JP4398932B2 - ジベンゾイルメタン誘導体、ビスレゾルシニルトリアジン化合物、及び前記ジベンゾイルメタンの励起三重項エネルギーを受容可能な化合物を含む光保護組成物;光安定化方法 - Google Patents
ジベンゾイルメタン誘導体、ビスレゾルシニルトリアジン化合物、及び前記ジベンゾイルメタンの励起三重項エネルギーを受容可能な化合物を含む光保護組成物;光安定化方法 Download PDFInfo
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Description
i.4-ヒドロキシベンジリデンマロナート誘導体または4-ヒドロキシシンナマート誘導体;
ii.フルオレン誘導体;
iii.ピペリジノール塩;
iv.これらの混合物
から選択される、前記ジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項エネルギーを受容可能な化合物を含む、局所使用のための光保護組成物に関する。
i.4-ヒドロキシベンジリデンマロナート誘導体または4-ヒドロキシシンナマート誘導体;
ii.フルオレン誘導体;
iii.ピペリジノール塩;
iv.これらの混合物
から選択される、前記ジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項エネルギーを受容可能な化合物とを組合せることによって、これらの同じジベンゾイルメタン誘導体の光化学的安定性(または光安定性)を実質的に且つ顕著に改良できることを見出した。
i.4-ヒドロキシベンジリデンマロナート誘導体または4-ヒドロキシシンナマート誘導体;
ii.フルオレン誘導体;
iii.ピペリジノール塩;
iv.これらの混合物
から選択される、前記ジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項エネルギーを受容可能な少なくとも一つの化合物とを組合せることを含む、UV放射に対する少なくとも一つのジベンゾイルメタン誘導体の安定性を改良するための方法が提案される。
(a)ジベンゾイルメタン誘導体タイプの少なくとも一つのUVスクリーニング剤、及び
(b)少なくとも一つのビスレゾルシニルトリアジン化合物、及び
(c)以下のもの:
i.4-ヒドロキシベンジリデンマロナート誘導体または4-ヒドロキシシンナマート誘導体;
ii.フルオレン誘導体;
iii.ピペリジノール塩;
iv.これらの混合物
から選択される、ジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項エネルギーを受容可能な少なくとも一つの化合物
を含むことを特徴とする、、局所使用のための化粧品または皮膚科学的組成物に関する。
− 2-メチルジベンゾイルメタン;
− 4-メチルジベンゾイルメタン;
− 4-イソプロピルジベンゾイルメタン;
− 4-tert-ブチルジベンゾイルメタン;
− 2,4-ジメチルジベンゾイルメタン;
− 2,5-ジメチルジベンゾイルメタン;
− 4,4'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン;
− 4,4'-ジメトキシジベンゾイルメタン;
− 4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン;
− 2-メチル-5-イソプロピル-4'-メトキシジベンゾイルメタン;
− 2-メチル-5-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン;
− 2,4-ジメチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン;
− 2,6-ジメチル-4-tert-ブチル-4'-メトキシジベンゾイルメタン。
(i)R1及びR2基は、同一でも異なっても良く、C3−C18アルキル基;C2−C18アルケニル基、または式−CH2−CH(OH)−CH2−OT1残基を表し、式中T1は水素原子あるいはC1−C8アルキル基であり;
(ii)R1及びR2基は、同一でも異なっても良く、下式(1)の残基を表しても良く:
− R6は共有結合;直鎖状または分枝状C1−C4アルキル基、または式−Cm1H2m1−O−残基を表し、式中m1は1から4の数であり;
− p1は0から5の数であり;
− R7、R8、及びR9基は、同一でも異なっても良く、C1−C18アルキル基;C1−C18アルコキシ基、または下式の残基を表し;
− A1は、下式の一つに対応する残基を表し:
− R3は水素原子、C1−C10アルキル基、式−(CH2CHR5−O)n1R4の残基を表し、式中n1は1から16の数、または式−CH2−CH(OH)−CH2−OT1残基を表し、式中T1は上述と同じ意味を有し、
− R4は水素、金属カチオンM、C1−C5アルキル基、または式−CH2m2−OT1残基を表し、式中m2は1から4の数であり、T1は上述と同じ意味を有し、
− Q1はC1−C18アルキル基である]。
