分散を改善するための適切な界面活性剤の存在下における粗い粒子の形態である不溶性有機ＵＶスクリーン剤を挽くプロセスを経て、一般的に粒子の水性分散物の形態で得られる。不溶性有機スクリーン剤を微粉化するプロセスの例は、特許出願ＧＢ−Ａ−２ ３０３ ５４９及びＥＰ−Ａ−８９３ １１９に記載されている。これらの文献に係るミルはジェットミル、ボールミル、振動ミル、又はハンマーミルであってよく、好ましくは高速回転ミル又は衝撃ミル、とりわけ回転ボールミル、振動ミル、チューブミル、又はロッドミルである。
これらの微粉化不溶性ＵＶスクリーン剤をエマルションなどの抗太陽光線製剤の油相に含めることによって、太陽光線に対する保護が改善されることが、特許出願ＷＯ９９／６６８９６において既知である。それらをエマルションの油相に含めるために、それらを粉末化することによって、例えば、溶媒中の沈殿によって、又は微粉化によって、過去に開示されている様に、微粉化ＵＶスクリーン剤の水性分散物を処理する必要がある。前記粒子は、凝集現象を避けるように界面活性剤（リン脂質）又はポリマー（ポリビニルピロリドン、ポリアクリレートなど）で被覆されてよい。他の技術は、分散物を油相と接触させ、その後に標準的な技術による真空条件下において水を蒸発させるによる、微粉化ＵＶスクリーン剤の水性分散物に対する相転移からなる。特許出願ＷＯ２００６／０２４６３３によれば、微粉化不溶性ＵＶスクリーン剤は、Ｃ８−Ｃ２８脂肪アルコールと組み合わせることによって、油中水型エマルションの連続的な油相に含められてもよい。油相に懸濁した微粉化不溶性ＵＶスクリーン剤の工業的生産は、これらの各種の必須の工程によって複雑且つ高価である。
ＵＶ照射の吸収において効果的であり、且つ、粉末形成又は微粉化ＵＶスクリーン剤の水性分散物から出発する相転移技術を用いたり又は脂肪アルコールの添加を用いたりする必要無しに、化粧油に容易に分散する新規な不溶性ＵＶスクリーン剤を見出す必要が依然として存在する。
本出願人は、驚くべきことに、ＵＶ−Ｂ光線の領域における良好な吸収特性を有し、且つ、化粧油に自然に分散する不溶性ＵＶスクリーン剤の新規ファミリーを発見した。これらは、少なくとも２つのシランアミノベンゾエート又はシランアミノベンズアミド基を有する新規ｓ−トリアジン誘導体であり、以下に詳細に記載する式（Ｉ）に相当する。これらの誘導体は良好な光安定性も示し、且つ、良好な化粧特性も示す。
かくして、本発明は、以下に詳細に記載する式（Ｉ）の少なくとも２つの特定のシランアミノベンゾエート又はシランアミノベンズアミド基を有するｓ−トリアジン誘導体の新規ファミリーに関する。
本発明は、化粧品として許容される媒体中に、少なくとも１つの式（Ｉ）の化合物を含む、ケラチン物質を光保護するための化粧組成物又は皮膚科組成物にも関する。
本発明は、ＵＶ−Ｂ照射を遮断するための薬剤としての、式（Ｉ）の化合物の美容のための使用にも関する。
用語「化粧品として許容される」は、良好な色、臭い、及び感触を有し、且つ、消費者に当該組成物の使用を忌避させるような任意の許容され得ない不快（刺痛、こわばり、又は赤み）を生じない、皮膚及び／又はその外皮と適合性のある薬剤を示す。
他の主題は、本明細書から明らかになるであろう。
本発明に係る化合物は、下記の一般式（Ｉ）に相当する。
式中、
− 基Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は、同一であるか又は異なるものであってよく、直鎖又は分枝鎖で飽和又は不飽和の、１つ又は複数のハロゲン原子（例えば、Ｃｌ、Ｂｒ、又はＦ）を含んでよい、Ｃ１−Ｃ１２アルキル基；フェニル基であり、
− ｐは０又は１であり、
− Ｙは−Ｏ−又は−ＮＲ５であり、
− 基Ｒ５は水素、直鎖若しくは分枝鎖のＣ１−Ｃ８アルキル基又はＣ６−Ｃ１２のアリール基であり、
− Ａは水素、直鎖又は分枝鎖で飽和又は不飽和のＣ１−Ｃ８アルキル基、フェニル基、又は基Ｓｉ（ＣＨ３）３であるが、ＡがＳｉ（ＣＨ３）３である場合は、ｐ＝０であり、且つ、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３はメチルである、
− 基Ｒ４は、直鎖又は分枝鎖で飽和又は不飽和のＣ１−Ｃ２０アルキル基、ＯＨ基、直鎖又は分枝鎖のＣ１−Ｃ２０アルコキシ基、又は基−（Ｃ＝Ｏ）−Ｙ−Ｒ６であり、
− ｎは０、１、又は２であり、
− 基Ｒ６は、水素又は直鎖若しくは分枝鎖のＣ１−Ｃ２０アルキル基であり、
− 基（ＣＯ）−Ｙ−ＣＨＡ−（ＣＨ２）ｐ−ＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３は、アミノ基に対してメタ又はパラ位にあってよく、
− Ｚは以下の基：
（ｉ）直鎖又は分枝鎖のＣ１−Ｃ２０アルキル基、
（ｉｉ）直鎖又は分枝鎖のＣ２−Ｃ２０ヒドロキシアルキル基、
（ｉｉｉ）直鎖又は分枝鎖のＣ１−Ｃ２０アルコキシ基、
（ｉｖ）下式のタイプのパラ−アルコキシフェニル基
であってよい。
− 基Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は、同一であるか又は異なるものであってよく、直鎖又は分枝鎖で飽和又は不飽和の、１つ又は複数のハロゲン原子（例えば、Ｃｌ、Ｂｒ、又はＦ）を含んでよい、Ｃ１−Ｃ１２アルキル基；フェニル基であり、
− ｐは０又は１であり、
− Ｙは−Ｏ−又は−ＮＲ５であり、
− 基Ｒ５は水素、直鎖若しくは分枝鎖のＣ１−Ｃ８アルキル基又はＣ６−Ｃ１２のアリール基であり、
− Ａは水素、直鎖又は分枝鎖で飽和又は不飽和のＣ１−Ｃ８アルキル基、フェニル基、又は基Ｓｉ（ＣＨ３）３であるが、ＡがＳｉ（ＣＨ３）３である場合は、ｐ＝０であり、且つ、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３はメチルである、
− 基Ｒ４は、直鎖又は分枝鎖で飽和又は不飽和のＣ１−Ｃ２０アルキル基、ＯＨ基、直鎖又は分枝鎖のＣ１−Ｃ２０アルコキシ基、又は基−（Ｃ＝Ｏ）−Ｙ−Ｒ６であり、
− ｎは０、１、又は２であり、
− 基Ｒ６は、水素又は直鎖若しくは分枝鎖のＣ１−Ｃ２０アルキル基であり、
− 基（ＣＯ）−Ｙ−ＣＨＡ−（ＣＨ２）ｐ−ＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３は、アミノ基に対してメタ又はパラ位にあってよく、
− Ｚは以下の基：
（ｉ）直鎖又は分枝鎖のＣ１−Ｃ２０アルキル基、
（ｉｉ）直鎖又は分枝鎖のＣ２−Ｃ２０ヒドロキシアルキル基、
（ｉｉｉ）直鎖又は分枝鎖のＣ１−Ｃ２０アルコキシ基、
（ｉｖ）下式のタイプのパラ−アルコキシフェニル基
であってよい。
式中、
Ｒ７は、
− 水素；
− 直鎖又は分枝鎖のＣ１−Ｃ２０アルキル基；
− Ｃ６−Ｃ１０アリール基；
− 基−（ＣＨ２ＣＨＲ９−Ｏ）ｍＲ１０又は基−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ１０であり、
Ｒ９は、水素又はメチルであり、
Ｒ１０は水素又は直鎖若しくは分枝鎖のＣ１−Ｃ８アルキル基であり、
ｍは１〜２０であり、
− 基Ｒ８は、同一であるか又は異なるものであってよく、直鎖若しくは分枝鎖のＣ１−Ｃ８アルキル基、ＯＨ基、又は直鎖若しくは分枝鎖のＣ１−Ｃ８アルコキシ基であり、当該アルコキシ基は、オルト基ＯＲ７と共に、Ｃ１−Ｃ２ジオキシアルキレン環を形成してよいが、Ｒ８はＯＲ７基に対してメタ位におけるヒドロキシル基にはなり得ず、
− ｑ＝０−３である。
Ｚは以下の基：
（ｖ）基ＮＨＲ１１又は基Ｎ（Ｒ１１）２［Ｒ１１は直鎖又は分枝鎖のＣ１−Ｃ２０アルキル基である］
（ｖｉ）下式の基
であってもよい。
Ｒ７は、
− 水素；
− 直鎖又は分枝鎖のＣ１−Ｃ２０アルキル基；
− Ｃ６−Ｃ１０アリール基；
− 基−（ＣＨ２ＣＨＲ９−Ｏ）ｍＲ１０又は基−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ１０であり、
Ｒ９は、水素又はメチルであり、
Ｒ１０は水素又は直鎖若しくは分枝鎖のＣ１−Ｃ８アルキル基であり、
ｍは１〜２０であり、
− 基Ｒ８は、同一であるか又は異なるものであってよく、直鎖若しくは分枝鎖のＣ１−Ｃ８アルキル基、ＯＨ基、又は直鎖若しくは分枝鎖のＣ１−Ｃ８アルコキシ基であり、当該アルコキシ基は、オルト基ＯＲ７と共に、Ｃ１−Ｃ２ジオキシアルキレン環を形成してよいが、Ｒ８はＯＲ７基に対してメタ位におけるヒドロキシル基にはなり得ず、
− ｑ＝０−３である。
Ｚは以下の基：
（ｖ）基ＮＨＲ１１又は基Ｎ（Ｒ１１）２［Ｒ１１は直鎖又は分枝鎖のＣ１−Ｃ２０アルキル基である］
（ｖｉ）下式の基
であってもよい。
Ｚは以下の基：
（ｖｉｉ）基−ＮＨ−Ｗ［式中、ＷはＵＶ照射を遮断するための発色団であり、ベンジリデンカンファー、ベンザルマロネート、ベンゾエート、サリチレート、アントラニレート、ベンゾトリアゾール、ベンズイミダゾール、ベンゾキサゾール、ベンゾチアゾール、シンナメート、又はシンナモニトリルからなる群から特に選択される］
であってもよい。
（ｖｉｉ）基−ＮＨ−Ｗ［式中、ＷはＵＶ照射を遮断するための発色団であり、ベンジリデンカンファー、ベンザルマロネート、ベンゾエート、サリチレート、アントラニレート、ベンゾトリアゾール、ベンズイミダゾール、ベンゾキサゾール、ベンゾチアゾール、シンナメート、又はシンナモニトリルからなる群から特に選択される］
であってもよい。
上記式（Ｉ）では、アルキル基は、直鎖又は分枝鎖、且つ、飽和又は不飽和であってよく、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−アミル、イソアミル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシル、ｎ−へプチル、ｎ−オクチル、２−エチルヘキシル、及びｔｅｒｔ−オクチル基から特に選択されてよい。特に好ましいアルキル基はメチル基である。
上記式（Ｉ）では、アリール基は好ましくはフェニル基である。
式（Ｉ）の少なくとも２つの特定のシランアミノベンゾエート基を有するｓ−トリアジン誘導体は、以下の特性：
− Ｒ１からＲ３は、Ｃ１−Ｃ４アルキルであり、より好ましくはメチルである、
− ｐは０である、
− ＡはＨまたはＳｉ（ＣＨ３）３である、
− Ｙは−Ｏ−又は−ＮＨ−である、
− ｎは０又は１である、
− Ｚはシランアミノベンゾエート又はパラ−メトキシフェニル基である、
− Ｆはベンゾエート又はベンジリデンカンファー基である
の好ましくは少なくとも１つ、より好ましくは全てを有する。
− Ｒ１からＲ３は、Ｃ１−Ｃ４アルキルであり、より好ましくはメチルである、
− ｐは０である、
− ＡはＨまたはＳｉ（ＣＨ３）３である、
− Ｙは−Ｏ−又は−ＮＨ−である、
− ｎは０又は１である、
− Ｚはシランアミノベンゾエート又はパラ−メトキシフェニル基である、
− Ｆはベンゾエート又はベンジリデンカンファー基である
の好ましくは少なくとも１つ、より好ましくは全てを有する。
より好ましい式（Ｉ）の化合物として、下式（ａ）から（ｇ）の化合物から選択されるものが挙げられる。
本発明の１つの特定の態様によれば、式（Ｉ）の不溶性化合物は微粉化された状態であり、それらの平均粒径は１０ｎｍから５μｍの間である。
前記粒子は、好ましくは、１０ｎｍから２μｍの間、より好ましくは２０ｎｍから２μｍの間の平均粒径を有する。
前記粒子の平均粒径は、光学的方法（準弾性光散乱又はレーザー散乱）、遠心分離法、又は顕微鏡による視覚的な方法及び画像分析などの、任意の標準的な方法で測定されてよい。
本発明に係る不溶性有機スクリーン剤は、乾燥状態における製粉若しくは溶媒中における製粉、スクリーニング、微粉化、微粒化、又はスプレーなどの任意の適切な手段によって、所望の平均粒径を有する粒子状にされてよい。
式（Ｉ）の誘導体は、以下のスキームＡに従って得られてよい。
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ａ、Ｚ、Ｙ、ｎ、及びｐは、上記式（Ｉ）の定義を有し、Ｘはハロゲン、特に塩素又は臭素である。
上記反応は、溶媒なしで又は溶媒（例えば、トルエン、キシレン、又はアセトン／水）の存在下において、０℃から２５０℃の間の温度、とりわけ５℃から１５０℃の間で任意に実施されてよい。
