JPH11345431A - 情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 記録密度を高めても十分なチルトマージンと
機械的強度とを確保し得る情報記録媒体を提供する。 【解決手段】 エンボスピット又は案内溝が設けられた
記録面及びこの記録面の裏面に貼り合わせ接着面となる
面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に形成さ
れた反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜とを
具備し、前記保護膜が形成された側の表面を被照射面と
して光ビームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強
度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であ
る。前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離
は、前記基板の厚さより小さく、前記基板の前記貼り合
わせ接着面は平滑又は凹部を有することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、情報記録媒体に係
り、特に表面記録再生用情報記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】通常のＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭなどの光ディ
スクにおいては、１．２ｍｍ厚の透明基板の一方の面上
に記録データに応じたエンボスピットが形成され、さら
にその上にＡｌなどからなる反射膜が形成されている。
こうしたＣＤに記録された情報は、反射膜が設けられた
面とは反対側の透明基板側から集光ビームを照射するこ
とにより再生される。

【０００３】より記録密度が高密度化されたＤＶＤやＤ
ＶＤ−ＲＯＭディスクにおいては、０．６ｍｍ厚の透明
基板の一方の面上にＣＤの場合よりも微細なエンボスピ
ットが形成され、さらにその上にＡｌなどからなる反射
膜が形成されている。こうしたディスクの記録面に記録
された情報の再生は、ＣＤの場合と同様に反射膜が形成
されている面とは反対側の透明基板側から集光ビームを
照射することにより行なわれる。

【０００４】０．６ｍｍ厚の基板の材料としては、透明
な樹脂材料であるＰＣ（ポリカーボネート）が一般的に
使用されている。０．６ｍｍのＰＣ基板では、機械的特
性が十分ではなく、そのままでは基板が反ってしまうた
め、記録面が内側となるよう２枚の０．６ｍｍＰＣ基板
を貼り合わせて、合計厚さ１．２ｍｍのディスクとして
機械的特性を確保している。

【０００５】なお、ＤＶＤディスクの基板厚が０．６ｍ
ｍとなったのは、チルトマージンを確保するためであ
る。トラックピッチ、ピット密度がより詰まるとディス
クの傾き、いわゆるチルトのマージンが減少してしま
う。１．２ｍｍから０．６ｍｍへと基板厚を小さくする
ことによって、チルトマージンは確保することができる
が、機械的強度の低下は避けられない。

【０００６】そこで、基板を薄くして機械的強度を確保
するため、ディスクの中央部を厚くすることにより機械
的強度を確保することが提案されている（特開平９−２
０４６８６号公報）。しかしながら機械的強度を確保す
るためには、信号記録領域の基板厚さは０．６ｍｍが限
界であった。また、透明基板の厚さを０．１ｍｍ〜０．
６ｍｍとすることが報告されている（特開平９−２０４
６８８号公報）が、記録膜を保持する保護基板の厚さ、
反射膜の膜厚等については言及されておらず、実施する
うえでは問題であった。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】今後さらに記録密度を
詰めて情報記録媒体の大容量化を図るためには、基板の
厚さをさらに薄くすることが、チルトマージンの面から
有効であるものの、基板厚が０．６ｍｍより小さくなる
と、こうした基板を２枚貼り合わせても機械的強度を確
保することが困難となる。

【０００８】そこで本発明は、さらに記録密度を高めて
も十分なチルトマージンと機械的強度とを確保し得る情
報記録媒体を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明（請求項１）は、エンボスピットまたは案内
溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面に貼り合
わせ接着面となる面を有する基板と、この基板の前記記
録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成
された保護膜とを具備し、前記保護膜が形成された側の
表面を被照射面として光ビームを照射し、前記反射膜か
らの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する
情報記録媒体であって、前記基板の前記記録面から前記
被照射面までの距離は、前記基板の厚さより小さく、前
記基板の前記貼り合わせ接着面は平滑または凹部を有す
ることを特徴とする情報記録媒体を提供する。

【００１０】本発明（請求項２）は、エンボスピットま
たは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面
に貼り合わせ接着面となる面を有する基板と、この基板
の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の
上に形成された保護膜とを具備し、前記保護膜が形成さ
れた側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前記
反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を
再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録面
から前記被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上
０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎは
前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であ
り、前記基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下で
あり、前記基板の前記貼り合わせ接着面の表面は、λ／
（８ｎ）以下（ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈
折率である）の粗さ、または凹部を有することを特徴と
する情報記録媒体を提供する。

【００１１】本発明（請求項３）は、エンボスピットま
たは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面
に接着面を有する第１の基板と、この第１の基板の前記
記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形
成された保護膜と、前記基板の接着面に接着層を介して
形成された第２の基板とを具備し、前記保護膜が形成さ
れた側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前記
反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を
再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録面
から前記被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上
０．１ｍｍ以下（λは波長光ビームの波長であり、ｎは
前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であ
り、前記第１の基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ
以下であり、前記第１の基板の前記接着面表面は、λ／
（８ｎ）以下（ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈
折率である）の粗さまたは凹部を有し、記録領域におけ
る一方の表面から他方の表面までの距離は、０．６ｍｍ
以上１．２ｍｍ以下であることを特徴とする情報記録媒
体を提供する。

【００１２】本発明（請求項４）は、エンボスピットま
たは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面
側に接着面を有する第１の基板と、この第１の基板の前
記記録面の上に形成された第１の反射膜と、この第１の
反射膜の上に形成された第１の保護膜と、エンボスピッ
トまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の
裏面側に接着面を有する第２の基板と、この第２の基板
の前記記録面の上に形成された第２の反射膜と、この第
２の反射膜の上に形成された第２の保護膜と、前記第１
の基板の前記接着面と前記第２の基板の前記接着面とを
接着する接着層とを具備し、前記第１の保護膜および前
記第２の保護膜が形成された側の表面をそれぞれ第１お
よび第２の被照射面として、この第１および第２の被照
射面からそれぞれ光ビームを照射し、前記第１の反射膜
および前記第２の反射膜からの反射光の光強度変化に基
づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記
第１の基板の前記記録面から前記第１の被照射面までの
距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記
光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護
膜の光屈折率である）であり、前記第２の基板の前記記
録面から前記第２の被照射面までの距離は、５λ／（４
ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であ
り、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率であ
る）であり、前記第１の基板および前記第２の基板の厚
さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記第１の
基板の前記接着面表面および前記第２の基板の前記接着
面表面は、λ／（８ｎ）以下（ｎは前記波長λの光の前
記保護膜の光屈折率である）の粗さまたは凹部を有し、
記録領域における一方の表面から他方の表面までの距離
は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であることを特徴と
する情報記録媒体を提供する。

【００１３】本発明（請求項５）は、エンボスピットま
たは案内溝が設けられた記録面を有する基板と、この基
板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜
の上に形成された保護膜とを具備し、前記保護膜が形成
された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前
記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報
を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録
面から前記被照射面までの距離は、前記基板の厚さより
小さく、前記被照射面の外周部に凹部または凸部を有す
ることを特徴とする情報記録媒体を提供する。

【００１４】本発明（請求項６）は、エンボスピットま
たは案内溝が設けられた記録面を有する基板と、この基
板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜
の上に形成された保護膜とを具備し、前記保護膜が形成
された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前
記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報
を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録
面から前記被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上
０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎは
前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であ
り、前記基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下で
あり、前記被照射面の外周部に０．１ｍｍ以内の凹部ま
たは凸部を有することを特徴とする情報記録媒体を提供
する。

【００１５】本発明（請求項７）は、エンボスピットま
たは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面
に接着面を有する第１の基板と、この第１の基板の前記
記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に形
成された保護膜と、前記基板の接着面に接着層を介して
形成された第２の基板とを具備し、前記保護膜が形成さ
れた側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前記
反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を
再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録面
から前記被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上
０．１ｍｍ以下（λは波長光ビームの波長であり、ｎは
前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であ
り、前記第１の基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ
以下であり、前記被照射面の外周部に０．１ｍｍ以内の
凹部または凸部を有し、記録領域における一方の表面か
ら他方の表面までの距離は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ
以下であることを特徴とする情報記録媒体を提供する。

【００１６】本発明（請求項８）は、エンボスピットま
たは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏面
側の接着面を有する第１の基板と、この第１の基板の前
記記録面の上に形成された第１の反射膜と、この第１の
反射膜の上に形成された第１の保護膜と、エンボスピッ
トまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の
裏面側の接着面を有する第２の基板と、この第２の基板
の前記記録面の上に形成された第２の反射膜と、この第
２の反射膜の上に形成された第２の保護膜と、前記第１
の基板の前記接着面と前記第２の基板の前記接着面とを
接着する接着層とを具備し、前記第１の保護膜および前
記第２の保護膜が形成された側の表面をそれぞれ第１お
よび第２の被照射面として、この第１および第２の被照
射面からそれぞれ光ビームを照射し、前記第１の反射膜
および前記第２の反射膜からの反射光の光強度変化に基
づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前記
第１の基板の前記記録面から前記第１の被照射面までの
距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記
光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護
膜の光屈折率である）であり、前記第２の基板の前記記
録面から前記第２の被照射面までの距離は、５λ／（４
ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であ
り、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率であ
る）であり、前記第１の基板および前記第２の基板の厚
さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記第１お
よび第２の被照射面の外周部に０．１ｍｍ以内の凹部ま
たは凸部を有し、記録領域における一方の表面から他方
の表面までの距離は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下で
あることを特徴とする情報記録媒体を提供する。

【００１７】本発明（請求項９）は、エンボスピットま
たは案内溝が設けられた記録面を有する基板と、この基
板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜
の上に形成された保護膜とを具備し、前記保護膜が形成
された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前
記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報
を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録
面から前記被照射面までの距離は、前記基板の厚さより
小さく、前記被照射面のディスクスピンドル穴からディ
スククランプ領域の範囲に凹部または凸部を有すること
を特徴とする情報記録媒体を提供する。

【００１８】本発明（請求項１０）は、エンボスピット
または案内溝が設けられた記録面を有する基板と、この
基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射
膜の上に形成された保護膜とを具備し、前記保護膜が形
成された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、
前記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情
報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記
録面から前記被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以
上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎ
は前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であ
り、前記基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下で
あり、前記被照射面のディスクスピンドル穴からディス
ククランプ領域の範囲に０．１ｍｍ以上の凹部または
０．０５ｍｍ以下の凸部を有することを特徴とする情報
記録媒体を提供する。

【００１９】本発明（請求項１１）は、エンボスピット
または案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏
面に接着面を有する第１の基板と、この第１の基板の前
記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に
形成された保護膜と、前記基板の接着面に接着層を介し
て形成された第２の基板とを具備し、前記保護膜が形成
された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前
記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報
を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録
面から前記被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上
０．１ｍｍ以下（λは波長光ビームの波長であり、ｎは
前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であ
り、前記第１の基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ
以下であり、前記被照射面のディスクスピンドル穴から
ディスククランプ領域の範囲に０．１ｍｍ以上の凹部ま
たは０．０５ｍｍ以内の凸部を有し、記録領域における
一方の表面から他方の表面までの距離は、０．６ｍｍ以
上１．２ｍｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体
を提供する。