− アルキル基は直鎖状または分枝状であり、例えばメチル、エチル、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、アミル、イソアミル、tert-アミル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、またはオクタデシルから選択されて良く;
− アルケニル基は例えば、アリル、メタリル、イソプロペニル、2-ブテニル、3-ブテニル、イソブテニル、n-ペンタ-2,4-ジエニル、3-メチルブト-2-エニル、n-オクト-2-エニル、n-ドデス-2-エニル、イソドデセニル、及びn-オクタデス-4-エニルから選択され;
− アルコキシ基は直鎖状または分枝状であり、例えばメトキシ、エトキシ、n-プロポキシ、イソプロポキシ、n-ブトキシ、sec-ブトキシ、tert-ブトキシ、アミロキシ、イソアミロキシ、及びtert-アミロキシから選択され;
− C1−C5モノアルキルアミノまたはジアルキルアミノ基は、例えばメチルアミノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、n-ブチルアミノ、sec-ブチルアミノ、tert-ブチルアミノ、ペンチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジブチルアミノ、及びメチルエチルアミノ;
− 金属カチオンは、アルカリ金属、アルカリ土類金属、または例えばリチウム、カリウム、ナトリウム、カルシウム、マグネシウム、銅、及び亜鉛から選択される金属カチオンである。
− 2,4-ビス{[4-(2-エチルヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン;
− 2,4-ビス{[4-(3-(2-プロピルオキシ)-2-ヒドロキシプロピルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン;
− 2,4-ビス{[4-(2-エチルヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-[4-(2-メトキシエチルカルボニル)フェニルアミノ]-1,3,5-トリアジン;
− 2,4-ビス{[4-トリス(トリメチルシロキシシリルプロピルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン;
− 2,4-ビス{[4-(2"-メチルプロペニルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン;
− 2,4-ビス{[4-(1',1',1',3',5',5',5'-ヘプタメチルトリシロキシ-2"-メチルプロピルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン;
− 2,4-ビス{[4-(3-(2-プロピルオキシ)-2-ヒドロキシプロピルオキシ]-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-[(4-エチルカルボキシル}フェニルアミノ]-1,3,5-トリアジン;
− 2,4-ビス{[4-(2-エチルヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(1-メチルピロール-2-イル)-1,3,5-トリアジン。
− 2,4-ビス{[4-(2-エチルヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン;
− 2,4-ビス{[4-トリス(トリメチルシロキシシリルプロピルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン;
− 2,4-ビス{[4-(1',1',1',3',5',5',5'-ヘプタメチルトリシロキシ-2"-メチルプロピルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン。
(i)4-ヒドロキシベンジリデンマロナート誘導体、または4-ヒドロキシシンナマート誘導体、例えば特許出願WO 03/007 906に記載のもの;
(ii)フルオレン誘導体、例えば米国特許出願第2004 00579912号、第2004 00579914号、第2004 00579916号、及び第2004 062 726号に記載のもの;
(iii)ピペリジノール塩、例えば特許出願WO 03/007 906に記載のもの;
(iv)これらの混合物。
Aはカルボニル官能基を含む二つの一価基を含む、UV放射を吸収する発色団基であり;
R14は水素素、直鎖状または分枝状C1−C8アルキル基、あるいは直鎖状または分枝状C1−C8アルコキシ基を表し、
R15は直鎖状または分枝状C1−C8アルキル基を表す]。
R14は水素、直鎖状または分枝状C1−C8アルキル基、あるいは直鎖状または分枝状C1−C8アルコキシ基を表し、
R15は水素、あるいは直鎖状または分枝状C1−C8アルキル基を表し、
R16は−C(O)CH3、−CO2R12、−C(O)NH2、及び−C(O)N(R13)2から選択され、
XはOまたはNHを表し、
R17は直鎖状または分枝状C1−C30アルキル基を表し、
R18は直鎖状または分枝状C1−C20アルキル基を表し、
