KR20030005049A - 진공 펌프 - Google Patents

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KR1020020038911A
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마에지마야스시
사카구치요시유키
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비오씨 에드워즈 테크놀로지스 리미티드
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    • F04D19/04Multi-stage pumps specially adapted to the production of a high vacuum, e.g. molecular pumps
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Abstract

본 발명은 반도체 제조에 사용되는 진공 펌프에 관한 것으로, 부식에 기인한 회전자 파괴를 미연에 방지하여 펌프 케이싱 및 주변기기 등의 파손이 방지되며, 신뢰성 및 안전성을 개선한 진공펌프를 제공한다.
밸런서는 가스 통로의 내측과 맞닿도록 회전자의 외주면에 설치된다. 밸런서 본체는 부식성 가스에 대해 취약한 취약부를 통해 회전자의 외주면에 대향하여 지지되며, 밸런서의 취약부는 회전자 블레이드 또는 회전자에 어떠한 부식성 가스의 영향이 발생하기 이전에 부식에 의해 파손되어, 밸런서는 떨어지므로, 회전자에 불균형 상태가 강제로 유발된다. 따라서, 밸런서는 회전자의 밸런싱 기능 및 부식 검출 기능을 갖는다. 이후, 회전자의 불균형 상태는 센서에 의해 검출되며, 펌프 자체 및 주변 기기의 파손은 펌프를 정지시키므로 방지될 수 있다.

Description

진공 펌프{VACUUM PUMP}
본 발명은 진공 펌프, 일반적으로 반도체 제조장치에 사용되는 터보 분자 펌프에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 부식성 가스에 기인하여 발생하는 회전자의 손상이 방지되며, 이에 의해 펌프 및 주변 기기의 신뢰성 및 안전성을 증가시키는 진공 펌프에 관한 것이다.
진공 챔버로부터 부식성 가스를 배기하기 위한 수단으로서, 터보 분자 펌프와 같은 진공 펌프가 드라이 에칭(dry etching) 및 CVD와 같은 반도체 제조 공정중에 이용된다.
도 6은 종래 기술의 진공 펌프의 기본 구조를 도시한다. 상부 외주면을 따라 일체로 가공되는 복수개의 블레이드형 회전자 블레이드(1)를 갖는 회전자(2) 및 회전자(2)의 회전 중심축에 일체로 부착된 회전자 샤프트(3)가 펌프 케이싱(4) 내부에 수용된다.
회전자 샤프트(3)는 펌프 케이싱(4)을 지지하는 고정자 기부(13)로부터 돌출하는 고정자 기둥(5)에서 베어링(6)을 통해 회전가능하게 지지된다. 또한, 구동모터(7)는 고정자 기둥(5)과 회전자 샤프트(3) 사이에 삽입되며, 회전자 샤프트(3) 및 회전자(2)는 구동 모터(7)에 의해 고속으로 회전된다.
또한, 회전자 블레이드(1) 사이에 번갈아 배치된 복수개의 블레이드형 고정자 블레이드(10)는 스페이서 링(10a)을 통해 펌프 케이싱(4)의 내주면에 부가된다. 고속으로 회전하는 회전자 블레이드(1)와 고정자 블레이드(10) 사이의 상호작용에 기인하여 회전자(2) 위에 흡기구(8)로부터 가스가 흡입된다. 가스는 회전자(2) 아래의 배기구(9)에서 배기되므로, 흡기구(8)에 연결된 반도체 프로세싱 진공 챔버(14)의 내부는 고진공 상태에 놓이게 된다.