式（ＩＩ）の化合物は、例えば、下記スキームＢによる、Ｂｕｌｌｅｔｉｎ ｏｆ ｔｈｅ Ａｃａｄｅｍｙ ｏｆ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ ｏｆ ｔｈｅ ＵＳＳＲ、Ｄｉｖｉｓｉｏｎ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ ４、ｐａｇｅｓ ８４１−２（１９８４）に開示されている既知の方法に従って調製されてよい。
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ａ、ｎ、及びｐは、上記式（Ｉ）の定義を有し、Ｙ１はハロゲン、特に塩素、臭素、又はヨウ素であり、Ｍ＋はアルカリ金属、例えば、ナトリウム又はカリウムである。
式（Ｉ）の化合物は、下記のスキームＣによる、式（ＩＩＩ）の誘導体のトランスエステル化によって得られてもよい。
式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ａ、Ｚ、ｎ、及びｐは、上記式（Ｉ）の定義を有し、Ｒ１２はメチル又はエチルであり、Ｙ２はＯＨ又はＮＨ２である。
式（ＩＩＩ）のハロゲン化シラン誘導体として、以下の市販の製品：Ｗａｃｋｅｒ社から市販されているクロロメチルトリメチルシラン（ＲＮ ２３４４−８０−１）、ヨードメチルトリメチルシラン（ＲＮ ４２ ０６−６７−１）、（クロロメチル）ジメチルエチルシラン（ＲＮ ３１２１−７７−５）、（クロロメチル）ジメチル−ｎ−ブチルシラン（ＲＮ ３１２１−７５−３）、（クロロメチル）ジメチルペンチルシラン（ＲＮ ７３０１３−３９−５）、（クロロメチル）ドデシルジメチルシラン（ＲＮ７０８５１−４７−７）、（クロロメチル）トリエチルシラン（ＲＮ ７５７−３４−６）、２−クロロエチルトリメチルシラン（ＲＮ ７７８７−８７−３）、ビス（トリメチルシリル）メチルクロリド（ＲＮ ５９２６−３５−２）、（クロロメチル）ジメチルフェニルシラン（ＲＮ １８３３−５１−８）、（クロロメチル）ジフェニルメチルシラン（ＲＮ １８４０７−４０−４）、及び（トリメチルシリルメチル）ジメチルクロロメチルシラン（ＲＮ １８３０６−７３−５）が挙げられてよい。
Ｙ２がＯＨである式（Ｖ）の誘導体として、市販のヒドロキシメチルトリメチルシラン（ＲＮ ３２１９−６３−４）又は２−（トリメチルシリル）エタノール（ＲＮ ２９１６−６８−９）が挙げられてよい。
Ｙ２がＮＨ２である式（Ｖ）の誘導体として、Ｇｅｌｅｓｔ社製のアミノメチルトリメチルシラン（ＲＮ １８１６６−０２−４）、及び（フェニル）（トリメチルシリル）メチルアミン又はビス（トリメチルシリル）メチルアミン（ＲＮ １３４３４０−００−４）が挙げられてよい。
本発明の分散可能なスクリーン剤の油中における溶解度は、２５℃で３％未満、とりわけ１％未満であると規定されてよい。
使用される化粧油は、特に、液体ワセリン、脂肪酸トリグリセリドの混合物、例えば、カプリル／カプリントリグリセリド（Ｍｉｇｌｙｏｌ８１２）、フェンチルベンゾエート（Ｘ−Ｔｅｎｄ）、イソプロピルラウロイルサルコシネート（Ｅｌｄｅｗ ＳＬ）、アルキルベンゾエート（Ｆｉｎｓｏｌｖ ＴＮ）、又はエチルヘキシルメトキシシンナメート（Ｐａｒｓｏｌ ＭＣＸ）であってよい。
スクリーン剤は、水にも不溶性である（２５℃で１％未満の溶解度）。
式（Ｉ）の化合物は、一般的に、組成物の全重量に対して０．０１重量％から２０重量％の間、好ましくは０．１重量％から１０重量％の間の割合において、本発明の組成物中に存在する。
本発明に係る組成物は、水溶性又は脂溶性であるか或いは一般的に使用される化粧溶媒に不溶性ですらある、他の追加のＵＶ−Ａ−活性及び／又はＵＶ−Ｂ−活性の有機又は無機ＵＶスクリーン剤を含んでもよい。
追加の有機ＵＶスクリーン剤は、アントラニレート；桂皮酸誘導体；ジベンゾイルメタン誘導体；サリチル酸誘導体；カンファー誘導体；ベンゾフェノン誘導体；β，β−ジフェニルアクリレート誘導体；式（Ｉ）のもの以外のトリアジン誘導体；ベンゾトリアゾール誘導体；ベンザルマロネート誘導体、特に、特許ＵＳ５６２４６６３で言及されているもの；ベンズイミダゾール誘導体；イミダゾリン；特許ＥＰ６６９３２３及びＵＳ２４６３２６４に記載のビスベンザゾリル誘導体；ｐ−アミノ安息香酸（ＰＡＢＡ）誘導体；特許出願ＵＳ５２３７０７１、ＵＳ５１６６３５５、ＧＢ２３０３５４９、ＤＥ１９７２６１８４、及びＥＰ８９３１１９に記載のようなメチレンビス（ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール）誘導体：特許出願ＥＰ０８３２６４２、ＥＰ１０２７８８３、ＥＰ１３００１３７、及びＤＥ１０１６２８４４に記載のようなベンゾキサゾール誘導体；特許出願ＷＯ９３／０４６６５に特に開示されているものなどのスクリーンポリマー及びスクリーンシリコーン：α−アルキルスチレン系二量体、例えば、特許出願ＤＥ １９８ ５５ ６４９に記載のもの；４，４−ジアリールブタジエン、例えば、特許出願ＥＰ０９６７２００、ＤＥ１９７４６６５４、ＤＥ１９７５５６４９、ＥＰ−Ａ−１００８５８６、ＥＰ１１３３９８０、及びＥＰ１１３３９８１に記載のもの、並びにそれらの混合物から特に選択される。
追加の有機ＵＶスクリーン剤の例として、ＩＮＣＩ名で以下に記載のものから選択されれる。
パラアミノ安息香酸誘導体：
ＰＡＢＡ、
エチルＰＡＢＡ、
エチルジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ、
ＩＳＰによってＥｓｃａｌｏｌ ５０７の名称で特に市販されているエチルヘキシルジメチルＰＡＢＡ、
グリセリルＰＡＢＡ、
ＢＡＳＦによってＵｖｉｎｕｌ Ｐ２５の名称で市販されているＰＥＧ−２５ ＰＡＢＡ、
ジベンゾイルメタン誘導体：
ＤＳＭによってＰａｒｓｏｌ １７８９の商品名で特に市販されているブチルメトキシジベンゾイルメタン、
ＭｅｒｃｋによってＥｕｓｏｌｅｘ ８０２０の商品名で特に市販されているイソプロピルジベンゾイルメタン、
サリチル酸誘導体：
Ｒｏｎａ／ＥＭ ＩｎｄｕｓｔｒｉｅｓによるＥｕｓｏｌｅｘ ＨＭＳの名称で市販されているホモサレート、
Ｈａａｒｍａｎｎ ａｎｄ ＲｅｉｍｅｒによってＮｅｏ Ｈｅｌｉｏｐａｎ ＯＳの名称で市販されているエチルヘキシルサリチレート、
ＳｃｈｅｒによってＤｉｐｓａｌの名称で市販されているジプロピレングリコールサリチレート、
Ｈａａｒｍａｎｎ ａｎｄ ＲｅｉｍｅｒによってＮｅｏ Ｈｅｌｉｏｐａｎ ＴＳの名称で市販されているＴＥＡサリチレート、
桂皮酸誘導体：
ＤＳＭによってＰａｒｓｏｌ ＭＣＸの商品名で特に市販されているエチルヘキシルメトキシシンナメート、
イソプロピルメトキシシンナメート、
Ｈａａｒｍａｎｎ ａｎｄ ＲｅｉｍｅｒによってＮｅｏ Ｈｅｌｉｏｐａｎ Ｅ １０００の商品名で市販されているイソアミルメトキシシンナメート、
シノキセート、
ＤＥＡメトキシシンナメート、
− ジイソプロピルメチルシンナメート、
グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート、
β，β−ジフェニルアクリレート誘導体：
ＢＡＳＦによってＵｖｉｎｕｌ Ｎ５３９の商品名で特に市販されているオクトクリレン、
ＢＡＳＦによってＵｖｉｎｕｌ Ｎ３５の商品名で特に市販されているエトクリレン、
ベンゾフェノン誘導体：
ＢＡＳＦによってＵｖｉｎｕｌ ４００の商品名で市販されているベンゾフェノン−１、
ＢＡＳＦによってＵｖｉｎｕｌ Ｄ５０の商品名で市販されているベンゾフェノン−２、
ＢＡＳＦによってＵｖｉｎｕｌ Ｍ４０の商品名で市販されているベンゾフェノン−３又はオキシベンゾン、
ＢＡＳＦによってＵｖｉｎｕｌ ＭＳ４０の商品名で市販されているベンゾフェノン−４、
ベンゾフェノン−５、
ＮｏｒｑｕａｙによってＨｅｌｉｓｏｒｂ １１の商品名で市販されているベンゾフェノン−６、
Ａｍｅｒｉｃａｎ ＣｙａｎａｍｉｄによってＳｐｅｃｔｒａ−Ｓｏｒｂ ＵＶ−２４の商品名で市販されているベンゾフェノン−８、
ＢＡＳＦによってＵｖｉｎｕｌ ＤＳ−４９の商品名で市販されているベンゾフェノン−９、
ベンゾフェノン−１２、
ＢＡＳＦによってＵｖｉｎｕｌ Ａ＋の商品名で市販されているｎ−ヘキシル２−（４−ジエチルアミノ−２−ヒドロキシベンゾイル）ベンゾエート、又はＵｖｉｎｕｌ Ａ＋Ｂの商品名で市販されている製品などのエチルヘキシルメトキシシンナメートとの混合物の形態のｎ−ヘキシル２−（４−ジエチルアミノ−２−ヒドロキシベンゾイル）ベンゾエート、
ベンジリデンカンファー誘導体：
ＣｈｉｍｅｘによってＭｅｘｏｒｙｌ ＳＤの名称で製造されている３−ベンジリデンカンファー、
ＭｅｒｃｋによってＥｕｓｏｌｅｘ ６３００の名称で市販されている４−メチルベンジリデンカンファー、
ＣｈｉｍｅｘによってＭｅｘｏｒｙｌ ＳＬの名称で製造されているベンジリデンカンファースルホン酸、
ＣｈｉｍｅｘによってＭｅｘｏｒｙｌ ＳＯの名称で製造されているカンファーベンザルコニウムメトスルフェート、
ＣｈｉｍｅｘによってＭｅｘｏｒｙｌ ＳＸの名称で製造されているテレフタリリデンジカンファースルホン酸、
ＣｈｉｍｅｘによってＭｅｘｏｒｙｌ ＳＷの名称で製造されているポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー、
フェニルベンズイミダゾール誘導体：
ＭｅｒｃｋによってＥｕｓｏｌｅｘ ２３２の商品名で特に市販されているフェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
Ｈａａｒｍａｎｎ ａｎｄ ＲｅｉｍｅｒによってＮｅｏ Ｈｅｌｉｏｐａｎ ＡＰの商品名で市販されているフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸ジナトリウム、
フェニルベンゾトリアゾール誘導体：
Ｒｈｏｄｉａ ＣｈｉｍｉｅによってＳｉｌａｔｒｉｚｏｌｅの名称で市販されているドロメトリゾールトリシロキサン、
Ｆａｉｒｍｏｕｎｔ ＣｈｅｍｉｃａｌによってＭＩＸＸＩＭ ＢＢ／１００の商品名で固体状態で市販されているか又はＣｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ ＣｈｅｍｉｃａｌｓによってＴｉｎｏｓｏｒｂ Ｍの商品名で水性分散物として微粉化された状態で市販されているメチレンビス（ベンゾトリアゾリル）テトラメチルブチルフェノール、
トリアジン誘導体：
Ｃｉｂａ ＧｅｉｇｙによってＴｉｎｏｓｏｒｂ Ｓの商品名で市販されているビスエチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、
ＢＡＳＦによってＵｖｉｎｕｌ Ｔ１５０の商品名で特に市販されているエチルヘキシルトリアジン、
Ｓｉｇｍａ ３ＶによってＵｖａｓｏｒｂ ＨＥＢの商品名で市販されているジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
２，４，６−トリス（ジネオペンチル４’−アミノベンザルマロネート）−ｓ−トリアジン、
２，４，６−トリス（ジイソブチル４’−アミノベンザルマロネート）−ｓ−トリアジン、
特許ＵＳ６２２５４６７、特許出願ＷＯ２００４／０８５４１２（化合物６及び９参照のこと）、又は文献「Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃａｌ Ｔｒｉａｚｉｎｅ Ｄｅｒｉｖａｔｉｖｅｓ」ＩＰ．ＣＯＭ Ｊｏｕｒｎａｌ，ＩＰ．ＣＯＭ ＩＮＣ ＷＥＳＴ ＨＥＮＲＩＥＴＴＡ，ＮＹ，ＵＳ（２０ Ｓｅｐｔｅｍｂｅｒ ２００４）に記載の対称トリアジンスクリーン剤、特に、２，４，６−トリス（ビフェニル）−１，３，５−トリアジン（特に、２，４，６−トリス（ビフェニル４−イル−１，３，５−トリアジン）、及び特許出願ＷＯ０６／０３５０００、ＷＯ０６／０３４９８２、ＷＯ０６／０３４９９１、ＷＯ０６／０３５００７、ＷＯ２００６／０３４９９２、及びＷＯ２００６／０３４９８５にも記載の２，４，６−トリス（ターフェニル）−１，３，５−トリアジン、
アントラニル誘導体：
Ｈａａｒｍａｎｎ ａｎｄ ＲｅｉｍｅｒによってＮｅｏ Ｈｅｌｉｏｐａｎ ＭＡの商品名で市販されているメンチルアントラニレート、
イミダゾリン誘導体：
エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオネート、