R19はそれぞれ独立に直鎖状または分枝状C1−C18アルキル基を表す]。
R16は−CO2R12を表し、
R17は直鎖状または分枝状C1−C8アルキル基を表し、
R18は直鎖状または分枝状C1−C8アルキル基を表し、
XはOを表す]。
− R20、R21、R22、R23、R24、R25、R26、R27、R28、R29、R30、R31、R32、R33、R34、R35、R36、R37、及びR36基は、同一でも異なっても良く、任意に置換された直鎖状または分枝状C1−C30アルキル基;任意に置換されたC3−C8シクロアルキル;任意に置換された一環、二環、または三環式アリール基;任意に置換された一環、二環、または三環式ヘテロアリール;任意に置換されたC3−C14ヘテロシクロアルキル;アミノまたはシアノ基;下式のエステル基を表し;
− R39及びR44基は、同一でも異なっても良く、置換されたまたはされていないジフェニルメチレン;置換されたまたはされていない9H-フルオレンを表し;
− R45基は、任意に置換された直鎖状または分枝状C1−C30アルキル基;任意に置換された直鎖状または分枝状C1−C30ヒドロキシアルキル;任意に置換されたC3−C8シクロアルキル;任意に置換された一環、二環、または三環式アリール基;任意に置換された一環、二環、または三環式ヘテロアリール;任意に置換されたC3−C14ヘテロシクロアルキル;任意に置換されたエーテル;アミノ基を表し;
− R46及びR47基は、互いに独立に、水素、任意に置換された直鎖状または分枝状C1−C30アルキル基;任意に置換された直鎖状または分枝状C1−C30ヒドロキシアルキル;任意に置換されたC3−C8シクロアルキル;任意に置換された一環、二環、または三環式アリール基;任意に置換された一環、二環、または三環式ヘテロアリール;任意に置換されたC3−C14ヘテロシクロアルキル;アミノ基、シアノ、ヒドロキシル、アミドまたはイミド、ハロゲン、任意に置換されたエーテル、エステル、またはウレタンを表し;
q、r、s、及びtは1から100の数であり;
a、b、c、d、e、及びfは0から4の数であり;
uは0から100の数である]。
R1は水素またはメチルを表し;
xは1または2であり;
1)xが1に等しい場合、
R2は水素;C1−C18アルキル基;C2−C18アルケニル基;プロパルギル基;グリシジル基;1から20の酸素原子で中断されたC2−C50アルキル基であって、前記アルキル基が1から10のヒドロキシル基で置換されたもの、または別法として前記酸素原子で中断され同時に前記ヒドロキシル基で置換されたもの;カルボキシル基または−COOZ基で置換されたC1−C4アルキル基を表し、
式中、Zは水素、C1−C4アルキル、フェニル、(COO−)pMp+基で置換されたC1−C4アルキルを表し、
式中、pは1から3の整数であり、Mは周期表の1、2及び3族から得られる金属イオン、またはZn、Cu、Ni若しくはCoであり、あるいは別法としてMはNP+(R”)4であり、R”はC1−C8アルキルまたはベンジルである;
2)xが2である場合、
R’はC1−C12アルキレン基;C4−C12アルケニレン基;キシリレン基;1から20の酸素原子で中断されたC1−C50アルキレン基で、前記アルキル基が1から10のヒドロキシル基で置換されたもの、または別法として前記酸素原子で中断され同時に前記ヒドロキシル基で置換されたものを表し;
Yは有機または鉱物アニオンを表し;
カチオンyの総電荷はアニオンzの総電荷に等しい]。
例えばCiba-Geigy社によりTinoguard QまたはTinoguard S-FXの名称で市販されている製品が挙げられる。
PABA、
エチルPABA、
エチルジヒドロキシプロピルPABA、
ISP社により"Escalol 507"の名称で特に市販されているエチルヘキシルジメチルPABA、
グリセリルPABA、
BASF社により"Uvinul P25"の名称で市販されているPEG-25PABA。
Rona/EM Industries社により"Eusolex HMS"の名称で市販されているホモサラート、
Harrmann and Reimer社により"Neo Heliopan"の名称で市販されているエチルヘキシルサリチラート、
Scher社により"Dipsal"の名称で市販されているジプロピレングリコールサリチラート、
Haarmann and Reimer社により"Neo Heliopan TS"の名称で市販されているTEAサリチラート。
BASF社により"Univul N539"の商標名で特に市販されているオクトクリレン、
BASF社により"Uvinul N35"の商標名で特に市販されているエトクリレン。
BASF社により"Uvinul 400"の商標名で市販されているベンゾフェノン-1、
BASF社により"Uvinul D50"の商標名で市販されているベンゾフェノン-2、
BASF社により"Uvinul M40"の商標名で市販されているベンゾフェノン-3またはオキシベンゾン、
BASF社により"Uvinul MS40"の商標名で市販されているベンゾフェノン-4、
ベンゾフェノン-5、
Norquay社により"Helisorb 11"の商標名で市販されているベンゾフェノン-6、