【００２０】本発明（請求項１２）は、エンボスピット
または案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏
面側の接着面を有する第１の基板と、この第１の基板の
前記記録面の上に形成された第１の反射膜と、この第１
の反射膜の上に形成された第１の保護膜と、エンボスピ
ットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面
の裏面側の接着面を有する第２の基板と、この第２の基
板の前記記録面の上に形成された第２の反射膜と、この
第２の反射膜の上に形成された第２の保護膜と、前記第
１の基板の前記接着面と前記第２の基板の前記接着面と
を接着する接着層とを具備し、前記第１の保護膜および
前記第２の保護膜が形成された側の表面をそれぞれ第１
および第２の被照射面として、この第１および第２の被
照射面からそれぞれ光ビームを照射し、前記第１の反射
膜および前記第２の反射膜からの反射光の光強度変化に
基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前
記第１の基板の前記記録面から前記第１の被照射面まで
の距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前
記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保
護膜の光屈折率である）であり、前記第２の基板の前記
記録面から前記第２の被照射面までの距離は、５λ／
（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長
であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率で
ある）であり、前記第１の基板および前記第２の基板の
厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記第１
および第２の被照射面のディスクスピンドル穴からディ
スククランプ領域の範囲に０．１ｍｍ以上の凹部または
０．０５ｍｍ以内の凸部を有し、記録領域における一方
の表面から他方の表面までの距離は、０．６ｍｍ以上
１．２ｍｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体を
提供する。

【００２１】本発明（請求項１３）は、エンボスピット
または案内溝が設けられた記録面を有する基板と、この
基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射
膜の上に形成された保護膜とを具備し、前記保護膜が形
成された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、
前記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情
報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記
録面から前記被照射面までの距離は、前記基板の厚さよ
り小さく、前記被照射面のディスククランプ領域からデ
ータ記録領域の範囲に凹部または凸部を有することを特
徴とする情報記録媒体を提供する。

【００２２】本発明（請求項１４）は、エンボスピット
または案内溝が設けられた記録面を有する基板と、この
基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射
膜の上に形成された保護膜とを具備し、前記保護膜が形
成された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、
前記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情
報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記
録面から前記被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以
上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎ
は前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であ
り、前記基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下で
あり、前記被照射面のディスククランプ領域からデータ
記録領域の範囲に０．１ｍｍ以上の凹部または０．２５
ｍｍ以下の凸部を有することを特徴とする情報記録媒体
を提供する。

【００２３】本発明（請求項１５）は、エンボスピット
または案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏
面に接着面を有する第１の基板と、この第１の基板の前
記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に
形成された保護膜と、前記基板の接着面に接着層を介し
て形成された第２の基板とを具備し、前記保護膜が形成
された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前
記反射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報
を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録
面から前記被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上
０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎは
前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であ
り、前記第１の基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ
以下であり、前記被照射面のディスククランプ領域から
データ記録領域の範囲に０．１ｍｍ以上の凹部または
０．２５ｍｍ以内の凸部を有し、記録領域における一方
の表面から他方の表面までの距離は、０．６ｍｍ以上
１．２ｍｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体を
提供する。

【００２４】本発明（請求項１６）は、エンボスピット
または案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏
面側の接着面を有する第１の基板と、この第１の基板の
前記記録面の上に形成された第１の反射膜と、この第１
の反射膜の上に形成された第１の保護膜と、エンボスピ
ットまたは案内溝が設けられた記録面およびこの記録面
の裏面側の接着面を有する第２の基板と、この第２の基
板の前記記録面の上に形成された第２の反射膜と、この
第２の反射膜の上に形成された第２の保護膜と、前記第
１の基板の前記接着面と前記第２の基板の前記接着面と
を接着する接着層とを具備し、前記第１の保護膜および
前記第２の保護膜が形成された側の表面をそれぞれ第１
および第２の被照射面として、この第１および第２の被
照射面からそれぞれ光ビームを照射し、前記第１の反射
膜および前記第２の反射膜からの反射光の光強度変化に
基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、前
記第１の基板の前記記録面から前記第１の被照射面まで
の距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前
記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保
護膜の光屈折率である）であり、前記第２の基板の前記
記録面から前記第２の被照射面までの距離は、５λ／
（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長
であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率で
ある）であり、前記第１の基板および前記第２の基板の
厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であり、前記第１
および第２の被照射面のディスククランプ領域からデー
タ記録領域の範囲に０．１ｍｍ以上の凹部または０．２
５ｍｍ以内の凸部を有し、記録領域における一方の表面
から他方の表面までの距離は、０．６ｍｍ以上１．２ｍ
ｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体を提供す
る。

【００２５】本発明（請求項１７）は、エンボスピット
または案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏
面に貼り合わせ接着面となる面を有する基板と、この基
板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜
の上に形成された第１の保護膜と、この第１の保護膜の
上に形成された相変化記録膜と、この相変化記録膜上に
形成された第２の保護膜と、この第２の保護膜上に形成
された第３の保護膜とを具備し、この第３の保護膜が形
成された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、
前記反射膜からの反射率の光強度変化に基づいて記録情
報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記
録面から前被照射面までの距離は、前記基板の厚さより
小さく、前記基板の前記接着面表面は平滑であることを
特徴とする情報記録媒体を提供する。

【００２６】本発明（請求項１８）は、エンボスピット
または案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏
面に貼り合わせ接着面となる面を有する基板と、この基
板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜
の上に形成された第１の保護膜と、この第１の保護膜の
上に形成された相変化記録膜と、この相変化記録膜上に
形成された第２の保護膜と、この第２の保護膜上に形成
された第３の保護膜とを具備し、この第３の保護膜が形
成された側の表面を被照射面として光ビームを照射し、
前記反射膜からの反射率の光強度変化に基づいて記録情
報を再生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記
録面から前記被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以
上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビームの波長であり、ｎ
は前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であ
り、前記基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下で
あり、前記基板の前記接着面表面の粗さは、λ／（８
ｎ）以下（ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率
である）であることを特徴とする情報記録媒体を提供す
る。

【００２７】本発明（請求項１９）は、エンボスピット
または案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏
面に接着面を有する第１の基板と、この第１の基板の前
記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に
形成された第１の保護膜と、この第１の保護膜の上に形
成された相変化記録膜と、この相変化記録膜上に形成さ
れた第２の保護膜と、この第２の保護膜上に形成された
第３の保護膜と、前記基板の接着面に接着層を介して形
成された第２の基板とを具備し、前記第３の保護膜が形
成された側を被照射面として光ビームを照射し、前記反
射膜からの反射率の光強度変化に基づいて記録情報を再
生する情報記録媒体であって、前記基板の前記記録面か
ら前記被照射面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．
１ｍｍ以下（λは波長光ビームの波長であり、ｎは前記
波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であり、前
記第１の基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下で
あり、前記第１の基板の前記接着面表面の粗さは、λ／
（８ｎ）以下（ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈
折率である）であり、記録領域における一方の表面から
他方の表面までの距離は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以
下であることを特徴とする情報記録媒体を提供する。

【００２８】本発明（請求項２０）は、接着層と、この
接着層の対向する２つの面にそれぞれ形成され、エンボ
スピットまたは案内溝が設けられた記録面および前記接
着層に接触した接着面を有する２つの基板と、前記基板
の前記記録面の上にそれぞれ形成された２つの反射膜
と、前記反射膜の上にそれぞれ形成された２つの第１の
保護膜と、前記第１の保護膜の上にそれぞれ形成された
２つの相変化記録膜と、前記相変化記録膜上にそれぞれ
形成された２つの第２の保護膜と、前記第２の保護膜上
にそれぞれ形成された２つの第３の保護膜とを具備し、
この第３の保護膜が形成された側の表面を被照射面とし
て光ビームをそれぞれ照射し、前記反射膜からの反射率
の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒
体であって、前記基板の記録面からこの記録面上に積層
された膜の最表面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上
０．１ｍｍ以下（λは波長光ビームの波長であり、ｎは
前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）であ
り、前記基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下で
あり、前記基板の前記接着面表面の粗さは、λ／（８
ｎ）以下（ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率
である）であり、記録領域における一方の表面から他方
の表面までの距離は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下で
あることを特徴とする情報記録媒体を提供する。

【００２９】本発明（請求項２１）は、エンボスピット
または案内溝が設けられた記録面を有する基板と、この
基板の前記記録面の上に形成された反射膜と、この反射
膜の上に形成された保護膜と、この保護膜の上に形成さ
れた光透過性層とを具備し、前記光透過性層が形成され
た側の表面を被照射面として光ビームを照射し、前記反
射膜からの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再
生する情報記録媒体であって、データ部における前記基
板の厚さは、０．１ｍｍ±０．０５ｍｍ以下であること
を特徴とする情報記録媒体を提供する。

【００３０】本発明（請求項２２）は、エンボスピット
または案内溝が設けられた記録面およびこの記録面の裏
面に平滑面を有する第１の基板と、この第１の基板の前
記記録面の上に形成された反射膜と、この反射膜の上に
接着層を介して形成された第２の基板とを具備し、前記
第１の基板側から光ビームを照射し、前記反射膜からの
反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報
記録媒体であって、データ部における前記第１の基板の
厚さは、０．１ｍｍ±０．０５ｍｍ以下であることを特
徴とする情報記録媒体を提供する。

【００３１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図面を参
照して詳細に説明する。

【００３２】（実施例１）図１に、本実施例の光ディス
クの一例を模式的に表わした断面図を示す。

【００３３】図示する光ディスクにおいては、０．６ｍ
ｍ厚ディスク基板１の一方の表面に、記録データに応じ
たエンボスピット２が形成された記録面が設けられてい
る。こうしたエンボスピット２が設けられた記録面の上
には、反射膜３が成膜され、さらにその上に保護膜４が
オーバーコートされている。一方、基板１の記録面の裏
面側には、接着層８を介してダミー基板７が設けられて
いる。

【００３４】ディスクに記録されている記録データの読
み出しは、図示するように光ビーム５を対物レンズ６で
集光して保護膜４側から入射し、反射膜３からの反射光
の光強度変化をエンボスピットの記録データとして検出
することによって行なわれる。

【００３５】なお従来の光ディスクにおいては、保護膜
側からではなく透明基板側から光ビームを入射して、基
板の光入射面とは反対側の面に形成されているエンボス
データを読み取っていた。そのため、基板の厚さによっ
てチルトマージンの確保が制限されていた。それに対し
て、図１に示したような光ディスク構造であれば、基板
表面のエンボス面から再生するので、保護膜４の膜厚が
従来の基板厚さに相当することになる。