또한, 회전자(2)의 하반부의 스커트부(2a)의 외주에서 회전 원통면(2b)은 펌프 케이싱(4) 내에서 고정되며, 회전 원통면(2b)을 에워싸기 위해 미끄럼 접촉되는 스크류 고정자(11)는 펌프 케이싱(4) 내에 고정된다. 스크류 고정자(11)의 내주면에 형성된 나선형 나사홈(12) 내에서, 회전자 블레이드(1)와 고정자 블레이드(10) 사이를 통과하면서 하방으로 보내진 가스 분자는 나사홈(12)을 따라서 회전자 스커트부의 회전 원통면(2b)에 의해 가스 배기구(9)측으로 운반되며, 미세하게 감소된 진공 상태가 되는 가스의 배기가 실행된다.
이러한 형태의 구성을 갖는 진공 펌프가 반도체 제조공정에 사용되는 경우에, 펌프는 드라이 에칭 및 CVD와 같은 처리중에 발생되는 할로겐 가스(이하, 부식성 가스로 언급함)에 종종 노출된다. 일반적으로 알루미늄 합금이 회전자 블레이드(1), 회전자(2), 펌프 케이싱(4), 고정자 블레이드(10) 등에 대한 재료로서 사용되며, 내부식(내부식성) 도금 처리가 알루미늄 합금의 표면에 실행되므로, 부식성가스에 대향하여 내식성을 부가한다.
그러나, 내부식 도금 처리에는 한계가 있으며, 사실, 장시간 사용후에 부식성 가스에 기인한 부식이 회전자 블레이드(1) 및 회전자(2)에서 발생한다. 특히, 고속회전에 기인하여 회전자 블레이드(1) 및 회전자(2)에 원심력이 작용하며, 부식된 부분으로부터 균열이 발생하고, 회전자 블레이드(1) 및 회전자(2)의 파괴가 발생하는 경우가 있다.
회전자(2)가 파괴된다면, 이후 회전자(2)의 파편이 원심력에 기인하여 흩어지고, 모터의 회전이 강제적으로 정지된다. 그러므로, 큰 응력이 반작용력으로서 고정자 기둥(5)에서 발생되고, 고정자 블레이드(10) 및 펌프 케이싱(4)이 변형되거나 파손되며, 이는 진공 챔버(14)와의 결합부에조차 영향을 미친다. 진공 펌프에 적용된 처리장치 전체의 진공 상태는 파괴되며, 처리장치 자체가 피해를 입으며, 또한, 부식성 가스가 외부로 배출되는 사고를 초래하는 것도 고려된다.
상기 상황을 감안하여서, 본 발명의 목적은 부식에 기인하여 발생하는 회전자의 파괴를 방지하여 증가된 펌프의 신뢰성 및 안전성을 갖는 진공 펌프를 제공하는 것이다.
상술한 목적을 달성하기 위해서, 본 명세서의 본 발명은 진공 펌프와 연통하는 흡기구가 설치되고, 그 내주면에 배치된 복수단의 고정자 블레이드 단을 갖는 공동의 원통형 펌프 케이싱, 고속으로 회전하는 회전자 샤프트를 지지하기 위해 상기 펌프 케이싱 내에 수용되어 고정된 고정자 기둥, 상기 회전자 샤프트와 일체이며, 상기 펌프 케이싱의 고정자 블레이드와 번갈아 배치되도록 그 외주면에 배치된 복수단의 회전자 블레이드를 갖는 회전자, 및 상기 회전자의 외주면에 설치되며, 회전자의 고속 회전시에 회전자의 밸런싱을 실행하며, 부식성 가스에 대해 취약한 취약부를 통해 상기 회전자의 외주면에 부착되는 밸런서를 구비한다. 가스 통로 내에서 부식성 가스에 기인한 부식이 일정 이상 진행할 때, 밸런서는 회전자의 불균형 상태가 강제로 나타나도록 떨어진다.
회전자의 불균형 상태가 발생할 때, 회전자 샤프트가 볼 베어링에 의해 지지되는 경우, 회전자에 진동 센서가 설치됨에 따라 에러가 검출된다. 또한, 회전자 샤프트가 자기 베어링에 의해 고정자측상에 회전가능하게 지지되는 경우, 회전자 샤프트와 고정자 사이에 장착된 회전자 샤프트 반경 방향 센서(변위 센서)에 의해 에러가 검출된다.