American Cyanamid社により"Spectra-Sorb UV-24"の商標名で市販されているベンゾフェノン-8、
BASF社によりの商標名で市販されているベンゾフェノン-9、
ベンゾフェノン-12、
BASF社により"Uvinul A Plus"の商標名で市販されているジエチルアミノフヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾアート。
Chimex社により"Mexoryl SD"の名称で製造されている3-ベンジリデンカンファー、
Merck社により"Eusolex 6300"の名称で市販されている4-メチルベンジリデンカンファー、
Chimex社により"Mexoryl SL"の名称で製造されているベンジリデンカンファースルホン酸、
Chimex社により"Mexoryl SO"の名称で製造されているカンファーベンズアルコニウムメトスルファート、
Chimex社により"Mexoryl SX"の名称で製造されているテレフタリリデンカンファースルホン酸、
Chimex社により"Mexoryl SW"の名称で製造されているポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー。
Merck社により"Eusolex 232"の商標名で特に市販されているフェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
Haarmann and Reimer社により"Neo Heliopan AP"の商標名で市販されている二ナトリウムフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホナート。
Rhodia Chimie社により"Silatrizole"の名称で市販されているドロメトリゾールトリシロキサン、
Fairmount Chemical社により"MIXXIM BB/100"の商標名で固体形態で、またはCiba Specialty Chemicals社により"Tinosorb M"の商標名で水性分散物として微粉化形態で市販されている、メチレンビス(ベンゾトリアゾリル)テトラメチルブチルフェノール。
BASF社により"Uvinul T150"の商標名で特に市販されているエチルヘキシルトリアゾン、
Sigma 3V社により"Uvasorb HEB"の商標名で市販されているジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
2,4,6-トリス(ジイソブチル4'-アミノベンザルマロナート)-s-トリアジン。
Haarmann and Reimer社により"Neo Heliopan MA"の商標名で市販されているメンチルアントラニラート。
エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオナート。
Hoffmann LaRoche社により"Parsol SLX"の商標名で市販されている、例えばポリシリコーン-15といった、ベンザルマロナート官能基を含むポリオルガノシロキサン。
1,1-ジカルボキシ(2,2'-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタンジエン。
Sigma 3V社によりUvasorb K2Aの名称で市販されている2,4-ビス[5-(1-ジメチルプロピル)ベンゾキサゾール-2-イル(4-フェニル)イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)イミノ-1,3,5-トリアジン
並びにこれらの混合物。
好ましい更なる有機光保護剤は以下のものから選択される:
エチルヘキシルサリチラート、
オクトクリレン、
フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
ベンゾフェノン-3、
ベンゾフェノン-4、
ベンゾフェノン-5、
ジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾアート、
4-メチルベンジリデンカンファー、
テレフタリリデンカンファースルホン酸、
二ナトリウムフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホナート、
メチレンビス(ベンゾトリアゾリル)テトラメチルブチルフェノール、
エチレンヘキシルトリアゾン、
ビス(エチルヘキシルオキシフェノール)メトキシフェニルトリアジン、
ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
ドロメトリゾールトリシロキサン、
ポリシリコーン-15、
1,1-ジカルボキシ(2,2'-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン、
2,4-ビス[5-1(ジメチルプロピル)ベンゾキサゾール-2-イル(4-フェニル)イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)イミノ-1,3,5-トリアジン、