【００３６】本発明の光ディスクにおいては、エンボス
面（記録面）から保護膜４側の表面（被照射面）までの
距離は、基板１の厚さより小さく規定しているので、保
護膜の膜厚は、基板厚より小さくなる。したがって、基
板厚によるチルトマージンの制限を受け難くなり、高記
録密度化が容易となる。

【００３７】図１に示した光ディスクにおける反射膜３
は、反射膜材料を真空蒸着またはスパッタ法でにより成
膜して作製することができる。

【００３８】こうした反射膜３の上に配置される保護膜
４は、例えば、従来の紫外線硬化樹脂などにより形成す
ることができる。この保護層４は、例えば、紫外線硬化
樹脂をスピンコート法により反射膜３の表面に塗布して
樹脂膜を成膜し、紫外線を照射してこれを硬化させるこ
とにより形成される。このオーバーコート保護膜４の膜
厚としては、実用上、数μｍ〜数０．１ｍｍの範囲であ
ることが好ましく、０．０００１〜０．１ｍｍの範囲で
あることがより好ましい。また、反射膜３との光干渉を
生じない膜厚であることが望まれる。

【００３９】保護膜４の材質は、紫外線硬化樹脂に限定
されるものではなく、再生に使用される光ビームを透過
して環境的、熱的に安定な材料であれば特に限定され
ず、誘電体材料で構成してもよい。例えば、ＳｉＯ₂ 、
ＳｉＯ、ＡｌＮ、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、ＺｒＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 、Ｔ
ａ₂ Ｏ₃ 、ＺｎＳ、Ｓｉ、Ｇｅまたはこれらの混合材料
等を用いて、真空蒸着法やスパッタリング法などにより
保護膜４を形成することもできる。

【００４０】こうした保護膜４はディスクの表面となる
ので、ディスクの取り扱い上の傷等を防止するために、
表面硬度がＨＢ以上、さらにはＨ以上であることが好ま
しい。

【００４１】なお、反射膜３それ自体が安定な膜であれ
ば、保護膜４を省略することも可能である。

【００４２】ここで、従来のＤＶＤ−ＲＯＭ基板の例を
図２に示す。従来のＤＶＤ−ＲＯＭ基板７９において
は、ディスク表面の擦り傷等を防止する目的で、図示す
るように記録面８０の反対側基板面８１のディスク外周
に０．１ｍｍの突起８２が設けられていた。

【００４３】また、ディスク中央部のクランプエリア８
３手前内周領域８４には、最大０．１ｍｍの凹部または
最大０．０５ｍｍの凸部が設けられていた。さらに、ク
ランプエリア８３の直後外周側からデータエリア８５手
前までの領域８６には、最大０．１ｍｍの凹部または最
大０．２５ｍｍの凸部が設けられていた。

【００４４】図２に示すような従来の基板７９を記録面
８０を外側にして２枚貼り合わせようとした場合には、
前述のディスク表面の凸部が邪魔となって、正確な両面
貼り合わせができなかった。

【００４５】図３には、本発明の表面記録用基板１の一
例を模式的に表わす断面図を示す。本発明においては、
基板１の記録面１７の反対側基板面１８は平滑または凹
部を有し、凸部を有しないように成形する。基板１の記
録面１７側には、必要に応じて次のような凸部を形成す
ることができる。図示するように、ディスク外周に０．
１ｍｍの凹部または凸部１２，ディスク中央部のクラン
プエリア１３手前領域１４に最大０．１ｍｍの凹部また
は最大０．０５ｍｍの凸部、クランプエリア１３直後外
周側データエリア１５手前までの領域１６には最大０．
１ｍｍの凹部または最大０．２５ｍｍの凸部を形成する
ことがきる。

【００４６】本実施例の光ディスクに用いられる０．６
ｍｍ厚ディスク基板１は、従来のＣＤ、ＤＶＤの製造で
採用されている射出成形法により作製することができ
る。例えば、予め情報が記録されたマスター盤を射出成
形機の一方の金型側にセットし、完成後の基板厚さが
０．６ｍｍとなるように２つの金型の空間を設定するこ
とによって、０．６ｍｍ厚ディスク基板１が作製され
る。

【００４７】ここで、片面に記録面を有する０．６ｍｍ
厚ディスク基板１を、射出成形法により作製するための
金型の一例を図４に模式的に示す。

【００４８】まず、ディスクの記録面をＡ面とすると、
従来のマスタリングでＡ面用のスタンパー１９を作製
し、このＡ面用のスタンパー１９の中央に精度よく中心
穴２０を形成する。金型２１の一方の面の中央部には、
Ａ面用スタンパー１９の中心穴２０に対応した穴径精度
の突起２２を設けておく。

【００４９】射出成形用の金型２１の片面に、Ａ面用ス
タンパー１９を記録面が内側となるように設置して、Ａ
面用スタンパーの中心穴２０を金型２１に設けられた突
起２２に配設する。その突起２２にスタンパーの中心穴
２０をはめ込むことで、Ａ面用スタンパー１９の位置合
わせができる。

【００５０】金型２１のＡ面用スタンパー１９と対向さ
せて金型２３を離間して配置し、加熱され溶融状態とし
た樹脂を樹脂導入口２４から、これらの間に充填する。
次いで、Ａ面用スタンパー１９と金型２３とを近接させ
て、Ａ面用スタンパー１９と金型２３との間隔を所定の
間隔とする。具体的には、樹脂が冷却硬化後、できあが
った基板１の厚さが０．６ｍｍとなるようにＡ面用スタ
ンパー面１９と金型面２３との間隔を設定する。

【００５１】以上の工程によって、片面に記録面が形成
された０．６ｍｍ厚のディスク基板１を１回の射出成形
で形成することができる。

【００５２】こうして形成されたディスク基板１の記録
面１７側には、上述したようにディスク外周に０．１ｍ
ｍ以内の凹部または凸部１２、ディスク中央部のクラン
プエリア１３手前内周側領域１４に最大０．１ｍｍの凹
部または最大０．０５ｍｍの凸部、クランプエリア１３
直後外周側からデータエリア１５手前までの領域１６に
は最大０．１ｍｍの凹部または最大０．２５ｍｍの凸部
に対応した凹凸部を必要に応じて形成することができ
る。一方、記録面１７の反対面１８は、平らまたは凹部
を有し、凸部を有しないようなディスク基板１を形成す
ることができる。

【００５３】従来の光ディスクでは、基板側から光ビー
ムを入射して記録情報を再生していたため、基板は、再
生に使用される光ビームの波長を透過する必要があっ
た。これに対して本発明の光ディスクでは、保護膜側か
ら光ビームを照射して記録情報を再生するため、基板は
必ずしも透明でなくともよい。このように保護膜側から
光ビームが照射されるので、基板の複屈折も問題となら
ない。そのため、基板材料としては、耐環境性、耐熱
性、および加工性に優れた材料であれば特に限定され
ず、例えば、ＡＢＳ樹脂、ポリエチレン樹脂、およびポ
リスチレン樹脂等、より安価な材料を使用することが可
能である。

【００５４】０．６ｍｍ厚ディスク基板１の記録面の上
には、スパッタ法または真空蒸着法などにより反射膜３
が成膜される。図５のグラフには、反射膜の膜厚と反射
率との関係を示す。

【００５５】ここではＡｌ系合金膜により反射膜を形成
し、照射する光ビームの波長は６５０ｎｍとした。こう
した条件の場合には、膜厚を約１４ｎｍとしたときに反
射率は４５％となり、膜厚が４０ｎｍとなると反射率は
ほぼ飽和状態となることが図５のグラフに示されてい
る。このグラフに表わされた反射率には保護膜４表面か
らの表面反射も含まれているので、反射膜表面における
の反射率は表面反射を除いた値となる。具体的には、反
射膜の厚さがゼロのときの反射率が保護膜４の表面反射
に相当するので、図５のグラフに示す場合には、その分
（約５％）を除いた値が反射膜の反射率となる。

【００５６】図６には、反射率が４５％および飽和状態
となるときの反射膜の膜厚の光波長依存性を示す。な
お、反射膜はＡｌ系の合金膜により構成し、光ビームの
波長は４００〜８００ｎｍとした。

【００５７】図６のグラフにおいて、直線ａは反射率４
５％となる膜厚であり、直線ｂは、反射率が飽和状態と
なるときの膜厚である。このグラフに示されるように、
光波長４００ｎｍから８００ｎｍで光波長依存性は小さ
く、この波長範囲内において、反射率４５％となる反射
膜膜厚は１３〜１４ｎｍ、また飽和反射率となる膜厚は
ほぼ４０ｎｍであった。

【００５８】ＤＶＤ−ＲＯＭの規格では、反射率が４５
〜８５％と規定されているので、ＤＶＤ−ＲＯＭとの再
生互換を保持するためには、本発明の光ディスクの反射
膜における反射率を４５％以上とすることが要求され
る。そのためには、反射率の膜厚を１４ｎｍ以上とする
必要があることが図５のグラフに示されている。さら
に、反射膜の膜厚変動を抑制して一定の反射率を得るた
めには、反射率が飽和した膜厚に設定することが製造上
望ましい。そのためには、反射率の膜厚を４０ｎｍ以上
とすることが好ましい。

【００５９】また、こうしたＡｌ系合金膜からなる反射
膜は、光波長依存性が小さいので、将来の緑、青色光ビ
ームを用いた再生にも、上述したような膜厚設定で使用
することが可能である。

【００６０】図７には、片面仕様ディスクの一例を模式
的に表わす断面図を示す。図示するように、基板１の一
方の面には記録面が設けられ、他方の面には、接着層８
を介してダミー基板７が貼り合わされている。基板１と
ダミー基板７との貼り合わせに当たっては、熱硬化樹脂
を用いたホットメルト法による貼り合わせ方法、または
ＵＶ接着剤をスピンコートし、紫外線を照射して硬化貼
り合わせる方法等を採用することができる。あるいは基
板１およびダミー基板７の少なくとも一方の表面に予め
突起を設けておき、密着させて超音波を照射することで
貼り合わせる超音波接着法により接合してもよい。ま
た、両面接着剤を用いた方法等で基板１とダミー基板７
とを貼り合わせ、接着層８を形成することもできる。

【００６１】基板１とダミー基板７との貼り合わせに先
だって、少なくとも１つの基板の接着面のにラベル印
刷、またはラベル材を貼り付けてもよい。かかる構成と
することによりラベル面が基板内部に設けられることに
なるので、ラベルの剥がれ等を防止することができる。

【００６２】（実施例２）図８に、本実施例の光ディス
クの一例を模式的に表わした断面図を示す。

【００６３】図示する光ディスクにおいては、記録面１
７を有する０．６ｍｍ厚ディスク基板１と、記録面２６
を有する０．６ｍｍ厚ディスク基板２５とが、それぞれ
の記録面１７，２６を外側にして接着層８により貼り合
わされている。

