KR20020087771A - 고밀도 양면광디스크와 그 제조방법 - Google Patents

고밀도 양면광디스크와 그 제조방법 Download PDF

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Abstract

고밀도 양면광디스크와 그 제조방법이 개시된다. 고밀도 양면광디스크는, 정보신호가 기록되는 제1기판과 제1기판을 보호하는 제1보호층과 제1기판에 대칭으로 접합되며 정보신호가 기록되는 제2기판과 제2기판을 보호하는 제2보호층을 포함한다. 고밀도 양면광디스크 제조방법은, 정보신호가 기록되는 제1기판 및 제2기판을 형성하는 단계와 정보신호가 기록되는 제1기판 및 제2기판에 제1보호층 및 제2보호층을 형성하는 단계와 및 제1기판 및 제2기판을 접합하는 단계를 포함한다. 제1기판 및 제2기판의 두께를 D1, 제1보호층 및 제2보호층의 두께를 D2라 할 때, 하기의 조건식을 만족한다.
<조건식>
0.45≤ D1≤0.55 [mm]
0.05≤ D2≤0.15 [mm]
고밀도 양면광디스크의 사출공정이 간단해지므로 고밀도 양면광디스크의 제조가 용이하다.

Description

고밀도 양면광디스크와 그 제조방법{Dual optical disc with high density and making process of the same}
본 발명은 고밀도 광디스크와 그 제조방법에 관한 것으로, 자세하게는 고밀도 양면광디스크와 그 제조방법에 관한 것이다.
일반적으로 광디스크는 광을 조사함으로써 기록 또는 재생하는 기록매체로서, 기록과 재생방법에 따라 재생전용(Read Only Memory;ROM)형태, 일기록가능형태(write-once) , 재기록가능(Random Access Memory;RAM)형태가 있다. 또한 신호를 재생하는 구조에 따라 단층디스크와 이층디스크로 나뉜다.
단층디스크는, 단면디스크이든 양면디스크이든 관계없이 신호면을 한 층만 가지는 것으로, 입사 레이저는 신호면 상의 반사막에서 반사되어 신호가 재생된다. 이층디스크는, 첫째 층에는 반투명막, 둘째 층에는 반사막을 형성하고 있다. 레이저는 한 쪽에서 입사하여 반투명막으로부터 반사하는 광이 첫째 층의 신호를 재생하는 광이 된다. 반투명막을 투과하여 둘째 층의 반사막에서 반사하는 광이 둘째 층의 신호를 재생하는 광이 된다. 이층디스크는 첫째 층에 반투명막을 사용하고 있으므로 반사광량이 작기 때문에 단층디스크보다 기록밀도를 낮게 하여 충분히 기록된 정보를 재생하도록 한다.
단면디스크와 양면디스크는 기판에 정보가 기록된 면의 구조에 따라 나뉜다. 단면디스크는 기판의 일면에만 신호기록면이 존재하는 반면, 양면디스크는 기판의 양쪽면에 신호기록면이 모두 존재한다. 단면디스크에 비해 양면디스크의 기록용량은 배가 된다. 단면 및 양면디스크는 다시 단층, 이층디스크로 제조될 수 있다. 일반적으로 기록용량이 높은 광디스크를 선호하므로 단면 디스크 보다는 양면디스크가 그리고 단층디스크 보다는 이층디스크가 선호된다. 일반적으로 디스크는 가장 간단하게는 기판과 보호층으로 구성된다.
종래의 양면광디스크는 개구수 0.85 에 대응하는 양면광디스크의 경우, 구조가 약 1.0mm 두께의 기판에 약 0.1mm 두께의 보호층을 형성한 것이다.
