KR20030029492A - 반도체 기판에 형성되는 박막 다층 하이 ｑ 변압기 - Google Patents
반도체 기판에 형성되는 박막 다층 하이 ｑ 변압기 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 박막 다층 하이 Q 변압기(high Q transformer)에 관한 것이다. 외부 변압기 권선을 형성하기 위해, 복수의 평행한 제 1 레벨 금속 러너가 반도체 기판의 상부에 위치하는 제 1 절연층에 형성된다. 복수의 수직 도전성 비아는 제 3 및 제 4 절연층에 형성되어 제 1 레벨 금속 러너의 각각의 단부와 전기적으로 접속된다. 제 4 절연층은 제 3 절연층의 상부에 배치되며 부가의 수직 도전성 비아 및 제 4 레벨 금속 러너가 내부에 형성된다. 따라서, 제 4 레벨 금속 러너 및 개재된 수직 도전성 비아는 일반적으로 나선 형상을 갖는 연속적인 도전성 구조체를 형성하기 위해 제 1 레벨 금속 러너의 각각을 접속시킨다. 변압기의 내부 권선은 유사하게 형성된다. 복수의 평행한 제 2 레벨 금속 러너가 제 2 절연층 내에 형성되며, 복수의 도전성 비아 및 제 3 레벨 금속 러너는 제 3 절연층 내에 형성되어, 일반적으로 나선 형상을 가지며 외부 변압기 권선 내에 적어도 부분적으로 배치되는 연속적인 도전성 구조체를 형성하기 위해 복수의 제 2 레벨 금속 러너를 상호 접속시킨다.
Description
본 특허 출원은 2001년 6월 28일 출원된 미국 임시 특허 출원 제 60/301,285를 우선권으로 주장한다.
본 발명은 일반적으로 집적 회로 기판 상에 형성되는 변압기에 관한 것이며, 보다 구체적으로는 집적 회로 기판의 적어도 3개의 금속 층에 걸쳐 있는 외측 코어를 갖는 변압기에 관한 것이다.
현재의 무선 통신의 발전 및 소형 무선 통신 기기의 요구는 라디오 통신 전자 기기의 최적화 및 소형화에 관한 상당한 성과를 초래하였다. 상기 기기의 능동 소자들(인덕터, 커패시터 및 변압기 등)은 기기 작동에 있어 중요한 기능을 담당하며, 따라서 이러한 소자들의 크기를 감소시키고 제조 효율을 향상시키기 위한 노력이 시도되고 있다.
전자 통신 기기의 성능에 있어 필수적인 기능을 담당하는 변압기는 1차 및 2차 권선을 포함하는 전자기 소자이다. 일반적으로, 권선들은 폐쇄 루프 자기 회로를 형성하는 공통 코어 상에 권취된다. 철 코어가 변압기 효율을 증가시키는데 일반적으로 사용되지만, 반드시 필요한 것은 아니다. 각각의 권선은 복수의 권선부(turn)를 포함한다. 1차 및 2차 전압 사이의 관계는 1차 대 2차 권선비의 함수이며, 1차 및 2차 전류 사이의 관계는 권선비의 역함수이다. 공지된 바와 같이, 변압기 권선 및 코어에 있어서 다수의 상이한 물리적 구조가 존재한다. 한 실시예에서는, 예를 들면 1차 및 2차 권선은, 1차 권선에 의해 형성된 개구 내에 2차 권선이 배향되어 있는 나선형 구조체를 형성한다. 변압기는 또한 오디오 주파수로부터 라디오 주파수(RF)까지의 주파수에서의 임피던스 정합 및 인가 전압의 승압 및 강압을 위한 전력 적용을 포함하는 다양한 적용에서 기능한다. 고주파 대역으로의 작동 통신 주파수의 연속적인 할당에 의해, 임피던스 정합 적용에 사용되는변압기는 상승된 에디 전류 및 표면 효과 손실에 기인하여 성능이 손상된다.
Q(또는 품질 팩터)가 변압기의 중요한 성능 지수이다. Q는 변압기 권선 내의 유도 저항에 대한 유도 리액턴스의 비를 측정한다. 하이 Q 변압기(high Q transformer)는 변압기 전류가 입력 신호 주파수의 함수로서 도식화될 때, 변압기가 공진하는 주파수를 표시하는 피크를 갖는 좁은 피크를 표시한다. 하이 Q 변압기는 협대역폭에서 작동하는 주파수 의존 회로에서의 사용에 있어 특히 중요하다. Q 값은 변압기 저항의 역함수이며, Q를 증가시키기 위해 저항을 최소화하는 것이 특히 중요하다.
대부분의 개인 통신 기기들은 실리콘 또는 갈륨-비소와 같은, 반도체 기술을 사용하여 제조된 집적 회로 능동 소자를 포함한다. 종래에는 소정의 집적 유도 구조체(토로이달 또는 나선형 인덕터를 포함하는)가 실리콘 기반 집적 회로 제조 프로세스와의 호환성을 성취하도록 개발되었다. 두 개의 이러한 인덕터가 근접하게 형성되면, 하나의 권선(1차)을 통해 다른 권선(2차)의 권선 영역으로 흐르는 전류에 의해 형성된 자기장의 결합은 변압기의 작동 및 2차 권선에서의 전류의 흐름을 발생시킨다. 그러나, 이러한 평면형 인덕터는 관심 작동 주파수에서의 높은 손실 및 낮은 Q 팩터의 단점이 있다. 이러한 손실 및 낮은 Q 팩터는 일반적으로 변압기 구조체의 얇으며 비교적 높은 고유 저항 도전체의 사용에 의한 기생 커패시턴스 및 저항 손실에 의해 발생하는 유전 손실에 기인한다. 종래의 평면형 인덕터 및 상기 인덕터로 형성된 변압기의 다른 단점은 변압기의 상부, 측부 및 하부의 유전층 및 반도체에 진입하는 자기장 라인(반도체 기판 표면에 수직인)의 발생이다. 이는 유도 손실을 증가시키고 변압기의 Q 팩터를 감소시킨다. 또한, 변압기가 실리콘으로 형성된 능동 전류 소자들로부터 상당한 거리만큼 이격되어 배치되지 않으면, 자기장 라인은 전류를 유도하고 따라서 능동 소자들의 작동을 중단시킨다.
집적 회로 능동 소자들이 점점 소형화되고 고속으로 작동함에 따라, 상호 접속 시스템은 기기 신호에 프로세싱 지연을 부가하지 않아야 한다. 종래의 알루미늄 상호 접속 금속화의 사용은 보다 긴 상호 접속부 및 보다 소형의 상호 접속 단면이 상호 접속 저항을 증가시키기 때문에 회로 작동 속도를 제한한다. 또한, 알루미늄 및 실리콘 표면 사이의 비교적 소형의 접촉 저항은 회로 소자의 수가 증가함에 따라 상당한 총 저항을 발생시킨다. 또한 비아 및 플러그에서의 높은 종횡비를 갖는 알루미늄을 증착하는 것이 곤란하며, 여기서 종횡비는 플러그 두께 대 직경의 비로서 정의된다.
이러한 단점들에 의해, 구리가 상호 접속부로서 선택되었는데, 이는 구리가 알루미늄 보다 양호한 도전체이며(알루미늄의 3.1μΩcm와 비교하여 1.7μΩcm의 저항을 가짐), 전자 이동(electromigration)에 덜 민감하며, 낮은 온도에서 증착 가능하며(따라서 기기 불순물 프로파일에 해로운 영향을 방지함), 높은 종횡비의 플러그의 플러그 재료로서 사용하기에 적합하기 때문이다. 구리 상호 접속부는 화학 기상 증착, 스퍼터링, 전기 도금 및 전해 도금에 의해 형성될 수 있다.
능동 기기 구리 상호 접속부를 형성하기 위한 한 기술은 다마신 프로세스(damascene process)이다. 트렌치가 표면 유전층에 형성되며, 그 후 구리 재료가 내부에 증착된다. 통상적으로 트렌치는 과충전되어, 표면을 재평탄화하기위한 화학적 및 기계적 연마 단계가 요구된다. 이러한 프로세스는 우수한 치수 제어를 제공하는데, 이는 통상의 패턴 및 에칭 상호 접속 프로세스에서 발생하는 치수 편차를 배제하기 때문이다. 2중 다마신 프로세스는, 구리로부터 상호 접속 트렌치 및 기초 도전성 비아 모두를 동시에 형성하는, 다마신 프로세스의 확장 프로세스이다. 먼저, 비아 개구가 형성되며, 다음 상호 접속될 두 개의 비아 개구 사이에 트렌치가 형성된다. 차후의 금속 증착 단계는 비아 개구 및 트렌치를 충전하여, 일체형 금속층 및 금속층 하부로의 도전성 비아를 형성한다. 화학적 및 기계적 연마 단계에서 상부면 또는 기판을 평탄화한다. 2중 다마신 프로세스는 본원에 참조로서 관련되어 있는 하기의 참조 문헌들: C.K. Hu 등의 Proceedings MRS Symposium on VLSI, 제 5 권, 369 페이지(1990); B. Luther 등의 Proceedings VMIC, 제 10 권, 15 페이지(1994); D. Edelstein의 Proceedings ECS Mtg., 제 96-2 권, 335 페이지(1996)에 상세히 설명되어 있다.