ベンザルマロネート誘導体：
ジネオペンチル４’−メトキシベンザルマロネート、
ベンザルマロネート官能基を含有するポリオルガノシロキサン、例えば、Ｈｏｆｆｍａｎｎ ＬａＲｏｃｈｅによってＰａｒｓｏｌ ＳＬＸの商品名で市販されているＰｏｌｙｓｉｌｉｃｏｎｅ−１５、
４，４−ジアリールブタジエン誘導体：
− １，１−ジカルボキシ（２，２’−ジメチルプロピル）−４，４−ジフェニルブタジエン、
ベンゾキサゾール誘導体：
Ｓｉｇｍａ ３ＶによってＵｖａｓｏｒｂ Ｋ２Ａの名称で市販されている２，４−ビス［５−１（ジメチルプロピル）ベンゾキサゾール−２−イル（４−フェニル）イミノ］−６−（２−エチルヘキシル）イミノ−１，３，５−トリアジン、並びに
それらの混合物
が挙げられてよい。
ＰＡＢＡ、
エチルＰＡＢＡ、
エチルジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ、
ＩＳＰによってＥｓｃａｌｏｌ ５０７の名称で特に市販されているエチルヘキシルジメチルＰＡＢＡ、
グリセリルＰＡＢＡ、
ＢＡＳＦによってＵｖｉｎｕｌ Ｐ２５の名称で市販されているＰＥＧ−２５ ＰＡＢＡ、
ジベンゾイルメタン誘導体：
ＤＳＭによってＰａｒｓｏｌ １７８９の商品名で特に市販されているブチルメトキシジベンゾイルメタン、
ＭｅｒｃｋによってＥｕｓｏｌｅｘ ８０２０の商品名で特に市販されているイソプロピルジベンゾイルメタン、
サリチル酸誘導体：
Ｒｏｎａ／ＥＭ ＩｎｄｕｓｔｒｉｅｓによるＥｕｓｏｌｅｘ ＨＭＳの名称で市販されているホモサレート、
Ｈａａｒｍａｎｎ ａｎｄ ＲｅｉｍｅｒによってＮｅｏ Ｈｅｌｉｏｐａｎ ＯＳの名称で市販されているエチルヘキシルサリチレート、
ＳｃｈｅｒによってＤｉｐｓａｌの名称で市販されているジプロピレングリコールサリチレート、
Ｈａａｒｍａｎｎ ａｎｄ ＲｅｉｍｅｒによってＮｅｏ Ｈｅｌｉｏｐａｎ ＴＳの名称で市販されているＴＥＡサリチレート、
桂皮酸誘導体：
ＤＳＭによってＰａｒｓｏｌ ＭＣＸの商品名で特に市販されているエチルヘキシルメトキシシンナメート、
イソプロピルメトキシシンナメート、
Ｈａａｒｍａｎｎ ａｎｄ ＲｅｉｍｅｒによってＮｅｏ Ｈｅｌｉｏｐａｎ Ｅ １０００の商品名で市販されているイソアミルメトキシシンナメート、
シノキセート、
ＤＥＡメトキシシンナメート、
− ジイソプロピルメチルシンナメート、
グリセリルエチルヘキサノエートジメトキシシンナメート、
β，β−ジフェニルアクリレート誘導体：
ＢＡＳＦによってＵｖｉｎｕｌ Ｎ５３９の商品名で特に市販されているオクトクリレン、
ＢＡＳＦによってＵｖｉｎｕｌ Ｎ３５の商品名で特に市販されているエトクリレン、
ベンゾフェノン誘導体：
ＢＡＳＦによってＵｖｉｎｕｌ ４００の商品名で市販されているベンゾフェノン−１、
ＢＡＳＦによってＵｖｉｎｕｌ Ｄ５０の商品名で市販されているベンゾフェノン−２、
ＢＡＳＦによってＵｖｉｎｕｌ Ｍ４０の商品名で市販されているベンゾフェノン−３又はオキシベンゾン、
ＢＡＳＦによってＵｖｉｎｕｌ ＭＳ４０の商品名で市販されているベンゾフェノン−４、
ベンゾフェノン−５、
ＮｏｒｑｕａｙによってＨｅｌｉｓｏｒｂ １１の商品名で市販されているベンゾフェノン−６、
Ａｍｅｒｉｃａｎ ＣｙａｎａｍｉｄによってＳｐｅｃｔｒａ−Ｓｏｒｂ ＵＶ−２４の商品名で市販されているベンゾフェノン−８、
ＢＡＳＦによってＵｖｉｎｕｌ ＤＳ−４９の商品名で市販されているベンゾフェノン−９、
ベンゾフェノン−１２、
ＢＡＳＦによってＵｖｉｎｕｌ Ａ＋の商品名で市販されているｎ−ヘキシル２−（４−ジエチルアミノ−２−ヒドロキシベンゾイル）ベンゾエート、又はＵｖｉｎｕｌ Ａ＋Ｂの商品名で市販されている製品などのエチルヘキシルメトキシシンナメートとの混合物の形態のｎ−ヘキシル２−（４−ジエチルアミノ−２−ヒドロキシベンゾイル）ベンゾエート、
ベンジリデンカンファー誘導体：
ＣｈｉｍｅｘによってＭｅｘｏｒｙｌ ＳＤの名称で製造されている３−ベンジリデンカンファー、
ＭｅｒｃｋによってＥｕｓｏｌｅｘ ６３００の名称で市販されている４−メチルベンジリデンカンファー、
ＣｈｉｍｅｘによってＭｅｘｏｒｙｌ ＳＬの名称で製造されているベンジリデンカンファースルホン酸、
ＣｈｉｍｅｘによってＭｅｘｏｒｙｌ ＳＯの名称で製造されているカンファーベンザルコニウムメトスルフェート、
ＣｈｉｍｅｘによってＭｅｘｏｒｙｌ ＳＸの名称で製造されているテレフタリリデンジカンファースルホン酸、
ＣｈｉｍｅｘによってＭｅｘｏｒｙｌ ＳＷの名称で製造されているポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー、
フェニルベンズイミダゾール誘導体：
ＭｅｒｃｋによってＥｕｓｏｌｅｘ ２３２の商品名で特に市販されているフェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
Ｈａａｒｍａｎｎ ａｎｄ ＲｅｉｍｅｒによってＮｅｏ Ｈｅｌｉｏｐａｎ ＡＰの商品名で市販されているフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸ジナトリウム、
フェニルベンゾトリアゾール誘導体：
Ｒｈｏｄｉａ ＣｈｉｍｉｅによってＳｉｌａｔｒｉｚｏｌｅの名称で市販されているドロメトリゾールトリシロキサン、
Ｆａｉｒｍｏｕｎｔ ＣｈｅｍｉｃａｌによってＭＩＸＸＩＭ ＢＢ／１００の商品名で固体状態で市販されているか又はＣｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ ＣｈｅｍｉｃａｌｓによってＴｉｎｏｓｏｒｂ Ｍの商品名で水性分散物として微粉化された状態で市販されているメチレンビス（ベンゾトリアゾリル）テトラメチルブチルフェノール、
トリアジン誘導体：
Ｃｉｂａ ＧｅｉｇｙによってＴｉｎｏｓｏｒｂ Ｓの商品名で市販されているビスエチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、
ＢＡＳＦによってＵｖｉｎｕｌ Ｔ１５０の商品名で特に市販されているエチルヘキシルトリアジン、
Ｓｉｇｍａ ３ＶによってＵｖａｓｏｒｂ ＨＥＢの商品名で市販されているジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
２，４，６−トリス（ジネオペンチル４’−アミノベンザルマロネート）−ｓ−トリアジン、
２，４，６−トリス（ジイソブチル４’−アミノベンザルマロネート）−ｓ−トリアジン、
特許ＵＳ６２２５４６７、特許出願ＷＯ２００４／０８５４１２（化合物６及び９参照のこと）、又は文献「Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃａｌ Ｔｒｉａｚｉｎｅ Ｄｅｒｉｖａｔｉｖｅｓ」ＩＰ．ＣＯＭ Ｊｏｕｒｎａｌ，ＩＰ．ＣＯＭ ＩＮＣ ＷＥＳＴ ＨＥＮＲＩＥＴＴＡ，ＮＹ，ＵＳ（２０ Ｓｅｐｔｅｍｂｅｒ ２００４）に記載の対称トリアジンスクリーン剤、特に、２，４，６−トリス（ビフェニル）−１，３，５−トリアジン（特に、２，４，６−トリス（ビフェニル４−イル−１，３，５−トリアジン）、及び特許出願ＷＯ０６／０３５０００、ＷＯ０６／０３４９８２、ＷＯ０６／０３４９９１、ＷＯ０６／０３５００７、ＷＯ２００６／０３４９９２、及びＷＯ２００６／０３４９８５にも記載の２，４，６−トリス（ターフェニル）−１，３，５−トリアジン、
アントラニル誘導体：
Ｈａａｒｍａｎｎ ａｎｄ ＲｅｉｍｅｒによってＮｅｏ Ｈｅｌｉｏｐａｎ ＭＡの商品名で市販されているメンチルアントラニレート、
イミダゾリン誘導体：
エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオネート、
ベンザルマロネート誘導体：
ジネオペンチル４’−メトキシベンザルマロネート、
ベンザルマロネート官能基を含有するポリオルガノシロキサン、例えば、Ｈｏｆｆｍａｎｎ ＬａＲｏｃｈｅによってＰａｒｓｏｌ ＳＬＸの商品名で市販されているＰｏｌｙｓｉｌｉｃｏｎｅ−１５、
４，４−ジアリールブタジエン誘導体：
− １，１−ジカルボキシ（２，２’−ジメチルプロピル）−４，４−ジフェニルブタジエン、
ベンゾキサゾール誘導体：
Ｓｉｇｍａ ３ＶによってＵｖａｓｏｒｂ Ｋ２Ａの名称で市販されている２，４−ビス［５−１（ジメチルプロピル）ベンゾキサゾール−２−イル（４−フェニル）イミノ］−６−（２−エチルヘキシル）イミノ−１，３，５−トリアジン、並びに
それらの混合物
が挙げられてよい。
好ましい追加の有機ＵＶスクリーン剤は、
ブチルメトキシジベンゾイルメタン、
エチルヘキシルメトキシシンナメート、
ホモサレート、
エチルヘキシルサリチレート、
オクトクリレン、
フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
ベンゾフェノン−３、
ベンゾフェノン−４、
ベンゾフェノン−５、
ｎ−ヘキシル２−（４−ジエチルアミノ−２−ヒドロキシベンゾイル）ベンゾエート、
４−メチルベンジリデンカンファー、
テレフタリリデンジカンファースルホン酸、
フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、
メチレンビス（ベンゾトリアゾリル）テトラメチルブチルフェノール、
エチルヘキシルトリアゾン、
ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェイルトリアジン、
ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
２，４，６−トリス（ジネオペンチル４’−アミノベンザルマロネート）−ｓ−トリアジン、
２，４，６−トリス（ジイソブチル４’−アミノベンザルマロネート）−ｓ−トリアジン、
２，４，６−トリス（ビフェニル−４−イル−１，３，５−トリアジン）、
２，４，６−トリス（テルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
ドロメトリゾールトリシロキサン、
ポリシリコーン−１５、
ジネオペンチル４’−メトキシベンザルマロネート、
１，１−ジカルボキシ（２，２’−ジメチルプロピル）−４，４−ジフェニルブタジエン、
２，４−ビス［５−１（ジメチルプロピル）ベンゾキサゾール−２−イル（４−フェニル）イミノ］−６−（２−エチルヘキシル）イミノ−１，３，５−トリアジン、及び
それらの混合物
から選択される。
ブチルメトキシジベンゾイルメタン、
エチルヘキシルメトキシシンナメート、
ホモサレート、
エチルヘキシルサリチレート、
オクトクリレン、
フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
ベンゾフェノン−３、
ベンゾフェノン−４、
ベンゾフェノン−５、
ｎ−ヘキシル２−（４−ジエチルアミノ−２−ヒドロキシベンゾイル）ベンゾエート、
４−メチルベンジリデンカンファー、
テレフタリリデンジカンファースルホン酸、
フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、
メチレンビス（ベンゾトリアゾリル）テトラメチルブチルフェノール、
エチルヘキシルトリアゾン、
ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェイルトリアジン、
ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
２，４，６−トリス（ジネオペンチル４’−アミノベンザルマロネート）−ｓ−トリアジン、
２，４，６−トリス（ジイソブチル４’−アミノベンザルマロネート）−ｓ−トリアジン、
２，４，６−トリス（ビフェニル−４−イル−１，３，５−トリアジン）、
２，４，６−トリス（テルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
ドロメトリゾールトリシロキサン、
ポリシリコーン−１５、
ジネオペンチル４’−メトキシベンザルマロネート、
１，１−ジカルボキシ（２，２’−ジメチルプロピル）−４，４−ジフェニルブタジエン、
２，４−ビス［５−１（ジメチルプロピル）ベンゾキサゾール−２−イル（４−フェニル）イミノ］−６−（２−エチルヘキシル）イミノ−１，３，５−トリアジン、及び