及びこれらの混合物。
− シリカ及びアルミナ、例えばTayca社製の"Microtitanium Dioxide MT 500 SA"及び"Microtitanium Dioxide MT 100 SA"の製品、並びにTioxide社製の"Tioveil Fin"、"Tioveil OP"、"Tioveil MOTG"、及び"Tioveil IPM"の製品、
− アルミナ及びアルミニウムステアラート、例えばTayca社製の"Microtitanium Dioxide MT 100 T"の製品、
− アルミナ及びアルミニウムラウラート、例えばTayca社製の"Microtitanium Dioxide MT 100 S"の製品、
− 酸化鉄及び鉄ステアラート、例えばTayca社製の"Microtitanium Dioxide MT 100 F"の製品、
− シリカ、アルミナ、及びシリコーン、例えばTayca社製の"Microtitanium Dioxide MT 100 SAS"、"Microtitanium Dioxide MT 600 SAS"、及び"Microtitanium Dioxide MT 500 SAS"の製品、
− ナトリウムヘキサメタホスファート、例えばTayca社製の"Microtitanium Dioxide MT 150 W"の製品、
− オクチルトリメトキシシラン、例えばDegussa社製の"T-805"の製品、
− アルミナ及びステアリン酸、例えばKemira社製の"UVT-M160"の製品、
− アルミナ及びグリセロール、例えばKemira社製の"UVT-M212"の製品、
− アルミナ及びシリコーン、例えばKemira社製の"UVT-M262"の製品。
− Sunsmart社により"Z-Cote"の名称で市販されている製品;
− Elementis社により"Nanox"の名称で市販されている製品;
− Nanophase Technologies社により"Nanogard WCD 2025"の名称で市販されている製品。
− Toshibi社により"Zinc Oxide CS-5"の名称で市販されている製品(ポリメチルハイドロゲンシロキサンで被覆されたZnO);
− Nanophase Technologies社により"Nanogard Zinc Oxide FN"の名称で市販されている製品(Finsolv TN、C12−C15アルキルベンゾアート中の40%分散物として);
− Daito社により"Daitopersion ZN-30"及び"Daitopersion ZN-50"の名称で市販されている製品(シクロポリメチルシロキサン/オキシエチレン化ポリジメチルシロキサン中の分散物、シリカとポリメチルハイドロゲンシロキサンで被覆された30%または50%のナノ酸化亜鉛を含む);
− Daikin社により"NFD Ultrafine ZNO"の名称で市販されている製品(シクロペンタシロキサン中の分散物として、パーフルオロアルキルホスファートと、パーフルオロアルキルエチルに基づくコポリマーとで被覆されたZnO);
− Shin-Etsu社により"SPD-Z1"の名称で市販されている製品(シクロジメチルシロキサン中に分散された、シリコーングラフト化アクリルポリマーで被覆されたZnO);
− ISP社により"Escalol Z100"の名称で市販されている製品(エチルヘキシルメトキシシンナマート/PVP-ヘキサデセン/メチコーンコポリマー混合物中に分散されたアルミナ処理化ZnO);
− Fuji Pigment社により"Fuji ZNO-SMS-10"の名称で市販されている製品(シリカとポリメチルシルセスキオキサンで被覆されたZnO);
− Elementis社により"Nanox Gel TN"の名称で市販されている製品(ヒドロキシステアリン酸重縮合物を有するC12−C15アルキルベンゾアート中に55%の濃度で分散されたZnO)。
− 抗汚染剤及び/またはフリーラジカル捕獲剤;
− 脱色素剤及び/または色素沈着促進剤;
− 抗グリケーション剤;
− NOシンターゼインヒビター;
− 皮膚または表皮巨大分子の合成の刺激剤及び/またはその分解の防止剤;
− 線維芽細胞増殖の刺激剤;
− ケラチノサイト増殖の刺激剤;
− 筋弛緩剤;
− 引き締め剤;
− 角質溶解剤;
− 保湿剤;
− 抗炎症剤;
− 細胞のエネルギー代謝への作用剤;
− 駆虫剤;
− サブスタンスPまたはCGRPアンタゴニスト。
以下の化合物が調製され、量は重量パーセンテージを表す。
全ての成分を含む水性相(B相)を、ウォーターバスで80℃に加熱する。全ての成分を含む脂肪相(A相)をウォーターバスで80℃に加熱する。ローターステイター(Moritz社製の機械)で攪拌しながらA相をB相に乳化する。C相を取り込ませ、穏やかに攪拌しながら混合物を室温に冷却する。製造の最後で所望の値にpHを調節するために、トリエタノールアミンを導入する。
Claims (11)
- 化粧品的に許容可能な支持体中に、
(a)ブチルメトキシジベンゾイルメタンである、ジベンゾイルメタン誘導体タイプの少なくとも一つのUVスクリーニング剤、及び