【００６４】図９には、図８に示した光ディスクの詳細
を表わす断面図を示す。図示するように、接着層８を介
して貼り合わされたディスク基板１および２５の表面に
は、記録データに応じたエンボスピット２がそれぞれ形
成された記録面が設けられている。こうしたエンボスピ
ット２が設けられた記録面の上には、それぞれ反射膜３
が成膜され、さらにその上にそれぞれ保護膜４がオーバ
ーコートされている。

【００６５】ディスクに記録されている記録データの読
み出しは、図示するように光ビーム５を対物レンズ６で
集光して両面の保護膜４側からそれぞれ入射し、反射膜
３からの反射光の光強度変化をエンボスピットの記録デ
ータとして検出することによって行なわれる。本実施例
の光ディスクは両面に記録面が形成されているので両表
面から再生することができ、単純に単面の場合の２倍の
記録容量を確保することが可能となる。

【００６６】ここで用いられるディスク基板１，２５
は、前述の実施例１において説明したような方法により
作製することができる。

【００６７】実施例１の片面仕様の光ディスクと比べる
と、本実施例の光ディスクは接着層８を境にして上下対
称なディスク構造となるため、ディスクの反り等をより
防止することができる。

【００６８】反射膜３は、０．６ｍｍディスク基板１，
２５上に反射膜材料を真空蒸着またはスパッタ法により
成膜することによって形成することができる。

【００６９】また、保護膜４のオーバーコートは、反射
膜３を形成した０．６ｍｍ厚基板の記録面にＵＶ硬化樹
脂を塗布、スピンコートし、ＵＶ炉で硬化することによ
って容易に形成することができる。

【００７０】保護膜４を形成後、実施例１の場合と同様
な貼り合わせ方法で、記録面を外側にして２枚の０．６
ｍｍ基板１，２５を貼り合わせることで両面仕様のディ
スクを作製することができる。

【００７１】０．６ｍｍ基板の貼り合わせ方法を採用す
ることで、従来のＤＶＤ−ＲＯＭ等の製造工程をそのま
ま利用することができるという利点がある。

【００７２】（実施例３）図１０に、本実施例の光ディ
スクの一例を模式的に表わした断面図を示す。

【００７３】図示する光ディスクにおいては、０．６ｍ
ｍ厚ディスク基板１の一方の表面には、記録データに応
じたエンボスピット２が形成された記録面が設けられて
いる。こうしたエンボスピット２が設けられた記録面の
上には、反射膜３が成膜され、さらにその上に第１の保
護膜４、および第２の保護膜２７が順次オーバーコート
されている。

【００７４】一方、ディスク基板１の記録面とは反対側
の面には、接着層８を介してダミー基板７が設けられて
いる。このダミー基板７上には、必要に応じて、図示す
るように保護膜２８を設けてもよい。貼り合わせる基板
の反り特性をそろえることで、貼り合わせ後の反りがキ
ャンセルされ、反りが生じにくくなる。

【００７５】ディスクに記録されている記録データの読
み出しは、図示するように光ビーム５を対物レンズ６で
集光して被照射面としての保護膜２７側から入射し、反
射膜３からの反射光の光強度変化をエンボスピットの記
録データとして検出することによって行なわれる。

【００７６】本実施例の光ディスクを構成するための
０．６ｍｍ厚ディスク基板１、エンボスピット２、反射
膜３および保護膜４は、前述の実施例１の光ディスクの
場合と同様とすることができる。

【００７７】保護膜４の上に配置される保護膜２７は、
例えば、従来の紫外線硬化樹脂などにより形成すること
ができる。この保護膜２７は、例えば紫外線硬化樹脂を
スピンコート法により保護膜４の表面に塗布し樹脂膜を
成膜し、紫外線を照射してこれを硬化させることにより
形成される。このオーバーコート保護膜２７の膜厚は、
実用上数μｍ〜数ｍｍの範囲で、０．６ｍｍ以下である
ことが好ましい。スピンコート法での紫外線硬化樹脂の
膜厚分布を考慮すると、オーバーコート保護層２７の膜
厚は、実用上０．０００１〜０．１ｍｍであることが好
ましい。また、反射膜３との光干渉を生じない膜厚であ
ることが望まれる。

【００７８】保護膜２７の材質は、上述したような紫外
線硬化樹脂に限定されるものではない。再生に使用され
る光ビームを透過して環境的、熱的に安定な材料であれ
ば特に限定されず、誘電体材料で構成してもよい。例え
ば、ＳｉＯ₂ 、ＳｉＯ、ＡｌＮ、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、Ｚｒ
Ｏ₂ 、ＴｉＯ₂ 、Ｔａ₂ Ｏ₃ 、ＺｎＳ、Ｓｉ、Ｇｅまた
はこれらの混合材料等を用いて、真空蒸着法やスパッタ
リング法などにより形成することもできる。

【００７９】また保護膜２７は、使用される光の波長に
対して透明な材料であればよく、上述した材料や形成方
法に限定されるものではない。例えば、厚さ０．０００
１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下の透明な樹脂材料からなるフ
ィルム状、または板状のものを用いることもできる。こ
うした樹脂フィルム等は、保護膜４をスピンコートする
際に保護膜４の上に載せ、ＵＶ炉でＵＶ照射して硬化さ
せることで、保護膜４の上に接着することができる。

【００８０】ただし、再生に使用する光ビームの波長で
の保護膜２７の屈折率ｎ₂ は、再生に使用する光ビーム
の波長での保護膜４の屈折率ｎ₁ より小さいか等しい材
料であることが必要である。保護膜２７の光屈折率が保
護膜４の光屈折率より大きい場合（ｎ₂ ＞ｎ₁ ）には、
保護膜２７と保護膜４との界面における光反射が大きく
なって記録面からの信号が低下し、光効率が低下してし
まう。

【００８１】したがって、図１０に示したような保護膜
を２層積層した構成の光ディスクとする場合には、保護
膜２７としては、その光屈折率ｎ₂ が保護膜４の光屈折
率ｎ₁ よりも小さいか等しく、透明な材料を用いること
が必要である。

【００８２】また、表面のハードコートや帯電防止の効
果を保護膜２７に課することもできる。保護膜４より硬
化硬度の高い材料、または表面抵抗の小さい材料を選択
することで可能となる。

【００８３】また、ダミー基板７の表面に保護膜２８を
設ける場合には、この保護膜２８は、上述したような保
護膜２７の場合と同様にして形成することができる。

【００８４】本実施例の光ディスクにおいては、保護膜
４の上にさらに保護膜２７を配設しているので、ディス
ク表面の機械的強度を高めるとともに、ディスクの取り
扱い上の傷等を防止することが可能となった。

【００８５】（実施例４）図１１に、本実施例の光ディ
スクの一例を模式的に表わした断面図を示す。

【００８６】図示する光ディスクにおいては、０．６ｍ
ｍ厚ディスク基板１および２９を貼り合わせて両面に記
録層を形成し、その両面に保護膜が設けられている。

【００８７】すなわち、ディスク基板１の一方の表面に
は、記録データに応じたエンボスピット２が形成された
記録面が設けられており、この記録面の上には、反射膜
３，第１の保護膜４および第２の保護膜２７が順次形成
されている。一方、ディスク基板２９の一方の表面に
は、記録データに応じたエンボスピット３０が形成され
た記録面が設けられており、この記録面の上には、反射
膜３１，第１の保護膜３２および第２の保護膜３３が順
次形成されている。ディスク基板１と２９とは、記録面
とは反対側の接着面で、接着層８に接着されている。

【００８８】ディスクに記録されている記録データの読
み出しは、図示するように光ビーム５を対物レンズ６で
集光して保護膜２７側から入射し、記録マークによる記
録膜３からの反射光の光強度変化を記録データとして検
出するとともに、光ビーム３４を対物レンズ３５で集光
して保護膜３３側から入射し、記録マークによる記録膜
３１からの反射光の光強度変化を記録データとして検出
することによって行なわれる。

【００８９】前述の実施例３では、ディスク基板の片面
のみに記録面を設けたが、本実施例では、こうしたディ
スク基板を２枚貼り合わせることによって、両面に記録
面を設ける以外は前述と同様の構成としたものである。
したがって、本実施例の光ディスクを構成するための
０．６ｍｍ厚ディスク基板１、２９は、前述の実施例１
の場合と同様とすることができ、エンボスピット２、反
射膜３および保護膜４等は、前述の実施例１の場合と同
様とすることができる。

【００９０】第１の保護膜４，３２の上に配置される第
２の保護膜２７，３３は、例えば、従来の紫外線硬化樹
脂などにより形成することがきる。このような保護膜２
７，３３は、例えば、紫外線硬化樹脂をスピンコート法
により保護膜４，３２の表面に塗布して樹脂膜を成膜
し、紫外線を照射してこれを硬化させることにより形成
される。

【００９１】第２の保護膜２７，３３のオーバーコート
は、０．６ｍｍ厚基板にＵＶ硬化樹脂を塗布、スピンコ
ートし、ＵＶ炉で硬化することで容易に形成できる。保
護膜形成後、０．６ｍｍ基板を２枚貼り合わせて両面デ
ィスクとする。

【００９２】このオーバーコート保護膜２７，３３の膜
厚は、実用上数μｍ〜数ｍｍの範囲で、０．６ｍｍ以下
であることが好ましい。スピンコート法での紫外線硬化
樹脂の膜厚分布を考慮すると、オーバーコート保護層２
７，３３の膜厚は、実用上０．０００１〜０．１ｍｍで
あることが好ましい。また、反射膜３，２１との光干渉
を生じない膜厚であることが好ましい。

【００９３】保護膜２７，３３の材質は、上述したよう
な紫外線硬化樹脂に限定されるものではない。再生に使
用される光ビームを透過して環境的、熱的に安定な材料
であれば特に限定されず、誘電体材料で構成してもよ
い。例えば、ＳｉＯ₂ 、ＳｉＯ、ＡｌＮ、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、
ＺｒＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 、Ｔａ₂ Ｏ₃ 、ＺｎＳ、Ｓｉ、Ｇｅ
またはこれらの混合材料等を用いて、真空蒸着法やスパ
ッタリング法などで形成することができる。

【００９４】こうした材料を用いて第２の保護膜２７，
３３を両面に同時に成膜する場合には、ディスクの両側
に蒸着源またはスパッタターゲット材を対向して配置
し、対向蒸着または対向スパッタすればよい。あるい
は、一方の面をマスク材でマスクして片面ずつ順次成膜
することもできる。