반도체 기판 상의 능동 기기들과 관련하는 변압기의 제조에 있어서의 부가의 진보를 제공하기 위해, 집적 회로의 통상의 금속층 내에 이러한 변압기를 형성하기 위한 구조 및 프로세스가 제공되며, 여기서 변압기 코어 영역은 종래의 변압기 보다 크며, 높은 인덕턴스 값 및 높은 Q 성능 지수를 제공한다. 또한, 본 발명에 따라 형성된 변압기는 집적 회로의 비교적 콤팩트한 영역에서 바람직한 낮은 저항(따라서 높은 Q)을 갖는다.
본 발명의 한 실시예에 따르면, 복수의 평행한 하부 도전성 스트립이, 능동소자들이 미리 형성되어 있는 반도체 기판의 상부에 형성된다. 제 1 및 제 2 수직 도전성 비아 개구가 각각의 하부 도전성 스트립의 제 1 및 제 2 대향 에지 상부에 형성되며, 도전성 재료가 제 1 및 제 2 도전성 비아를 형성하도록 비아 개구 내에 증착된다. 두 개의 부가의 비아 개구가 제 1 및 제 2 도전성 비아와 수직 정렬되어 형성되며 제 3 및 제 4 도전성 비아를 형성하도록 금속으로 충전된다. 다음, 복수의 상부 도전성 스트립이 형성되며, 상기 상부 도전성 스트립의 평면은, 하나의 상부 도전성 스트립의 제 1 에지가 하부 도전성 스트립의 제 1 에지 상에 위치하도록 하부 도전성 스트립의 평면을 교차하며, 두 개의 에지는 제 1 및 제 3 도전성 비아에 의해 상호 접속된다. 상부 도전성 스트립의 제 2 에지는 다음의 평행한 하부 도전성 스트립의 제 2 에지 상에 위치되며, 상기 에지들은 제 2 및 제 4 도전성 비아에 의해 전기적으로 접속된다. 따라서 변압기의 외부 나선형 권선이 형성된다. 변압기의 내부 권선은 유사하게 형성된다. 내부 권선의 하부 세그먼트는 외부 권선의 하부 세그먼트의 상부의 적어도 하나의 금속층으로 형성되며, 내부 권선의 상부 세그먼트는 내부 권선의 상부 세그먼트 하부의 적어도 하나의 금속층이다. 변압기는 적어도 4개의 금속층(즉, 내부 및 외부 권선의 하부 세그먼트, 내부 및 외부 권선의 상부 세그먼트)으로 형성되어야 하지만, 다수의 권선 세그먼트들 사이에 하나 이상의 금속층이 제공될 수 있으며, 외부 권선의 하부 세그먼트는 부가의 권선 세그먼트가 상부에 형성된 상태로 임의의 집적 회로 금속층 상에 형성될 수 있다.
본 발명의 기술에 따른 변압기를 구성하는 소정의 레이아웃 및 금속화 기술의 사용은 도전성 재료의 보다 낮은 저항 손실을 야기하며, 이에 의해 에디 전류 손실을 감소시키며 또한 변압기 Q 팩터를 증가시킨다. 본 발명의 한 실시예에 따르면, 다층 2중 다마신 금속화 기술이 변압기를 형성하는데 사용된다. 복수의 평행한 금속-1 러너(metal-1 runner)가 절연 재료의 제 1 스택에 형성된다. 절연 재료의 제 2 스택은 제 1 스택 상부에 배치되며 복수의 제 1 및 제 2 비아 개구가 내부에 형성되며, 상기 복수의 제 1 비아 개구의 각각은 금속-1 러너의 제 1 단부에 접촉하며, 복수의 제 2 비아 개구의 각각은 금속-1 러너의 제 2 단부에 접촉한다. 금속-2 트렌치가 제 2 스택의 하나 이상의 상부층 내에 형성되며, 다음 제 1 및 제 2 비아 개구 및 트렌치는 구리로 충전된다. 금속-2 러너는 금속-1 러너의 수직 평면으로부터 이격되어 배치된다. 절연층의 제 3 스택은 제 2 스택의 상부에 배치되며 4개의 비아 개구가 내부에 형성된다. 제 3 및 제 4 비아 개구는 각각 제 1 및 제 2 도전성 비아 중 하나와 전기적으로 접촉된다. 제 5 비아 개구는 금속-2 트렌치의 제 1 단부와 접촉하며, 제 6 비아 개구는 금속-2 트렌치의 제 2 단부와 접촉한다. 금속-3 트렌치가 형성되어 제 5 및 제 6 비아 개구의 상단부를 상호 접속하지만, 금속-3 트렌치는 두 개의 연속적인 금속-2 러너를 접속시킨다. 따라서, 금속-3 트렌치의 한 단부는 금속-2 러너의 제 6 비아 개구에 접속되며, 금속-3 트렌치의 다른 단부는 복수의 평핸한 금속-2 러너의 다음의 금속-2 러너의 제 5 비아 개구와 접속된다. 다음, 제 3, 제 4, 제 5 및 제 6 비아 개구와 금속-3 트렌치는 구리로 충전된다. 절연층의 제 4 스택은 구조체의 상부에 배치되며 제 7 및 제 8 비아 개구가 내부에 형성되어 제 3 및 제 4 도전성 비아와 각각 수직으로 정렬된다. 금속-4 러너의 한 단부가 제 8 비아 개구와 접촉하며 금속-4 트렌치의 다른 단부는 복수의 평행한 금속-1 러너의 다음의 금속-1 러너의 제 7 비아 개구와 접촉하는 상태로, 금속-4 트렌치가 상부 절연 스택의 상부 부분에 형성된다. 이러한 방식으로, 금속-4 트렌치는 두 개의 연속적인 금속-1 러너를 상호 접속한다. 금속-4 트렌치와 제 7 및 제 8 비아 개구는 구리로 충전된다. 단면도에 있어서, 최종 구조체는 도전성 재료의 두 개의 동심 직사각형을 형성한다. 평면도에 있어서, 금속-1 및 금속-4 러너는 각각의 금속-4 러너가 연속적인 금속-1 러너를 상호 접속시키는 나선을 형성한다. 유사하게, 금속-2 및 금속-3 러너는 각각의 금속-3 러너가 연속적인 금속-2 러너를 전기적으로 상호 접속시키는 나선을 형성한다. 최종 구조체는, 금속-1 및 금속-4 러너에 의해 형성된 외부 권선과 금속-2 및 금속-3 러너에 의해 형성된 내부 권선을 갖는 변압기를 포함한다.
본 발명은 본 발명의 상세한 설명 및 첨부 도면에 기초하여 고려할 때 보다 용이하게 이해할 수 있으며 부가의 장점 및 용도가 더욱 명백해질 것이다.
도 1 내지 도 11은 순차적인 제조 단계 중의 본 발명의 실시예들에 따른 변압기 구조체의 단면도.
도 12, 도 13 및 도 14는 본 발명의 다수의 실시예들에 따른 변압기 구조체의 평면도.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
20 : 배리어층22 : 절연층
24 : 하드 마스크층30 : 트렌치
34 : 금속-1 러너48 : 에칭 중단층
60, 62 : 비아 개구92, 94, 96 : 도전성 비아
112 : 유전층132 : 도전성 구조체
도면에 있어서, 통상의 실시예 따르면, 다수의 설명된 기기 특징부들은 실제 척도로 도시되지 않았으며, 본 발명과 관련된 특정 특징부들을 강조하기 위해 도시되었다. 도면 부호들은 도면 및 명세서에 걸쳐 유사한 부재들을 나타낸다.