일반적으로 기판은 스탬퍼를 이용한 사출성형으로 형성된다. 성형기 내의 금형을 어느 정도 닫아 수지를 금형 내에 사출한다. 금형 내의 수지 압력으로 금형이 약간 열리는데, 이에 압력을 가하여 공동 내에 수지를 충분히 충전한다. 일반적으로 기판은 폴리카보네이트 수지를 사용한다. 이 과정에서 단면기판 사출을 위해서는 스탬퍼의 바깥쪽을 기계적으로 잡아줌으로써, 스탬퍼를 충분히 전사할 수 있다.
도 1을 참조하면, 종래의 일층 양면광디스크는 약 1.0mm 두께의 기판(11)과 약 0.1mm 두께의 보호층(13)을 포함한다. 재생전용인 경우, 상기 기판(11)에 정보신호가 기록되는 피트(Pit)가 형성되고 상기 기판(11)과 상기 보호층(13) 사이에 반사막이 형성된다. 재기록가능인 경우, 상기 기판(11)과 상기 보호층(13)사이에 반사막, 유전체막, 상변화 기록막, 유전체막을 포함하는 다층막을 포함한다.
도 2를 참조하면, 종래의 이층 양면광디스크 중 보호층에 정보가 없는 경우는 약 1.0mm 두께의 기판(11)과 정보가 기록되는 정보기록층(15)과 요철이 없는, 즉 기록정보가 없는 약 0.1mm의 보호층(13)을 포함한다. 재생전용의 경우, 상기 정보기록층(15)은 2P층과 반투명막으로 형성된다. 재기록가능인 경우 상기 정보기록층(15)은 다층막으로 형성된다.
도 3을 참조하면, 종래의 이층 양면광디스크 중 보호층에 정보가 있는 경우는 약 1.0mm 두께의 기판(11)과 요철이 있는, 즉 기록정보가 있는 약 0.1mm의 보호층을 포함한다.
양면광디스크를 제조하기 위해서 먼저 1.0mm 두께의 일체형 양면기판의 사출을 위한 성형기와 금형의 제조가 필요하다. 양면디스크를 제조하기 위해서 상기의 사출성형을 이용하게 되는데, 이 때 스탬퍼의 바깥쪽을 잡아주는 기계적인 부분이 서로 부딪치게 되는 문제가 있다. 이 문제를 해결하기 위한 사출공정이 매우 까다로와 실제 제품으로 개발된 예가 거의 없다. 실제 공정에서 새로운 성형기와 금형의 제조가 어렵고 그 경비가 많이 들어 일체형 양면 기판 사출이 어렵다.
따라서, 본 발명이 이루고자하는 기술적 과제는 상술한 종래 기술의 문제점을 개선하기 위한 것으로서 성형조건이 좋은 고밀도 양면광디스크를 제공하는 것이다.
본 발명이 이루고자하는 또 다른 기술적 과제는 기존의 설비를 이용하여 고밀도 양면광디스크를 용이하게 제조하는 방법을 제공하는 것이다.
도 1은 종래 단층 양면광디스크의 구조를 개략적으로 나타낸 도면,
도 2는 종래 이층 양면광디스크 중 보호층에 정보가 없는 경우를 나타낸 도면,
도 3은 종래 이층 양면광디스크 중 보호층에 정보가 있는 경우를 나타낸 도면,
도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 의한 재생전용 단층 양면광디스크를 나타낸 도면,
도 5는 본 발명의 제 2 실시예에 의한 재기록가능 단층 양면광디스크를 나타낸 도면,
도 6은 본 발명의 제 3 실시예에 의한 보호층에 정보가 없는 경우 재생전용 이층 양면광디스크를 나타낸 도면,
도 7은 본 발명의 제 4 실시예에 의한 보호층에 정보가 없는 경우 재기록가능 이층 양면광디스크를 나타낸 도면,
도 8은 본 발명의 제 5 실시예에 의한 보호층에 정보가 있는 경우 재생전용 이층 양면광디스크를 나타낸 도면,
도 9는 본 발명의 제 6 실시예에 의한 보호층에 정보가 있는 경우 재기록가능 이층 양면광디스크를 나타낸 도면,
도 10은 본 발명의 실시예에 의한 스핀코트방식에 의한 보호층 생성방법을 나타낸 도면,
도 11은 본 발명의 실시예에 의한 쉬트접착방식에 의한 보호층 생성방법을 나타낸 도면,
도 12는 본 발명의 실시예에 의한 기판을 접합하는 방법을 나타낸 도면.