(b)2,4-ビス{[4-(2-エチルヘキシルオキシ)-2-ヒドロキシ]フェニル}-6-(4-メトキシフェニル)-1,3,5-トリアジン(ビス-エチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン)(ビスレゾルシニルトリアジン化合物)、及び
(c)以下のもの:
i.下式:
ii.以下の構造:
のトリス(テトラメチルヒドロキシピペリジノール)シトラート;
から選択される、前記ジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項エネルギーを受容可能な少なくとも一つの化合物
を含むことを特徴とする、皮膚、唇、爪、毛髪、睫毛、眉毛、及び/または頭皮への使用のための光保護組成物。 - 前記ジベンゾイルメタン誘導体が、組成物の全重量に対して0.01から10重量%の範囲の含量で存在する、請求項1に記載の組成物。
- ビスレゾルシニルトリアジン化合物が、組成物の全重量に対して0.1から20重量%の範囲の濃度で存在する、請求項1または2に記載の組成物。
- 前記ジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項エネルギーを受容可能な化合物が、40kcal/molから70kcal/molの範囲の励起三重項エネルギーを有する、請求項1から3のいずれか一項に記載の組成物。
- ジベンゾイルメタン誘導体の三重項エネルギーを受容可能な化合物が、組成物の全重量に対して0.1から25重量%の範囲の含量で存在する、請求項1から4のいずれか一項に記載の組成物。
- 更にアントラニラート;サリチル酸誘導体;カンファー誘導体;ベンゾフェノン誘導体;β,β-ジフェニルアクリラート誘導体;ベンゾトリアゾール誘導体;ベンザルマロナート誘導体;ベンズイミダゾール誘導体;イミダゾリン;ビス-ベンザゾリル誘導体;p-アミノ安息香酸(PABA)誘導体;メチレンビス(ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール)誘導体;ベンゾキサゾール誘導体;スクリーニングポリマー及びスクリーニングシリコーン;α-アルキルスチレンベースのダイマー誘導体;4,4-ジアリールブタンジエン、並びにこれらの混合物から選択される有機光保護剤または、処理化または非処理の金属酸化物の顔料またはナノ顔料であることを特徴とする鉱物光保護剤を含むことを特徴とする、請求項1から5のいずれか一項に記載の組成物。
- 有機UVスクリーニング剤が以下の化合物:
エチルヘキシルサリチラート、
オクトクリレン、
フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
ベンゾフェノン-3、
ベンゾフェノン-4、
ベンゾフェノン-5、
ジエチルアミノヒドロキシベンゾイルヘキシルベンゾアート、
4-メチルベンジリデンカンファー、
テレフタリリデンカンファースルホン酸、
二ナトリウムフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホナート、
メチレンビス(ベンゾトリアゾリル)テトラメチルブチルフェノール、
エチレンヘキシルトリアゾン、
ビス(エチルヘキシルオキシフェノール)メトキシフェニルトリアジン、
ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン、
ドロメトリゾールトリシロキサン、
ポリシリコーン-15、
1,1-ジカルボキシ(2,2'-ジメチルプロピル)-4,4-ジフェニルブタジエン、
2,4-ビス[5-1(ジメチルプロピル)ベンゾキサゾール-2-イル(4-フェニル)イミノ]-6-(2-エチルヘキシル)イミノ-1,3,5-トリアジン、
及びこれらの混合物
から選択されることを特徴とする、請求項6に記載の組成物。。 - 前記顔料またはナノ顔料が、処理化または非処理の酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウム、または酸化セリウム、及びこれらの混合物から選択されることを特徴とする、請求項6に記載の組成物。
- 更に皮膚を人工的に日焼けさせる及び/または着色化するための少なくとも一つの薬剤
を含むことを特徴とする、請求項1から8のいずれか一項に記載の組成物。 - 更に脂肪物質、有機溶媒、イオン性または非イオン性の、親水性または親油性の増粘剤、柔軟剤、湿潤剤、不透明化剤、安定化剤、皮膚軟化剤、シリコーン、消泡剤、香料、防腐剤、アニオン性、カチオン性、非イオン性、両イオン性または両性界面活性剤、フィラー、ポリマー、噴射剤、及び酸性化剤または塩基性化剤から選択される少なくとも一つのアジュバントを含む、請求項1から9のいずれか一項に記載の組成物。
- ビスレゾルシニルトリアジン化合物と、請求項1から37のいずれか一項に定義された前記ジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項エネルギーを受容可能な化合物との組合せを介した、UV放射に対する請求項1から10のいずれか一項に定義されたジベンゾイルメタン誘導体の光安定化方法。
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