하기에 설명하는 변압기를 형성하는 방법의 설명은 일반적으로 외부 및 내부 변압기 코일의 단일 권선과 관련된 소자들의 형성에 관한 것이다. 당 기술 분야의 숙련자들은 복수의 이러한 권선들이 집적 회로 기판에 동시에 형성된다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러나, 하기의 설명에서는, 또한 연속적인 권선들 사이의 상호 접속부를 빈번히 언급할 필요가 있다.
본 발명의 적합한 프로세스는, 통상적으로 복수의 능동 소자들을 포함하는 존재하는 집적 회로 기판 상부에 복수의 절연층이 형성되어 있는 도 1에 도시한 바와 같이 개시된다. 통상적으로, 종래의 제조 프로세스의 이 시점에서, 금속 상호 접속층이 상호 접속 능동 기기 영역에 형성되지 않으며, 능동 기기 영역으로의 접근을 얻기 위한 비아 또는 윈도우만이 형성되어 있다. 배리어층(20)이 반도체 기판의 표면 상에 위치되며, 적합하게는 탄탈, 탄탈 니트라이드, 티타늄 또는 티타늄 니트라이드로 형성된다. 다음, 비교적 낮은 유전 상수 재료의 절연층(22)이 배리어층(20) 상부에 형성된다. 저유전성 이산화 실리콘, 블랙 다이아몬드 및 코랄(coral)이 절연층(22)에 있어 적합한 재료이다. 이산화 실리콘의 상대 유전 상수는 약 3.9이다. 따라서, 낮은 상대 유전 상수는 일반적으로 약 3.0 미만으로 고려된다. 낮은 유전 상수 재료는 층간 커패시턴스를 감소시키며, 따라서 유전층에 인접한 금속 상호 접속부 상에 전달되는 신호들 사이의 전위 누화를 감소시킨다. 배리어층(20) 및 절연층(22)은 화학 기상 증착에 의해 형성될 수 있다.
적합한 실시예에서, 절연층(22)의 상부에 위치되는 층(24)은 이산화 실리콘의 하드 마스크를 포함한다. 하드 마스크의 하부에 층 또는 층들을 에칭하기 위해, 포토레지스트 재료가 하드 마스크 상부에 적용되며, 포토레지스트는 패터닝되며, 다음 패턴은 포토레지스트로부터 하드 마스크로 전사된다. 포토레지스트는 제거되며, 하드 마스크 패턴을 사용하여 에칭 작업이 수행된다. 이러한 프로세스는에칭된 특징부들의 양호한 치수 제어를 유리하게 제공한다. 하드 마스크 대신에, 통상적인 포토레지스트 패터닝 및 에칭 작업이 사용될 수 있다. 어떤 경우든, 도 2에 도시한 바와 같이, 윈도우 또는 트렌치(30)가 적절한 에칭제를 사용하여 배리어층(20), 절연층(22) 및 하드 마스크층(24)에 형성된다. 평면도에서, 트렌치(30)는 원형 또는 타원형이다. 일반적으로, 패터닝 및 에칭 작업은 첨예한 코너를 갖는 구조 형상의 형성을 허용하지 않으며, 따라서 상부로부터 볼 때, 윈도우 및 트렌치는 통상 원형, 타원형이며, 또는 비교적 직선형 에지들 및 상기 에지들 사이에 둥근 코너들을 갖는다.
도 3을 참조하면, 배리어 및 시드층(32)이 증착된다. 통상적으로, 이는 두 개의 단계에서 성취된다. 먼저, 배리어 재료가 트렌치(30) 내로 스퍼터링된다. 탄탈, 탄탈 니트라이드, 티타늄 및 티타늄 니트라이드가 배리어층에 적절한 재료이다. 다음, 얇은 구리 시드층이 적합하게는 스퍼터링에 의해 증착된다. 시드층은 전기 도금 구리에 대한 개시층으로서 필요하다. 배리어 재료 및 배리어의 시드 재료와 시드층(32) 모두는 또한 종래의 화학 기상 증착 및 전기 도금 프로세스에 의해 증착될 수 있다. 금속-1 러너층(34)이 적합하게는 구리를 전기 도금함으로써 형성된다. 전기 도금은 비교적 적은 비용으로 낮은 온도에서 수행될 수 있기 때문에 특히 유리하다. 저온 증착 특징은 불순물 프로파일의 변경을 방지하기 때문에 유리하다. 다음, 기판은 금속-1 러너(34) 내부를 제외한 모든 영역으로부터 전기 도금 구리를 제거하기 위해 화학 기계적으로 연마된다. 절연층 내에 구리층을 증착하기 위한 이러한 프로세스는 다마신 프로세스로서 공지되어 있다. 이는 비아및 상호 접속부가 두 개의 개별 단계에서 형성되는 종래의 금속 패터닝 및 에칭 프로세스에서 유발되는 편차를 배제하기 때문에 우수한 치수 제어를 제공한다.
소정의 회로 구조에 있어서, 금속-1 러너(34)를 기판의 기초 영역에 접속시킬 필요가 있다. 예를 들면, 금속-1 러너의 한 단부는 회로의 다른 소자에 대한 접속을 위한 변압기 터미널로서 기능할 수 있다. 이는 금속-1 러너의 한 단부를 기초 기기 영역에 접속하는 비아 개구를 먼저 형성함으로써 2중 다마신 프로세스에 의해 성취될 수 있다. 제 2 단계에서는 트렌치(30)를 형성하며, 제 3 단계에서는 도전성 비아 및 금속-1 러너(34)를 형성하도록 비아 개구 및 트렌치(30)를 동시에 충전한다. 따라서, 이러한 기술에 의해 금속-1 러너는 기초 기기 영역에 접속된다.
본 발명은 금속-1 층에 형성된 외부 권선의 하부 세그먼트(및 금속-4 층에 형성된 그의 상부 권선 세그먼트)가 도시된 도면에 설명되며 도시되어 있으며 따라서 금속-1 러너를 참조하여 설명하지만, 본 발명의 사상은 금속층(1) 상부의 금속층에 하부 권선 세그먼트를 형성하는데 적용될 수 있다. 예를 들면, 외부 권선의 하부 권선 세그먼트는 금속-2 러너로 형성될 수 있으며, 상부 권선 세그먼트는 금속-5 러너로 형성될 수 있다. 유사하게, 내부 권선 상부 및 하부 금속 세그먼트는, 상기 세그먼트들이 외부 권선 상부 및 하부 세그먼트 사이에 형성되는 한, 다양한 층으로 형성될 수 있다.
도 4에 도시한 바와 같이, 금속-1 러너(34)의 상부 및 층들(20, 22, 24)의 인접 영역들에 제 2의 4층 스택이 형성된다. 4층 스택의 하부층은 도시한 바와 같은 배리어층(40)(적합하게는 티타늄 니트라이드인)을 포함한다. 적합하게는 비교적 낮은 유전 상수를 갖는 절연층(42)이 배리어층(40) 상부에 형성되며 낮은 유전 상수의 이산화 실리콘, 블랙 다이아몬드 또는 코랄을 포함한다. 낮은 유전 상수 재료의 사용은 층간 커패시턴스 및 따라서 층간 누화를 감소시키는데 유리하지만, 절연층(42)이 저유전성 재료를 포함해야 할 필요는 없다. 예를 들면 실리콘 니트라이드로 형성된 에칭 중단층(48)이 절연층(42)의 상부에 형성된다. 적합하게는 낮은 유전 상수를 갖는 다른 절연층(50)이 에칭 중단층(48)의 상부에 형성된다. 하드 마스크층(52)이 절연층(50)의 상부에 형성된다. 상술한 바와 같이, 종래의 포토레지스트, 마스킹 및 패터닝 프로세스가 하드 마스크층(52) 대신에 사용될 수 있다.
도 5를 참조하면, 하드 마스크층(52)을 사용하는 마스킹 작업은, 2차 레벨 비아 개구(60, 62)가 형성되는 영역을 규정한다. 규정된 패턴을 사용하여, 다음, 2차 레벨 비아 개구(60, 62)는 배리어층(40)에 하향으로 에칭된다. 다음, 부가의 에칭 단계가 비아 개구(60, 62)의 베이스로부터 배리어층(40)을 제거하는데 사용된다. 제조 프로세스의 이 시점에서, 상기 레벨에서 비아 개구를 또한 필요로 하는 집적 회로의 다른 영역이 존재할 수 있으며, 따라서 비아 개구(60, 62)와 동시에 형성될 수 있다. 일반적으로, 변압기와 관련된 임의의 층들이 형성되는 경우에, 집적 회로의 다른 영역들에 요구되는 비아 개구 및 트렌치들이 동시에 형성된다. 따라서, 본 발명의 방법은 집적 회로 형성 프로세스에 임의의 부가의 마스킹 단계를 부가하지 않는다. 단지, 비아를 사용하는 마스크 내의 변압기 구조체를 위한부가의 영역을 형성하여 집적 회로 전체에 걸쳐 상호 접속하기만 하면 된다.