【００９５】また保護膜２７，３３は、使用される光の
波長に対して透明な材料であればよく、上述した材料や
形成方法に限定されるものではない。例えば、厚さ０．
０００１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下の透明な樹脂材料から
なるフィルム状、または板状のものを用いることもでき
る。こうした樹脂フィルム等は、保護膜４，３２をスピ
ンコートする際に保護膜の上に載せ、ＵＶ炉でＵＶ照射
して硬化させることで保護膜４、３２の上に接着するこ
とができる。

【００９６】こうした樹脂フィルム等を貼り付けて保護
膜２７，３３を形成する場合には、まず、反射膜の一方
の面をマスク材でマスクして片面ずつ順次ＵＶ硬化樹脂
を塗布して樹脂膜を成膜する。次いで、その上に保護膜
２７，３３を載せてスピンコートする。最後に、ＵＶ炉
で硬化することにより容易に形成することができる。あ
るいは、保護膜２７，３３を同時に形成してもよい。こ
の場合は、まず、治具を工夫してディスクを支持してＵ
Ｖ硬化樹脂を両面に塗布し、その両面上に保護膜２７，
３３を載せスピンコート回転させる。次いで、ＵＶラン
プが対向して設置されたＵＶ炉にディスクを通過させる
ことで、両面に同時に保護膜２７，３３が形成される。

【００９７】ディスクの両面の保護膜２７，３３を光ビ
ームの作動距離に応じた厚さとし、かつこれら２つの保
護膜をディスクの上下面で同じ厚さとすることで、ディ
スクの両面を同じ作動距離の光学ヘッドで再生すること
ができる。

【００９８】ただし、再生に使用する光ビームの波長で
の第２の保護膜２７，３３の屈折率ｎ₂ は、再生に使用
する光ビームの波長での第１の保護膜４，３２の屈折率
ｎ₁よりそれぞれ小さいか等しい材料であることが必要
である。例えば、保護膜２７の光屈折率が保護膜４の屈
折率より大きい場合（ｎ₂ ＞ｎ₁ ）には、保護膜２７と
保護膜４との界面における光反射が大きくなって記録面
からの信号が低下し、光効率が低下してしまう。保護膜
３３と保護膜３２との間においても、保護膜３３の光屈
折率が保護膜３２の屈折率より大きい場合には、これと
同様の不都合が生じる。

【００９９】したがって、図１１に示したような保護膜
を２層積層した構成の光ディスクとする場合には、第２
の保護膜２７，３３としては、その光屈折率ｎ₂ が第１
の保護膜４，３２の光屈折率ｎ₁ よりそれぞれ小さいか
等しく、透明な材料を用いることが必要である。

【０１００】本実施例の光ディスクは、第１の保護膜
４，３２の両面上にさらに第２の保護膜２７，３３がそ
れぞれ配設された構成である。前述の実施例３では、一
方の面のみに記録面を形成した片面仕様であったが、本
実施例では、さらにディスクの他方の面にも記録面を設
けて両面仕様としたものである。

【０１０１】このように両面仕様としたことで、ディス
クの記録容量の２倍化が容易に可能となる。

【０１０２】また、両面の保護膜４，３２の両面上にさ
らに保護膜２７，３３をそれぞれ配設しているのでディ
スク両面の機械的強度を高めるとともに、ディスクの取
り扱い上の傷等を防止することが可能となった。

【０１０３】さらに、表面のハードコートや停電防止の
効果を保護膜２７，３３に課することもできる。保護膜
４，３２より硬化硬度の高い材料、または表面抵抗に小
さい材料を選択することも可能となる。

【０１０４】（実施例５）前述の実施例４では、ディス
クの両面の第２の保護膜２７と３３との膜厚を同じとし
たが、ディスクの上下面に設けられる保護膜２７と３３
との膜厚を異なる厚さとすることも可能である。

【０１０５】例えば、図１１に示した光ディスクにおい
て、一方の保護膜２７の膜厚を０．０００１〜０．６ｍ
ｍとし、他方の保護膜３３の膜厚を０．６ｍｍとした場
合には、次のような利点が得られる。すなわち、保護膜
２７側の面を、作動距離の短い光ヘッド用の記録再生面
として使用し、保護膜３３側の面は、従来のＤＶＤ仕様
に対応した光ヘッド用の記録再生面として使用すること
が可能となる。

【０１０６】（実施例６）前述の実施例５では、ディス
クの両面の第２の保護膜２７と３３との膜厚を異なる厚
さとしたが、この場合さらに、基板１および基板２９の
厚さを調整することで、ディスク全体の厚さを１．２ｍ
ｍとすることができる。

【０１０７】例えば、図１１に示した光ディスクにおい
て、一方の保護膜２７の厚さを０．１ｍｍとし、他方の
保護膜３３の厚さを０．６ｍｍとした場合には、ディス
ク基板１の厚さを０．５ｍｍとし、基板２９を略すとデ
ィスク全体の厚さが１．２ｍｍとなる。基板１は表面記
録用基板、保護膜３３は従来のＤＶＤ−ＲＯＭ基板で、
基板１と保護膜３３とを接着層８を介して貼り合わせる
ことで、従来のＣＤ、ＤＶＤディスクと同等のディスク
厚さを実現することができるので、ディスクの取り扱い
上の互換性が保持できる。

【０１０８】（実施例７）図１２には、本実施例の光デ
ィスクの一例を模式的に表わした断面図を示す。

【０１０９】図示する光ディスクにおいては、０．６ｍ
ｍ厚ディスク基板３６の一方の表面に光ビーム５のトラ
ッキング用の案内溝３８が形成され、その上に反射膜３
９、下保護膜４０、記録膜４１、および上保護膜４２が
順次成膜され、さらにその上に保護膜４がオーバーコー
トされている。ディスク基板３６の他方の面には、接着
層８を介してダミー基板３７が貼り合わされており、こ
のダミー基板３７の上には、保護膜４３を図示するよう
に形成してもよい。貼り合わせる基板の反り特性をそろ
えることで、貼り合わせ後で反りがキャンセルされ反り
が生じにくくなる。

【０１１０】ディスクに記録されている記録データの読
み出しは、図示するように光ビーム５を対物レンズ６で
集光して保護膜４側から入射し、記録マークによる記録
膜３９からの反射光の光強度変化を記録データとして検
出することによって行なわれる。

【０１１１】光ディスク基板３６およびダミー基板３７
は、安定で経時変化が少ない材料により構成することが
できる。用い得る材料としては、例えばポリメチルメタ
クリレート（ＰＭＭＡ）のようなアクリル樹脂、ポリカ
ーボネート樹脂、エポキシ樹脂、スチレン樹脂、ガラ
ス、Ａｌなどの金属、合金、およびセラミック等が挙げ
られる。こうした材料で構成された光ディスク基板３６
上には、記録フォーマットに応じて、グループトラッ
ク、ランドトラック、プリフォーマットマーク等が形成
される。

【０１１２】反射膜３９は、この上に下保護膜４０を介
して形成される記録膜４１の光学変化を光学的にエンハ
ンスして再生信号を増大させる効果と、記録膜４１の冷
却効果とを有している。この反射膜２７は、Ａｕ、Ａ
ｌ、Ｃｕ、Ｎｉ−Ｃｒ、またはこれらを主成分とした合
金等の金属膜を真空蒸着法やスパッタリング法等などに
より形成することができる。反射膜３９の膜厚は、実用
上、数ｎｍ〜数μｍである。

【０１１３】記録膜４１は、光ビームの照射条件によっ
て結晶構造が変化する相変化膜により構成される。この
ような相変化型材料としては、ＧｅＴｅ系、ＴｅＳｅ
系、ＧｅＳｂＳｅ系、ＴｅＯ_x 系、ＩｎＳｅ系、および
ＧｅＳｂＴｅ系等のカルコゲナイド系アモルファス半導
体材料や、ＩｎＳｂ系、ＧａＳｂ系、およびＩｎＳｂＴ
ｅ系などの化合物半導体材料などを用いることができ
る。

【０１１４】上述したような材料を用いて、真空蒸着法
やスパッタリング法等により記録膜４１を形成すること
ができる。この記録膜４１の膜厚は、実用上数ｎｍから
数μｍである。

【０１１５】下保護膜４０および上保護膜４２は、記録
膜４１を挟むようにその上下に配設されており、記録ビ
ームの照射により記録膜４１が飛散したり、穴があいて
しまうことを防止する役割を有している。また記録時に
おける記録膜４１の加熱、冷却の熱拡散を制御する働き
もある。こうした下保護膜４０および上保護膜４２は、
例えばＳｉＯ₂ 、ＳｉＯ、ＡｌＮ、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、ＺｒＯ
₂ 、ＴｉＯ₂ 、Ｔａ₂Ｏ₃ 、ＺｎＳ、Ｓｉ、Ｇｅまたは
これらの混合材料等を用いて、真空蒸着法やスパッタリ
ングなどで形成することができる。下保護膜４０および
上保護膜４２の膜厚は、実用上数ｎｍ〜数μｍである。

【０１１６】上保護膜４２上のオーバーコート保護膜４
は、相変化光ディスクを取り扱ううえでの、傷やほこり
等を防止するために配設されるものであり、通常、紫外
線硬化樹脂などにより形成される。この保護膜４は、例
えば紫外線硬化樹脂をスピンコート法により上保護膜４
２の表面に塗布し、紫外線を照射して硬化させることに
より形成することができる。オーバーコート保護膜４の
膜厚としては、実用上数μｍ〜数ｍｍの範囲で、０．６
ｍｍ以下とすることが好ましい。スピンコート法での紫
外線硬化樹脂の膜厚分布を考慮すると、オーバーコート
保護膜４の膜厚は、０．０００１〜０．１ｍｍとするこ
とが実用上好ましい。さらに、反射膜３９との光干渉を
生じない膜厚であることが望まれる。

【０１１７】一方、ダミー基板３７の上に設けられる保
護膜４３は、前述の保護膜４と同様の材料を用いて同様
の手法で形成することができる。

【０１１８】以上、相変化記録膜の相構成として４層構
成を例に挙げて説明したが、要求される性能に応じて各
層の多層化等も可能である。

【０１１９】（実施例８）図１３に、本実施例の光ディ
スクの一例を模式的に表わした断面図を示す。

【０１２０】図示する光ディスクにおいて、ディスクの
一方の側は図１２に示したものと同様の構成である。す
なわち、０．６ｍｍ厚ディスク基板３６の一方の表面に
は光ビーム５のトラッキング用案内溝３８が形成され、
その上に反射膜３９、下保護膜４０、記録膜４１、およ
び上保護膜４２が順次成膜され、さらにその上に保護膜
４がオーバーコートされている。

【０１２１】ディスクに記録されている記録データの読
み出しは、図示するように光ビーム５を対物レンズ６で
集光して保護膜４側から入射し、記録マークによる記録
膜４１からの反射光の光強度変化を記録データとして検
出することによって行なわれる。

【０１２２】さらにディスク基板３６の他方の面には接
着層８を介して第２のディスク基板４４が貼り付けられ
ており、このディスク基板４４の上には、次のように各
膜が順次設けられている。