それらの混合物
から選択される。
無機ＵＶスクリーン剤は、被覆されているか又はされていない金属酸化物顔料（一次粒子の平均粒径は、一般的には５ｎｍから１００ｎｍの間、好ましくは１０ｎｍから５０ｎｍの間である）、例えば、酸化チタン（ルチル及び／又はアナターゼ型の結晶又は非晶質）、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、又は酸化セリウム顔料であり、これらは全て、それら自体でよく知られたＵＶ光保護剤である。
顔料は被覆されているか又は被覆されていなくてよい。
被覆されている顔料は、例えばＣｏｓｍｅｔｉｃｓ ＆ Ｔｏｉｌｅｔｒｉｅｓ，Ｆｅｂｒｕａｒｙ １９９０，Ｖｏｌ．１０５，ｐｐ．５３−６４に記載の化合物、例えば、アミノ酸、ミツロウ、脂肪酸、脂肪アルコール、アニオン性界面活性剤、レシチン、脂肪酸のナトリウム、カリウム、亜鉛、鉄、若しくはアルミニウム塩、金属アルコキシド（チタン又はアルミニウムのもの）、ポリエチレン、シリコーン、タンパク質（コラーゲン、エラスチン）、アルカノールアミン、酸化ケイ素、金属酸化物、又はヘキサメタリン酸ナトリウムを用いた化学的、電気的、機械化学的、及び／又は機械的な性質の１つ又は複数の表面処理を受けている。
周知のとおり、シリコーンは、適切な官能化シランの重合及び／又は重縮合によって得られる、各種の分子量を有する、直鎖若しくは環式、分枝鎖、又は架橋されている構造の有機ケイ素ポリマー又はオリゴマーであり、ケイ素原子が酸素原子を介して互いに結合（シロキサン結合）しており、任意に置換された炭化水素系の基が前記ケイ素原子に炭素原子を介して直接結合している主要単位の反復から本質的になる。
用語「シリコーン」は、それらの調製に必要とされるシラン、特にアルキルシランをも含む。
本発明に適切なナノ顔料を被覆するためのシリコーンは、好ましくは、アルキルシラン、ポリジアルキルシロキサン、及びポリアルキルヒドロゲノシロキサンからなる群から選択される。より好ましくは、前記シリコーンは、オクチルトリメチルシラン、ポリジメチルシロキサン、及びポリメチルヒドロゲノシロキサンからなる群から選択される。
言うまでも無く、シリコーンで処理する前に、酸化金属顔料は、他の表面剤、特に酸化セリウム、アルミナ、シリカ、アルミニウム化合物、又はケイ素化合物、或いはそれらの混合物で処理されていてよい。
被覆顔料は、とりわけ、以下のもので被覆されている酸化チタンである：
− シリカ、例えばＩｋｅｄａ社製のＳｕｎｖｅｉｌ及びＭｅｒｃｋ社製のＥｕｓｏｌｅｘ Ｔ−ＡＶＯ、
− シリカ及び酸化鉄、例えば、Ｉｋｅｄａ社製のＳｕｎｖｅｉｌ Ｆ、
− シリカ及びアルミナ、例えば、Ｔａｙｃａ社製のＭｉｃｒｏｔｉｔａｎｉｕｍ Ｄｉｏｘｉｄｅ ＭＴ ５００ ＳＡ及びＭｉｃｒｏｔｉｔａｎｉｕｍ Ｄｉｏｘｉｄｅ ＭＴ １００ ＳＡ、Ｔｉｏｘｉｄｅ社製のＴｉｏｖｅｉｌ、及びＲｈｏｄｉａ社製のＭｉｒａｓｕｎ ＴｉＷ６０、
− アルミナ、例えば、Ｉｓｈｉｈａｒａ社製のＴｉｐａｑｕｅ ＴＴＯ−５５（Ｂ）及びＴｉｐａｑｕｅ ＴＴＯ−５５（Ａ）並びにＫｅｍｉｒａ社製のＵＶＴ １４／４、
− アルミナ及びステアリン酸アルミニウム、例えば、Ｔａｙｃａ社製のＭｉｃｒｏｔｉｔａｎｉｕｍ Ｄｉｏｘｉｄｅ ＭＴ １００ ＴＶ、ＭＴ １００ ＴＸ、ＭＴ １００ Ｚ、及びＭＴ−０１、並びにＵｎｉｑｅｍａ社製のＳｏｌａｖｅｉｌ ＣＴ−１０ Ｗ、Ｓｏｌａｖｅｉｏｌ ＣＴ １００、及びＳｏｌａｖｅｉｌ ＣＴ ２００、
− シリカ、アルミナ、及びアルギン酸、例えば、Ｔａｙｃａ社製のＭＴ−１００ ＡＱ、
− アルミナ及びラウリン酸アルミニウム、例えば、Ｔａｙｃａ社製のＭｉｃｒｏｔｉｔａｎｉｕｍ Ｄｉｏｘｉｄｅ ＭＴ １００ Ｓ、
− 酸化鉄及びステアリン酸鉄、例えば、Ｔａｙｃａ社製のＭｉｃｒｏｔｉｔａｎｉｕｍ Ｄｉｏｘｉｄｅ ＭＴ １００ Ｆ、
− 酸化亜鉛及びステアリン酸亜鉛、例えば、Ｔａｙｃａ社製のＢＲ３５１、
− シリカ及びアルミナ並びにシリコーンで処理、例えば、Ｔａｙｃａ社製のＭｉｃｒｏｔｉｔａｎｉｕｍ Ｄｉｏｘｉｄｅ ＭＴ ６００ ＳＡＳ、Ｍｉｃｒｏｔｉｔａｎｉｕｍ Ｄｉｏｘｉｄｅ ＭＴ ５００ ＳＡＳ、又はＭｉｃｒｏｔｉｔａｎｉｕｍ Ｄｉｏｘｉｄｅ ＭＴ １００ ＳＡＳ、
− シリカ、アルミナ、及びステアリン酸アルミニウム、並びにシリコーンで処理、例えば、Ｔｉｔａｎ Ｋｏｇｙｏ社製のＳＴＴ−３０−ＤＳ、
− シリカ及びシリコーンで処理、例えば、Ｋｅｍｉｒａ社製のＵＶ−Ｔｉｔａｎ Ｘ １９５、又はＴａｙｃａ社製のＳＭＴ−１００ ＷＲＳ、
− アルミナ及びシリコーンで処理、例えば、Ｉｓｈｉｈａｒａ社製のＴｉｐａｑｕｅ ＴＴＯ−５５（Ｓ）、又はＫｅｍｉｒａ社製のＵＶ Ｔｉｔａｎ Ｍ ２６２、
− トリエタノールアミン、例えば、Ｔｉｔａｎ Ｋｏｇｙｏ社製のＳＴＴ−６５−Ｓ、
− ステアリン酸、例えば、Ｉｓｈｉｈａｒａ社製のＴｉｐａｑｕｅ ＴＴＯ−５５（Ｃ）、
− ヘキサメタリン酸ナトリウム、例えば、Ｔａｙｃａ社製のＭｉｃｒｏｔｉｔａｎｉｕｍ Ｄｉｏｘｉｄｅ ＭＴ １５０ Ｗ。
− シリカ、例えばＩｋｅｄａ社製のＳｕｎｖｅｉｌ及びＭｅｒｃｋ社製のＥｕｓｏｌｅｘ Ｔ−ＡＶＯ、
− シリカ及び酸化鉄、例えば、Ｉｋｅｄａ社製のＳｕｎｖｅｉｌ Ｆ、
− シリカ及びアルミナ、例えば、Ｔａｙｃａ社製のＭｉｃｒｏｔｉｔａｎｉｕｍ Ｄｉｏｘｉｄｅ ＭＴ ５００ ＳＡ及びＭｉｃｒｏｔｉｔａｎｉｕｍ Ｄｉｏｘｉｄｅ ＭＴ １００ ＳＡ、Ｔｉｏｘｉｄｅ社製のＴｉｏｖｅｉｌ、及びＲｈｏｄｉａ社製のＭｉｒａｓｕｎ ＴｉＷ６０、
− アルミナ、例えば、Ｉｓｈｉｈａｒａ社製のＴｉｐａｑｕｅ ＴＴＯ−５５（Ｂ）及びＴｉｐａｑｕｅ ＴＴＯ−５５（Ａ）並びにＫｅｍｉｒａ社製のＵＶＴ １４／４、
− アルミナ及びステアリン酸アルミニウム、例えば、Ｔａｙｃａ社製のＭｉｃｒｏｔｉｔａｎｉｕｍ Ｄｉｏｘｉｄｅ ＭＴ １００ ＴＶ、ＭＴ １００ ＴＸ、ＭＴ １００ Ｚ、及びＭＴ−０１、並びにＵｎｉｑｅｍａ社製のＳｏｌａｖｅｉｌ ＣＴ−１０ Ｗ、Ｓｏｌａｖｅｉｏｌ ＣＴ １００、及びＳｏｌａｖｅｉｌ ＣＴ ２００、
− シリカ、アルミナ、及びアルギン酸、例えば、Ｔａｙｃａ社製のＭＴ−１００ ＡＱ、
− アルミナ及びラウリン酸アルミニウム、例えば、Ｔａｙｃａ社製のＭｉｃｒｏｔｉｔａｎｉｕｍ Ｄｉｏｘｉｄｅ ＭＴ １００ Ｓ、
− 酸化鉄及びステアリン酸鉄、例えば、Ｔａｙｃａ社製のＭｉｃｒｏｔｉｔａｎｉｕｍ Ｄｉｏｘｉｄｅ ＭＴ １００ Ｆ、
− 酸化亜鉛及びステアリン酸亜鉛、例えば、Ｔａｙｃａ社製のＢＲ３５１、
− シリカ及びアルミナ並びにシリコーンで処理、例えば、Ｔａｙｃａ社製のＭｉｃｒｏｔｉｔａｎｉｕｍ Ｄｉｏｘｉｄｅ ＭＴ ６００ ＳＡＳ、Ｍｉｃｒｏｔｉｔａｎｉｕｍ Ｄｉｏｘｉｄｅ ＭＴ ５００ ＳＡＳ、又はＭｉｃｒｏｔｉｔａｎｉｕｍ Ｄｉｏｘｉｄｅ ＭＴ １００ ＳＡＳ、
− シリカ、アルミナ、及びステアリン酸アルミニウム、並びにシリコーンで処理、例えば、Ｔｉｔａｎ Ｋｏｇｙｏ社製のＳＴＴ−３０−ＤＳ、
− シリカ及びシリコーンで処理、例えば、Ｋｅｍｉｒａ社製のＵＶ−Ｔｉｔａｎ Ｘ １９５、又はＴａｙｃａ社製のＳＭＴ−１００ ＷＲＳ、
− アルミナ及びシリコーンで処理、例えば、Ｉｓｈｉｈａｒａ社製のＴｉｐａｑｕｅ ＴＴＯ−５５（Ｓ）、又はＫｅｍｉｒａ社製のＵＶ Ｔｉｔａｎ Ｍ ２６２、
− トリエタノールアミン、例えば、Ｔｉｔａｎ Ｋｏｇｙｏ社製のＳＴＴ−６５−Ｓ、
− ステアリン酸、例えば、Ｉｓｈｉｈａｒａ社製のＴｉｐａｑｕｅ ＴＴＯ−５５（Ｃ）、
− ヘキサメタリン酸ナトリウム、例えば、Ｔａｙｃａ社製のＭｉｃｒｏｔｉｔａｎｉｕｍ Ｄｉｏｘｉｄｅ ＭＴ １５０ Ｗ。
シリコーンで処理された他の酸化チタン顔料は、好ましくは、例えばＤｅｇｕｓｓａ Ｓｉｌｉｃｅｓ社によってＴ ８０５という商品名で市販されている製品であり、一次粒子の平均粒径は２５ｎｍから４０ｎｍの間である、オクチルトリメチルシランで処理されたＴｉＯ２、例えばＣａｒｄｒｅ社によって７０２５０ Ｃａｒｄｒｅ ＵＦ ＴｉＯ２ＳＩ３という名称で市販されている製品である、一次粒子の平均径が２１ｎｍである、ポリジメチルシロキサンで処理されたＴｉＯ２、例えばＣｏｌｏｒ Ｔｅｃｈｎｉｑｕｅｓ社によってＭｉｃｒｏｔｉｔａｎｉｕｍ Ｄｉｏｘｉｄｅ ＵＳＰ Ｇｒａｄｅ Ｈｙｄｒｏｐｈｏｂｉｃの商品名で市販されている製品であり、一次粒子の平均粒径が２５ｎｍである、ポリジメチルヒドロゲノシロキサンで処理されたアナターゼ／ルチルＴｉＯ２である。
被覆されていない酸化チタン顔料は、例えば、Ｔａｙｃａ社によってＭｉｃｒｏｔｉｔａｎｉｕｍ Ｄｉｏｘｉｄｅ ＭＴ ５００ Ｂ又はＭｉｃｒｏｔｉｔａｎｉｕｍ Ｄｉｏｘｉｄｅ ＭＴ ６００ Ｂという商品名で市販されており、Ｄｅｇｕｓｓａ社によってＰ ２５という名称で市販されており、Ｗａｃｋｈｅｒ社によってＴｒａｎｓｐａｒｅｎｔ ｔｉｔａｎｉｕｍ ｏｘｉｄｅ ＰＷという名称で市販されており、Ｍｙｏｓｈｉ Ｋａｓｅｉ社によってＵＦＴＲという名称で市販されており、Ｔｏｍｅｎ社によってＩＴＳという名称で市販されており、Ｔｉｏｘｉｄｅ社によってＴｉｏｖｅｉｌ ＡＱという名称で市販されている。
被覆されていない酸化亜鉛顔料は、例えば、
− Ｓｕｎｓｍａｒｔ社によってＺ−Ｃｏｔｅという名称で市販されているもの、
− Ｅｌｅｍｅｎｔｉｓ社によってＮａｎｏｘという名称で市販されているもの、
− Ｎａｎｏｐｈａｓｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社によってＮａｎｏｇａｒｄ ＷＣＤ ２０２５という名称で市販されているものである。
− Ｓｕｎｓｍａｒｔ社によってＺ−Ｃｏｔｅという名称で市販されているもの、
− Ｅｌｅｍｅｎｔｉｓ社によってＮａｎｏｘという名称で市販されているもの、
− Ｎａｎｏｐｈａｓｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社によってＮａｎｏｇａｒｄ ＷＣＤ ２０２５という名称で市販されているものである。
被覆されている酸化亜鉛顔料は、例えば、
− Ｓｕｎｓｍａｒｔ社によってＺ−Ｃｏｄｅ ＨＰ１という名称で市販されているもの（ジメチコン被覆ＺｎＯ）、
− Ｔｏｓｈｉｂｉ社によって酸化亜鉛ＣＳ−５という名称で市販されているもの（ポリメチルヒドロゲノシロキサンで被覆されているＺｎＯ）、
− Ｎａｎｏｐｈａｓｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社によってＮａｎｏｇａｒｄ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅという名称で市販されているもの（Ｆｉｎｓｏｌｖ ＴＮ、Ｃ１２−Ｃ１５アルキルベンゾエート中の４０％分散物）、
− Ｄａｉｔｏ社によってＤａｉｔｏｐｅｒｓｉｏｎ ＺＮ−３０及びＤａｉｔｏｐｅｒｓｉｏｎ ＺＮ−５０という名称で市販されているもの（３０％又は５０％のシリカ及びポリメチルヒドロゲノシロキサン被覆ナノ酸化亜鉛を含む、シクロポリメチルシロキサン／オキシエチレン化ポリジメチルシロキサン中の分散物）、
− Ｄａｉｋｉｎ社によってＮＦＤ Ｕｌｔｒａｆｉｎｅ ＺｎＯという名称で市販されているもの（シクロペンタシロキサン中の分散物である、パーフルオロアルキルホスフェート及びパーフルオロアルキルエチル系コポリマーで被覆されたＺｎＯ）、
− ＳｈｉｎＥｔｓｕによってのＳＰＤ−Ｚ１という名称で市販されているもの（シクロジメチルシロキサンに分散されている、シリコーングラフト化アクリルポリマーで被覆されているＺｎＯ）、
− ＩＳＰ社によってＥｓｃａｌｏｌ Ｚ１００という名称で市販されているもの（エチルヘキシルメトキシシンナメート／ＰＶＰ−ヘキサデセン／メチコンコポリマー混合物中に分散されているアルミナ処理ＺｎＯ）、
− Ｆｕｊｉ Ｐｉｇｍｅｎｔ社によってＦｕｊｉ ＺｎＯ−ＳＭＳ−１０という名称で市販されているもの（シリカ及びポリメチルシルセスキオキサンで被覆されているＺｎＯ）、
Ｅｌｅｍｅｎｔｉｓ社によってＮａｎｏｘ Ｇｅｌ ＴＮという名称で市販されているもの（ヒドロキシステアリン酸重縮合物とともにＣ１２−Ｃ１５アルキルベンゾエート中に５５％の濃度で分散されているＺｎＯ）
である。
− Ｓｕｎｓｍａｒｔ社によってＺ−Ｃｏｄｅ ＨＰ１という名称で市販されているもの（ジメチコン被覆ＺｎＯ）、