도 6에 또한 도시한 바와 같이, 트렌치(63)가 형성되어, 에칭 중단층(48)으로 하향으로 연장된다. 적합한 실시예에서, 에칭 중단층(48)에서 에칭 프로세스를 효과적으로 중단하기 위해, 에칭 프로세스는 재료로부터 에칭되는 부산물을 분석하도록 모니터링된다. 이 경우, 에칭 중단층(48)의 재료가 검출될 때, 에칭 프로세스는 종료된다. 이 경과, 트렌치(63)는 마스크층(52) 및 절연층(50)을 통해 하향으로 연장되어, 에칭 중단층(48) 내에서 종료된다. 도 12의 최종 구조체에서 알 수 있는 바와 같이, 적합하게는 트렌치(63)는 금속-1 러너(34)의 수직 평면으로부터 편위되어, 트렌치(63)의 수직 평면은 금속-1 러너(34)의 수직 평면 후방에 위치된다.
배리어 및 시드층(64)은 비아 개구(60, 62) 및 트렌치(63) 내에 증착된다. 프로세스 및 재료들은 도 3의 배리어 및 시드층(32)과 관련하여 설명한 것과 동일하다. 도 7에 도시한 바와 같이, 다음 구리가 비아 개구(60, 62) 및 트렌치(63) 내에 적합하게 전기 도금되며, 그 후 화학적 및 기계적 연마 작업에 의해 상부 표면을 평탄화한다. 이 시점에서, 비아 개구(60, 62)의 하부 부분의 두 개의 구리 영역은 도전성 비아(65, 66)로서 칭한다. 비아 개구(60, 62)의 상부 영역{즉, 트렌치(63)와 동일한 수평 평면}에서의 구리 재료는 각각 금속-2 비아층(67, 68)으로서 칭한다. 트렌치(63) 내의 구리 재료는 금속-2 러너(69)로서 칭한다.
도 8에 도시한 바와 같이, 존재하는 층들 상부에 다층 스택이 형성되며, 적합하게는 개별층의 재료는 도 4와 관련하여 설명한 다층 스택에 사용된 재료들과동일하다. 특히, 형성된 층들은, 순차적으로, 배리어층(70), 절연층(72)(적합하게는, 낮은 유전 상수를 갖는 재료를 포함하는), 에칭 중단층(74), 절연층(76)(또한 적합하게는, 낮은 유전 상수 재료를 포함하는), 및 하드 마스크층(78)을 포함한다.
도 9에 도시한 바와 같이, 하드 마스크층(78)은 4개의 비아 개구를 형성하도록 패터닝되며 에칭된다. 두 개의 비아 개구(80, 81)가 하드 마스크층(78)으로부터 배리어층(70)의 상부면으로 각각 금속-2 비아층(67, 68)과 실질적으로 수직 정렬되어 하향으로 연장된다. 두 개의 부가의 비아 개구(82, 83)는 하드 마스크층(78)으로부터 금속-2 러너(69)의 단부 영역(84, 85)과 수직 정렬되어 하향으로 연장된다. 금속-2 러너는 금속-1 러너(34)의 후방의 평면에 위치하며, 따라서 비아 개구(82, 83)는 비아 개구(80, 81)의 후방의 수직 평면에 위치한다는 것을 상기하라. 한 실시예에서, 비아 개구(80, 81, 82, 83)는 도 9의 수평 치수와 동일한 크기를 갖는다. 다음, 비아 개구(80, 81, 82, 83)의 하부에서의 노출 배리어층(70)이 부가의 에칭 단계에서 제거된다. 하드 마스크층(78)은, 하드 마스크층(78)으로부터 에칭 중단층(74)의 상부면으로 수직으로 연장되는 트렌치(87)를 형성하도록 재차 패터닝되며 에칭된다. 도 12의 평면도로부터 알 수 있는 바와 같이, 트렌치(87)는 금속-2 러너(69)의 수직 평면을 교차하는 수직 평면에 위치한다. 따라서, 트렌치(87)는 두 개의 연속적인 평행한 금속-2 러너(69)를 상호 접속하기 위해 금속-2 러너(69)의 수직 평면으로부터 후방으로 연장된다.
다음, 배리어층(90)이 4개의 비아 개구(80, 81, 82, 83) 및 트렌치(87)의 내부면에 적용된다. 다음, 금속이 비아 개구(80, 81, 82, 83) 및 트렌치(87) 내에증착 또는 전기 도금된다. 따라서, 도전성 비아(92, 94)가 비아 개구(80, 81) 내에 각각 형성된다. 비아 개구(82, 83)의 하부 부분의 두 개의 도전성 영역은 각각 도전성 비아(96, 98)로서 칭한다. 비아 개구(82, 83)의 상부 영역의 도전성 재료는 금속-3 비아층(100, 102)으로서 각각 칭한다. 트렌치(87) 내의 도전성 재료는 금속-3 러너(104)로서 칭한다. 최종 구조체는 도 10에 도시되어 있지만, 금속-3 러너(104)가 도 10에는 필수적으로 나타내지 않은, 두 개의 연속 금속-2 러너(69)를 상호 접속시킨다는 것을 또한 주목하라. 도 12의 평면도에 따르면, 금속-3 러너(104)의 단부는 제 1 수직 평면의 도전성 비아(98) 및 금속-2 러너(69)와 전기 접촉하며, 금속-3 러너(104)의 다른 단부는, 제 1 수직 평면 후방의 제 2 수직 평면에 있는 다음의 후방 금속-2 러너(69)의 도전성 비아(96)와 전기 접촉한다.
본 발명의 변압기의 형성을 완료하기 위해, 절연층의 다른 스택이 도 10의 구조체의 상부면에 증착된다. 도 11에 도시한 바와 같이, 상기 절연층의 스택은 배리어층(110), 유전층(112)(적합하게는 비교적 낮은 유전 상수를 갖는 재료로 형성된), 에칭 중단층(114)(적합하게는 실리콘 니트라이드로 형성된), 유전층(116)(적합하게는 비교적 낮은 유전 상수를 갖는 재료로 형성된), 및 하드 마스크층(118)을 포함한다. 하드 마스크층(118)으로 마스킹된 패턴을 사용하는 패터닝 및 에칭 프로세스는, 하드 마스크(118)로부터 배리어층(110)의 상부면으로 하향으로 연장되며 도전성 비아(92, 94)와 실질적으로 수직 정렬되는 한 쌍의 비아 개구를 형성한다. 다음, 한 쌍의 비아 개구의 하부에서의 배리어층(110)의 노출부가 제거된다. 제 2 마스킹 및 에칭 단계에서, 한 쌍의 비아 개구 사이로 연장되며 에칭중단층(114)의 상부면에 인접한 하부면을 갖는 트렌치가 형성된다. 도 11에 도시한 배리어층(120)은 한 쌍의 비아 및 트렌치의 내부면 상에 적층된다. 금속, 적합하게는 구리가 증착되어 도전성 비아(122, 124) 및 상기 비아들과 수직으로 정렬된 금속-4 비아층(126, 128)을 각각 형성한다. 도 11에 도시한 도전성 비아의 두 개의 스택을 통해 두 개의 연속적인 금속-1 러너를 상호 접속하기 위해 상호 접속 금속-4 러너(130)가 또한 형성된다. 따라서, 금속-4 러너(130)의 한 단부는 도전성 비아(124), 및 금속-1 러너(34)에 접속된 금속-4 비아층(128)과 동일 수직 평면 상에 위치하며, 금속-4 러너의 다른 단부는 금속-4 비아층(126), 및 복수의 평행한 금속-1 러너(34)의 다음의 금속-1 러너(34)에 접속된 도전성 비아(122)에 접속된다.