구동 모터의 구동은 진동 센서 또는 변위 센서로부터의 신호에 의해 정지된다.
본 발명에 따라서, 회전자의 외주면에 설치된 밸런서는 가스 통로와 마주치도록 회전자의 외주면에 부착되며, 또한, 밸런서는 부식성 가스에 대해 취약한 취약부에 의해 지지된다. 그러므로, 취약부에 기인해, 가스 통로 내에 부식성 가스의 부식이 일정 이상 진행될 때, 밸런서가 떨어지므로, 불균형 상태는 회전자에서 강제로 나타나도록 될 수 있다.
그러므로, 부식의 진행에 기인하여 밸런서가 회전자로부터 떨어지며, 불균형 상태가 회전자에서 나타나므로, 구동 모터는 에러 검출 수단에 기인하여 정지한다.따라서, 고정자 블레이드 및 펌프 케이싱이 파손되지 않고, 펌프 시스템도 파손되지 않는다.
또한, 상기 언급한 부식 검출 기능을 갖는 밸런서는 회전자를 적절한 자세를 유지하게 하는 밸런싱 기능을 갖는다. 밸런서의 일부는 회전자의 밸런싱을 실행하기 위해 간단하게 절단되므로, 밸런서 조정작업이 용이하게 실행된다. 따라서, 드릴 등을 이용한 구멍 개방에 의해 실행되는 종래 기술의 밸런싱 조정 작업과 비교하여, 회전자의 강성을 저하시키지 않고 단순하게 밸런싱 작업이 완료될 수 있다.
본 명세서의 본 발명은 밸런서의 취약부가 밸런서 본체의 직경보다 작은 직경으로 설정되고, 회전자의 외주면에 형성된 핀구멍 내에 접착제를 통해 압입고정되는 것을 특징으로 한다.
본 명세서의 본 발명은 밸런서의 취약부가 밸런서 본체의 직경보다 작은 직경으로 설정되고, 회전자의 외주면에 드릴가공된 스크류 구멍의 내측으로 나사체결되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따라서, 밸런서에는 부식 검출 기능 및 밸런싱 기능이 제공된다. 밸런서는 회전자의 외주면에 형성된 핀구멍 내측에 접착제를 통해 압착하여 밸런서를 압입고정하거나, 회전자의 외주면에 형성된 스크류 구멍 내측에 스크류인 방법에 의해 밸런서를 고정하여 회전자의 외주면에 설치된다. 그러므로, 부식성 가스에 기인하여 회전자의 부식이 진행하여 밸런서가 떨어질 때, 회전자의 불균형이 발생하므로, 에러가 검출되어, 펌프가 정지하여 사고가 발생하는 것을 방지할 수 있다. 또한, 이 밸런서 부분만 교환하면, 다른 부분(회전자 및 회전자 블레이드 등)은 재사용될 수 있다.
본 명세서의 본 발명은 밸런서가 회전자와 일체로 형성되며, 회전자와 밸런서 본체 사이 취약부에서 회전자의 내부식 도금 가공시 차폐가 실행되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따라서, 밸런서는 회전자와 일체로 형성되며, 부식 검출 기능 및 밸런싱 기능을 갖는다. 취약부는 소직경을 가지며, 회전자의 내부식 도금 가공시에 취약부를 비도금부로 만들기 위해 이 부분에 차폐가 실행된다. 그러므로,이 부분에는 부식성 가스에 대해 취약한 취약부로서의 기능이 간단하게 부가된다.
도 1은 본 발명에 따른 진공 펌프의 실시예를 도시하는 수직 단면도이다.
도 2는 본 발명에 따른 진공 펌프에서 밸런서의 작동을 도시하는 설명도이다.
도 3은 본 발명에 따른 진공 펌프에서 밸런서의 제1 실시예의 구조를 도시하는 도면이다.