− Ｔｏｓｈｉｂｉ社によって酸化亜鉛ＣＳ−５という名称で市販されているもの（ポリメチルヒドロゲノシロキサンで被覆されているＺｎＯ）、
− Ｎａｎｏｐｈａｓｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社によってＮａｎｏｇａｒｄ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅという名称で市販されているもの（Ｆｉｎｓｏｌｖ ＴＮ、Ｃ１２−Ｃ１５アルキルベンゾエート中の４０％分散物）、
− Ｄａｉｔｏ社によってＤａｉｔｏｐｅｒｓｉｏｎ ＺＮ−３０及びＤａｉｔｏｐｅｒｓｉｏｎ ＺＮ−５０という名称で市販されているもの（３０％又は５０％のシリカ及びポリメチルヒドロゲノシロキサン被覆ナノ酸化亜鉛を含む、シクロポリメチルシロキサン／オキシエチレン化ポリジメチルシロキサン中の分散物）、
− Ｄａｉｋｉｎ社によってＮＦＤ Ｕｌｔｒａｆｉｎｅ ＺｎＯという名称で市販されているもの（シクロペンタシロキサン中の分散物である、パーフルオロアルキルホスフェート及びパーフルオロアルキルエチル系コポリマーで被覆されたＺｎＯ）、
− ＳｈｉｎＥｔｓｕによってのＳＰＤ−Ｚ１という名称で市販されているもの（シクロジメチルシロキサンに分散されている、シリコーングラフト化アクリルポリマーで被覆されているＺｎＯ）、
− ＩＳＰ社によってＥｓｃａｌｏｌ Ｚ１００という名称で市販されているもの（エチルヘキシルメトキシシンナメート／ＰＶＰ−ヘキサデセン／メチコンコポリマー混合物中に分散されているアルミナ処理ＺｎＯ）、
− Ｆｕｊｉ Ｐｉｇｍｅｎｔ社によってＦｕｊｉ ＺｎＯ−ＳＭＳ−１０という名称で市販されているもの（シリカ及びポリメチルシルセスキオキサンで被覆されているＺｎＯ）、
Ｅｌｅｍｅｎｔｉｓ社によってＮａｎｏｘ Ｇｅｌ ＴＮという名称で市販されているもの（ヒドロキシステアリン酸重縮合物とともにＣ１２−Ｃ１５アルキルベンゾエート中に５５％の濃度で分散されているＺｎＯ）
である。
被覆されていない酸化セリウム顔料は、Ｒｈｏｎｅ−Ｐｏｕｌｅｎｃ社によってＣｏｌｌｏｉｄａｌ Ｃｅｒｉｕｍ Ｏｘｉｄｅという名称で市販されている。
被覆されていない酸化鉄ナノ顔料は、例えば、Ａｒｎａｕｄ社によってＮａｎｏｇａｒｄ ＷＣＤ ２００２（ＦＥ ４５Ｂ）、Ｎａｎｏｇａｒｄ Ｉｒｏｎ ＦＥ ４５ ＢＬ ＡＱ、Ｎａｎｏｇａｒｄ ＦＥ ４５Ｒ ＡＱ、及びＮａｎｏｇａｒｄ ＷＣＤ ２００６（ＦＥ ４５Ｒ）という名称で市販されており、又はＭｉｔｓｕｂｉｓｈｉ社によってＴＹ−２２０という名称で市販されている。
被覆酸化鉄顔料は、例えば、Ａｒｎａｕｄ社によってＮａｎｏｇａｒｄ ＷＣＤ ２００８（ＦＥ ４５Ｂ ＦＮ）、Ｎａｎｏｇａｒｄ ＷＣＤ ２００９（ＦＥ ４５Ｂ ５５６）、Ｎａｎｏｇａｒｄ ＦＥ ４５ ＢＬ ３４５、及びＮａｎｏｇａｒｄ ＦＥ ４５ ＢＬという名称で市販されており、又はＢＡＳＦ社によってＴｒａｎｓｐａｒｅｎｔ Ｉｒｏｎ Ｏｘｉｄｅという名称で市販されている。
酸化金属の混合物が挙げられてもよく、特に、Ｉｋｅｄａ社によってＳｕｎｖｅｉｌ Ａという名称で市販されているシリカ被覆二酸化チタン及び二酸化セリウムの等重量混合物を含む、二酸化チタン及び二酸化セリウムの混合物が挙げられてよく、二酸化チタン及び二酸化亜鉛のアルミナ、シリカ、並びにシリコーン被覆混合物、例えば、Ｋｅｍｉｒａ社によって市販されているＭ２６１が挙げられてよく、二酸化チタン及び二酸化亜鉛のアルミナ、シリカ、並びにグリセロール被覆混合物、例えば、Ｋｅｍｉｒａ社によって市販されているＭ ２１１が挙げられてよい。
追加のＵＶスクリーン剤は、一般的に、組成物の全重量に対して０．０１重量％から２０重量％の範囲、好ましくは組成物の全重量に対して０．１重量％から１０重量％の範囲の割合で、本発明に係る組成物に存在する。
本発明に係る組成物は、皮膚の人工的な日焼け及び／又は褐色化のための薬剤（自己日焼け剤）、とりわけ、ジヒドロキシアセトン（ＤＨＡ）を含有してもよい。それらは、好ましくは、組成物の全重量に対して０．１重量％から１０重量％の範囲の量で存在する。
本発明に係る組成物は、脂肪物質、有機溶媒、イオン性若しくは非イオン性の親水性若しくは脂溶性増粘剤、柔軟剤、保湿剤、乳白剤、安定剤、皮膚軟化剤、シリコーン、消泡剤、香料、保存剤、アニオン性、カチオン性、非イオン性、双性イオン性、若しくは両性界面活性剤、活性剤、フィラー、ポリマー、推進剤、酸性化若しくは塩基性化剤、又は化粧品として及び／又は皮膚科学的に通常用いられる任意の他の成分から特に選択される標準的な化粧品補助剤も含んでよい。
本発明の１つの特定の態様によれば、組成物は、少なくとも１つの脂肪相を含む。
用語「脂肪相」は、１つ又は複数の脂肪物質を含む任意の相を意味する。
脂肪物質は、上記の無極性ワックス以外の油又はワックス或いはそれらの混合物によって構成されてよい。用語「油」は、室温で液体の化合物を意味する。用語「ワックス」は、室温で固体又は実質的に固体である化合物であり、その融点は一般的に３５℃よりも高い。
挙げられてよい油は、無機油（パラフィン）、植物油（甘扁桃油、マカダミア油、ブドウ種子油、及びホホバ油）、合成油、例えば、パーヒドロスクアレン、脂肪アルコール、又は脂肪アミド（例えば、Ａｊｉｎｏｍｏｔｏ社にＥｌｄｅｗ ＳＬ−２０５という名称で市販されているイソプロピルラウロイルサルコシネート）、脂肪酸若しくは脂肪エステル（例えば、カプリン／カプリル酸トリグリセリドを含む、Ｗｉｔｃｏ社によってＦｉｎｓｏｌｖ ＴＮ又はＷｉｔｃｏｎｏｌ ＴＮという名称で市販されているＣ１２−Ｃ１５アルキルベンゾエート、オクチルパルミテート、イソプロピルラノレート、及びトリグリセリド、並びにＣｏｇｎｉｓ社によってＣｅｔｉｏｌ ＣＣという名称で市販されているジカプリルカルボネート）、オキシエチレン化若しくはオキシプロピレン化脂肪エステル及びエーテル、シリコーン油（シクロメチコン及びポリジメチルシロキサン、又はＰＤＭＳ）、又はフッ素油、及びポリアルキレンを含む。
挙げられてよいワックス化合物は、カルナウバワックス、ミツロウ、水素化ヒマシ油、ポリエチレンワックス、及びポリメチレンワックス、例えば、Ｓａｓｏｌ社によってＣｉｒｅｂｅｌｌｅ ３０３という名称で市販されている製品を含む。
挙げられてよい有機溶媒としては、低級アルコール及びポリオールである。これらのポリオールは、グリコール及びグリコールエーテル、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ジプロピレングリコール、又はジエチレングリコールから選択されてよい。
挙げられてよい親水性増粘剤は、カルボキシビニルポリマー、例えば、カルボポール製品（カルボマー）及びペムレン製品（アクリレート／Ｃ１０−Ｃ３０アルキルアクリレートコポリマー）；ポリアクリルアミド、例えば、Ｓｅｐｉｇｅｌ ３０５という名称で市販されている架橋コポリマー（ＣＴＦＡ名：ポリアクリルアミド／Ｃ１３−１４イソパラフィン／Ｌａｕｒｅｔｈ ７）又はＳＥＰＰＩＣ社製のＳｉｍｕｌｇｅｌ ６００（ＣＴＦＡ名：アクリルアミド／アクリロイルジメチルタウレートナトリウムコポリマー／イソヘキサデカン／ポリソルベート８０）；任意に架橋及び／又は中和されている、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸ポリマー及びコポリマー、例えば、Ｈｏｅｓｔａｃｅｒｉｎ ＡＭＰＳ（ＣＴＦＡ名：アンモニウムポリアクリロイルジメチルタウレート）という商品名でＨｏｅｃｈｓｔ社によって市販されているか又はＳｉｍｕｌｇｅｌ ８００（ＣＴＦＡ名：ポリアクリロイルジメチルタウレート／ポリソルベート ８０／ソルビタンオレート）という名称でＳＥＰＰＩＣ社によって市販されているポリ（２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸）；２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸及びヒドロキシエチルアクリレートのコポリマー、例えば、ＳＥＰＰＩＣ社によって市販されているＳｉｍｕｇｅｌ ＮＳ及びＳｅｐｉｎｏｖ ＥＭＴ １０；セルロース系誘導体、例えば、ヒドロキシエチルセルロース；ポリサッカリド、特にガム、例えばキサンタンガム；並びにそれらの混合物を含む。
挙げられてよい脂溶性増粘剤は、合成ポリマー、例えば、Ｌａｎｄｅｃ社によってＩｎｔｅｌｉｍｅｒ ＩＰＡ １３−１及びＩｎｔｅｌｉｍｅｒ ＩＰＡ １３−６の名称で市販されているポリ（Ｃ１０−Ｃ３０アルキルアクリレート）、又は改質粘度、例えば、ヘクトライト及びその誘導体、例えば、Ｂｅｎｔｏｎｅという名称で市販されている製品を含む。
挙げられてよい活性剤は、
− 単独又は混合物として、ビタミン（Ａ、Ｃ、Ｅ、Ｋ、ＰＰなど）及びその誘導体又は前駆体；
− 抗汚染剤及び／又はフリーラジカル捕捉剤；
− 脱色素剤及び／又は着色促進剤；
− 抗糖化剤；
− 鎮静剤；
− ＮＯ合成酵素インヒビター；
− 皮膚又は表皮高分子の合成促進剤及び／又はそれらの分解促進剤；
− 線維芽細胞増殖刺激剤；
− ケラチノサイト増殖刺激剤；
− 筋弛緩剤；
− テンショニング剤；
− つや消し剤；
− 角質溶解剤；
− 落屑剤；
− 保湿剤；
− 抗炎症剤；
− 細胞のエネルギー代謝に対して作用する薬剤；
− 虫除け剤；
− サブスタンスＰ又はＣＧＲＰアンタゴニスト；
− 毛髪損失拮抗作用剤及び／又は育毛剤；
− 抗シワ剤
である。
− 単独又は混合物として、ビタミン（Ａ、Ｃ、Ｅ、Ｋ、ＰＰなど）及びその誘導体又は前駆体；
− 抗汚染剤及び／又はフリーラジカル捕捉剤；
− 脱色素剤及び／又は着色促進剤；
− 抗糖化剤；
− 鎮静剤；
− ＮＯ合成酵素インヒビター；
− 皮膚又は表皮高分子の合成促進剤及び／又はそれらの分解促進剤；
− 線維芽細胞増殖刺激剤；
− ケラチノサイト増殖刺激剤；
− 筋弛緩剤；
− テンショニング剤；
− つや消し剤；
− 角質溶解剤；
− 落屑剤；
− 保湿剤；
− 抗炎症剤；
− 細胞のエネルギー代謝に対して作用する薬剤；
− 虫除け剤；
− サブスタンスＰ又はＣＧＲＰアンタゴニスト；
− 毛髪損失拮抗作用剤及び／又は育毛剤；
− 抗シワ剤
である。
言うまでも無く、当業者は、本発明に係る組成物に本質的に関連する利点が、意図する添加によって悪影響を受けないか又は実質的に受けないように、上述の任意の追加の化合物及び／又はその量を選択するのに注意するであろう。
本発明に係る組成物は、当業者に良く知られた技術によって調製されてよい。それらは、特に、単純又は複雑なエマルション（Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ、又はＷ／Ｏ／Ｗエマルション）の形態、例えば、クリーム、ミルク、又はクリーム−ゲルの形態であってよい。それらは、任意のエアロゾルの形態に調整されてよく、又はムース若しくはスプレーの形態であってもよい。
本発明に係る組成物は、好ましくは、水中油型又は油中水型エマルションの形態である。
前記エマルションは、単独又は混合物として使用される両性、アニオン性、カチオン性、及び非イオン性乳化剤から選択される少なくとも１つの乳化剤を一般的には含有する。乳化剤は、得ようとするエマルション（Ｗ／Ｏ又はＯ／Ｗ）にしたがって適当に選択される。エマルションは他のタイプの安定剤、例えば、フィラー、ゲル化ポリマー、又は増粘剤も含有してよい。
Ｗ／Ｏエマルションの調製に使用してよい乳化界面活性剤として、例えば、ソルビタン、グリセロール、糖アルキルエステル若しくはエーテル；シリコーン界面活性剤、例えば、ジメチコンコポリオール、例えば、シクロメチコンとジメチコンコポリオールとの混合物、Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ社によってＤＣ ５２２５Ｃという名称で市販されているもの、及びアルキルジメチコンコポリオール、例えば、Ｄｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ社におってＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ ５２００ Ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ Ａｉｄという名称で市販されているラウリルメチコンコポリオール；セチルジメチコンコポリオール、例えば、Ｇｏｌｄｓｃｈｍｉｄｔ社によってＡｂｉｌ ＥＭ ９０Ｒという名称で市販されている製品、及びＧｏｌｄｓｃｈｍｉｄｔ社によってＡｂｉｌ ＷＥ ０９という名称で市販されているセチルジメチコンコポリオールとポリグリセリルイソステアレート（４モル）とヘキシルラウレートとの混合物が含まれてよい。