도 11에 따르면, 변압기는 외부 및 내부 권선을 형성하는 두 개의 동심 폐다각형(도 11의 직사각형)으로서 도시되어 있다. 본 발명의 사상에 따라 구성된 변압기의 평면도는 도 12에 도시하며, 다양한 변압기 소자들의 3차원 방위를 나타낸다. 두 개의 연속적인 평행한 금속-1 러너(34)는 수직 도전성 구조체(130, 132)를 통해 사선형 금속-4 러너(126)에 의해 상호 접속된다. 상기 수직 도전성 구조체(132)는 도전성 비아(65), 금속-2 비아층(67), 도전성 비아(92), 도전성 비아(122) 및 금속-4 비아층(126)을 포함한다. 수직 도전성 구조체(130)는 도전성 비아(66), 금속-2 비아층(68), 도전성 비아(94), 도전성 비아(124) 및 금속-4 비아층(128)을 포함한다. 유사하게, 두 개의 연속적인 평행한 금속-2 러너(69)는 수직 도전성 구조체(136, 138)를 통해 사선형 금속-3 러너(104)에 의해 상호 접속된다.수직 도전성 구조체(138)는 도전성 비아(960와 금속-3 비아층(100)을 포함한다. 수직 도전성 구조체(136)는 도전성 비아(98) 및 금속-3 비아층(102)을 포함한다.
복수의 금속-1 러너(34) 및 복수의 금속-4 러너(126)는 다양한 다른 방위 및 상호 접속 구조를 취할 수 있다. 예를 들면, 각각의 금속-1 러너(34)와 금속-4 러너(126) 사이의 각도는 평면도에서 지그재그 패턴을 형성하도록 90°이상으로 형성될 수 있다. 도 13을 참조하라. 대안으로서, 금속-1 러너(34) 및 금속-4 러너(126) 모두는 L 형상일 수 있으며, 한 러너의 짧은 레그가 다음의 러너의 기다란 레그에 접속되도록 상호 접속될 수 있다. 도 14를 참조하라. 통상적으로, 금속-2 러너(69) 및 금속-3 러너(104)를 포함하는, 변압기 2차 권선은 1차 권선과 동일한 형상 및 방위를 갖는다. 도 12, 도 13 및 도 14를 참조하라.
변압기의 외부 및 내부 권선(그 중 하나는 1차 권선으로서 작동할 수 있으며, 다른 하나는 2차 권선으로서 작동할 수 있는) 사이의 권선비는 연속적인 금속-1 러너(34) 사이의 거리에 대한 연속적인 금속-2 러너(69) 사이의 거리를 변경함으로써 변형될 수 있으므로, 금속-2 러너(69) 및 금속-3 러너(104)를 포함하는 다수 또는 소수의 코일 또는 권선부가 연속적인 금속-1 러너(34) 사이에 배치된다.
본원의 도면 및 명세서는 집적 회로의 금속-1 및 금속-4 층의 외부 권선의 하부 및 상부 금속층의 배치를 도시하였지만, 본 발명의 특징은, 변압기 구조체가 다른 금속층들에 걸치도록, 예를 들면 외부 권선의 하부 세그먼트가 금속-2 층 및 금속 5-층 내의 세그먼트내에 배치될 수 있도록 적용될 수 있다. 내부 권선은 유사하게 외부 권선이 걸쳐 있는 금속층들 사이의 임의의 수의 금속층들에 걸친다.상이한 금속층들이 걸쳐 있는 다른 실시예들이 본 발명의 범주 내에 고려된다.
유사하게, 본 발명의 사상에 따라 형성된 다층 변압기는 통상의 CMOS 백플로우(즉, 상호 접속) 처리와 호환 가능하며, CMOS 기기를 제조하는 프로세스 중에 임의의 부가의 마스킹 단계를 필요로 하지 않는다. 도전성 구조체는 구리로 형성되기 때문에, 최종 도전체는 알루미늄으로 형성된 도전체 보다 비교적 낮은 저항을 가지며, 따라서 높은 Q를 갖는다. 내부 권선은 외부 권선 내에 완전히 포위되어, 비교적 높은 결합 팩터를 초래한다. 상술한 처리 단계들에 의해 설명한 바와 같이, 변압기는 다른 능동 소자들과의 온-칩형 또는 공통 기판 상에 구성된 다중 모듈 디바이스의 부분으로서 매우 일체화 가능하다. 변압기 작동을 제공하기 위한 동시 용도로 일반적으로 두 개의 권선이 설계되지만, 인덕터로서 개별적으로 사용될 수도 있다.
본 발명에 따른 변압기의 외부 및 내부 권선의 형성은 다마신 프로세스를 사용하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니다. 변압기 권선은 또한, 상부 및 하부 권선 세그먼트를 형성하는 금속층이 적어도 3개의 금속층에 걸쳐 있는 수직 비아에 의해 상호 접속된, 즉 적어도 하나의 금속층은 상부 또는 하부 권선 세그먼트를 형성하는데 사용되지 않는, 종래의 금속 증착 및 에칭 작업을 사용하여 형성될 수 있다.
반도체 기판 상에 박막 다층의 하이 Q 변압기를 형성하는데 유용한 구조 및 프로세스를 설명하였다. 본 발명의 특정 적용을 설명하였지만, 본원에 개시된 원리는 본 발명을 다양한 방식 및 다양한 회로 구조체에 실시하기 위한 기초를 제공한다. 변압기 권선을 형성하기 위한 임의의 두 개의 금속층의 사용을 포함하는 다수의 변형예가 본 발명의 범주 내에서 가능하다. 본 발명은 하기의 청구범위에 의해서만 한정된다.
본 발명에 따르면, 변압기 코어 영역은 종래의 변압기 보다 크며, 높은 인덕턴스 값 및 높은 Q 성능 지수를 제공한다. 또한, 본 발명에 따라 형성된 변압기는 집적 회로의 비교적 콤팩트한 영역에서 바람직한 낮은 저항(따라서 높은 Q)을 갖는다.
Claims (43)
- 내부 권선 및 외부 권선을 포함하는 집적 회로 구조체 형성 방법에 있어서,내부에 상부면을 갖는 반도체 기판을 형성하는 단계와,외부 권선을 형성하는 단계, 및내부 권선을 형성하는 단계를 포함하며,상기 외부 권선 형성 단계는, 상기 상부면의 상부에 제 1 상부 및 제 1 하부 도전체층을 형성하는 단계, 및 나선형 인덕터 구조체를 형성하기 위해 상기 제 1 상부 및 상기 제 1 하부 도전체층을 상호 접속하는 단계를 포함하며, 상기 제 1 상부 및 제 1 하부 도전체층 사이에는 적어도 하나의 비접속 도전체층이 존재하며,상기 내부 권선 형성 단계는, 상기 제 1 상부 및 제 1 하부 도전체층 사이에 제 2 상부 및 제 2 하부 도전체층을 형성하는 단계, 및 나선형 인덕터 구조체를 형성하기 위해 상기 제 2 상부 및 제 2 하부 도전체층을 상호 접속하는 단계를 포함하는 집적 회로 구조체 형성 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 상부 및 제 1 하부 도전체층은 복수의 제 1 상부 및 제 1 하부 도전성 스트립을 각각 포함하며, 상기 복수의 제 1 상부 및 제 1 하부 도전성 스트립은 교차하는 수직 평면에 위치하며, 상기 복수의 제 1 상부 도전성 스트립 중 제 1 도전성 스트립의 제 1 단부는 상기 복수의 제 1 하부 도전성 스트립 중 제 1 도전성 스트립의 제 1 단부 상부에 위치하며, 상기 복수의 제 1 상부 도전성 스트립 중 제 1 도전성 스트립의 제 2 단부는 상기 복수의 제 1 하부 도전성 스트립 중 제 2 도전성 스트립의 제 2 단부 상부에 위치하며,상기 복수의 제 1 상부 도전성 스트립 중 제 1 도전성 스트립의 제 1 단부와 상기 복수의 제 1 하부 도전성 스트립 중 제 1 도전성 스트립의 제 1 단부를 상호 접속시키기 위한 제 1 수직 도전성 비아를 형성하는 단계와, 상기 복수의 제 1 상부 도전성 스트립 중 제 1 도전성 스트립의 제 2 단부와 상기 복수의 제 1 하부 도전성 스트립 중 제 2 도전성 스트립의 제 2 단부를 상호 접속시키기 위한 제 2 수직 도전성 비아를 형성하는 단계를 또한 포함하는 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 집적 회로 구조체는 복수의 금속층을 포함하며, 상기 제 1 하부 도전체층은 상기 복수의 금속층 중 하나에 형성되며, 상기 제 1 상부 도전체층은 상기 제 1 도전체층 상부의 적어도 3개의 금속층의 금속층에 형성되는 방법.
