KR200207631Y1 - 합성수지 필름에 스패터링 박막코팅하는 장치 - Google Patents

합성수지 필름에 스패터링 박막코팅하는 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR200207631Y1
KR200207631Y1 KR2020000010927U KR20000010927U KR200207631Y1 KR 200207631 Y1 KR200207631 Y1 KR 200207631Y1 KR 2020000010927 U KR2020000010927 U KR 2020000010927U KR 20000010927 U KR20000010927 U KR 20000010927U KR 200207631 Y1 KR200207631 Y1 KR 200207631Y1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
vacuum
film
upper layer
lower layer
vacuum chamber
Prior art date
Application number
KR2020000010927U
Other languages
English (en)
Inventor
이태순
Original Assignee
한산고진공산업주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 한산고진공산업주식회사 filed Critical 한산고진공산업주식회사
Priority to KR2020000010927U priority Critical patent/KR200207631Y1/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR200207631Y1 publication Critical patent/KR200207631Y1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/568—Transferring the substrates through a series of coating stations
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

본 고안은 하나의 진공조 내에서 진공과 고진공을 유지하면서 합성수지로 되는 필름에 스패터링 박막코팅을 할 수 있는 장치에 관한 것으로, 진공챔버를 2개로 하여 윗층의 챔버에서는 진공상태에서 아웃가스 및 방전처리를 하고 아랫층에서는 고진공을 유지토록 하여 스패터링 박막코팅을 할 수 있게 되는 것이다.

Description

합성수지 필름에 스패터링 박막코팅하는 장치{Spattering plating device on synthetic resins film}
본 고안은 하나의 진공챔버 내에서 구분되게 진공과 고진공을 유지하여 필름에 스패터링 박막 코팅을 할 수 있는 장치에 관한 것으로, 하나의 진공챔버 내에 2개의 진공실을 만들어 상층으로는 진공상태에서 아웃가스 및 방전처리를 하고 하층에서는 고진공 상태에서 스패터링 박막코팅을 할 수 있도록 한 것이다.
현재 필름에 스패터링 박막코팅하기 위하여는 도4에 도시된 바와 같이 하나의 진공챔버내에 진공과 고진공을 유지하면서 하여야 하기 때문에 진공이 필요할 경우에는 별도로 진공을 유지하여야 하고, 또한 고진공이 필요한 경우에는 고진공을 걸어야 함으로 이러한 과정에서 많은 시간적인 낭비가 있고, 이러한 낭비는 진공상태에서의 작업과 고진공 상태에서의 작업에 따르는 압력의 급격한 변화로 강도가 약한 필름에 손상이 발생되는 문제점이 있는 것이 었다.
본 고안은 이러한 문제점을 보완하기 위하여 하나의 진공챔버 내를 상층과 하층으로 구분하여 상층에서는 진공을 유지하면서 아웃가스 및 방전처리를 하고, 하층에서는 고진공의 상태에서 스패터링 박막코팅이 가능토록 한 것이다.
도 1은 본 고안의 장치 구성을 나타낸 개략도.
도 2는 진공챔버에 롤러가 장착된 이동차가 결합되는 상태의 사시도.
도 3은 본 고안의 전체 구성을 나타낸 개략도.
도 4는 종래의 구성을 나타낸 단면도.
〈도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
1 : 진공챔버 2 : 상층
3 : 하층 4 : 롤러
5 : 롤러이동차 6 : 스패터 타켓
7 : 냉각드럼 8 : 권취기
도1 내지 도3에 도시된 바와 같이 본 고안의 구성은 하나의 진공챔버(1)내에 상층(2)과 하층(3)으로 구분토록 하여 상층(2)으로는 진공을 유지토록 하고 하층(3)으로는 고진공을 유지토록 하여 상층(2)에서는 글로우방전을 일으키고 하층(3)에서는 스패터 타켓(6)의 가격에 의한 전자의 방출을 필름의 표면에 도막이 형성토록 하는 것이다.
이때 상층(2)과 하층(3)의 배기라인은 상층(2)은 확산펌프(Difusion pump)와 미케니칼부스터로타리펌프(Mechanical Boaster Rotary Pump)를 이용하여 배기하였고 하층은 터보펌프(Turbo Pump)와 로타리 펌프(Rotary Pump)를 이용하여 배기하였다.
상층에서 배기라인이 확산펌프와 미케니칼부스터로타리펌프를 이용함으로서 반응성 가스의 오염을 방지할 수 있는 효과가 있는 것이다.
따라서 필름이 상층에서 하층으로 내려오면서 글로우방전에 의한 표면처리된 것을 스패터링에 의한 도막을 형성함으로서 하나의 진공챔버 내에서 간단하게 진공과 고진공을 유지하면서 우수한 도막을 형성할 수 있는 것이다.
이때 하층의 스패터 실에 형성된 로라는 냉각수가 흐르고 있는 냉각드럼(7)을 사용하였고 필름의 권취와 회전을 위하여 다수개의 롤러(4)를 사용하였고 도막이 형성된 필름은 권취기(8)에 권취되어 완성품으로 되는 것이다.
또한 이와 같은 냉각드럼(7)과 롤러(4) 및 권취기(8)는 롤러이동차(5)에 장착되어 진공챔버(1) 내를 출입할 수 있도록 함으로서 필름의 교환이 용이토록 한것이다.
이러한 결과로 얻는 효과로는 하나의 진공챔버 내에서 서로 다른 진공이 걸리게 되는 상층과 하층으로 구분되어 진공상태에서의 글로우방전과 고진공상태에서의 스패터링 도막을 형성할 수 있게 되는 것이다.