*도면의 주요 부분에 대한 부호설명*
11 : 기판 13 : 보호층
15 : 정보기록층 21 : 제1기판
23 : 제2기판 25 : 제1보호층
27 : 제2보호층 29 : 반사막
31 : 다층막 33 : 2P층
35 : 반투명막 37 : 레진
39 : 자외선 41 : 쉬트
상기 기술적 과제를 달성하기 위하여, 본 발명은 정보신호가 기록되는 제1기록면을 가지는 제1기판;과 상기 제1기판에 형성되어 기판을 보호하는 제1보호층;과 상기 제1기판에 대칭으로 접합되며, 정보신호가 기록되는 제2기록면을 가지는 제2기판; 및 상기 제2기판에 형성되어 기판을 보호하는 제2보호층;을 포함하는 것으로, 상기 제1기판 및 제2기판의 두께를 D1, 상기 제1보호층 및 제2보호층의 두께를 D2라 할 때, 두께 D1및 D2는 하기의 조건식을 만족하는 것을 특징으로 하는 고밀도 양면광디스크를 제공한다.
<조건식>
0.45≤ D1≤0.55 [mm]
0.05≤ D2≤0.15 [mm]
상기 제1 및 제2기판과 상기 제1 및 제2보호층 각각의 사이에 반사막 또는 반사막, 유전체막, 상변화기록막을 포함하는 다층막을 더 포함할 수 있다. 상기 제1 및 제2기판과 상기 제1 및 제2보호층 각각의 사이에 반사막, 정보를 기록하는 2P 층과 반투명막을 순서대로 더 포함할 수 있다. 상기 제1 및 제2기판과 상기 제1 및 제2 보호층 각각의 사이에 다층막, 정보를 기록하는 2P층, 다층막을 순서대로 수 개를 더 포함할 수 있다. 상기 제1 및 상기 제2보호층에 정보면을 형성할 수 있다. 상기 제1 및 상기 제 2 보호층에 반투명막을 더 포함할 수 있다. 상기 반투명막 위에 정보를 가지는 2P(Photo Polymer)층과 반투명막을 순서대로 수 개를 더 포함할 수 있다. 상기 제1 및 제2보호층에 반사막, 유전체막, 상변화기록막을 포함하는 다층막을 더 포함할 수 있다. 상기 다층막 위에 정보를 가지는 2P층과 다층막을 순서대로 수 개를 더 포함할 수 있다.
상기 반사막은 알루미늄(Al), 알루미늄(Al) 합금, 은(Ag), 은(Ag) 합금 중 선택된 어느 하나의 재질을 사용한다. 상기 유전체막은 황화아연(ZnS)-이산화규소(SiO2), 이산화규소(SiO2), 삼산화이알루미늄(Al2O3), 실리콘나이트라이드(SiN), 알루미늄나이트라이드(AlN) 또는 황화아연(ZnS) 중 적어도 하나의 재질을 사용한다. 상기 상변화기록막은 게르마늄(Ge)-안티몬(Sb)-텔루리움(Te), 은(Ag)-인듐(In)-안티몬(Sb)-텔루리움(Te)을 기본원소로 하는 합금 중 선택된 어느 하나의 재질을 사용한다. 상기 반투명막은 은(Ag) 또는 은(Ag)합금 중 선택된 어느 하나의 재질을 사용한다.