도 4는 본 발명에 따른 진공 펌프에서 밸런서의 제2 실시예의 구조를 도시하는 도면이다.
도 5a 및 도 5b는 본 발명에 따른 진공 펌프에서 밸런서의 제3 실시예의 구조를 도시하며, 도 5a는 밸런서 전체가 차폐된 경우를 도시하며, 도 5b는 밸런서의 취약부만 차폐된 경우를 도시한다.
도 6은 종래기술의 진공 펌프의 전체구조를 도시하는 수직 단면도이다.
〈도면의 주요부분에 대한 부호의 설명〉
1 : 회전자 블레이드2 : 회전자
3 : 회전자 샤프트4 : 펌프 케이싱
5 : 고정자 기둥6 : 베어링
7 : 구동 모터8 : 흡기구
9 : 배기구10 : 고정자 블레이드
11 : 스크류 고정자12 : 나사홈
14 : 진공 챔버20 : 밸런서
22 : 취약부30 : 진동 센서
이하, 본 발명에 따른 진공 펌프를 반도체 제조에 사용하는 실시예가 도면을 참조로 하여 상세하게 설명되어 있다.
도 1은 본 발명에 따른 진공 펌프의 실시예를 도시하는 수직 단면도이다. 도 2는 본 발명에 따른 진공 펌프의 동작의 순서를 설명한다. 도 3은 본 발명에 따른 진공 펌프에서 밸런서의 제1 실시예의 구조를 도시하는 설명도이다. 도 4는 본 발명에 따른 진공 펌프에서 밸런서의 제2 실시예의 구조를 도시하는 설명도이다. 도 5a 및 도 5b는 본 발명에 따른 진공 펌프에서 밸런서의 제3 실시예의 구조를 도시하는 단면도이다. 도 1에 도시된 진공 펌프는 상부 터보 분자 펌프 기구 및 하부 나사홈 펌프 기구에 의해 진공 펌프 작용을 발생시키는 점에서 도 6에 도시된 종래기술의 진공 펌프와 유사하다. 그러므로, 도 6에 도시된 것과 동일한 부분을 지시하는데 동일한 부호가 부여되며, 이들 부분에 대한 설명은 생략된다.
밸런서(20)는 도 1에 도시된 진공 펌프에서 회전자(2)와 일체로 형성된 회전자 블레이드(1)의 최하단 회전자 블레이드(1a) 아래에 회전자(2)의 외주면에 부착된다.
밸런서(20)는 회전자(2)의 밸런싱 기능 및 부식 검출 기능이 제공되는 특징이 있다. 그러므로, 밸런서(20)는 회전자(2)의 외주면으로부터 가스통로의 내부에 마주치도록 돌출 형상으로 제공된다. 회전자(2)의 외주면에서 대직경의 밸런서 본체(21)는 소직경의 취약부(22)에 의해 지지된다.
밸런서(20)는 부식성 가스에 대해 회전자(2)의 외주면보다 취약한 알루미늄 합금과 같은 재료를 사용하며, 부식이 내부에서 진행될 때, 밸런서(20)가 떨어지기 쉽도록 취약부(22)가 소직경으로 설정되며, 내부식 도금 처리가 실행되지 않는다.
따라서, 반도체 제조에 본 발명에 따른 진공 펌프가 사용될 때, 고정자 기둥(5)에 의해 지지된 회전자 샤프트(3)가 구동 모터(7)에 의해 고속으로 회전된다면, 터보 분자 펌프 기구는 고정자 블레이드(10)와 회전자 블레이드(1) 사이에서 상호작용의 기능을 한다. 진공 챔버(14) 내의 부식성 가스는 흡기구(8)를 통해 펌프 내부로 흡입되며, 또한, 부식성 가스는 나사홈 펌프 기구를 구성하는 나사홈(12)을 통해 배기구(9)로부터 배출된다.