Claims (1)

  1. 하나의 진공챔버 내를 상층과 하층으로 구분토록 하여 상층으로는 진공 상태에서 글로우방전을 일으키고, 하층으로는 고진공 상태에서 스패터 타켓의 타격에 의한 전자를 방출토록 하여 냉각드럼(7)의 상층으로 대칭되게 롤러(4)와 권취기에 연결되어진 필름이 형성된 롤러이동차(5)가 진공챔버(1) 내로 출입되면서 필름의 표면에 도막이 형성토록 함을 특징으로 하는 합성수지 필름에 스패터링 박막을 코팅하는 장치.
KR2020000010927U 1997-04-18 2000-04-18 합성수지 필름에 스패터링 박막코팅하는 장치 KR200207631Y1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR2020000010927U KR200207631Y1 (ko) 1997-04-18 2000-04-18 합성수지 필름에 스패터링 박막코팅하는 장치

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR2019970008173U KR19980063635U (ko) 1997-04-18 1997-04-18 합성수지 필름에 스패터링 박막코팅하는 장치
KR2020000010927U KR200207631Y1 (ko) 1997-04-18 2000-04-18 합성수지 필름에 스패터링 박막코팅하는 장치

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR2019970008173U Division KR19980063635U (ko) 1997-04-18 1997-04-18 합성수지 필름에 스패터링 박막코팅하는 장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR200207631Y1 true KR200207631Y1 (ko) 2000-12-15

Family

ID=19499392

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR2019970008173U KR19980063635U (ko) 1997-04-18 1997-04-18 합성수지 필름에 스패터링 박막코팅하는 장치
KR2020000010927U KR200207631Y1 (ko) 1997-04-18 2000-04-18 합성수지 필름에 스패터링 박막코팅하는 장치

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR2019970008173U KR19980063635U (ko) 1997-04-18 1997-04-18 합성수지 필름에 스패터링 박막코팅하는 장치

Country Status (1)

Country Link
KR (2) KR19980063635U (ko)

Also Published As

Publication number Publication date
KR19980063635U (ko) 1998-11-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5215638A (en) Rotating magnetron cathode and method for the use thereof
TW346649B (en) Method for wet etching a film
JP2006083408A (ja) 真空成膜装置
KR960032629A (ko) 기판주변의 불필요물 제거방법 및 장치와 이를 이용한 도포방법
US8899565B2 (en) Sputtering device with gas injection assembly
KR200207631Y1 (ko) 합성수지 필름에 스패터링 박막코팅하는 장치
BE1009839A3 (fr) Procede et dispositif pour le nettoyage d'un substrat metallique.
JP2000328229A (ja) 真空蒸着装置
CN109957783B (zh) 一种用于工件表面镀膜的高效率直线型真空镀膜流水线
US4606929A (en) Method of ionized-plasma spraying and apparatus for performing same
JPS6129125A (ja) 塗布装置
JPH0817817A (ja) Ｓｏｇ膜の成膜方法及びｓｏｇコータ
JP4015879B2 (ja) スパッタリング方法とその装置
JPH0426760A (ja) スパッタリング装置
JPH1180948A (ja) スパッタリング装置
KR100526009B1 (ko) 박막증착장치 및 방법, 그리고 박막증착장치용 챔버
JPH04180563A (ja) スパッタリング装置
JP2012222121A (ja) 成膜装置
RU2024990C1 (ru) Плазмохимический реактор баррельного типа
JP3728925B2 (ja) スパッタリング装置
JPH0382758A (ja) 多孔質基板上への膜材料形成装置
JPH08165573A (ja) スパッタ装置及びスパッタリングガス導入管
JPS5512547A (en) Manufacture for magnetic recording media
JPH03213171A (ja) 浸漬塗布装置
JPS5724672A (en) Electrostatic coating method

Legal Events

Date Code Title Description
T201 Request for technology evaluation of utility model
REGI Registration of establishment
T201 Request for technology evaluation of utility model
T701 Written decision to grant on technology evaluation
G701 Publication of correction
EXPY Expiration of term
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20071010

Year of fee payment: 8