본 발명은 또한 정보신호가 기록되는 제1기판 및 제2기판을 형성하는 단계; 정보신호가 기록되는 제1기판 및 제2기판에 각각 제1보호층 및 제2보호층을 형성하는 단계; 및 제1기판 및 제2기판을 접합하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 고밀도 양면광디스크 제조방법을 제공한다.
상기 제1기판 및 제2기판의 두께를 D1, 상기 제1보호층 및 제2보호층의 두께를 D2라 할 때, 두께 D1및 D2는 하기의 조건식을 만족하는 것을 특징으로 하는 고밀도 양면광디스크 제조방법을 제공한다..
<조건식>
0.45≤ D1≤0.55 [mm]
0.05≤ D2≤0.15 [mm]
상기 제1보호층 및 제2보호층은 스핀 방식 또는 쉬트 접착방식을 이용하여 형성된다. 상기 제1기판 및 제2기판을 접합하는 단계는, 상기 제1기판 및 제2기판 사이에 레진(Resin)을 형성한 후 자외선을 조사하여 경화시킨다.
이하, 본 발명의 실시예에 의한 고밀도 양면광디스크 및 그 제조방법을 첨부된 도면들을 참조하여 상세하게 설명한다.
먼저 본 발명에 의한 실시예에 의한 고밀도 양면광디스크를 설명한다.
도 4를 참조하면, 본 발명의 제1실시예에 따른 재생전용 단층 양면광디스크는 4피스(piece)로 구성되는 것으로, 일면에 정보신호가 기록된 제1기판(21)과 이를 보호하는 제1보호층(25)과 상기 제1기판(21)과 대칭하여 접합되며 일면에 정보신호가 기록된 제2기판(23)과 이를 보호하는 제2보호층(27)을 포함한다.
상기 제1 및 제2기판(21, 23)은 피트가 형성되어 정보를 기록하게 된다. 상기 피트가 형성된 기판에 반사막(29)을 형성한다. 상기 반사막(29)은 알루미늄(Al), 알루미늄 합금, 은(Ag), 은 합금 중에서 선택된 어느 하나의 재질로 구성된다. 상기 제1 및 제2기판(21, 23)의 두께를 D1,상기 제1및 제2보호층(25, 27)의 두께를 D2라 할 때, D1,D2는 상기의 조건식
0.45≤ D1≤0.55 [mm]
0.05≤ D2≤0.15 [mm]
을 만족하는 것이 바람직하다. 이하 본 발명의 모든 실시예의 기판과 보호층은 상기의 조건식을 만족하는 두께를 가진다.
상기 양면광디스크의 정보를 재생하는 레이저는 두 개의 소스를 택하여 양쪽면에서 각각 정보를 재생하거나, 한 개의 소스를 택하되, 디스크를 뒤집어줌으로써 양면에 기록된 정보를 재생할 수 있다. 디스크로 입사하는 레이저는 보호층을 투과하여 상기 제1 및 제2기판(21,23)의 반사막(29)에서 반사되어 기판에 기록된 정보를 재생한다. 재생전용 광디스크의 경우 이미 기록된 정보를 읽을 수 있을 뿐이다. 정보를 기록할 수 있는 매질을 구비하고 있지 아니하므로 기록을 위한 디스크는 다른 구조를 가지게 된다. 상기 제1실시예서 정보는 디스크의 양면에 기록되어 단면디스크에 비해 그 용량을 두 배로 할 수 있다.
도 5를 참조하면, 본 발명의 제2실시예에 의한 재기록가능 단층 양면광디스크는 정보신호가 기록되는 제1 및 제2기판(21, 23)과 상기 제1및 제2기판(21, 23)에 반사막, 유전체막, 상변화기록막, 유전체막의 순으로 형성된 다층막(31)과 상기 다층막(31)위에 형성되는 제1 및 제2보호층(25, 27)을 포함한다.