크롬 도금과 같은 내부식 도금 처리는 부식성 가스의 통로의 내부를 향해 회전자 블레이드(1), 회전자(2), 고정자 블레이드(10), 나사홈(12) 등에서 실행된다. 그러나 밸런서(20)는 부식성 가스에 대해 내부식 구조를 갖지는 않으며, 부식에 대해 취약한 알루미늄 합금 등이 노출된 상태로 되어 있다.
또한, 회전자(2)와 일체로 형성된 회전자 샤프트(3)는 볼 베어링(6)을 통해 고정자 기둥(5)에 의해 지지되며, 에러를 검출하기 위한 진동 센서(30)가 회전자(2)의 내벽에 적절한 위치에 배치된다. 진동 센서(30)에 대한 배치 위치에 대한 특별한 제한은 없지만, 회전자(2) 아래의 위치에 배치하여 양호한 정밀도에 의해 불균형 상태가 검출될 수 있다.
본 발명에 따른 진공 펌프는 상기 언급한 것과 같이 구성되므로, 부식에 대향하여 도 2에 도시된 부호 1 내지 4로 지시된 작동이 실행된다. 즉, 진공 펌프가 반도체 제조의 드라이 에칭 처리 또는 CVD 처리를 위해 장시간 사용될 때, 가스통로의 내측은 부식성 가스에 종종 노출된다. 따라서, 회전자 블레이드(1) 또는 회전자(2)에서 부식성 가스에 기인한 부식의 영향이 나타나기 이전에, 부식 검출자로서의 기능을 하는 밸런서(20)가 부식에 대해 특히 취약한 재료로 형성되는 사실에 기인하여, 기점으로 취약부(22)에 의해 밸런서(20)는 회전자(2)로부터 떨어진다.
밸런서(20)가 회전자(2)로부터 떨어질 때, 밸런서(20)는 밸런싱 기능을 가지므로, 회전자(2)에서 불균형 상태가 순간적으로 발생한다.
회전자(2)에 불균형 상태가 발생하면, 이후 회전자(2)의 하부의 내벽에 형성된 진동 센서(30)로부터 신호가 제어 장치(도시되지 않음)에 입력되며, 제어 장치로부터 명령에 기인하여 구동 모터(7)의 구동을 정지하며, 진공 펌프 구동기는 정지한다.
따라서, 진공 펌프는 회전자 파괴와 같은 악효과가 회전자(2) 또는 회전자 블레이드(1)에 나타나기 이전에 밸런서(20)의 탈락에 따라서 강제로 정지될 수 있으므로, 회전자 파손이 발생되는 것이 방지될 수 있다. 또한, 펌프 케이싱(4) 및 진공 챔버(14)측에 어떠한 파손도 없으므로, 진공 펌프 및 주변 기기의 신뢰성 및 안전성이 증가되는 이점이 있다.
다음으로, 도 3 내지 도 5에 기초하여 밸런서(20)의 실시예가 설명된다.
도 3은 부착방법, 특히, 접착고정 및 압입고정을 조합하여 사용되는 방법에 의해 회전자(2)의 외주면에 밸런서(20)를 고정하기 위한 실시예를 도시한다. 즉, 압입 핀부(22a)는 밸런서(20)에서 취약부(22)의 선단에 형성되며, 압입 핀부(22a) 및 회전자(2)에 드릴가공된 핀구멍(2c)의 내부에 압입되어 형성되며, 핀구멍(2c)의 바닥부에 접착제(a)가 도포된다. 밸런서(20)는 압입고정 및 접착제(a)에 의해 접착하여 회전자(2)의 외주면에 고정된다.
따라서, 회전자가 고속으로 회전중일지라도 원심력에 기인하여 밸런서(20)가 떨어지지 않는 양호한 부착강도를 얻을 수 있다. 동시에, 부식검출기능이 부식에 대해 취약한 취약부(22)에 제공되어 획득될 수 있다.