- 제 3 항에 있어서, 상기 제 1 하부 도전체층의 단부는 적어도 두 개의 수직 정렬 도전성 비아를 그 사이에 개재하여 기초 제 1 상부 도전체층의 단부에 상호 접속되는 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 제 2 상부 및 제 2 하부 도전체층은 각각 복수의 제 2 상부 및 제 2 하부 도전성 스트립을 포함하며, 상기 복수의 제 2 상부 및 제 2하부 도전성 스트립은 교차하는 수직 평면에 위치하며, 상기 복수의 제 2 상부 도전성 스트립 중 제 1 도전성 스트립의 제 1 단부는 상기 복수의 제 2 하부 도전성 스트립 중 제 1 도전성 스트립의 제 1 단부 상부에 위치하며, 상기 복수의 제 2 상부 도전성 스트립 중 제 1 도전성 스트립의 제 2 단부는 상기 복수의 제 2 하부 도전성 스트립 중 제 2 도전성 스트립의 제 2 단부 상부에 위치하며,상기 복수의 제 2 상부 도전성 스트립 중 제 1 도전성 스트립의 제 1 단부와 상기 복수의 제 2 하부 도전성 스트립 중 제 1 도전성 스트립의 제 1 단부를 상호 접속하기 위한 제 1 수직 도전성 비아를 형성하는 단계와, 상기 복수의 제 2 상부 도전성 스트립 중 제 1 도전성 스트립의 제 2 단부와 상기 복수의 제 2 하부 도전성 스트립 중 제 2 도전성 스트립의 제 2 단부를 상호 접속하기 위한 제 2 수직 도전성 비아를 형성하는 단계를 또한 포함하는 방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 집적 회로 구조체는 복수의 금속층을 포함하며, 상기 제 2 하부 도전체층은 상기 집적 회로 구조체의 적어도 제 2 금속층에 형성되며, 상기 제 2 상부 도전체층은 상기 제 2 하부 도전체층 상부에 적어도 하나의 금속층으로 형성되는 방법.
- 제 6 항에 있어서, 상기 제 2 하부 도전체층의 단부는 적어도 하나의 도전성 비아가 그 사이로 연장되는 상태로 상기 제 2 상부 도전체층의 기초 단부에 상호 접속되는 방법.
- 반도체 기판 내에 다층 변압기를 형성하는 방법에 있어서,반도체 기판을 제공하는 단계와,상기 반도체 기판 상부에 제 1 절연층을 형성하는 단계와,상기 제 1 절연층에 복수의 평행한 제 1 레벨 금속 러너를 형성하는 단계와,상기 제 1 절연층의 상부에 제 2 절연층을 형성하는 단계와,상기 제 2 절연층 내에 복수의 제 1 및 제 2 도전성 비아를 형성하는 단계와,상기 제 2 절연층의 상부 부분에 복수의 제 2 레벨 금속 러너를 형성하는 단계와,상기 제 2 절연층 상부에 제 3 절연층을 형성하는 단계와,상기 제 3 절연층 내에 복수의 제 3, 제 4, 제 5 및 제 6 도전성 비아를 형성하는 단계와,상기 제 5 및 제 6 도전성 비아를 상호 접속시키는 복수의 평행한 제 3 레벨 금속 러너를 그 상단부에 형성하는 단계와,상기 제 3 절연층 상부에 제 4 절연층을 형성하는 단계와,상기 제 4 절연층 내에 복수의 제 7 및 제 8 도전성 비아를 형성하는 단계, 및상기 제 7 및 제 8 도전성 비아를 상호 접속시키는 복수의 평행한 제 4 레벨 금속 러너를 그 상단부에 형성하는 단계를 포함하며,그 하단부에서, 상기 복수의 제 1 및 제 2 도전성 비아의 각각은 상기 복수의 제 1 레벨 금속 러너의 각각의 제 1 단부 및 제 2 단부와 각각 전기 접촉하며, 상기 복수의 제 3 및 제 4 도전성 비아의 각각은 상기 복수의 제 1 및 제 2 도전성 비아의 각각과 수직 정렬되어 각각 전기적으로 접촉하며, 상기 복수의 제 5 및 제 6 도전성 비아는 상기 복수의 제 2 레벨 금속 러너의 각각의 제 1 단부 세그먼트 및 제 2 단부 세그먼트와 전기 접촉하며, 상기 복수의 제 3 레벨 금속 러너는 상기 제 3 절연층의 상부 부분에 형성되며, 상기 복수의 제 7 및 제 8 도전성 비아의 각각은 상기 복수의 제 3 및 제 4 도전성 비아와 수직 정렬되어 각각 전기 접촉하며, 상기 복수의 제 4 레벨 금속 러너는 상기 제 4 절연층의 상부 부분에 형성되며,상기 복수의 제 4 레벨 금속 러너의 각각은 연속적인 제 1 레벨 금속 레벨을 교차하며, 상기 제 4 레벨 금속 러너의 제 1 단부는 상기 제 1, 제 3 및 제 7 도전성 비아를 경유하여 상기 제 1의 제 1 레벨 금속 러너의 제 1 단부에 전기적으로 접속되며, 상기 제 4 레벨 금속 러너의 제 2 단부는 상기 제 2, 제 4 및 제 8 도전성 비아를 경유하여 제 2의 제 1 레벨 금속 러너의 제 2 단부에 전기적으로 접속되며,상기 복수의 제 3 레벨 금속 러너의 각각은 연속적인 제 2 레벨 금속 러너를 교차하며, 상기 제 3 레벨 금속 러너의 제 1 단부는 상기 제 5 도전성 비아를 경유하여 제 1의 제 2 레벨 금속 러너의 제 1 단부에 전기적으로 접속되며, 상기 제 3 레벨 금속 러너의 제 2 단부 세그먼트는 상기 제 6 도전성 비아를 경유하여 제 2의 제 2 레벨 금속 러너의 제 2 단부 세그먼트에 전기적으로 접속되는, 반도체 기판내에 다층 변압기를 형성하는 방법.
- 제 8 항에 있어서, 상기 반도체 기판은 상기 제 4 절연층 상부에 부가의 절연층을 포함하며, 상기 복수의 제 1 레벨 금속 러너는 상기 제 1 절연층에 또는 상기 제 1 절연층 상부에 형성되며, 상기 복수의 제 4 레벨 금속 러너는 상기 제 1 레벨 금속 러너의 상부에 적어도 3개의 절연층에 형성되는 방법.
- 제 8 항에 있어서, 상기 반도체 기판은 상기 제 4 절연층 상부에 부가의 절연층을 포함하며, 상기 복수의 제 2 레벨 금속 러너는 상기 제 2 절연층에 또는 상기 제 2 절연층 상부에 형성되며, 상기 복수의 제 3 레벨 금속 러너는 상기 제 2 레벨 금속 러너의 상부에 적어도 하나의 절연층에 형성되는 방법.