상기 제1 및 제2기판(21, 23)에는 피트 또는 랜드 및/또는 그루브(groove)가 형성되어 있다. 상기 반사막의 재질은 앞서 본 발명의 제1실시예에 기술한 재질과 같다. 상기 유전체막의 재질은 ZnS-SiO2. SiO2, Al2O3, SiN, AiN, ZnS 중 적어도 하나를 사용한다. 상기 상변화기록막의 재질은 Ge-Sb-Te 또는 Ag-In-Sb-Te을 기본원소로 하는 합금을 사용한다. 상기 다층막(31)은 필요에 따라 새로운 막이 추가되어 사용될 수 있다.
상기 제1실시예에서와 달리 상기 제2실시예는 재기록이 가능하도록, 다층막(31)을 구비하게 된다. 재기록가능한 광디스크의 경우, 유전체막, 상변화기록막, 반사막을 포함하는 다층막을 포함한다. 상변화기록막은 온도에 따라 상변화가 일어나는 막이다. 상변화의 차이에 따라 정보의 기록, 소거, 재생이 가능하다. 유전체막은 상변화기록막의 양쪽에 형성되어 상변화시 생기는 열을 빠르게 분산시켜, 기록 및 소거가 용이하게 한다. 재생시 광은 유전체막을 투과하여 상변화기록막에 이르며 상변화기록막에서 반사 및 투과가 이루어진다. 반사된 광은 정보를 재생하게 되며, 투과된 광은 유전체막을 통과하여 기판 위에 형성된 반사막에서 다시반사하여 정보를 재생하게 된다. 그러므로 상기 제2실시예에서 정보기록층은 모두 네 개로 구성된다. 그러나 필요에 따라 상기의 다층막(31)을 더 추가함으로써 광디스크의 기록용량을 높일 수 있다.
도 6을 참조하면, 본 발명의 제3실시예에 의한 재생전용 이층 양면광디스크는 앞서 기술한 본 발명의 제1실시예의 구조에 새로운 정보를 기록할 수 있는 2P(Photo polymer)층(33)과 상기 2P층위에 형성되는 반투명막(35)을 더 구비한다. 상기 제1 및 제2보호층(25, 27)에는 정보가 기록되지 않는다.
재생전용디스크이므로 상기 제1 및 제2기판(21, 23)에 피트가 형성되고, 이층구조이므로 정보를 기록할 수 있는 새로운 기록층으로 상기 2P층(33)을 구비한다. 상기 2P층(33)은 상기 제1 및 제2기판(21, 23)에 형성되어 자외선 등을 사용하여 빛에너지에 의해 경화시켜 형성된다. 상기 2P층(33)은 정보를 기록한 피트를 포함한다. 상기 2P층(33) 위에는 반투명막(35)을 구비하여 상기 반투명막(35)을 투과하는 광이 상기 2P층(33)의 정보를 재생한다. 상기 제1 및 제2기판(21, 23)과 상기 2P층(33) 사이에는 반사막(29)을 구비하여 상기 2P층(33)을 투과한 광이 기판의 정보를 재생한다. 상기 2P층의 두께는 10-30μm 가 바람직하다. 상기 반사막(29)의 재질은 앞서 기술한 바와 같다. 상기 반투명막(35)은 은 또는 은 합금을 사용하며 두께는 10-20nm 의 범위를 갖는 것이 바람직하다.
도 7을 참고하면, 본 발명의 제4실시예에 의한 재기록가능 이층 양면광디스크는 본 발명의 제 2실시예에 의한 디스크의 구조에서 다층막(31)위에 정보를 기록할 수 있는 2P층(33)이 형성되고, 다시 상기 2P층(33)위에 상기 다층막(31)이 형성되는 구조이다. 상기 다층막(31)위에 정보의 기록이 없는 제1 및 제2보호층(25, 27)이 형성된다.