또한, 밸런서(20)는 회전자(2)에 핀구멍(2c)을 드릴가공하지 않고 회전자(2)의 외주면에 접착제를 통해 직접 접착고정될 수 있다. 이 경우, 큰 접착 면적이 확보될 필요가 있으므로, 회전자(2)의 외주면에 접착한 취약부(22)측에 부착용 플랜지를 형성하는 것이 바람직하다.
도 3에 도시된 접착고정 구조를 갖는 밸런서(20)는 상기 언급한 부식검출기능뿐만 아니라, 회전자(2)의 밸런싱을 맞추는 기능이 제공되어 있다. 또한, 밸런서(20)에서 밸런서 본체(21)를 절단하여 밸런싱이 간단하게 실행될 수 있고, 밸런서(20)의 부식 검출 기능이 회전자(2) 및 회전자 블레이드(1)에 거의 파손을 입히지 않는 상태에서 작동되기 때문에, 회전자(2) 및 회전자 블레이드(1)가 다시 사용될 수 있는 부수적인 이점이 있다.
다음으로, 도 4는 밸런서(20)를 고정하는 수단으로서 스크류인 방법을 채용한 제2 실시예를 도시한다. 숫나사부(22b)는 밸런서 본체(21)를 지지하는 취약부(22)의 선단에서 절단되고, 암나사부를 구성하는 스크류 구멍(2d)은 숫나사부(22b)와 함께 스크류 체결하기 위해 회전자(2)의 외주면에 형성된다.
밸런서(20)의 제2 실시예에 따라서, 회전자(2)의 고속 회전에 의해 파생된 원심력을 지탱할 수 있는 부착 강도는, 밸런서(20)가 스크류인 방법에 의해 회전자(2)의 외주면에 고정될 때, 확보될 수 있다. 또한, 취약부(22)는, 밸런서(20)가 스크류인 되어서 회전자(2)의 외주면에 고정될 때, 가스 통로 내에 노출되므로, 부식 검출 기능은 조금도 사라지지 않는다.
또한, 회전자(2)의 균형은 스크류인 방법에서 용이하게 실행될 수 있으며, 회전자(2) 및 회전자 블레이드(1)가 다시 사용될 수 있다.
다음으로, 도 5a 및 도 5b는 밸런서(20) 및 회전자(2)가 일체구조로 형성되며, 밸런서(20)가 절단에 의해 회전자의 외주면에 부착되는 제3 실시예를 도시한다. 바꾸어 말하면, 절단 공정은 회전자(2)를 형성하기 위한 절단 공정동안 회전자(2)와 일체적으로 밸런서 본체(21) 및 소직경 취약부(22)를 형성하기 위해 실행된다. 또한, 밸런서(20)의 외주면의 차폐가 실행되고, 크롬 도금과 같은 내부식 도금 공정이 회전자(2)의 외주면에서 실행되면(도 5에서 부호 P에 의해 내부식 도금 층이 도시됨), 부식성 가스에 대해 취약한 취약부(22)는 간단하게 형성될 수 있다.
전체 밸런서(20)가 도 5a에 도시된 것과 같이 차폐된 것을 언급한다. 그러나, 이 차폐공정이 지루한 것 같다면, 도 5b 에 도시된 것과 같이 적어도 취약부(22)는 차폐되어야 한다. 비도금부는 도면에서 부호 d1 및 d2로 지시된다.
부식 검출 기능 및 밸런싱 기능이 제공된 밸런서(20)는, 따라서 회전자(2) 및 별개의 밸런서(20)가 함께 고정되는 구조를 채용할 수 있고, 밸런서(20)가 회전자(2)의 절단 공정 중에 회전자(2)와 일체로 형성되는 일체 구조를 채용할 수 도 있다.