- 반도체 기판 내에 적어도 두 개의 다층 동심 코일을 형성하는 방법에 있어서,반도체 기판을 제공하는 단계와,상기 반도체 기판 상부에 층의 제 1 스택을 형성하는 단계와,상기 층의 제 1 스택 내에 동심축을 따라 복수의 평행한 제 1 트렌치를 형성하는 단계와,복수의 제 1 레벨 금속 러너를 형성하기 위해 상기 복수의 제 1 트렌치의 각각 내에 도전성 재료를 형성하는 단계와,상기 층의 제 1 스택 상에 위치되는 층의 제 2 스택을 형성하는 단계와,상기 층의 제 2 스택 내에 복수의 제 1 및 제 2 비아 개구를 형성하는 단계와,상기 층의 제 2 스택의 소정의 수의 층 내에 상기 복수의 제 1 트렌치로부터 수직으로 이격된 복수의 평행한 제 2 트렌치를 형성하는 단계와,제 1 및 제 2 도전성 비아를 형성하기 위해 상기 복수의 제 1 및 제 2 비아 개구 내에 도전성 재료를 형성하고, 복수의 제 2 레벨 금속 러너를 형성하기 위해 상기 복수의 제 2 트렌치 내에 도전성 재료를 형성하는 단계와,상기 층의 제 2 스택 상부에 위치하는 층의 제 3 스택을 형성하는 단계와,상기 층의 제 3 스택 내에 유사한 복수의 제 3, 제 4, 제 5 및 제 6 비아 개구를 형성하는 단계와,상기 층의 제 3 스택의 소정의 수의 층 내에 복수의 평행한 제 3 트렌치를 형성하는 단계와,복수의 제 3 및 제 4 도전성 비아를 형성하고 제 5 및 제 6 도전성 비아 및 그와 전기적으로 접촉하는 복수의 제 3 레벨 금속 러너를 형성하기 위해, 상기 복수의 제 3, 제 4, 제 5 및 제 6 비아 개구 및 상기 복수의 제 3 트렌치 내에 도전성 재료를 형성하는 단계와,상기 층의 제 3 스택 상부에 위치하는 층의 제 4 스택을 형성하는 단계와,상기 층의 제 4 스택 내에 복수의 유사한 제 7 및 제 8 비아 개구를 형성하는 단계와,상기 층의 제 4 스택의 소정의 수의 층 내에 복수의 유사한 평행한 제 4 트렌치를 형성하는 단계, 및복수의 제 7 및 제 8 도전성 비아 개구 및 그와 전기적으로 접촉하는 복수의 제 4 레벨 금속 러너를 형성하기 위해, 상기 복수의 제 7 및 제 8 비아 개구 및 상기 복수의 제 3 트렌치 내에 도전성 재료를 형성하는 단계를 포함하며,상기 복수의 제 1 및 제 2 비아 개구의 각각은 상기 복수의 제 1 레벨 금속 러너의 각각의 제 1 단부 및 제 2 단부와 각각 접촉하며, 상기 복수의 제 2 트렌치의 수평 평면은 상기 복수의 제 1 트렌치의 수평 평면에 평행하며, 상기 복수의 제 3 및 제 4 비아 개구의 각각은 상기 복수의 제 1 및 제 2 도전성 비아 중 하나와 각각 수직으로 정렬되며, 상기 복수의 제 5 및 제 6 비아 개구의 각각은 상기 복수의 제 2 레벨 금속 러너의 각각의 제 1 단부 및 제 2 단부와 수직으로 정렬되며, 상기 복수의 제 3 트렌치의 각각은 상기 복수의 제 2 레벨 금속 러너 중 다음의 평행한 하나와 정렬되는 제 5 비아 개구를 갖는 복수의 제 2 레벨 금속 러너 중 하나와 정렬되는 제 6 비아 개구를 교차하며, 상기 복수의 제 7 및 제 8 비아 개구의 각각은 상기 복수의 제 3 및 제 4 도전성 비아 중 하나와 수직으로 정렬되며, 상기 복수의 제 4 트렌치의 각각은 상기 복수의 제 1 레벨 금속 러너 중 다음의 평행한 하나와 정렬되는 제 7 비아 개구를 갖는 상기 복수의 제 1 레벨 금속 러너 중 하나와 정렬되는 제 8 비아 개구를 교차하며, 상기 복수의 제 4 트렌치의 수평 평면은 상기 복수의 제 1 레벨 금속 러너의 수평 평면과 평행하며,상기 복수의 제 4 레벨 금속 러너 중 하나는 상기 제 4 레벨 금속 러너의 제1 단부에서 상기 복수의 제 1, 제 3 및 제 7 도전성 비아 중 하나를 경유하여, 그리고 상기 제 4 레벨 금속 러너의 제 2 단부에서 상기 복수의 제 2, 제 4 및 제 8 도전성 비아 중 하나를 경유하여 두 개의 연속적인 제 1 레벨 금속 러너 사이에 전기적으로 접속되며,상기 복수의 제 3 레벨 금속 러너 중 하나는 상기 제 3 레벨 금속 러너의 제 1 단부에서 상기 복수의 제 5 도전성 비아 중 하나를 경유하여, 그리고 상기 제 3 레벨 금속 러너의 제 2 단부에서 상기 복수의 제 6 도전성 비아 중 하나를 경유하여 두 개의 연속적인 제 2 레벨 금속 러너 사이에 전기적으로 접속되는, 반도체 기판 내에 적어도 두 개의 다층 동심 코일을 형성하는 방법.
- 제 11 항에 있어서, 상기 제 1 스택은 하부 배리어층 및 유전층을 포함하는 방법.
- 제 12 항에 있어서, 상기 배리어층의 재료는 탄탈, 탄탈 니트라이드, 티타늄 및 티타늄 니트라이드로부터 선택되는 방법.
- 제 12 항에 있어서, 상기 유전층의 재료는 3.0 미만의 상대 유전 상수를 갖는 재료를 포함하는 방법.
- 제 12 항에 있어서, 상기 유전층의 재료는 이산화 실리콘을 포함하는 방법.
- 제 12 항에 있어서, 상기 제 1 스택은 상기 유전층 상에 위치되는 하드 마스크층을 또한 포함하며, 상기 복수의 제 1 트렌치는 상기 하드 마스크층을 통해 패터닝 및 에칭함으로써 형성되는 방법.
- 제 11 항에 있어서, 상기 복수의 제 1, 제 2, 제 3 및 제 4 트렌치 및 상기 복수의 제 1, 제 2, 제 3, 제 4, 제 5, 제 6, 제 7 및 제 8 비아 개구는 기초층 상에 포토레지스트층을 증착하고 포토레지스트 재료를 통해 패터닝 및 에칭함으로써 형성되는 방법.
- 제 11 항에 있어서, 상기 복수의 제 1 레벨 금속 러너를 형성하는 단계는,상기 복수의 제 1 트렌치의 각각의 내부면을 따라 배리어층을 형성하는 단계와,상기 배리어층에 인접하여 시드층을 형성하는 단계와,상기 복수의 제 1 트렌치의 각각에 금속을 전기 도금하는 단계, 및상기 기판의 상부면을 평탄화하는 단계를 또한 포함하는 방법.
- 제 18 항에 있어서, 상기 배리어층의 재료는 탄탈, 탄탈 니트라이드, 티타늄 및 티타늄 니트라이드로부터 선택되며, 상기 배리어층은 화학 기상 증착에 의해 형성되는 방법.
- 제 18 항에 있어서, 상기 시드층의 재료는 구리를 포함하며, 상기 시드층은 화학 기상 증착에 의해 형성되는 방법.
- 제 18 항에 있어서, 상기 금속은 구리를 포함하는 방법.
- 제 11 항에 있어서, 상기 층의 제 2, 제 3 및 제 4 스택은,하부 배리어층과,상기 하부 배리어층 상부에 위치한 제 1 유전층과,상기 제 1 유전층 상부에 위치한 에칭 중단층, 및상기 에칭 중단층 상부에 위치한 제 2 유전층을 포함하는 방법.
- 제 22 항에 있어서, 상기 하부 배리어층의 재료는 탄탈, 탄탈 니트라이드, 티타늄 및 티타늄 니트라이드로부터 선택되는 방법.
- 제 22 항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 유전층의 재료는 3.0 미만의 상대 유전 상수를 갖는 재료를 포함하는 방법.
- 제 22 항에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 유전층의 재료는 이산화 실리콘을 포함하는 방법.
- 제 22 항에 있어서, 상기 제 2, 제 3 및 제 4 스택은 상기 제 2 유전층 상부에 위치하는 하드 마스크층을 또한 포함하며, 상기 복수의 제 2, 제 3 및 제 4 트렌치 및 상기 복수의 제 1, 제 2, 제 3, 제 4, 제 5, 제 6, 제 7 및 제 8 비아 개구는 상기 하드 마스크층을 통해 패터닝 및 에칭함으로써 형성되는 방법.
- 제 11 항에 있어서, 상기 층의 제 2, 제 3 및 제 4 스택의 소정의 수의 층은 제 2 유전층을 포함하는 방법.
- 제 11 항에 있어서, 상기 복수의 제 1, 제 2, 제 3 및 제 4 도전성 비아를 형성하는 단계는,상기 도전성 비아가 형성될 층의 스택의 상부에 마스크층을 형성하는 단계와,비아 개구를 형성하기 위해 상기 마스크층을 패터닝 및 에칭하는 단계와,상기 비아 개구 내에 배리어층을 형성하는 단계와,상기 배리어층의 상부에 시드층을 형성하는 단계와,상기 비아 개구에 금속을 전기 도금하는 단계, 및상부면을 평탄화하는 단계를 또한 포함하는 방법.
- 제 28 항에 있어서, 상기 배리어층의 재료는 탄탈, 탄탈 니트라이드, 티타늄및 티타늄 니트라이드로부터 선택되며, 상기 배리어층은 화학 기상 증착에 의해 형성되는 방법.
- 제 28 항에 있어서, 상기 시드층의 재료는 구리를 포함하며, 상기 시드층은 화학 기상 증착에 의해 형성되는 방법.
- 제 11 항에 있어서, 상기 복수의 제 5 및 제 6 비아 개구 및 제 3 트렌치 내에 도전성 재료를 형성하는 단계는,상기 복수의 제 5 및 제 6 비아 개구 및 제 3 트렌치의 각각 내에 배리어층을 형성하는 단계와,상기 배리어층의 상부에 위치하는 시드층을 형성하는 단계와,상기 복수의 제 5 및 제 6 비아 개구 및 제 3 트렌치 각각에 금속을 전기 도금하는 단계, 및상기 기판의 상부면을 평탄화하는 단계를 또한 포함하는 방법.