상기 다층막(31)은 필요에 따라 새로운 막이 추가적으로 사용될 수 있다. 또한 상기 2P층(33)의 피트 또는 랜드 및/또는 그루브에 의한 정보면은 일층에 국한하지 않고 2층이상의 다층이 가능하다. 이 경우에는 각 층에 해당하는 수만큼의 양면광디스크가 형성되는 것이다. 상기 다층막과 2P층의 재질 및 두께는 앞서 기술한 바와 같다.
도 8을 참조하면, 본 발명의 제5실시예에 의한 재생전용 이층 양면광디스크는 정보가 기록되는 제1 및 제2기판(21, 23)과 상기 기판에 형성되는 반사막(29)과 정보가 기록되는 제1 및 제2보호층(25, 27)과 상기 제1 및 제 2보호층(25, 27)위에 형성되는 반투명막(35)을 구비한다.
상기 제1 및 제2보호층(25, 27)을 투과하는 광은 상기 제1 및 제2보호층(25, 27)에 기록된 정보를 먼저 재생한다. 상기 제1 및 제2보호층(25, 27)에 형성된 상기 반투명막(35)을 더 투과하여 상기 제1 및 제2기판(21, 23)에 도달하는 광은 상기 제1 및 제2기판(21, 23)에 형성된 상기 반사막(29)에서 반사되며, 상기 제1 및 제2기판(21, 23)에 기록된 정보를 재생한다. 상기 제1 및 제2보호층(25, 27)에 피트 정보를 가지는 층은 일층으로 국한하지 않고 이층이상이 가능하다. 상기 반투명막(35)의 재질은 앞서 기술한 바와 같다.
도 9를 참조하면, 본 발명의 제6실시예에 의한 재기록가능 이층 양면광디스크는 정보신호가 기록되는 제1 및 제2기판(21, 23)과 상기 제1 및 제2기판(21, 23)에 다층막(31)과 정보를 가지는 제1 및 제2보호층(25, 27)을 더 구비한다.
상기 다층막(31)의 구조는 앞서 기술한 제2실시예와 동일하며, 상기 제1 및 제2보호층(25, 27)의 구조는 앞서 기술한 본 발명의 제5실시예와 같다. 상기 다층막(31)에 있어서 필요에 따라 새로운 막이 추가적으로 사용될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따른 고밀도 양면광디스크의 제조는 개구수에 관계없이 용이하게 제조될 수 있고, 각 실시예에 따른 응용범위가 공정에 따라 넓게 적용될 수 있다. 재생전용 양면광디스크의 경우 2P층과 반투명막의 수 및 광의 반사율 및 투과율을 적절히 조절함으로써 기록용량을 향상시킬 수 있다. 재기록가능 양면광디스크의 경우 다층막을 기판 또는 보호층에 적층하되, 그 기록용량을 향상시키기 위해 층 수 및 광의 반사율 및 투과율을 적절히 조절할 수 있다. 또한 보호층에 정보를 기록하여 그 기록용량을 높일 수 있다.
다음에는 본 발명의 실시예에 의한 고밀도 양면광디스크의 제조방법에 대해 설명한다.
고밀도 양면광디스크의 제조방법은 기판에 보호층을 형성하는 단계와 기판을 접합하는 단계가 있는데 상기의 두 단계는 그 순서가 바뀔 수 있다.
도 10 및 도 11을 참고하면, 상기 제1기판(21)에 상기 제1보호층(25)을 접합하는 방법은 각각 스핀코트(Spin-coat)방식과 쉬트(Sheet)접착방식이 있다. 스핀코트방식은 상기 제1기판(21)에 레진(Resin)을 주입한 후 고속으로 회전시킴으로써 상기 제1보호층(25)을 디스크 표면에 도포한 후 자외선을 조사하여 경화시키는 방법이다. 코팅된 레진이 상기 제1보호층(25)을 형성하며 두께는 약 0.1mm가 된다.쉬트접착방식은 상기 제1기판(21)과 쉬트(41)사이에 레진을 형성한 후 자외선을 조사하여 경화시키거나 압력에 의해 접착시키는 것이다. 이때 쉬트는 보통 폴리카보네이트(Polycarbonate) 재질이며 0.07mm 정도의 두께를 가진다. 레진이 도포됨으로써 전체 제1보호층의 두께가 약 0.1mm가 된다. 제2기판에 제2보호층을 형성하는 방법은 상기 제1기판(21)에 상기 제1보호층(25)을 형성하는 방법과 동일하다.