또한, 본 실시예에서, 볼트를 체결하여 회전자(2)의 회전축을 따라 일체로 형성된 회전자 샤프트(3)는 고정자 기둥(5)에 대향하여 볼 베어링(6)에 의해 지지되며, 진동 센서(30)는 회전자(2)의 불균형 상태를 검출하기 위한 센서로서 이용된다. 그러나, 자기 베어링으로 고정자 기둥(5)에 의해 회전자 샤프트(3)를 지지하기 위한 자기 지지형 베어링이 사용될 때, 반경 방향 센서는 회전자 샤프트(3)와 고정자 기둥(5) 사이에 위치될 수 있으며, 회전자(2)의 불균형 상태는 이 반경 방향 센서에 의해 검출될 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 진공 펌프는 회전자(2)의 하반부에 나사홈 펌프 기구부와 함께 회전자(2)의 상반부에 터보 분자 펌프 기구부를 이용하는 형태이지만, 또한, 본 발명은 단지 터보 분자 펌프 기구만을 사용한 진공 펌프도 적용될 수 있다.
상기 설명한 것과 같이, 본 발명에 관한 진공 펌프는 2개의 기능, 즉, 부식 검출 기능 및 밸런싱 기능을 갖는 밸런서가 회전자의 외주면에 설치되도록 구성된다. 밸런서는 부식성 가스에 대해 취약한 취약부에 의해 회전자의 외주면에 지지되므로, 밸런서는 펌프의 가스통로 내측 내의 부식성 가스에 의해 부식이 회전자 블레이드 또는 회전자에 영향을 미치기 이전에 떨어진다. 따라서, 불균형 상태는 회전자에서 강제로 나타나며, 부식에 기인한 회전자 파괴가 발생하는 것을 방지한다. 그러므로, 고정자 블레이드, 스크류 고정자 등의 파괴가 방지 될 수 있다. 또한, 진공 챔버와 같은 주변 기기의 파손 및 처리 가스의 외부 유출이 발생하지 않으므로, 펌프 및 주변 기기의 신뢰성 및 안전성이 증가하는 효과를 얻는다.
또한, 본 발명에 따른 진공 펌프에 따라서, 회전자의 외주면에서 밸런서는 부식 검출 기능 및 밸런싱 기능이 제공되며, 전체 회전자의 밸런싱은 밸런서의 일부를 절단하여 간단히 성취될 수 있다. 또한, 밸런싱은 강성의 저하없이, 회전자에서 구멍을 개방하여 실행된 밸런싱에 의해 용이하게 실행되며, 회전자의 강성은 양호하게 유지될 수 있다.

Claims (8)

  1. 흡기구 및 그 내주면에 배치된 복수단의 고정자 블레이드를 갖는 펌프 케이싱,
    회전하는 회전자 샤프트를 지지하기 위해 상기 펌프 케이싱 내에 수용되어 고정된 고정자 기둥,
    상기 회전자 샤프트와 일체이며, 상기 펌프 케이싱의 고정자 블레이드와 번갈아 배치되도록 그 외주면에 배치된 복수단의 회전자 블레이드를 갖는 회전자, 및
    상기 회전자의 외주면에 설치되고, 밸런싱 기능 및 부식 검출 기능을 갖는 밸런서를 구비하는 것을 특징으로 하는 진공 펌프.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 밸런서는 부식성 가스에 대해 취약한 취약부를 갖는 것을 특징으로 하는 진공 펌프.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 밸런서는 부식성 가스에 대해 취약한 취약부를 통해 회전자의 외주면에 부착되는 것을 특징으로 하는 진공 펌프.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 밸런서는 부식성 가스에 대해 회전자의 외주면보다 취약한 재료로 만들어진 것을 특징으로 하는 진공 펌프.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 취약부는 밸런서 본체보다 소직경으로 설정된 것을 특징으로 하는 진공 펌프.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 취약부는 상기 회전자의 외주면에 형성된 핀구멍 내에 접착제를 통해 압착되는 것을 특징으로 하는 진공 펌프.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 밸런서는 상기 회전자의 외주면에 드릴가공된 스크류 구멍의 내측으로 나사체결되는 것을 특징으로 하는 진공 펌프.