- 제 31 항에 있어서, 상기 배리어층의 재료는 탄탈, 탄탈 니트라이드, 티타늄 및 티타늄 니트라이드로부터 선택되며, 상기 배리어층은 화학 기상 증착에 의해 형성되는 방법.
- 제 31 항에 있어서, 상기 시드층의 재료는 구리를 포함하며, 상기 시드층은화학 기상 증착에 의해 형성되는 방법.
- 제 11 항에 있어서, 상기 복수의 제 7 및 제 8 비아 개구 및 제 4 트렌치 내에 도전성 재료를 형성하는 단계는,상기 복수의 제 7 및 제 8 비아 개구 및 제 4 트렌치의 각각 내에 배리어층을 형성하는 단계와,상기 배리어층 상부에 위치하는 시드층을 형성하는 단계와,상기 복수의 제 7 및 제 8 비아 개구 및 제 4 트렌치 각각에 금속을 전기 도금하는 단계, 및상부면을 평탄화하는 단계를 포함하는 방법.
- 제 34 항에 있어서, 상기 배리어층의 재료는 탄탈, 탄탈 니트라이드, 티타늄 및 티타늄 니트라이드로부터 선택되며, 상기 배리어층은 화학 기상 증착에 의해 형성되는 방법.
- 제 34 항에 있어서, 상기 시드층의 재료는 구리를 포함하며, 상기 시드층은 화학 기상 증착에 의해 형성되는 방법.
- 제 11 항에 있어서, 상기 복수의 제 1, 제 2, 제 3 및 제 4 레벨 금속 러너의 각각은 반도체 기판의 평면도에서 볼 때 L형 구조체를 포함하며, 상기 각각의 L형 구조체는 짧은 레그 세그먼트와 기다란 레그 세그먼트를 포함하는 방법.
- 제 37 항에 있어서, 상기 복수의 제 1 레벨 금속 러너 중 하나의 짧은 레그 세그먼트는 상기 제 2, 제 4 및 제 8 도전성 비아를 통해 상기 복수의 제 4 레벨 금속 러너 중 인접한 하나의 기다란 레그 세그먼트에 전기적으로 접속되며, 상기 복수의 제 2 레벨 금속 러너 중 하나의 짧은 레그 세그먼트는 상기 제 6 도전성 비아를 통해 상기 복수의 제 3 레벨 금속 러너 중 인접한 하나의 기다란 레그 세그먼트에 전기적으로 접속되는 방법.
- 제 11 항에 있어서, 상기 복수의 제 1 레벨 금속 러너 중 하나를 포함하는 평면과 상기 제 4 레벨 금속 러너 중 하나를 포함하는 평면은 예각으로 교차하며, 상기 복수의 제 2 레벨 금속 러너 중 하나를 포함하는 평면과 상기 제 3 레벨 금속 러너 중 하나를 포함하는 평면은 예각으로 교차하는 방법.
- 제 11 항에 있어서, 상기 복수의 상호 접속된 제 1 레벨 금속 러너 및 제 4 레벨 금속 러너는 0이 아닌 인덕턴스를 갖는 제 1 나선형 구조체를 형성하며, 상기 복수의 상호 접속된 제 2 레벨 금속 러너 및 제 3 레벨 금속 러너는 0이 아닌 인덕턴스를 갖는 제 2 나선형 구조체를 형성하며, 상기 제 1 및 제 2 나선형 구조체에 의해 발생한 자기장은 변압기 작동을 발생시키는 방법.
- 제 11 항에 있어서, 상기 반도체 기판은 복수의 금속층을 구비하며, 상기 복수의 제 1 레벨 금속 러너는 상기 복수의 금속층 중 하나 내에 형성되며, 상기 복수의 제 4 금속 러너는 상기 복수의 제 1 레벨 금속 러너 상부에 적어도 3개의 금속층으로 형성되며, 상기 복수의 제 2 레벨 금속 러너는 상기 복수의 제 1 및 제 4 레벨 금속 러너 사이의 복수의 금속층 중 하나 내에 형성되며, 상기 복수의 제 3 금속 러너는 상기 복수의 제 2 레벨 금속 러너 상부에 적어도 하나의 층으로 형성되는 방법.
- 반도체 기판과,외부 코일, 및상기 외부 코일의 내부에 배치된 내부 코일을 포함하며,상기 외부 코어는, 상기 반도체 기판 상부에 위치하는 복수의 평행한 제 1 도전성 스트립과; 상기 복수의 제 1 도전성 스트립의 각각의 제 1 단부와 전기적으로 접속하는 하나 이상의 도전성 비아의 제 1 스택과; 상기 복수의 제 1 도전성 스트립의 각각의 제 2 단부와 전기적으로 접속하는 하나 이상의 도전성 비아의 제 2 스택; 및 상기 복수의 제 1 도전성 스트립 중 제 1 도전성 스트립에 전기적으로 접속된 하나 이상의 도전성 비아의 제 1 스택의 최상부 비아와 전기적으로 접속되는 제 1 단부와, 상기 복수의 제 1 도전성 스트립 중 제 2 도전성 스트립에 전기적으로 접속된 하나 이상의 도전성 비아의 제 2 스택의 최상부 비아와 전기적으로 접속되는 제 2 단부를 가지며, 두 개의 연속적인 제 1 도전성 스트립 사이에 배치되어상기 도전성 스트립들을 교차하는 복수의 평행한 제 2 도전성 스트립을 또한 포함하며,상기 내부 코어는, 상기 반도체 기판 상에 위치되는 복수의 평행한 제 3 도전성 스트립과; 상기 복수의 제 3 도전성 스트립의 각각의 제 1 단부와 전기적으로 접속하는 하나 이상의 도전성 비아의 제 3 스택과; 상기 복수의 제 3 도전성 스트립의 각각의 제 2 단부와 전기적으로 접속하는 하나 이상의 도전성 비아의 제 4 스택; 및 상기 복수의 제 3 도전성 스트립의 제 1 단부에 전기적으로 접속된 하나 이상의 도전성 비아의 제 3 스택의 최상부 비아와 전기적으로 접속하는 제 1 단부와, 상기 복수의 제 3 도전성 스트립의 제 2 단부에 전기적으로 접속된 하나 이상의 도전성 비아의 제 4 스택의 최상부 비아와 전기적으로 접속하는 제 2 단부를 가지며, 두 개의 연속적인 제 3 도전성 스트립 사이에 배치되어 상기 도전성 스트립들을 교차하는 복수의 평행한 제 4 도전성 스트립을 또한 포함하는 집적 회로 구조체.
- 복수의 절연층 및 그 사이에 배치된 복수의 도전체층을 구비하는 반도체 기판과,외부 권선, 및상기 외부 권선의 내부에 적어도 부분적으로 배치되는 내부 권선을 포함하며,상기 외부 권선은, 러너 도전성 부분과, 수직 도전성 부분을 또한 포함하며, 상기 반도체 기판의 하부 도전체층에 하부 러너 부분이 형성되며, 상기 하부 러너부분 상부에 상부 러너 부분이 적어도 3개의 도전층으로 형성되며, 두 개 이상의 수직 정렬 제 1 비아 부분이 제 1 하부 러너 부분의 제 1 단부와 제 1 상부 러너 부분의 상부 배치 제 1 단부 사이에 전기적 접속을 실행하며, 두 개 이상의 수직 정렬 비아 부분이 제 2 하부 러너 부분의 제 1 단부와 상기 제 1 상부 러너 부분의 상부 배치 제 2 단부 사이에 전기적 접속을 실행하며,상기 내부 권선은, 러너 도전성 부분과, 수직 도전성 부분을 또한 포함하며, 상기 반도체 기판의 하부 도전체층에 하부 러너 부분이 형성되며, 상기 하부 러너 부분 상부에 상부 러너 부분이 적어도 하나의 도전층으로 형성되며, 두 개 이상의 수직 정렬 제 1 비아 부분이 제 1 하부 러너 부분의 제 1 단부와 제 1 상부 러너 부분의 상부 배치 제 1 단부 사이에 전기적 접속을 실행하며, 두 개 이상의 수직 정렬 비아 부분이 제 2 하부 러너 부분의 제 1 단부와 상기 제 1 상부 러너 부분의 상부 배치 제 2 단부 사이에 전기적 접속을 실행하는 다중 레벨 집적 회로 구조체.
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