１つ又は複数の共乳化剤が添加されてもよく、有利には、ポリオールアルキルエステルを含む群から選択されてよい。
特に挙げられてよいポリオールアルキルエステルは、ポリエチレングリコールエステル、例えば、ＰＥＧ−３０ジポリヒドロキシステアレート、例えば、ＩＣＩ社によってＡｒｌａｃｅｌ Ｐ１３５という名称で市販されている製品を含む。
特に挙げられてよいグリセロール及び／又はソルビタンエステルは、例えば、ポリグリセリルイソステアレート、例えば、Ｇｏｌｄｓｃｈｍｉｄｔ社によってＩｓｏｌａｎ ＧＩ ３４という名称で市販されている製品、ソルビタンイソステアレート、例えば、ＩＣＩ社によってＡｒｌａｃｅｌ ９８７という名称で市販されている製品、ソルビタングリセリルイソステアレート、例えば、ＩＣＩ社によってＡｒｌａｃｅｌ ９８６という名称で市販されている製品、及びそれらの混合物を含む。
Ｏ／Ｗエマルションには、挙げられる乳化剤の例として、非イオン性乳化剤、例えば、グリセロールのオキシアルキレン化（とりわけ、ポリオキシエチレン化）脂肪酸エステル；ソルビタンのオキシアルキレン化脂肪酸エステル；オキシアルキレン化（オキシエチレン化及び／又はオキシプロピレン化）脂肪酸エステル、例えば、ＰＥＧ−１００ステアレート／グリセリルステアレート混合物、例えば、Ａｒｌａｃｅｌ １６５という名称でＩＣＩ社によって市販されているもの；オキシアルキレン化（オキシエチレン化及び／又はオキシプロピレン化）脂肪アルキルエーテル；糖エステル、例えば、スクロースステアレート；糖の脂肪アルキルエーテル、特に、ポリアルキルグルコシド（ＡＰＧ）、例えば、デシルグルコシド及びラウリルグルコシド、例えば、Ｐｌａｎｔａｒｅｎ ２０００及びＰｌａｎｔａｒｅｎ １２００の個々の名称でＨｅｎｋｅｌ社によって市販されているもの、任意にセトステアリルアルコールとの混合物であるセトステアリルグルコシド、例えば、ＳＥＰＰＩＣ社によってＭｏｎｔａｎｏｖ ６８という名称で市販されているもの、Ｇｏｌｄｓｃｈｍｉｄｔ社によってＴｅｇｏｃａｒｅ ＣＧ９０という名称で市販されているもの、及びＨｅｎｋｅｌ社によってＥｍｕｌｇａｄｅ ＫＥ３３０２という名称で市販されているもの、並びに、例えば、ＳＥＰＰＩＣ社によってＭｏｎｔａｎｏｖ ２０２という名称で市販されている、アラキジルアルコール、ベヘニルアルコール、及びアラキジルグルコシドの混合物の形態であるアラキジルグルコシドが含まれる。本発明の１つの特定の実施態様によれば、対応する脂肪アルコールと上述のアルキルポリグリコシドの混合物は、例えばＷＯ−Ａ−９２／０６７７８に記載のように、自己乳化組成物の形態であってよい。
とりわけ使用される他のエマルション安定化剤は、イソフタル酸又はスルホイソフタル酸ポリマーであり、特に、フタレート／スルホイソフタレート／グリコールコポリマー、例えば、Ｅａｓｔｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社によってＥａｓｔｍａｎ ＡＱポリマー（ＡＱ３５Ｓ、ＡＱ３８Ｓ、ＡＱ５５Ｓ、及びＡＱ４８ Ｕｌｔｒａ）という名称で市販されている、ジエチレングリコール／フタレート／イソフタレート／１，４−シクロ−へキサンジメタノールコポリマー（ＩＮＣＩ名：ポリエステル−５）である。
エマルションである際は、このエマルションの水相は、既知の方法に従って調製された非イオン性小胞分散を含んでよい（Ｂａｎｇｈａｍ，Ｓｔａｎｄｉｓｈ ａｎｄ Ｗａｔｋｉｎｓ，Ｊ．Ｍｏｌ．Ｂｉｏｌ．１３，２３８（１９６５）、ＲＦ２３１５９９１、及びＦＲ２４１６００８）。
本発明に係る組成物は、頭皮を含む皮膚、唇、及び毛髪の多数の処置、特に美容的処置、特に皮膚、唇、及び／又は毛髪の保護及び／又はケア、並びに／或いは皮膚及び／又は唇のメークアップにおいて応用される。
本発明の他の主題は、皮膚、唇、爪、毛髪、睫毛、眉毛、及び／又は頭皮の処置のための化粧品、特にケア製品、日焼け止め、及びメークアップ製品の製造のための、上述の本発明の組成物の使用からなる。
本発明に係る化粧組成物は、例えば、メークアップ製品として使用されてよい。
本発明に係る化粧品組成物は、例えば、ミルク、リッチクリーム、クリーム−ゲル、及びペーストなどの液体から半液体の粘稠度の、顔及び／又は身体のためのケア及び／又は日焼け止め製品として使用されてよい。それらはエアロゾルとして調整されてよく、ムース又はスプレーの形態であってよい。
蒸発性流動ローションの形態の、本発明に係る組成物は、加圧装置によって微粒子の形態で皮膚又は毛髪に適用される。本発明に係る装置は当業者によく知られており、非エアロゾルポンプ又は「アトマイザー」を含み、エアロゾル容器は推進剤をふくみ、エアロゾルポンプは圧縮空気を推進剤として使用する。これらの容器は、特許ＵＳ４ ０７７ ４４１及びＵＳ４ ８５０ ５１７に記載されている（これら文献の内容の重要な部分を形成する）。
本発明に係るエアロゾルとして調整された組成物は、一般的に、従来の推進剤、例えば、フッ化水素化合物ジクロロジフルオロメタン及びジフルオロエタン、ジメチルエーテル、イソブタン、ｎ−ブタン、プロパン、又はトリクロロフルオロメタンを含む。それらは、組成物の全重量に対して１５重量％から５０重量％の範囲の量で存在する。
具体的ではあるが限定するものではない、本発明の説明のための実施例を以下に挙げる。
（実施例１）
２，４，６−トリス（メチルトリメチルシリル４’−アミノベンゾエート）−ｓ−トリアジンの調製
２，４，６−トリス（メチルトリメチルシリル４’−アミノベンゾエート）−ｓ−トリアジンの調製
工程１：メチルトリメチルシリルパラ−アミノベンゾエートの調製
クロロメチルトリメチルシラン（５７．５７６ｇ、０．４７１ｍｏｌ）を、窒素雰囲気下において２０分間に亘って、反応容器中で５００ｍｌのＤＭＦに分散させたパラ−アミノ安息香酸（７５ｇ、０．４２８ｍｏｌ）のカリウム塩に滴下する。不均質な媒体を４時間に亘って還流する。ＤＭＦを真空条件下で蒸発させる。残留物を３００ｍｌのジクロロメタン中に取り出す。有機相を水で三回洗浄する。ヘプタンの添加後に、大量の沈殿を形成する。濾過して真空条件下で乾燥させた後に、１４９ｇ（７８％収率）のメチルトリメチルシリルパラ−アミノベンゾエートが、白色固体の形態で得られ、更なる精製無しで次の工程に使用する。
クロロメチルトリメチルシラン（５７．５７６ｇ、０．４７１ｍｏｌ）を、窒素雰囲気下において２０分間に亘って、反応容器中で５００ｍｌのＤＭＦに分散させたパラ−アミノ安息香酸（７５ｇ、０．４２８ｍｏｌ）のカリウム塩に滴下する。不均質な媒体を４時間に亘って還流する。ＤＭＦを真空条件下で蒸発させる。残留物を３００ｍｌのジクロロメタン中に取り出す。有機相を水で三回洗浄する。ヘプタンの添加後に、大量の沈殿を形成する。濾過して真空条件下で乾燥させた後に、１４９ｇ（７８％収率）のメチルトリメチルシリルパラ−アミノベンゾエートが、白色固体の形態で得られ、更なる精製無しで次の工程に使用する。
工程２：実施例１の誘導体の調製：
０〜５℃で窒素を散布しながら、１５ｍｌのトルエンに溶解した上述の誘導体（３．０８ｇ、０．０１３８ｍｏｌ）を、１５ｍｌのトルエン中の塩化シアヌル（０，８４８ｇ、４．５９×１０−３ｍｏｌ）の分散物に滴下して導入した。次いで、前記混合物を１時間３０分に亘って還流する。冷却後に、得られた白色固体を濾過して、エタノール／水混合物から再結晶させる。かくして、実施例１の誘導体（２．３９ｇ、７０％の収率）を白色粉末の形態で得た：
ＵＶ（ＤＭＳＯ／エタノール） λｍａｘ＝３１４ｎｍ；εｍａｘ＝１２６６６０；Ｅ１％＝１７００。
０〜５℃で窒素を散布しながら、１５ｍｌのトルエンに溶解した上述の誘導体（３．０８ｇ、０．０１３８ｍｏｌ）を、１５ｍｌのトルエン中の塩化シアヌル（０，８４８ｇ、４．５９×１０−３ｍｏｌ）の分散物に滴下して導入した。次いで、前記混合物を１時間３０分に亘って還流する。冷却後に、得られた白色固体を濾過して、エタノール／水混合物から再結晶させる。かくして、実施例１の誘導体（２．３９ｇ、７０％の収率）を白色粉末の形態で得た：
ＵＶ（ＤＭＳＯ／エタノール） λｍａｘ＝３１４ｎｍ；εｍａｘ＝１２６６６０；Ｅ１％＝１７００。
（実施例２）
２，４−ビス（メチルトリメチルシリル４’−アミノベンゾエート）−６−（ブチル４’’−アミノベンゾエート）−ｓ−トリアジンの調製
２，４−ビス（メチルトリメチルシリル４’−アミノベンゾエート）−６−（ブチル４’’−アミノベンゾエート）−ｓ−トリアジンの調製
工程１：２，４−ジクロロ−６−（ブチル４’−アミノベンゾエート）−ｓ−トリアジンの調製
５℃の温度で２５０ｍｌのアセトン中の塩化シアヌル（１８．４ｇ、０．１ｍｏｌ）の懸濁物に、３０分間に亘って、機械的に攪拌しながら、７０ｍｌのアセトン中のブチルパラ−アミノベンゾエート（１９．３ｇ、０．１ｍｏｌ）溶液及び７０ｍｌの水のビカーボネート（８．４ｇ、０．１ｍｏｌ）の溶液を添加する。混合物を５℃で３０分間に亘って攪拌する。反応混合物をろ過し、得られた固体を水で洗浄して、乾燥させる。２，４−ジクロロ−６−（ブチル４’−アミノベンゾエート）−ｓ−トリアジンの白色固体が得られ（３３．４ｇ、９８％収率、融点２４８℃）、更に精製すること無く次の工程において使用する。
５℃の温度で２５０ｍｌのアセトン中の塩化シアヌル（１８．４ｇ、０．１ｍｏｌ）の懸濁物に、３０分間に亘って、機械的に攪拌しながら、７０ｍｌのアセトン中のブチルパラ−アミノベンゾエート（１９．３ｇ、０．１ｍｏｌ）溶液及び７０ｍｌの水のビカーボネート（８．４ｇ、０．１ｍｏｌ）の溶液を添加する。混合物を５℃で３０分間に亘って攪拌する。反応混合物をろ過し、得られた固体を水で洗浄して、乾燥させる。２，４−ジクロロ−６−（ブチル４’−アミノベンゾエート）−ｓ−トリアジンの白色固体が得られ（３３．４ｇ、９８％収率、融点２４８℃）、更に精製すること無く次の工程において使用する。
工程２：実施例２の誘導体の調製
窒素を散布しながら、上述の誘導体（４．５８ｇ、０．０１３４ｍｏｌ）及びメチルトリメチルシリルパラ−アミノベンゾエート（３ｇ、０．２６８ｍｏｌ）の８０ｍｌのトルエン中の不均質媒体を、５時間３０分間に亘って還流する。完全に溶解した後に、沈殿を形成させる。冷却後、得られた白色固体をろ過し、エタノールから再結晶させる。かくして、実施例２の誘導体が、白色粉末の形態で得られる（２．１３ｇ、２２％収率）：ＵＶ（ＤＭＳＯ／エタノール）λｍａｘ＝３１３ｎｍ；εｍａｘ＝１０４５６０；Ｅ１％＝１６６０．
窒素を散布しながら、上述の誘導体（４．５８ｇ、０．０１３４ｍｏｌ）及びメチルトリメチルシリルパラ−アミノベンゾエート（３ｇ、０．２６８ｍｏｌ）の８０ｍｌのトルエン中の不均質媒体を、５時間３０分間に亘って還流する。完全に溶解した後に、沈殿を形成させる。冷却後、得られた白色固体をろ過し、エタノールから再結晶させる。かくして、実施例２の誘導体が、白色粉末の形態で得られる（２．１３ｇ、２２％収率）：ＵＶ（ＤＭＳＯ／エタノール）λｍａｘ＝３１３ｎｍ；εｍａｘ＝１０４５６０；Ｅ１％＝１６６０．
（実施例３）
２，４，６−トリス（メチルトリメチルシリル４’−アミノサリチレート）−ｓ−トリアジンの調製
２，４，６−トリス（メチルトリメチルシリル４’−アミノサリチレート）−ｓ−トリアジンの調製
工程１：メチルトリメチルシリル２−ヒドロキシ−４−アミノベンゾエートの調製
クロロメチルトリメチルシラン（１２．２ｇ、０．１ｍｏｌ）を、２０分間に亘って、反応容器中で１００ｍｌのＤＭＦに分散させたサリチル酸（１５．３ｇ、０．１ｍｏｌ）及び炭酸カリウム（１３．８ｇ、０．１ｍｏｌ）の混合物に滴下して添加する。不均質な場体を９５から１００℃に２時間維持する。冷却後、反応混合物を２００ｍｌの水で希釈する。ジクロロメタンで抽出する。有機相を水で３回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させる。真空条件下において溶媒を蒸発させた後に、１６ｇのオレンジ色の油が得られる。この油はシリカの床を通過させて精製する（溶出：５０／５０ ヘプタン／ＥｔＯＡｃ）。ベージュ色の油が単離され、結晶化させて１０．４ｇのメチルトリメチルシリル２−ヒドロキシ−４−アミノベンゾエート（４３％収率）が得られ、更なる精製なしで次の工程において使用する。