  8. 흡기구 및 그 내주면에 배치된 복수단의 고정자 블레이드를 갖는 펌프 케이싱,
    회전하는 회전자 샤프트를 지지하기 위해 상기 펌프 케이싱 내에 수용되어 고정된 고정자 기둥,
    상기 회전자 샤프트와 일체이고, 상기 펌프 케이싱의 고정자 블레이드와 번갈아 배치되도록 그 외주면에 배치된 복수단의 회전자 블레이드를 갖는 회전자, 및
    상기 회전자에 일체로 형성되고, 밸런싱 기능 및 부식 검출 기능을 갖는 밸런서를 구비하는 것을 특징으로 하는 진공 펌프.
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Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8170945B2 (en) * 2004-01-15 2012-05-01 Bgc Partners, Inc. System and method for providing security to a game controller device for electronic trading
EP1577492A1 (de) * 2004-03-16 2005-09-21 Siemens Aktiengesellschaft Verfahren und Vorrichtung zum Erkennen des Zustands des Rotors einer Strömungsmaschine
DE602004025916D1 (de) * 2004-07-20 2010-04-22 Varian Spa Rotationsvakuumpumpe und ihr Auswuchtverfahren
US20070020115A1 (en) * 2005-07-01 2007-01-25 The Boc Group, Inc. Integrated pump apparatus for semiconductor processing
US20070081893A1 (en) * 2005-10-06 2007-04-12 The Boc Group, Inc. Pump apparatus for semiconductor processing
US20080228618A1 (en) 2007-03-15 2008-09-18 Noviello Joseph C System And Method For Providing An Operator Interface For Displaying Market Data, Trader Options, And Trader Input
JP4935509B2 (ja) * 2007-06-05 2012-05-23 株式会社島津製作所 ターボ分子ポンプ
EP2017480A1 (en) * 2007-06-15 2009-01-21 VARIAN S.p.A. Split joint for vacuum pumps and method for obtaining said joint
KR101629979B1 (ko) * 2008-07-14 2016-06-13 에드워즈 가부시키가이샤 진공 펌프
US8657584B2 (en) * 2010-02-16 2014-02-25 Edwards Limited Apparatus and method for tuning pump speed
US10352327B2 (en) 2010-12-17 2019-07-16 Shimadzu Corporation Vacuum pump
DE102011105806A1 (de) * 2011-05-05 2012-11-08 Pfeiffer Vacuum Gmbh Vakuumpumpe mit Rotor
EP2902636B1 (en) * 2012-09-26 2023-10-04 Edwards Japan Limited Rotor, and vacuum pump equipped with rotor
DE102014103060B4 (de) * 2014-03-07 2019-01-03 Pfeiffer Vacuum Gmbh Verfahren zum Wuchten eines Rotors einer Vakuumpumpe oder eines Rotors einer Rotationseinheit für eine Vakuumpumpe
JP7006520B2 (ja) * 2018-06-14 2022-01-24 株式会社島津製作所 真空ポンプおよび診断システム
JP6973348B2 (ja) * 2018-10-15 2021-11-24 株式会社島津製作所 真空ポンプ
CN111472987A (zh) * 2020-05-22 2020-07-31 核工业理化工程研究院 腐蚀气体循环泵

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3490748A (en) * 1968-05-14 1970-01-20 Gen Motors Corp Fragmentation brake for turbines
IT1296155B1 (it) * 1996-04-05 1999-06-09 Varian Spa Rotore di pompa turbomolecolare
DE19627921A1 (de) * 1996-07-11 1998-01-15 Leybold Vakuum Gmbh Verfahren zum Wuchten eines Rotors sowie für die Durchführung dieses Verfahrens geeigneter Rotor
JP2002327697A (ja) * 2001-04-27 2002-11-15 Boc Edwards Technologies Ltd 真空ポンプ
JP2003021092A (ja) * 2001-07-03 2003-01-24 Boc Edwards Technologies Ltd 真空ポンプ

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