도 12를 참조하면, 제1기판 및 제2기판을 접합하는 방법은 상기 제1기판 및 제2기판 사이에 레진을 주사하여 자외선을 조사하여 경화시키는 것이다. 제1 및 제2기판(21, 23)을 먼저 접합한 후 제1 및 제2보호층(25, 27)을 형성하거나, 상기의 순서를 역으로 하여 상기 제 1 및 제2보호층(25, 27)을 상기 제1 및 제2기판(21, 23)에 먼저 형성한 후 보호층이 형성된 기판을 접합할 수 있다.
상기한 본 발명에 의한 실시예에 의해 고밀도 양면광디스크를 제조하는 방법은 기존의 단면광디스크를 위한 사출성형기를 용이하게 이용할 수 있으므로, 그 방법이 간단하고 경비가 절감된다.
상기한 설명에서 많은 사항이 구체적으로 기재되어 있으나, 그들은 발명의 범위를 한정하는 것이라기보다, 바람직한 실시예의 예시로서 해석되어야 한다. 특히 당업자라면 보호층에 정보가 기록되는 경우 이층이상의 구조를 용이하게 제조할 수있고 기판에도 이층이상의 구조를 재생전용의 경우와 재기록가능의 경우에 따라 상기의 실시예를 조합하여 고밀도 양면광디스크를 제조할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 범위는 설명된 실시예에 의하여 정하여 질 것이 아니고 특허 청구범위에 기재된 기술적 사상에 의해 정하여져야 한다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 의한 고밀도 양면광디스크와 그 제조방법의 장점은 새로운 구조의 고밀도 양면광디스크의 제조에 있어, 기판과 보호층의 두께 D1,D2를 상기한 조건식과 같이 설정함으로써 단면 기판 사출을 위한 기존의 설비를 이용하여 용이하게 제조할 수 있다는 것이다.

Claims (21)

  1. 정보신호가 기록되는 제1기록면을 가지는 제1기판;
    상기 제1기판에 형성되어 기판을 보호하는 제1보호층;
    상기 제1기판에 대칭으로 접합되며, 정보신호가 기록되는 제2기록면을 가지는 제2기판; 및
    상기 제2기판에 형성되어 기판을 보호하는 제2보호층;을 포함하는 것으로,
    상기 제1기판 및 제2기판의 두께를 D1, 상기 제1보호층 및 제2보호층의 두께를 D2라 할 때,
    두께 D1및 D2는 하기의 조건식을 만족하는 것을 특징으로 하는 고밀도 양면광디스크.
    <조건식>
    0.45≤ D1≤0.55 [mm]
    0.05≤ D2≤0.15 [mm]
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1기판과 제1보호층 사이, 상기 제2기판과 제2보호층 사이에 반사막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고밀도 양면광디스크.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1기판과 제1보호층 사이, 상기 제2기판과 제2보호층 사이에 반사막, 유전체막, 상변화기록막을 포함하는 다층막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고밀도 양면광디스크.
  4. 제 2 항에 있어서,
    상기 반사막과 제1보호층, 상기 반사막과 제2보호층 사이에 정보를 가지는 2P층과 반투명막을 순서대로 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고밀도 양면광디스크.