クロロメチルトリメチルシラン（１２．２ｇ、０．１ｍｏｌ）を、２０分間に亘って、反応容器中で１００ｍｌのＤＭＦに分散させたサリチル酸（１５．３ｇ、０．１ｍｏｌ）及び炭酸カリウム（１３．８ｇ、０．１ｍｏｌ）の混合物に滴下して添加する。不均質な場体を９５から１００℃に２時間維持する。冷却後、反応混合物を２００ｍｌの水で希釈する。ジクロロメタンで抽出する。有機相を水で３回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させる。真空条件下において溶媒を蒸発させた後に、１６ｇのオレンジ色の油が得られる。この油はシリカの床を通過させて精製する（溶出：５０／５０ ヘプタン／ＥｔＯＡｃ）。ベージュ色の油が単離され、結晶化させて１０．４ｇのメチルトリメチルシリル２−ヒドロキシ−４−アミノベンゾエート（４３％収率）が得られ、更なる精製なしで次の工程において使用する。
工程２：実施例３の誘導体の調製
アルゴンを０から５℃で散布しながら、１５ｍｌのトルエンに溶解した上述の誘導体（３．６ｇ、０．０１５ｍｏｌ）を、２０ｍｌのトルエン中の塩化シアヌル（０．９２ｇ、５×１０−３ｍｏｌ）の分散物に滴下して導入する。混合物を３時間に亘って還流する。冷却後、得られた白色固体を濾過して、酢酸エチルで洗浄する。かくして、実施例３の誘導体が白色粉末の形態で得られる（２．３９ｇ、８８％収率）：
ＵＶ（ＤＭＳＯ／エタノール）λｍａｘ＝３２６ｎｍ；εｍａｘ＝１０７６１０；Ｅ１％＝１４５６、
ＵＶ（ＤＭＳＯ／エタノール）λｍａｘ＝３００ｎｍ；εｍａｘ＝７４４００；Ｅ１％＝９３８。
アルゴンを０から５℃で散布しながら、１５ｍｌのトルエンに溶解した上述の誘導体（３．６ｇ、０．０１５ｍｏｌ）を、２０ｍｌのトルエン中の塩化シアヌル（０．９２ｇ、５×１０−３ｍｏｌ）の分散物に滴下して導入する。混合物を３時間に亘って還流する。冷却後、得られた白色固体を濾過して、酢酸エチルで洗浄する。かくして、実施例３の誘導体が白色粉末の形態で得られる（２．３９ｇ、８８％収率）：
ＵＶ（ＤＭＳＯ／エタノール）λｍａｘ＝３２６ｎｍ；εｍａｘ＝１０７６１０；Ｅ１％＝１４５６、
ＵＶ（ＤＭＳＯ／エタノール）λｍａｘ＝３００ｎｍ；εｍａｘ＝７４４００；Ｅ１％＝９３８。
（実施例４）
２，４−ビス（メチルトリメチルシリル４’−アミノベンゾエート）−６−（パラ−メトキシフェニル）−ｓ−トリアジンの調製
２，４−ビス（メチルトリメチルシリル４’−アミノベンゾエート）−６−（パラ−メトキシフェニル）−ｓ−トリアジンの調製
窒素を散布しながら、５０ｍｌのトルエン中の、２，４−ジクロロ−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン（１．７２ｇ、０．００６７ｍｏｌ）及びメチルトリメチルシリルパラ−アミノベンゾエート（３ｇ、０．１３４ｍｏｌ）の混合物を反応容器に導入する。混合物を徐々に加熱して還流し、１時間３０分に亘って還流する。冷却後、形成した固体を濾過して、加熱したエタノールで洗浄する。乾燥後、３．５８ｇ（８５％の収率）の実施例５の誘導体を白色粉末の形態で得る：
ＵＶ（ＤＭＳＯ／エタノール）λｍａｘ＝３０３ｎｍ；εｍａｘ＝８２７００；Ｅ１％＝１３１３。
ＵＶ（ＤＭＳＯ／エタノール）λｍａｘ＝３０３ｎｍ；εｍａｘ＝８２７００；Ｅ１％＝１３１３。
（実施例５）
２，４−ビス（メチルトリメチルシリル４’−アミノサリチレート）−６−（パラ−メトキシフェニル）−ｓ−トリアジンの調製
２，４−ビス（メチルトリメチルシリル４’−アミノサリチレート）−６−（パラ−メトキシフェニル）−ｓ−トリアジンの調製
窒素を散布しながら、１０ｍｌのトルエン中の、２，４−ジクロロ−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン（１．３ｇ、０．００５ｍｏｌ）及びメチルトリメチルシリル２−ヒドロキシ−４−アミノベンゾエート（２．４ｇ、０．０１ｍｏｌ）の混合物を反応容器に導入する。混合物を次第に加熱し、還流させ、１時間に亘って還流を維持する。冷却後、形成した固体を濾過して、アセトンで洗浄する。乾燥後、３．２ｇ（９７％の収率）の実施例６の誘導体を白色粉末の形態で得る：
ＵＶ（ＤＭＳＯ／エタノール）λｍａｘ＝３２９ｎｍ；εｍａｘ＝６１３７０；Ｅ１％＝９２７、
ＵＶ（ＤＭＳＯ／エタノール）λｍａｘ＝３１６ｎｍ；εｍａｘ＝７０５７０；Ｅ１％＝１０６６、
ＵＶ（ＤＭＳＯ／エタノール）λｍａｘ＝２９８ｎｍ；εｍａｘ＝６８１９０；Ｅ１％＝１０３０。
ＵＶ（ＤＭＳＯ／エタノール）λｍａｘ＝３２９ｎｍ；εｍａｘ＝６１３７０；Ｅ１％＝９２７、
ＵＶ（ＤＭＳＯ／エタノール）λｍａｘ＝３１６ｎｍ；εｍａｘ＝７０５７０；Ｅ１％＝１０６６、
ＵＶ（ＤＭＳＯ／エタノール）λｍａｘ＝２９８ｎｍ；εｍａｘ＝６８１９０；Ｅ１％＝１０３０。
（実施例６）
２，４−ビス（メチルトリメチルシリル４’−アミノベンゾエート）−６−（４’’−アミノベンジリデンカンファー）−ｓ−トリアジンの調製
２，４−ビス（メチルトリメチルシリル４’−アミノベンゾエート）−６−（４’’−アミノベンジリデンカンファー）−ｓ−トリアジンの調製
窒素を散布しながら、６０ｍｌのトルエン中の、２，４−ジクロロ−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン（２．７ｇ、０．００６７ｍｏｌ）及びメチルトリメチルシリルパラ−アミノベンゾエート（３ｇ、０．０１３４ｍｏｌ）の混合物を反応容器に導入する。混合物を次第に加熱して還流し、２時間に亘って還流した状態にする。冷却後、形成した固体を濾過して、加熱したハプテンで洗浄する。乾燥後、４．１９ｇ（８１％収率）の実施例８の誘導体を白色粉末の形態で得る：
ＵＶ（ＤＭＳＯ／エタノール）λｍａｘ＝３１３ｎｍ；εｍａｘ＝８７８００；Ｅ１％＝１１３０、
ＵＶ（ＤＭＳＯ／エタノール）λｍａｘ＝３４５ｎｍ；εｍａｘ＝４１５００；Ｅ１％＝５３４。
ＵＶ（ＤＭＳＯ／エタノール）λｍａｘ＝３１３ｎｍ；εｍａｘ＝８７８００；Ｅ１％＝１１３０、
ＵＶ（ＤＭＳＯ／エタノール）λｍａｘ＝３４５ｎｍ；εｍａｘ＝４１５００；Ｅ１％＝５３４。
（実施例７）
２，４，６−トリス（メチルトリメチルシリル４’−アミノベンズアミド）−ｓ−トリアジンの調製
２，４，６−トリス（メチルトリメチルシリル４’−アミノベンズアミド）−ｓ−トリアジンの調製
工程１：４−ニトロ−Ｎ−（メチルトリメチルシリル）ベンズアミドの調製
メチルトリメチルシリルアミン（１１ｍｌ、０．０８１ｍｏｌ）を、２０分間に亘って、窒素雰囲気下において、反応容器中で８０ｍｌのジクロロメタンに溶解した４−ニトロベンゾイルクロリド（１５ｇ、０．０８１ｍｏｌ）及びトリエチルアミン（１１ｍｌ、０．０８１ｍｏｌ）の混合物に添加する。発熱反応物を２時間に亘って還流する。冷却後、反応混合物を水に注ぐ。得られる混合物をジクロロメタンで抽出する。有機相を水で三回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させる。ろ過して、真空条件下で蒸発させた後、１７．７ｇの４−ニトロ−Ｎ−（メチルトリメチルシリル）ベンズアミドが、オレンジ色の粉末の形態で得られ（８７％収率）、更なる精製なしで次の工程で使用する。
メチルトリメチルシリルアミン（１１ｍｌ、０．０８１ｍｏｌ）を、２０分間に亘って、窒素雰囲気下において、反応容器中で８０ｍｌのジクロロメタンに溶解した４−ニトロベンゾイルクロリド（１５ｇ、０．０８１ｍｏｌ）及びトリエチルアミン（１１ｍｌ、０．０８１ｍｏｌ）の混合物に添加する。発熱反応物を２時間に亘って還流する。冷却後、反応混合物を水に注ぐ。得られる混合物をジクロロメタンで抽出する。有機相を水で三回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させる。ろ過して、真空条件下で蒸発させた後、１７．７ｇの４−ニトロ−Ｎ−（メチルトリメチルシリル）ベンズアミドが、オレンジ色の粉末の形態で得られ（８７％収率）、更なる精製なしで次の工程で使用する。
工程２：４−アミノ−Ｎ−（メチルトリメチルシリル）ベンズアミドの調製
酢酸（２５ｍｌ）を、４０℃未満の温度で、反応容器中の工程１の生成物（９ｇ、０．０３６ｍｏｌ）、酢酸（１８ｍｌ）、水（２５ｍｌ）、及び還元された鉄（２０ｇ、０．３６ｍｏｌ）の混合物に滴下して添加する。発熱反応を４０℃で２時間に亘って維持する。冷却後に、１００ｍｌのジクロロメタンを添加して、その全体をセリットに通して濾過する。単離した有機相を水で二回洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥させる。濾過後、真空条件下で溶媒を蒸発させて、オレンジ色の粉末が得られ、それを酢酸エチルとヘプタンの５０／５０混合物から再結晶させる。明るいベージュ色粉末の形態で、６．１６ｇの４−アミノ−Ｎ−（メチルトリメチルシリル）ベンズアミドが得られ（７７％収率；融点１２６℃〜１２７℃）、更に精製すること無く次の工程に使用する。
酢酸（２５ｍｌ）を、４０℃未満の温度で、反応容器中の工程１の生成物（９ｇ、０．０３６ｍｏｌ）、酢酸（１８ｍｌ）、水（２５ｍｌ）、及び還元された鉄（２０ｇ、０．３６ｍｏｌ）の混合物に滴下して添加する。発熱反応を４０℃で２時間に亘って維持する。冷却後に、１００ｍｌのジクロロメタンを添加して、その全体をセリットに通して濾過する。単離した有機相を水で二回洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥させる。濾過後、真空条件下で溶媒を蒸発させて、オレンジ色の粉末が得られ、それを酢酸エチルとヘプタンの５０／５０混合物から再結晶させる。明るいベージュ色粉末の形態で、６．１６ｇの４−アミノ−Ｎ−（メチルトリメチルシリル）ベンズアミドが得られ（７７％収率；融点１２６℃〜１２７℃）、更に精製すること無く次の工程に使用する。
工程３：実施例７の誘導体の調製
０〜５℃で窒素を散布しながら、２０ｍｌのトルエンに溶解した上記誘導体（４．１ｇ、０．０１８４ｍｏｌ）を、塩化シアヌル（１．１ｇ、６．１×１０−３ｍｏｌ）の３０ｍｌトルエン中の分散物に滴下して導入する。次いで、混合物を３時間還流する。冷却後、得られた固体を濾過して、酢酸エチルで洗浄する。かくして、実施例７の誘導体を白色粉末の形態で得る（３．２６ｇ、７２％収率）
ＵＶ（ＤＭＳＯ／エタノール）λｍａｘ＝３０３ｎｍ；εｍａｘ＝８３３３０；Ｅ１％＝１１２３。
０〜５℃で窒素を散布しながら、２０ｍｌのトルエンに溶解した上記誘導体（４．１ｇ、０．０１８４ｍｏｌ）を、塩化シアヌル（１．１ｇ、６．１×１０−３ｍｏｌ）の３０ｍｌトルエン中の分散物に滴下して導入する。次いで、混合物を３時間還流する。冷却後、得られた固体を濾過して、酢酸エチルで洗浄する。かくして、実施例７の誘導体を白色粉末の形態で得る（３．２６ｇ、７２％収率）
ＵＶ（ＤＭＳＯ／エタノール）λｍａｘ＝３０３ｎｍ；εｍａｘ＝８３３３０；Ｅ１％＝１１２３。
（実施例８）
２種の不溶性スクリーン剤１及び２の油中分散性の比較試験
下記の２種の不溶性有機スクリーン剤の油中分散性を試験した。
２種の不溶性スクリーン剤１及び２の油中分散性の比較試験
下記の２種の不溶性有機スクリーン剤の油中分散性を試験した。
化合物１（本願発明）
２，４，６−トリス（メチルトリメチルシリル４’−アミノベンゾエート）−ｓ−トリアジン
２，４，６−トリス（メチルトリメチルシリル４’−アミノベンゾエート）−ｓ−トリアジン
化合物２（本願発明に含まれない）
下式のメチレンビス（ベンゾトリアゾリル）テトラメチルブチルフェノール、Ｆａｉｒｍｏｕｎｔ ＣｈｅｍｉｃａｌによってＭｉｘｘｉｍ ＢＢ／１００の商品名で市販されている。
下式のメチレンビス（ベンゾトリアゾリル）テトラメチルブチルフェノール、Ｆａｉｒｍｏｕｎｔ ＣｈｅｍｉｃａｌによってＭｉｘｘｉｍ ＢＢ／１００の商品名で市販されている。
これらの化合物１及び２の各々の微粒化を、Ｄｉｓｐｅｒｍａｔボールミルで分散剤を添加しないミルを使用して、油性媒体（油：フェニルエチルベンゾエート − ＩＳＰ社製のＸ−ｔｅｎｄ ２２６）中の製粉により実施する。