【０１２３】すなわち、０．６ｍｍ厚ディスク基板４４
の表面に光ビーム５１のトラッキング用の案内溝４５が
形成され、その上に反射膜４６、下保護膜４７、記録膜
４８、上保護膜４９が成膜され、さらにその上に保護膜
５０がオーバーコートされている。

【０１２４】ディスクに記録されている記録データの読
み出しは、図示するように光ビーム５１を対物レンズ５
２で集光して保護膜５０側から入射し、記録マークによ
る記録膜４８からの反射光の光強度変化を光記録データ
として検出することによって行なわれる。

【０１２５】本実施例の光ディスクを構成するためのデ
ィスク基板の材質および各膜の特性は、前述の実施例７
で述べたものと同様である。両面への反射膜、記録膜、
各保護膜の形成に当たっては、前述の実施例４の場合と
同様の方法を適用することができる。

【０１２６】上保護膜４２，４９上のオーバーコート保
護膜４，５０は、相変化光ディスクを取り扱ううえで
の、傷やほこり等を防止するために配設されるものであ
り、通常、紫外線硬化樹脂などにより形成される。この
保護膜４，５０は、例えば紫外線硬化樹脂をスピンコー
ト法により上保護膜４２，４９の表面に塗布し、紫外線
を照射して硬化させることにより形成することができ
る。保護膜４，５０の膜厚としては、実用上数μｍ〜数
ｍｍの範囲で、０．６ｍｍ以下であることが好ましい。
スピンコート法での紫外線硬化樹脂の膜厚分布を考慮す
ると、オーバーコート保護膜４，５０の膜厚は、０．０
００１〜０．１ｍｍとすることが実用上が好ましい。さ
らに、反射膜３９，４６との光干渉を生じない膜厚であ
ることが望まれる。

【０１２７】以上、相変化記録膜の相構成として４層構
成を例に挙げて説明したが、要求される性能に応じて各
層の多層化等も可能である。

【０１２８】（実施例９）前述の実施例７で説明したよ
うな図１２に示される構成の光ディスクにおいて、保護
膜４の上にさらに保護膜を配設して、前述の実施例３で
説明したような図１０に示されるものと同様の構成とす
ることもできる。

【０１２９】保護膜４の上にさらに保護膜２７を配設す
ることによって、ディスク表面の機械的強度を高めると
ともに、ディスク取り扱い上の傷等を防止することが可
能となる。

【０１３０】この場合、すでに説明したように、再生に
使用する光ビームの波長での保護膜２７の屈折率ｎ
₂ は、再生に使用する光ビームの波長での保護膜４の屈
折率ｎ₁より小さいか等しい材料であることが必要であ
る。保護膜２７の光屈折率が保護膜４の光屈折率より大
きい場合（ｎ₂ ＞ｎ₁ ）には、保護膜２７と保護膜４と
の界面における光反射が大きくなって記録面からの信号
が低下し、光効率が低下してしまう。

【０１３１】したがって、保護膜を２層積層した構成の
光ディスクとする場合には、保護膜２７としては、その
光屈折率ｎ₂ が保護膜４の光屈折率ｎ₁ よりも小さいか
等しく、透明な材料を用いることが必要である。

【０１３２】（実施例１０）前述の実施例８で説明した
ような図１３に示される構成の光ディスクにおいて、保
護膜４，５０の上にさらに保護膜を配設して、前述の実
施例４で説明したような図１１に示されるものと同様の
構成とすることもできる。

【０１３３】両面の保護膜４，５０の両面上にさらに保
護膜２７，３３を配設することによって、ディスク両面
の機械的強度を高めるとともに、ディスク取り扱い上の
傷等を防止することが可能となる。

【０１３４】この場合、すでに説明したように、再生に
使用する光ビームの波長での第２の保護膜２７，３３の
屈折率ｎ₂ は、再生に使用する光ビームの波長での第１
の保護膜４，５０の屈折率ｎ₁ よりそれぞれ小さいか等
しい材料であることが必要である。例えば、保護膜２７
の光屈折率が保護膜４の屈折率より大きい場合（ｎ₂＞
ｎ₁ ）には、保護膜２７と保護膜４との界面における光
反射が大きくなって記録面からの信号が低下し、光効率
が低下してしまう。保護膜３３と保護膜５０との間にお
いても、保護膜３３の光屈折率が保護膜５０の屈折率よ
り大きい場合には、これと同様の不都合が生じる。

【０１３５】したがって、保護膜を２層積層した構成の
光ディスクとする場合には、第２の保護膜２７，３３と
しては、その光屈折率ｎ₂ が第１の保護膜４，５０の光
屈折率ｎ₁ よりそれぞれ小さいか等しく、透明な材料を
用いることが必要である。

【０１３６】（実施例１１）前述の実施例１〜１０で説
明した光ディスクにおいて、ディスクの表面のうち、光
ビームが照射されて情報の記録再生に使用される側の面
は、いずれも平滑な面とする。ディスクの表面が平滑で
あればゴミがあっても付着しにくく、ゴミの付着防止の
効果を得ることができる。またディスクの表面が平滑で
あれば、対物レンズのディスクへの接触を防止するとい
う効果も得られる。

【０１３７】各図面に示した光ディスク表面の保護膜
は、その内側、すなわちディスク内側に、記録エンボス
またはトラッキング用のグルーブによる凹凸面を有して
いる。一方、ディスク外側の面は、こうした保護膜を厚
く形成することで内側の凹凸面を反映せずに平滑化する
ことができる。

【０１３８】なお、ディスク基板の記録面の凹凸は再生
に使用される光ビームの波長λに対して、λ／（８ｎ）
（ｎは表面保護膜の前記光波長での光屈折率である）前
後の大きさで形成される。ディスク基板の記録面から光
ビームが照射される表面（被照射面）までの距離は、概
してその１０倍以上であることが、表面の平滑化の面か
ら望まれる。したがって、ディスク基板の記録面から光
ビームが照射される表面までの距離は、５λ／（４ｎ）
以上であることが好ましい。

【０１３９】さらに光ビームが照射される面（被照射
面）における光回折現象を低減するために、この被照射
面の表面粗さは、λ／（８ｎ）より小さいことが要求さ
れる。被照射面の表面粗さは、λ／（８ｎ）の１／２以
下であるλ／（１６ｎ）以下であることが望ましい。

【０１４０】ディスク表面の保護膜を２層で構成する場
合、表面の保護膜の粘度をより小さくすることで、表面
の粗さを低減することができる。

【０１４１】（実施例１２）図１０，図１１に示したよ
うな光ディスクにおける保護膜２７，３３として、射出
成形で形成された０．１ｍｍ厚以下の樹脂基板を用いて
もよい。

【０１４２】保護膜４，３２でこの０．１ｍｍ厚以下の
樹脂基板を、反射膜３，３３に接着することで、十分な
機械的強度を有するディスクを作製することができる。

【０１４３】（実施例１３）前述の実施例１２におい
て、０．１ｍｍ厚樹脂基板を形成する際に、０．１ｍｍ
厚樹脂基板上にエンボスピット部またはガイドグルーブ
部を形成し、平らな基板上に貼り合わせることで、図１
４に示す構成のディスクを作製することもできる。

【０１４４】図示する情報記録媒体は、第１の基板６１
上にエンボスピットまたは案内溝が形成された記録面６
２が設けられており、この記録面６２上には反射膜６３
が形成されている。さらに、接着層６４を介して第２の
基板６５が設けられた構成である。かかる構成とするこ
とによって、基板のデータ部の基板厚が０．ｌｍｍ±
０．０５ｍｍの情報記録媒体が得られる。なお、基板６
１の厚さは、０．１ｍｍ±０．０５ｍｍ以下であっても
よい。

【０１４５】この記録媒体に記録されている記録データ
の読み出しは、基板６１側に配置した対物レンズ（図示
せず）で光ビーム（図示せず）を集光して入射し、反射
膜６３からの光強度変化をエンボスピットの記録データ
として検出することによって行なわれる。

【０１４６】（実施例１４）図１５には、貼り合わせ面
に凹部を設けた基板の一例を模式的に表わす図を示す。
図示する基板においては、記録面１７の反対側基板面１
８には、凹部６６が設けられている。これ以外の構成
は、図３に示したものと同様とすることができる。すな
わち、基板の記録面１７側には、必要に応じて次のよう
な凸部を形成することができる。図示するように、ディ
スク外周に０．１ｍｍの凹部または凸部１２，ディスク
中央部のクランプエリア１３手前領域１４に最大０．１
ｍｍの凹部または最大０．０５ｍｍの凸部、クランプエ
リア１３直後外周側データエリア１５手前までの領域１
６には最大０．１ｍｍの凹部または最大０．２５ｍｍの
凸部を形成することがきる。

【０１４７】図示するように、基板の貼り合わせ面は平
らでなくとも、凹部を有していれば貼り合わせが可能で
ある。

【０１４８】（実施例１５）図１６には、青色ＬＤ、Ｎ
Ａ０．８３の高ＮＡ対物レンズを用いた表面記録光ディ
スクの一例を模式的に表わす断面図を示す。

【０１４９】図示する表面記録光ディスクは、保護膜
４，５０を接着層６７，６８に変更し、さらにこうした
接着層６７，６８の上に０．１ｍｍ基板６９，７０をそ
れぞれ設けた以外は、図１３に示したものと同様の構成
である。

【０１５０】すなわち、０．６ｍｍ厚ディスク基板３６
の一方の表面には光ビーム５のトラッキング用案内溝３
８が形成され、その上に反射膜３９、下保護膜４０、記
録膜４１、上保護膜４２、接着層６７、および０．１ｍ
ｍ基板６９が順次積層されている。

【０１５１】ディスクに記録されている記録データの読
み出しは、図示するように光ビーム５を対物レンズ６で
集光して０．１ｍｍ基板６９側から入射し、記録マーク
による記録膜４１からの反射光の光強度変化を記録デー
タとして検出することによって行なわれる。

【０１５２】さらにディスク基板３６の他方の面には接
着層８を介して第２のディスク基板４４が貼り付けられ
ており、このディスク基板４４の上には、次のように各
膜が順次設けられている。すなわち、０．６ｍｍ厚ディ
スク基板４４の表面に光ビーム５１のトラッキング用の
案内溝４５が形成され、その上に反射膜４６、下保護膜
４７、記録膜４８、上保護膜４９、接着層６８、および
０．１ｍｍ基板７０が順次積層されている。

【０１５３】ディスクに記録されている記録データの読
み出しは、図示するように光ビーム５１を対物レンズ５
２で集光して０．１ｍｍ基板７０側から入射し、記録マ
ークによる記録膜４８からの反射光の光強度変化を光記
録データとして検出することによって行なわれる。