  5. 제 3 항에 있어서,
    상기 다층막과 제1보호층, 상기 다층막과 제2보호층사이에 정보를 가지는 2P층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고밀도 양면광디스크.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 2P층과 제1보호층사이, 상기 2P층과 제2보호층사이에 반사막, 유전체막, 상변화기록막을 포함하는 다층막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고밀도 양면광디스크.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 2P층과 상기 다층막을 순서대로 수 개를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고밀도 양면광디스크.
  8. 제 2 항에 있어서,
    상기 제1보호층 및 상기 제2보호층에 정보면을 형성하는 것을 특징으로 하는 고밀도 양면광디스크.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 제1보호층 및 상기 제2보호층에 반투명막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고밀도 양면광디스크.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 반투명막위에 정보를 가지는 2P층과 반투명막을 순서대로 수 개를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고밀도 양면광디스크.
  11. 제 3 항, 제 6 항 또는 제 7 항에 있어서,
    상기 제1보호층 및 상기 제2보호층에 정보면을 형성하는 것을 특징으로 하는 고밀도 양면광디스크.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 제1보호층 및 상기 제2보호층에 반사막, 유전체막, 상변화기록막을 포함하는 다층막을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고밀도 양면광디스크.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 다층막 위에 정보를 가지는 2P층과 다층막을 순서대로 수 개를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고밀도 양면광디스크.
  14. 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,
    상기 반사막은 알루미늄(Al), 알루미늄(Al) 합금, 은(Ag), 은(Ag) 합금 중 선택된 어느 하나의 재질을 사용하는 것을 특징으로 하는 고밀도 양면광디스크.
  15. 제 3 항에 있어서,
    상기 유전체막은 황화아연(ZnS)-이산화규소(SiO2), 이산화규소(SiO2), 삼산화이알루미늄(Al2O3), 실리콘나이트라이드(SiN), 알루미늄나이트라이드(AlN)
    또는 황화아연(ZnS) 중 적어도 하나의 재질을 사용하는 것을 특징으로 하는 고밀도 양면광디스크.
  16. 제 3 항에 있어서,
    상기 상변화기록막은 게르마늄(Ge)-안티몬(Sb)-텔루리움(Te), 은(Ag)-인듐(In)-안티몬(Sb)-텔루리움(Te)을 기본원소로 하는 합금을 재질로 사용하는 것을 특징으로 하는 고밀도 양면광디스크.
  17. 제 4항, 제 9 항 또는 제 10 항에 있어서,
    상기 반투명막은 은(Ag) 또는 은(Ag)합금 중 선택된 어느 하나의 재질을 사용하는 것을 특징으로 하는 고밀도 양면광디스크.
  18. 정보신호가 기록되는 제1기판 및 제2기판을 형성하는 단계;
    정보신호가 기록되는 제1기판 및 제2기판에 각각 제1보호층 및 제2보호층을 형성하는 단계; 및
    제1기판 및 제2기판을 접합하는 단계;
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 고밀도 양면광디스크 제조방법.
  19. 제 18 항에 있어서,
    상기 제1기판 및 제2기판의 두께를 D1, 상기 제1보호층 및 제2보호층의 두께를 D2라 할 때,
    두께 D1및 D2는 하기의 조건식을 만족하는 것을 특징으로 하는 고밀도 양면광디스크 제조방법.
    <조건식>
    0.45≤ D1≤0.55 [mm]
    0.05≤ D2≤0.15 [mm]
  20. 제 19 항에 있어서,
    상기 제1보호층 및 제2보호층을 형성하는 단계에서, 상기 제1보호층 및 제2보호층은 스핀코트방식 또는 쉬트 접착방식을 이용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 고밀도 양면광디스크 제조방법.
  21. 제 20 항에 있어서,
    상기 제1기판 및 제2기판을 접합하는 단계는, 상기 제1기판 및 제2기판 사이에 레진(Resin)을 형성한 후 자외선을 조사하여 경화시키는 것을 특징으로 하는 고밀도 양면광디스크 제조방법.
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