製粉条件は以下のとおりである：
− Ｄｉｓｐｅｒｍａｔ ＡＥ ０６−Ｃ１分散ミル（Ｂｒａｎｔ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅ）
− 分散：１７％Ｒ０５６３３６Ａ及び４９％Ｆ１７８４５（油の取り込みが異なる）を含有するスラリー、〜３０００ｒｐｍ、〜１５分
− ０．７〜１．２ｍｍのＺｒ２Ｏ２ボールで最適化せずに（水冷回路を作動させないで）高速条件（４５００ｒｐｍ、３０分）下で製粉。
− Ｄｉｓｐｅｒｍａｔ ＡＥ ０６−Ｃ１分散ミル（Ｂｒａｎｔ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅ）
− 分散：１７％Ｒ０５６３３６Ａ及び４９％Ｆ１７８４５（油の取り込みが異なる）を含有するスラリー、〜３０００ｒｐｍ、〜１５分
− ０．７〜１．２ｍｍのＺｒ２Ｏ２ボールで最適化せずに（水冷回路を作動させないで）高速条件（４５００ｒｐｍ、３０分）下で製粉。
化合物１及び２の分散の結果
１．巨視的観察
次いで、各々１重量％の化合物１Ａ又は２Ａを含む、フェニルエチルベンゾエート（Ｘ−Ｔｅｎｄ ２２６）中の２種の油性分散物を調製する。
１．巨視的観察
次いで、各々１重量％の化合物１Ａ又は２Ａを含む、フェニルエチルベンゾエート（Ｘ−Ｔｅｎｄ ２２６）中の２種の油性分散物を調製する。
室温で３日後に、Ｍｉｘｘｉｍ ＢＢ １００を含む分散物２Ａとは異なり、本願発明に係る分散物１Ａは均質であり、沈殿又はクリーム化の兆候を示さない。約１週間後に、分散物２Ａでは、化合物２がフェニルエチルベンゾエート中で完全に不溶性であるが、化合物１を含む分散物１Ａはｔ０の時点で巨視的に安定なままである。
２．微視的観察
各々１０重量％の化合物１及び２を含む、フェニルエチルベンゾエート中の２種の油性分散物１Ａ及び２Ａを調製する。
各々１０重量％の化合物１及び２を含む、フェニルエチルベンゾエート中の２種の油性分散物１Ａ及び２Ａを調製する。
図１は、ｔ０の時点における、不恰好な粒子を含有する、化合物２を含む不均質な分散物２Ｂとは異なり、化合物１を含む本発明に係る分散物１Ｂが均質であり、針状（針の形をした）粒子を含有している。
３．スペクトル測定
分散物１Ｂ及び２Ｂの２５０から４００ｎｍの吸収におけるＵＶスペクトルを、薄層として、積分球を備えるＵＶ分光光度計（１０μｍ光路）を使用して得る。
分散物１Ｂ及び２Ｂの２５０から４００ｎｍの吸収におけるＵＶスペクトルを、薄層として、積分球を備えるＵＶ分光光度計（１０μｍ光路）を使用して得る。
図２は、化合物２を含む分散物２Ｂと比較して、化合物１を含む本発明に係る分散物１Ｂの顕著に優れた吸収を示す。
４．粒度分析測定
Ｍａｓｔｅｒｉｓｉｚｅｒ粒度分析機を使用してＳＬＳによって得られる粒度分析の結果は、各々０．１１８μｍに対し８５１μｍでｄ（０．５）の粒径である、化合物１と化合物２との間の粒径における非常に顕著な差異を明らかにする。これは、化合物１が油に分散可能であり、油性媒体中で粉にすることによって分散剤なしでより容易に微粉化できることを示す。
Ｍａｓｔｅｒｉｓｉｚｅｒ粒度分析機を使用してＳＬＳによって得られる粒度分析の結果は、各々０．１１８μｍに対し８５１μｍでｄ（０．５）の粒径である、化合物１と化合物２との間の粒径における非常に顕著な差異を明らかにする。これは、化合物１が油に分散可能であり、油性媒体中で粉にすることによって分散剤なしでより容易に微粉化できることを示す。
これらの結果は、全体として、化合物２で得られる分散性と比較して、油であるフェニルエチルベンゾエート中の本発明に係る化合物１の顕著に優れた分散性を実証するものである。
（実施例９）
日焼け止めＯ／Ｗエマルション
水中油型のエマルションの形態である化粧組成物の具体例を以下に挙げる（量は、組成物の全重量に対する重量％として表わす）：
− ＨｅｎｋｅｌによってＳｉｎｎｏｖａｘ ＡＯという商品名で市販されている、セチルステアリルアルコール及び３３ｍｏｌのエチレンオキシドでオキシエチレン化したセチルステアリルアルコールの混合物 ７．０％
− 非自己乳化グリセリルモノ及びジステアレート混合物 ２．０％
− セチルアルコール １．５％
− シリコーン油 １．５％
− ジイソプロピルアジペート １５％
− 実施例１の化合物 ５．０％
− グリセロール ２０．０％
− 香料、保存料 適量
− 水 １００％までの残部。
日焼け止めＯ／Ｗエマルション
水中油型のエマルションの形態である化粧組成物の具体例を以下に挙げる（量は、組成物の全重量に対する重量％として表わす）：
− ＨｅｎｋｅｌによってＳｉｎｎｏｖａｘ ＡＯという商品名で市販されている、セチルステアリルアルコール及び３３ｍｏｌのエチレンオキシドでオキシエチレン化したセチルステアリルアルコールの混合物 ７．０％
− 非自己乳化グリセリルモノ及びジステアレート混合物 ２．０％
− セチルアルコール １．５％
− シリコーン油 １．５％
− ジイソプロピルアジペート １５％
− 実施例１の化合物 ５．０％
− グリセロール ２０．０％
− 香料、保存料 適量
− 水 １００％までの残部。
この組成物は、以下の態様で調製した：エマルションの調製後に、スクリーン剤を約４０℃で分散させた。次いで、得られたクリームを３本ロールミルで均質化した。
この組成物はＵＶ−Ｂ範囲で吸収する。
Claims (15)
- 一般式（Ｉ）：
− 基Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は、同一であるか又は異なるものであってよく、直鎖又は分枝鎖で飽和又は不飽和の、１つ又は複数のハロゲン原子（例えば、Ｃｌ、Ｂｒ、又はＦ）を含んでよい、Ｃ１−Ｃ１２アルキル基；フェニル基であり、
− ｐは０又は１であり、
− Ｙは−Ｏ−又は−ＮＲ５であり、
− 基Ｒ５は水素、直鎖若しくは分枝鎖のＣ１−Ｃ８アルキル基又はＣ６−Ｃ１２のアリール基であり、
− Ａは水素、直鎖又は分枝鎖で飽和又は不飽和のＣ１−Ｃ８アルキル基、フェニル基、又は基Ｓｉ（ＣＨ３）３であるが、ＡがＳｉ（ＣＨ３）３である場合は、ｐ＝０であり、且つ、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３はメチルである、
− 基Ｒ４は、直鎖又は分枝鎖で飽和又は不飽和のＣ１−Ｃ２０アルキル基、ＯＨ基、直鎖又は分枝鎖のＣ１−Ｃ２０アルコキシ基、又は基−（Ｃ＝Ｏ）−Ｙ−Ｒ６であり、
− ｎは０、１、又は２であり、
− 基Ｒ６は、水素又は直鎖若しくは分枝鎖のＣ１−Ｃ２０アルキル基であり、
− 基（ＣＯ）−Ｙ−ＣＨＡ−（ＣＨ２）ｐ−ＳｉＲ１Ｒ２Ｒ３は、アミノ基に対してメタ又はパラ位にあってよく、
− Ｚは、
（ｉ）直鎖又は分枝鎖のＣ１−Ｃ２０アルキル基、
（ｉｉ）直鎖又は分枝鎖のＣ２−Ｃ２０ヒドロキシアルキル基、
（ｉｉｉ）直鎖又は分枝鎖のＣ１−Ｃ２０アルコキシ基、
（ｉｖ）下式のタイプのパラ−アルコキシフェニル基
Ｒ７は、
− 水素；
− 直鎖又は分枝鎖のＣ１−Ｃ２０アルキル基；
− Ｃ６−Ｃ１０アリール基；
− 基−（ＣＨ２ＣＨＲ９−Ｏ）ｍＲ１０又は基−ＣＨ２−ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ１０｛式中、
Ｒ９は、水素又はメチルであり、
Ｒ１０は水素又は直鎖若しくは分枝鎖のＣ１−Ｃ８アルキル基であり、
ｍは１〜２０である｝
であり、
− 基Ｒ８は、同一であるか又は異なるものであってよく、直鎖若しくは分枝鎖のＣ１−Ｃ８アルキル基、ＯＨ基、又は直鎖若しくは分枝鎖のＣ１−Ｃ８アルコキシ基であり、当該アルコキシ基は、オルト基ＯＲ７と共に、Ｃ１−Ｃ２ジオキシアルキレン環を形成してよいが、Ｒ８は基ＯＲ７に対してメタ位におけるヒドロキシル基にはなり得ず、
− ｑ＝０−３である）、
（ｖ）基ＮＨＲ１１又は基Ｎ（Ｒ１１）２（Ｒ１１は直鎖又は分枝鎖のＣ１−Ｃ２０アルキル基である）、
（ｖｉ）下式の基
である］
の化合物。 - 以下の特性：
− Ｒ１からＲ３は、Ｃ１−Ｃ４アルキルであり、より好ましくはメチルである、
− ｐは０である、
− ＡはＨまたはＳｉ（ＣＨ３）３である、
− Ｙは−Ｏ−又は−ＮＨ−である、
− ｎは０又は１である、
− Ｚはシランアミノベンゾエート又はパラ−メトキシフェニル基である、
− Ｆはベンゾエート又はベンジリデンカンファー基である
の少なくとも１つ、より好ましくは全てを有する、請求項１に記載の化合物。 - 以下の式（ａ）から（ｇ）：
- 微粒化された形態であり、平均粒径が１０ｎｍから５μｍの間である、請求項１から３のいずれか一項に記載の化合物。
- 前記粒子が、１０ｎｍから２μｍの間、より好ましくは２０ｎｍから２μｍの間の平均粒径を有する、請求項４に記載の化合物。
- 請求項１から３のいずれか一項に記載の式（Ｉ）の化合物の少なくとも１つを、化粧品として許容される媒体中に含有する、ケラチン物質を光保護するための化粧品又は皮膚科組成物。
- 式（Ｉ）の化合物が、組成物の全重量に対して０．０１重量％から２０重量％、好ましくは０．１重量％から１０重量％の範囲の濃度で存在する、請求項６に記載の組成物。
- 水溶性若しくは脂溶性又は一般的に使用される化粧溶媒に不溶性である、少なくとも１つの追加のＵＶ−Ａ−活性及び／又はＵＶ−Ｂ−活性有機又は無機ＵＶスクリーン剤も含む、請求項６又は７に記載の組成物。
- 前記追加の有機スクリーン剤が、
ブチルメトキシジベンゾイルメタン、
エチルヘキシルメトキシシンナメート、
ホモサレート、
エチルヘキシルサリチレート、
オクトクリレン、
フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
ベンゾフェノン−３、
ベンゾフェノン−４、
ベンゾフェノン−５、
ｎ−ヘキシル２−（４−ジエチルアミノ−２−ヒドロキシベンゾイル）ベンゾエート、
４−メチルベンジリデンカンファー、
テレフタリリデンジカンファースルホン酸、
フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、
メチレンビス（ベンゾトリアゾリル）テトラメチルブチルフェノール、
エチルヘキシルトリアゾン、
ビス−エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、
ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
２，４，６−トリス（ジネオペンチル４’−アミノベンザルマロネート）−ｓ−トリアジン、
２，４，６−トリス（ジイソブチル４’−アミノベンザルマロネート）−ｓ−トリアジン、
２，４，６−トリス（ビフェニル−４−イル−１，３，５−トリアジン）、
２，４，６−トリス（テルフェニル）−１，３，５−トリアジン、
ドロメトリゾールトリシロキサン、
ポリシリコーン−１５、
ジネオペンチル４’−メトキシベンザルマロネート、
１，１−ジカルボキシ（２，２’−ジメチルプロピル）−４，４−ジフェニルブタジエン、
２，４−ビス［５−１（ジメチルプロピル）ベンゾキサゾール−２−イル（４−フェニル）イミノ］−６−（２−エチルヘキシル）イミノ−１，３，５−トリアジン、及び
それらの混合物
から選択される、請求項８に記載の組成物。 - 前記無機スクリーン剤が、一次粒子の平均粒径が５ｎｍから１００ｎｍの間、好ましくは１０ｎｍから５０ｎｍの間の範囲である、被覆されているか又はされていない金属酸化物顔料から選択される、請求項８に記載の組成物。
- 前記無機スクリーン剤が、被覆されているか又はされていない酸化チタン、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、又は酸化セリウム顔料から選択される、請求項１０に記載の組成物。
- 少なくとも１つの自己日焼け剤も含有することを特徴とする、請求項６から１１のいずれか一項に記載の組成物。
- 少なくとも１つの脂肪相を含有することを特徴とする、請求項６から１２のいずれか一項に記載の組成物。
- 水中油型又は油中水型エマルションの形態であることを特徴とする、請求項１３に記載の組成物。
- ＵＶ−Ｂ照射を遮断するための薬剤としての、請求項１から５のいずれ一項に記載の式（Ｉ）の化合物の美容的使用。
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