【０１５４】本実施例の光ディスクを構成するためのデ
ィスク基板の材質および各膜の特性は、前述の実施例７
で述べたものと同様である。両面への反射膜、記録膜、
各保護膜の形成に当たっては、前述の実施例４の場合と
同様の方法を適用することができる。

【０１５５】特に本実施例においては、データ部の基板
厚を０．５９ｍｍとし、保護基板の厚さを０．１ｍｍと
し、貼り合わせることによって両面ディスクとした。

【０１５６】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
記録密度を高めても十分なチルトマージンと機械的強度
とを確保し得る情報記録媒体が提供される。

【０１５７】本発明の情報記録媒体は、０．６ｍｍ厚の
基板を貼り合わせることによって作製可能であるので、
従来のＤＶＤ−ＲＯＭ、ＲＡＭ等のディスクの製造プロ
セスを利用することができる。

【０１５８】さらに、本発明の情報記録媒体において
は、表面保護膜を従来の０．６ｍｍより薄くしても機械
的強度を確保することが可能となり、その工業的価値は
絶大である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の情報記録媒体の一例を模式的に表わす
断面図。

【図２】従来のＤＶＤ−ＲＯＭ基板を模式的に表わす断
面図。

【図３】本発明の表面記録用基板の一例を模式的に表わ
す断面図。

【図４】図１に示した情報記録媒体に用いられるディス
ク基板を製造するための金型を模式的に表わす概略図。

【図５】反射膜の膜厚と反射率との関係を表わすグラフ
図。

【図６】反射膜の膜厚の光波長依存性を表わすグラフ
図。

【図７】本発明の情報記録媒体の他の例を模式的に表わ
す断面図。

【図８】本発明の両面仕様の情報記録媒体の一例を模式
的に表わす断面図。

【図９】本発明の両面仕様の情報記録媒体の他の例を模
式的に表わす断面図。

【図１０】本発明の情報記録媒体の他の例を模式的に表
わす断面図。

【図１１】本発明の両面仕様の情報記録媒体の他の例を
模式的に表わす断面図。

【図１２】本発明の情報記録媒体の他の例を模式的に表
わす断面図。

【図１３】本発明の両面仕様の情報記録媒体の他の例を
模式的に表わす断面図。

【図１４】本発明の情報記録媒体の他の例を模式的に表
わす断面図。

【図１５】本発明の表面記録用基板の他の例を模式的に
表わす断面図。

【図１６】本発明の両面仕様の情報記録媒体の他の例を
模式的に表わす断面図。

【符号の説明】

１…光ディスク基板 ２…エンボスピット ３…反射膜 ４…保護膜 ５…光ビーム ６…対物レンズ ７…ダミー基板 ８…接着層 １２…凸部 １３…クランプエリア １４…クランプエリア手前領域 １５…データエリア １６…データエリア手前領域 １７，２６…記録面 １８…記録面反対側面 １９…Ａ面用スタンパー ２０…中心穴 ２１，２３…金型 ２２…突起 ２４…樹脂導入口 ２５…ディスク基板 ２７，２８…保護膜 ２９…ディスク基板 ３０…エンボスピット ３１…反射膜 ３２，３３…保護膜 ３４，５１…光ビーム ３５，５２…対物レンズ ３６，４４…ディスク基板 ３８，４５…案内溝 ３９，４６…反射膜 ４０，４７…下保護膜 ４１，４８…記録膜 ４２，４９…上保護膜 ５０…保護膜 ６１…第１の基板 ６２…記録面 ６３…反射膜 ６４…接着層 ６５…第２の基板 ６６…凹部 ６７，６８…接着層 ６８，７０…０．１ｍｍ基板 ７９…従来のＤＶＤ−ＲＯＭ基板 ８０…記録面 ８１…反対側基板面 ８２…突起 ８３…クランプエリア ８４…クランプエリア手前内周領域 ８５…データエリア ８６…データエリア手前領域

Claims (22)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 エンボスピットまたは案内溝が設けられ
   た記録面およびこの記録面の裏面に貼り合わせ接着面と
   なる面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に形
   成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜
   とを具備し、 前記保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビ
   ームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に
   基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、 前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、
   前記基板の厚さより小さく、前記基板の前記貼り合わせ
   接着面は平滑または凹部を有することを特徴とする情報
   記録媒体。
2. 【請求項２】 エンボスピットまたは案内溝が設けられ
   た記録面およびこの記録面の裏面に貼り合わせ接着面と
   なる面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に形
   成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜
   とを具備し、 前記保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビ
   ームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に
   基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、 前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、
   ５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビーム
   の波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈
   折率である）であり、 前記基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であ
   り、 前記基板の前記貼り合わせ接着面の表面は、λ／（８
   ｎ）以下（ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率
   である）の粗さ、または凹部を有することを特徴とする
   情報記録媒体。
3. 【請求項３】 エンボスピットまたは案内溝が設けられ
   た記録面およびこの記録面の裏面に接着面を有する第１
   の基板と、この第１の基板の前記記録面の上に形成され
   た反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜と、前
   記基板の接着面に接着層を介して形成された第２の基板
   とを具備し、 前記保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビ
   ームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に
   基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、 前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、
   ５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは波長光ビーム
   の波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈
   折率である）であり、 前記第１の基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下
   であり、 前記第１の基板の前記接着面表面は、λ／（８ｎ）以下
   （ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）
   の粗さまたは凹部を有し、 記録領域における一方の表面から他方の表面までの距離
   は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であることを特徴と
   する情報記録媒体。
4. 【請求項４】 エンボスピットまたは案内溝が設けられ
   た記録面およびこの記録面の裏面側に接着面を有する第
   １の基板と、 この第１の基板の前記記録面の上に形成された第１の反
   射膜と、 この第１の反射膜の上に形成された第１の保護膜と、 エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面および
   この記録面の裏面側に接着面を有する第２の基板と、 この第２の基板の前記記録面の上に形成された第２の反
   射膜と、 この第２の反射膜の上に形成された第２の保護膜と、 前記第１の基板の前記接着面と前記第２の基板の前記接
   着面とを接着する接着層とを具備し、 前記第１の保護膜および前記第２の保護膜が形成された
   側の表面をそれぞれ第１および第２の被照射面として、
   この第１および第２の被照射面からそれぞれ光ビームを
   照射し、前記第１の反射膜および前記第２の反射膜から
   の反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情
   報記録媒体であって、 前記第１の基板の前記記録面から前記第１の被照射面ま
   での距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは
   前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記
   保護膜の光屈折率である）であり、 前記第２の基板の前記記録面から前記第２の被照射面ま
   での距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは
   前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記
   保護膜の光屈折率である）であり、 前記第１の基板および前記第２の基板の厚さは０．１ｍ
   ｍ以上０．６ｍｍ以下であり、 前記第１の基板の前記接着面表面および前記第２の基板
   の前記接着面表面は、λ／（８ｎ）以下（ｎは前記波長
   λの光の前記保護膜の光屈折率である）の粗さまたは凹
   部を有し、 記録領域における一方の表面から他方の表面までの距離
   は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であることを特徴と
   する情報記録媒体。
5. 【請求項５】 エンボスピットまたは案内溝が設けられ
   た記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に
   形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護
   膜とを具備し、 前記保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビ
   ームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に
   基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、 前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、
   前記基板の厚さより小さく、前記被照射面の外周部に凹
   部または凸部を有することを特徴とする情報記録媒体。
6. 【請求項６】 エンボスピットまたは案内溝が設けられ
   た記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に
   形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護
   膜とを具備し、 前記保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビ
   ームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に
   基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、 前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、
   ５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビーム
   の波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈
   折率である）であり、 前記基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であ
   り、 前記被照射面の外周部に０．１ｍｍ以内の凹部または凸
   部を有することを特徴とする情報記録媒体。
7. 【請求項７】 エンボスピットまたは案内溝が設けられ
   た記録面およびこの記録面の裏面に接着面を有する第１
   の基板と、この第１の基板の前記記録面の上に形成され
   た反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜と、前
   記基板の接着面に接着層を介して形成された第２の基板
   とを具備し、 前記保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビ
   ームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に
   基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、 前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、
   ５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは波長光ビーム
   の波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈
   折率である）であり、 前記第１の基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下
   であり、 前記被照射面の外周部に０．１ｍｍ以内の凹部または凸
   部を有し、 記録領域における一方の表面から他方の表面までの距離
   は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であることを特徴と
   する情報記録媒体。
8. 【請求項８】 エンボスピットまたは案内溝が設けられ
   た記録面およびこの記録面の裏面側の接着面を有する第
   １の基板と、 この第１の基板の前記記録面の上に形成された第１の反
   射膜と、 この第１の反射膜の上に形成された第１の保護膜と、 エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面および
   この記録面の裏面側の接着面を有する第２の基板と、 この第２の基板の前記記録面の上に形成された第２の反
   射膜と、 この第２の反射膜の上に形成された第２の保護膜と、 前記第１の基板の前記接着面と前記第２の基板の前記接
   着面とを接着する接着層とを具備し、 前記第１の保護膜および前記第２の保護膜が形成された
   側の表面をそれぞれ第１および第２の被照射面として、
   この第１および第２の被照射面からそれぞれ光ビームを
   照射し、前記第１の反射膜および前記第２の反射膜から
   の反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情
   報記録媒体であって、 前記第１の基板の前記記録面から前記第１の被照射面ま
   での距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは
   前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記
   保護膜の光屈折率である）であり、 前記第２の基板の前記記録面から前記第２の被照射面ま
   での距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは
   前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記
   保護膜の光屈折率である）であり、 前記第１の基板および前記第２の基板の厚さは０．１ｍ
   ｍ以上０．６ｍｍ以下であり、 前記第１および第２の被照射面の外周部に０．１ｍｍ以
   内の凹部または凸部を有し、 記録領域における一方の表面から他方の表面までの距離
   は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であることを特徴と
   する情報記録媒体。
9. 【請求項９】 エンボスピットまたは案内溝が設けられ
   た記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に
   形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保護
   膜とを具備し、 前記保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビ
   ームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に
   基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、 前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、
   前記基板の厚さより小さく、前記被照射面のディスクス
   ピンドル穴からディスククランプ領域の範囲に凹部また
   は凸部を有することを特徴とする情報記録媒体。
10. 【請求項１０】 エンボスピットまたは案内溝が設けら
    れた記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上
    に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保
    護膜とを具備し、 前記保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビ
    ームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に
    基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、 前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、
    ５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビーム
    の波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈
    折率である）であり、 前記基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であ
    り、 前記被照射面のディスクスピンドル穴からディスククラ
    ンプ領域の範囲に０．１ｍｍ以上の凹部または０．０５
    ｍｍ以下の凸部を有することを特徴とする情報記録媒
    体。
11. 【請求項１１】 エンボスピットまたは案内溝が設けら
    れた記録面およびこの記録面の裏面に接着面を有する第
    １の基板と、この第１の基板の前記記録面の上に形成さ
    れた反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜と、
    前記基板の接着面に接着層を介して形成された第２の基
    板とを具備し、 前記保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビ
    ームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に
    基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、 前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、
    ５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは波長光ビーム
    の波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈
    折率である）であり、 前記第１の基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下
    であり、 前記被照射面のディスクスピンドル穴からディスククラ
    ンプ領域の範囲に０．１ｍｍ以上の凹部または０．０５
    ｍｍ以内の凸部を有し、 記録領域における一方の表面から他方の表面までの距離
    は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であることを特徴と
    する情報記録媒体。
12. 【請求項１２】 エンボスピットまたは案内溝が設けら
    れた記録面およびこの記録面の裏面側の接着面を有する
    第１の基板と、 この第１の基板の前記記録面の上に形成された第１の反
    射膜と、 この第１の反射膜の上に形成された第１の保護膜と、 エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面および
    この記録面の裏面側の接着面を有する第２の基板と、 この第２の基板の前記記録面の上に形成された第２の反
    射膜と、 この第２の反射膜の上に形成された第２の保護膜と、 前記第１の基板の前記接着面と前記第２の基板の前記接
    着面とを接着する接着層とを具備し、 前記第１の保護膜および前記第２の保護膜が形成された
    側の表面をそれぞれ第１および第２の被照射面として、
    この第１および第２の被照射面からそれぞれ光ビームを
    照射し、前記第１の反射膜および前記第２の反射膜から
    の反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情
    報記録媒体であって、 前記第１の基板の前記記録面から前記第１の被照射面ま
    での距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは
    前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記
    保護膜の光屈折率である）であり、 前記第２の基板の前記記録面から前記第２の被照射面ま
    での距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは
    前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記
    保護膜の光屈折率である）であり、 前記第１の基板および前記第２の基板の厚さは０．１ｍ
    ｍ以上０．６ｍｍ以下であり、 前記第１および第２の被照射面のディスクスピンドル穴
    からディスククランプ領域の範囲に０．１ｍｍ以上の凹
    部または０．０５ｍｍ以内の凸部を有し、 記録領域における一方の表面から他方の表面までの距離
    は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であることを特徴と
    する情報記録媒体。
13. 【請求項１３】 エンボスピットまたは案内溝が設けら
    れた記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上
    に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保
    護膜とを具備し、 前記保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビ
    ームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に
    基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、 前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、
    前記基板の厚さより小さく、前記被照射面のディスクク
    ランプ領域からデータ記録領域の範囲に凹部または凸部
    を有することを特徴とする情報記録媒体。
14. 【請求項１４】 エンボスピットまたは案内溝が設けら
    れた記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上
    に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保
    護膜とを具備し、 前記保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビ
    ームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に
    基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、 前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、
    ５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビーム
    の波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈
    折率である）であり、 前記基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であ
    り、 前記被照射面のディスククランプ領域からデータ記録領
    域の範囲に０．１ｍｍ以上の凹部または０．２５ｍｍ以
    下の凸部を有することを特徴とする情報記録媒体。
15. 【請求項１５】 エンボスピットまたは案内溝が設けら
    れた記録面およびこの記録面の裏面に接着面を有する第
    １の基板と、この第１の基板の前記記録面の上に形成さ
    れた反射膜と、この反射膜の上に形成された保護膜と、
    前記基板の接着面に接着層を介して形成された第２の基
    板とを具備し、 前記保護膜が形成された側の表面を被照射面として光ビ
    ームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変化に
    基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、 前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、
    ５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビーム
    の波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈
    折率である）であり、 前記第１の基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下
    であり、 前記被照射面のディスククランプ領域からデータ記録領
    域の範囲に０．１ｍｍ以上の凹部または０．２５ｍｍ以
    内の凸部を有し、 記録領域における一方の表面から他方の表面までの距離
    は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であることを特徴と
    する情報記録媒体。
16. 【請求項１６】 エンボスピットまたは案内溝が設けら
    れた記録面およびこの記録面の裏面側の接着面を有する
    第１の基板と、 この第１の基板の前記記録面の上に形成された第１の反
    射膜と、 この第１の反射膜の上に形成された第１の保護膜と、 エンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面および
    この記録面の裏面側の接着面を有する第２の基板と、 この第２の基板の前記記録面の上に形成された第２の反
    射膜と、 この第２の反射膜の上に形成された第２の保護膜と、 前記第１の基板の前記接着面と前記第２の基板の前記接
    着面とを接着する接着層とを具備し、 前記第１の保護膜および前記第２の保護膜が形成された
    側の表面をそれぞれ第１および第２の被照射面として、
    この第１および第２の被照射面からそれぞれ光ビームを
    照射し、前記第１の反射膜および前記第２の反射膜から
    の反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情
    報記録媒体であって、 前記第１の基板の前記記録面から前記第１の被照射面ま
    での距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは
    前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記
    保護膜の光屈折率である）であり、 前記第２の基板の前記記録面から前記第２の被照射面ま
    での距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは
    前記光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光の前記
    保護膜の光屈折率である）であり、 前記第１の基板および前記第２の基板の厚さは０．１ｍ
    ｍ以上０．６ｍｍ以下であり、 前記第１および第２の被照射面のディスククランプ領域
    からデータ記録領域の範囲に０．１ｍｍ以上の凹部また
    は０．２５ｍｍ以内の凸部を有し、 記録領域における一方の表面から他方の表面までの距離
    は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であることを特徴と
    する情報記録媒体。
17. 【請求項１７】 エンボスピットまたは案内溝が設けら
    れた記録面およびこの記録面の裏面に貼り合わせ接着面
    となる面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に
    形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された第１
    の保護膜と、この第１の保護膜の上に形成された相変化
    記録膜と、この相変化記録膜上に形成された第２の保護
    膜と、この第２の保護膜上に形成された第３の保護膜と
    を具備し、 この第３の保護膜が形成された側の表面を被照射面とし
    て光ビームを照射し、前記反射膜からの反射率の光強度
    変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であっ
    て、 前記基板の前記記録面から前被照射面までの距離は、前
    記基板の厚さより小さく、前記基板の前記接着面表面は
    平滑であることを特徴とする情報記録媒体。
18. 【請求項１８】 エンボスピットまたは案内溝が設けら
    れた記録面およびこの記録面の裏面に貼り合わせ接着面
    となる面を有する基板と、この基板の前記記録面の上に
    形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された第１
    の保護膜と、この第１の保護膜の上に形成された相変化
    記録膜と、この相変化記録膜上に形成された第２の保護
    膜と、この第２の保護膜上に形成された第３の保護膜と
    を具備し、 この第３の保護膜が形成された側の表面を被照射面とし
    て光ビームを照射し、前記反射膜からの反射率の光強度
    変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であっ
    て、 前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、
    ５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは前記光ビーム
    の波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈
    折率である）であり、 前記基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であ
    り、 前記基板の前記接着面表面の粗さは、λ／（８ｎ）以下
    （ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）
    であることを特徴とする情報記録媒体。
19. 【請求項１９】 エンボスピットまたは案内溝が設けら
    れた記録面およびこの記録面の裏面に接着面を有する第
    １の基板と、この第１の基板の前記記録面の上に形成さ
    れた反射膜と、この反射膜の上に形成された第１の保護
    膜と、この第１の保護膜の上に形成された相変化記録膜
    と、この相変化記録膜上に形成された第２の保護膜と、
    この第２の保護膜上に形成された第３の保護膜と、前記
    基板の接着面に接着層を介して形成された第２の基板と
    を具備し、 前記第３の保護膜が形成された側を被照射面として光ビ
    ームを照射し、前記反射膜からの反射率の光強度変化に
    基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であって、 前記基板の前記記録面から前記被照射面までの距離は、
    ５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下（λは波長光ビーム
    の波長であり、ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈
    折率である）であり、 前記第１の基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下
    であり、 前記第１の基板の前記接着面表面の粗さは、λ／（８
    ｎ）以下（ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率
    である）であり、 記録領域における一方の表面から他方の表面までの距離
    は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であることを特徴と
    する情報記録媒体。
20. 【請求項２０】 接着層と、 この接着層の対向する２つの面にそれぞれ形成され、エ
    ンボスピットまたは案内溝が設けられた記録面および前
    記接着層に接触した接着面を有する２つの基板と、 前記基板の前記記録面の上にそれぞれ形成された２つの
    反射膜と、 前記反射膜の上にそれぞれ形成された２つの第１の保護
    膜と、 前記第１の保護膜の上にそれぞれ形成された２つの相変
    化記録膜と、 前記相変化記録膜上にそれぞれ形成された２つの第２の
    保護膜と、 前記第２の保護膜上にそれぞれ形成された２つの第３の
    保護膜とを具備し、 この第３の保護膜が形成された側の表面を被照射面とし
    て光ビームをそれぞれ照射し、前記反射膜からの反射率
    の光強度変化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒
    体であって、 前記基板の記録面からこの記録面上に積層された膜の最
    表面までの距離は、５λ／（４ｎ）以上０．１ｍｍ以下
    （λは波長光ビームの波長であり、ｎは前記波長λの光
    の前記保護膜の光屈折率である）であり、 前記基板の厚さは０．１ｍｍ以上０．６ｍｍ以下であ
    り、 前記基板の前記接着面表面の粗さは、λ／（８ｎ）以下
    （ｎは前記波長λの光の前記保護膜の光屈折率である）
    であり、 記録領域における一方の表面から他方の表面までの距離
    は、０．６ｍｍ以上１．２ｍｍ以下であることを特徴と
    する情報記録媒体。
21. 【請求項２１】 エンボスピットまたは案内溝が設けら
    れた記録面を有する基板と、この基板の前記記録面の上
    に形成された反射膜と、この反射膜の上に形成された保
    護膜と、この保護膜の上に形成された光透過性層とを具
    備し、 前記光透過性層が形成された側の表面を被照射面として
    光ビームを照射し、前記反射膜からの反射光の光強度変
    化に基づいて記録情報を再生する情報記録媒体であっ
    て、 データ部における前記基板の厚さは、０．１ｍｍ±０．
    ０５ｍｍ以下であることを特徴とする情報記録媒体。
22. 【請求項２２】 エンボスピットまたは案内溝が設けら
    れた記録面およびこの記録面の裏面に平滑面を有する第
    １の基板と、この第１の基板の前記記録面の上に形成さ
    れた反射膜と、この反射膜の上に接着層を介して形成さ
    れた第２の基板とを具備し、 前記第１の基板側から光ビームを照射し、前記反射膜か
    らの反射光の光強度変化に基づいて記録情報を再生する
    情報記録媒体であって、 データ部における前記第１の基板の厚さは、０．１ｍｍ
    ±０．０５ｍｍ以下であることを特徴とする情報記録媒
    体。